JPH09254543A

JPH09254543A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH09254543A
Application number: JP8064489A
Authority: JP
Inventors: Shuichi Maeda; 修一前田; Yuko Okamoto; 祐子岡本; Yuki Suzuki; 夕起鈴木; Michikazu Horie; 通和堀江
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1996-03-21
Filing date: 1996-03-21
Publication date: 1997-09-30

Abstract

(57)【要約】【課題】２種類の波長で再生できる追記可能な光記録
媒体を提供する。【解決手段】有機色素を含有する記録層が次の（イ）
〜（ニ）の条件を満たす光記録媒体。（イ）第１の記録再生波長λ₁（７６０ｎｍ〜８００ｎ
ｍ）よりも５０ｎｍ〜７０ｎｍ短波長側に吸収極大Ｂ₁
を有すること。（ロ）λ₁±５ｎｍでの吸光度が、Ｂ₁での吸光度の１０
％以下であること。（ハ）第２の再生波長λ₂（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）
よりも４０ｎｍ〜８０ｎｍ短波長側に第２の吸収極大Ｂ
₂を有すること。（ニ）波長λ₂±５ｎｍでの吸光度がＢ₂での吸光度の１
０％以下であること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光記録媒体に関し、
詳しくはレーザー光により記録できる光記録媒体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】昨今ＣＤーＲＯＭ、ＣＤが普及し、それ
に伴いユーザーが記録できる追記型ＣＤすなわち、ＣＤ
−Ｒの需要も伸びている。さらに、高密度記録のため、
レーザー光の発振波長の短波長化が注目され、７８０ｎ
ｍ、８３０ｎｍよりも短波長のレーザー光で記録再生可
能な光記録媒体が求められている。かかる状況におい
て、７８０ｎｍ近傍で記録再生するＣＤ−Ｒ媒体に対し
ても、より短波長のレーザーで再生できるタイプが望ま
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術におい
ては、有機色素系光記録媒体は、安価でプロセズ上容易
であることからＣＤ−Ｒ媒体として使用されてきたが、
有機色素は相変化や光磁気記録媒体のような無機材料と
異なり波長依存性が大きいという欠点がある。従来用い
られているＣＤ−Ｒ用の有機色素は主に２つのタイプに
わけられる。６００ｎｍ〜７００ｎｍ近傍に吸収極大を
もつものと、この波長域に小さな吸収帯をもつものであ
る。前者のタイプでは、７８０ｎｍ近傍のレーザーで記
録した部分を短波長レーザーで再生すると、ある程度の
変調度が得られるものの、その吸収のために６００ｎｍ
〜７００ｎｍの短波長レーザー波長での反射率が１０％
をはるかに下回るため、トラッキング等再生上、困難が
生じる。後者のタイプでは吸収そのものが小さいため上
記短波長レーザーで再生すると２０％〜３０％程度の反
射率が得られ、再生には困難がないものの、屈折率が小
さいために十分な変調度が得られない。かかる問題を解
決するために、例えば特開平７ー１５６５５０や特開平
８ー３１０１０等では、２種以上の色素を混合すること
が提案されている。しかし、短波長での反射率が３０％
以下であったり、現実的には測定が極めて困難な有機色
素層の屈折率、消衰係数でパラメータ制御する等、２つ
の波長において十分な反射率を得ながら良好な信号特性
を得るための条件が十分とはいえない。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、２波長で
十分な反射率を得、良好な信号特性を得る条件、およ
び、媒体を鋭意検討した結果、本発明に到達した。本発
明の要旨は、透明基板上に、少なくとも、有機色素を含
有する記録層、金属反射層、保護層の順に積層した光記
録媒体において、記録層が透明基板上の膜とした状態
で、次の（イ）〜（ニ）の条件を満たすことを特徴とす
る光記録媒体、に存する。

【０００５】（イ）第１の記録再生波長λ₁（７６０ｎ
ｍ〜８００ｎｍ）よりも５０ｎｍ〜７０ｎｍ短波長側に
吸収極大Ｂ₁を有すること。（ロ）λ₁±５ｎｍでの吸光度が、Ｂ₁での吸光度の１０
％以下であること。（ハ）第２の再生波長λ₂（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）
よりも４０ｎｍ〜８０ｎｍ短波長側に第２の吸収極大Ｂ
₂を有すること。（ニ）波長λ₂±５ｎｍでの吸光度がＢ₂での吸光度の１
０％以下であること。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明における記録層は、記録用のレーザ
ー光を吸収することによる昇温で減量し、膜厚が減少
し、光学特性が変化することにより、戻り光の位相が変
化し、反射率が変化したところを記録部とするものであ
る。

【０００７】本発明において、透明基板としてはポリカ
ーボネート、ポリメタクリレート、非晶質ポリオレフィ
ン等の樹脂やガラス等の公知のものが用いられ、サーボ
用の案内溝を有している。その溝は、深さは、通常１０
０〜２００ｎｍ、好ましくは、１４０〜１８０ｎｍで、
溝幅は、通常０.４５〜０.５μｍ、トラックピッチは、
通常１〜１.６μｍであり、溝形状はＵ字溝が好まし
い。溝の深さは、１００ｎｍ未満の場合には、記録時に
十分な変化がおきず、十分な記録変調度が得られない場
合がある。２００ｎｍを越えると、溝部と溝間部の反射
率差が大きすぎるため、溝上記録の場合には反射率が低
くなりすぎるので良くない。溝幅は、０．４５μｍ未満
には十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることが困
難となる恐れがある。また、０．５μｍを越える溝幅の
場合には、記録した時に記録部が横に広がりやすくなる
ので好ましくない。トラックピッチは、１．０μｍ〜
１.６μｍが好ましい。なお、ＨｅーＮｅレーザーによ
る光学測定、あるいは、ＳＴＭやＡＦＭでプロファイル
を測定して求める。なお本件に関しては、ＳＴＭで求め
た。

【０００８】記録層は、通常、有機色素等をエタノー
ル、３ーヒドロキシー３ーメチルー２ーブタノン、ジア
セトンアルコール、フッ素系アルコール等の溶媒に溶か
した溶液をスピンコートして得られる。この溶媒として
は、沸点が１００〜１５０℃である溶媒でｎが３以上の
フッ素系アルコール、すなはち、１Ｈ、１Ｈ、３Ｈーテ
トラフルオロプロパノール、１Ｈ、１Ｈ、５Ｈーオクタ
フルオロペンタノール、１Ｈ、１Ｈ、、３Ｈーヘキサフ
ルオロブタノール等が好ましく用いられる。沸点が１０
０℃未満の場合には、スピンコート時に溶媒が速く気化
するため、ディスクの半径４０ｍｍより外周側に塗布液
がゆきつかず、半径方向の膜厚分布が極めて大きくな
り、良好な特性が得られないことがあるので好ましくな
い。また、１５０℃を越える場合には、蒸発に時間がか
かる上に、膜中に溶媒が残留しやすく、この様な場合に
は、良好な記録ジッターが得られないことが多い。膜厚
は溝部で６０〜１８０ｎｍ程度が好ましい。６０ｎｍ未
満では薄すぎて良好な記録感度が得られにく恐れがあ
る。また、１８０ｎｍを越えると、記録部の横方向、ス
キャン方向への変形が大きくなるため、クロストークや
ジッターが大きくなるため好ましくない。ところで、有
機色素の塗布には、スピンコート法を用いるため、溝部
とランド部の膜厚の比はは、溝深さ、色素濃度、色素溶
液の粘度、基板材料と溶媒の濡れ性、成膜回転数、風速
等のいくつものパラメータにより左右されるものであ
る。したがって、特開平８ー３１０１０のように、ラン
ド部と溝部の平均膜厚のみをパラメータとすると、信号
特性そのものに関係している実際の溝部の膜厚に関する
情報を得ることが難しい。特に、基板がポリカーボネー
トのような高分子材の場合には基板の断面の切り出しが
技術上、極めて困難であるために、実際の溝部とランド
部の記録層の膜厚を測定することは難しい。実際に測定
可能なのは、ランド部と塗布膜の溝深さであり、溝部の
膜厚はこの２つの値から算出できる。本件では塗布膜の
溝深さが５０〜１８０ｎｍであり、Ｕ字型であることが
好ましい。この溝深さが５０ｎｍ未満であると、トラッ
キングエラー信号振幅が十分に得られなくなり、また、
１８０ｎｍを越える場合には溝部の膜厚が薄すぎるた
め、十分な記録変調度が得られない恐れがある。

【０００９】本発明では、基板上の膜とした時に、記録
層が次の（イ）〜（ニ）の条件を満足する必要がある。
（イ）記録再生波長λ₁（７６０〜８００ｎｍ）よりも
５０〜７０ｎｍ短波長側に吸収極大Ｂ₁を持つこと、
（ロ）λ₁±５ｎｍでの吸光度がＢ₁での吸光度の１０％
以下であること、（ハ）第２の再生波長λ₂（６００〜
７００ｎｍ）よりも４０〜８０ｎｍ短波長側に吸収極大
Ｂ₂を持つこと、（ニ）λ₂±５ｎｍでの吸光度がＢ₂で
の吸光度の１０％以下であること。また、Ｂ₁での吸光
度とＢ₂での吸光度との比率は、通常、Ｂ₁：Ｂ₂＝１：
９〜９：１、好ましくは３：７〜９：１、更に好ましく
は３：７〜７：３、特に好ましくは５：５〜７：３であ
る。かかる条件を満たす光学記録用有機色素であれば単
一の色素でもよいが、通常は２種以上の色素を混合して
記録層として用いられる。

【００１０】光学記録に用いられる有機色素としては、
フタロシアニン系色素、シアニン色素、含金属アゾ系色
素や、ジベンゾフラノン系、含金属インドアニリン等が
提案されているが、その中で、２波長で高反射率を得る
ためには７６０ｎｍ〜８００ｎｍの波長λ₁での記録再
生用色素（色素１）と、６００ｎｍ〜７００ｎｍの波長
λ₂での再生用の有機色素（色素２）それぞれに、要求
される特性がある。色素１は、ＣＤ−Ｒのオレンジブッ
クを満たす特性をもたらすのみならず、さらに、従来の
ＣＤ−Ｒ用の色素よりも吸収の半値幅が小さい色素でな
ければならない。

【００１１】具体的には、色素１の透明基板上の膜の状
態で、λ₁よりも５０ｎｍ〜７０ｎｍ短波長側に吸収極
大Ｂ₁をもち、λ₂での吸光度がＢ₁での吸光度の５％未
満であることが好ましい。λ₂での吸光度が５％未満で
あるところが、従来のＣＤ−Ｒ用の色素と異なる要求条
件である。従来の色素はシアニン系色素にせよ、フタロ
シアニン色素にしろ、会合性が大きいために吸収帯の半
値幅が大きい。本件では、会合性を抑制する置換基を付
与しやすいという観点から、下記フタロシアニン色素を
色素１として選択することが好ましく、具体的には、下
記一般式［１］で示されるフタロシアニン系色素が挙げ
られる。

【００１２】

【化３】

【００１３】（式中、Ａ１〜Ａ４は置換基を有していて
もよいアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、ア
ルコキシ基、フェノキシ基、シクロヘキシルオキシ基を
表し、Ｚ１〜Ｚ４は、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。
ｎ１〜ｎ４は０〜３の整数を表す。Ｍは２価の金属原
子、３価又は４価の置換金属原子、酸化金属又は２個の
水素原子を表す。）

【００１４】このうち、Ｚ１〜Ｚ４で表わされるハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子が挙げられ、特に臭素原子が好ましい。ｎ１〜ｎ
４は、０又は１が特に好ましい。

【００１５】Ｍで表わされる２価金属原子の例として
は、Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｍｇ，Ｐ
ｄ，Ｒｕ，Ｐｔ，Ｒｈ，Ｃａ，Ｂａ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ｐ
ｂ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｂｅ，Ｃｒ等が挙げられる。１置換３
価金属原子の例としては、ＡｌＦ，ＡｌＣｌ，ＡｌＢ
ｒ，ＡｌＩ，ＧａＦ，ＧａＣｌ，ＧａＢｒ，ＧａＩ，Ｉ
ｎＦ，ＩｎＣｌ，ＩｎＢｒ，ＩｎＩ，ＴｌＦ，ＴｌＣ
ｌ，ＴｌＢｒ，ＴｌＩ等が挙げられる。２置換４価金属
の例としては、ＳｉＦ₂,ＳｉＣｌ₂,ＳｉＢｒ₂,ＳｉＩ₂,
ＧｅＦ₂,ＧｅＣｌ₂,ＧｅＢｒ₂,ＧｅＩ₂,ＳｎＦ₂,ＳｎＣ
ｌ₂,ＳｎＢｒ₂,ＳｎＩ₂,ＴｉＦ₂,ＴｉＣｌ₂,ＴｉＢｒ₂,
ＴｉＩ₂,ＺｒＣｌ₂,ＨｆＣｌ₂,Ｓｉ（ＯＨ）₂,Ｇｅ（Ｏ
Ｈ）₂,Ｓｎ（ＯＨ）₂,Ｚｒ（ＯＨ）₂,Ｈｆ（ＯＨ）₂,Ｓ
ｉＲ₂,ＧｅＲ₂,ＳｎＲ₂,ＴｉＲ₂(ここでＲは置換基を有
していてもよいアルキル基、アリール基を表わす。），
Ｓｉ（ＯＲ′）₂,Ｇｅ（ＯＲ′）₂,Ｓｎ（ＯＲ′）₂,Ｔ
ｉ（ＯＲ′） ₂(ここでＲ′は置換基を有していてもよい
アルキル基、アリール基、アシル基、トリアルキルシリ
ルオキシ基,ＰＯ基,ＣＯ基などを表わす。）等が挙げら
れる。酸化金属の例としてはＶＯ，ＴｉＯ，ＰｂＯ等が
挙げられる。特に好ましい金属原子の例としてはＰｄ、
Ｃｕ，Ｎｉ、Ｐｂ，ＳｎＣｌ₂,Ｓi（ＯＲ′）₂,Ｒ−Ａ
ｌ，ＶＯ，ＴｉＯである。

【００１６】本発明に特に好適なフタロシアニン系色素
として、表ー１、２、３、４および５に示す、それぞれ
一般式（３）、（４）、（５）、（６）および（７）
で表わされる化合物が挙げられる。

【００１７】

【化４】

【００１８】

【表１】

【００１９】

【化５】

【００２０】

【表２】

【００２１】

【化６】

【００２２】

【表３】

【００２３】

【化７】

【００２４】

【表４】

【００２５】

【化８】

【００２６】

【表５】

【００２７】一方、色素２は、同じく透明基板上の膜と
した状態で、上記波長λ₂よりも４０ｎｍ〜８０ｎｍに
吸収極大Ｂ₂をもち、λ₂での吸光度がＢ₂での吸光度の
１０％以下である。かかる条件を満たす有機色素は、シ
アニン色素、含金属アゾ系色素、ジオキサジン系色素、
キノン系色素等様々のものがあるが、特に保存安定性、
耐光性に優れているという点から含金属アゾ系色素が好
ましく、具体的には下記一般式（２）で表される含金属
アゾ系色素が挙げられる。

【００２８】

【化９】

【００２９】（式中、Ｒ₅及びＲ₆はそれぞれ独立して、
水素原子、置換されていてもよい、アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ₅
とＲ₆は環化して炭化水素環又は複素環を形成していて
もよい。含窒素ヘテロ環Ａ及びベンゼン環Ｂは置換基を
有していてもよい。Ｘはヒドロキシ基、カルボン酸基、
スルホン酸基又はこれらの塩を表す。）これらの色素は特に、６００〜７００ｎｍにおいて、良
好な吸収特性、屈折率を有する。

【００３０】一般式［２］において、Ｒ₅およびＲ₆は、
さらに詳しくは、それぞれ独立して水素原子；メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−
オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オク
タデシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基、好ましく
は炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくは炭素数
１〜６のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル
基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基；ビニ
ル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル
基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペ
ンテニル基等の炭素数２〜１０のアルケニル基；または
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基等の炭素数３〜１０のシクロアルキル基を表す。
かかる炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１２の
アリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基および炭素
数３〜１０のシクロアルキル基は、メトキシ基、エトキ
シ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、
ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘ
プチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオ
キシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；メトキシメ
トキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ
基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポ
キシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、エトキシプロ
ポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等
の炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ基；メトキシ
メトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メ
トキシエトキシメトキシ基、メトキシエトキシエトキシ
基、エトキシメトキシメトキシ基、エトキシメトキシエ
トキシ基、エトキシエトキシメトキシ基、エトキシエト
キシエトキシ基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコ
キシアルコキシ基；アリルオキシ基；フェニル基、トリ
ル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のア
リール基；フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオ
キシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリー
ルオキシ基；シアノ基；ニトロ基、ヒドロキシ基；テト
ラヒドロフリル基；メチルスルホニルアミノ基、エチル
スルホニルアミノ基、ｎ−プロピルスルホニルアミノ
基、イソプロピルスルホニルアミノ基、ｎ−ブチルスル
ホニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ
基、ｓｅｃ−ブチルスルホニルアミノ基、ｎ−ペンチル
スルホニルアミノ基、ｎ−ヘキシルスルホニルアミノ基
等の炭素数１〜６のアルキルスルホニルアミノ基；フッ
素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキ
シカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブ
トキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキ
シカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等の
炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；メチルカルボ
ニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピ
ルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ
基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル
カルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ
基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカ
ルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニ
ルオキシ基；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカル
ボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、
イソプロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカル
ボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチ
ルオキシカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシカル
ボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニ
ルオキシ基等で置換されていてもよい。

【００３１】又、Ｒ₅ ，Ｒ₆は環化して、炭化水素環ま
たは複素環を形成していてもよい。これらの中でも特に
炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。前記一般式
［２］において、Ｘで表わされるヒドロキシ基、カルボ
ン酸基、スルホン酸基の塩としては、Ｎａ⁺，Ｌｉ⁺，Ｋ
⁺等の無機系の陽イオンもしくはＰ⁺（フェニル）₄，Ｎ⁺
（Ｃ₂Ｈ₅)₄，Ｎ⁺（Ｃ₄Ｈ₉(ｎ））₄,（フェニル−Ｎ⁺）
（ＣＨ₃)₃等の有機系の陽イオン等のカチオンを表す。

【００３２】金属塩の金属は、配位子であるアゾ系化合
物とキレート化合物を形成する能力を有する金属であれ
ば特に制限されないが、ニッケル、コバルト、鉄、ルテ
ニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オスミウム、イリ
ジウム、白金、ジルコニウム等の遷移元素が好ましく、
特にニッケル、コバルト、パラジウムが好ましい。

【００３３】含窒素ヘテロ環Ａとしては、ピリジン環、
１、２、４ーチアジアゾール環、１、３、４ーチアジア
ゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾ
ール環、ピラゾール環、イソキサゾール環などが挙げら
れ、これらは置換基を有していてもよく、かかる置換基
としては、アルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ
基、アリールチオ基、アリールオキシ基、アラルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
エステル基、カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルフィン酸基、アミノ基、ヒ
ドロキシル基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、ビニ
ル基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換基を有し
ていてもよい。これらの置換基の中で好ましいものとし
ては、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２５のア
ルキル基、炭素数１〜２５のアルコキシ基、炭素数１〜
２５のチオアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリールチ
オ基、炭素数１〜２５のアルキルスルファモイル基、炭
素数６〜３０のフェニルスルファモイル基、炭素数１〜
２５のアルキルスルフィン酸基、炭素数６〜３０のフェ
ニルスルフィン酸基、炭素数６〜３０のピリジノアゾ
基、炭素数２〜２６のエステル基、炭素数２〜２６のア
ルキルカルバモイル基、炭素数６〜３０のフェニルカル
バモイル基、炭素数２〜２６のアシル基、炭素数１〜２
５のアシルアミノ基、−ＮＲ⁷Ｒ⁸（Ｒ⁷およびＲ⁸は、そ
れぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよ
い、炭素数１〜２５のアルキル基またはフェニル基を表
し、Ｒ⁷およびＲ⁸は互いに結合して５員環もしくは６員
環を形成してもよい。）、−ＣＲ⁹＝Ｃ（ＣＮ）Ｒ
¹⁰（Ｒ⁹は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基
を表し、Ｒ¹⁰はシアノ基または炭素数２〜７のアルコキ
シカルボニル基を表す。）等が挙げられ、より好ましく
はハロゲン原子等の置換基を有していてもよい、炭素数
１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ
基、炭素数１〜１０のチオアルコキシ基、ハロゲン原子
が挙げられる。

【００３４】環Ｂは、−ＮＲ⁵Ｒ⁶基および−Ｘ基以外に
置換基を有していてもよく、かかる置換基としては、ア
ルキル基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基；ア
ルコキシ基、好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ
基；ハロゲン原子等が挙げられ、これらのアルキル基、
アルコキシ基等の置換基は更にハロゲン原子などの置換
基を有していてもよい。

【００３５】本発明における好ましい化合物の一つの態
様として、表ー６に示すような置換基を有する一般式
［２］の化合物が挙げられ、一般式［８］，［９］，
［１０］，［１１］，［１２］および［１３］で表わさ
れる化合物が挙げられる。

【００３６】

【表６】

【００３７】

【化１０】

【００３８】

【化１１】

【００３９】

【化１２】

【００４０】

【化１３】

【００４１】

【化１４】

【００４２】

【化１５】

【００４３】そして、記録層は、上記色素１の１種以上
と上記色素２の１種以上とを混合した溶液をスピンコー
トして基板上に形成する。その結果、記録層単層は、上
記請求項１に示される条件を満たす。λ₁での吸収端、
λ₂での吸収端の吸光度の、それぞれの吸収極大にたい
する割合が記録層の好ましい消衰係の範囲に相当する条
件であり、吸収極大の波長と上記吸収端の吸光度の割合
の両方が、記録層の好ましい屈折率の範囲に相当する条
件を示す。記録層の屈折率は、波長λ₁で２〜３、波長
λ₂で１.７〜２.３、消衰係数は、λ₁で、０.０２〜０.
０８、λ₂で０.０２〜０．１である。吸光度、吸収極
大、屈折率、消衰がこの範囲をはずれて小さい場合、２
波長で十分な変調度を得ることが困難となりやすい。

【００４４】金属反射層は、記録層を透過したレーザー
光を効率良く反射する金属膜であり、６００ｎｍ〜７０
０ｎｍで反射率が低下しないために、記録再生波長±５
ｎｍの波長領域の光の屈折率が０.１〜０.２、消衰係数
が３〜５であるものが好ましい。好ましい金属反射膜と
して、金を主成分とした金属反射膜や、銀を主成分とし
た金属反射膜が例示できる。特に銀を主成分とした金属
反射膜が好ましい。また、対候性の向上のために、銀
に、ロジウム、パラジウム、白金、チタン、モリブデ
ン、ジルコニウム、タンタル、タングステン、バナジウ
ム等の添加元素を５原子％以下の範囲で加えてもよい。
金属反射層の膜厚は、好ましくは８０ｎｍ以上で、記録
層の変形を抑制しすぎたり、記録感度を悪化させすぎな
い程度の膜厚が好ましい。

【００４５】本発明の光学記録媒体においては、反射層
の上に保護層を積層し、記録部の金属反射層の穴の発生
を防止したり、変形の非対称性を抑制する効果を有して
いる。保護層としては紫外線硬化樹脂が好ましい。ま
た、保護層は、通常１μｍ以上、好ましくは３μｍ以上
の膜厚にして、酸素による硬化抑制等がおこらないよう
にする。

【００４６】

【実施例】以下本発明を実施例を用いてさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、実施例に
限定されるものではない。実施例１溝深さ１８０ｎｍ、溝幅（溝の半値幅）０．４５μｍ
（トラックピッチ１．６μｍ）のＶ字案内溝を有するポ
リカーボネート基板上に下記構造式［１４］のフタロシ
アニン色素と、下記構造式［１５］の含金属アゾ色素を
１：１の重量割合で、溶媒（オクタフルオロペンタノー
ル）に対し、色素総重量２．２ｗｔ％溶解した塗布液を
作成し、これを前述のポリカーボネート基板上に９００
ｒｐｍでスピンコートし、その後８０℃のオーブンで１
時間アニール記録層を形成した。

【００４７】

【化１６】

【００４８】

【化１７】

【００４９】その上に銀の反射層を厚さ１００ｎｍ、ス
パッタリングにて形成し、更にその上にＵＶ硬化樹脂
（大日本インキ製「ＳＤ−３１８」）を約３μｍスピン
コートし、紫外線ランプで硬化させ保護層とし、ディス
クを形成した。このディスクを半導体レーザー評価機
（ＤＤＵ−１０００）にかけ、７８０ｎｍ（λ₁）での
光ディスク特性を測定した。その結果反射率は６５％
で、４．８ｍ／ｓでの記録特性（記録パワー９ｍＷ）は
すべてオレンジブックの規格を満たしていた。

【００５０】この記録部を、６８０ｎｍ（λ₂）の半導
体レーザー評価機（パルステック社製）で再生したとこ
ろ、反射率は４８％、３Ｔジッターが１５％で良好なア
イパターンが再生できた。尚、塗布膜の溝深さは１００
ｎｍであった。この結果として、それぞれの色素の吸収
極大（Ｂ₁，Ｂ₂）、Ｂ₁、Ｂ₂での吸光度に対するλ₁、
λ₂での吸光度の割合、６８０ｎｍでの３Ｔジッター
（％）の結果を表−７に示す。

【００５１】実施例２実施例１の含金アゾ色素を下記構造式［１６］の含金属
アゾ色素に替えた以外は実施例１と同様の実験を行っ
た。結果を表−７に示す。

【００５２】

【化１８】

【００５３】実施例３実施例１の含金アゾ色素を下記構造式［１７］の含金属
アゾ色素に替えた以外は実施例１と同様の実験を行っ
た。結果を表−７に示す。

【００５４】

【化１９】

【００５５】実施例４実施例１の含金アゾ色素を下記構造式［１８］の含金属
アゾ色素に替えた以外は実施例１と同様の実験を行っ
た。結果を表−７に示す。

【００５６】

【化２０】

【００５７】実施例５実施例１のフタロシアニン色素を構造式［１９］のフタ
ロシアニン色素に、実施例１の含金アゾ色素を構造式
［２０］の含金属アゾ色素に替えた以外は実施例１と同
様の実験を行った。結果を表−７に示す。

【００５８】

【化２１】

【００５９】

【化２２】

【００６０】実施例６実施例５の含金アゾ色素を構造式［２１］の含金属アゾ
色素に替え、λ₂を６４０ｎｍに替えた以外は実施例５
と同様の実験を行った。結果を表−７に示す。

【００６１】

【化２３】

【００６２】比較例１含金アゾ色素を使用せず、塗布液中の濃度が１．１ｗｔ
％にした以外は実施例１と同様の実験を行った。この結
果７８０ｎｍではオレンジブックを満たす特性が得られ
たが、６８０ｎｍで再生すると、アイパターンは全く見
えなかった。この結果を表−７に示す。

【００６３】

【表７】

【００６４】

【発明の効果】本発明により、従来の７８０ｎｍ、８３
０ｎｍ前後での記録再生と同時に、６００〜７００ｎｍ
の短波長でも好適に再生のできる光ディスクを提供する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者堀江通和神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地三菱化学株式会社横浜総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に、少なくとも、有機色素を
含有する記録層、金属反射層、保護層の順に積層した光
記録媒体において、記録層が透明基板上の膜とした状態
で、次の（イ）〜（ニ）の条件を満たすことを特徴とす
る光記録媒体。（イ）第１の記録再生波長λ₁（７６０ｎｍ〜８００ｎ
ｍ）よりも５０ｎｍ〜７０ｎｍ短波長側に吸収極大Ｂ₁
を有すること。（ロ）λ₁±５ｎｍでの吸光度が、Ｂ₁での吸光度の１０
％以下であること。（ハ）第２の再生波長λ₂（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）
よりも４０ｎｍ〜８０ｎｍ短波長側に第２の吸収極大Ｂ
₂を有すること。（ニ）波長λ₂±５ｎｍでの吸光度がＢ₂での吸光度の１
０％以下であること。
【請求項２】上記記録層が、下記一般式［１］で構造
式が示される一種以上のフタロシアニン系色素と、下記
一般式［２］で構造式が示される一種以上の含金属アゾ
系色素を混合して成ることを特徴とする請求項１に記載
の光記録媒体。【化１】（式中、Ａ１〜Ａ４は置換基を有していてもよいアルキ
ル基、フェニル基、シクロヘキシル基、アルコキシ基、
フェノキシ基、シクロヘキシルオキシ基を表し、Ｚ１〜
Ｚ４は、ハロゲン原子、ニトロ基を表す。ｎ１〜ｎ４は
０〜３の整数を表す。Ｍは２価の金属原子、３価又は４
価の置換金属原子、酸化金属又は２個の水素原子を表
す。）【化２】（式中、Ｒ₅及びＲ₆はそれぞれ独立して、水素原子、置
換されていてもよい、アルキル基、アリール基、アルケ
ニル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ₅とＲ₆は環化し
て炭化水素環又は複素環を形成していてもよい。含窒素
ヘテロ環Ａ及びベンゼン環Ｂは置換基を有していてもよ
い。Ｘはヒドロキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基又
はこれらの塩を表す。）
【請求項３】金属反射層が銀を主成分とすることを特
徴とする請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項４】保護層が紫外線硬化樹脂である請求項１
〜３のいずれか１項に記載の光記録媒体。