JPH09220791A

JPH09220791A - 反射防止フイルム

Info

Publication number: JPH09220791A
Application number: JP8052601A
Authority: JP
Inventors: Yurie Oota; 友里恵太田; Norinaga Nakamura; 典永中村; Mitsuru Tsuchiya; 充土屋
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1996-02-16
Filing date: 1996-02-16
Publication date: 1997-08-26

Abstract

(57)【要約】【課題】反射防止フイルムにおいて、その最表層の低
屈折率層がハードコート層に対して優れた密着性を有す
る反射防止フイルムを提供すること。【解決手段】透明基材フイルム上に、高屈折率を有す
るハードコート層及び低屈折率層を積層してなる反射防
止フイルムにおいて、上記低屈折率層が、液媒体中にＳ
ｉＯ_２ゾルと反応性有機珪素化合物とを含むゾル液から
形成された屈折率１．４４以下のＳｉＯ_２ゲル膜からな
ることを特徴とする反射防止フイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ワープロ、コンピ
ュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度付メガ
ネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レン
ズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の
表面の反射防止に優れた反射防止フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、カーブミラー、バックミラー、ゴ
ーグル、窓ガラス、パソコン、ワープロ、プラズマディ
スプレイ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプ
レイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が用い
られており、これらの透明基板を通して物体や文字、図
形等の視覚情報を観察する場合、或いはミラーでは透明
基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これら
の透明基板の表面が外光で反射して内部の視覚情報が見
えにくいという問題があった。

【０００３】このような透明基板の反射を防止する方法
としては、従来、ガラスやプラスチックの表面に反射防
止塗料を塗布する方法、ガラス・プラスチック基材等の
透明基板の表面に、必要に応じてハードコート層を介し
て膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂やＳｉＯ₂等の薄膜を蒸
着やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法によ
り形成する方法があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チックレンズ等のプラスチック製品の表面に電離放射線
硬化型樹脂を塗工してハードコート層とし、得られたハ
ードコート層上に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ₂やＳｉ
Ｏ₂等の薄膜を蒸着によって形成して反射防止フイルム
を形成する方法では、ハードコート層に対するＭｇＦ₂
やＳｉＯ₂等の蒸着薄膜の密着性が不十分であり、反射
防止フイルムを繰り返し屈曲させると、これらの薄膜に
クラックが入ったり、薄膜が剥離したりする等の問題が
ある。

【０００５】近年、塗布法によって優れた品質の薄膜を
得る方法として、無機又は有機超微粒子を酸性及び又は
アルカリ水溶液中に分散した分散液を、基板上に塗布
し、焼成する方法が提案されている。この製造方法によ
ると、大量生産や設備コスト面では有利であるが、製造
工程中に高温での焼成過程を必要とするため、プラスチ
ック基材には成膜が不可能なこと、又、基板と塗布膜と
の収縮度の違い等により皮膜の均一性が十分でなく、気
相法により得られる薄膜に比較した場合に、基材に対す
る密着性等において依然として性能が劣り、又、熱処理
に長時間（例えば、数十分間以上）を要し、生産性に劣
ると云う欠点を有する。従って、本発明の目的は、反射
防止フイルムにおいて、その最表層の低屈折率層がハー
ドコート層に対して優れた密着性を有する反射防止フイ
ルムを提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、透明基材フイル
ム上に、高屈折率を有するハードコート層及び低屈折率
層を積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記低屈
折率層が、液媒体中にＳｉＯ₂ゾルと反応性有機珪素化
合物とを含むゾル液から形成された屈折率１．４４以下
のＳｉＯ₂ゲル膜からなることを特徴とする反射防止フ
イルムである。本発明によれば、反射防止フイルムの低
屈折率層を、液媒体中にＳｉＯ₂ゾルと反応性有機珪素
化合物とを含むゾル液から屈折率１．４４以下のＳｉＯ
₂ゲル膜として形成することによって、低屈折率層がハ
ードコート層に対して優れた密着性を有する反射防止フ
イルムを、高価で複雑な設備等を使用することなく経済
的に提供することができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に実施の形態を挙げて本発明を
更に詳細に説明する。図１は、本発明の反射防止フイル
ムの１例の断面を図解的に示す図である。この例の反射
防止フイルムは、透明基材フイルム１上に、高屈折率を
有するハードコート層２と低屈折率層３を積層した例で
あり、図中の符号４は必要に応じて積層される接着層又
はプライマー層である。図２に示す例は、上記図１に示
す例における高屈折率を有するハードコート層２を、ハ
ードコート層５とその上に形成した高屈折率層６とに機
能分離した例である。図３に示す例は、上記図１に示す
例において、表面に微細凹凸形状を設け、反射防止フイ
ルムに防眩性を付与した例である。

【０００８】本発明において、上記透明基材フイルムと
しては、透明性のあるフイルムであればいずれのフイル
ムでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフイル
ム、ジアセチルセルロースフイルム、アセテートブチレ
ートセルロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイル
ム、ポリアクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂
フイルム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフ
イルム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイル
ム、トリメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトン
フイルム、（メタ）アクリロニトリルフイルム等が使用
できるが、一軸又は二軸延伸ポリエステルが透明性及び
耐熱性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用いら
れる。その厚みは、通常は８μｍ〜１０００μｍ程度の
ものが好適に用いられる。

【０００９】図１の例において、上記透明基材フイルム
の面に形成する高屈折率を有するハードコート層は、熱
硬化性樹脂や電離放射線硬化型樹脂から形成するが、前
記透明基材フイルムが熱可塑性樹脂からなるので、硬化
時に高温を必要としない電離放射線硬化型樹脂を使用す
ることが好ましい。尚、本明細書において、「ハードコ
ート層」或いは「ハード性を有する」とは、ＪＩＳＫ
５４００で示される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示す
ものをいう。又、本発明において「高屈折率」及び「低
屈折率」とは、互いに隣接する層同士の相対的な屈折率
の高低をいう。

【００１０】ハードコート層を形成するのに好適な電離
放射線硬化性樹脂としては、好ましくはアクリレート系
の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリ
エステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポ
キシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセ
タール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエ
ン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）ア
クリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、及び反応
性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに
多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アク
リレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較
的多量に含有するものが使用できる。

【００１１】更に本発明では、ハードコート層を形成す
る硬化性樹脂として、後述の分子量５０００以下の反応
性有機珪素化合物を単独で又は上記の硬化性樹脂と混合
して使用することができる。該有機珪素化合物をハード
コート形成材料の少なくとも一部として使用することに
よって、ハードコート層と低屈折率層との密着性を著し
く向上させることができる。更に、上記の電離放射線硬
化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。

【００１２】ハードコート層を、上記の電離放射線硬化
性樹脂単独で形成する場合、硬化時に架橋密度が高くな
りすぎると、可撓性が低下し、得られる反射防止フイル
ムの屈曲時にハードコート層にクラック等が入り易くな
る場合がある。この場合にはハードコート層形成用組成
物に、非反応性の熱可塑性樹脂を組成物全体中で約５０
重量％を占めるまでの量で混合することが好ましい。非
反応性樹脂の添加量が多すぎるとハードコート性が不十
分になる場合がある。非反応性樹脂としては主として熱
可塑性樹脂が用いられる。特に、電離放射線硬化型樹脂
にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレー
トの混合物を使用した場合には、使用する熱可塑性樹脂
にはポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタ
クリル酸ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つこ
とができる。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化
型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、
透明性、特に、低ヘイズ値、高透過率、又、相溶性の点
において有利である。

【００１３】以上の成分からなるハードコート層の屈折
率は通常１．４９〜１．５１程度であるが、ハードコー
ト層の屈折率を更に向上させるために、ハードコート層
形成用樹脂組成物中に、高屈折率の金属や金属酸化物の
超微粒子を添加することができる。ハードコート層の好
ましい屈折率は１．５０〜２．２０である。前記高屈折
率を有する材料としては、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．
９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ
₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（屈折率１．７
１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ₂Ｏ
₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率１．９５）、
ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率１．６
３）等の微粉末が挙げられる。

【００１４】又、ハードコート層の屈折率を更に向上さ
せるために、ハードコート層形成用樹脂組成物中に、高
屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いてもよい。
前記屈折率を向上させる成分の分子及び原子としては、
Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等
が挙げられる。以上の成分からなるハードコート層は、
以上の成分を適当な溶剤に溶解又は分散させて塗工液と
し、この塗工液を前記基材フイルムに直接塗布して硬化
させるか、或いは離型フイルムに塗布して硬化させた
後、適当な接着剤を用いて前記透明基材フイルムに転写
させて形成することもできる。ハードコート層の厚みは
通常約３〜１０μｍ程度が好ましい。

【００１５】上記ハードコート層の硬化には、通常の電
離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線又は紫外
線の照射によって硬化する方法を用いることができる。
例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン
型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、
直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加
速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは
１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が
使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水
銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、
メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利
用できる。

【００１６】次に上記高屈折率ハードコート層の面に、
液媒体中にＳｉＯ₂ゾルと反応性有機珪素化合物とを含
むゾル液から屈折率１．４４以下のＳｉＯ₂ゲル膜から
なる低屈折率層を形成することによって本発明の反射防
止フイルムが得られる。ＳｉＯ₂ゾルは、珪素アルコキ
シドを塗布に適した有機溶剤に溶解し、一定量の水を添
加して加水分解を行って調製することができる。ＳｉＯ
₂ゾルの形成に使用する珪素アルコキシドの好ましい例
は、Ｒ_mＳｉ（ＯＲ´）_nで表される化合物であり、ここ
でＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋
ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である。更に具
体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−
プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テト
ラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブト
キシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペン
タ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プ
ロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、
テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシ
シラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキ
シシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキ
シシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシ
シラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン等が挙げられる。

【００１７】上記珪素アルコキシドの加水分解は、上記
珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用
する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、
該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして
生じるＳｉＯ₂換算で０．１％以上、好ましくは０．１
〜１０重量％になるように溶解する。ＳｉＯ₂ゾルの濃
度が０．１重量％未満であると形成されるゾル膜が所望
の特性が充分に発揮できず、一方、１０重量％を越える
と透明均質膜の形成が困難となる。又、本発明において
は、以上の固形分以内であるならば、有機物や無機物バ
インダーを併用することも可能である。

【００１８】この溶液に加水分解に必要な量以上の水を
加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度
で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌を行
う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ま
しく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢
酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．００１〜２
０．０Ｎ、好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶
液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分と
することができる。以上の如くして得られたＳｉＯ₂ゾ
ルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月
の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布
適性に優れている。

【００１９】本発明においては、上記のＳｉＯ₂ゾルに
反応性有機珪素化合物又はその部分加水分解物を添加す
る。該反応性有機珪素化合物としては、前記の反応性有
機珪素化合物の他に、熱又は電離放射線によって反応架
橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分
子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料とし
て挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片
末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリ
シラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニ
ル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応
させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリ
シロキサン等が挙げられる。具体的な化合物を例示すれ
ば下記の通りである。

【００２０】ＣＨ₂＝ＣＨ−（Ｒ¹Ｒ²Ｓｉ）_n−ＣＨ＝ＣＨ₂ （Ａ）その他の化合物しては、３−（メタ）アクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキ
シシラン化合物が挙げられる。以上の如き反応性有機珪
素化合物は、前記ＳｉＯ₂ゾル（固形分）１００重量部
当り約０．１〜５０重量部の割合で使用することが好ま
しい。

【００２１】上記ゾル溶液には、各種の添加剤を添加す
ることができる。添加剤としては、成膜を促進する硬化
剤が挙げられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナトリウ
ム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有
機酸溶液が挙げられる。該有機溶剤溶液の濃度は約０．
０１〜０．１重量％程度であり、ゾル溶液に対する添加
量は、ゾル溶液中に存在するＳｉＯ₂１００重量部に対
して上記有機酸塩として約０．１〜１重量部程度の範囲
が好ましい。

【００２２】更に最終的に得られるゲル膜は、反射防止
フイルムの低屈折率層として使用するが、その屈折率の
調整する必要がある場合もある。例えば、屈折率を下げ
るためにフッ素系有機珪素化合物、屈折率を高めるため
に有機珪素化合物、屈折率を更に高めるために硼素系有
機化合物等を添加することができる。具体的には、テト
ラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロ
ポキシシラン、テトラブトキシシラン、アルキルトリア
ルコキシシラン、コルコート４０（コルコート社製）、
ＭＳ５１（三菱化学製）、スノーテックス（日産化学
製）等の有機珪素化合物、ザフロンＦＣ−１１０，２２
０，２５０（東亜合成化学製）、セクラルコートＡ−４
０２Ｂ（セントラル硝子製）、ヘプタデカフルオロデシ
ルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリ
メトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシ
ラン等のフッ素化合物、硼酸トリエチル、硼酸トリメチ
ル、硼酸トリプロピル、硼酸トリブチル等の硼素系化合
物が挙げられる。これらの添加剤はゾルの調製時に加え
てもよいし、ゾルの形成後に加えてもよい。これらの添
加剤を用いることによって、珪素アルコキシドの加水分
解時、或いはその後にシラノール基と反応して更に均一
で透明なゾル溶液が得られ、且つ形成されるゲル膜の屈
折率をある程度の範囲で変化させることができる。

【００２３】上記の反応性有機珪素化合物を含むＳｉＯ
₂ゾル溶液を用いて低屈折率層を形成する方法は、該Ｓ
ｉＯ₂ゾル溶液を、前記高屈折率ハードコート層の表面
に対し、塗布法を用いて塗布し、その後塗布物を活性エ
ネルギー線照射処理するか或いは熱処理することによ
り、ＳｉＯ₂ゲル膜を形成することができ、高屈折率ハ
ードコート層に対するゲル膜の密着性は著しく改善され
る。前記ＳｉＯ₂ゾル溶液のハードコート層への塗布方
法としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー
法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキ
ソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙
げられる。

【００２４】上記ゾル溶液の塗布後に行う塗布層の熱処
理は、前記透明基材フイルムの熱変形温度以下の温度で
行う。例えば、透明基材フイルムがポリエチレンテレフ
タレートフイルム（ＰＥＴ）である場合には、約８０〜
１５０℃の温度で約１分〜１時間熱処理を行ってシリカ
のゲル膜を形成することができる。このような熱処理条
件は、使用する透明基材フイルムの種類及び厚みによっ
て異なるので、使用する透明基材フイルムの種類に応じ
て決定すればよい。

【００２５】ゾル溶液の塗布後の硬化に使用する活性エ
ネルギー線としては、電子線又は紫外線が挙げられ、特
に電子線が好ましい。例えば、電子線硬化の場合にはコ
ックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、
絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波
型等の各種電子線加速機から放出される５０〜１，００
０ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギ
ーを有する電子線が使用され、紫外線硬化の場合には超
高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアー
ク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源か
ら発する紫外線等が利用される。活性エネルギー線の総
照射量として、活性エネルギー線が電子線である場合に
加速電圧１７５ｋＶで０．５Ｍｒａｄ以上、好ましくは
０．５〜５０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。

【００２６】電子線照射は、空気を酸素で置換しなが
ら、或いは十分な酸素雰囲気中で行うことが好ましく、
酸素雰囲気中で行うことによりＳｉＯ₂の生成、重合・
縮合が促進され、より均質且つ高品質のゲル層を形成す
ることができる。上記熱処理は、空気を酸素で置換しな
がら、或いは十分な酸素雰囲気中で行うことが好まし
く、酸素雰囲気中で行うことによりＳｉＯ₂ゲルの生
成、重合・縮合が促進され、より均質且つ高品質のゲル
層を形成することができる。

【００２７】図２に示す例は、図１に示す例における高
屈折率を有するハードコート層をハードコート層５と高
屈折率層６に機能分離した例であり、この例において使
用する材料、各層を形成する方法等は図１に示す例の場
合と同様である。図２に示す反射防止フイルムは、図１
に示す反射防止フイルムに比較して次の如き特徴があ
る。即ち、図１に示す反射防止フイルムに比べて、図２
に示すものは可視光線領域での最低反射率が低く、反射
防止効果が大きい。なお、図２に示す反射防止フイルム
は、高屈折率層の厚さが光学膜厚であることが好まし
い。ここで光学膜厚とは、屈折率を調整し、最低反射率
が５５０ｎｍ付近にあるように設計した膜厚をいう。

【００２８】図３に示す例は、反射防止フイルムの表面
に微細凹凸形状７を設けて反射防止フイルムに防眩性を
付与したものである。微細凹凸形状の形成は、従来公知
のいずれの方法でもよいが、例えば、好ましい方法とし
て、高屈折率ハードコート層を転写法で形成する場合
に、転写材の基材フイルムとして表面に微細凹凸形状を
有するマットフイルムを用い、該フイルム上に高屈折率
ハードコート層用塗工液を塗布及び硬化させ、その後該
ハードコート層を、必要に応じて接着剤等を介して前記
透明基材フイルム面に転写させ、微細凹凸形状を高屈折
率ハードコート層の表面に付与する方法が挙げられる。
その他の方法としては、前記基材フイルム面に高屈折率
ハードコート層用塗工液を塗布及び乾燥させ、その状態
で前記の如きマットフイルムをその樹脂層の面に圧着さ
せ、その状態で樹脂層を硬化させ、次いでマットフイル
ムを剥離し、マットフイルムの微細凹凸形状を高屈折率
ハードコート層の表面に転写させる方法が挙げられる。
いずれにしても、このような微細凹凸形状を有する高屈
折率層の表面に形成する低屈折率層は薄膜であるので、
低屈折率層の表面には上記の微細凹凸形状７が現れる。

【００２９】本発明の反射防止フイルムは、以上説明し
た各層の他に、各種機能を付与するための層を更に設け
ることができる。例えば、透明基材フイルムと高屈折率
ハードコート層（高屈折率層）との密着性を向上させる
ために接着剤層やプライマー層を設けたり、又、ハード
性能を向上させるためにハードコート層を複数層とする
ことができる。上記のように透明基材フイルムとハード
コート層との中間に設けられるその他の層の屈折率は、
透明基材フイルムの屈折率とハードコート層の屈折率の
中間の値とすることが好ましい。

【００３０】上記他の層の形成方法は、上記のように透
明基材フイルム上に、所望の塗工液を直接又は間接的に
塗布して形成してもよく、又、透明基材フイルム上にハ
ードコート層を転写により形成する場合には、予め離型
フイルム上に形成したハードコート層上に他の層を形成
する塗工液を塗布して形成し、その後、透明基材フイル
ムと離型フイルムとを、離型フイルムの塗布面を内側に
してラミネートし、次いで離型フイルムを剥離すること
により、透明基材フイルムに他の層を転写してもよい。
又、本発明の反射防止フイルムの下面には、粘着剤が塗
布されていてもよく、この反射防止フイルムは反射防止
すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いること
ができる。以上の如くして得られる本発明の反射防止フ
イルムは、ワープロ、コンピュータ、テレビ、プラズマ
ディスプレイパネル等の各種ディスプレイ、液晶表示装
置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類からなる
サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファイ
ンダーレンズ等の光学レンズ、各種計器のカバー、自動
車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止に有用であ
る。

【００３１】

【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。実施例１メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）が理想的にＳ
ｉＯ₂又はＭｅＳｉＯ_1.5に加水分解及び縮合したと仮定
した時の固形分濃度が３重量％となるように、ＭＴＥＯ
Ｓを溶媒であるメチルエチルケトンに溶解し、液温が２
５℃に安定するまで３０分間撹拌した（Ａ液）。Ａ液中
に、触媒である濃度０．００５Ｎの塩酸をＭＴＥＯＳの
アルコキシド基と等モル量加え、２５℃で３時間加水分
解を行った（Ｂ液）。このＢ液に、硬化剤として酢酸ナ
トリウムと酢酸とを混合したものを加え、２５℃で１時
間撹拌しＳｉＯ₂ゾル溶液を得た（Ｃ液）。

【００３２】上記Ｃ液中に分子量５０００以下のビニル
基含有シラン（Ｘ−１２−２４００：商品名、信越化学
工業製）を、Ｃ液１００重量部に対して１０重量部の割
合で添加し、低屈折率層用塗布液を得た。表面が平滑な
ＰＥＴフイルム（Ｔ−６０：商品名、ダイヤホイル株式
会社製、厚さ５０μｍ）上に電離放射線硬化性樹脂（Ｘ
−１２−２４００：商品名、信越化学工業製）とＺｒＯ
₂超微粒子（Ｎｏ．９２６：商品名、住友セメント製、
屈折率１．９）を重量比２：１に配合した液状樹脂組成
物を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバースコー
トにより塗工し、電子線を加速電圧１７５ｋＶで５Ｍｒ
ａｄ照射して塗膜を硬化させ、高屈折率ハードコート層
を形成した。この高屈折率ハードコート層上に２液硬化
型接着剤（ＬＸ６６０、ＫＷ７５８硬化剤）：商品名、
大日本インキ化学工業製）をグラビアリバースコートに
より塗工して接着剤層を形成した。次いで、この接着剤
層を介してＰＥＴフイルム（Ａ−４３００：商品名、東
洋紡製、厚さ１００μｍ）をラミネートし、４０℃で４
日間エージングした後、上記ＰＥＴフイルム（Ｔ−６
０）を剥離して、高屈折率ハードコート層をＰＥＴフイ
ルム（Ａ−４３００）上に転写させた。

【００３３】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
上の高屈折率ハードコート層上に、更に前記低屈折率層
用塗工液を、乾燥後の膜厚が１００μｍになるように塗
工し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、本発明の反射
防止フイルムを得た（低屈折率層の屈折率＝１．４
２）。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は９
４．０％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長領域での最
低反射率は０．５であり、反射防止性に優れていた。
又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハードコート性能
にも優れていた。更に高屈折率ハードコート層と低屈折
率層との密着性は、碁盤目テープ剥離試験で１００／１
００であり密着性に優れていた。

【００３４】実施例２表面が平滑なＰＥＴフイルム（Ｔ−６０：商品名、ダイ
ヤホイル株式会社製、厚さ５０μｍ）上にＺｒＯ₂超微
粒子分散液（Ｎｏ．９２６：商品名、住友大阪セメント
製、屈折率１．９）と電離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１２
−２４００：商品名、信越化学工業株式会社製）とＺｒ
Ｏ₂超微粒子とを１５：１に配合した微粒子分散液を
０．１μｍ／ｄｒｙになるようにスリットリバースコー
トにより塗工し、電子線を加速電圧１７５ｋＶで５Ｍｒ
ａｄ照射して塗膜を硬化して高屈折率微粒子層を形成し
た。得られたＰＥＴフイルムの高屈折率微粒子層上に電
離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１２−２４００：商品名、信
越化学工業製）を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビア
リバースコートにより塗工し、電子線を加速電圧１７５
ｋＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化してハードコート
層を形成した。得られたＰＥＴフイルムのハードコート
層上に２液硬化型接着剤（ＬＸ６６０、ＫＷ７５：商品
名、大日本インキ化学工業製）をグラビアリバースコー
トにより塗工して接着剤層を形成し、次いで、この接着
剤層を介してＰＥＴフイルム（Ａ−４３００：商品名、
東洋紡製、厚さ１００μｍ）をラミネートし、４０℃で
４日間エージングした後、ＰＥＴフイルム（Ｔ−６０）
を剥離して、高屈折率ハードコート層をＰＥＴフイルム
（Ａ−４３００）上に転写させた。

【００３５】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
の高屈折率微粒子層上に、更に上記低屈折率塗布溶液を
膜厚１００ｎｍとなるように塗工し、１２０℃で１時間
の熱処理を行い、反射防止フイルムを得た。得られた反
射防止フイルムの全光線透過率は９４．５％、ヘイズ値
０．４であり、可視光線の波長領域での最低反射率は
０．２であり、反射防止性に優れていた。光線の波長と
反射率との関係を表わしたグラフを図４に示す。又、そ
の表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハードコート性能にも優
れていた。更に高屈折率ハードコート層と低屈折率層と
の密着性は碁盤目テープ剥離試験で１００／１００であ
り密着性に優れていた。

【００３６】実施例３表面に微細な凹凸が形成されているマットＰＥＴフイル
ム（ルミラーＥ−０６、：商品名、東レ製、厚さ５０μ
ｍ）上に電離放射線硬化性樹脂（Ｘ−１２−２４００：
商品名、信越化学工業製）とＺｒＯ₂超微粒子（Ｎｏ．
９２６：商品名、住友セメント製、屈折率１．９）を重
量比２：１に配合した液状樹脂組成物を７μｍ／ｄｒｙ
になるようにグラビアリバースコートにより塗工し、電
子線を加速電圧１７５ｋＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を
硬化させ、防眩性を有する高屈折率ハードコート層を形
成した。この高屈折率ハードコート層上に２液型硬化型
接着剤（ＬＸ６６０、ＫＷ７５（硬化剤））をグラビア
リバースコートにより塗工して接着剤層を形成した。次
いで、この接着剤層を介してＰＥＴフイルム（Ａ−４３
００：商品名）をラミネートし、４０℃で４日間エージ
ングした後、上記ＰＥＴフイルム（ルミラーＥ−０６）
を剥離して、高屈折率ハードコート層をＰＥＴフイルム
（Ａ−４３００）上に転写させた。このＰＥＴフイルム
（Ａ−４３００）上の高屈折率防眩層の表面は、前記Ｐ
ＥＴフイルム（ルミラーＥ−０６）の表面形状と同じ微
細な凹凸形状となっている。

【００３７】得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
上の高屈折率ハードコート層上に、前記低屈折率層用塗
工液を、乾燥後の膜厚が１００μｍになるように塗工
し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、本発明の反射防
止フイルムを得た（低屈折率層の屈折率＝１．４２）。
得られた反射防止フイルムの全光線透過率は９４．５
％、ヘイズ値０．７であり、反射防止性に優れていた。
又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハードコート性能
にも優れていた。更に高屈折率ハードコート層と低屈折
率層との密着性は碁盤目テープ剥離試験で１００／１０
０であり密着性に優れていた。

【００３８】実施例４透明基材フイルムとしてＰＥＴフイルム（Ａ−４３０
０：商品名）を用意した。一方、電離放射線硬化性樹脂
（Ｘ−１２−２４００：商品名）とＺｒＯ₂超微粒子
（Ｎｏ．９２６：商品名）を重量比２：１に配合した液
状樹脂組成物を、前記ＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）
に膜厚５μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリバースコ
ートにより塗工し、溶媒を乾燥除去した。表面に微細な
凹凸が形成されているマットＰＥＴフイルム（ルミラー
Ｅ−０６：商品名）を、上記の乾燥樹脂層を有するＰＥ
Ｔフイルム（Ａ−４３００）上にその樹脂層を介してラ
ミネートし、その後、電子線を加速電圧１７５ｋＶで５
Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、マットＰＥＴフイル
ム（ルミラーＥ−０６）を剥離除去することにより樹脂
層の表面に微細な凹凸を形成した。次いでこの高屈折率
防眩層上に前記低屈折率層用塗工液を、乾燥後の膜厚が
１００μｍになるように塗工し、１２０℃で１時間の熱
処理を行い、本発明の反射防止フイルムを得た（低屈折
率層の屈折率＝１．４２）。得られた反射防止フイルム
の全光線透過率は９３．５％、ヘイズ値０．９であり、
反射防止性及び防眩性に優れていた。又、その表面鉛筆
硬度は３Ｈであり、ハードコート性能にも優れていた。
更に高屈折率ハードコート層と低屈折率層との密着性は
碁盤目テープ剥離試験で１００／１００であり密着性に
優れていた。

【００３９】比較例１ゾル液中に反応性珪素有機化合物（Ｘ−１２−２４０
０）を添加しなかった以外は実施例１と同様にして反射
防止フイルムを作製した。この反射防止フイルムの全光
線透過率は９４．５％、ヘイズ値０．５であるが、高屈
折率ハードコート層と低屈折率層との密着性は碁盤目テ
ープ剥離試験で８０／１００であった。比較例２低屈折率層として真空蒸着法によってＳｉＯx膜を形成
した以外は実施例１と同様にして反射防止フイルムを作
製した。この反射防止フイルムの全光線透過率は９３．
５％、ヘイズ値１．０であり、反射防止性が前記実施例
の場合よりも劣っていた。又、その表面鉛筆硬度は２Ｈ
であり、高屈折率ハードコート層と低屈折率層との密着
性は碁盤目テープ剥離試験で８０／１００であった。

【００４０】比較例３低屈折率層として真空蒸着法によってＳｉＯx膜を形成
した以外は実施例２と同様にして反射防止フイルムを作
製した。この反射防止フイルムの全光線透過率は９４．
０％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長領域での最低反
射率は０．４であり、反射防止性が前記実施例の場合よ
りも劣っていた。光線の波長と反射率との関係を表わし
たグラフを図４に示す。又、その表面鉛筆硬度は２Ｈで
あり、高屈折率ハードコート層と低屈折率層との密着性
は碁盤目テープ剥離試験で８０／１００であった。

【００４１】

【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、本発明に
よれば、反射防止フイルムの低屈折率層を、液媒体中に
ＳｉＯ₂ゾルと反応性有機珪素化合物とを含むゾル液か
ら屈折率１．４４以下のＳｉＯ₂ゲル膜として形成する
ことによって、低屈折率層が高屈折率ハードコート層
（図１、３）（又は高屈折率層：図２）に対して優れた
密着性を有する反射防止フイルムを、高価で複雑な設備
等を使用することなく経済的に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止フイルムの１例の断面を説
明する図。

【図２】本発明の反射防止フイルムの他の例の断面を
説明する図。

【図３】本発明の反射防止フイルムの他の例の断面を
説明する図。

【図４】実施例２と比較例３の光線の波長と反射率と
の関係を表わしたグラフ。

【符号の説明】

１：透明基材フイルム２：高屈折率ハードコート層３：低屈折率層４：接着剤層５：ハードコート層６：高屈折率層７：微細凹凸形状

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材フイルム上に、高屈折率を有す
るハードコート層及び低屈折率層を積層してなる反射防
止フイルムにおいて、上記低屈折率層が、液媒体中にＳ
ｉＯ₂ゾルと反応性有機珪素化合物とを含むゾル液から
形成された屈折率１．４４以下のＳｉＯ₂ゲル膜からな
ることを特徴とする反射防止フイルム。
【請求項２】ＳｉＯ₂ゾル（固形分）１００重量部当
り反応性有機珪素化合物０．１〜５０重量部を含む請求
項１に記載の反射防止フイルム。
【請求項３】反応性有機珪素化合物が、熱及び／又は
電離放射線によって硬化可能な複数の官能基を有する有
機珪素化合物又はその部分加水分解物である請求項１に
記載の反射防止フイルム。
【請求項４】高屈折率を有するハードコート層が、ハ
ードコート層と高屈折率層とに機能分離されている請求
項１に記載の反射防止フイルム。
【請求項５】表面に微細凹凸形状が形成されて、防眩
性が付与されている請求項１に記載の反射防止フイル
ム。
【請求項６】ＳｉＯ₂ゾルが、珪素アルコキシドを塗
布に適した有機溶剤に溶解し、一定量の水を添加して加
水分解を行って調製したものである請求項１に記載の反
射防止フイルム。