JPH1011745A

JPH1011745A - 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置

Info

Publication number: JPH1011745A
Application number: JP16452696A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Takeda; 勉武田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-06-25
Filing date: 1996-06-25
Publication date: 1998-01-16

Abstract

(57)【要約】【課題】金属磁性薄膜型の磁気記録媒体を製造するに
際して、スクラッチ傷を抑えながら磁性薄膜の表面研磨
処理を行い、ドロップアウトが少なく、特にＶＴＲ用テ
ープとしたときに横方向に信号欠落を生じさせることの
ない磁気記録媒体を得る。【解決手段】連続走行している媒体原反２に形成され
た磁性薄膜表面に、この媒体原反２の走行方向に対して
順方向に且つ媒体原反２よりも高速で走行している第１
の研磨テープ１を摺接させた後、媒体原反２の走行方向
に対して逆方向に走行している第２の研磨テープ４を摺
接させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造方法及び磁気記録媒体の製造装置に関し、特に磁性薄
膜の表面研磨方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の
有機バインダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布、乾燥
することにより作製される塗布型の磁気記録媒体が広く
使用されている。

【０００３】これに対して、高密度磁気記録への要求の
高まりとともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃ
ｏ−Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段
（真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティン
グ法等）によってポリエステルフィルムやポリアミド、
ポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に直接被着し
た、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案され
注目を集めている。この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体
は抗磁力や角形比等に優れ、短波長での電磁変換特性に
優れるばかりでなく、磁性層の厚みを極めて薄くできる
ため、記録減磁や再生時の厚み損失が小さいこと、磁性
層中に非磁性材であるそのバインダーを混入する必要が
ないため磁性材料の充填密度を高めることができるな
ど、数々の利点を有している。

【０００４】さらに、この種の磁気記録媒体としては、
金属磁性材料を斜め方向から蒸着することによって磁性
層が形成される斜方蒸着テープが提案され、実用化され
るに至っている。この斜方蒸着テープは、通常の蒸着テ
ープに比べて電磁変換特性に優れ、大きな出力を得るこ
とができる。

【０００５】ところで、この斜方蒸着テープは、磁性層
の厚さが通常２００ｎｍ程度と非常に薄くなされる。こ
のため、非磁性支持体の形状変形や非磁性支持体や磁性
層上に付着した微小な付着物が、磁性層表面と磁気ヘッ
ドとの接触を妨げ、当たり不良やドロップアウト等を誘
発する。そのため、このような斜方蒸着テープを製造す
るに際しては、非磁性支持体の作製工程や磁性層の蒸着
工程等において、付着物の発生や寝押し（ロールに付着
したゴミ等の転写）等による形状変形が生じないように
細心の注意が払われる。

【０００６】しかしながら、このように注意を払って
も、例えば蒸着工程で発生する磁性材料のスプラッシュ
物を完全に排除することは困難である。また熱負け（蒸
着中に非磁性支持体がキャンからずれることによって発
生する熱変形）による非磁性支持体の微小な変形も皆無
にするのは至難の技である。

【０００７】そこで、蒸着形成された磁性層表面を研磨
テープに摺接させることによって、付着した粉塵を研削
除去する方法が、特開昭６３−１６７４２５号公報や特
開平２−７２２５号公報等において提案されている。

【０００８】すなわち、この方法では、図２に示すよう
に、コンタクトロール２１に掛け渡された研磨テープ２
２に対して、媒体原反２３を連続走行させながら磁性薄
膜表面を摺接させる。このとき、研磨テープ２２は媒体
原反２３の走行方向に対して逆方向に走行させられ、そ
の走行速度は媒体原反２３の走行速度に対して、桁違い
に遅い速度になされるのが通常である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、媒体原
反２３の磁性層表面に、当該媒体原反２３に対して逆方
向に且つこのように遅い速度で研磨テープ２２を摺接さ
せた場合、磁性層表面から一旦取り除かれ、研磨テープ
２２に付着した比較的直径の大きい異物が磁性層表面で
長く引きずられ、磁性層表面に傷を付けてしまうという
問題がある。

【００１０】このような磁性層表面のスクラッチ傷は、
例えば磁気テープをアナログ方式のビデオテープレコー
ダ（ＶＴＲ）で記録再生を行った場合に、再生時の画面
上で横方向に筋状の信号欠落を生じさせる。このため、
スクラッチ傷は製品上の欠陥となり、この傷が存在する
部分は破棄せざるを得ないことから、歩留まりを落とす
原因になる。

【００１１】このスクラッチ傷に対する対策として、研
磨テープを蒸着原反の長手方向に対して斜めに走行させ
る試みもなされている。しかし、この方法によればスク
ラッチ傷の発生は多少抑えられるようになるものの十分
に防止できるとは言えず、高密度記録（短波長記録）や
ディジタル記録を行う磁気記録媒体を得るのは難しい。

【００１２】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、磁性層の表面研磨処理
を、スクラッチ傷を生じさせることなく行うことが可能
な磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置
を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、連続走行し
ている媒体原反に形成された磁性薄膜表面に、この媒体
原反の走行方向に対して順方向に且つ媒体原反よりも高
速で走行している第１の研磨テープを摺接させた後、媒
体原反の走行方向に対して逆方向に走行している第２の
研磨テープを摺接させることを特徴とするものである。

【００１４】また、本発明の磁気記録媒体の製造装置
は、研磨テープが媒体原反の走行方向に対して順方向に
且つこの媒体原反よりも高速で走行される第１の研磨手
段と、研磨テープが媒体原反の走行方向に対して逆方向
に走行される第２の研磨手段とを具備してなることを特
徴とするものである。

【００１５】磁性薄膜表面に付着している粉塵のうち、
比較的直径の大きいものは研磨過程でスクラッチ傷の原
因になり、比較的直径の小さいものは媒体の再生に際し
てドロップアウトを誘発させる。

【００１６】このような粉塵が付着した磁性薄膜表面
に、媒体原反の走行方向に対して順方向に且つ媒体原反
よりも高速で走行している第１の研磨テープを摺接させ
ると、磁性薄膜表面に付着している粉塵のうち比較的直
径の大きいものが研削除去される。

【００１７】また、この後、磁性薄膜表面に、媒体原反
の走行方向に対して逆方向に走行している第２の研磨テ
ープを摺接させると、磁性薄膜表面に付着している比較
的直径の小さい粉塵が研削除去される。このとき、傷付
きの原因となる比較的直径の大きい粉塵は、第１の研磨
テープによって既に除去されているので、スクラッチ傷
を生じることなくこの研磨処理が行われる。したがっ
て、この処理によってドロップアウトや筋状の信号欠落
を生じない良好な磁性層表面が得られることになる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。

【００１９】磁気記録媒体を製造するには、まず、非磁
性支持体上に磁性薄膜を形成し、媒体原反を作製する。
非磁性支持体や磁性薄膜としては金属磁性薄膜型の磁気
記録媒体で通常用いられているものがいずれも使用可能
である。

【００２０】例えば非磁性支持体の材質としては、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフ
タレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類、セルローストリアセテート、セルロース
ジアセテート等のセルロース類、ビニル系樹脂、ポリイ
ミド類、ポリカーボネート類に代表されるような高分子
材料、あるいは金属、ガラス、セラミクス等により構成
される支持体等がある。

【００２１】この非磁性支持体には、表面性を制御する
目的でフィラー等を含有する下塗層を形成するようにし
ても良い。

【００２２】磁性薄膜は、強磁性金属材料を非磁性支持
体上に直接被着させることによって形成されるものであ
る。

【００２３】この強磁性金属材料としては、Ｆｅ，Ｃ
ｏ，Ｎｉ等の強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ａ
ｕ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｎｉ−Ｃ
ｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金等が挙げられる。磁性薄膜
は、これら強磁性金属材料の単層膜であってもよく、多
層膜であってもよい。さらには、非磁性支持体と磁性薄
膜の間に下地層を設けたり、磁性膜が多層膜の場合には
各層間に中間層を設け、付着力向上並びに抗磁力の制御
等を図るようにしてもよい。また、磁性薄膜表面近傍を
酸化物層とすることで耐蝕性の改善等を図るようにして
も構わない。

【００２４】磁性薄膜の形成手段としては、真空下で強
磁性材料を加熱蒸発させ非磁性支持体上に沈着させる真
空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイオ
ンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中
でグロー放電を起こし生じたアルゴンイオンでターゲッ
ト表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわゆるＰＶ
Ｄ技術が用いられる。

【００２５】そして、このようにして形成された磁性薄
膜に対して表面研磨処理を行うことで、磁性薄膜表面に
付着した粉塵等の付着物を研削除去する。この表面研磨
処理を行うための研磨装置を図１に示す。

【００２６】この研磨装置は、第１の研磨テープ１を媒
体原反２の走行方向に対して順方向に送り出す第１の研
磨手段３と、第２の研磨テープ４を媒体原反２の走行方
向に対して逆方向に送り出す第２の研磨手段５と、媒体
原反２を走行させる走行系とを具備し、第１の研磨手段
３が媒体原反２の走行方向に対して上流側に配置され、
第２の研磨手段５がそれよりも下流側に配置されること
によって構成されている。

【００２７】上記第１の研磨手段３は、比較的外径の大
きな第１のコンタクトロール６と、この第１のコンタク
トロール６の内部に設けられた第１の巻き出しロール７
と第１の巻き取りロール８とを有し、第１の研磨テープ
１が第１の巻き出しロール７から第１の巻き取りロール
８へ順次送り出され、その送り出される中途部で上記第
１のコンタクトロール６の外周面に沿って走行するよう
になっている。なお、この第１の巻き出しロール７から
送り出される第１の研磨テープ１は、媒体原反２の走行
方向に対して順方向に且つ媒体原反２の走行速度Ｖ₁の
１／１０００程度の低速で送り出される。また第１の研
磨テープ１に走行される第１のコンタクトロール６は、
媒体原反２の走行方向に対して順方向（図中、反時計回
り）に且つ媒体原反２の走行速度Ｖ₁よりも速い周速で
回転する。したがって、この第１の研磨手段では、第１
の研磨テープ１の送り出し速度Ｖ₂₁と第１のコンタクト
ロール６の周速Ｖ₂₂を加算した値が、第１の研磨テープ
１の走行速度Ｖ₂に相当する。

【００２８】一方、上記第２の研磨手段５は、第１のコ
ンタクトロール６に比べて小径となされた第２のコンタ
クトロール９と、この第２のコンタクトロール９の側方
に配置された第２の巻き出しロール１１と第２の巻き取
りロール１０とを有し、第２の巻き出しロール１１に巻
回された第２の研磨テープ４が第２の巻き出しロール１
１から第２の巻き取りロール１０へ順次送り出され、そ
の送り出される中途部で上記第２のコンタクトロール９
の外周面に沿って走行するようになっている。なお、こ
の第２のコンタクトロール９に沿って走行する第２の研
磨テープ４は媒体原反２の走行方向に対して逆方向に媒
体原反２の走行速度Ｖ₁の１／１０００程度の低速で走
行される。また第２の研磨テープ４に走行される第２の
コンタクトロール９は、第２の研磨テープ４の走行方向
と同方向（図中、時計回り）に、第２の研磨テープ４の
走行速度と略同じ周速で回転する。

【００２９】この第１の研磨手段、第２の研磨手段で用
いる第１の研磨テープ１、第２の研磨テープ４は、支持
体上に研磨粒子が結合剤中に分散された研磨層が形成さ
れてなるものであり、媒体原反と略等しい幅となされて
いる。

【００３０】この研磨テープの支持体としては、例えば
ポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロース誘導
体、ビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリ
カーボネート等に代表される高分子支持体等が挙げられ
る。

【００３１】また、研磨層の結合剤としては、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体等の塩化ビニル系樹脂やポリエステルポリウレタ
ン、ポリエーテルポリウレタン、ポリカーボネートポリ
ウレタン等のポリウレタン樹脂等、研磨テープで一般に
使用されているものがいずれも使用可能である。研磨粒
子には、カーボン、アルミナ、ジルコニア、クロミナ、
ＳｉＯ₂等が用いられる。

【００３２】なお、第１の研磨テープと第２の研磨テー
プでは、第１の研磨テープの方が第２の研磨テープより
も研磨層表面の粗度を粗くするのが望ましい。

【００３３】そして、この研磨装置では、媒体原反用巻
き出しロール、媒体原反用巻き取りロール（いずれも図
示せず）、そして第１のコンタクトロール６及び第２の
コンタクトロール９の近傍に設けられた３つのガイドロ
ール１２，１３，１４によって媒体原反２の走行系が構
成されている。この走行系では、媒体原反２がガイドロ
ール１２，１３，１４に沿って走行させられることによ
って、第１の研磨手段３の研磨テープ１に対して媒体原
反２が接するとともに、第２の研磨手段５の研磨テープ
４の上に媒体原反２が所定の抱き角で掛け渡されるよう
に案内される。

【００３４】このような研磨装置によって媒体原反に形
成された磁性薄膜表面に研磨処理を施すには、ガイドロ
ール１２，１３，１４に媒体原反２を掛け渡し、この媒
体原反２を第１の研磨手段３から第２の研磨手段５に向
かってＶ₁なる走行速度で走行させる。それとともに、
第１の研磨手段３の研磨テープ１を媒体原反の走行方向
に対して順方向に、第２の研磨手段５の研磨テープ４を
媒体原反の走行方向に対して逆方向に走行させる。ま
た、第１のコンタクトロール６は媒体原反２の走行方向
に対して順方向に、第２のコンタクトロール９は媒体原
反２の走行方向に対して逆方向に回転させる。

【００３５】連続走行している媒体原反２は、先ず第１
の研磨手段３を通過する際に第１の研磨テープ１に磁性
薄膜表面が摺接される。これにより、磁性薄膜表面に付
着している粉塵のうち、比較的直径の大きいものが速や
かに研削され媒体原反の走行方向側に除去される。

【００３６】そして、第１の研磨手段３を通過した媒体
原反２は、次に第２の研磨手段５を通過する。この際に
第１の研磨テープ１に磁性薄膜表面が摺接され、ドロッ
プアウトの原因になり易い比較的直径の小さい粉塵が磁
性薄膜表面から除去される。このとき、傷付きの原因と
なる比較的直径の大きい粉塵は、第１の研磨手段３を通
過する際に既に除去されているので、スクラッチ傷を生
じることなくこの研磨処理がなされる。したがって、ド
ロップアウトや筋状の信号欠落を生じない良好な磁性層
表面が得られることになる。

【００３７】なお、第１の研磨手段３で比較的直径の大
きい粉塵をより効率良く除去するには、第１の研磨テー
プ１の走行速度Ｖ₂を、媒体原反の走行速度Ｖ₁と（Ｖ₂
−Ｖ₁）／Ｖ₁≧０．０５なる条件を満たすように設定す
るのが望ましい。この（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁が大きい程、
スクラッチ傷を低減することができる。但し、実用上の
観点から（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁の上限は０．５程度であ
る。

【００３８】また、媒体原反２を走行させる巻き出しロ
ールのブレーキテンションと、巻き取りロールの引っ張
りテンションを制御したり、第１のコンタクトロール６
あるいは第２のコンタクトロール９の媒体原反２に対す
る押し込み力を変化させることで媒体原反２のテンショ
ンを制御しても良い。この場合、第１の研磨手段３での
テンションは、スクラッチ傷を抑える点から、研磨力を
損なわない範囲で比較的小さいテンションであるのが望
ましい。また、第２の研磨手段５でのテンションは、研
磨効果を高める点から比較的大きいテンションであるの
が望ましい。

【００３９】以上のようにして磁性薄膜に表面研磨処理
がなされた媒体原反には、必要に応じて磁性薄膜表面に
保護層が設けられ、さらにこの上に潤滑剤や防錆剤等が
トップコートされる。また、非磁性支持体の磁性薄膜が
形成された側とは反対側の面にはバックコート層が設け
られ、その後、所定の形状に裁断されることによって磁
気記録媒体とされる。

【００４０】ここで、保護層やバックコート層、トップ
コート層の材料としては、金属磁性薄膜型の磁気記録媒
体で通常用いられているものがいずれも使用可能であ
る。

【００４１】例えば、保護層の材料には、カーボン、Ｃ
ｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＢＮ、Ｃｏ酸化物、ＭｇＯ、Ｓｉ
Ｏ₂、Ｓｉ₃Ｏ₄、ＳｉＮ_x、ＳｉＣ、ＳｉＮ_x−ＳｉＯ₂、
ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＴｉＣ等が挙げられる。保護層はこ
れらの単層膜であってもよいし、多層膜であっても構わ
ない。また、金属層と組み合わせて積層した複合膜であ
ってもよい。

【００４２】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について実験
結果に基づいて説明する。

【００４３】実施例１まず、下塗層が形成された非磁性支持体を用意した。な
お、非磁性支持体及び下塗層には次のものを使用した。

【００４４】非磁性支持体：厚さ１０μｍ，幅１５０ｍ
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルム下塗層：アクリル酸エステルを主成分とする水溶性ラテ
ックス（密度１０００万個／ｍｍ²）そして、この非磁性支持体の下塗層上に、酸素雰囲気中
で、Ｃｏ−Ｎｉを斜め蒸着することによって金属磁性薄
膜を磁性層として形成した。なお蒸着条件は次の通りで
ある。

【００４５】蒸着源：Ｃｏ₈₀−Ｎｉ₂₀（但し、添字は重量％）金属磁性薄膜の厚さ：２００ｎｍ入射角：４５〜９０゜非磁性支持体の送り速度：２５ｍ／分酸素導入量：２５０ｃｃ／分蒸着時真空度：７×１０^-2Ｐａ次に、この磁性薄膜が形成された媒体原反を、研磨テー
プが媒体原反の走行方向に対して順方向に且つ媒体原反
の走行速度よりも高速で走行する第１の研磨手段と、研
磨テープが媒体原反に対して逆方向に走行する第２の研
磨手段を有する研磨装置（図１に示す研磨装置）にか
け、磁性薄膜に表面研磨処理を施した。

【００４６】なお、第１の研磨テープ及び第２の研磨テ
ープとしては、１５μｍ厚のポリエチレンテレフタレー
トベース上に、平均粒径３μｍのアルミナ粒子をウレタ
ンバインダー中に分散させた研磨層が形成されてなるも
のを使用した。この研磨層の厚さは５μｍである。ま
た、この表面研磨処理は、第１の研磨テープの摺接方向
が磁性薄膜の柱状構造の成長方向に対して逆目となるよ
うに、第２の研磨テープの摺接方向がこの成長方向に対
して順目となるように行った。この他の条件は以下の通
りである。

【００４７】媒体原反の走行速度：１５０ｍ／分第１のコンタクトロールの周速：１６５ｍ／分第１の研磨テープの送り出し速度：０．２ｍ／分媒体原反の走行速度Ｖ₁に対する第１の研磨テープの走
行速度Ｖ₂の増分（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁：０．１第２の研磨テープの走行速度：０．２ｍ／分第１の研磨手段での媒体原反のテンション：０．５ｋｇ
／幅第２の研磨手段での媒体原反のテンション：１．０ｋｇ
／幅なお、媒体原反のテンションは、媒体原反を走行させる
巻き出しロールのブレーキテンションと巻き取りロール
の引っ張りテンションの差を絶対値としてとったもので
ある。

【００４８】続いて、非磁性支持体の磁性薄膜が形成さ
れた側とは反対側の面に、次の条件でバックコート層を
形成した。

【００４９】バックコート層の材料：カーボン粉末、ウ
レタンバインダー塗布厚：０．６μｍテープ原反の送り速度：１５０ｍ／分そして、磁性薄膜表面にパーフルオロポリエーテルを塗
布することでトップコート層を形成した後、８ｍｍ幅に
裁断することで磁気テープを作製した。

【００５０】実施例２〜実施例６磁性薄膜の表面研磨処理に際して、（Ｖ₂−Ｖ₁）／
Ｖ₁、第１の研磨手段における媒体原反のテンション、
第２の研磨手段における媒体原反のテンションを表１に
示すように変えたこと以外は実施例１と同様にして磁気
テープを作製した。

【００５１】比較例１磁性薄膜の表面研磨処理に際して、（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁
を０にするとともに、第１の研磨手段における媒体原反
のテンションを０．５ｋｇ／幅、第２の研磨手段におけ
る媒体原反のテンションを１．５ｋｇ／幅としたこと以
外は実施例１と同様にして磁気テープを作製した。

【００５２】比較例２磁性薄膜の表面研磨処理に際して、第２の研磨手段のみ
を有する研磨装置（図２に示す研磨装置）を用い、次の
ような条件で表面研磨処理を行ったこと以外は実施例１
と同様にして磁気テープを作製した。

【００５３】媒体原反の走行速度：１５０ｍ／分第２の研磨テープの走行速度：０．２ｍ／分第２の研磨手段での媒体原反のテンション：０．５ｋｇ
／幅比較例３，比較例４磁性薄膜の表面研磨処理に際して、第２の研磨テープに
対する媒体原反のテンションを表２に示すように変えた
こと以外は比較例１と同様にして磁気テープを作製し
た。

【００５４】比較例５磁性薄膜の表面研磨処理に際して、第１の研磨手段のみ
を有する研磨装置を用い、次のような条件で表面研磨処
理を行ったこと以外は実施例１と同様にして磁気テープ
を作製した。

【００５５】媒体原反の走行速度：１５０ｍ／分第１のコンタクトロールの周速：１６５ｍ／分第１の研磨テープの送り出し速度：０．２ｍ／分第１の研磨手段での媒体原反のテンション：０．５ｋｇ
／幅比較例６磁性薄膜に表面研磨処理を施さないこと以外は実施例１
と同様にして磁気テープを作製した。

【００５６】以上のようにして作製された磁気テープに
ついて、ドロップアウト数及び磁性薄膜表面の傷の発生
状況を調べた。

【００５７】ドロップアウト（ＤＯ）は、ＶＴＲ装置
（ソニー社製ＥＶ−Ｓ９００）を用い、このＶＴＲ上
で１０分間再生走行を行ったときの１分間当たりに生じ
る出力低下を計測することで評価した。なお、ここで言
う出力低下とは、３μｓ継続した−１０ｄＢの出力低
下、１０μｓ継続した−１０ｄＢの出力低下、２０μｓ
継続した−１０ｄＢの出力低下及び１０μｓ継続した−
１６ｄＢの出力低下であり、この出力低下の発生回数を
それぞれ計測した。但し、スクラッチ傷の発生している
箇所を測定すると桁違いにドロップアウト数が多くなる
ので、平均的な特性を調べるためにスクラッチ傷が発生
していない箇所を選んで測定した。

【００５８】また、スクラッチ傷の発生状況は、裁断前
の媒体原反の３０００ｍ長について、目視によって表面
検査を行い、１ｍ以上のスクラッチ傷と１ｍ未満のスク
ラッチ傷の数を調べることで評価した。

【００５９】この測定結果を、（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁及び
媒体原反の研磨テープに対するテンションとともに表１
〜表３に示す。なお、これら測定結果の基準値も表１に
併せて示す。磁性薄膜の表面性は、スクラッチ傷及びド
ロップアウト数がこの基準値よりも小さい場合に良好で
あると評価することができる。

【００６０】

【表１】

【００６１】

【表２】

【００６２】

【表３】

【００６３】まず、磁性薄膜表面に表面研磨処理を施し
ていない比較例６と、第１の研磨手段と第２の研磨手段
の両方を有する研磨装置によって表面研磨処理を施した
実施例１〜実施例６を比較すると、実施例１〜実施例６
は比較例６に比べて、比較的小さなドロップアウト（−
１０ｄＢ３μｓ，−１０ｄＢ１０μｓ）から比較的大き
なドロップアウト（−１６ｄＢ１０μｓ）に亘って十分
に減少している。また、スクラッチ傷もほとんど生じて
いない。

【００６４】これに対して第２の研磨手段のみを有する
研磨装置によって表面研磨処理を施した比較例２〜比較
例４では、比較的小さなドロップアウトの低減効果は有
するもののスクラッチ傷に起因するような比較的大きな
ドロップアウトの低減効果は小さく、実施例系に比べて
１／２程度の効果である。また、媒体原反のテンション
を上げるとドロップアウトは減少するもののスクラッチ
傷が多発するようになる。

【００６５】例えば、媒体原反のテンションを小さくし
た比較例２ではドロップアウトの低減効果が低く、逆に
媒体原反のテンションを大きくした比較例４では、比較
的小さなドロップアウトは減少しているもののスクラッ
チ傷の発生が多い。このため、このスクラッチ傷に起因
して比較的大きなドロップアウトが多く生じている。

【００６６】また、第１の研磨手段のみを有する研磨装
置によって表面研磨処理を行った比較例５では、スクラ
ッチ傷は生じていないものの、処理を施していない比較
例６に比べてドロップアウトがほとんど減少しておら
ず、第１の研磨手段のみでは研磨の効果が得られないこ
とが示された。

【００６７】以上のことから、磁性薄膜の表面研磨処理
は、研磨テープを媒体原反の走行方向に対して順方向に
且つこの媒体原反よりも高速で走行させる第１の研磨手
段によって処理を行った後、研磨テープを媒体原反の走
行方向に対して逆方向で走行させる第２の研磨手段によ
って処理を行うといったように２段階で行う必要がある
ことがわかった。

【００６８】なお、実施例系の場合をさらに検討する
と、まず実施例１〜実施例３の比較では、媒体原反の第
１の研磨手段でのテンションを第２の研磨手段でのテン
ションよりも小さくした場合の方が、特に小さなスクラ
ッチ傷が抑えられているのがわかる。このことから、媒
体原反の第１の研磨手段でのテンションは研磨効果を損
なわない範囲で比較的小さく設定するほうが好ましいこ
とが示される。

【００６９】一方、実施例１と実施例４を比べると、媒
体原反の第２の研磨手段でのテンションを大きくした実
施例４の方が実施例１よりもドロップアウトが減少して
いる。このことから、媒体原反の第２の研磨テープでの
テンションは多少大きく設定するのが望ましいことがわ
かる。

【００７０】また、実施例４〜実施例６及び比較例１で
は、媒体原反の走行速度に対する第１の研磨テープの走
行速度の増分（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁を変えているが、スク
ラッチ傷の発生状況はこの速度の増分（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ
₁によって異なるのがわかる。このように、速度の増分
（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁が０である比較例１では十分にスク
ラッチ傷を減少させることができないが、この速度の増
分（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁が０を超え、０．１以下の範囲で
は、この増分が大きくなる程スクラッチ傷が減少する。
しかし、速度の増分（Ｖ₂−Ｖ₁）／Ｖ₁が０．１を越え
るとスクラッチ傷が多少増大する傾向が見られ、（Ｖ₂
−Ｖ₁）／Ｖ₁を０．１とした実施例４の場合が、最もス
クラッチ傷が抑えられている。このことから、第１の研
磨テープの走行速度は、媒体原反の走行速度に対して１
０％程度高速とするのが最も望ましいことがわかる。

【００７１】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、連続走行している媒体原反に形成された磁性薄
膜表面に、媒体原反の走行方向に対して順方向に且つこ
の媒体原反よりも高速で走行している第１の研磨テープ
を摺接させた後、媒体原反の走行方向に対して逆方向に
走行している第２の研磨テープを摺接させることによっ
て、上記磁性薄膜の表面研磨処理を行うので、スクラッ
チ傷を抑えながら、磁性薄膜表面に付着した粉塵等の付
着物を研削除去することができる。

【００７２】したがって、本発明によれば、ドロップア
ウトが少なく、また特にＶＴＲ用テープとしたときに横
方向に信号欠落を生じさせることのない磁気記録媒体が
得られる。また、磁気記録分野での高密度記録化、ディ
ジタル記録化に大いに貢献できる。

【００７３】しかも、この方法を実施するための研磨装
置は、従来の装置に第１の研磨テープを走行させる機構
のみを付加するといった簡単な構造であり、既存の設備
に容易に導入することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した研磨装置の１構成例を示す模
式図である。

【図２】従来の研磨装置を示す模式図である。

【符号の説明】

１第１の研磨テープ、２媒体原反、３第１の研磨
手段、４第２の研磨テープ、５第２の研磨手段、６
第１のコンタクトロール、９第２のコンタクトロー
ル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】連続走行している媒体原反に形成された
磁性薄膜表面に、この媒体原反の走行方向に対して順方
向に且つ媒体原反よりも高速で走行している第１の研磨
テープを摺接させた後、媒体原反の走行方向に対して逆
方向に走行している第２の研磨テープを摺接させること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】媒体原反の走行速度をＶ₁、第１の研磨
テープの走行速度をＶ₂としたときに、（Ｖ₂−Ｖ₁）／
Ｖ₁≧０．０５であることを特徴とする請求項１記載の
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】研磨テープが媒体原反の走行方向に対し
て順方向に且つこの媒体原反よりも高速で走行される第
１の研磨手段と、研磨テープが媒体原反の走行方向に対
して逆方向に走行される第２の研磨手段とを具備してな
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。