JPH09239828A - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents
二軸配向ポリエステルフィルムInfo
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- JPH09239828A JPH09239828A JP8586896A JP8586896A JPH09239828A JP H09239828 A JPH09239828 A JP H09239828A JP 8586896 A JP8586896 A JP 8586896A JP 8586896 A JP8586896 A JP 8586896A JP H09239828 A JPH09239828 A JP H09239828A
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Abstract
し得る二軸配向ポリエステルフィルムを提供する。 【解決手段】 ポリエスエルAを主成分とするフィルム
であって、その少なくとも一方の表面における突起を形
成する粒子の含有量が0.3重量%以下、少なくともそ
の一方の表面の中心線平均粗さRaが0.5nm以上1
00nm以下、該表面の幅方向の表面突起間隔Smが2
0μm以下であり、該表面の水に対する接触角が30゜
以上60゜以下であり、かつ、フィルムのメタルガイド
ピンに対する摩擦係数が0.3以下であることを特徴と
する二軸配向ポリエステルフィルム。
Description
び耐摩耗性を有する二軸配向ポリエステルフィルムに関
する。
るポリエステルフィルムは磁気記録媒体用の支持体とし
て広く使用されている。磁気記録媒体用の支持体として
は電磁変換特性を損なわない平滑性とともに、走行性や
製造工程における搬送性、巻き取り性を高めるために高
度な易滑性が要求される。この易滑性を得るためにフィ
ルム中に粒子を添加して表面に突起をつくり摩擦を低減
する技術はよく知られている(例えば特開昭59−17
1623号公報)。
は、例えば、磁気媒体用途における磁性層塗布、カレン
ダー工程、あるいは、できたビデオテープ等をダビング
してソフトテープ等を製造する工程等の工程速度の増大
に伴い、接触するロールやガイドでフィルム表面に傷が
つくという欠点があった。これを解決するためにフィル
ム中に高級脂肪酸エステルなどの潤滑剤を含有させる技
術が知られている(例えば特開昭60−29930号公
報)。
程は高速化の一途をたどり、塗布速度が400〜500
m/min あるいは1000m/min に達する場合もでて
きた。また、塗布機も以前はグラビアコーターやリバー
スロールコーターなどが主流であったが、最近は、押出
コーター(ダイコーター)に置き換わりつつある。押出
コーターのスリット前面は塗布の際に、搬送されるベー
スフィルムに直接接触する。押出コーターのスリット前
面は、非常によく研磨されているが、上記のように塗布
速度が高速になると、フィルムがコーターのエッジ部分
で削られ、削れた粉がコーターとベースフィルムの間に
堆積し、これがさらにベースフィルムを深く傷つけた
り、削れ粉の塊が磁性層中に介在して、これがドロップ
アウトの原因になったりする。このような問題に対し
て、前記したような、粒子による突起形成技術やフィル
ム中に潤滑剤を含有させる技術、あるいはその組み合わ
せでは対応できなくなってきている。
し、最近の技術要請に対応し得る二軸配向ポリエステル
フィルムを提供することにある。
に、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、ポリエ
スエルAを主成分とするフィルムであって、その少なく
とも一方の表面における突起を形成する粒子の含有量が
0.3重量%以下、少なくともその一方の表面の中心線
平均粗さRaが0.5nm以上100nm以下、該表面
の幅方向の表面突起間隔Smが20μm以下であり、該
表面の水に対する接触角が30゜以上60゜以下であ
り、かつ、フィルムのメタルガイドピンに対する摩擦係
数が0.3以下であることを特徴とするものからなる。
を主成分とするフィルムの表面における突起形成粒子の
含有量は、0.3重量%以下であることが必要であり、
好ましくは0.2重量%以下、さらに好ましくは0.1
重量%以下、とくに好ましくは実質的には粒子が含有さ
れない。このように、粒子の含有量が少ないことによ
り、フィルム中に形成されるボイドの量が非常に少な
い。従って、高速塗布工程においても脱落する粒子が非
常に少ない。
であっても、フィルム表面は適度に粗れていないと、フ
ィルムの搬送性や磁気テープとしたときの走行性が劣化
してしまう。また、表面の凹凸はなるべく緻密に形成さ
れていることが望ましい。この表面の緻密さを表す指標
として表面突起間隔Smをとると、長手方向(MD)あ
るいは幅方向(TD)の少なくとも一方で、20μm以
下が好ましい範囲であり、さらに好ましくは15μm以
下、さらに好ましくは12μm以下である。この突起間
隔が、20μmより大きいとフィルム−ダイコータのエ
ッジ間の滑りが悪く、ダイコータによるフィルム削れを
起こしやすい。このダイコータによるフィルム削れは、
平滑なメタルガイドとフィルムとの間の摺動における摩
擦係数を指標とすることができ、該摩擦係数が0.3以
下であることがダイコータ削れを起こしにくいことの必
要条件である。
面に緻密な凹凸を形成させる一つの手段としては、ポリ
エステル結晶によって突起を形成することである。未延
伸フィルムに先ず熱処理を施すことにより、未延伸フィ
ルムのとくに表面の結晶化が進められ、多数の微細な結
晶が生成する。この未延伸フィルムが二軸延伸され、フ
ィルムが二軸に配向されて目標とするフィルム自身の強
度が達成されるとともに、結晶とそうでない部分の硬さ
の差によって、上記微細結晶に起因する均一な微細表面
突起が形成される。
晶からなるものか否かについては、対象となる突起の下
を、フィルム厚さ方向に適切な溶媒でエッチングしてい
き、その突起を形成する起因物が不溶物として残存する
場合は、外部から添加された粒子、あるいは、内部析出
した粒子とする(I)。不溶物として残存するものが実
質的になかった場合は、その突起を形成する起因物は微
細結晶であると推定できる(II)。上記の溶媒として
は、例えば、フェノール/四塩化炭素(重量比:6/
4)の混合溶媒などが好ましく用いられる。この方法で
視野を約1mm2とした時のIの頻度、IIの頻度を求
め、II/(I+II)の値が80%以上である場合が
好ましい。さらに好ましくは90%以上、さらに好まし
くは95%以上である。ただし、表面突起がポリエステ
ルAの微細結晶からなるものか否かの判定法について
は、上記の方法に限定されるものではなく、適切な方法
を選択することができる。
因する突起のみで表面を形成した場合、表面粗さはあま
り大きくはならず、表面の中心線平均粗さ(Ra)で1
00nmが限界である。また、必要に応じて粒子を添加
した場合にも、Raが100nmを越えると、磁気テー
プとした場合に電磁変換特性が劣化する。また、Raの
下限は0.5nmであり、これよりRaが小さくなる
と、フィルムの滑りが悪くなり実用的でない。Raの好
ましい範囲としては1nm〜80nm、さらに、好まし
くは1nm〜50nmである。
定されないが、エチレンテレフタレート、エチレン2,6-
ナフタレート、エチレンα,β−ビス(2-クロルフェノ
キシ)エタン-4,4'-ジカルボキシレート単位から選ばれ
た少なくとも一種の構造単位を主要構成成分とする場合
に、とくに、エチレンテレフタレートを繰り返し単位に
85モル%以上含有するポリエステルの場合が好まし
い。また、ポリエステルAの結晶化指数ΔTcgが10
〜60℃、好ましくは10〜50℃の範囲の場合に、本
発明の表面形態が得やすく、また、耐電圧性や巻き取り
性も一層良好となるので好ましい。
は、結晶核剤効果により結晶化速度の速いポリエチレン
テレフタレートがとくに好ましい。結晶核剤効果を高
め、結晶性指数ΔTcgが小さいポリエステルを得るた
めには、エステル交換、重合時に酢酸リチウム、酢酸マ
グネシウム、酢酸カリウム、亜リン酸、ホスホン酸、ホ
スフィン酸あるいはそれらの誘導体、酸化アンチモン、
酸化ゲルマニウムを存在させることが有効である。とく
に望ましい組み合わせは、酢酸マグネシウムとホスホン
酸(またはその誘導体)および酸化アンチモンであり、
ホスホン酸(またはその誘導体)としては、フェニルホ
スホン酸、ジメチルフェニルホスホネートなどが挙げら
れる。また、これらの金属塩やリン化合物はできる限り
ポリエステル中に分散していることが結晶化速度を高め
る上で好ましい。ただし、ポリエステルAの製造方法は
上記になんら限定されるものではない。なお、本発明の
目的を阻害しない範囲内で、二種以上のポリエステルを
混合してもよい。
リエステルBを主成分とするフィルムの少なくとも片面
に、上記のポリエステルAを主成分とするフィルムを積
層してなる二軸配向積層ポリエステルフィルムである。
い。ポリエステルBの結晶性パラメータΔTcgは、ポ
リエステルAの結晶性ΔTcgより大きいと、延伸性に
対する影響が小さくなるので好ましい。また、ポリエス
テルBには、粒子が含有されないことが望ましいが、含
有されていてもよい。
ステルBからなるフィルムの片面にポリエステルAが積
層されてなるフィルムであってもよいし、ポリエステル
Bからなるフィルムの両面にポリエステルAが積層され
てなるフィルムであってもよい。ポリエステルAの積層
厚さはとくに限定されないが、積層厚さが全厚みの30
%以下の時にフィルム製膜時の延伸性に対する影響が小
さくなるので好ましい。積層厚みの下限はとくに限定さ
れないが、20nmが共押し出しによる限界である。
分とするフィルムの表面における水との接触角を30゜
以上60゜以下にする必要がある。このように、フィル
ム表面を親水性にしておくことによりフィルム表面がダ
イコーターのエッジによりダメージを受けた場合にも、
削れたフィルムの破片が静電気的に凝集することがな
い。ただし、フィルム表面の親水性があまり高すぎると
ダイコータのエッジ部分との凝着力が強くなり好ましく
ない。ポリエステルAの表面における水との接触角の下
限としては30゜好ましくは35゜さらに好ましくは4
0゜である。
角を60゜以下にするための手段としては、潤滑剤即
ち、親水性官能基およびアルキル基を持つ芳香族環を有
する有機化合物を製膜以前に練り込んでおく方法があ
る。この場合親水性官能基としてはポリエステル中の水
酸基、カルボキシル基と酸塩基的相互作用、あるいは水
素結合的な相互作用を持つものであればどのような官能
基でもかまわない。官能基の具体例としてはカルボキシ
ル基およびその塩、スルホン基およびその塩、リン酸基
およびその一つないし二つの水酸基をエステル化したも
のなどが挙げられる。このような親水性官能基はイオン
結合性が強すぎる(極性が強すぎる)とポリエステルと
の相溶性が悪くなる傾向がある。このような場合、ポリ
エステルに少量のポリアルキレングリコールを共重合す
る、あるいは練り込んでやると良い。このような場合、
ポリアルキレングリコールに若干の導電性があるため、
フィルムの表面比抵抗(Ω/□)が下がり、フィルム製
造工程内、磁気テープ製造工程内で静電気的にゴミを吸
い付けないなどのメリットが生じる場合がある。ただ
し、ポリアルキレングリコールの含有量が高すぎると、
フィルムの吸湿性が高くなり、これが弊害となる場合も
あるので、ポリアルキレングリコールの含有量は通常は
15モル%が上限である。ただし、吸湿性が弊害となら
ず、高度な導電性を必要とする場合はこの限りではな
い。また、ポリアルキレングリコールが有効に作用する
量の下限は0.01モル%である。
が高くこのような有機化合物をフィルム表面から脱離さ
せない効果をもたらす。さらに芳香族環に付随したアル
キル基はダイコータのエッジ部分のような金属表面とフ
ィルムとの間の摩擦・摩耗を低減する作用を持つ。この
アルキル基は直鎖状でも分枝鎖をもつものでもよいが、
アルキル基の炭素数は4以上が望ましく、さらに好まし
くは6以上である。また、アルキル基の一部の水素原子
をフッ素原子で置換した構造のものが、摩擦、摩耗低減
に一層効果的な場合もある。
ルキルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩、アルキルベ
ンゼンリン酸アルカリ金属塩、アルキルベンゼンカルボ
ン酸アルカリ金属塩などが挙げられる。
テルAに対して0.001〜3重量%、好ましくは0.
01〜2.5重量%でさらに好ましくは0.1〜2重量
%である。この範囲より含有量が少ないと易滑効果が発
揮されにくく、またこの範囲より含有量が多いとこれら
の化合物がフィルム表面からブリードアウトしてフィル
ムや磁気材料の製造工程を汚すなどの弊害が生じる場合
がある。
記式(1)のような構成のものが挙げられる R−X−SO3 −M ・・・(1) ここで、R:直鎖または分枝鎖をもつアルキル基 X:芳香族環 −SO3 −:スルホン酸基 M:アルカリ金属
ってもよい。 R−X−PO3 −M2 H(2-n) ・・・(2) ここで、R:直鎖または分枝鎖をもつアルキル基 X:芳香族環 −PO3 −:リン酸基 M:アルカリ金属 H:水素原子 n:0から2までの実数
あってもよい。 R−X−COO−M ・・・(3) ここで、R:直鎖または分枝鎖をもつアルキル基 X:芳香族環 −COO−:カルボキシル基 M:アルカリ金属
径が100nm以下のアルミナやジルコニアなど実質的
に突起を形成しない微粒子を添加して、ポリエステルの
地肌補強を行ってもよい。ただし、この場合にも添加量
はできるだけ少ないことが望ましく、添加量の上限は1
重量%とするのが好ましい。
ィルムの場合を例にとって説明する。ポリエステルBの
少なくとも片面にポリエステルAを積層した溶融押出フ
ィルムを、静電印加キャスト法を用いて、冷却金属ロー
ル表面で冷却し、未延伸フィルムを得る。
処理を施す。ここで未延伸フィルムとは、口金から押し
出された直後の冷却固化される前の状態から、冷却固化
後、一軸方向にわずかに微延伸(2倍程度まで)された
ものまでを指す。この熱処理の目的は、延伸前のフィル
ム表面を好ましい結晶化度にまで結晶性を高めることで
あり、処理方法としては、押出し直後の温度の高いフ
ィルムを徐冷することにより結晶化させる方法、一旦
冷却、固化したフィルムを再加熱して結晶化させる方
法、一軸方向に微延伸させた状態で加熱処理する方
法、がある。これらの方法の一つをフィルムの製膜プロ
セスのなかで実施し、目標とする表面形態を得ることが
できるが、これらの方法を二つ以上併用して、フィルム
の製膜プロセスのなかで実施してもよい。
またはの方法が好ましいが、の方法を用いても、適
切な条件を採用することにより望ましい表面形態を得る
ことができる。の処理方法については、とくに限定さ
れないが、加熱ロールに巻き付けて熱処理する方法、ロ
ールに巻き付けた状態でロールと接触する反対の面から
熱風処理する方法、あるいはロールに巻き付けた状態で
ロールと接触する反対の面から赤外線ヒータで熱処理す
る方法、ロール/ロール間で赤外線ヒータで熱処理する
方法、ステンタを用いて加熱する方法等があるが、とく
にこれらの方法に限定されるものではない。熱処理条件
としては、100〜240℃の温度下で、0.5〜10
0秒熱処理することが望ましい。より好ましくは、12
0〜220℃で1〜50秒の熱処理条件が目標とする表
面形態を、フィルムの製膜プロセス中で効率良く得るた
めに望ましい条件である。
二軸延伸、熱固定を行って二軸配向ポリエステルフィル
ムを得る。この延伸時に、フィルム表面付近に形成され
た結晶が非晶部よりも硬く変形しにくいため、表面に突
起が形成される。
幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸を用いる事が有効であ
る。長手方向の延伸はポリエステルのガラス転移温度T
gより10℃以上高い高温で、5000〜50000%
/分の延伸速度で一度にもしくは数回に分けて3〜6倍
の範囲で行うことが有効である。また、横方向の延伸は
80〜160℃の温度で、1000〜20000%/分
の延伸速度で3〜7倍の範囲で行うことが好ましい。ま
た、一旦二軸延伸されたフィルムを少なくとも一方向に
さらに延伸してもよいが、延伸後の定長熱処理は170
〜240℃で0.5〜60秒行うのが好ましい。さら
に、幅方向の屈折率が大きく、かつ幅方向の突起間隔S
mの小さなフィルムを得るためには、定長熱処理後、幅
方向に5〜15%弛緩させながら170〜240℃で
0.5〜60秒弛緩熱処理を施すことが好ましい。
は、上に記した溶融押出しフィルムを作るとき、2台の
押出機からポリエステルA、Bをそれぞれ溶融して供給
したものを、2または3層のマニホールドまたは合流ブ
ロックを用いて、ポリエステルBの片面または両面にポ
リエステルAに積層し、スリット状の口金から溶融押し
出す方法であるが、合流部分が矩形の合流ブロックを用
いて積層する方法が安定性の面からとくに好ましい。
記熱処理方法について、より具体的に説明する。本発明
においては、未延伸フィルムの少なくとも片面に熱処理
を施し、その後に二軸延伸する。ここで未延伸フィルム
とは、口金から押し出された直後の冷却固化される前の
状態から、一軸方向にわずかに微延伸(2倍程度まで)
されたものまでを指す。この熱処理の目的は、延伸前の
フィルム表面を好ましい結晶化度にまで結晶性を高める
ことである。
とする溶融押出フィルムを、冷却ロール表面で冷却する
過程において、ポリエステルAのガラス転移温度Tg以
上、かつ融解温度Tmより100℃高い温度(Tm+1
00℃)以下で、未延伸フィルムを該冷却ロールと接触
する反対の面から熱処理し、その後に該未延伸フィルム
を二軸延伸することによって、所望の表面突起が形成さ
れるので好ましい。より好ましくはTgより20℃高い
温度(Tg+20℃)以上、かつTmより80℃高い温
度(Tm+80℃)以下、さらに好ましくは、Tgより
40℃高い温度(Tg+40℃)以上、かつTm以下で
ある。未延伸フィルムを該冷却ロールと接触する反対の
面から熱処理する方法としては、熱風または、赤外線ヒ
ータによる輻射熱を用いることができるが、この方法に
限定されるものではない。
S以上で、かつ、10S以下であると、延伸前のフィル
ム表面を所望の結晶化度にまで結晶性を高めることがで
き好ましい。より好ましくは、該冷却ロール表面の表面
粗さが0.3S以上で、かつ、8S以下である。ロール
表面の表面粗さが0.2S未満であると、冷却ロールに
未延伸フィルムが粘着して好ましくない。また10Sを
超える表面粗さでは所望の表面突起が形成されなくなっ
たり、冷却ロール上でフィルムが滑り好ましくない。
ィルムを熱処理する場合、その少なくとも片面の表面
(または表層)温度が、ポリエステルAの冷結晶化温度
Tccより20℃低い(Tcc−20℃)以上、かつ降
温結晶化温度Tmcより40℃高い(Tmc+40℃)
以下で、0.5〜100秒保たれるように熱処理し、そ
の後にTg以上、かつTccより20℃高い(Tcc+
20℃)温度以下で二軸延伸することによって、所望の
表面突起が形成されるので好ましい。より好ましくは、
Tcc以上、かつTmc以下で0.5〜50秒、さらに
好ましくは、Tcc以上、かつTmc以下で0.5〜2
0秒保たれるような熱処理である。
延伸フィルムを一軸方向に微延伸し、複屈折0.5×1
0-3〜50×10-3とし、次に該微延伸フィルムの少な
くとも片面の表面(または表層)温度が、ポリエステル
Aの冷結晶化温度Tccより20℃低い(Tcc−20
℃)以上、かつ降温結晶化温度Tmcより40℃高い
(Tmc+40℃)以下で0.3〜50秒保たれるよう
に熱処理し、その後にTg以上、かつTccより20℃
高い(Tcc+20℃)温度以下で二軸延伸することに
よって、所望の表面突起が形成されるので好ましい。よ
り好ましくは、Tcc以上、かつTmc以下で、0.5
〜20秒、さらに好ましくは、Tccより10℃高い
(Tcc+10℃)以上、かつTmcより20℃低い
(Tmc−20℃)以下で、0.5〜15秒保たれるよ
うな熱処理である。
付けて熱処理する方法、ロールに巻き付けた状態でロー
ルと接触する反対の面から熱風処理する方法、あるいは
ロールに巻き付けた状態でロールと接触する反対の面か
ら赤外線ヒータで熱処理する方法、ロール/ロール間で
赤外線ヒータで熱処理する方法、ステンタを用いて加熱
する方法等があるが、とくにこれらの方法に限定される
ものではない。ただし、ロールを介在させる熱処理方法
においては、ロール表面の材質をポリエステルに対して
できるだけ粘着性の低いものを選択することが好まし
い。例えば、ポリエチレンテレフタレートに対しては、
シリコーンゴムロールが最適である。また、この熱処理
においてフィルムが高温の状態でロールに接する場合、
隣り合うロールとロールの間隔はできるだけ短くするこ
とが好ましい。ロールとフィルムの接点から次のロール
の接点までの距離がフィルム幅の1/3以下、好ましく
は1/4以下に設定すると、粘着による表面性の劣化が
防げる。
とする溶融押出フィルムの少なくとも片面の表面(また
は表層)温度を、ポリエステルAの降温結晶化温度Tm
cより70℃低い温度(Tmc−70℃)以上、かつポ
リエステルAの降温結晶化温度Tmc以下で、0.5〜
20秒保ち、次いで、ガラス転移温度Tg以下に冷却
し、その後に該未延伸フィルムを二軸延伸することによ
って、所望の表面突起が形成されるので好ましい。
の温度の高いフィルムを徐冷することにより結晶化させ
る方法、また、一旦冷却、固化したフィルムを再加熱し
て結晶化させる方法、また、一軸方向に微延伸させた状
態で加熱処理する方法などがあり、これらの方法の一つ
をフィルムの製膜プロセスのなかで実施し、目標とする
表面形態を得ることができるが、これらの方法を二つ以
上併用して、フィルムの製膜プロセスのなかで実施して
もよい。
好ましくはポリエチレンテレフタレート(PET)が用
いられる。このポリエステルAには、実質的に粒子が含
有されないことが好ましい。ポリエステルAの重合は、
重合触媒として三酸化アンチモン、また、ΔTcgを低下
させ、結晶核剤効果を高めるために、エステル交換触媒
としての金属化合物は酢酸塩を用いることが好ましい。
酢酸塩としては、とくに限定されないが、マグネシウム
化合物を用いることが、本発明の目的を達成するために
はとくに好ましい。また、PETの重合時に添加される
リン化合物としては、ホスホン酸誘導体を用いることが
好ましい。本発明の場合、核剤効果を高めるために、触
媒添加量を増大することが望ましいが、添加し過ぎると
内部粒子の析出の原因となり、しかもヘイズが大きくな
るために好ましくない。マグネシウム化合物として酢酸
マグネシウムを用い、ホスホン酸誘導体としてフェニル
ホスホン酸ジメチルを用いた場合、ポリエステルAを用
いて製膜したフィルムの重量に対して酢酸マグネシウム
60〜200ppm、フェニルホスホン酸ジメチル20
〜400ppm添加すると良い。但し、ポリエステルA
の製造方法としては上記になんら限定されるものではな
い。
にコンデンサ用フィルムとして好適に用いられるが、磁
気テープの支持体、包装用にも適している。さらに、表
面に緻密かつ均一に粗れていることから描画用フィルム
や液晶画面に用いられる光拡散フィルムなどにも好適で
ある。
法]本発明の特性値の測定方法ならびに効果の評価方法
は次の通りである。 (1)フィルム表面の突起個数 2検出方式の走査型電子顕微鏡の走査型電子顕微鏡[E
SM−3200、エリオニクス(株)製]と断面測定装置
[PMS−1、エリオニクス(株)製]においてフィル
ム表面の平坦面の高さを0として走査したときの突起の
高さ測定値を画像処理装置[IBAS2000、カールツァ
イス(株)製]に送り、画像処理装置上にフィルム表面
突起画像を再構築する。次に、この表面突起画像で突起
部分を2値化して得られた個々の突起部分の中で最も高
い値をその突起の突起高さとし、これを個々の突起につ
いて求める。この測定を場所を変えて500回繰り返
し、20nm以上のものを突起とし、突起個数を求め
た。また走査型電子顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間
を選択する。なお、場合によっては、高精度光干渉式3
次元表面解析装置(WYKO社製TOPO−3D、対物
レンズ:40〜200倍、高精度カメラ使用が有効)に
よって得られる高さ情報やピークカウントなどの個数情
報を上記SEMの値に読み変えてもよい。また、突起個
数に関しては、突起を立体的にとらえるため、フィルム
を82.5゜傾けて、倍率1万〜50万倍で電子顕微鏡
(SEM)による写真を撮影し、100視野測定を行っ
た平均値から突起数を1mm2 あたりに換算してもよ
い。この他、原子間力顕微鏡を用いても測定可能であ
る。
を用いて測定した。DSCの測定条件は次のとおりであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、3
00℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷す
る。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移点
Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態からの
結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tccとし
た。TccとTg の差(Tcc−Tg )を結晶化パラメータ
ΔTcgと定義する。
速電圧100kVで、フィルム断面を、超薄切片法(R
uO4 染色)で観察し、その界面をとらえ、その積層厚
さを求める。倍率は、判定したい積層厚さによって選ぶ
ことが通常であり、とくに限定されないが、1万〜10
万倍が適当である。
てフィルム表面に純水を滴下し水滴とフィルム表面のな
す接触角を接触角計CA−D型(協和界面科学(株)
製)で測定した。
のをテープ高速走行性試験器((株)横浜システム研究
所製TBT300)を使用して、 ガイドピン上を一回走
行させる。 ガイドピン出側のフィルムの張力を90g 、ガ
イドピンに対するフィルムの巻き付け角: 60゜、 走行
速度250m/ 秒で90m走行させた後、ガイドピン上
に付着した白粉量を下記評価基準により評価した。 5点:粉の付着がほとんど見られない。 3点:粉の付着が見られるが、フィルムに深い傷をつけ
る程ではない。 1点:粉の付着が全面に見られ、削れ粉の塊がさらにフ
ィルムに深い傷をつけている。 (これらの中間の状態をそれぞれ4点、2点とした。)
ピン間) フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験器((株)横浜システム研究所製
SFT700)を使用して、メタルガイドピン上を繰り
返し走行させる。フィルムの一端に100gの荷重を掛
け、他方の端をロードセルに接続する。巻き付け角90
゜、走行速度3.3cm/秒で50パス走行させた後の
ロードセルにかかる荷重(Ti)を読み取り、摩擦係数
を次式(オイラーの式)に従い算出した。 摩擦係数μk=(2/π)ln(Ti/100)
m (株)小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10
を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、20回
の測定の平均値をもって値とした。これらの測定は、フ
ィルムの幅方向に触針を走査して行った。 ・触針先端半径 : 0.5 μm ・触針荷重 : 5 mg ・測定長 : 1 mm ・カットオフ : 0.08 mm ・触針スピード : 4 μm /sec なお、Rt、Ra、Smの定義は、例えば、奈良治郎著
「表面粗さの測定・評価法」(総合技術センター、19
83)に示されているものである。
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法、二次イオン質量分析(SI
MS)による測定も有効である。
ンテレフタレート(重合触媒:酢酸マグネシウム0.2
重量%、三酸化アンチモン0.03重量%、リン化合物
としてジメチルフェニルホスホネート0.70重量%を
用いた。)を各種潤滑剤とともに、ベント式の二軸混練
押出機を用いて練り込み、ポリエチレンテレフタレート
のマスタペレットとしたものを用いた(固有粘度:0.
60、融点:258℃ ΔTcg:50℃)。
シウム0.06重量%、三酸化アンチモン0.008重
量%、トリメチルホスフェート0.02重量%を用い
て、常法により重合したポリエチレンテレフタレートを
用いた(固有粘度:0.62、融点:259℃、ΔTc
g:84℃)。ポリエステルA、Bともに不活性粒子は
含有しない。
リエステルAに対して1重量%含有させた。リエステル
A、Bのペレットを、180℃で3時間乾燥後、それぞ
れ2台の押出機に供給し、290℃で溶融し、3層用の
矩形の合流ブロック(フィードブロック)で、合流積層
しA/B/Aの層構成を持つフィルムとした。公知の押
出機を用いて、290℃で溶融押出しを行い、静電印加
キャスト法を用いて、表面温度30℃のキャスティング
ドラム上に巻き付けて、冷却、固化し、未延伸フィルム
を作った。この未延伸フィルムを150℃に加熱したシ
リコーンロール上で8秒熱処理したのち、熱処理後フィ
ルムを、温度90℃にて、長手方向に3.4倍延伸し、
さらに公知のステンタを用いて、延伸速度2000%/
分で、95℃で、幅方向に3.5倍延伸し、さらに定長
下で210℃にて5秒間熱処理を行い、厚さ10μmの
二軸配向フィルムを得た。このとき積層部の厚さはそれ
ぞれ1μmとした。
ンゼンリン酸ナトリウム塩、オクタデシルベンゼンカル
ボン酸リチウム塩を用いた以外は全て実施例1と同様に
して、A/B/A3層構成の積層フィルムとした。
ルホン酸ナトリウム塩、ポリエステルAとしてポリエチ
レングリコール(分子量約8000)を10モル%共重
合したものを用いた他は全て実施例1に準じてフィルム
を調製した。
中に平均一次粒径20nmのδアルミナ粒子を分散さ
せ、ポリエステルAの重合時に添加したものを用いた以
外は全て実施例1に準じてフィルムを調製した。積層部
のアルミナの含有量は0.2重量%となるように調整し
た。
中に平均粒径1.1μmの炭酸カルシウム粒子を分散さ
せ、ポリエステルAの重合時に添加したものを用いた以
外は全て実施例1に準じてフィルムを調製した。積層部
の炭酸カルシウムの含有量は0.25重量%となるよう
に調整した。
施例1に準じてフィルムを調製した。
均粒径0.3μmのコロイダルシリカ粒子を分散させ、
ポリエステルBの重合時に添加したものを用い、積層厚
みを0.3μmとした以外は実施例1と同様にしてフィ
ルムを調製した。このとき積層部におけるコロイダルシ
リカの濃度は4%とした。ポリエステルBが積層部の主
成分であるため、積層部の結晶化速度が小さく、実施例
1のように熱処理を加えたが、フィルム表面の突起はほ
とんどコロイダルシリカ粒子によるものであった。
上での熱処理条件を130℃、4秒とした以外は、実施
例1に準じてフィルムを調製した。この熱処理条件で
は、結晶の形成が不足であり、実施例のような緻密な突
起が形成されなかった。
ム塩をポリエステルAに対して10%含有させた以外は
全て実施例4に準じてフィルムを調製した。
ィルムを前記の評価法に従って評価した結果を表1に示
す。本発明の範囲に属するフィルムは、いずれも比較例
に対して耐削れ性において優れていることが分かる。
によれば、含有粒子に頼ることなくポリエステルAの結
晶化を利用してフィルム表面に特定個数以上の微細突起
を形成するとともに、表面粗さパラメータRa、および
Smの値を特定範囲とし、フィルム表面の水との接触
角、メタルガイドとの摩擦係数を特定範囲としたので、
磁気テープの塗布工程においてフィルム表面が削れにく
いという効果が得られ、最近の高速加工工程にも十分に
適応することができる。
Claims (10)
- 【請求項1】 ポリエスエルAを主成分とするフィルム
であって、その少なくとも一方の表面における突起を形
成する粒子の含有量が0.3重量%以下、少なくともそ
の一方の表面の中心線平均粗さRaが0.5nm以上1
00nm以下、該表面の幅方向の表面突起間隔Smが2
0μm以下であり、該表面の水に対する接触角が30゜
以上60゜以下であり、かつ、フィルムのメタルガイド
ピンに対する摩擦係数が0.3以下であることを特徴と
する二軸配向ポリエステルフィルム。 - 【請求項2】 ポリエステルBを主成分とするフィルム
の少なくとも片面に、請求項1に記載のポリエステルフ
ィルムを積層してなる二軸配向ポリエステルフィルム。 - 【請求項3】 ポリエスエルAを主成分とするフィルム
がポリエステルBを主成分とするフィルムに共押出によ
り積層されてなり、ポリエステルAを主成分とするフィ
ルムの表面の突起の個数の80%以上がポリエステルの
結晶によって形成されていることを特徴とする請求項2
に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。 - 【請求項4】 ポリエステルAの結晶化指数ΔTcgが
10〜60℃の範囲にある請求項1ないし3のいずれか
に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。 - 【請求項5】 ポリエスエルAがエチレンテレフタレー
トを繰り返し単位として85モル%以上含有する請求項
1ないし4のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフ
ィルム。 - 【請求項6】 ポリエスエルAがアルキレングリコール
を繰り返し単位として15モル%以下含有する請求項1
ないし5のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィ
ルム。 - 【請求項7】 ポリエスエルAを主成分とするフィルム
に潤滑剤を0.001〜3重量%含有することを特徴と
する請求項1ないし6のいずれかに記載の二軸配向ポリ
エステルフィルム。 - 【請求項8】 前記潤滑剤が下記式(1)で表される化
合物であることを特徴とする請求項7に記載の二軸配向
ポリエステルフィルム。 R−X−SO3 −M ・・・(1) ここで、R:直鎖または分枝鎖をもつアルキル基 X:芳香族環 −SO3 −:スルホン酸基 M:アルカリ金属 - 【請求項9】 前記潤滑剤が下記式(2)で表される化
合物であることを特徴とする請求項7に記載の二軸配向
ポリエステルフィルム。 R−X−PO3 −M2 H(2-n) ・・・(2) ここで、R:直鎖または分枝鎖をもつアルキル基 X:芳香族環 −PO3 −:リン酸基 M:アルカリ金属 H:水素原子 n:0から2までの実数 - 【請求項10】 前記潤滑剤が下記式(3)で表される
化合物であることを特徴とする請求項7に記載の二軸配
向ポリエステルフィルム。 R−X−COO−M ・・・(3) ここで、R:直鎖または分枝鎖をもつアルキル基 X:芳香族環 −COO−:カルボキシル基 M:アルカリ金属
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|---|---|---|---|
| JP8586896A JP3763158B2 (ja) | 1996-03-13 | 1996-03-13 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016016543A (ja) * | 2014-07-05 | 2016-02-01 | 三菱樹脂株式会社 | 二軸配向積層ポリエステルフィルム |
| WO2021241159A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 東レ株式会社 | 積層ポリエステルフィルム |
-
1996
- 1996-03-13 JP JP8586896A patent/JP3763158B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2021241159A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 東レ株式会社 | 積層ポリエステルフィルム |
| JPWO2021241159A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | ||
| US12350910B2 (en) | 2020-05-29 | 2025-07-08 | Toray Industries, Inc. | Multilayered polyester film |
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| JP3763158B2 (ja) | 2006-04-05 |
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