JP2000338305A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 防湿性及び密着性に優れた無機薄膜を形成し
てなる反射防止フィルムを提供すること。 【解決手段】 透明基材シート上に、ハードコート層及
び反射防止層をこの記載の順に形成してなる反射防止フ
ィルムであって、防湿性を有することを特徴とする反射
防止フィルム。
てなる反射防止フィルムを提供すること。 【解決手段】 透明基材シート上に、ハードコート層及
び反射防止層をこの記載の順に形成してなる反射防止フ
ィルムであって、防湿性を有することを特徴とする反射
防止フィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止性及び防
湿性を有するとともに、光学的機能をもつフィルムに関
し、特にワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディ
スプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明な
プラスチック類からなるサングラスのレンズ、度付きメ
ガネのレンズ、カメラ用ファインダーのレンズ等の光学
レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス
の表面の反射防止フィルムに好適な光学的特性に優れた
反射防止フィルムに関する。
湿性を有するとともに、光学的機能をもつフィルムに関
し、特にワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディ
スプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明な
プラスチック類からなるサングラスのレンズ、度付きメ
ガネのレンズ、カメラ用ファインダーのレンズ等の光学
レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス
の表面の反射防止フィルムに好適な光学的特性に優れた
反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】カーブミラー、バックミラー、ゴーグ
ル、窓ガラス、パソコン、ワープロ等のディスプレイ、
その他種々の商業用ディスプレイ等には、ガラスやプラ
スチック等の透明基板が使用されている。そして、これ
らの透明基板を通して物体や文字、図形等の視覚情報、
或いはミラーからの像を透明基板を通して反射層からの
像を観察する場合に、これら透明基板の表面が光を反射
して、内部の必要な視覚情報が判読し難いという問題点
があった。
ル、窓ガラス、パソコン、ワープロ等のディスプレイ、
その他種々の商業用ディスプレイ等には、ガラスやプラ
スチック等の透明基板が使用されている。そして、これ
らの透明基板を通して物体や文字、図形等の視覚情報、
或いはミラーからの像を透明基板を通して反射層からの
像を観察する場合に、これら透明基板の表面が光を反射
して、内部の必要な視覚情報が判読し難いという問題点
があった。
【０００３】従来、これらの光の反射を防止する技術に
は、ガラスやプラスチックの表面に反射防止塗料を塗布
する方法、ガラス等の透明基板の表面に厚み０．１μｍ
程度のＭｇＦ2等の極薄膜や金属蒸着膜を設ける方法、
プラスチックレンズ等の表面に電離放射線硬化型樹脂を
塗布し、更にその上に蒸着によりＳｉＯ xやＭｇＦ2の膜
を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜の上に
更に低屈折率の塗膜を形成する方法等があった。
は、ガラスやプラスチックの表面に反射防止塗料を塗布
する方法、ガラス等の透明基板の表面に厚み０．１μｍ
程度のＭｇＦ2等の極薄膜や金属蒸着膜を設ける方法、
プラスチックレンズ等の表面に電離放射線硬化型樹脂を
塗布し、更にその上に蒸着によりＳｉＯ xやＭｇＦ2の膜
を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜の上に
更に低屈折率の塗膜を形成する方法等があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記において透明基板
に透明無機薄膜を積層して反射防止機能を付与してなる
反射防止フィルムおいては、透明無機薄膜が防湿性が十
分とはいえず、高湿度雰囲気に長時間置かれると、無機
薄膜の基材に対する密着性が低下し、無機薄膜が部分的
に剥落し、均一な反射防止性が損われるという問題があ
った。従って本発明の目的は、防湿性及び密着性に優れ
た無機薄膜を形成してなる反射防止フィルムを提供する
ことである。
に透明無機薄膜を積層して反射防止機能を付与してなる
反射防止フィルムおいては、透明無機薄膜が防湿性が十
分とはいえず、高湿度雰囲気に長時間置かれると、無機
薄膜の基材に対する密着性が低下し、無機薄膜が部分的
に剥落し、均一な反射防止性が損われるという問題があ
った。従って本発明の目的は、防湿性及び密着性に優れ
た無機薄膜を形成してなる反射防止フィルムを提供する
ことである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的は以下の本発
明によって達成される。即ち、本発明は、透明基材シー
ト上に、ハードコート層及び反射防止層をこの記載の順
に形成してなる反射防止フィルムであって、防湿性を有
することを特徴とする反射防止フィルムを提供する。
明によって達成される。即ち、本発明は、透明基材シー
ト上に、ハードコート層及び反射防止層をこの記載の順
に形成してなる反射防止フィルムであって、防湿性を有
することを特徴とする反射防止フィルムを提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】次に好ましい実施の形態を示す図
面を参照して本発明を更に詳細に説明する。本発明の反
射防止フィルムは、図１に示すように、透明基材シート
上に、ハードコート層及び反射防止層をこの記載の順に
形成されてなり、該反射防止フィルムが防湿性を有する
ことを特徴としている。
面を参照して本発明を更に詳細に説明する。本発明の反
射防止フィルムは、図１に示すように、透明基材シート
上に、ハードコート層及び反射防止層をこの記載の順に
形成されてなり、該反射防止フィルムが防湿性を有する
ことを特徴としている。
【０００７】本発明の好ましい実施の形態は次の通りで
ある。 （１）前記反射防止層が防湿バリヤ層を有する上記の反
射防止フィルム。 （２）前記反射防止層が金属酸化物薄膜の積層体から形
成されている上記の反射防止フィルム。 （３）図２に示すように、前記金属酸化物薄膜の積層体
が高屈折率層及び低屈折率層が交互に少なくとも２層積
層され、最外層が低屈折率層である上記の反射防止フィ
ルム。 （４）前記金属酸化物薄膜の積層体を構成する少なくと
も１層が防湿バリヤ性を有する上記の反射防止フィル
ム。 （５）前記防湿バリヤ層が最外層である上記の反射防止
フィルム。 （６）前記防湿バリヤ層がプラズマＣＶＤ法にて形成さ
れたシリカ層である上記の反射防止フィルム。 （７）水蒸気透過率が１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下である上
記の反射防止フィルム。
ある。 （１）前記反射防止層が防湿バリヤ層を有する上記の反
射防止フィルム。 （２）前記反射防止層が金属酸化物薄膜の積層体から形
成されている上記の反射防止フィルム。 （３）図２に示すように、前記金属酸化物薄膜の積層体
が高屈折率層及び低屈折率層が交互に少なくとも２層積
層され、最外層が低屈折率層である上記の反射防止フィ
ルム。 （４）前記金属酸化物薄膜の積層体を構成する少なくと
も１層が防湿バリヤ性を有する上記の反射防止フィル
ム。 （５）前記防湿バリヤ層が最外層である上記の反射防止
フィルム。 （６）前記防湿バリヤ層がプラズマＣＶＤ法にて形成さ
れたシリカ層である上記の反射防止フィルム。 （７）水蒸気透過率が１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下である上
記の反射防止フィルム。
【０００８】次に本発明の反射防止フィルムの構成材料
並びに製造方法について説明する。本発明で使用する透
明基材シートは、ガラス等のセラミックス又は透明のプ
ラスチックの延伸又は未延伸のフィルムから形成され
る。通常の光学ガラスの他に、透明プラスチックとして
は、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、
ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチ
ル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂
シート若しくはフィルムを使用することができる。透明
基材シートには、その上に形成するハードコート層との
接着を強固にするためにプライマー層或いは接着剤層を
設けることもできる。これらの基材シートはその用途及
び材質によって異なるが一般的には５０〜３００μｍの
厚みである。
並びに製造方法について説明する。本発明で使用する透
明基材シートは、ガラス等のセラミックス又は透明のプ
ラスチックの延伸又は未延伸のフィルムから形成され
る。通常の光学ガラスの他に、透明プラスチックとして
は、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、
ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチ
ル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂
シート若しくはフィルムを使用することができる。透明
基材シートには、その上に形成するハードコート層との
接着を強固にするためにプライマー層或いは接着剤層を
設けることもできる。これらの基材シートはその用途及
び材質によって異なるが一般的には５０〜３００μｍの
厚みである。
【０００９】上記基材シート上に設けるハードコート層
は、通常熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線型樹脂から
形成される。未硬化のこれらの樹脂を含む塗布液を透明
基材シート上に従来公知の塗布方法を用いて塗布及び硬
化することによってハードコート層が形成される。上記
塗布液は、ハードコート層の膜厚が、好ましくは０．５
〜６μｍ、更に好ましくは３〜６μｍとなるように塗布
される。厚みが薄すぎると透明基材シートに形成する反
射防止層の硬度を維持することが困難となり、３〜６μ
ｍの範囲とすることにより良好な硬度を維持することが
可能となり、反射防止フィルムにハード性能を付与する
ことができる。ハードコート層を必要以上に厚くするこ
とは、反射防止フィルムの可撓性を損なうばかりでな
く、その形成時における硬化時間が長くなって生産性を
低下させ、製造コストを高くすることにもなるので好ま
しくない。
は、通常熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線型樹脂から
形成される。未硬化のこれらの樹脂を含む塗布液を透明
基材シート上に従来公知の塗布方法を用いて塗布及び硬
化することによってハードコート層が形成される。上記
塗布液は、ハードコート層の膜厚が、好ましくは０．５
〜６μｍ、更に好ましくは３〜６μｍとなるように塗布
される。厚みが薄すぎると透明基材シートに形成する反
射防止層の硬度を維持することが困難となり、３〜６μ
ｍの範囲とすることにより良好な硬度を維持することが
可能となり、反射防止フィルムにハード性能を付与する
ことができる。ハードコート層を必要以上に厚くするこ
とは、反射防止フィルムの可撓性を損なうばかりでな
く、その形成時における硬化時間が長くなって生産性を
低下させ、製造コストを高くすることにもなるので好ま
しくない。
【００１０】本発明においては、得られる反射防止フィ
ルムに優れた反射防止性に加えて防眩性をも付与する目
的で、ハードコート層、接着層又はプライマー層に微細
凹凸形状を設けることができる。ハードコート層（の凹
凸形状）は、反射防止層と直接に接触するものであり、
ハードコート層の屈折率は、反射防止層の屈折率よりも
小さく形成する。尚、本発明において、「ハード性能」
或いは「ハードコート」とは、ＪＩＳ Ｋ ５４００で
示す鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を示すことを意味す
る。
ルムに優れた反射防止性に加えて防眩性をも付与する目
的で、ハードコート層、接着層又はプライマー層に微細
凹凸形状を設けることができる。ハードコート層（の凹
凸形状）は、反射防止層と直接に接触するものであり、
ハードコート層の屈折率は、反射防止層の屈折率よりも
小さく形成する。尚、本発明において、「ハード性能」
或いは「ハードコート」とは、ＪＩＳ Ｋ ５４００で
示す鉛筆硬度試験で、Ｈ以上の硬度を示すことを意味す
る。
【００１１】上記の要件を満たすハードコート層を形成
するための好ましい熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線
型樹脂（これらを総称して本発明では反応硬化型樹脂と
称することがある。）としては、例えば、アクリレート
系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリ
エステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロアセタール
樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン系樹脂、
多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレー
ト（以下本明細書では、アクリレートとメタクリレート
とを（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマ
ー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤であるエチル
（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリ
レート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例え
ば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、へキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含むものが使
用される。
するための好ましい熱硬化型樹脂及び／又は電離放射線
型樹脂（これらを総称して本発明では反応硬化型樹脂と
称することがある。）としては、例えば、アクリレート
系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリ
エステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロアセタール
樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン系樹脂、
多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレー
ト（以下本明細書では、アクリレートとメタクリレート
とを（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマ
ー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤であるエチル
（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリ
レート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例え
ば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、へキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含むものが使
用される。
【００１２】更に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外
線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重
合開始剤として、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミ
ロキシムエステル、チオキサントン類や、光増感剤とし
てｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブ
チルホスフィン等を混合して使用することが好ましい。
線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重
合開始剤として、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミ
ロキシムエステル、チオキサントン類や、光増感剤とし
てｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブ
チルホスフィン等を混合して使用することが好ましい。
【００１３】上記の電離放射線硬化型樹脂には、一般式
ＲmＳｉ（ＯＲ′）nで表される反応性有機ケイ素化合物
（式中のＲ、Ｒ′は炭素数１〜１０のアルキル基を表
し、ｍ＋ｎ＝４であり、そしてｍ及びｎはそれぞれ整数
である。）を含ませることもできる。該ケイ素化合物と
しては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ
−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラ
ン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テ
トラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ
−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシ
シラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テト
ラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプ
ロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチル
プロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジ
メトキシシラン、メチルジエトキシシラン、へキシルト
リメトキシシラン等が挙げられる。
ＲmＳｉ（ＯＲ′）nで表される反応性有機ケイ素化合物
（式中のＲ、Ｒ′は炭素数１〜１０のアルキル基を表
し、ｍ＋ｎ＝４であり、そしてｍ及びｎはそれぞれ整数
である。）を含ませることもできる。該ケイ素化合物と
しては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ
−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラ
ン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テ
トラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ
−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシ
シラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テト
ラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプ
ロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチル
プロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジ
メトキシシラン、メチルジエトキシシラン、へキシルト
リメトキシシラン等が挙げられる。
【００１４】本発明では、上記の如くして形成されるハ
ードコート層の表面に、防湿性を有する反射防止層を形
成する。この反射防止層は、金属酸化物薄膜の積層体か
ら形成することが好ましく、該積層体は２層以上の積層
体であればよいが、その最外層は防湿性に優れた金属酸
化物薄膜から防湿バリヤ層として形成することが好まし
い。好ましい実施の形態の１例を図２を用いて説明す
る。図２は反射防止層を拡大した図であり、この例では
ハードコート層の表面に、インジウム・錫複合酸化物層
（ＩＴＯ層）、ＳｉＯ2層、ＩＴＯ層及びプラズマＣＶ
Ｄ法で形成されたシリカ層が交互に積層されている。こ
の場合においてＩＴＯ層は相対的にＳｉＯ2層及びシリ
カ層よりも高屈折率層であり、ＳｉＯ2層及びシリカ層
が相対的にＩＴＯ層よりも低屈折率であり、シリカ層が
防湿性に優れ、防湿バリヤ層として作用している。
ードコート層の表面に、防湿性を有する反射防止層を形
成する。この反射防止層は、金属酸化物薄膜の積層体か
ら形成することが好ましく、該積層体は２層以上の積層
体であればよいが、その最外層は防湿性に優れた金属酸
化物薄膜から防湿バリヤ層として形成することが好まし
い。好ましい実施の形態の１例を図２を用いて説明す
る。図２は反射防止層を拡大した図であり、この例では
ハードコート層の表面に、インジウム・錫複合酸化物層
（ＩＴＯ層）、ＳｉＯ2層、ＩＴＯ層及びプラズマＣＶ
Ｄ法で形成されたシリカ層が交互に積層されている。こ
の場合においてＩＴＯ層は相対的にＳｉＯ2層及びシリ
カ層よりも高屈折率層であり、ＳｉＯ2層及びシリカ層
が相対的にＩＴＯ層よりも低屈折率であり、シリカ層が
防湿性に優れ、防湿バリヤ層として作用している。
【００１５】尚、本発明において「プラズマＣＶＤ法で
形成されたシリカ層」とは、通常の真空蒸着等により形
成された「ＳｉＯ2層」と比べて、密度が高く、ガスバ
リヤ性に優れ、基材シートや他の樹脂層との密着性に優
れ、更に柔軟性にも富んでいながら、硬度も高いといっ
た特徴がある。
形成されたシリカ層」とは、通常の真空蒸着等により形
成された「ＳｉＯ2層」と比べて、密度が高く、ガスバ
リヤ性に優れ、基材シートや他の樹脂層との密着性に優
れ、更に柔軟性にも富んでいながら、硬度も高いといっ
た特徴がある。
【００１６】上記の例は単なる例示であり、ＩＴＯ層と
シリカ層とは最低限１層づつ必要であり、且つシリカ層
は最上層に位置することが必要である。例えば、金属酸
化物薄膜の積層体が３層構成である場合には、ＳｉＯ2
層／ＩＴＯ層／シリカ層となり、５層構成である場合に
は、ＳｉＯ2層／ＩＴＯ層／ＳｉＯ2層／ＩＴＯ層／シリ
カ層の形態になる如く、高屈折率層及び低屈折率層が交
互に少なくとも２層積層され、最外層が低屈折率層とな
ることが好ましい。
シリカ層とは最低限１層づつ必要であり、且つシリカ層
は最上層に位置することが必要である。例えば、金属酸
化物薄膜の積層体が３層構成である場合には、ＳｉＯ2
層／ＩＴＯ層／シリカ層となり、５層構成である場合に
は、ＳｉＯ2層／ＩＴＯ層／ＳｉＯ2層／ＩＴＯ層／シリ
カ層の形態になる如く、高屈折率層及び低屈折率層が交
互に少なくとも２層積層され、最外層が低屈折率層とな
ることが好ましい。
【００１７】本発明においては、積層体を構成するＩＴ
Ｏの如き高屈折率層の厚みは３０〜１５０ｎｍ程度であ
り、好ましくは４０〜１００ｎｍ程度である。一方、Ｓ
ｉＯ2層の如き低屈折率層の厚みは１０〜１５０ｎｍ程
度であり、好ましくは２０〜１００ｎｍ程度である。防
湿性を有するシリカ層は低屈折率層であり、その厚みは
１０〜１５０ｎｍ程度であり、好ましくは２０〜１００
ｎｍ程度である。又、反射防止層（積層体全体）として
の厚みは１２０〜３００ｎｍ程度であり、好ましくは１
５０〜２５０ｎｍ程度である。又、高屈折率層の屈折率
は１．８〜２．０程度が好ましく、低屈折率層の屈折率
は１．４９以下が好ましく、更に好ましくは１．４７以
下である。
Ｏの如き高屈折率層の厚みは３０〜１５０ｎｍ程度であ
り、好ましくは４０〜１００ｎｍ程度である。一方、Ｓ
ｉＯ2層の如き低屈折率層の厚みは１０〜１５０ｎｍ程
度であり、好ましくは２０〜１００ｎｍ程度である。防
湿性を有するシリカ層は低屈折率層であり、その厚みは
１０〜１５０ｎｍ程度であり、好ましくは２０〜１００
ｎｍ程度である。又、反射防止層（積層体全体）として
の厚みは１２０〜３００ｎｍ程度であり、好ましくは１
５０〜２５０ｎｍ程度である。又、高屈折率層の屈折率
は１．８〜２．０程度が好ましく、低屈折率層の屈折率
は１．４９以下が好ましく、更に好ましくは１．４７以
下である。
【００１８】又、以上の例は、ＩＴＯ層とＳｉＯ2層と
シリカ層との組み合わせであるが、積層体を構成する高
屈折物質としては、その他に、例えば、ＴｉＯ2、Ｃｅ
Ｏ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ 2、Ｉｎ 2Ｏ 3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ
2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＨｆＯ 2、ＺｒＯ2等が挙げられ、低屈
折物質としては、ＳｉＯ2以外にはＳｉＯxが挙げられ
る。これらの材料を用いて、反射防止層が、高屈折率層
及び低屈折率層が交互に少なくとも２層積層され、最外
層が低屈折率層となる構成であり、全体として防湿性で
あればよい。
シリカ層との組み合わせであるが、積層体を構成する高
屈折物質としては、その他に、例えば、ＴｉＯ2、Ｃｅ
Ｏ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ 2、Ｉｎ 2Ｏ 3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ
2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＨｆＯ 2、ＺｒＯ2等が挙げられ、低屈
折物質としては、ＳｉＯ2以外にはＳｉＯxが挙げられ
る。これらの材料を用いて、反射防止層が、高屈折率層
及び低屈折率層が交互に少なくとも２層積層され、最外
層が低屈折率層となる構成であり、全体として防湿性で
あればよい。
【００１９】以上の如き高屈折率層及び低屈折率層の形
成方法は特に限定されないが、生産性の面からしてスパ
ッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することが
好ましい。スパッタリング法やプラズマＣＶＤ法自体は
薄膜形成技術として周知であり、本発明はこの周知のス
パッタリング法やプラズマＣＶＤ法を用いればよい。特
に本発明では、防湿バリヤ層を構成するシリカ層はプラ
ズマＣＶＤ法で形成することが好ましい。このプラズマ
ＣＶＤ法で形成されたシリカ層は、他の方法で形成され
たシリカ層に比べて非常に緻密な層であり、非常に低い
水蒸気透過性を有するものであった。従って、本発明に
おいてはプラズマＣＶＤ法で形成されたシリカ層を反射
防止層の何れの位置に配置しても十分な防湿性を有する
反射防止フィルムが得られるが、上記シリカ層を反射防
止層の最外層に配置するのが最も好ましい。
成方法は特に限定されないが、生産性の面からしてスパ
ッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することが
好ましい。スパッタリング法やプラズマＣＶＤ法自体は
薄膜形成技術として周知であり、本発明はこの周知のス
パッタリング法やプラズマＣＶＤ法を用いればよい。特
に本発明では、防湿バリヤ層を構成するシリカ層はプラ
ズマＣＶＤ法で形成することが好ましい。このプラズマ
ＣＶＤ法で形成されたシリカ層は、他の方法で形成され
たシリカ層に比べて非常に緻密な層であり、非常に低い
水蒸気透過性を有するものであった。従って、本発明に
おいてはプラズマＣＶＤ法で形成されたシリカ層を反射
防止層の何れの位置に配置しても十分な防湿性を有する
反射防止フィルムが得られるが、上記シリカ層を反射防
止層の最外層に配置するのが最も好ましい。
【００２０】本発明の反射防止フィルムの好ましい製造
方法の１例は下記の通りである。先ず、透明基材シート
に硬化反応型の樹脂からなる未硬化のハードコート層を
形成し、必要に応じてその上に微細な凹凸を持つマット
状の賦型フィルムを積層及び賦型した後、加熱処理及び
／又は電離放射線処理してハードコート層を硬化させ
る。次いで、硬化したハードコート層から上記の賦型フ
ィルムを剥離・除去し、ハードコート層の表面に微小凹
凸形状を形成する。次にハードコート層上にスパッタリ
ング法やプラズマＣＶＤ法を用いて、高屈折率層及び低
屈折率層を交互に少なくとも２層積層し、且つ少なくと
も１層はプラズマＣＶＤ法によりシリカ層とし、最外層
が低屈折率層であるようにして本発明の反射防止フィル
ムが得られる。尚、上記において微細凹凸形状の形成は
必須ではない。
方法の１例は下記の通りである。先ず、透明基材シート
に硬化反応型の樹脂からなる未硬化のハードコート層を
形成し、必要に応じてその上に微細な凹凸を持つマット
状の賦型フィルムを積層及び賦型した後、加熱処理及び
／又は電離放射線処理してハードコート層を硬化させ
る。次いで、硬化したハードコート層から上記の賦型フ
ィルムを剥離・除去し、ハードコート層の表面に微小凹
凸形状を形成する。次にハードコート層上にスパッタリ
ング法やプラズマＣＶＤ法を用いて、高屈折率層及び低
屈折率層を交互に少なくとも２層積層し、且つ少なくと
も１層はプラズマＣＶＤ法によりシリカ層とし、最外層
が低屈折率層であるようにして本発明の反射防止フィル
ムが得られる。尚、上記において微細凹凸形状の形成は
必須ではない。
【００２１】以上の如くして得られる本発明の反射防止
フィルムは、水蒸気透過率が１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下と
なるように、反射防止層の無機薄膜の材質及び厚みを選
択することにより湿度の高い雰囲気に長期間おいても、
反射防止性が変化することがなく、これを偏光素子と積
層した偏光板とし、この偏光板を組込んだ液晶表示装置
に反射光のない鮮明な画像を表示させることができる。
又、本発明の反射防止フィルムを表面に貼合せたブラウ
ン管においても、反射のない鮮明な画像を表示させるこ
とができる。
フィルムは、水蒸気透過率が１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下と
なるように、反射防止層の無機薄膜の材質及び厚みを選
択することにより湿度の高い雰囲気に長期間おいても、
反射防止性が変化することがなく、これを偏光素子と積
層した偏光板とし、この偏光板を組込んだ液晶表示装置
に反射光のない鮮明な画像を表示させることができる。
又、本発明の反射防止フィルムを表面に貼合せたブラウ
ン管においても、反射のない鮮明な画像を表示させるこ
とができる。
【００２２】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。 実施例１ 透明基材シートであるＡ−４３５０（厚み１８８μｍの
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム：東洋紡
績（株）製）上に、ハードコート樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３１
大日精化工業（株）製）をトルエンで濃度３７重量％
に希釈後塗布及び乾燥し、電離放射線により硬化させ、
厚み７．５μｍのハードコート層を形成した。このハー
ドコート層上にスパッタリング法によりＩＴＯ層２５ｎ
ｍ、ＳｉＯ2膜２５ｎｍ、ＩＴＯ層８５ｎｍをこの順に
積層形成した。更にその表面にプラズマＣＶＤ法により
シリカ膜９５ｎｍを積層形成した。
明する。 実施例１ 透明基材シートであるＡ−４３５０（厚み１８８μｍの
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム：東洋紡
績（株）製）上に、ハードコート樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３１
大日精化工業（株）製）をトルエンで濃度３７重量％
に希釈後塗布及び乾燥し、電離放射線により硬化させ、
厚み７．５μｍのハードコート層を形成した。このハー
ドコート層上にスパッタリング法によりＩＴＯ層２５ｎ
ｍ、ＳｉＯ2膜２５ｎｍ、ＩＴＯ層８５ｎｍをこの順に
積層形成した。更にその表面にプラズマＣＶＤ法により
シリカ膜９５ｎｍを積層形成した。
【００２３】上記のプラズマＣＶＤ法の条件は以下の通
りである。 原料ガス：ヘキサメチルジシロキサン、酸素、ヘリウム
及びアルゴン 原料ガス流量：ヘキサメチルジシロキサン＝０．１７Ｓ
ＬＭ、酸素＝０．５１ＳＬＭ、ヘリウム＝０．５１ＳＬ
Ｍ、及びアルゴン＝０．３５ＳＬＭ プラズマの生成：１．７ｋＷ、４０ｋＨｚの電力を成膜
ドラムとガス噴出電極の間に印加した。 基材シートの送り速度：２ｍ／ｍｉｎ．
りである。 原料ガス：ヘキサメチルジシロキサン、酸素、ヘリウム
及びアルゴン 原料ガス流量：ヘキサメチルジシロキサン＝０．１７Ｓ
ＬＭ、酸素＝０．５１ＳＬＭ、ヘリウム＝０．５１ＳＬ
Ｍ、及びアルゴン＝０．３５ＳＬＭ プラズマの生成：１．７ｋＷ、４０ｋＨｚの電力を成膜
ドラムとガス噴出電極の間に印加した。 基材シートの送り速度：２ｍ／ｍｉｎ．
【００２４】実施例２ 実施例１と同じ透明基材シートのハードコート層上に、
実施例１と同様にスパッタリング法によりＩＴＯ層２３
ｎｍ、ＳｉＯ2膜３３ｎｍ、ＩＴＯ層７３ｎｍをこの順
に積層形成した。更にその表面にプラズマＣＶＤ法によ
りシリカ膜９１ｎｍを積層形成した。
実施例１と同様にスパッタリング法によりＩＴＯ層２３
ｎｍ、ＳｉＯ2膜３３ｎｍ、ＩＴＯ層７３ｎｍをこの順
に積層形成した。更にその表面にプラズマＣＶＤ法によ
りシリカ膜９１ｎｍを積層形成した。
【００２５】上記のプラズマＣＶＤ法の条件は以下の通
りである。 原料ガス：ヘキサメチルジシロキサン、酸素、ヘリウム
及びアルゴン 原料ガス流量：ヘキサメチルジシロキサン＝０．１７Ｓ
ＬＭ 酸素＝０．５１ＳＬＭ ヘリウム＝０．５１ＳＬＭ アルゴン＝０．３５ＳＬＭ プラズマの生成：１．７ｋＷ、４０ｋＨｚの電力を成膜
ドラムとガス噴出電極の間に印加した。 基材シートの送り速度：２．８ｍ／ｍｉｎ．
りである。 原料ガス：ヘキサメチルジシロキサン、酸素、ヘリウム
及びアルゴン 原料ガス流量：ヘキサメチルジシロキサン＝０．１７Ｓ
ＬＭ 酸素＝０．５１ＳＬＭ ヘリウム＝０．５１ＳＬＭ アルゴン＝０．３５ＳＬＭ プラズマの生成：１．７ｋＷ、４０ｋＨｚの電力を成膜
ドラムとガス噴出電極の間に印加した。 基材シートの送り速度：２．８ｍ／ｍｉｎ．
【００２６】比較例１ 実施例１において、実施例１の基材シートに形成された
ハードコート層に、実施例１と同様にスパッタリング法
によりＩＴＯ層２５ｎｍ、ＳｉＯ2層２５ｎｍ、ＩＴＯ
層８５ｎｍ及びＳｉＯ2層９２ｎｍをこの順に積層形成
して、比較例の反射防止フィルムを得た。
ハードコート層に、実施例１と同様にスパッタリング法
によりＩＴＯ層２５ｎｍ、ＳｉＯ2層２５ｎｍ、ＩＴＯ
層８５ｎｍ及びＳｉＯ2層９２ｎｍをこの順に積層形成
して、比較例の反射防止フィルムを得た。
【００２７】評価 １．防湿性（密着性） 実施例及び比較例で得られたそれぞれの反射防止フィル
ムについて、防湿試験（５０℃／相対湿度９５％の環境
下に４８時間放置した）後の反射防止層のセロハンテー
プ剥離試験を行なった。セロハンテープ剥離試験は、ニ
チバン（株）製のセロテープを用いて、１０×１０クロ
スカットで５回の剥離試験を行ないその平均値を求め
た。結果を下記表１に示す。 ２．水蒸気透過性試験（ｇ／ｍ2・ｄａｙ） 結果を下記表１に示す。
ムについて、防湿試験（５０℃／相対湿度９５％の環境
下に４８時間放置した）後の反射防止層のセロハンテー
プ剥離試験を行なった。セロハンテープ剥離試験は、ニ
チバン（株）製のセロテープを用いて、１０×１０クロ
スカットで５回の剥離試験を行ないその平均値を求め
た。結果を下記表１に示す。 ２．水蒸気透過性試験（ｇ／ｍ2・ｄａｙ） 結果を下記表１に示す。
【００２８】
【００２９】
【発明の効果】以上の如くして得られる本発明の反射防
止フィルムは、防湿バリヤ層を反射防止層の積層体の１
層に組み込むことにより、湿度の高い雰囲気に長期間お
いても、反射防止性が変化することがない。
止フィルムは、防湿バリヤ層を反射防止層の積層体の１
層に組み込むことにより、湿度の高い雰囲気に長期間お
いても、反射防止性が変化することがない。
【図１】 本発明の反射防止フィルムの基本的層構成を
示す断面図。
示す断面図。
【図２】 反射防止層の１例を示す断面図。
Claims (8)
- 【請求項１】 透明基材シート上に、ハードコート層及
び反射防止層をこの記載の順に形成してなる反射防止フ
ィルムであって、防湿性を有することを特徴とする反射
防止フィルム。 - 【請求項２】 前記反射防止層が防湿バリヤ性を有する
請求項１に記載の反射防止フィルム。 - 【請求項３】 前記反射防止層が金属酸化物薄膜の積層
体から形成されている請求項１に記載の反射防止フィル
ム。 - 【請求項４】 前記金属酸化物薄膜の積層体が高屈折率
層及び低屈折率層が交互に少なくとも２層積層され、最
外層が低屈折率層である請求項３に記載の反射防止フィ
ルム。 - 【請求項５】 前記金属酸化物薄膜の積層体を構成する
少なくとも１層が防湿バリヤ性を有する請求項３又は４
に記載の反射防止フィルム。 - 【請求項６】 前記防湿バリヤ層が最外層である請求項
５に記載の反射防止フィルム。 - 【請求項７】 前記防湿層がプラズマＣＶＤ法にて形成
されたシリカ層である請求項５又は６に記載の反射防止
フィルム。 - 【請求項８】 水蒸気透過率が１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下
である請求項１〜７の何れか１項に記載の反射防止フィ
ルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11148806A JP2000338305A (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11148806A JP2000338305A (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000338305A true JP2000338305A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15461136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11148806A Pending JP2000338305A (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000338305A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
| JP2003149407A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2007090786A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Nikon Corp | 積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品 |
| CN101725316B (zh) * | 2008-10-31 | 2012-07-04 | 比亚迪股份有限公司 | 一种调光玻璃及其制作方法 |
| JP2013238883A (ja) * | 2008-04-21 | 2013-11-28 | Lg Display Co Ltd | 液晶表示装置 |
| KR20200037413A (ko) | 2017-09-28 | 2020-04-08 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법, 그리고 반사 방지층이 형성된 편광판 |
| CN113614582A (zh) * | 2019-03-26 | 2021-11-05 | 脸谱科技有限责任公司 | 用于透明的电活性换能器的抗反射涂层 |
-
1999
- 1999-05-27 JP JP11148806A patent/JP2000338305A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
| JP2003149407A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2007090786A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Nikon Corp | 積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品 |
| JP2013238883A (ja) * | 2008-04-21 | 2013-11-28 | Lg Display Co Ltd | 液晶表示装置 |
| CN101725316B (zh) * | 2008-10-31 | 2012-07-04 | 比亚迪股份有限公司 | 一种调光玻璃及其制作方法 |
| KR20200037413A (ko) | 2017-09-28 | 2020-04-08 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법, 그리고 반사 방지층이 형성된 편광판 |
| KR20220149625A (ko) | 2017-09-28 | 2022-11-08 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법, 그리고 반사 방지층이 형성된 편광판 |
| CN113614582A (zh) * | 2019-03-26 | 2021-11-05 | 脸谱科技有限责任公司 | 用于透明的电活性换能器的抗反射涂层 |
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