JPH09286757A - 芳香族カルボン酸の製造方法 - Google Patents
芳香族カルボン酸の製造方法Info
- Publication number
- JPH09286757A JPH09286757A JP8098065A JP9806596A JPH09286757A JP H09286757 A JPH09286757 A JP H09286757A JP 8098065 A JP8098065 A JP 8098065A JP 9806596 A JP9806596 A JP 9806596A JP H09286757 A JPH09286757 A JP H09286757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carboxylic acid
- aromatic carboxylic
- aqueous medium
- reaction
- transition metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 25
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims abstract description 16
- -1 transition metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052721 tungsten Chemical group 0.000 claims description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical group [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010937 tungsten Chemical group 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 30
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- GOUHYARYYWKXHS-UHFFFAOYSA-N 4-formylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=O)C=C1 GOUHYARYYWKXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 7
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical group CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- RZTDESRVPFKCBH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-(4-methylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C)=CC=C1C1=CC=C(C)C=C1 RZTDESRVPFKCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYNBBAUIYTWBF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=C(C)C=CC2=CC(C)=CC=C21 YGYNBBAUIYTWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical group CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N m-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1 GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- RPZOPDOUASNMNP-UHFFFAOYSA-N trimethylbenzaldehyde Natural products CC1=CC=C(C=O)C(C)=C1C RPZOPDOUASNMNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MARCAKLHFUYDJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-xylene;hydrate Chemical compound O.CC1=CC=CC=C1C MARCAKLHFUYDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNEATYXSUBPPKP-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diisopropylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1 UNEATYXSUBPPKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPPWGCYEYAMHDT-UHFFFAOYSA-N 1,4-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(C)C)C=C1 SPPWGCYEYAMHDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GISVICWQYMUPJF-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dimethylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=O)C(C)=C1 GISVICWQYMUPJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYNFCHNNOHNJFG-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=O DYNFCHNNOHNJFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHDNUPHSDMOGCR-UHFFFAOYSA-N 3-Formylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=O)=C1 UHDNUPHSDMOGCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Chemical group 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910004806 Na2 SiO3.9H2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000000804 electron spin resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- OVWYEQOVUDKZNU-UHFFFAOYSA-N m-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=CC(C=O)=C1 OVWYEQOVUDKZNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQDQMRZGMILNMQ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarbaldehyde Chemical compound C1=C(C=O)C=CC2=CC(C=O)=CC=C21 IQDQMRZGMILNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- BTFQKIATRPGRBS-UHFFFAOYSA-N o-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=O BTFQKIATRPGRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N p-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=O)C=C1 FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005185 salting out Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N silicic acid;trioxotungsten Chemical compound O[Si](O)(O)O.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水系媒体中で、アルキル基を有する芳香族化
合物を分子状酸素で酸化して芳香族カルボン酸を製造す
る方法の改良法を提供する。 【解決手段】 アルキル置換基または一部酸化したアル
キル置換基を有する芳香族化合物を、水系媒体中で分子
状酸素を含有するガスにより酸化して芳香族カルボン酸
を製造する方法において、欠損構造部位を有するヘテロ
ポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で、100℃
以上で加熱処理してなる触媒を用いることを特徴とする
芳香族カルボン酸の製造方法。
合物を分子状酸素で酸化して芳香族カルボン酸を製造す
る方法の改良法を提供する。 【解決手段】 アルキル置換基または一部酸化したアル
キル置換基を有する芳香族化合物を、水系媒体中で分子
状酸素を含有するガスにより酸化して芳香族カルボン酸
を製造する方法において、欠損構造部位を有するヘテロ
ポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で、100℃
以上で加熱処理してなる触媒を用いることを特徴とする
芳香族カルボン酸の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルキル置換基ま
たは一部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物
を酸化して、樹脂原料や医農薬原料等として工業的に有
用な芳香族カルボン酸を製造する方法に関するものであ
る。
たは一部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物
を酸化して、樹脂原料や医農薬原料等として工業的に有
用な芳香族カルボン酸を製造する方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、芳香族カルボン酸を工業的に製造
する方法としては、アルキル置換基または一部酸化した
アルキル置換基を有する芳香族化合物を、例えば、コバ
ルト、マンガンなどの重金属化合物、及び臭素もしくは
臭素化合物からなる触媒の存在下、酢酸などの低級アル
カン酸を溶媒として液相中で酸化する方法が実施されて
いる。しかしながら、この方法では溶媒として用いた酢
酸などの低級アルカン酸が酸化、燃焼等により相当量消
費されるため、製造コストが高くなるという問題があ
る。
する方法としては、アルキル置換基または一部酸化した
アルキル置換基を有する芳香族化合物を、例えば、コバ
ルト、マンガンなどの重金属化合物、及び臭素もしくは
臭素化合物からなる触媒の存在下、酢酸などの低級アル
カン酸を溶媒として液相中で酸化する方法が実施されて
いる。しかしながら、この方法では溶媒として用いた酢
酸などの低級アルカン酸が酸化、燃焼等により相当量消
費されるため、製造コストが高くなるという問題があ
る。
【0003】このような問題点を解決するために、溶媒
として低級アルカン酸の代わりに水を用いる方法も提案
されているが(特公昭39−13921号、特開昭58
−85840号、特開昭60−18403号など)、反
応速度が遅く実用的でない。そこで、触媒として酸化ル
テニウムを用いる方法(特開平3−130247)、触
媒として重金属及び臭素化合物、助触媒としてケイタン
グステン酸やリンモリブデン酸などのヘテロポリ酸を併
用する方法(特開平2−200656)などの水溶媒で
の改良方法が提案されている。また、本発明者らを含む
グループでも、先に水溶媒法の改良として、欠損構造部
位を有するヘテロポリ酸骨格に遷移金属を組み込んだ化
合物を触媒として用いる方法を提案している(特開平8
−53391)。
として低級アルカン酸の代わりに水を用いる方法も提案
されているが(特公昭39−13921号、特開昭58
−85840号、特開昭60−18403号など)、反
応速度が遅く実用的でない。そこで、触媒として酸化ル
テニウムを用いる方法(特開平3−130247)、触
媒として重金属及び臭素化合物、助触媒としてケイタン
グステン酸やリンモリブデン酸などのヘテロポリ酸を併
用する方法(特開平2−200656)などの水溶媒で
の改良方法が提案されている。また、本発明者らを含む
グループでも、先に水溶媒法の改良として、欠損構造部
位を有するヘテロポリ酸骨格に遷移金属を組み込んだ化
合物を触媒として用いる方法を提案している(特開平8
−53391)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような改良方法もまだ実用段階には至らず、更なる改良
が望まれている。本発明の目的は、低コスト、かつ、高
収率に芳香族カルボン酸を製造する工業的により有利な
方法を提案することにある。
ような改良方法もまだ実用段階には至らず、更なる改良
が望まれている。本発明の目的は、低コスト、かつ、高
収率に芳香族カルボン酸を製造する工業的により有利な
方法を提案することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、アルキル置換基また
は一部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物
を、水系媒体中で酸化する際に、特定の方法で合成した
欠損構造部位を有するヘテロポリ酸骨格に遷移金属を組
み込んだ化合物を触媒として用いた場合に、従来公知の
方法で調製したものより目的の芳香族カルボン酸が短時
間に高収率で得られることを見い出し本発明に到達し
た。即ち、本発明は、アルキル置換基または一部酸化し
たアルキル置換基を有する芳香族化合物を、水系媒体中
で分子状酸素を含有するガスにより酸化して芳香族カル
ボン酸を製造する方法において、欠損構造部位を有する
ヘテロポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で、1
00℃以上で加熱処理してなる触媒を用いることを特徴
とする芳香族カルボン酸の製造方法に存する。
題を解決すべく鋭意検討した結果、アルキル置換基また
は一部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物
を、水系媒体中で酸化する際に、特定の方法で合成した
欠損構造部位を有するヘテロポリ酸骨格に遷移金属を組
み込んだ化合物を触媒として用いた場合に、従来公知の
方法で調製したものより目的の芳香族カルボン酸が短時
間に高収率で得られることを見い出し本発明に到達し
た。即ち、本発明は、アルキル置換基または一部酸化し
たアルキル置換基を有する芳香族化合物を、水系媒体中
で分子状酸素を含有するガスにより酸化して芳香族カル
ボン酸を製造する方法において、欠損構造部位を有する
ヘテロポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で、1
00℃以上で加熱処理してなる触媒を用いることを特徴
とする芳香族カルボン酸の製造方法に存する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明について詳細に説明する。
本発明においては、原料としてアルキル置換基または一
部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物が用い
られる。アルキル置換基としては、炭素数が通常1〜8
程度のものが用いられるが、好ましくはメチル基、エチ
ル基、n-プロピル基、i-プロピル基などの炭素数1から
3のアルキル基が挙げられる。また、一部酸化したアル
キル基の炭素数も通常1〜8程度である。このような一
部酸化したアルキル基としては、例えばホルミル基、カ
ルボキシル基、ヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
原料の芳香族化合物はこれらの置換基を2つ以上有して
いてもよい。複数の置換基を有する場合は、各々置換基
は同一でも異なるものでもよい。なお、芳香族化合物の
芳香核には、ベンゼン環の様な単環のみならず、ナフタ
レン環のような多環式芳香核も含まれる。
本発明においては、原料としてアルキル置換基または一
部酸化したアルキル置換基を有する芳香族化合物が用い
られる。アルキル置換基としては、炭素数が通常1〜8
程度のものが用いられるが、好ましくはメチル基、エチ
ル基、n-プロピル基、i-プロピル基などの炭素数1から
3のアルキル基が挙げられる。また、一部酸化したアル
キル基の炭素数も通常1〜8程度である。このような一
部酸化したアルキル基としては、例えばホルミル基、カ
ルボキシル基、ヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
原料の芳香族化合物はこれらの置換基を2つ以上有して
いてもよい。複数の置換基を有する場合は、各々置換基
は同一でも異なるものでもよい。なお、芳香族化合物の
芳香核には、ベンゼン環の様な単環のみならず、ナフタ
レン環のような多環式芳香核も含まれる。
【0007】以上のアルキル置換基または一部酸化した
アルキル置換基を有する芳香族化合物としては、トルエ
ン、エチレン、イソプロピルベンゼン、4,4’−ジメ
チルビフェニル、o−,m−又はp−キシレン、o−,
m−又はp−ジイソプロピルベンゼン、プソイドキュメ
ン(1,2,4−トリメチルベンゼン)、2,6−ジメ
チルナフタレン等のアルキル基の置換した芳香族化合
物;ベンスアルデヒド、o−,m−又はp−トルアルデ
ヒド、2,4−ジメチルベンズアルデヒド、2,4,5
−トリメチルベンズアルデヒド等のホルミル基の置換し
た芳香族化合物;ベンジルアルコール等のヒドロキシア
ルキル基の置換した芳香族化合物;o−,m−又はp−
トルイル酸、o−,m−又はp−カルボキシベンズアル
デヒド、2,6−ナフタレンジカルバルデヒド、1−ナ
フタレンジカルバルデヒド等のカルボキシル基の置換し
た化合物あるいはこれらの混合物などが挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
アルキル置換基を有する芳香族化合物としては、トルエ
ン、エチレン、イソプロピルベンゼン、4,4’−ジメ
チルビフェニル、o−,m−又はp−キシレン、o−,
m−又はp−ジイソプロピルベンゼン、プソイドキュメ
ン(1,2,4−トリメチルベンゼン)、2,6−ジメ
チルナフタレン等のアルキル基の置換した芳香族化合
物;ベンスアルデヒド、o−,m−又はp−トルアルデ
ヒド、2,4−ジメチルベンズアルデヒド、2,4,5
−トリメチルベンズアルデヒド等のホルミル基の置換し
た芳香族化合物;ベンジルアルコール等のヒドロキシア
ルキル基の置換した芳香族化合物;o−,m−又はp−
トルイル酸、o−,m−又はp−カルボキシベンズアル
デヒド、2,6−ナフタレンジカルバルデヒド、1−ナ
フタレンジカルバルデヒド等のカルボキシル基の置換し
た化合物あるいはこれらの混合物などが挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
【0008】本発明では、触媒として欠損構造部位を有
するヘテロポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中
で、特定の温度条件下で加熱処理したものを用いること
を特徴とする。この欠損構造部位を有するヘテロポリ酸
イオンとしては、下記の一般式(1)で表される欠損型
ケギン型ヘテロポリ酸イオン
するヘテロポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中
で、特定の温度条件下で加熱処理したものを用いること
を特徴とする。この欠損構造部位を有するヘテロポリ酸
イオンとしては、下記の一般式(1)で表される欠損型
ケギン型ヘテロポリ酸イオン
【0009】
【化3】[YnM11O39](12-n)- (1) (式(1)においてMはモリブデン又はタングステンを
表し、Yはケイ素、リン又はゲルマニウムを表す。nは
1〜11の整数を表す)、又は、下記の一般式(2)で
表される欠損型ドーソン型ヘテロポリ酸イオン、
表し、Yはケイ素、リン又はゲルマニウムを表す。nは
1〜11の整数を表す)、又は、下記の一般式(2)で
表される欠損型ドーソン型ヘテロポリ酸イオン、
【0010】
【化4】[YnM17O61](20-2n)- (2) (式(2)においてMはモリブデン又はタングステンを
表し、Yはケイ素、リン又はゲルマニウムを表す。nは
1〜9の整数を表す)などの、ポリヘテロ酸構造部位が
1つ欠損したものが選ばれる。これらのヘテロポリ酸イ
オンにおいては、ヘテロ原子YとしてはSi(ケイ
素)、ポリ原子MとしてはW(タングステン)がその触
媒活性の高さの点から好ましい。また、ヘテロポリ酸イ
オンの対カチオンは特に制限はなく、プロトン、N
a+,K+等のアルカリ金属イオン、テトラアルキルアン
モニウムカチオン(NR4)+などが例示される。
表し、Yはケイ素、リン又はゲルマニウムを表す。nは
1〜9の整数を表す)などの、ポリヘテロ酸構造部位が
1つ欠損したものが選ばれる。これらのヘテロポリ酸イ
オンにおいては、ヘテロ原子YとしてはSi(ケイ
素)、ポリ原子MとしてはW(タングステン)がその触
媒活性の高さの点から好ましい。また、ヘテロポリ酸イ
オンの対カチオンは特に制限はなく、プロトン、N
a+,K+等のアルカリ金属イオン、テトラアルキルアン
モニウムカチオン(NR4)+などが例示される。
【0011】一方、遷移金属塩としては、通常、第5〜
11族元素から選ばれた1種以上の塩化物等の塩が選ば
れるが、遷移金属として、好ましくは第5族のV(バナ
ジウム)、第6族のCr(クロム),Mo(モリブデ
ン)、第7族のMn(マンガン)、第8族のFe
(鉄),Ru(ルテニウム),第9族のCo(コバル
ト),Rh(ロジウム),第10族のNi(ニッケ
ル),Pd(パラジウム)、第11族の銅である。これ
らのうち、その触媒活性と選択性の高さから、好ましく
は第8族の遷移金属、特に好ましくはRu(ルテニウ
ム)が選ばれる。
11族元素から選ばれた1種以上の塩化物等の塩が選ば
れるが、遷移金属として、好ましくは第5族のV(バナ
ジウム)、第6族のCr(クロム),Mo(モリブデ
ン)、第7族のMn(マンガン)、第8族のFe
(鉄),Ru(ルテニウム),第9族のCo(コバル
ト),Rh(ロジウム),第10族のNi(ニッケ
ル),Pd(パラジウム)、第11族の銅である。これ
らのうち、その触媒活性と選択性の高さから、好ましく
は第8族の遷移金属、特に好ましくはRu(ルテニウ
ム)が選ばれる。
【0012】欠損構造部位を有するヘテロポリ酸イオン
と遷移金属塩を水系媒体中で反応させる場合、遷移金属
塩はヘテロポリ酸イオンに対して、通常0.1〜2モル
倍量の範囲から選ばれる。ヘテロポリ酸イオンに対し大
過剰に遷移金属塩が存在する場合には、ヘテロポリ酸イ
オン欠損構造部位に組み込まれず大過剰に存在する高価
な遷移金属塩が、酸化反応条件下で、触媒の不活性化、
ないしは燃焼等の望ましくない副反応を引き起こす可能
性のある化合物に変化する可能性があるので好ましくな
い。また、水系媒体としては、水または水を主成分とす
る溶液が用いられる。この場合、ヘテロポリ酸イオンの
安定性向上を目的としてpHが通常5〜10程度の緩衝
液を使用してもよい。
と遷移金属塩を水系媒体中で反応させる場合、遷移金属
塩はヘテロポリ酸イオンに対して、通常0.1〜2モル
倍量の範囲から選ばれる。ヘテロポリ酸イオンに対し大
過剰に遷移金属塩が存在する場合には、ヘテロポリ酸イ
オン欠損構造部位に組み込まれず大過剰に存在する高価
な遷移金属塩が、酸化反応条件下で、触媒の不活性化、
ないしは燃焼等の望ましくない副反応を引き起こす可能
性のある化合物に変化する可能性があるので好ましくな
い。また、水系媒体としては、水または水を主成分とす
る溶液が用いられる。この場合、ヘテロポリ酸イオンの
安定性向上を目的としてpHが通常5〜10程度の緩衝
液を使用してもよい。
【0013】本発明の触媒として使用する場合は、ヘテ
ロポリ酸イオンと遷移金属塩を、水系媒体中で、100
℃以上、特に120〜300℃の高温下で加熱処理して
なる化合物を使用する。該処理の際の圧力は、その温度
において、反応器中で液相が保持できる圧力であればよ
く、液相を保つことのできる下限圧力より通常0.5M
Pa以上、好ましくは1MPa以上高い圧力が用いら
れ、上限は特に制限はないが、反応器の耐圧度などを考
慮する。また、その加熱処理時間は、通常0.1〜10
時間、好ましくは0.5〜2時間である。また、得られ
た触媒の組成、構造は、元素分析、IR、UV・VIS
スペクトル分析、熱分析などで同定することができるほ
か、その微細構造についてもNMR、ESR、ラマンス
ペクトル、X線分析、質量分析などでの解析が可能であ
る。
ロポリ酸イオンと遷移金属塩を、水系媒体中で、100
℃以上、特に120〜300℃の高温下で加熱処理して
なる化合物を使用する。該処理の際の圧力は、その温度
において、反応器中で液相が保持できる圧力であればよ
く、液相を保つことのできる下限圧力より通常0.5M
Pa以上、好ましくは1MPa以上高い圧力が用いら
れ、上限は特に制限はないが、反応器の耐圧度などを考
慮する。また、その加熱処理時間は、通常0.1〜10
時間、好ましくは0.5〜2時間である。また、得られ
た触媒の組成、構造は、元素分析、IR、UV・VIS
スペクトル分析、熱分析などで同定することができるほ
か、その微細構造についてもNMR、ESR、ラマンス
ペクトル、X線分析、質量分析などでの解析が可能であ
る。
【0014】なお、欠損構造部位を持つヘテロポリ酸イ
オンと遷移金属塩を水中で80〜90℃で反応させ、遷
移金属を含有したヘテロポリ酸化合物を合成する方法
が、例えば、R. Neumann et al., J. Am. Chem. Soc.,
112(1990)6025等に記載があるが、該方法で得られた化
合物は、本発明で対象とする芳香族カルボン酸を製造す
るための酸化反応においては、従来の方法で合成された
ものよりも、触媒としての選択性、安定性に優れてい
る。この原因として、いずれの方法においても欠損構造
部位を有するヘテロポリ酸骨格に遷移金属を組み込んだ
化合物が生成する点は共通しているが、本発明の方法で
は従来法の条件よりさらに高い温度で反応させることに
より、生成化合物の微細構造の一部が変化して触媒活性
の発現に適した状態が形成されているためではないかと
考えられる。
オンと遷移金属塩を水中で80〜90℃で反応させ、遷
移金属を含有したヘテロポリ酸化合物を合成する方法
が、例えば、R. Neumann et al., J. Am. Chem. Soc.,
112(1990)6025等に記載があるが、該方法で得られた化
合物は、本発明で対象とする芳香族カルボン酸を製造す
るための酸化反応においては、従来の方法で合成された
ものよりも、触媒としての選択性、安定性に優れてい
る。この原因として、いずれの方法においても欠損構造
部位を有するヘテロポリ酸骨格に遷移金属を組み込んだ
化合物が生成する点は共通しているが、本発明の方法で
は従来法の条件よりさらに高い温度で反応させることに
より、生成化合物の微細構造の一部が変化して触媒活性
の発現に適した状態が形成されているためではないかと
考えられる。
【0015】本発明の方法で調製した触媒は、そのまま
の溶液、または溶液から溶媒を留去、晶析等により分離
した化合物の形で、アルキル置換基または一部酸化した
アルキル置換基を有する芳香族化合物の酸化反応に供す
ることができる。本発明の反応は水性媒体中の液相で実
施されるが、水性媒体としては、水または水を主成分と
する溶液が用いられる。また、水系媒体中に燐酸塩、炭
酸塩、ほう酸塩などのpH緩衝剤を存在させて触媒中の
ヘテロポリ酸イオンをより安定化させることも可能であ
る。この場合pHは通常5〜10である。
の溶液、または溶液から溶媒を留去、晶析等により分離
した化合物の形で、アルキル置換基または一部酸化した
アルキル置換基を有する芳香族化合物の酸化反応に供す
ることができる。本発明の反応は水性媒体中の液相で実
施されるが、水性媒体としては、水または水を主成分と
する溶液が用いられる。また、水系媒体中に燐酸塩、炭
酸塩、ほう酸塩などのpH緩衝剤を存在させて触媒中の
ヘテロポリ酸イオンをより安定化させることも可能であ
る。この場合pHは通常5〜10である。
【0016】水性媒体と反応基質である芳香族化合物と
の重量比は、通常1:1から100:1の範囲で選ばれ
る。触媒の使用量は、反応溶液あたりで、通常10〜1
0,000ppm、好ましくは100〜5000ppm
の範囲から選ばれる。反応に使用する分子状酸素として
は、酸素単独または窒素等の不活性ガスとの混合ガス及
び空気などが挙げられる。これらの分子状酸素又は分子
状酸素含有ガスは、通常、連続的に反応系に吹き込みな
がら供給される。
の重量比は、通常1:1から100:1の範囲で選ばれ
る。触媒の使用量は、反応溶液あたりで、通常10〜1
0,000ppm、好ましくは100〜5000ppm
の範囲から選ばれる。反応に使用する分子状酸素として
は、酸素単独または窒素等の不活性ガスとの混合ガス及
び空気などが挙げられる。これらの分子状酸素又は分子
状酸素含有ガスは、通常、連続的に反応系に吹き込みな
がら供給される。
【0017】反応温度は、通常100〜300℃、好ま
しくは150〜230℃であり、反応圧力は、その反応
温度において反応器中で液相が保持できる圧力以上であ
ればよく、通常0.1〜10MPa、好ましくは1〜8
MPaである。また、反応時間は、通常0.1〜8時
間、好ましくは1〜5時間の範囲で選ばれる。なお、本
発明の反応系においては、反応基質である芳香族化合物
は反応基質は水性媒体に不溶ないし難溶であるので2層
分離しやすい。そこで、反応速度を高めるために、必要
に応じて、相溶解剤を加えて均一層を形成することもで
きる。かかる相溶解剤としては、反応原料以外の、前記
で例示したような一部酸化したアルキル置換基を有する
芳香族化合物が好ましく、例えば、p−キシレンの酸化
反応において、水とp−キシレンの相溶解剤としてp−
トルイル酸を使用することができる。
しくは150〜230℃であり、反応圧力は、その反応
温度において反応器中で液相が保持できる圧力以上であ
ればよく、通常0.1〜10MPa、好ましくは1〜8
MPaである。また、反応時間は、通常0.1〜8時
間、好ましくは1〜5時間の範囲で選ばれる。なお、本
発明の反応系においては、反応基質である芳香族化合物
は反応基質は水性媒体に不溶ないし難溶であるので2層
分離しやすい。そこで、反応速度を高めるために、必要
に応じて、相溶解剤を加えて均一層を形成することもで
きる。かかる相溶解剤としては、反応原料以外の、前記
で例示したような一部酸化したアルキル置換基を有する
芳香族化合物が好ましく、例えば、p−キシレンの酸化
反応において、水とp−キシレンの相溶解剤としてp−
トルイル酸を使用することができる。
【0018】本発明により得られる芳香族カルボン酸の
分離精製は、濾過、遠心分離、蒸留などの常法により実
施される。なお、生成物を分離した後の触媒または触媒
を含む溶液は、反応に再度利用することができる。
分離精製は、濾過、遠心分離、蒸留などの常法により実
施される。なお、生成物を分離した後の触媒または触媒
を含む溶液は、反応に再度利用することができる。
【0019】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り以下の実施例に限定されるものではない。 実施例1 (欠損型ケイタングステン酸塩の合成)フラスコにタン
グステン酸ナトリウム(Na2WO4・2H2O)182
g(0.552mol)及び水300mlを仕込み、還
流させた。この還流液を激しく攪拌しながら、4規定の
塩酸165mlを約1時間かけて滴下した。次いで、こ
の反応液にメタケイ酸ナトリウム(Na2SiO3・9H
2O)14.23g(0.05mol)の水溶液100
mlを加えた。さらに、4規定の塩酸50mlをすばや
く加え、1時間還流した。室温まで冷却し、不溶物を濾
別後、ろ液に塩化カリウム150gを加えて塩析した。
析出した白色固体の欠損型ケイタングステン酸塩(K8
SiW11O39・13H2O)を分離後、さらに母液から
もK8SiW1 1O39・13H2Oを回収した。全収量は1
23g(0.038mol)であり、収率は76%であ
った。
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り以下の実施例に限定されるものではない。 実施例1 (欠損型ケイタングステン酸塩の合成)フラスコにタン
グステン酸ナトリウム(Na2WO4・2H2O)182
g(0.552mol)及び水300mlを仕込み、還
流させた。この還流液を激しく攪拌しながら、4規定の
塩酸165mlを約1時間かけて滴下した。次いで、こ
の反応液にメタケイ酸ナトリウム(Na2SiO3・9H
2O)14.23g(0.05mol)の水溶液100
mlを加えた。さらに、4規定の塩酸50mlをすばや
く加え、1時間還流した。室温まで冷却し、不溶物を濾
別後、ろ液に塩化カリウム150gを加えて塩析した。
析出した白色固体の欠損型ケイタングステン酸塩(K8
SiW11O39・13H2O)を分離後、さらに母液から
もK8SiW1 1O39・13H2Oを回収した。全収量は1
23g(0.038mol)であり、収率は76%であ
った。
【0020】(触媒の合成)オートクレーブに欠損型ケ
イタングステン酸塩5.76g(1.7mmol),塩
化ルテニウム(RuCl3・nH2O)470mg(1.
7mmol)及び水170mlを仕込み、オートクレー
ブ内を窒素ガスにて置換後、窒素ガスで加圧して6MP
aとした。次いで、オートクレーブを200℃に昇温
し、200℃に達した時点で6MPaに加圧のまま30
分間保持した。オートクレーブを冷却し、黒色均一の触
媒溶液を得た。
イタングステン酸塩5.76g(1.7mmol),塩
化ルテニウム(RuCl3・nH2O)470mg(1.
7mmol)及び水170mlを仕込み、オートクレー
ブ内を窒素ガスにて置換後、窒素ガスで加圧して6MP
aとした。次いで、オートクレーブを200℃に昇温
し、200℃に達した時点で6MPaに加圧のまま30
分間保持した。オートクレーブを冷却し、黒色均一の触
媒溶液を得た。
【0021】(p−トルイル酸の酸化反応)還流冷却
器、攪拌機を備えた500mlのチタン製オートクレー
ブに、p−トルイル酸10.35g及び上記で得た触媒
溶液(ルテニウム濃度1000ppm)150gを仕込
んだ。オートクレーブ内を窒素置換した後、200℃ま
で昇温した。200℃に達した時点で空気を圧入して6
MPaの加圧下、39Nl/Hrの速度で空気を2時間
連続的に供給した。次いで、反応器を冷却し、内容物を
取り出し、生成物を濾過分離した。得られた生成物を高
速液体クロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー
により分析した。その結果、p−トルイル酸の転化率が
97%であり、反応したp−トルイル酸に対するテレフ
タル酸の選択率は91%であった。また、その他の生成
物として、二酸化炭素が9%、4−カルボキシベンズア
ルデヒドが0.4%の選択率で生成した。
器、攪拌機を備えた500mlのチタン製オートクレー
ブに、p−トルイル酸10.35g及び上記で得た触媒
溶液(ルテニウム濃度1000ppm)150gを仕込
んだ。オートクレーブ内を窒素置換した後、200℃ま
で昇温した。200℃に達した時点で空気を圧入して6
MPaの加圧下、39Nl/Hrの速度で空気を2時間
連続的に供給した。次いで、反応器を冷却し、内容物を
取り出し、生成物を濾過分離した。得られた生成物を高
速液体クロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー
により分析した。その結果、p−トルイル酸の転化率が
97%であり、反応したp−トルイル酸に対するテレフ
タル酸の選択率は91%であった。また、その他の生成
物として、二酸化炭素が9%、4−カルボキシベンズア
ルデヒドが0.4%の選択率で生成した。
【0022】比較例1 (ルテニウム含有欠損型ケイタングステン酸塩の合成)
ナスフラスコに、欠損型ケイタングステン酸塩3.26
g(1.0mmol)及び水95mlを仕込み、80℃
で15分攪拌することにより均一に溶解させた。この溶
液に少量の水に溶解した塩化ルテニウム294mg
(1.12mmol)をゆっくり加え、約90℃で40
分間反応させた。放冷した後、メタノール100mlを
加え、茶色固体のルテニウム含有欠損型ケイタングステ
ン酸塩(K5SiRu(H2O)W11O39)を析出させ
た。これをメタノールとアセトンで洗浄し、風乾した。
また、母液からは、母液を約10mlまで濃縮後、メタ
ノール50mlを加えることによりルテニウム含有欠損
型ケイタングステン酸塩を回収した。全収量は1.53
g(0.47mmol)であり、収率は47%であっ
た。
ナスフラスコに、欠損型ケイタングステン酸塩3.26
g(1.0mmol)及び水95mlを仕込み、80℃
で15分攪拌することにより均一に溶解させた。この溶
液に少量の水に溶解した塩化ルテニウム294mg
(1.12mmol)をゆっくり加え、約90℃で40
分間反応させた。放冷した後、メタノール100mlを
加え、茶色固体のルテニウム含有欠損型ケイタングステ
ン酸塩(K5SiRu(H2O)W11O39)を析出させ
た。これをメタノールとアセトンで洗浄し、風乾した。
また、母液からは、母液を約10mlまで濃縮後、メタ
ノール50mlを加えることによりルテニウム含有欠損
型ケイタングステン酸塩を回収した。全収量は1.53
g(0.47mmol)であり、収率は47%であっ
た。
【0023】(p-トルイル酸の酸化反応)触媒として上
記で得たルテニウム含有欠損型ケイタングステン酸塩を
3.93gを用いた以外は、実施例1と同様に反応し
た。その結果、p-トルイル酸の転化率が93%であり、
反応したp-トルイル酸に対するテレフタル酸の選択率は
82%であった。また、その他の生成物として、二酸化
炭素が17%、4−カルボキシベンズアルデヒドが1%
の選択率で生成した。
記で得たルテニウム含有欠損型ケイタングステン酸塩を
3.93gを用いた以外は、実施例1と同様に反応し
た。その結果、p-トルイル酸の転化率が93%であり、
反応したp-トルイル酸に対するテレフタル酸の選択率は
82%であった。また、その他の生成物として、二酸化
炭素が17%、4−カルボキシベンズアルデヒドが1%
の選択率で生成した。
【0024】比較例2 p−トルイル酸10.35gとともに、触媒として塩化
ルテニウム0.42gと前記実施例1で調製した欠損型
ケイタングステン酸塩(K8SiW11O39・13H2O)
4.78g及び水150mlを同時に反応器に仕込んで
調製したもの(ルテニウム濃度:1000ppm、ルテ
ニウム:ヘテロポリ酸塩=1:1(モル比))を使用し
た以外は、実施例1と同様に反応した。その結果、p−
トルイル酸の転化率が75%であり、反応したp−トル
イル酸に対するテレフタル酸の選択率は72%であっ
た。なお、その他の生成物として、二酸化炭素が27
%、4−カルボキシベンズアルデヒドが1%の選択率で
生成した。
ルテニウム0.42gと前記実施例1で調製した欠損型
ケイタングステン酸塩(K8SiW11O39・13H2O)
4.78g及び水150mlを同時に反応器に仕込んで
調製したもの(ルテニウム濃度:1000ppm、ルテ
ニウム:ヘテロポリ酸塩=1:1(モル比))を使用し
た以外は、実施例1と同様に反応した。その結果、p−
トルイル酸の転化率が75%であり、反応したp−トル
イル酸に対するテレフタル酸の選択率は72%であっ
た。なお、その他の生成物として、二酸化炭素が27
%、4−カルボキシベンズアルデヒドが1%の選択率で
生成した。
【0025】実施例2 反応原料として基質としてp−トルイル酸の代わりにp
−キシレン10.35gを用いた以外は実施例1と同様
に反応した。その結果、p−キシレンの転化率が89%
であり、反応したp−キシレンに対するテレフタル酸の
選択率は58%であった。また、その他の生成物とし
て、二酸化炭素が16%、4−カルボキシベンズアルデ
ヒドが3%、p−トルイル酸が23%の選択率で生成し
た。なお、生成物のうち、4−カルボキシベンズアルデ
ヒドとp−トルイル酸は、p−キシレンが酸化してテレ
フタル酸を生成する際の反応中間体であり有用な生成物
と考えられる。一方、二酸化炭素は反応系有機物が分解
燃焼して生じるものと推定されるので、その選択率はよ
り小さい方が望ましい。
−キシレン10.35gを用いた以外は実施例1と同様
に反応した。その結果、p−キシレンの転化率が89%
であり、反応したp−キシレンに対するテレフタル酸の
選択率は58%であった。また、その他の生成物とし
て、二酸化炭素が16%、4−カルボキシベンズアルデ
ヒドが3%、p−トルイル酸が23%の選択率で生成し
た。なお、生成物のうち、4−カルボキシベンズアルデ
ヒドとp−トルイル酸は、p−キシレンが酸化してテレ
フタル酸を生成する際の反応中間体であり有用な生成物
と考えられる。一方、二酸化炭素は反応系有機物が分解
燃焼して生じるものと推定されるので、その選択率はよ
り小さい方が望ましい。
【0026】比較例3 触媒として比較例1で調製したルテニウム含有欠損型ケ
イタングステン酸塩を3.93gを用いた以外は、実施
例2と同様に反応した。その結果、p−キシレンの転化
率が100%であり、反応したp−キシレンに対するテ
レフタル酸の選択率は68%であった。なお、その他の
生成物として、二酸化炭素が30%、4−カルボキシベ
ンズアルデヒドが0.8%、p−トルイル酸が1.2%
の選択率で生成した。
イタングステン酸塩を3.93gを用いた以外は、実施
例2と同様に反応した。その結果、p−キシレンの転化
率が100%であり、反応したp−キシレンに対するテ
レフタル酸の選択率は68%であった。なお、その他の
生成物として、二酸化炭素が30%、4−カルボキシベ
ンズアルデヒドが0.8%、p−トルイル酸が1.2%
の選択率で生成した。
【0027】比較例4 p−キシレン10.35gとともに、触媒として塩化ル
テニウム0.42gと前記実施例1で調製した欠損型ケ
イタングステン酸塩(K8SiW11O39・13H2O)
4.78g及び水150mlを同時に反応器に仕込んて
調製したもの(ルテニウム濃度:1000ppm、ルテ
ニウム:ヘテロポリ酸塩=1:1(モル比))を用いた
以外は、実施例2と同様に反応した。その結果、p−キ
シレンの転化率が85%であり、反応したp−キシレン
に対するテレフタル酸の選択率は58%であった。ま
た、その他の生成物として、二酸化炭素が40%の選択
率で生成した。
テニウム0.42gと前記実施例1で調製した欠損型ケ
イタングステン酸塩(K8SiW11O39・13H2O)
4.78g及び水150mlを同時に反応器に仕込んて
調製したもの(ルテニウム濃度:1000ppm、ルテ
ニウム:ヘテロポリ酸塩=1:1(モル比))を用いた
以外は、実施例2と同様に反応した。その結果、p−キ
シレンの転化率が85%であり、反応したp−キシレン
に対するテレフタル酸の選択率は58%であった。ま
た、その他の生成物として、二酸化炭素が40%の選択
率で生成した。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、低コストで、芳香族カ
ルボン酸を効率よく製造することができる。
ルボン酸を効率よく製造することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 アルキル置換基または一部酸化したアル
キル置換基を有する芳香族化合物を、水系媒体中で分子
状酸素を含有するガスにより酸化して芳香族カルボン酸
を製造する方法において、欠損構造部位を有するヘテロ
ポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で、100℃
以上で加熱処理してなる触媒を用いることを特徴とする
芳香族カルボン酸の製造方法。 - 【請求項2】 欠損構造部位を有するヘテロポリ酸イオ
ンが、下記の一般式(1)で表される欠損型ケギン型ヘ
テロポリ酸イオン 【化1】[YnM11O39](12-n)- (1) (式(1)においてMはモリブデン又はタングステンを
表し、Yはケイ素、リン又はゲルマニウムを表す。nは
1〜11の整数を表す)、又は、下記の一般式(2)で
表される欠損型ドーソン型ヘテロポリ酸イオン、 【化2】[YnM17O61](20-2n)- (2) (式(2)においてMはモリブデン又はタングステンを
表し、Yはケイ素、リン又はゲルマニウムを表す。nは
1〜9の整数を表す)のいずれかであることを特徴とす
る請求項1の製造方法。 - 【請求項3】 遷移金属が、第5〜11族元素から選ば
れた1種以上のものであることを特徴とする請求項1又
は2の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8098065A JPH09286757A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
| US08/804,691 US5760288A (en) | 1996-04-19 | 1997-02-25 | Process for producing aromatic carboxylic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8098065A JPH09286757A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09286757A true JPH09286757A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14209937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8098065A Pending JPH09286757A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 芳香族カルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09286757A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6506932B2 (en) | 2000-11-10 | 2003-01-14 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for production of oxygen-containing aromatic compound |
| JP2012500174A (ja) * | 2008-08-19 | 2012-01-05 | イエフペ エネルジ ヌヴェル | 水素化分解のためのタングステンをベースとする空隙ケギンタイプのヘテロポリアニオン |
-
1996
- 1996-04-19 JP JP8098065A patent/JPH09286757A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6506932B2 (en) | 2000-11-10 | 2003-01-14 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for production of oxygen-containing aromatic compound |
| JP2012500174A (ja) * | 2008-08-19 | 2012-01-05 | イエフペ エネルジ ヌヴェル | 水素化分解のためのタングステンをベースとする空隙ケギンタイプのヘテロポリアニオン |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3390169B2 (ja) | 2,6−ナフタレンジカルボン酸の製造方法 | |
| KR830001304B1 (ko) | 방향족 디카복실산의 제조방법 | |
| US9394223B2 (en) | Oxidation process for preparing purified aromatic carboxylic acids | |
| EP1099475B1 (en) | Method for producing aromatic aldehyde by catalytic gaseous phase oxidation of methylbenzene | |
| US4346232A (en) | Process for producing aromatic polycarboxylic acid | |
| US5760288A (en) | Process for producing aromatic carboxylic acid | |
| JP4788022B2 (ja) | 芳香族ポリカルボン酸の製造法 | |
| JPH09286757A (ja) | 芳香族カルボン酸の製造方法 | |
| CN101977884A (zh) | 羰基化合物的制备方法 | |
| JPH0531536B2 (ja) | ||
| JP2000319211A (ja) | アルカンの酸化方法 | |
| US6410753B2 (en) | Process for producing trimellitic anhydride | |
| JPH0853391A (ja) | 芳香族カルボン酸の製造方法 | |
| KR100965633B1 (ko) | 물에서 p-크실렌의 액상 산화에 의한 p-톨루엔산의제조방법 | |
| JPH09286756A (ja) | 芳香族カルボン酸の製造方法 | |
| JP3027162B2 (ja) | ビフェニルカルボン酸の製造方法 | |
| JPS61212531A (ja) | メタクリル酸の製法 | |
| JP2003286221A (ja) | 1,4−ナフタレンジカルボン酸の製造方法 | |
| EP0041778B2 (en) | Oxidation of meta- or para-xylene to iso- or tere-phthalic acid | |
| JP4352191B2 (ja) | ピロメリット酸の製造法 | |
| JPH11342342A (ja) | 酸化触媒及びそれを用いた酸化方法 | |
| JPS60174745A (ja) | 4,4’−ビフェニルジカルボン酸の製造法 | |
| JP4202154B2 (ja) | カーボネート類の製造法 | |
| JPS5935907B2 (ja) | 芳香族ポリカルボン酸の製造法 | |
| JPH09169694A (ja) | 芳香族カルボン酸の製造方法 |