JPH09256159A - ワークの移動装置とワークの移動方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空容器内でワークの位置を確実に移動する
ことができ、その移動時間を短縮することができるワー
クの移動装置とワークの移動方法を提供すること。 【解決手段】 真空容器６内におけるワーク１の位置を
移動するためのワークの移動装置２００であり、真空容
器６内でワーク１を着脱可能に保持するワーク保持手段
２と、ワーク保持手段２を真空容器６内で移動する操作
手段４００と、ワーク保持手段２を真空容器６内で移動
する際に、ワーク保持手段２を操作手段４００に対して
磁気的吸引力で吸引して固定する吸引手段５００と、を
備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空容器内におけ
るワークの位置を移動するためのワークの移動装置とワ
ークの移動方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ワーク、たとえばコンパクトディスク
（ＣＤ）のような基板（サブストレート）に対する成膜
（コーティング）は、公知の真空処理技術により行われ
る。このようなワークに対する成膜処理としては、薄膜
技術が用いられている。コンパクトディスク（ＣＤ）
は、ディジタル情報を記録するディスク状の情報記録媒
体である。このようなディスクは、スパッタリング工程
において、たとえばアルミニウム層がコーティングされ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述のようなコンパク
トディスクに成膜する場合には、真空容器内にコンパク
トディスクを供給して、そのコンパクトディスクは搬入
した位置から成膜位置まで搬送する必要がある。この時
に、コンパクトディスクはディスク状の保持具に載せら
れており、この保持具は搬入した位置から成膜位置まで
移動するために、その保持具は受け部材側に保持して移
動する必要がある。しかし、コンパクトディスクの保持
具は受け部材に対して単に載っている状態であるので、
受け部材が上下方向に急激に移動すると、保持具の動き
が受け部材の動きに対して上手く追従することができな
いことから、受け部材の上下方向の移動を比較的ゆっく
りと行わなければならない。つまり受け部材がたとえば
下がった場合に、コンパクトディスクの保持具は受け部
材の降下に伴い自重で落下して追従しようとするのであ
るが、この保持具の落下動作時の安定性が欠けるととも
に、保持具に載っているコンパクトディスクに損傷を与
える恐れがある。

【０００４】又、このようなコンパクトディスクの保持
具を省略して、コンパクトディスク自体を直接つかんで
移動することも考えられるが、コンパクトディスクの損
傷や発塵等の問題が生じる。何れにしても、コンパクト
ディスクのような記録媒体が損傷したり埃が付くと、記
録情報の再生あるいは情報を記録する場合に問題が生じ
ることになる。そこで本発明は上記課題を解消するため
になされたものであり、真空容器内でワークの位置を確
実に移動することができ、その移動時間を短縮すること
ができるワークの移動装置とワークの移動方法を提供す
ることを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明にあ
っては、真空容器内におけるワークの位置を移動するた
めのワークの移動装置であり、真空容器内でワークを着
脱可能に保持するワーク保持手段と、ワーク保持手段を
真空容器内で移動する操作手段と、ワーク保持手段を真
空容器内で移動する際に、ワーク保持手段を操作手段に
対して磁気的吸引力で吸引して固定する吸引手段と、を
備えるワークの移動装置により、達成される。本発明で
は、ワーク保持手段が真空容器内でワークを着脱自在に
保持する。操作手段は、このワーク保持手段をワークと
ともに真空容器内で移動するようになっている。この際
に、吸引手段がワーク保持手段を操作手段に対して磁気
的吸引力で吸引してしっかりと固定する。

【０００６】このようにすることで、ワーク保持手段が
操作手段により真空容器内で移動する場合であっても、
ワーク保持手段と操作手段は磁気的吸引力により一体に
移動するので、ワーク保持手段とワークは自重落下のよ
うな方式を用いずに、操作手段といっしょに一体として
確実に移動することができる。ワークはワーク保持手段
に保持されながら操作手段により一体として移動できる
ので、ワークに衝撃が加わったり傷が付いたりあるいは
発塵することがなくなる。しかも、操作手段とワーク保
持手段が一体に動けるので、操作手段の移動速度を速く
することができるので、ワークの搬送時間を短縮でき
る。

【０００７】上記目的は、本発明にあっては、真空容器
内におけるワークの位置を移動するためのワークの移動
方法であり、ワーク保持手段が真空容器内でワークを着
脱可能に保持して、操作手段がワーク保持手段を真空容
器内で内側及び外側へ移動する際に、操作手段とワーク
保持手段を、磁気的吸引力で一体的に固定するワークの
移動方法により、達成される。本発明では、ワーク保持
手段が真空容器内でワークを着脱可能に保持し、そして
操作手段がワーク保持手段を真空容器内で内側及び外側
に移動する際に、操作手段とワーク保持手段は磁気的吸
引力で一体的に固定することにより、ワーク保持手段と
操作手段が一体に移動できるので、ワークの搬送時間を
短縮することができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。

【０００９】実施の形態１ 図１は、本発明のワークの移動装置を備えるコンパクト
ディスクの成膜装置１５０を示しており、図２は、成膜
装置１５０の一部を分解して示している。図１と図２に
おいて成膜装置１５０は、本体１６０とワーク貯蔵手段
１７０、ワークの移動装置２００、ワーク交換手段３０
０、成膜部４００等を備えている。本体１６０は、ワー
クの移動装置２００、ワーク交換手段３００、そして成
膜部４００を支えている。ワーク貯蔵手段１７０は、本
体１６０とは別の位置であって、ワーク交換手段３００
の付近に配置されている。図１と図２の本体１６０は枠
体であり、この上には上述したようにワークの移動装置
２００、ワーク交換手段３００及び成膜部４００等が支
持されている。

【００１０】次に図１のワーク貯蔵手段１７０を説明す
る。このワーク貯蔵手段１７０は、インデックステーブ
ル１７１がベース１７２に載せてあり、このインデック
ステーブル１７１はモータ１７３により矢印Ｒ方向に回
転しながら一定角度毎にインデックス可能である。イン
デックステーブル１７１には複数枚のワークであるコン
パクトディスク用の基板（サブストレート）１が配置さ
れている。

【００１１】次に、図２のワークの移動装置２００及び
成膜部４００を説明する。ワークの移動装置２００は、
真空容器（真空チャンバー）６（図４参照）内におい
て、基板１の位置を移動する装置である。ワークの移動
装置２００は、図２に示す旋回アーム７を備えている。
この旋回アーム７は、モータ２１６の作動により、Ｒ１
方向に１８０度毎にインデックス可能である。旋回アー
ム７の一端部と他端部には、ワーク保持手段であるサセ
プタ２，２が配置されている。旋回アーム７は、空間１
４内において、上述したモータ２１６の作動により、軸
線１５を中心としてＲ１方向に１８０度毎にインデック
ス可能である。従って、旋回アーム７の一方のサセプタ
２は、交換ステーションＣＨ側に位置決めされ、他方の
ワーク保持手段２は、成膜ステーションＭＳ側に位置決
めされる。

【００１２】図４は、この旋回アーム７の右半分、１つ
のサセプタ２、操作手段４００等を示し、軸線１５を中
心とする交換ステーションＣＨ側を示しており、旋回ア
ーム７の収容穴７ａには、上述したサセプタ２が収容さ
れている。このサセプタ２は、ディスク状の部材であ
り、コンパクトディスクの基板（ワーク）１を着脱可能
に保持するワーク保持手段である。旋回アーム７の収容
穴７ａは、更にやや径の小さい穴７ｂに接続されてい
る。サセプタ２の中心部分には突出部２ａと突出部２ｂ
が設けられている。

【００１３】操作手段４００は、ワーク保持手段である
サセプタ２を真空容器６内で上下方向（Ｚ方向）に移動
する手段である。この操作手段４００は、駆動源である
シリンダ４０１とサセプタ突上皿３を有している。サセ
プタ突上皿３は、後で述べる磁気的な吸引手段５００に
よりサセプタ２を固定する固定部材である。サセプタ突
上皿３の中央部分には、凹部３ａが形成されており、こ
の凹部３ａにはサセプタ２のセンタリングのためにサセ
プタ２の突出部２ｂがはまり込むようになっている。サ
セプタ突上皿３は好ましくはディスク状の部材であり、
その直径は基板１の直径よりも大きく、サセプタ２の直
径よりは小さい。しかし、サセプタ突上皿３はディスク
状以外の形状であってもよい。またその直径は基板１の
直径と同じか小さくてもよい。サセプタ２の上面側に
は、Ｏリング１２が円周方向に沿って埋込むようにして
設けられている。

【００１４】次に図４と図５により、真空容器６につい
て説明する。真空容器６は、上板１３と収容部材６ｅと
ディスクチャック９の間で空間１４を形成している。こ
の空間１４は上板１３の開口部１８を有している。上板
１３の開口部１８の直径は、基板１の直径よりも大きく
設定されている。開口部１８は、ディスクチャック９に
より覆うことができる。従ってディスクチャック９の直
径は開口部１８の内径よりも大きく設定されている。デ
ィスクチャック９の内側にはＯリング１０が設けられて
おり、ディスクチャック９が上板１３にＯリング１０を
介して密着されることで、空間１４と開口部１８の空間
１８ａは図５の状態ではつながっている。

【００１５】真空容器６の空間１４は、真空ポンプ６ａ
に接続されている。一方開口部１８の空間１８ａは、バ
ルブ１８ｂを介して真空ポンプ１８ｃに接続されている
とともに、バルブ１８ｄを介して窒素ボンベ１８ｅに接
続されている。上板１３と真空容器６の収容部材６ａ間
にはＯリング１１が設けられており、真空漏れがないよ
うになっている。

【００１６】ディスクチャック９は、図３に示すように
たとえば３つのバキュームパッド８を有している。３つ
のパッド８は、サセプタ２の上に載っている基板１を真
空吸引により吸着して保持する部分である。従って３つ
のバキュームパッド８はバルブ８ｅを介して真空ポンプ
８ａに接続されている。また３つのパッド８は真空破壊
をするためにバルブ８ｆを介して圧縮の空気源８ｈに接
続されている。図５の空間１４は、真空ポンプ６ａが途
中に弁がなく常に運転されているために、空間１４は常
に真空状態に保持されている。

【００１７】次に、図１と図３のワーク交換手段３００
について説明する。このワーク交換手段３００は、図２
の交換ステーションＣＨに位置されているサセプタ２の
上の基板１と、図１のワーク貯蔵手段１７０の基板１と
を交換するアームである。このワーク交換手段３００の
アーム３０１は、旋回及び上下動手段３０２により、Ｒ
２方向に１８０度毎に旋回してインデックス可能である
とともに、Ｚ方向に上下動することができる。アーム３
０１の上下動及び旋回動作により、アーム３０１の２つ
のディスクチャック９，９は、成膜済みの基板１とこれ
から成膜しようとする基板１を図２の交換ステーション
ＣＨで交換することができる。

【００１８】ところで図１〜図４において、制御部１０
０は、図１のワーク貯蔵手段１７０のモータ１７３、旋
回及び上下動手段３０２、図４のモータ２１６、真空ポ
ンプ６ａ，１８ｃ、真空ポンプ８ａの動作を制御するこ
とができる。しかもこの制御部１００は図４のバルブ１
８ｂ，１８ｄ，１８ｅ，１８ｆの開閉の制御を行うこと
ができるとともに、制御部１００は図４のエアシリンダ
のようなシリンダ４０１の作動も制御できる。

【００１９】図２の成膜部４００は、図２の交換ステー
ション（ワーク給排出位置に相当）ＣＨからは成膜ステ
ーション（ワーク処理位置に相当）ＭＳに搬送されてき
た基板１に対して所定の薄膜、たとえばアルミニウム膜
を成膜する部分であり、そのためのカソードを備えてい
る。図８は、ディスクチャック９、真空容器６、サセプ
タ２、操作手段４００の付近をより詳しく拡大して示し
ている。ディスクチャック９は、この下面側に円板状の
部材９ａを備えている。部材９ａは、ノックアウトピン
９ｂを備えている。このノックアウトピン９ｂはバネ９
ｃにより、サセプタ２の上の基板１の上面に対して突き
当たる。つまりバネ９ｃの付勢力によりノックアウトピ
ン９ｂが基板１の上面に突き当たる。この場合にはサセ
プタ２は、Ｏリング１２を介して上板１３の内面側に密
着している状態である。なおパッド８による基板１の真
空吸引力は、このバネ９ｃの付勢力によるノックアウト
ピン９ｂの基板１に対する付勢力よりも強く大きく設定
されている。これは、パッド８が基板１を確実に吸引で
きるようにするものである。

【００２０】次に、図４と図５の磁気的吸引力を発生す
る吸引手段５００について説明する。吸引手段５００
は、磁石４と磁石吸着板（磁性部材）５で構成されてい
る。磁石４はサセプタ突上皿３に設けられており、磁石
吸着板５はたとえばネジ等によりサセプタ２の下面側に
固定されている。磁石４と磁石吸着板５は、対応する位
置に位置決めされており、磁石４と磁石吸着板５の組
は、好ましくは複数組設けられている。この吸引手段５
００は、操作手段４００のシリンダ４０１が動作してサ
セプタ突上皿３がＺ方向（Ｚ１又はＺ２）に移動する際
に、サセプタ２がサセプタ突上皿３に対して磁気的吸引
力により一体となって動くことができるようにするもの
である。

【００２１】次に上述した成膜装置１５０の動作を説明
する。まず図１のワーク貯蔵手段１７０のモータ１７３
が作動すると、インデックステーブル１７１上の基板１
が、ワーク交換手段３００の一方のディスクチャック９
の直下にインデックスされる。このワーク交換手段３０
０は、旋回及び上下動手段３０２の作動により、Ｚ２方
向に下降することで、ディスクチャック９が基板１を真
空吸着して保持する。そして、旋回及び上下動手段３０
２がアーム３０１をＺ方向に上昇して１８０度旋回する
と、ディスクチャック９の基板１は図２と図４に示す旋
回アーム７の交換ステーションＣＨ側に搬送することが
できる。搬送されてきた成膜しようとする基板１は、バ
ルブ８ｅを開いて真空ポンプ８ａの作動によりバキュー
ムパッド８を介して図４のようにディスクチャック９に
保持されているのであるが、この場合には、サセプタ２
は、Ｏリング１２が上板１３の内面側に密着する位置ま
で、操作手段４００により上昇している。

【００２２】次に、ディスクチャック９をＺ２方向に下
げてディスクチャック９のＯリング１０を上板１３に密
着後、真空ポンプ１８ｃのバルブ１８ｂを閉じてしかも
図３の圧縮空気源８ｈのバルブ８ｆを用いてその真空破
壊を行うことで、基板１は図６のようにサセプタ２の上
に載せることができる。この時、真空容器６の空間１４
と空間１８ａ内は、真空ポンプ６ａと真空ポンプ１８ｃ
で真空引きされている。そして、操作手段４００のシリ
ンダ４０１が作動することで、図５のようにサセプタ突
上皿３とともにサセプタ２と基板１が一体となって下が
る。このようにサセプタ突上皿３とサセプタ２が一体と
してＺ２の方向に下がるのは、吸引手段５００が磁気的
吸引力により両者を一体的に吸引して固定しているから
である。しかも、図８と図９に示すように、図８のサセ
プタ２の状態（サセプタ２が上昇位置にある状態）か
ら、図９に示すサセプタ２の下降状態に至る場合に、バ
ネ９ｃの作動によりノックアウトピン９ｂが基板１をサ
セプタ２の上側面に押し付けているので、基板１とサセ
プタ２も一体に降下させることができる。

【００２３】従って、シリンダ４０１によるサセプタ突
上皿３、サセプタ２及び基板１のＺ２方向における降下
速度を速くすることができるとともに、基板１がサセプ
タ２の上で振動することがない。また、サセプタ突上皿
３、サセプタ２及び基板１が互いに摺動しないので、発
塵しない。図５のようにサセプタ２及び基板１が旋回ア
ーム７に載ってサセプタ突上皿３から離れると、図２の
モータ２１６が作動して旋回アーム７が１８０度インデ
ックスされる。従って、サセプタ２の上の成膜しようと
する基板１は、成膜ステーションＭＳにおいて、所定の
成膜処理が施される。この時、旋回アーム７の他方のサ
セプタ２の上には次の成膜しようとする基板１が、上述
の要領と同じやり方で置かれる。

【００２４】次に、成膜処理が終了すると、再び図５の
モータ２１６が作動して、旋回アーム７が１８０度イン
デックスされると、成膜済みの基板１が成膜ステーショ
ンＭＳから交換ステーションＣＨに戻ってくる。その状
態を図５で示す状態であるとすれば、次に、図５の操作
手段４００のシリンダ４０１が作動してサセプタ突上皿
３がＺ１方向に上昇し、サセプタ突上皿１とサセプタ２
及び基板１が一体となってＺ１方向に上昇される。これ
によりサセプタ２はＯリング１２を介して図６に示すよ
うに上板１３の内面側に密着される。従って、空間１４
と空間１８ａは、サセプタ２により遮断されることにな
る。

【００２５】なお、図６において、配管１７に接続され
た空間１８ａが真空ポンプ１８ｃにより真空排気される
時にはバルブ１８ｂは開いており、空間１８ａが真空状
態になった時にバルブ１８ｂが閉じる。この時は窒素ボ
ンベ１８ｅのバルブ１８ｄは閉じている。次に図６の状
態で、真空ポンプ１８ｃのバルブ１８ｂは閉じて、窒素
ボンベ１８ｅのバルブ１８ｄが開くので、開口部１８の
空間１８ａ内は真空破壊が生じて、大気圧状態になる。
大気圧状態になった時に、バルブ１８ｄは閉じる。そし
てバルブ１８ｅを開くことで、パッド８が図６のように
基板１を真空吸着する。

【００２６】次に図６〜図７を参照すると、アーム３０
１が旋回及び上下動手段３０２の作動によりＺ１方向に
持ち上げられ、ディスクチャック９は上板１３から簡単
に外れるとともに、パッド８は基板１を保持している。
このことから、アーム３０１がＺ１方向に上昇すれば、
図７のように成膜済みの基板１は開口部１８から上方に
Ｚ１方向に出すことができる。

【００２７】一方、図１のアーム３０１の他方のディス
クチャック９は、ワーク貯蔵手段１７０の別の成膜しよ
うとする基板１をすでに吸着しているので、これから成
膜しようとする基板１と、図７の成膜済みの基板１を交
換することができる。このような成膜及び交換作業を繰
返すことで、複数枚の基板１に対する成膜作業が順次行
える。

【００２８】実施の形態２ 図１０の実施の形態２では、吸引手段１５００が、図５
の吸引手段５００と異なっているが、その他の要素及び
構造については図１０の実施の形態２は図４の実施の形
態１と同じであるのでその説明を省略する。図１０の実
施の形態２の吸引手段１５００は、磁石吸着板（磁性部
材）５と、磁石４を有している。磁石４はサセプタ２の
下面側に複数個埋込まれている。これに対して磁石吸着
板５はサセプタ突上皿３の上側にネジにより複数個固定
されている。これらの磁石４と磁石吸着板５は対面した
位置にある。

【００２９】実施の形態３ 図１１は、本発明の実施の形態３を示している。図１１
の実施の形態３の吸引手段２５００は、図４の実施の形
態１の吸引手段５００と異なっているが、その他の要素
及び構造については実施の形態３は実施の形態１と同じ
であるのでその説明を省略する。吸引手段２５００は、
磁石４，４で構成されている。一方の磁石４は、サセプ
タ２の下面側に複数個埋込んで設けられている。他方の
磁石４は、サセプタ突上皿３の上面側に複数個埋込むよ
うにして設けられている。これらサセプタ２の磁石４と
サセプタ突上皿３の磁石４は、対面した位置にある。こ
れらの磁石４，４は、図１２に拡大して示すように、Ｎ
極とＳ極を有する磁石であって、一方の磁石のＮ極と他
方の磁石のＳ極が接することで磁気的吸引力を発生する
ようになっている。

【００３０】以上説明したように基板１を載せるサセプ
タ２は、このサセプタ２を載せるサセプタ突上皿３に対
して磁気的吸引力を発生する吸引手段５００（１５００
あるいは２５００）により磁気的に吸引している。従っ
てサセプタ２が操作手段４０１のサセプタ突上皿３によ
り上昇あるいは下降する場合においても、サセプタ２と
サセプタ突上皿３は一体に締結あるいは固定してＺ方向
に上下動できるので、基板１を速い速度で上下移動（Ｚ
方向）することができる。しかも図８に示すように、ノ
ックアウトピン９ｂが基板１をサセプタ２の上面側に押
し付けるようになっているので、サセプタ２とサセプタ
突上皿３が上下動する場合でも基板１をも一体的に上下
動できる。なお、パッド８による真空吸着力は、ノック
アウトピン９ｂの付勢力（バネ力）よりも強くなければ
ならない。従ってこのように真空容器６内における基板
１の移動速度を上げることができるので、基板１を図２
の旋回アーム７により搬送する工程及び成膜ステーショ
ンＭＳにおける成膜工程での作業サイクルタイムを短縮
することができる。また吸引手段５００（あるいは１５
００あるいは２５００）は、機構が非常に簡単であるの
で、吸引手段が占めるスペースは非常に小さくて済み、
しかも真空吸引の方式とは違って安価であり構造も簡単
である。スペースが小さいので、大気圧状態から真空状
態に要する時間も短縮できる。

【００３１】ところで本発明は上記実施の形態に限定さ
れるものではない。上述した実施の形態では、ワークと
してコンパクトディスクの基板を例に挙げているが、こ
れに限らず他の種類のディスク状の情報記録媒体の基板
に対して成膜する場合にも勿論使用することができる。
また基板は、他の分野における基板であっても良く、本
発明のワークの移動装置は他の分野のワークを真空容器
内で移動する場合においても使用することができる。ま
た、吸引手段の変形例としては、サセプタ２の下面に磁
石を配置し、サセプタ突上皿３を磁性材料、たとえばＳ
ＵＳ４１０で作ることもできる。逆に、サセプタ突上皿
３に磁石を配置し、サセプタ２を磁性材料、たとえばＳ
ＵＳ４１０で作ることもできる。

【００３２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空容器内でワークの位置を確実に移動することがで
き、その移動時間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のワークの移動装置を備える成膜装置を
示す斜視図。

【図２】図１の成膜装置の一部を取り外した状態を示す
斜視図。

【図３】図２のワーク交換手段を示す斜視図。

【図４】成膜しようとする基板を真空容器内に装着しよ
うとする状態を示す図。

【図５】真空容器内のサセプタの上に基板を載せた状態
を示す図。

【図６】真空装置内が真空排気された後に、成膜済みの
基板が成膜ステーションから交換ステーション側に戻さ
れた状態を示す図。

【図７】成膜済みの基板が真空容器内から取り出された
状態を示す図。

【図８】基板をサセプタに対して押し付ける機構の一例
を示す断面図。

【図９】図８の基板をサセプタに押し付けている状態を
拡大して示す図。

【図１０】本発明の実施の形態２を示す断面図。

【図１１】本発明の実施の形態３を示す断面図。

【図１２】図１１の実施の形態３の吸引手段の付近（図
１１のＡ領域）を示す断面図。

【符号の説明】

１・・・基板（ワーク）、２・・・サセプタ（ワーク保
持手段）、３・・・サセプタ突上皿（操作手段の固定部
材）、６・・・真空容器（真空チャンバー）、１００・
・・制御部、１５０・・・成膜装置、１６０・・・本
体、１７０・・・ワーク貯蔵手段、２００・・・ワーク
移動装置、３００・・・ワーク交換手段、４００・・・
操作手段、４０１・・・シリンダ（移動手段）、５００
・・・磁気的な吸引手段、ＣＨ・・・交換ステーション
（ワーク給排出位置）、ＭＳ・・・成膜ステーション
（ワーク処理位置）

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空容器内におけるワークの位置を移動
   するためのワークの移動装置であり、 真空容器内でワークを着脱可能に保持するワーク保持手
   段と、 ワーク保持手段を真空容器内で移動する操作手段と、 ワーク保持手段を真空容器内で移動する際に、ワーク保
   持手段を操作手段に対して磁気的吸引力で吸引して固定
   する吸引手段と、を備えることを特徴とするワークの移
   動装置。
2. 【請求項２】 ワーク保持手段を、ワーク給排出位置と
   ワーク処理位置に搬送するための搬送手段を備える請求
   項１に記載のワークの移動装置。
3. 【請求項３】 操作手段は、ワーク保持手段に接触して
   磁気的吸引力でワーク保持手段を固定する固定部材と、 固定手段を移動方向に移動する移動手段と、を備える請
   求項１に記載のワークの移動装置。
4. 【請求項４】 複数のワークを有するワーク貯蔵手段
   と、ワーク貯蔵手段のワークと、ワーク保持手段上のワ
   ークとを交換するためのワーク交換手段の付近に設けら
   れている請求項１に記載のワークの移動装置。
5. 【請求項５】 ワークはディスク状基板であり、ワーク
   処理位置はワークの成膜処理ステーションに対応してい
   る請求項２に記載のワークの移動装置。
6. 【請求項６】 吸引手段は、ワーク保持手段に設けられ
   た磁石と、操作手段に設けられてこの磁石に吸引される
   磁性部材から成る請求項１に記載のワークの移動装置。
7. 【請求項７】 吸引手段は、ワーク保持手段に設けられ
   た磁性部材と、操作手段に設けられてこの磁性部材を吸
   引する磁石から成る請求項１に記載のワークの移動装
   置。
8. 【請求項８】 吸引手段は、ワーク保持手段に設けられ
   た第１の磁石と、操作手段に設けられて第１の磁石との
   間で吸引力を生じる第２の磁石から成る請求項１に記載
   のワークの移動装置。
9. 【請求項９】 吸引手段は、磁性材料製のワーク保持手
   段と、操作手段に設けられてこのワーク保持手段を吸引
   する磁石から成る請求項１に記載のワークの移動装置。
10. 【請求項１０】 吸引手段は、ワーク保持手段に設けら
    れた磁石と、磁性材料製の操作手段から成る請求項１に
    記載のワークの移動装置。
11. 【請求項１１】 真空容器内におけるワークの位置を移
    動するためのワークの移動方法であり、 ワーク保持手段が真空容器内でワークを着脱可能に保持
    して、 操作手段がワーク保持手段を真空容器内で内側及び外側
    へ移動する際に、操作手段とワーク保持手段を、磁気的
    吸引力で一体的に固定することを特徴とするワークの移
    動方法。