JPH09263575A - メルカプト化合物、メルカプト化合物の製造方法、テトラオール化合物およびテトラオール化合物の製造方法 - Google Patents
メルカプト化合物、メルカプト化合物の製造方法、テトラオール化合物およびテトラオール化合物の製造方法Info
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- QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M tetraoctylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SPALIFXDWQTXKS-UHFFFAOYSA-M tetrapentylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC SPALIFXDWQTXKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N thiirane Chemical compound C1CS1 VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 硫黄原子の含有率が高く、しかも多官能性で
臭気が少ないメルカプト化合物を提供する。 【解決手段】 メルカプト化合物は、下記の式（１）で
示されるメルカプト化合物である。 【化１】
臭気が少ないメルカプト化合物を提供する。 【解決手段】 メルカプト化合物は、下記の式（１）で
示されるメルカプト化合物である。 【化１】
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、メルカプト化合
物、メルカプト化合物の製造方法、テトラオール化合物
およびテトラオール化合物の製造方法、特に、新規なメ
ルカプト化合物およびその製造方法、当該メルカプト化
合物を製造するための中間体としての新規なテトラオー
ル化合物およびその製造方法に関する。
物、メルカプト化合物の製造方法、テトラオール化合物
およびテトラオール化合物の製造方法、特に、新規なメ
ルカプト化合物およびその製造方法、当該メルカプト化
合物を製造するための中間体としての新規なテトラオー
ル化合物およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術とその課題】有機光学材料の分野では、樹
脂の高屈折率化を図ることを目的として、樹脂原料のモ
ノマー分子内に原子屈折が高い硫黄原子の含有率を高め
ることが試みられている（例えば、特開平２−２７０８
５９号、特開平５−２０８９５０号参照）。ここで、硫
黄原子の含有率を高めるためには、一般にメルカプト化
合物が用いられている。メルカプト化合物としては、例
えばメタンチオール、エタンチオールおよびエタンジチ
オールなどの低分子量メルカプト化合物が広く知られて
いる。ところが、このような低分子量メルカプト化合物
は、メルカプト基に基づく特有の臭気があり、また、樹
脂を硬化させるために用いる他の樹脂原料との組成比の
関係で使用量が制限されることが多い。このため、低分
子量メルカプト化合物は、作業者に不快感を与える等の
点で取扱いが容易ではなく、また、樹脂中の硫黄原子の
含有率を理想的に高めるのが困難である。
脂の高屈折率化を図ることを目的として、樹脂原料のモ
ノマー分子内に原子屈折が高い硫黄原子の含有率を高め
ることが試みられている（例えば、特開平２−２７０８
５９号、特開平５−２０８９５０号参照）。ここで、硫
黄原子の含有率を高めるためには、一般にメルカプト化
合物が用いられている。メルカプト化合物としては、例
えばメタンチオール、エタンチオールおよびエタンジチ
オールなどの低分子量メルカプト化合物が広く知られて
いる。ところが、このような低分子量メルカプト化合物
は、メルカプト基に基づく特有の臭気があり、また、樹
脂を硬化させるために用いる他の樹脂原料との組成比の
関係で使用量が制限されることが多い。このため、低分
子量メルカプト化合物は、作業者に不快感を与える等の
点で取扱いが容易ではなく、また、樹脂中の硫黄原子の
含有率を理想的に高めるのが困難である。
【０００３】このため、低分子量メルカプト化合物に代
えて、トリメチロールプロパントリス−（チオグリコレ
ート）やペンタエリスリトールテトラキス−（チオグリ
コレート）などの、エポキシ樹脂硬化剤として用いられ
ている分子量が大きな多官能性のメルカプト化合物の利
用が考えられる。しかし、この種のメルカプト化合物
は、分子量が大きいために臭気が少なく取扱い性が良好
であるものの、分子内の硫黄原子含有率が小さいため
に、樹脂中の硫黄原子の含有率を理想的に高めるのは困
難である。
えて、トリメチロールプロパントリス−（チオグリコレ
ート）やペンタエリスリトールテトラキス−（チオグリ
コレート）などの、エポキシ樹脂硬化剤として用いられ
ている分子量が大きな多官能性のメルカプト化合物の利
用が考えられる。しかし、この種のメルカプト化合物
は、分子量が大きいために臭気が少なく取扱い性が良好
であるものの、分子内の硫黄原子含有率が小さいため
に、樹脂中の硫黄原子の含有率を理想的に高めるのは困
難である。
【０００４】従って、メルカプト化合物としては、硫黄
原子の含有率が高く、しかも多官能性で分子量が大きい
（臭気が少ない）ものが望まれることになるが、このよ
うなメルカプト化合物は現在提供されるに至っていな
い。
原子の含有率が高く、しかも多官能性で分子量が大きい
（臭気が少ない）ものが望まれることになるが、このよ
うなメルカプト化合物は現在提供されるに至っていな
い。
【０００５】本発明の目的は、硫黄原子の含有率が高
く、しかも多官能性で臭気が少ないメルカプト化合物を
提供することにある。
く、しかも多官能性で臭気が少ないメルカプト化合物を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な状況に鑑み鋭意検討した結果、硫黄原子の含有率が高
く、しかも多官能性で臭気が少ないメルカプト化合物を
見い出し、本発明に至った。
な状況に鑑み鋭意検討した結果、硫黄原子の含有率が高
く、しかも多官能性で臭気が少ないメルカプト化合物を
見い出し、本発明に至った。
【０００７】すなわち、本発明に係るメルカプト化合物
は、下記の式（１）で示されるメルカプト化合物であ
る。
は、下記の式（１）で示されるメルカプト化合物であ
る。
【０００８】
【化１１】
【０００９】この式（１）で示されるメルカプト化合物
の製造方法は、ビス−（２−メルカプトエチル）サルフ
ァイトとペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基の
存在下で反応させる工程を含んでいる。ここで、ペンタ
エリスリチルテトラハライドは、例えば、ペンタエリス
リチルテトラブロミドである。
の製造方法は、ビス−（２−メルカプトエチル）サルフ
ァイトとペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基の
存在下で反応させる工程を含んでいる。ここで、ペンタ
エリスリチルテトラハライドは、例えば、ペンタエリス
リチルテトラブロミドである。
【００１０】式（１）で示されるメルカプト化合物の他
の製造方法は、ビス−（２−メルカプトエチル）サルフ
ァイトと下記の一般式（２）で示されるペンタエリスリ
トールスルホン酸エステルとを塩基の存在下で反応させ
る工程を含んでいる。
の製造方法は、ビス−（２−メルカプトエチル）サルフ
ァイトと下記の一般式（２）で示されるペンタエリスリ
トールスルホン酸エステルとを塩基の存在下で反応させ
る工程を含んでいる。
【００１１】
【化１２】
【００１２】なお、一般式（２）中、Ｒは、炭素数が１
〜４のアルキル基、フェニル基、クロロフェニル基、ニ
トロフェニル基またはトリル基である。
〜４のアルキル基、フェニル基、クロロフェニル基、ニ
トロフェニル基またはトリル基である。
【００１３】式（１）で示されるメルカプト化合物のさ
らに他の製造方法は、下記の式（３）で示されるメルカ
プト化合物とペンタエリスリチルテトラハライドとを塩
基および触媒の存在下で反応させて下記の式（４）で示
されるテトラオール化合物を得る工程と、得られたテト
ラオール化合物を鉱酸の存在下でチオ尿素と反応させ、
当該テトラオール化合物とチオ尿素との反応生成物を得
る工程と、この反応生成物を塩基を用いてアルカリ性に
することにより加水分解する工程とを含んでいる。
らに他の製造方法は、下記の式（３）で示されるメルカ
プト化合物とペンタエリスリチルテトラハライドとを塩
基および触媒の存在下で反応させて下記の式（４）で示
されるテトラオール化合物を得る工程と、得られたテト
ラオール化合物を鉱酸の存在下でチオ尿素と反応させ、
当該テトラオール化合物とチオ尿素との反応生成物を得
る工程と、この反応生成物を塩基を用いてアルカリ性に
することにより加水分解する工程とを含んでいる。
【００１４】
【化１３】
【００１５】
【化１４】
【００１６】なお、この製造方法において、ペンタエリ
スリチルテトラハライドは、例えば、ペンタエリスリチ
ルテトラブロミドである。また、触媒は、例えば、４級
アンモニウム塩または４級ホスホニウム塩である。
スリチルテトラハライドは、例えば、ペンタエリスリチ
ルテトラブロミドである。また、触媒は、例えば、４級
アンモニウム塩または４級ホスホニウム塩である。
【００１７】本発明に係るテトラオール化合物は、通
常、上述の式（１）で示されるメルカプト化合物を製造
するための中間体として用いられるものであり、下記の
式（４）で示される。
常、上述の式（１）で示されるメルカプト化合物を製造
するための中間体として用いられるものであり、下記の
式（４）で示される。
【００１８】
【化１５】
【００１９】このテトラオール化合物の製造方法は、下
記の式（３）で示されるメルカプト化合物とペンタエリ
スリチルテトラハライドとを塩基および触媒の存在下で
反応させる工程を含んでいる。
記の式（３）で示されるメルカプト化合物とペンタエリ
スリチルテトラハライドとを塩基および触媒の存在下で
反応させる工程を含んでいる。
【００２０】
【化１６】
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明に係るメルカプト化合物
は、下記の式（１）で示されるものである。
は、下記の式（１）で示されるものである。
【００２２】
【化１７】
【００２３】このメルカプト化合物は、硫黄原子の含有
率が高いので、例えば、有機光学材料として用いられる
樹脂中の硫黄原子含有率を高めるために有用である。具
体的には、このメルカプト化合物は、有機光学材料用の
樹脂を製造するためのモノマーとして使用されると、目
的とする樹脂中の硫黄原子含有率を高めることができ、
この結果、当該樹脂の高屈折率化を容易に図ることがで
きる。このような目的で用いられる本発明のメルカプト
化合物は、分子量が比較的大きく、メルカプト基に基づ
く特有の臭気が少ないので、取扱い性が良好である。
率が高いので、例えば、有機光学材料として用いられる
樹脂中の硫黄原子含有率を高めるために有用である。具
体的には、このメルカプト化合物は、有機光学材料用の
樹脂を製造するためのモノマーとして使用されると、目
的とする樹脂中の硫黄原子含有率を高めることができ、
この結果、当該樹脂の高屈折率化を容易に図ることがで
きる。このような目的で用いられる本発明のメルカプト
化合物は、分子量が比較的大きく、メルカプト基に基づ
く特有の臭気が少ないので、取扱い性が良好である。
【００２４】なお、本発明のメルカプト化合物は、上述
の有機光学材料に対して用いられる他に、従来から知ら
れたメルカプト化合物に代えて、加硫剤、架橋剤、エポ
キシ樹脂硬化剤、重合調整剤および酸化防止剤などの広
範囲な分野に対して用いることも可能である。
の有機光学材料に対して用いられる他に、従来から知ら
れたメルカプト化合物に代えて、加硫剤、架橋剤、エポ
キシ樹脂硬化剤、重合調整剤および酸化防止剤などの広
範囲な分野に対して用いることも可能である。
【００２５】次に、上述のメルカプト化合物の製造方法
について説明する。ここでは、上述のメルカプト化合物
の製造方法として、３種類の製造方法を説明する。
について説明する。ここでは、上述のメルカプト化合物
の製造方法として、３種類の製造方法を説明する。
【００２６】（第１の製造方法）第１の製造方法では、
ビス−（２−メルカプトエチル）サルファイト（以下、
ＤＭＤＳと略す）とペンタエリスリチルテトラハライド
とを原料として用い、両者を塩基の存在下で反応させ
る。
ビス−（２−メルカプトエチル）サルファイト（以下、
ＤＭＤＳと略す）とペンタエリスリチルテトラハライド
とを原料として用い、両者を塩基の存在下で反応させ
る。
【００２７】ここで用いられるペンタエリスリチルテト
ラハライドとしては、ペンタエリスリチルテトラブロミ
ド、ペンタエリスリチルテトラクロライド、ペンタエリ
スリチルテトラヨーダイドなどの各種ハライドを用いる
ことができるが、反応性および経済性の点でペンタエリ
スリチルテトラブロミドを用いるのが好ましい。
ラハライドとしては、ペンタエリスリチルテトラブロミ
ド、ペンタエリスリチルテトラクロライド、ペンタエリ
スリチルテトラヨーダイドなどの各種ハライドを用いる
ことができるが、反応性および経済性の点でペンタエリ
スリチルテトラブロミドを用いるのが好ましい。
【００２８】また、この反応で用いられる塩基は、無機
系および有機系のいずれの塩基であってもよい。無機系
の塩基としては、例えば、水酸化ナトリウムや水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウムや
炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩が挙げられる。
一方、有機系の塩基としては、例えば、ナトリウムメチ
ラートやナトリウムエチラートなどのアルカリ金属アル
コラート、トリエチルアミンやトリブチルアミンなどの
脂肪族アミンが挙げられる。なお、このような各種塩基
のうち、反応性および経済性の点で水酸化ナトリウムを
用いるのが最も好ましい。
系および有機系のいずれの塩基であってもよい。無機系
の塩基としては、例えば、水酸化ナトリウムや水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウムや
炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩が挙げられる。
一方、有機系の塩基としては、例えば、ナトリウムメチ
ラートやナトリウムエチラートなどのアルカリ金属アル
コラート、トリエチルアミンやトリブチルアミンなどの
脂肪族アミンが挙げられる。なお、このような各種塩基
のうち、反応性および経済性の点で水酸化ナトリウムを
用いるのが最も好ましい。
【００２９】上述のＤＭＤＳと上述のペンタエリスリチ
ルテトラハライドとを反応させる場合には、両者を混合
し、加熱下で上述の塩基を添加しながら撹拌して反応さ
せる。このときの反応温度は、通常、３０〜１２０℃に
設定するのが好ましく、７０〜１２０℃に設定するのが
より好ましい。反応温度が３０℃未満の場合は、反応速
度が遅くなり過ぎ、本製造方法の実用性が乏しくなる。
逆に、反応温度が１２０℃を超えると、副反応が発生し
やすくなり、目的とするメルカプト化合物の収率が低下
するおそれがある。
ルテトラハライドとを反応させる場合には、両者を混合
し、加熱下で上述の塩基を添加しながら撹拌して反応さ
せる。このときの反応温度は、通常、３０〜１２０℃に
設定するのが好ましく、７０〜１２０℃に設定するのが
より好ましい。反応温度が３０℃未満の場合は、反応速
度が遅くなり過ぎ、本製造方法の実用性が乏しくなる。
逆に、反応温度が１２０℃を超えると、副反応が発生し
やすくなり、目的とするメルカプト化合物の収率が低下
するおそれがある。
【００３０】なお、この反応は、常圧、すなわち大気圧
で実施してもよいし、加圧下で実施してもよい。加圧下
で反応させる場合、圧力範囲は大気圧〜１５気圧（ゲー
ジ圧）に設定するのが好ましく、大気圧〜１０気圧（ゲ
ージ圧）に設定するのがより好ましい。圧力が１５気圧
を超えると、使用できる反応器が限定されるため好まし
くない。
で実施してもよいし、加圧下で実施してもよい。加圧下
で反応させる場合、圧力範囲は大気圧〜１５気圧（ゲー
ジ圧）に設定するのが好ましく、大気圧〜１０気圧（ゲ
ージ圧）に設定するのがより好ましい。圧力が１５気圧
を超えると、使用できる反応器が限定されるため好まし
くない。
【００３１】このようにＤＭＤＳとペンタエリスリチル
テトラハライドとを反応させる際には、反応溶媒を用い
てもよい。反応溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロピルアルコールなどの低級アルコ
ール溶媒を用いることができる。また、反応原料である
ＤＭＤＳを反応溶媒として用いることもできる。なお、
反応溶媒としては、トルエンまたはＤＭＤＳを用いるの
が好ましいが、特に、経済性の点で原料であるＤＭＤＳ
を用いるのが好ましい。
テトラハライドとを反応させる際には、反応溶媒を用い
てもよい。反応溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、メタノー
ル、エタノール、プロピルアルコールなどの低級アルコ
ール溶媒を用いることができる。また、反応原料である
ＤＭＤＳを反応溶媒として用いることもできる。なお、
反応溶媒としては、トルエンまたはＤＭＤＳを用いるの
が好ましいが、特に、経済性の点で原料であるＤＭＤＳ
を用いるのが好ましい。
【００３２】ＤＭＤＳとペンタエリスリチルテトラハラ
イドとの使用割合は、ペンタエリスリチルテトラハライ
ドに対してＤＭＤＳを４倍モル以上に設定するのが好ま
しく、４〜５０倍モルに設定するのがより好ましい。Ｄ
ＭＤＳの使用割合が４倍モル未満の場合は、反応の選択
性が低下し、目的とするメルカプト化合物の収率が低下
するおそれがある。逆に、ＤＭＤＳの使用割合が５０倍
モルを超える場合は、使用量に比例してメルカプト化合
物の収率が増加しにくくなり、経済的でない。
イドとの使用割合は、ペンタエリスリチルテトラハライ
ドに対してＤＭＤＳを４倍モル以上に設定するのが好ま
しく、４〜５０倍モルに設定するのがより好ましい。Ｄ
ＭＤＳの使用割合が４倍モル未満の場合は、反応の選択
性が低下し、目的とするメルカプト化合物の収率が低下
するおそれがある。逆に、ＤＭＤＳの使用割合が５０倍
モルを超える場合は、使用量に比例してメルカプト化合
物の収率が増加しにくくなり、経済的でない。
【００３３】塩基の使用量は、通常、ペンタエリスリチ
ルテトラハライドの４〜６倍モルに設定するのが好まし
い。この使用量が４倍モル未満の場合は、目的とするメ
ルカプト化合物の収率が低下するおそれがある。逆に、
６倍モルを超えると、副反応が発生し易くなる。
ルテトラハライドの４〜６倍モルに設定するのが好まし
い。この使用量が４倍モル未満の場合は、目的とするメ
ルカプト化合物の収率が低下するおそれがある。逆に、
６倍モルを超えると、副反応が発生し易くなる。
【００３４】反応の際には、反応を促進するために触媒
を添加することができる。使用可能な触媒としては、例
えば、テトラエチルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ
−プロピルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムブロミド，テトラ−ｎ−ペンチルアンモニ
ウムブロミド，テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムブロ
ミド，テトラ−ｎ−ヘプチルアンモニウムブロミド，テ
トラ−ｎ−オクチルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ
−デシルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ−アミルア
ンモニウムブロミド．トリオクチルメチルアンモニウム
クロリドなどの４級アンモニウム塩、テトラエチルホス
ホニウムブロミド，テトラ−ｎ−プロピルホスホニウム
ブロミド，テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロミド，
テトラ−ｎ−ペンチルホスホニウムブロミド，テトラ−
ｎ−ヘキシルホスホニウムブロミド，テトラ−ｎ−ヘプ
チルホスホニウムブロミド，テトラ−ｎ−オクチルホス
ホニウムブロミド，テトラフェニルホスホニウムブロミ
ドなどの４級ホスホニウム塩を挙げることができる。こ
のうち、経済性の点で、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムブロミドを用いるのが好ましい。なお、このような触
媒の使用量は、通常、ペンタエリスリチルテトラハライ
ドの０．０１〜１．０倍モルに設定するのが好ましい。
を添加することができる。使用可能な触媒としては、例
えば、テトラエチルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ
−プロピルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムブロミド，テトラ−ｎ−ペンチルアンモニ
ウムブロミド，テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムブロ
ミド，テトラ−ｎ−ヘプチルアンモニウムブロミド，テ
トラ−ｎ−オクチルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ
−デシルアンモニウムブロミド，テトラ−ｎ−アミルア
ンモニウムブロミド．トリオクチルメチルアンモニウム
クロリドなどの４級アンモニウム塩、テトラエチルホス
ホニウムブロミド，テトラ−ｎ−プロピルホスホニウム
ブロミド，テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロミド，
テトラ−ｎ−ペンチルホスホニウムブロミド，テトラ−
ｎ−ヘキシルホスホニウムブロミド，テトラ−ｎ−ヘプ
チルホスホニウムブロミド，テトラ−ｎ−オクチルホス
ホニウムブロミド，テトラフェニルホスホニウムブロミ
ドなどの４級ホスホニウム塩を挙げることができる。こ
のうち、経済性の点で、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムブロミドを用いるのが好ましい。なお、このような触
媒の使用量は、通常、ペンタエリスリチルテトラハライ
ドの０．０１〜１．０倍モルに設定するのが好ましい。
【００３５】反応の完結に要する時間は、反応条件、す
なわち反応温度や圧力などにより異なるが、概ね０．５
〜２４時間である。なお、反応の進行状況は、高速液体
クロマトグラフィーを用いて容易に確認することができ
る。
なわち反応温度や圧力などにより異なるが、概ね０．５
〜２４時間である。なお、反応の進行状況は、高速液体
クロマトグラフィーを用いて容易に確認することができ
る。
【００３６】目的とするメルカプト化合物は、反応液を
分液した後に水洗し、これを濃縮すると得られる。
分液した後に水洗し、これを濃縮すると得られる。
【００３７】（第２の製造方法）第２の製造方法では、
第１の製造方法で用いたペンタエリスリチルテトラハラ
イドに代えてペンタエリスリトールスルホン酸エステル
を用い、第１の製造方法と同様の反応を行うと目的とす
るメルカプト化合物を得ることができる。
第１の製造方法で用いたペンタエリスリチルテトラハラ
イドに代えてペンタエリスリトールスルホン酸エステル
を用い、第１の製造方法と同様の反応を行うと目的とす
るメルカプト化合物を得ることができる。
【００３８】この製造方法で用いられるペンタエリスリ
トールスルホン酸エステルは、下記の一般式（２）で示
されるものである。
トールスルホン酸エステルは、下記の一般式（２）で示
されるものである。
【００３９】
【化１８】
【００４０】なお、一般式（２）中、Ｒは、メチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，ｎ−ブチル基などの炭素数
が１〜４のアルキル基、フェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基またはトリル基である。
エチル基，ｎ−プロピル基，ｎ−ブチル基などの炭素数
が１〜４のアルキル基、フェニル基、クロロフェニル
基、ニトロフェニル基またはトリル基である。
【００４１】このような一般式（２）で示されるペンタ
エリスリトールスルホン酸エステルとしては、例えば、
ペンタエリスリトールテトラキス（メタンスルホネー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（エタンスルホ
ネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（プロパン
スルホネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（ベ
ンゼンスルホネート）、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（クロロベンゼンスルホネート）、ペンタエリスリト
ールテトラキス（ニトロベンゼンスルホネート）、ペン
タエリスリトールテトラキス（トルエンスルホネート）
などを挙げることができる。このうち、取扱いが容易な
点および経済性の点で、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（ベンゼンスルホネート）およびペンタエリスリトー
ルテトラキス（トルエンスルホネート）が好ましく用い
られる。
エリスリトールスルホン酸エステルとしては、例えば、
ペンタエリスリトールテトラキス（メタンスルホネー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（エタンスルホ
ネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（プロパン
スルホネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（ベ
ンゼンスルホネート）、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（クロロベンゼンスルホネート）、ペンタエリスリト
ールテトラキス（ニトロベンゼンスルホネート）、ペン
タエリスリトールテトラキス（トルエンスルホネート）
などを挙げることができる。このうち、取扱いが容易な
点および経済性の点で、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（ベンゼンスルホネート）およびペンタエリスリトー
ルテトラキス（トルエンスルホネート）が好ましく用い
られる。
【００４２】（第３の製造方法）第３の製造方法では、
下記の式（４）で示されるテトラオール化合物を中間体
として製造し、このテトラオール化合物から目的とする
メルカプト化合物を製造する。以下、この製造方法を工
程順に説明する。
下記の式（４）で示されるテトラオール化合物を中間体
として製造し、このテトラオール化合物から目的とする
メルカプト化合物を製造する。以下、この製造方法を工
程順に説明する。
【００４３】
【化１９】
【００４４】先ず、下記の式（３）で示されるメルカプ
ト化合物とペンタエリスリチルテトラハライドとを反応
原料として用い、上記式（４）で示されるテトラオール
化合物を製造する。
ト化合物とペンタエリスリチルテトラハライドとを反応
原料として用い、上記式（４）で示されるテトラオール
化合物を製造する。
【００４５】
【化２０】
【００４６】式（３）で示されるメルカプト化合物は、
２−メルカプトエタノールとエチレンスルフィドとか
ら、またはエチレンオキシドとエタンジチオールとから
合成することができる。一方、ペンタエリスリチルテト
ラハライドとしては、第１の製造方法で用いたものと同
様のものを用いることができるが、反応性および経済性
の点でペンタエリスリチルテトラブロミドを用いるのが
好ましい。
２−メルカプトエタノールとエチレンスルフィドとか
ら、またはエチレンオキシドとエタンジチオールとから
合成することができる。一方、ペンタエリスリチルテト
ラハライドとしては、第１の製造方法で用いたものと同
様のものを用いることができるが、反応性および経済性
の点でペンタエリスリチルテトラブロミドを用いるのが
好ましい。
【００４７】式（４）で示されるテトラオール化合物を
製造する際には、式（３）で示されるメルカプト化合物
とペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基および触
媒の存在下で反応させる。ここで利用可能な塩基は、第
１の製造方法で用いたものと同様の無機系または有機系
の塩基（特に、脂肪族アミン類）であるが、特に、反応
性および経済性の点で水酸化ナトリウムが好ましい。一
方、ここで利用可能な触媒は、第１の製造方法で用いた
ものと同様の４級アンモニウム塩または４級スルホニウ
ム塩であるが、経済性の点でテトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウムブロミドまたはテトラ−ｎ−ブチルホスホニウム
ブロミドを用いるのが好ましい。
製造する際には、式（３）で示されるメルカプト化合物
とペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基および触
媒の存在下で反応させる。ここで利用可能な塩基は、第
１の製造方法で用いたものと同様の無機系または有機系
の塩基（特に、脂肪族アミン類）であるが、特に、反応
性および経済性の点で水酸化ナトリウムが好ましい。一
方、ここで利用可能な触媒は、第１の製造方法で用いた
ものと同様の４級アンモニウム塩または４級スルホニウ
ム塩であるが、経済性の点でテトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウムブロミドまたはテトラ−ｎ−ブチルホスホニウム
ブロミドを用いるのが好ましい。
【００４８】式（３）で示されるメルカプト化合物とペ
ンタエリスリチルテトラハライドとを反応させる際に
は、両者を混合し、これにベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素溶媒、またはメタノール，エタ
ノール，プロピルアルコールなどの低級アルコール溶媒
を加え、さらに触媒および塩基を添加して撹拌する。反
応温度は、２０〜１２０℃に設定するのが好ましく、５
０〜１００℃に設定するのがより好ましい。反応温度が
２０℃未満の場合は、反応速度が遅くなり過ぎ、本製造
方法の実用性が乏しくなる。逆に、反応温度が１２０℃
を超えると、副反応が発生しやすくなり、この工程で製
造しようとするテトラオール化合物の収率が低下するお
それがある。
ンタエリスリチルテトラハライドとを反応させる際に
は、両者を混合し、これにベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素溶媒、またはメタノール，エタ
ノール，プロピルアルコールなどの低級アルコール溶媒
を加え、さらに触媒および塩基を添加して撹拌する。反
応温度は、２０〜１２０℃に設定するのが好ましく、５
０〜１００℃に設定するのがより好ましい。反応温度が
２０℃未満の場合は、反応速度が遅くなり過ぎ、本製造
方法の実用性が乏しくなる。逆に、反応温度が１２０℃
を超えると、副反応が発生しやすくなり、この工程で製
造しようとするテトラオール化合物の収率が低下するお
それがある。
【００４９】式（３）で示されるメルカプト化合物とペ
ンタエリスリチルテトラハライドとの使用割合は、式
（３）で示されるメルカプト化合物をペンタエリスリチ
ルテトラハライドの４倍モル以上に設定するのが好まし
く、４〜６倍モルに設定するのがより好ましい。式
（３）で示されるメルカプト化合物の使用量が４倍モル
未満の場合は、テトラオール化合物の収率が低下するお
それがある。逆に、６倍モルを超えると、使用量に比例
してテトラオール化合物の収率が増加しにくくなり、経
済的でない。
ンタエリスリチルテトラハライドとの使用割合は、式
（３）で示されるメルカプト化合物をペンタエリスリチ
ルテトラハライドの４倍モル以上に設定するのが好まし
く、４〜６倍モルに設定するのがより好ましい。式
（３）で示されるメルカプト化合物の使用量が４倍モル
未満の場合は、テトラオール化合物の収率が低下するお
それがある。逆に、６倍モルを超えると、使用量に比例
してテトラオール化合物の収率が増加しにくくなり、経
済的でない。
【００５０】また、塩基の使用量は、式（３）で示され
るメルカプト化合物に対し０．８〜１．２倍モルに設定
するのが好ましい。さらに好ましくは等モルである。塩
基の使用量がこの範囲以外の場合は、テトラオール化合
物の収率が低下するおそれがある。さらに、触媒の使用
量は、ペンタエリスリチルテトラハライドの０．０１〜
１．０倍モルに設定するのが好ましい。触媒の使用量が
０．０１倍モル未満の場合、反応速度が遅くなる。逆
に、１．０倍モルを超える場合は、使用量に比例してテ
トラオール化合物の収率が増加しにくくなり、経済的で
ない。
るメルカプト化合物に対し０．８〜１．２倍モルに設定
するのが好ましい。さらに好ましくは等モルである。塩
基の使用量がこの範囲以外の場合は、テトラオール化合
物の収率が低下するおそれがある。さらに、触媒の使用
量は、ペンタエリスリチルテトラハライドの０．０１〜
１．０倍モルに設定するのが好ましい。触媒の使用量が
０．０１倍モル未満の場合、反応速度が遅くなる。逆
に、１．０倍モルを超える場合は、使用量に比例してテ
トラオール化合物の収率が増加しにくくなり、経済的で
ない。
【００５１】反応の完結に要する時間は、反応条件、す
なわち反応温度などにより異なるが、概ね０．５〜２４
時間である。なお、反応の進行状況は、高速液体クロマ
トグラフィーを用いて容易に確認することができる。
なわち反応温度などにより異なるが、概ね０．５〜２４
時間である。なお、反応の進行状況は、高速液体クロマ
トグラフィーを用いて容易に確認することができる。
【００５２】この工程で目的とするテトラオール化合物
は、反応液を室温まで冷却して結晶物を濾過した後に分
液して水洗し、さらにこれを濃縮すると得られる。
は、反応液を室温まで冷却して結晶物を濾過した後に分
液して水洗し、さらにこれを濃縮すると得られる。
【００５３】次に、得られたテトラオール化合物を鉱酸
の存在下でチオ尿素と反応させ、テトラオール化合物と
チオ尿素との反応生成物を得る。ここで用いられる鉱酸
としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水
素酸、リン酸などが挙げられるが、目的とするメルカプ
ト化合物の着色を抑制することができる点で塩酸が好ま
しい。
の存在下でチオ尿素と反応させ、テトラオール化合物と
チオ尿素との反応生成物を得る。ここで用いられる鉱酸
としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水
素酸、リン酸などが挙げられるが、目的とするメルカプ
ト化合物の着色を抑制することができる点で塩酸が好ま
しい。
【００５４】テトラオール化合物と反応させるチオ尿素
の使用量は、テトラオール化合物の４倍モル以上に設定
するのが好ましく、４〜１２倍モルに設定するのがより
好ましい。チオ尿素の使用量が４倍モル未満の場合は、
目的とするメルカプト化合物の収率が低下するおそれが
ある。逆に、１２倍モルを超えると、使用量に比例して
メルカプト化合物の収率が増加しにくくなり、経済的で
ない。また、鉱酸の使用量は、テトラオール化合物の４
〜１６倍モルに設定するのが好ましい。鉱酸の使用量が
４倍モル未満の場合は、目的とするメルカプト化合物の
収率が低下するおそれがある。逆に、１６倍モルを超え
ると、使用量に比例してメルカプト化合物の収率が増加
しにくくなり、経済的でない。
の使用量は、テトラオール化合物の４倍モル以上に設定
するのが好ましく、４〜１２倍モルに設定するのがより
好ましい。チオ尿素の使用量が４倍モル未満の場合は、
目的とするメルカプト化合物の収率が低下するおそれが
ある。逆に、１２倍モルを超えると、使用量に比例して
メルカプト化合物の収率が増加しにくくなり、経済的で
ない。また、鉱酸の使用量は、テトラオール化合物の４
〜１６倍モルに設定するのが好ましい。鉱酸の使用量が
４倍モル未満の場合は、目的とするメルカプト化合物の
収率が低下するおそれがある。逆に、１６倍モルを超え
ると、使用量に比例してメルカプト化合物の収率が増加
しにくくなり、経済的でない。
【００５５】なお、ここでの反応温度は、通常、室温〜
還流温度の範囲に設定するのが好ましい。
還流温度の範囲に設定するのが好ましい。
【００５６】次に、得られた反応生成物を塩基によりア
ルカリ性にして加水分解することによりメルカプト化す
る。これにより、目的とするメルカプト化合物が得られ
る。
ルカリ性にして加水分解することによりメルカプト化す
る。これにより、目的とするメルカプト化合物が得られ
る。
【００５７】この工程で用いられる塩基は、例えば、水
酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水
酸化物、アンモニア、トリエチルアミンやヒドラジンな
どの脂肪族アミン類である。なお、このような塩基の使
用量は、通常、式（４）で示されるテトラオール化合物
の４倍モル以上に設定するのが好ましく、４〜１６倍モ
ルに設定するのがより好ましい。塩基の使用量が４倍モ
ル未満の場合は、目的とするメルカプト化合物の収率が
低下するおそれがある。逆に、１６倍モルを超えると、
使用量に比例してメルカプト化合物の収率が増加しにく
くなり、経済的でない。
酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水
酸化物、アンモニア、トリエチルアミンやヒドラジンな
どの脂肪族アミン類である。なお、このような塩基の使
用量は、通常、式（４）で示されるテトラオール化合物
の４倍モル以上に設定するのが好ましく、４〜１６倍モ
ルに設定するのがより好ましい。塩基の使用量が４倍モ
ル未満の場合は、目的とするメルカプト化合物の収率が
低下するおそれがある。逆に、１６倍モルを超えると、
使用量に比例してメルカプト化合物の収率が増加しにく
くなり、経済的でない。
【００５８】なお、このような加水分解反応は、通常、
室温〜還流温度の範囲で実施するのが好ましい。
室温〜還流温度の範囲で実施するのが好ましい。
【００５９】このようにして得られたメルカプト化合物
は、トルエンなどの有機溶媒を用いて反応液から抽出し
た後に、酸水洗、水洗、濃縮という一般的な手法により
精製することができる。
は、トルエンなどの有機溶媒を用いて反応液から抽出し
た後に、酸水洗、水洗、濃縮という一般的な手法により
精製することができる。
【００６０】なお、本製造方法に係る一連のメルカプト
化工程は、特開平２−２７０８５９号に記載された公知
の方法である。
化工程は、特開平２−２７０８５９号に記載された公知
の方法である。
【００６１】
【実施例】実施例１ 撹拌機、温度計および冷却器を備えた１，０００ｍｌの
４つ口フラスコを用意し、これにビス−（２−メルカプ
トエチル）サルファイトを６００ｇ（３．９モル）、ペ
ンタエリスリチルテトラブロミドを５０ｇ（０．１２９
モル）および触媒としてのテトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムブロミドを４．１ｇ（０．０１２７モル）加えた。
次に、これを８０〜１００℃に加熱し、窒素雰囲気下で
１０％水酸化ナトリウム水溶液を２１９ｇ（０．５３モ
ル）滴下した。その後、８０〜１００℃に維持しながら
３時間撹拌した。
４つ口フラスコを用意し、これにビス−（２−メルカプ
トエチル）サルファイトを６００ｇ（３．９モル）、ペ
ンタエリスリチルテトラブロミドを５０ｇ（０．１２９
モル）および触媒としてのテトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムブロミドを４．１ｇ（０．０１２７モル）加えた。
次に、これを８０〜１００℃に加熱し、窒素雰囲気下で
１０％水酸化ナトリウム水溶液を２１９ｇ（０．５３モ
ル）滴下した。その後、８０〜１００℃に維持しながら
３時間撹拌した。
【００６２】次に、反応液を５０℃まで冷却し、分液し
て２回水洗した後に有機層を減圧下で濃縮した。この濃
縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて分
離したところ、上記式（１）で示されるテトラキス−
（７−メルカプト−２，５−ジチアヘプチル）メタンが
７２．６ｇ（０．１０７モル）得られた。これのペンタ
エリスリチルテトラブロミドに対する収率は、８２．９
％であった。
て２回水洗した後に有機層を減圧下で濃縮した。この濃
縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて分
離したところ、上記式（１）で示されるテトラキス−
（７−メルカプト−２，５−ジチアヘプチル）メタンが
７２．６ｇ（０．１０７モル）得られた。これのペンタ
エリスリチルテトラブロミドに対する収率は、８２．９
％であった。
【００６３】得られたテトラキス−（７−メルカプト−
２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およびＮ
ＭＲ分析結果をそれぞれ表１および表２に示す。
２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およびＮ
ＭＲ分析結果をそれぞれ表１および表２に示す。
【００６４】
【表１】
【００６５】
【表２】
【００６６】実施例２ ペンタエリスリチルテトラブロミド５０ｇ（０．１２９
モル）に代えてペンタエリスリトールテトラキス（ベン
ゼンスルホネート）８９．８ｇ（０．１２９モル）を用
い、他は実施例１と同様に操作したところ、上記式
（１）で示されるテトラキス−（７−メルカプト−２，
５−ジチアヘプチル）メタンが７０．１ｇ（０．０９モ
ル）得られた。これのペンタエリスリトールテトラキス
（ベンゼンスルホネート）に対する収率は、７９．８％
であった。なお、得られたテトラキス−（７−メルカプ
ト−２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およ
びＮＭＲ分析結果は、実施例１の場合と同様であった。
モル）に代えてペンタエリスリトールテトラキス（ベン
ゼンスルホネート）８９．８ｇ（０．１２９モル）を用
い、他は実施例１と同様に操作したところ、上記式
（１）で示されるテトラキス−（７−メルカプト−２，
５−ジチアヘプチル）メタンが７０．１ｇ（０．０９モ
ル）得られた。これのペンタエリスリトールテトラキス
（ベンゼンスルホネート）に対する収率は、７９．８％
であった。なお、得られたテトラキス−（７−メルカプ
ト−２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およ
びＮＭＲ分析結果は、実施例１の場合と同様であった。
【００６７】実施例３ 撹拌機、温度計および冷却器を備えた１，０００ｍｌの
４つ口フラスコを用意し、これに２−［（２−メルカプ
トエチル）チオ］エタノールを７１．８ｇ（０．５２モ
ル）、ペンタエリスリチルテトラブロミドを５０ｇ
（０．１２９モル）および触媒としてのテトラ−ｎ−ブ
チルホスホニウムブロミドを１．７ｇ（０．００５モ
ル）加えた。さらに、トルエンを３２５ｇ添加し、１０
％の水酸化ナトリウム水溶液を１０４ｇ（０．５２モ
ル）徐々に加えた。その後、７０〜８０℃に加熱して８
時間撹拌した。
４つ口フラスコを用意し、これに２−［（２−メルカプ
トエチル）チオ］エタノールを７１．８ｇ（０．５２モ
ル）、ペンタエリスリチルテトラブロミドを５０ｇ
（０．１２９モル）および触媒としてのテトラ−ｎ−ブ
チルホスホニウムブロミドを１．７ｇ（０．００５モ
ル）加えた。さらに、トルエンを３２５ｇ添加し、１０
％の水酸化ナトリウム水溶液を１０４ｇ（０．５２モ
ル）徐々に加えた。その後、７０〜８０℃に加熱して８
時間撹拌した。
【００６８】次に、反応液を４０℃まで冷却し、分液し
て２回水洗した後に有機層を減圧下で濃縮したところ、
上記式（４）で示されるテトラキス−（７−ヒドロキシ
−２，５−ジチアヘプチル）メタンが７０．８ｇ得られ
た。これのペンタエリスリチルテトラブロミドに対する
収率は、８９．１％であった。
て２回水洗した後に有機層を減圧下で濃縮したところ、
上記式（４）で示されるテトラキス−（７−ヒドロキシ
−２，５−ジチアヘプチル）メタンが７０．８ｇ得られ
た。これのペンタエリスリチルテトラブロミドに対する
収率は、８９．１％であった。
【００６９】得られたテトラキス−（７−ヒドロキシ−
２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およびＮ
ＭＲ分析結果をそれぞれ表３および表４に示す。
２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およびＮ
ＭＲ分析結果をそれぞれ表３および表４に示す。
【００７０】
【表３】
【００７１】
【表４】
【００７２】実施例４ 撹拌機、温度計および冷却器を備えた１，０００ｍｌの
４つ口フラスコを用意し、これに２−［（２−メルカプ
トエチル）チオ］エタノールを７１．８ｇ（０．５２モ
ル）、ペンタエリスリチルテトラブロミドを５０ｇ
（０．１２９モル）および触媒としてのテトラ−ｎ−ブ
チルホスホニウムブロミドを１．７ｇ（０．００５モ
ル）加えた。さらに、トルエンを３２５ｇ添加し、１０
％の水酸化ナトリウム水溶液を１０４ｇ（０．５２モ
ル）徐々に加えた。その後、７０〜８０℃に加熱して８
時間撹拌した。
４つ口フラスコを用意し、これに２−［（２−メルカプ
トエチル）チオ］エタノールを７１．８ｇ（０．５２モ
ル）、ペンタエリスリチルテトラブロミドを５０ｇ
（０．１２９モル）および触媒としてのテトラ−ｎ−ブ
チルホスホニウムブロミドを１．７ｇ（０．００５モ
ル）加えた。さらに、トルエンを３２５ｇ添加し、１０
％の水酸化ナトリウム水溶液を１０４ｇ（０．５２モ
ル）徐々に加えた。その後、７０〜８０℃に加熱して８
時間撹拌した。
【００７３】次に、反応液を４０℃まで冷却し、分液し
て２回水洗した後に有機層を減圧下で濃縮した。この濃
縮液を３５％塩酸２１４．８ｇ（１．６１モル）に溶解
し、チオ尿素１０７．６ｇ（１．３８モル）を加えて１
００〜１１０℃で５時間撹拌した。その後、反応液を室
温まで冷却し、２８％アンモニア水１０４．７ｇ（１．
７３モル）を２０〜４０℃で加えてアルカリ性とし、１
００℃で２時間撹拌した。
て２回水洗した後に有機層を減圧下で濃縮した。この濃
縮液を３５％塩酸２１４．８ｇ（１．６１モル）に溶解
し、チオ尿素１０７．６ｇ（１．３８モル）を加えて１
００〜１１０℃で５時間撹拌した。その後、反応液を室
温まで冷却し、２８％アンモニア水１０４．７ｇ（１．
７３モル）を２０〜４０℃で加えてアルカリ性とし、１
００℃で２時間撹拌した。
【００７４】次に、反応液を室温まで冷却し、トルエン
３５０ｍｌを加えて抽出操作を行い有機層を分取した。
この有機層を５％の塩酸１００ｍｌで洗浄後、水１００
ｍｌを用いて２回洗浄し、硫酸マグネシウムを２０ｇ加
えて乾燥した。さらに、有機層を減圧濃縮し、濃縮物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離したと
ころ、上記式（１）で示されるテトラキス−（７−メル
カプト−２，５−ジチアヘプチル）メタンが７１．６ｇ
（０．１０５モル）得られた。これのペンタエリスリチ
ルテトラブロミドに対する収率は、８１．４％であっ
た。
３５０ｍｌを加えて抽出操作を行い有機層を分取した。
この有機層を５％の塩酸１００ｍｌで洗浄後、水１００
ｍｌを用いて２回洗浄し、硫酸マグネシウムを２０ｇ加
えて乾燥した。さらに、有機層を減圧濃縮し、濃縮物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離したと
ころ、上記式（１）で示されるテトラキス−（７−メル
カプト−２，５−ジチアヘプチル）メタンが７１．６ｇ
（０．１０５モル）得られた。これのペンタエリスリチ
ルテトラブロミドに対する収率は、８１．４％であっ
た。
【００７５】得られたテトラキス−（７−メルカプト−
２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およびＮ
ＭＲ分析結果は、実施例１の場合と同様であった。
２，５−ジチアヘプチル）メタンの元素分析値およびＮ
ＭＲ分析結果は、実施例１の場合と同様であった。
【００７６】
【発明の効果】本発明によれば、硫黄原子の含有率が高
く、しかも多官能性で臭気が少ない、上記式（１）で示
される新規なメルカプト化合物が提供される。
く、しかも多官能性で臭気が少ない、上記式（１）で示
される新規なメルカプト化合物が提供される。
【００７７】また、本発明に係るメルカプト化合物の製
造方法によれば、硫黄原子の含有率が高く、しかも多官
能性で臭気が少ない、上記式（１）で示される新規なメ
ルカプト化合物を製造することができる。
造方法によれば、硫黄原子の含有率が高く、しかも多官
能性で臭気が少ない、上記式（１）で示される新規なメ
ルカプト化合物を製造することができる。
【００７８】さらに、本発明によれば、本発明に係るメ
ルカプト化合物を製造するための中間体として有用な、
新規なテトラオール化合物が提供される。
ルカプト化合物を製造するための中間体として有用な、
新規なテトラオール化合物が提供される。
【００７９】さらに、本発明に係るテトラオール化合物
の製造方法によれば、本発明に係るメルカプト化合物を
製造するための中間体として有用な、新規なテトラオー
ル化合物を製造することができる。
の製造方法によれば、本発明に係るメルカプト化合物を
製造するための中間体として有用な、新規なテトラオー
ル化合物を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 道夫 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住 友精化株式会社第１研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】下記の式（１）で示されるメルカプト化合
物。 【化１】 - 【請求項２】ビス−（２−メルカプトエチル）サルファ
イトとペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基の存
在下で反応させる工程を含む、下記の式（１）で示され
るメルカプト化合物の製造方法。 【化２】 - 【請求項３】前記ペンタエリスリチルテトラハライドが
ペンタエリスリチルテトラブロミドである、請求項２に
記載のメルカプト化合物の製造方法。 - 【請求項４】ビス−（２−メルカプトエチル）サルファ
イトと下記の一般式（２）で示されるペンタエリスリト
ールスルホン酸エステルとを塩基の存在下で反応させる
工程を含む、下記の式（１）で示されるメルカプト化合
物の製造方法。 【化３】 【化４】 〔一般式（２）中、Ｒは、炭素数が１〜４のアルキル
基、フェニル基、クロロフェニル基、ニトロフェニル基
またはトリル基である。〕 - 【請求項５】下記の式（３）で示されるメルカプト化合
物とペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基および
触媒の存在下で反応させて下記の式（４）で示されるテ
トラオール化合物を得る工程と、 前記テトラオール化合物を鉱酸の存在下でチオ尿素と反
応させ、前記テトラオール化合物と前記チオ尿素との反
応生成物を得る工程と、 前記反応生成物を塩基を用いてアルカリ性にすることに
より加水分解する工程と、を含む下記の式（１）で示さ
れるメルカプト化合物の製造方法。 【化５】 【化６】 【化７】 - 【請求項６】前記ペンタエリスリチルテトラハライドが
ペンタエリスリチルテトラブロミドである、請求項５に
記載のメルカプト化合物の製造方法。 - 【請求項７】前記触媒が４級アンモニウム塩である、請
求項５または６に記載のメルカプト化合物の製造方法。 - 【請求項８】前記触媒が４級ホスホニウム塩である、請
求項５または６に記載のメルカプト化合物の製造方法。 - 【請求項９】下記の式（４）で示されるテトラオール化
合物。 【化８】 - 【請求項１０】下記の式（３）で示されるメルカプト化
合物とペンタエリスリチルテトラハライドとを塩基およ
び触媒の存在下で反応させる工程を含む、下記の式
（４）で示されるテトラオール化合物の製造方法。 【化９】 【化１０】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10317396A JP3794651B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | メルカプト化合物、メルカプト化合物の製造方法、テトラオール化合物およびテトラオール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10317396A JP3794651B2 (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | メルカプト化合物、メルカプト化合物の製造方法、テトラオール化合物およびテトラオール化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| WO1998037114A1 (fr) * | 1997-02-19 | 1998-08-27 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Composition durcissable et materiau optique prepare a partir de celle-ci |
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| CN115385833A (zh) * | 2022-09-05 | 2022-11-25 | 益丰新材料股份有限公司 | 一种降低多巯基化合物气味的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05320301A (ja) * | 1992-05-22 | 1993-12-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 含硫ウレタン系樹脂及びレンズとその製造方法 |
| JPH06116337A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-04-26 | Tokuyama Soda Co Ltd | 重合性組成物 |
| JPH07252207A (ja) * | 1994-01-26 | 1995-10-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 新規なポリチオール及びそれを用いた含硫ウレタン系プラスチックレンズ |
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05320301A (ja) * | 1992-05-22 | 1993-12-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 含硫ウレタン系樹脂及びレンズとその製造方法 |
| JPH06116337A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-04-26 | Tokuyama Soda Co Ltd | 重合性組成物 |
| JPH07252207A (ja) * | 1994-01-26 | 1995-10-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 新規なポリチオール及びそれを用いた含硫ウレタン系プラスチックレンズ |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998037114A1 (fr) * | 1997-02-19 | 1998-08-27 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Composition durcissable et materiau optique prepare a partir de celle-ci |
| JP2001039944A (ja) * | 1999-07-27 | 2001-02-13 | Mitsui Chemicals Inc | 有機メルカプト化合物の製造方法 |
| JP5358182B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2013-12-04 | 三井化学株式会社 | 光学材料用（ポリ）チオール化合物の製造方法およびそれを含む重合性組成物 |
| JP5373226B1 (ja) * | 2012-08-14 | 2013-12-18 | 三井化学株式会社 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその用途 |
| WO2014027665A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 三井化学株式会社 | ポリチオール組成物、光学材料用重合性組成物およびその用途 |
| US9777103B2 (en) | 2012-08-14 | 2017-10-03 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polythiol composition, polymerizable composition for optical material and use thereof |
| CN108559043A (zh) * | 2012-08-14 | 2018-09-21 | 三井化学株式会社 | 多硫醇组合物、光学材料用聚合性组合物及其用途 |
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