JPH09255545A - 皮膚外用剤 - Google Patents

皮膚外用剤

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JPH09255545A
JPH09255545A JP8099242A JP9924296A JPH09255545A JP H09255545 A JPH09255545 A JP H09255545A JP 8099242 A JP8099242 A JP 8099242A JP 9924296 A JP9924296 A JP 9924296A JP H09255545 A JPH09255545 A JP H09255545A
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JP
Japan
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benzophenone
skin
compound
ether
group
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JP8099242A
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Inventor
Mikiko Kaminuma
三紀子 上沼
Yasushi Matsushita
裕史 松下
Tomomi Okazaki
具視 岡崎
Hideo Nakajima
英夫 中島
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Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 保湿剤を含有する水系でありながら、紫外線
吸収剤を配合し、優れた紫外線防御性を示し、かつ肌へ
の刺激性も低く、使用性に優れ、しかも肌改善効果のあ
る皮膚外用剤を提供することを目的とする。 【解決手段】 下記一般式化1で表されるベンゾフェノ
ン誘導体の一種又は二種以上と、保湿剤の一種又は二種
以上を含有することを特徴とする皮膚外用剤。 【化1】 (ただし、R1、R2は水素原子、水酸基または炭素数1
〜4のアルコキシ基で表される。R3、R4、R5、R
6は、水素原子または炭素数1〜2のアルキル基を表
し、R3〜R6のいずれか1つ以上がアルキル基を表すこ
とを特徴とする。Aは保護基のない糖残基、nは1また
は2を示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は皮膚外用剤に関し、
特に親水性の高いベンゾフェノン誘導体と保湿剤を含有
することを特徴とする皮膚外用剤に関する。
【0002】
【従来の技術】通常人体が受ける紫外線は、その殆どが
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には320〜400nmの長波長紫外線
(UV−A)、290〜320nmの中波長紫外線(UV
−B)、290nm以下の短波長紫外線(UV−C)に分
類される。このうち、290nm以下の波長の紫外線はオ
ゾン層によって吸収され、地表に到達しない。
【0003】地表に届く紫外線は、人間の皮膚に様々な
影響を及ぼす。地表にまで到達する紫外線の内で、UV
−Aは皮膚の褐色化を惹起し、皮膚の弾力性の低下及び
シワの発生を促進し急激な老化をもたらす。また、紅斑
反応の開始を促進し、或いはある種の患者に対してはこ
の反応を増強し、さらに光毒性或いは光アレルギー反応
の原因とさえなりうる。一方、UV−Bもまた皮膚の紅
斑や水泡を形成し、メラニン形成が亢進され、色素沈着
を生じる等の変化をもたらす。
【0004】このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバ
カスの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護す
ることは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発さ
れてきた。既存の紫外線吸収剤としては、PABA誘導
体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体及び複素
環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの紫外
線吸収剤はその殆どが固体であり、油溶性であった。
【0005】一方、最近では日常の生活で受ける紫外線
の影響についても問題になっており、通常のスキンケア
でも日焼け止めが望まれている。このため、化粧水等の
水系のスキンケア製品にも多量に配合できることが求め
られ、より高い紫外線吸収効果を有する外用剤を処方す
る上で水溶性で紫外線吸収効果を持つ物質も注目されて
きている。このような水溶性紫外線A吸収剤として2−
ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソニウムベ
ンゾフェノンナトリウム塩が知られている。しかしなが
ら、該物質は塩であるため、処方系のpHに影響をもた
らすという問題点があった。
【0006】近年、このような問題点を解決するため
に、非イオン性親水基であるポリグリセリンや糖を用い
た水溶性紫外線吸収剤が開発されている(特開平6−8
7879、特開平6−135985)。この非イオン性
親水基を導入した水溶性紫外線吸収剤はイオン性親水基
のように塩でないためpHに影響をもたらすことはな
く、また、系の性状を破壊することはない。また非イオ
ン性親水基として導入されるポリグリセリンや糖は安全
性が高いことからも優れた水溶性紫外線吸収剤と言え
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の水溶性紫外線吸収剤は、水と保湿剤のような親水性溶
媒の混合溶液中で調製し低温に放置した場合、結晶が析
出することがあった。製品中で結晶が析出することは製
品の安定性上重大な問題であり、製品を均一に塗布でき
ないため、所期の紫外線吸収効果を十分発揮できないば
かりでなく、製品の価値も低下させることになる。その
ため、保湿剤を含有する水系組成物において、実際の処
方では、その配合量が制限されてしまい、紫外線吸収効
果を高めるために高濃度に配合することはできなかっ
た。
【0008】一方で、紫外線吸収剤を配合するような系
では、系の肌への刺激性を緩和し、使用性を向上するう
えで、保湿剤を配合することが強く要望されている。本
発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたものであり、
その目的は、保湿剤を含有する水系でありながら、紫外
線吸収剤を配合し、優れた紫外線防御性を示し、かつ、
肌への刺激性も低く、使用性に優れ、しかも肌改善効果
のある皮膚外用剤を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者が鋭意検討した結果、ある種のベンゾフェノ
ン誘導体と保湿剤を含有した皮膚外用剤が、優れた紫外
線防御性を示し、かつ、肌への刺激性も低く、更に新た
な機能として肌改善効果のあることを見出し、本発明を
完成するに至った。
【0010】すなわち本発明の皮膚外用剤は、下記一般
式化2
【化2】 (ただし、R1、R2は水素原子、水酸基または炭素数1
〜4のアルコキシ基を示す。R3、R4、R5、R6は、水
素原子または炭素数1〜2のアルキル基を表し、R3
6のいずれか1つ以上がアルキル基を表すことを特徴
とする。Aは、保護基のない糖残基、nは1または2を
示す。)で示されるベンゾフェノン誘導体の一種又は二
種以上と保湿剤の一種又は二種以上を含有することを特
徴とする。
【0011】なお、本発明の皮膚外用剤においては、ベ
ンゾフェノン誘導体が、前記化2において、R1及びR2
が水素原子、R3〜R6のいずれか一つがメチル基、Aが
グルコース残基若しくはマルトース残基、nが1で特定
される化合物であることが好ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。なお、本発明の実施形態はこれに限定されるもの
ではない。本発明の皮膚外用剤において、保湿剤は、例
えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプ
ロパノール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコ
ールなどの低級アルコール類、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,2
−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、
テトラメチレングリコール、2,3−ブチレングリコー
ル、ペンタメチレングリコール、2−ブテン−1,4−
ジオール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコー
ル等の2価のアルコール、グリセリン、トリメチロール
プロパン、1,2,6−ヘキサントリオール等の3価の
アルコール、ペンタエリスリトール等の4価アルコー
ル、キシリトール等の5価アルコール、ソルビトール、
マンニトール等の6価アルコール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、トリエチレングルコー
ル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、ジグリセリン、ポリエチレングリコール、トリグ
リセリン、テトラグリセリン、ポリグリセリン等の多価
アルコール重合体、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングルコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、エチレングリコールモノヘキシ
ルエーテル、エチレングリコールモノ−2−メチルヘキ
シルエーテル、エチレングリコールイソアミルエーテ
ル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレング
リコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジブチルエーテル等の2価のア
ルコールアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエチルエー
テル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールブチルエーテル等の2価アルコールアルキルエーテ
ル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールジアジベート、エチレングリコ
ールジサクシネート、ジエチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノフェ
ニルエーテルアセテート等の2価アルコールエーテルエ
ステル、キシルアルコール、セラキルアルコール、バチ
ルアルコール等のグリセリンモノアルキルエーテル、ソ
ルビトール、マルチトール、マルトトリオース、マンニ
トール、ショ糖、エリトリトール、グルコース、フルク
トース、デンプン分解糖、マルトース、キシリトース、
デンプン分解糖還元アルコール等の糖アルコール、グリ
ソリッド、テトラハイドロフルフリルアルコール、 P
OEテトラハイドロフルフリルアルコール、POPブチ
ルエーテル、POP POEブチルエーテル、トリポリ
オキシプロピレングリセリンエーテル、POPグリセリ
ンエーテル、POPグリセリンエーテルリン酸、POP
POEペンタンエリスリトールエーテル等の多価アル
コール類、コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、ムコイ
チン硫酸、カロニン酸、アテロコラーゲン、コレステリ
ル−12−ヒドロキシステアレート、乳酸ナトリウム、
胆汁酸塩、dl−ピロリドンカルボン酸塩、短鎖可溶性
コラーゲン、ジグリセリン(EO)PO付加物、イサイ
ヨバラ抽出物、セイヨウノキギリソウ抽出物、メリロー
ト抽出物、等が挙げられるがこれらに限定されるもので
はなく、保湿能を有するものであればいずれでもよい。
【0013】前記一般式化2で表されるベンゾフェノン
誘導体において、R1、R2は水素原子、水酸基、アルコ
キシ基を表し、アルコキシ基を用いる場合、該アルコキ
シ基の脂肪鎖は直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいず
れでもよく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキ
シ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基等が挙げら
れるが水溶性や工業性の観点からメトキシ基、エトキシ
基が好ましい。
【0014】また、前記一般式化2において、R3
4、R5、R6は、水素原子または炭素数1〜2のアル
キル基を表し、R3〜R6のいずれか1つ以上がアルキル
基を表すことを特徴とする。R3〜R6のいずれか1つ以
上がアルキル基であることより、保湿剤との相性が良く
なり、化2で表されるベンゾフェノン誘導体の低温での
溶解性が良好になる。
【0015】前記一般式化2において、Aは糖の残基
で、糖の具体例としては、例えば、グリセリルアルデヒ
ド、ジヒドロキシアセトン等の三炭糖、エリトロース、
エリトルロース、トレオース等の四炭糖、アラビノー
ス、キシロース、リキソース、アラビノース、リボー
ス、リブロース、キシルロース等の五炭糖、グルコー
ス、アルトロース、タロース、ブシコース、ガラクトー
ス、フルクトース、マンノース、タガトース、イドー
ス、リキソース、アロース等の六炭糖、アルドヘプトー
ス、ヘプッロース等の七炭糖、オクツロース等の八炭
糖、2−デオキシ−D−リボース、6−デオキシ−L−
ガラクトース、6−デオキシ−L−マンノース等のデオ
キシ糖、D−グルコサミン、D−ガラクトサミン、シア
ル酸、アミノウロン酸、ムラミン酸等のアミノ糖、D−
グルクロン酸、D−マンヌロン酸、L−グルロン酸、D
−ガラクツロン酸、L−イズロン酸等のウロン酸等の単
糖類及びその混合物、またはマルトース、イソマルトー
ス、ラクトース、キシロビオース、ケンチオビオース、
コージオビオース、セロビオース、ソホロース、ニゲロ
ース、スクロース、メリビオース、ラミナリビオース、
ルチノース、グンチアノース、ウンベリフェロース、プ
ランテオース、イソリクノース類、α, α−トレハロー
ス、ラフィノース、リクノース類、ウンビリシン、スタ
キオース、ベルバスコース類等の二糖類及びその混合
物、またはマルトトリオース等の三糖類及びその混合
物、さらに、それ以上の多糖類及びその混合物、またこ
れらの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合物を用いるこ
とも可能である。
【0016】これらの糖のうち特にグルコース、マルト
ース等を用いると、水系溶媒中での低温時における物質
の安定性が向上される。なお、nは1または2を示す
が、n=1のほう低温時の安定性に優れている。すなわ
ち、本発明の皮膚外用剤には、ベンゾフェノン誘導体と
して、前記化2において、R1及びR2が水素原子、R3
〜R6のいずれか一つがメチル基であり、Aがグルコー
ス残基若しくはマルトース残基であり、n=1である化
合物を用いると、低温時の安定性が高くなり、有効であ
る。
【0017】上記のベンゾフェノン誘導体は、固体で安
全性、安定性に極めて優れているため、塗料やインク、
プラスチック、コーティング剤、化学繊維等の化学製品
などに配合できる他、医薬品、医薬部外品、化粧料及び
洗浄料の成分として配合されうる。
【0018】本発明に係るベンゾフェノン誘導体は、例
えば特開昭63−84637に記載されている糖類変性
用酸触媒を用いて合成できる他、一般にグルコシル化に
用いられている反応(ケーニッヒ−クノール反応、ヘル
フェライヒ法或いはそれ以外のエーテル交換法等)を用
いて合成してもよい。例えば次のように合成できる。
【0019】糖のアセチル化物をジブチルセロソルブ、
トルエン等の無極性溶媒に溶解するか、又は無溶媒で下
記一般式化3
【化3】 (ただし、式中R1〜R6は前記化2と同一。nは1また
は2を示す。)で示される化合物を添加して、酸触媒の
存在下、90〜130℃で撹拌、反応は減圧下で行う。
一般式化3で示される化合物は単独でも2種以上併用し
ても良い。
【0020】この際用いられる触媒としては、p−トル
エンスルホン酸、ヘテロポリリン酸、酢酸亜鉛、塩化亜
鉛、硝酸亜鉛、無機酸あるいはイオン交換樹脂等が挙げ
られる。反応後、そのまま反応溶媒を減圧濃縮し、脱ア
セチル化するか、もしくは反応溶媒を減圧留去後または
そのまま減圧留去することなく、生成物をトルエン、ベ
ンゼン、酢酸エチル、クロロホルム等の有機溶媒で抽出
し、水洗した後、得られた抽出液を減圧濃縮後、そのま
ま脱アセチル化するか、再結晶法や、シリカゲルカラム
クロマトグラフ法で精製後、脱アセチル化してもよい。
【0021】このようにして得られた反応生成物には、
一般式化2で示されるベンゾフェノン誘導体の他、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば、糖
と塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の
糖を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水と
メチルエチルケトン、n−ブタノールで分配し、有機溶
媒層を分離することにより精製することができる。ま
た、糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する
場合、反応生成物を水または水とアルコールの混液に懸
濁させ、ハイパーポーラスポリマー(例えば三菱化成工
業株式会社製のハイポーラス樹脂)、オクタデシルシリ
カなどの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメチル
アルコール、エチルアルコールなどのアルコールやアセ
トニトリルなどの極性有機溶媒と水との混液で通液し、
この液を分取することにより精製できる。
【0022】なお、一般式化3で示される化合物は、例
えば一般にエーテル化に用いられる反応により合成する
ことができる。すなわち、2,4−ジヒドロキシ置換ベ
ンゾフェノンとハロゲン化アルコキシアルコールをアル
カリ溶液中で0℃から溶媒の沸点の間で置換反応するこ
とにより得られる。この反応に用いられる溶媒は水、メ
チルアルコール、エチルアルコール、ジオキサン、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のアルカリ
に対して安定な溶媒であればいずれも用いることがで
き、これら混合溶媒を用いてもよい。
【0023】また、反応に用いられる塩基としては、例
えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルコラート、四級アンモニウム
塩を用いることができる。反応後、弱酸性にした後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフ法で分離精製するか、あ
るいはさらに再結晶法により精製される。
【0024】また、一般式化3で示される化合物は2,
4−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレンオキ
シドとの付加反応からも得ることができる。すなわち、
2,4−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレン
オキシドを0℃〜溶媒の沸点の間(加圧下の場合は、そ
れ以上)で開環付加反応により得られる。この反応に用
いられる溶媒は水、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、アセトン、アセトニトリル、トルエン、ベン
ゼン、キシレン等の溶媒であればいずれも用いることが
でき、これら混合溶媒を用いてもよい。
【0025】また、反応は、常圧から加圧下で行い、反
応に用いられる触媒は、例えば水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルコ
キシドや、四級アンモニウム塩等の塩基や、塩酸、硫
酸、硝酸、リン酸、トリフロロ酢酸、p−トルエンスル
フォン酸、BF3・Et2O、酸性樹脂等の酸を用いるこ
とができる。反応後、弱酸性にした後、反応溶媒を減圧
留去し、生成物を溶媒で抽出し、水洗し、得られた抽出
液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ法で分離
精製するか、あるいはさらに再結晶法により得ることが
できる。また、特に精製を行わず、そのまま次の反応に
用いても良い。アレキレンオキシドを用いて一般式化3
を製造した際、アルキレンオキシドの付加反応の位置に
より、異性体が生成するが、その紫外線吸収剤としての
機能に大きな支障はないので異性体が混合したまま使用
しても構わない。
【0026】このようにして得られるベンゾフェノン誘
導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶性で紫外
線領域に吸収を有する上、保湿性に優れるという機能を
持つ。また、非イオン性であるので、系のpHに左右さ
れることなく配合することができ、また、系の性状を破
壊することもない。更に、低温でも各種保湿剤に対する
溶解性が良好である。また、安全性、安定性に優れてい
るので、化粧料、医薬料等に配合することも可能であ
る。更に、ベンゾフェノン誘導体と保湿剤を含有するこ
とを特徴とする本発明の皮膚外用剤は、紫外線防御効果
に優れ、肌への刺激性が低く、使用性に優れ、保湿性に
優れる上、肌改善効果がある。
【0027】なお、本発明の皮膚外用剤には、前記必須
成分に加えて、通常用いられる他の化粧料や医薬料成分
を適宜配合することができる。例えば、流動パラフィ
ン、スクワラン、ワセリン、セチルアルコール、イソス
テアリルアルコール、2−エチルヘキシル酸セチル、2
−オクチルドデシルアルコール、トリイソステアリン酸
グリセリン、マカデミアナッツ油、ラノリン等の各種炭
化水素、油脂類、ロウ等の油性成分、シリコン類、界面
活性剤、増粘剤、中和剤、防腐剤、殺菌剤、酸化防止
剤、紛体成分、色素、香料、他の紫外線吸収剤、薬効
剤、金属封鎖剤、pH調製剤等が挙げられる。
【0028】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、これは本発
明の技術的範囲を限定するものではない。また配合量は
重量%である。
【0029】[ベンゾフェノン誘導体の製造]製造例1 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェ
ノンの製造 (1) 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ヒト゛ロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの
製造 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン10.71g、炭
酸水素ナトリウム5.04gをイオン交換水40gに加
えた後、プロピレンオキシド17.42gを加える。こ
の溶液をプロピレンオキシドの還流温度まで加熱し、そ
の温度で4時間加熱撹拌した後、室温まで空冷し、トル
エンで抽出、水洗後、乾燥し、濃縮した。得られた残渣
を30%酢酸エチル−ヘキサン混液で再結晶し、2−ヒ
ドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−2−メチルエトキ
シ)ベンゾフェノン8.17gを得た(融点85−86
℃)。
【0030】(2)2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルエトキ
シ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 (1)で得られた2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキ
シ−2−メチルエトキシ)ベンゾフェノン5gをトルエ
ン12mlに溶解し、アセチルグルコース7.81g、
モリブドリン酸140mgを加えた後、90℃で1.5
時間加熱撹拌した。この溶液を室温まで空冷後、トルエ
ンで抽出、飽和食塩水で4回洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた残留物を200m
lのメタノールに溶解させた後、28%ナトリウムメチ
ラート−メタノール溶液4mlを加えて室温で1.5時
間撹拌した。これを濃塩酸で中和した後、濃縮し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ法(クロロ
ホルム−メタノール)で分離精製し、2−ヒドロキシ−
4−(2−グルコシロキシ−2−メチルエトキシ)ベン
ゾフェノンを3.43gを得た。
【0031】得られた2−ヒドロキシ−4−(2−グル
コシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフェノンの分
析値は次の通りであった。 (1)赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、IRA−1赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、KBr錠剤法で測定したところ、340
6cm-1に水酸基の伸縮振動、1626cm-1にカルボ
ニル基の伸縮振動による吸収が見られた。結果を図1に
示す。 (2)13C−NMR 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
CD3ODを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
201ppm、167ppm、167ppm、167ppm、140
ppm、137ppm、133ppm、130ppm、129ppm、
115ppm、114ppm、109ppm、105ppm、104
ppm、103ppm、103ppm、103ppm、78ppm、7
8ppm、78ppm、78ppm、75ppm、75ppm、75pp
m、74ppm、73ppm、73ppm、73ppm、72ppm、7
2ppm、63ppm、63ppm、19ppm、18ppm、17ppm
にシグナルが観察された。結果を図2に示す。
【0032】(3)1H−NMR 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
CD3ODを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
7.47〜7.62ppm、6.49〜6.56ppm、3.
20〜4.54ppm、1.16〜1.37ppmにシグナル
が観測された結果を図3に示す。 (4)紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社製、UVIDEC 610C紫外線吸
収スペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定し
たところ、288.0nm、325.2nmに極大吸収を示
した。結果を図4に示す。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キ
ャピラリー式融点測定装置を用い測定したところ、67
℃で溶解し始めたが、明確な融点を示さなかった。
【0033】製造例2 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエ
トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 製造例1(1)で合成した2−ヒドロキシ−4−(2−
ヒドロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフェノン1g
をトルエン4mlに溶解し、アセチルマルトース3.2
4g、モリブドリン酸30mgを加えた後、90℃で3
0分間撹拌した。この溶液を室温まで空冷後、トルエン
で抽出、飽和食塩水で4回洗浄後、乾燥し濃縮した。得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ法(酢
酸エチル−ヘキサン)で精製し、2−ヒドロキシ−4−
(2−ヘプタアセチルマルトシロキシ−2−メチルエト
キシ)ベンゾフェノンを2.57g得た。続いてこれ
を、50mlのメタノールに溶解させた後、28%ナト
リウムメチラート−メタノール溶液0.5mlを加えて
室温で1時間撹拌した。これを濃塩酸で中和した後、濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
法(クロロホルム−メタノール)で分離精製し、2−ヒ
ドロキシ−4−(2−マルトシロキシ−2−メチルエト
キシ)ベンゾフェノンを1.14gを得た。
【0034】得られた2−ヒドロキシ−4−(2−マル
トシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフェノンの分
析値は次の通りであった。 (1)赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、IRA−1赤外吸収スペクトル測
定装置を用い、KBr錠剤法で測定したところ、340
0cm-1に水酸基の伸縮振動、1626cm-1にカルボ
ニル基の伸縮振動による吸収が見られた。結果を図5に
示す。 (2)13C−NMR 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
CD3ODを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
202ppm、167ppm、167ppm、167ppm、140
ppm、137ppm、133ppm、130ppm、129ppm、
115ppm、114ppm、109ppm、105ppm、104
ppm、103ppm、103ppm、103ppm、78ppm、7
7ppm、77ppm、75ppm、75ppm、75ppm、75pp
m、75ppm、73ppm、73ppm、73ppm、72ppm、6
3ppm、62ppm、62ppm、19ppm、18ppm、17ppm
にシグナルが観察された。結果を図6に示す。
【0035】(3)1H−NMR 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
CD3ODを溶媒として、室温にて測定したところ、δ
7.49〜7.64ppm、6.51〜6.57ppm、5.
16〜5.17ppm、3.24〜4.55ppm、1.17
〜1.37ppmにシグナルが観測された結果を図7に示
す。 (4)紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社製、UVIDEC 610C紫外線吸
収スペクトル測定装置を用い、溶媒メタノールで測定し
たところ、288.0nm、326.0nmに極大吸収を示
した。結果を図8に示す。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キ
ャピラリー式融点測定装置を用い測定したところ、11
7℃で溶解し始めたが、明確な融点を示さなかった。
【0036】試験例1 保湿剤に対する溶解性 下記に示す本発明化合物1〜6と、比較化合物1〜4に
ついて各保湿剤に対する溶解性について試験した。すな
わち、25℃及び5℃の温度条件下で、各化合物が保湿
剤に対して、10%以上の溶解性を示すものを○、1〜
10%を△、1%未満を×として評価した。結果を表1
に示す。 化合物1:2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェ
ノン(製造例1) (R1,R2:水素原子、R3,R4,R5:水素原子、
6:メチル基、A:グルコース残基、n=1) 化合物2:2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン(製造例2) (R1,R2:水素原子、R3,R4,R5:水素原子、
6:メチル基、A:マルトース残基、n=1) 化合物3:2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン (R1,R2:水素原子、R3:メチル基、R4,R5
6:水素原子、A:マルトース残基、n=1) 化合物4:2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1,2-シ゛メチルエトキシ)ヘ゛ンソ
゛フェノン (R1,R2:水素原子、R3,R6:メチル基、R4
5:水素原子、A:マルトース残基、n=1) 化合物5:2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)-2-メチ
ルエトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン (R1,R2:水素原子、R3,R4,R5:水素原子、
6:メチル基、A:マルトース残基、n=2) 化合物6:2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-エチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノ
ン (R1,R2:水素原子、R3,R4,R5:水素原子、
6:エチル基、A:マルトース残基、n=1) 比較化合物1:2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノン
ナトリウム塩 比較化合物2:2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 比較化合物3:2-ヒト゛ロキシ-4-(3-マルトシロキシフ゜ロホ゜キシ)ヘ゛ンソ゛フェ
ノン 比較化合物4:2-ヒト゛ロキシ-4-(4-マルトシロキシフ゛トキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン
【0037】
【表1】 ──────────────────────────────────── 化 合 物 比 較 化 合 物 1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 ──────────────────────────────────── (25℃) プロピレングリコール ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ 1,3-ブチレングリコール ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ ヘキシレングリコール ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ グリセリン ○ ○ ○ ○ ○ ○ × ○ ○ ○ ジプロピレングリコ−ル ○ ○ ○ ○ ○ ○ △ ○ ○ ○ ──────────────────────────────────── (5℃) プロピレングリコール ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × 1,3-ブチレングリコール ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × ヘキシレングリコール ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × グリセリン ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × ジプロピレングリコ−ル ○ ○ ○ ○ ○ ○ × × × × ────────────────────────────────────
【0038】表1の結果より明らかなように、本発明の
化合物1及び2は、いずれの温度条件下においても各保
湿剤に対して10%以上の優れた溶解性を示した。これ
に対し、比較化合物1は各保湿剤に対し、いずれの温度
条件下においても1%未満しか溶解しなかった。また、
比較化合物2においては25℃の溶解性は良いものの、
低温時の溶解性が悪く、ほとんどの保湿剤に対して1%
以下であった。
【0039】すなわち、本発明の化合物2及び3と比較
化合物2とを比較すると、本発明の化合物は4位のエト
キシ基の1若しくは2位にメチル基を有している点で相
違する。両者の溶解性を比較すると、25℃において
は、いずれも高い溶解性を示すが、比較化合物2では低
温時において、1%未満しか溶解しない。また、本発明
の化合物2及び3と、比較化合物3とを比較すると、い
ずれも4位のアルキル基の炭素数が3である点で共通す
る。両者の溶解性を比較すると、比較化合物3において
は、やはり低温時の溶解性が1%未満と低い。以上のこ
とから、低温時の溶解性は炭素数の増加に起因するもの
ではなく、4位のエトキシ基が分岐を持つことに起因す
ることが示唆される。
【0040】同様に、本発明化合物4と、比較化合物4
を比較すると、いずれも4位のアルキル基の有する炭素
数が4である点で共通する。この場合においても、分岐
を持たない比較化合物4では低温時の溶解性が1%未満
と低かったこのことからも分岐が低温時の溶解性の改善
に寄与していることが示唆される。なお、本発明化合物
6のように、前記化2のnを2とした場合であっても、
同様にいずれの温度条件下でも10%以上の高い溶解性
を示した。
【0041】以上のことから、本発明のベンゾフェノン
誘導体は保湿剤との相性がよく、高い溶解度を有し、低
温で長期に渡って保存した場合であっても、固体を析出
することがなく、よって、これを配合した皮膚外用剤は
従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した場合に比べて製品
安定性に優れたものである。
【0042】試験例2 実使用テスト [美容液の製造]表2に示す処方で定法にて、本発明化
合物を配合した美容液(配合例1)と2−ヒドロキシ−
4−メトキシ−5−スルフォキソニウムベンゾフェノン
ナトリウム塩を配合した美容液(対照例1)の製造を行
った。
【0043】
【表2】 ──────────────────────────────────── 成分 配合例1 対照例1 ──────────────────────────────────── (アルコール相) エタノール 5.0 5.0 POEオレイルアルコールエーテル 2.0 2.0 香料 適量 適量 (水相) 1,3−ブチレングリコール 5.0 5.0 ベンゾフェノン誘導体(製造例1) 8.0 − 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノンナトリウム 塩 − 8.0 トリエタノールアミン 0.1 0.1 カルボキシビニルポリマー 0.15 0.15 精製水 残余 残余 ────────────────────────────────────
【0044】[日焼け止めテスト]上記処方による美容
液を用いて、海浜での実使用テストを行った。試験方法
はサンプルをパネル10名の左右半々にそれぞれ塗布
し、日焼けの程度を以下の基準に従って評価した。 ○…ほとんど日焼け症状が認められなかった △…軽度の日焼け症状が認められた ×…強度の日焼け症状が認められた 結果を表3に示す。
【0045】
【表3】 ──────────────────────────────────── 配合例1 対照例1 ──────────────────────────────────── ○ 7 2 △ 3 5 × 0 3 ────────────────────────────────────
【0046】上記結果より明らかなように、配合例1の
皮膚外用剤を塗布した場合、70%のパネラーは日焼け
がほとんど認められず、残りの30%のパネラーについ
ては軽度の日焼け症状が認められたに過ぎず、重度の日
焼け症状が認められたパネラーはいなかった。これに対
し、対照例1の皮膚外用剤を塗布した場合、80%のパ
ネラーが重度または軽度の日焼け症状を訴え、30%の
パネラーに重度の日焼け症状が認められた。また、配合
例1の塗布部では皮膚トラブルは全く見られなかった
が、対照例1の塗布部では皮膚のかゆみ、発疹といった
トラブルが生じた。
【0047】以上のことから本発明のベンゾフェノン誘
導体を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収
剤を配合した皮膚外用剤よりも高い紫外線防御効果を有
し、紫外線による日焼けを防止し、しかも皮膚トラブル
を生じることがないことが明らかとなった。
【0048】[肌改善テスト]表2で製造した2つの美
容液を用いて、肌改善効果テストを行った。試験方法は
サンプルをパネル10名の左右半々にそれぞれ塗布し、
1月間使用し、肌改善効果を以下の基準に従って評価し
た。 ○…肌が水々しくしっとりとした感じがし、すべすべす
る。 △…特に以前と変わらない。 ×…肌が荒れた感じがする。きしむ。 結果を表4に示す。
【0049】
【表4】 ──────────────────────────────────── 配合例1 対照例1 ──────────────────────────────────── ○ 8 0 △ 2 6 × 0 4 ────────────────────────────────────
【0050】上記結果より明らかなように、配合例1の
使用により、80%のパネラーの肌がみずみずしく改善
され、配合例1の使用により肌荒れを生じたパネラーは
いなかった。一方、対照例1では40%のパネラーが肌
荒れを示し、紫外線吸収剤と保湿剤の相性が悪く、十分
な保湿効果が得られなかった。従って、本発明の皮膚外
用剤は保湿効果が高いものであり、肌を水々しくしっと
りとさせることが可能である。
【0051】この結果より、対照例1は、パネラーの多
くが肌が荒れたかさつく感じがするのに対し、配合例1
は、殆どのパネラーが肌がみずみずしくなった感じがす
ると答え、皮膚トラブルも殆どみられなかった。
【0052】以下に本発明にかかる皮膚外用剤の配合例
を説明する。なお、各皮膚外用剤ともに優れた紫外線防
御効果を示し、長時間使用した場合にも皮膚トラブルを
生じることがなかった。また、ベンゾフェノン誘導体は
皮膚外用剤中に均一に溶解し、低温で長期に渡って保存
した場合にも固体が析出することはなかった。
【0053】配合例2 クリーム A.油相 ステアリン酸 10.0% ステアリルアルコール 4.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル 8.0 ビタミンEアセテート 0.5 香料 0.4 エチルパラベン 0.1 ブチルパラベン 0.1 プロピルパラベン 0.1 B.水相 プロピレングリコール 8.0 グリセリン 2.0 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-2-メチルメトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 6.2 水酸化ナトリウム 0.4 エデト酸三ナトリウム 0.05 精製水 残 余 <製法>Aの油相部とBの水相部をそれぞれ70℃に加
熱し完全に溶解する。A相をB相に加えて、乳化機で乳
化する。乳化物を熱交換機を用いて冷却してクリームを
得た。
【0054】配合例3 クリーム A.油相 セタノール 4.0% ワセリン 7.0 イソプロピルミリステート 8.0 スクワラン 12.0 ジメチルポリシロキサン 3.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル 2.2 POE(20)ソルビタンモノステアレート 2.8 グリチルレチン酸ステアレートBHT 0.02 エチルパラベン 0.1 ブチルパラベン 0.1 B.水相 1,3−ブチレングリコール 7.0 エデト酸二ナトリウム 0.07 フェノキシエタノール 0.2 L−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩 3.0 ポリアクリル酸アルキルエステル 1.0 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 7.0 精製水 残 余 <製法>配合例2に準じてクリームを得た。
【0055】配合例4 乳液 A.油相 スクワラン 5.0% オレイルオレート 3.0 ワセリン 2.0 ソルビタンセスキオレイン酸エステル 0.8 ポリオキシエチレンオレイルエーテル(20E.O.) 1.2 p−メトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル 3.0 メチルパラベン 0.15 香料 0.12 B.水相 ジプロピレングリコール 5.0 エタノール 3.0 カルボキシビニルポリマー 0.17 ヒアルロン酸ナトリウム 0.1 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 3.1 水酸化カリウム 0.08 ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.05 精製水 残 余 <製法>配合例2に準じて乳液を得た。
【0056】配合例5 クリーム A.油相 ベヘニルアルコール 0.5% 12−ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル 2.0 スクワラン 7.0 ホホバオイル 5.0 自己乳化型モノステアリン酸グリセリン 2.5ホ゜リオキシエチレンソルヒ゛タンモノステアリン 酸エステル(20E.O) 1.5 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 3.0 エチルパラベン 0.2 ブチルパラベン 0.1 香料 0.1 B.水相 プロピレングリコール 6.0 グリセリン 5.0 ギーガム(モンモリロナイト) 3.0 水酸化カリウム 0.3 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ラクトシロキシ-2-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 7.0 エデト酸三ナトリウム 0.08 精製水 残 余 <製法>配合例2に準じてクリームを得た。
【0057】配合例6 粉末入り化粧水 A.油相 エタノール 8.0% POE(60)グリセリルモノイソステアレート 2.0 L−メントール 0.1 カンファー 0.1 メチルパラベン 0.1 香料 0.03 B.水相 グリセリン 3.0 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-ク゛ルコシロキシ-1-メチルエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 1.7 カオリン 0.5 ベントナイト 0.3 ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.03 精製水 残 余 <製法>油相、水相を70℃で混合して化粧水を得た。
【0058】
【発明の効果】以上のように、本発明に係るベンゾフェ
ノン誘導体及び保湿剤を含有した皮膚外用剤は、優れた
紫外線防御を示し、肌への刺激性も低く、更に肌改善効
果を有し、優れた使用性を発揮することができる。ま
た、低温で保存した場合にもベンゾフェノン誘導体が析
出することなく、製品の安定性に優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−グルコシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの赤外吸収スペクトルの説明図である。
【図2】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−グルコシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの13C−NMRスペクトルの説明図である。
【図3】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−グルコシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの1H−NMRスペクトルの説明図である。
【図4】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−グルコシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの紫外線吸収スペクトルの説明図である。
【図5】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−マルトシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの赤外吸収スペクトルの説明図である。
【図6】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−マルトシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの13C−NMRスペクトルの説明図である。
【図7】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−マルトシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの1H−NMRスペクトルの説明図である。
【図8】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ−4−
(2−マルトシロキシ−2−メチルエトキシ)ベンゾフ
ェノンの紫外線吸収スペクトルの説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07H 15/18 C07H 15/18 (72)発明者 中島 英夫 神奈川県横浜市港北区新羽町1050番地 株 式会社資生堂第一リサーチセンター内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式化1で表されるベンゾフェノ
    ン誘導体の一種または二種以上、及び保湿剤の一種又は
    二種以上を含有することを特徴とする皮膚外用剤。 【化1】 (ただし、R1、R2は水素原子、水酸基または炭素数1
    〜4のアルコキシ基で表される。R3、R4、R5、R
    6は、水素原子または炭素数1〜2のアルキル基を表
    し、R3〜R6のいずれか1つ以上がアルキル基を表すこ
    とを特徴とする。Aは保護基のない糖残基、nは1また
    は2を示す。)
  2. 【請求項2】 請求項1記載の皮膚外用剤において、ベ
    ンゾフェノン誘導体が、前記化1において、R1及びR2
    が水素原子、R3〜R6のいずれか一つがメチル基、Aが
    グルコース残基若しくはマルトース残基、nが1で特定
    される化合物であることを特徴とする皮膚外用剤。
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