JPH09301927A - 新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料 - Google Patents
新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料Info
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- JPH09301927A JPH09301927A JP8116039A JP11603996A JPH09301927A JP H09301927 A JPH09301927 A JP H09301927A JP 8116039 A JP8116039 A JP 8116039A JP 11603996 A JP11603996 A JP 11603996A JP H09301927 A JPH09301927 A JP H09301927A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Cosmetics (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 皮膚親和性及び使用感に優れ、かつ皮膚に対
して低刺激性である、化粧料の油性原料として有用なエ
ーテル化合物及びその製造方法の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される新規エーテル化
合物、その製造方法及びそれを含有する化粧料。 【化１】 〔式中、R1は水素原子、又は式（II） 【化２】 （式中、R2及びR3はH又はC1-12のアルキル基を示す。）
で表される基を示す。但し３個のR1のうち少なくとも１
個は式（II）で表される基である。〕
して低刺激性である、化粧料の油性原料として有用なエ
ーテル化合物及びその製造方法の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される新規エーテル化
合物、その製造方法及びそれを含有する化粧料。 【化１】 〔式中、R1は水素原子、又は式（II） 【化２】 （式中、R2及びR3はH又はC1-12のアルキル基を示す。）
で表される基を示す。但し３個のR1のうち少なくとも１
個は式（II）で表される基である。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規エーテル化合
物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料に関
し、詳しくは、皮膚親和性及び使用感に優れ、かつ皮膚
に対して低刺激性である、化粧料の油性原料として有用
な新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを
含有する化粧料に関する。
物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料に関
し、詳しくは、皮膚親和性及び使用感に優れ、かつ皮膚
に対して低刺激性である、化粧料の油性原料として有用
な新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを
含有する化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】油性原
料は、化粧料基剤として欠くことのできない極めて重要
なものであり、その特性として、皮膚への潤滑性等の賦
与、疎水性被膜形成によるバリヤー能、経皮水分損失抑
制能等の発現という基本性能のみならず、最近では、皮
膚親和性、皮膚上での感触、皮膚に対する安全性等の面
においても優れた性能が要求されるようになりつつあ
る。このような要求に答えるべく、多くの油性原料が開
発・応用されており、例えば、ミリスチン酸ミリスチル
等の合成エステルはエステル結合の極性による皮膚親和
性を狙ったものである。
料は、化粧料基剤として欠くことのできない極めて重要
なものであり、その特性として、皮膚への潤滑性等の賦
与、疎水性被膜形成によるバリヤー能、経皮水分損失抑
制能等の発現という基本性能のみならず、最近では、皮
膚親和性、皮膚上での感触、皮膚に対する安全性等の面
においても優れた性能が要求されるようになりつつあ
る。このような要求に答えるべく、多くの油性原料が開
発・応用されており、例えば、ミリスチン酸ミリスチル
等の合成エステルはエステル結合の極性による皮膚親和
性を狙ったものである。
【０００３】しかしながら、これら従来の油性原料は皮
膚親和性が十分といえるものではなかった。このよう
に、従来の油性原料においては、高い皮膚親和性、良好
な使用感、及び皮膚に対する安全性のすべてを満足する
ものはなく、これらの性能をすべて具備する油性原料の
開発が望まれていた。
膚親和性が十分といえるものではなかった。このよう
に、従来の油性原料においては、高い皮膚親和性、良好
な使用感、及び皮膚に対する安全性のすべてを満足する
ものはなく、これらの性能をすべて具備する油性原料の
開発が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる実情において本発
明者らは鋭意研究を重ねた結果、特定のエーテル化合物
が、高極性で皮膚親和性に優れ、かつ安全性にも優れる
ものであり、これを油性原料として配合した化粧料は皮
膚へのなじみが良く使用感に優れ、かつ安全性に優れる
ものであることを見出し、本発明を完成した。すなわち
本発明は、一般式（Ｉ）で表される新規エーテル化合物
及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料を提供
するものである。
明者らは鋭意研究を重ねた結果、特定のエーテル化合物
が、高極性で皮膚親和性に優れ、かつ安全性にも優れる
ものであり、これを油性原料として配合した化粧料は皮
膚へのなじみが良く使用感に優れ、かつ安全性に優れる
ものであることを見出し、本発明を完成した。すなわち
本発明は、一般式（Ｉ）で表される新規エーテル化合物
及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料を提供
するものである。
【０００５】
【化４】
【０００６】〔式中、R1は水素原子、又は式（II）
【０００７】
【化５】
【０００８】（式中、R2及びR3は同一又は異なって、水
素原子、あるいは炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基を示す。）で表される基を示す。但し３個のR1は
同一でも異なっていてもよく、少なくとも１個は式（I
I）で表される基である。〕
素原子、あるいは炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基を示す。）で表される基を示す。但し３個のR1は
同一でも異なっていてもよく、少なくとも１個は式（I
I）で表される基である。〕
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１０】本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるエー
テル化合物において、R1は水素原子、又は式（II）で表
される基を示し、３個のR1のうち少なくとも１個は式
（II）で表される基であるが、３個のR1がともに式（I
I）で表される基であるものが特に好ましい。
テル化合物において、R1は水素原子、又は式（II）で表
される基を示し、３個のR1のうち少なくとも１個は式
（II）で表される基であるが、３個のR1がともに式（I
I）で表される基であるものが特に好ましい。
【００１１】式（II）で表される基において、R2及びR3
で示される炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキル基
としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル等の直鎖アルキル基、メチルエチ
ル、メチルプロピル、メチルブチル、メチルペンチル、
メチルヘキシル、ジメチルプロピル、ジメチルブチル、
エチルペンチル、エチルヘキシル、メチルペプチル、エ
チルヘプチル、メチルノニル、メチルウンデシルなどの
分岐鎖アルキル基等を挙げることができる。R2及びR3と
して皮膚親和性や使用感の点より好ましいものは、それ
ぞれ炭素数１〜６の直鎖又は分岐のアルキル基か、いず
れか一方が水素原子で他方が炭素数１〜６の直鎖又は分
岐のアルキル基のものであり、特に好ましいものはそれ
ぞれ炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基か、いず
れか一方が水素原子で他方が炭素数１〜４の直鎖又は分
岐のアルキル基のものである。
で示される炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキル基
としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル等の直鎖アルキル基、メチルエチ
ル、メチルプロピル、メチルブチル、メチルペンチル、
メチルヘキシル、ジメチルプロピル、ジメチルブチル、
エチルペンチル、エチルヘキシル、メチルペプチル、エ
チルヘプチル、メチルノニル、メチルウンデシルなどの
分岐鎖アルキル基等を挙げることができる。R2及びR3と
して皮膚親和性や使用感の点より好ましいものは、それ
ぞれ炭素数１〜６の直鎖又は分岐のアルキル基か、いず
れか一方が水素原子で他方が炭素数１〜６の直鎖又は分
岐のアルキル基のものであり、特に好ましいものはそれ
ぞれ炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基か、いず
れか一方が水素原子で他方が炭素数１〜４の直鎖又は分
岐のアルキル基のものである。
【００１２】本発明の一般式（Ｉ）で表されるエーテル
化合物は、ひまし油又は硬化ひまし油と、一般式(III)
化合物は、ひまし油又は硬化ひまし油と、一般式(III)
【００１３】
【化６】
【００１４】（式中、R2及びR3は前記の意味を示す。）
で表されるカルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を
用いて反応させることにより製造することができる。
で表されるカルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を
用いて反応させることにより製造することができる。
【００１５】本発明で用いられる一般式(III) で表され
るカルボニル化合物としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチルイソプロ
ピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ピナコロン、メチル−ｎ−アミルケトン、
メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチル
−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソ
プロピルケトン、ジイソブチルケトン、２，６，６−ト
リメチルノナノン−４、６−メチル−５−ヘプテ−２−
ノン等のケトン、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ｎ−ブ
チルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ペンチルアル
デヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オ
クチルアルデヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒ
ド、ウンデシルアルデヒド、ドデシルアルデヒド、２−
エチルブチルアルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒ
ド等のアルデヒドが挙げられる。これらのカルボニル化
合物の中では、炭素数３〜６のケトン、炭素数３〜８の
アルデヒドが好ましく、特にｎ−ブチルアルデヒド、イ
ソブチルアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトンが
好ましい。これらのカルボニル化合物は１種又は２種以
上の混合物として用いることができる。
るカルボニル化合物としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチルイソプロ
ピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ピナコロン、メチル−ｎ−アミルケトン、
メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチル
−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソ
プロピルケトン、ジイソブチルケトン、２，６，６−ト
リメチルノナノン−４、６−メチル−５−ヘプテ−２−
ノン等のケトン、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ｎ−ブ
チルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ペンチルアル
デヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オ
クチルアルデヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒ
ド、ウンデシルアルデヒド、ドデシルアルデヒド、２−
エチルブチルアルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒ
ド等のアルデヒドが挙げられる。これらのカルボニル化
合物の中では、炭素数３〜６のケトン、炭素数３〜８の
アルデヒドが好ましく、特にｎ−ブチルアルデヒド、イ
ソブチルアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトンが
好ましい。これらのカルボニル化合物は１種又は２種以
上の混合物として用いることができる。
【００１６】本発明で用いられる触媒としては、カーボ
ン、アルミナ、シリカアルミナ、もしくはシリカに担持
されたパラジウム触媒、水酸化パラジウム又は酸化パラ
ジウム等が挙げられ、特にカーボン粉末に担持されたパ
ラジウム触媒が好ましい。触媒は、例えば担体に対して
５重量％担持されたものであれば、使用するひまし油又
は硬化ひまし油に対して 0.1〜10重量％使用するのが好
ましく、0.5 〜５重量％が更に好ましい。触媒はすべて
のｐＨ領域で使用できるが、好ましくはｐＨ２〜８の触
媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン交換水30
ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐＨをい
う。
ン、アルミナ、シリカアルミナ、もしくはシリカに担持
されたパラジウム触媒、水酸化パラジウム又は酸化パラ
ジウム等が挙げられ、特にカーボン粉末に担持されたパ
ラジウム触媒が好ましい。触媒は、例えば担体に対して
５重量％担持されたものであれば、使用するひまし油又
は硬化ひまし油に対して 0.1〜10重量％使用するのが好
ましく、0.5 〜５重量％が更に好ましい。触媒はすべて
のｐＨ領域で使用できるが、好ましくはｐＨ２〜８の触
媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン交換水30
ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐＨをい
う。
【００１７】ひまし油又は硬化ひまし油と一般式(III)
で表されるカルボニル化合物との反応モル比は、適宜設
定できるが、ひまし油又は硬化ひまし油：カルボニル化
合物(III) ＝１：１〜１：50程度が好ましい。この反応
は水素雰囲気下で行われるが、水素圧は適度な反応速度
が得られ、かつカルボニル基の還元も少ないことから１
〜250 kg／cm2 が好ましく、１〜150 kg／cm2 が更に好
ましい。反応温度は10〜200 ℃が好ましく、50〜180 ℃
が更に好ましい。また反応時間は３〜25時間が好まし
く、３〜15時間が更に好ましい。
で表されるカルボニル化合物との反応モル比は、適宜設
定できるが、ひまし油又は硬化ひまし油：カルボニル化
合物(III) ＝１：１〜１：50程度が好ましい。この反応
は水素雰囲気下で行われるが、水素圧は適度な反応速度
が得られ、かつカルボニル基の還元も少ないことから１
〜250 kg／cm2 が好ましく、１〜150 kg／cm2 が更に好
ましい。反応温度は10〜200 ℃が好ましく、50〜180 ℃
が更に好ましい。また反応時間は３〜25時間が好まし
く、３〜15時間が更に好ましい。
【００１８】本反応において目的とする一般式（Ｉ）で
表されるエーテル化合物とともに等モルの水を生成する
が、この生成した水を除去しながら反応を行うと、反応
が促進され好ましい。具体的に水を除去する方法として
は、脱水剤の存在下に反応を行うことにより水を除去す
る方法、水素等の気体を流通させながら水を除去する方
法、共沸脱水等により水を留去する方法等の方法が挙げ
られる。これらの方法の中では脱水剤の存在下に反応を
行うことにより水を除去する方法、あるいは水素を流通
させながら水を除去する方法が好ましく、特に脱水管を
備えた反応装置を用い水素を流通させながら反応により
副生する水を系外に除去し、かつ未反応原料のみを系内
に戻す方法が好ましい。
表されるエーテル化合物とともに等モルの水を生成する
が、この生成した水を除去しながら反応を行うと、反応
が促進され好ましい。具体的に水を除去する方法として
は、脱水剤の存在下に反応を行うことにより水を除去す
る方法、水素等の気体を流通させながら水を除去する方
法、共沸脱水等により水を留去する方法等の方法が挙げ
られる。これらの方法の中では脱水剤の存在下に反応を
行うことにより水を除去する方法、あるいは水素を流通
させながら水を除去する方法が好ましく、特に脱水管を
備えた反応装置を用い水素を流通させながら反応により
副生する水を系外に除去し、かつ未反応原料のみを系内
に戻す方法が好ましい。
【００１９】脱水剤の存在下に反応を行うことにより水
を除去する方法において、用いられる脱水剤の具体例と
しては、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、
無水硫酸カルシウム、無水塩化カルシウム、モレキュラ
ーシーブ等が挙げられるが、この中で無水硫酸マグネシ
ウム、無水硫酸ナトリウムが好ましく、無水硫酸マグネ
シウムが最も好ましい。脱水剤の量は使用する脱水剤の
種類により異なるが、例えば無水硫酸マグネシウムを用
いた場合、ひまし油又は硬化ひまし油に対して、0.05〜
２倍モルが、さらには0.1 〜１倍モルが好ましい。
を除去する方法において、用いられる脱水剤の具体例と
しては、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、
無水硫酸カルシウム、無水塩化カルシウム、モレキュラ
ーシーブ等が挙げられるが、この中で無水硫酸マグネシ
ウム、無水硫酸ナトリウムが好ましく、無水硫酸マグネ
シウムが最も好ましい。脱水剤の量は使用する脱水剤の
種類により異なるが、例えば無水硫酸マグネシウムを用
いた場合、ひまし油又は硬化ひまし油に対して、0.05〜
２倍モルが、さらには0.1 〜１倍モルが好ましい。
【００２０】また、水素を流通させながら水を系外に除
去する方法において、水素の流通量は、反応スケールに
応じて適宜選べばよいが、例えば、１リットルのスケー
ルでは0.01〜30リットル／min が好ましく、0.01〜10リ
ットル／min が更に好ましい。また、水素の流通は反応
中連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよいが、
反応をスムースに進行させるためには連続的な流通が好
ましい。また、反応系内に流通させた水素はそのまま大
気中へ放出しても構わないが、水素を有効に使用するた
めには、系外に出た水素を循環ライン等で再度系内に戻
して流通させ、循環させながら反応に利用するのが効率
的で好ましい。更に、水と共に未反応原料が同時に系外
に除去される場合には、未反応原料のみを系内に再び戻
すことが好ましい。
去する方法において、水素の流通量は、反応スケールに
応じて適宜選べばよいが、例えば、１リットルのスケー
ルでは0.01〜30リットル／min が好ましく、0.01〜10リ
ットル／min が更に好ましい。また、水素の流通は反応
中連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよいが、
反応をスムースに進行させるためには連続的な流通が好
ましい。また、反応系内に流通させた水素はそのまま大
気中へ放出しても構わないが、水素を有効に使用するた
めには、系外に出た水素を循環ライン等で再度系内に戻
して流通させ、循環させながら反応に利用するのが効率
的で好ましい。更に、水と共に未反応原料が同時に系外
に除去される場合には、未反応原料のみを系内に再び戻
すことが好ましい。
【００２１】本反応に際しては、溶媒を使用せずに反応
させることが可能であるが、適当な溶媒で稀釈した形態
で使用することもできる。この様な溶媒の例としては例
えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ
−オクタン、ｎ−デカン、石油エーテル等の炭化水素溶
媒、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル等のエーテ
ル系溶媒などの不活性有機溶媒類が挙げられるが、必ず
しもこれらに限定されるものではない。
させることが可能であるが、適当な溶媒で稀釈した形態
で使用することもできる。この様な溶媒の例としては例
えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ
−オクタン、ｎ−デカン、石油エーテル等の炭化水素溶
媒、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル等のエーテ
ル系溶媒などの不活性有機溶媒類が挙げられるが、必ず
しもこれらに限定されるものではない。
【００２２】本発明の一般式（Ｉ）で表されるエーテル
化合物は無色無臭で経時的に着色したり変臭したりせ
ず、更に感触が優れていることから、化粧料の油性原料
として特に有用である。
化合物は無色無臭で経時的に着色したり変臭したりせ
ず、更に感触が優れていることから、化粧料の油性原料
として特に有用である。
【００２３】本発明の化粧料は、一般式（Ｉ）で表され
るエーテル化合物を必須成分として含有するものであ
り、その形態は特に限定されず、油中水型又は水中油型
の乳化型及び油性のいずれでもよい。本発明の化粧料中
の一般式（Ｉ）で表されるエーテル化合物の配合量は特
に限定されないが、例えば乳化型の化粧料の場合には、
全組成の 0.001〜90重量％が好ましく、１〜50重量％が
特に好ましい。
るエーテル化合物を必須成分として含有するものであ
り、その形態は特に限定されず、油中水型又は水中油型
の乳化型及び油性のいずれでもよい。本発明の化粧料中
の一般式（Ｉ）で表されるエーテル化合物の配合量は特
に限定されないが、例えば乳化型の化粧料の場合には、
全組成の 0.001〜90重量％が好ましく、１〜50重量％が
特に好ましい。
【００２４】本発明の化粧料の種類は特に限定されず、
例えばパック、ファンデーション、口紅、クリーム、皮
膚洗浄剤、シャンプー、リンス、整髪剤、養毛剤、育毛
剤等が挙げられる。かかる化粧料中には、本発明の一般
式（Ｉ）で表されるエーテル化合物以外に、化粧料成分
として一般に使用されている油分、水、界面活性剤、保
湿剤、紫外線防御剤、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、
増粘剤、色素、香料等の各種成分を適宜配合することが
できる。
例えばパック、ファンデーション、口紅、クリーム、皮
膚洗浄剤、シャンプー、リンス、整髪剤、養毛剤、育毛
剤等が挙げられる。かかる化粧料中には、本発明の一般
式（Ｉ）で表されるエーテル化合物以外に、化粧料成分
として一般に使用されている油分、水、界面活性剤、保
湿剤、紫外線防御剤、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、
増粘剤、色素、香料等の各種成分を適宜配合することが
できる。
【００２５】また、本発明の一般式（Ｉ）で表されるエ
ーテル化合物は、加水分解すると、式 (IV)
ーテル化合物は、加水分解すると、式 (IV)
【００２６】
【化７】
【００２７】（式中、R1' は前記式（II）で表される基
を示す。）で表されるアルコキシ脂肪酸を生成し、この
アルコキシ脂肪酸も、化粧品原料、潤滑油、各種エステ
ル原料として有用である。
を示す。）で表されるアルコキシ脂肪酸を生成し、この
アルコキシ脂肪酸も、化粧品原料、潤滑油、各種エステ
ル原料として有用である。
【００２８】
【実施例】以下、実施例及び処方例を挙げて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例及び処方
例に限定されるものではない。
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例及び処方
例に限定されるものではない。
【００２９】実施例１ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブにひまし油 100ｇ（0.11モル）、アセトン 185ｇ
（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.67ｇ（0.055 モ
ル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6) 8.0ｇを仕込
み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で12時間反応させ
た。反応終了後、濾過により触媒および硫酸マグネシウ
ムを除去し、減圧下にて過剰のアセトンを除去する事に
より、下記式(Ｖ）で表されるグリセロール トリ（12
−イソプロポキシステアレート）を115ｇ得た（単離収
率；98％）。
レーブにひまし油 100ｇ（0.11モル）、アセトン 185ｇ
（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.67ｇ（0.055 モ
ル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6) 8.0ｇを仕込
み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で12時間反応させ
た。反応終了後、濾過により触媒および硫酸マグネシウ
ムを除去し、減圧下にて過剰のアセトンを除去する事に
より、下記式(Ｖ）で表されるグリセロール トリ（12
−イソプロポキシステアレート）を115ｇ得た（単離収
率；98％）。
【００３０】
【化８】
【００３１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；0.84
(m, 9H, a), 1.16(d, 18H, b), 1.28(broad, 66H, c),
1.46〜1.67(broad, 18H, d), 2.11(m, 6H, e), 3.44(m,
6H, f), 4.23(d, 4H, g), 4.95(m, 1H, h) 実施例２ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、メチルエチ
ルケトン 230ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.
67ｇ(0.055モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6)
8.0ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で12時
間反応させた。反応終了後、濾過により触媒および硫酸
マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のメチルエチル
ケトンを除去する事により下記式 (VI) で表されるグリ
セロール トリ〔12−（１−メチルプロポキシ）ステア
レート〕を111 ｇ得た（単離収率；95％）。
(m, 9H, a), 1.16(d, 18H, b), 1.28(broad, 66H, c),
1.46〜1.67(broad, 18H, d), 2.11(m, 6H, e), 3.44(m,
6H, f), 4.23(d, 4H, g), 4.95(m, 1H, h) 実施例２ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、メチルエチ
ルケトン 230ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.
67ｇ(0.055モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6)
8.0ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で12時
間反応させた。反応終了後、濾過により触媒および硫酸
マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のメチルエチル
ケトンを除去する事により下記式 (VI) で表されるグリ
セロール トリ〔12−（１−メチルプロポキシ）ステア
レート〕を111 ｇ得た（単離収率；95％）。
【００３２】
【化９】
【００３３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；0.84
(m, 18H, a), 1.16(d, 9H, b), 1.28(broad, 66H, c),
1.46〜1.67(broad, 24H, d), 2.11(m, 6H, e), 3.44(m,
6H, f), 4.23(d, 4H, g), 4.95(m, 1H, h) 実施例３ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、アセトン 18
5ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.67ｇ（0.055
モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6) 8.0ｇを仕込
み、水素圧100kg／cm2 下、 150℃で12時間反応させ
た。反応終了後、濾過により触媒および硫酸マグネシウ
ムを除去し、減圧下にて過剰のアセトンを除去する事に
より、上記式（Ｖ）で表されるグリセロール トリ（12
−イソプロポキシステアレート）を116 ｇ得た（単離収
率；99％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；実施例１のものと
一致した。
(m, 18H, a), 1.16(d, 9H, b), 1.28(broad, 66H, c),
1.46〜1.67(broad, 24H, d), 2.11(m, 6H, e), 3.44(m,
6H, f), 4.23(d, 4H, g), 4.95(m, 1H, h) 実施例３ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、アセトン 18
5ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.67ｇ（0.055
モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6) 8.0ｇを仕込
み、水素圧100kg／cm2 下、 150℃で12時間反応させ
た。反応終了後、濾過により触媒および硫酸マグネシウ
ムを除去し、減圧下にて過剰のアセトンを除去する事に
より、上記式（Ｖ）で表されるグリセロール トリ（12
−イソプロポキシステアレート）を116 ｇ得た（単離収
率；99％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；実施例１のものと
一致した。
【００３４】実施例４ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブにひまし油 100ｇ（0.11モル）、ｎ−ブチルアル
デヒド230 ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.67
ｇ（0.055 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6)
4.0ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で12時
間反応させた。反応終了後、濾過により触媒および硫酸
マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のｎ−ブチルア
ルデヒドを除去する事により、下記式(VII) で表される
グリセロール トリ（12−n-ブトキシステアレート）を
115 ｇ得た（単離収率；98％）。
レーブにひまし油 100ｇ（0.11モル）、ｎ−ブチルアル
デヒド230 ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネシウム6.67
ｇ（0.055 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6)
4.0ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で12時
間反応させた。反応終了後、濾過により触媒および硫酸
マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のｎ−ブチルア
ルデヒドを除去する事により、下記式(VII) で表される
グリセロール トリ（12−n-ブトキシステアレート）を
115 ｇ得た（単離収率；98％）。
【００３５】
【化１０】
【００３６】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；0.84
(m, 18H, a), 3.26(t, 6H, b), 1.28(broad, 72H, c),
1.46〜１．６７（ｂｒｏａｄ， ２４Ｈ， ｄ），
２．１１（ｍ， ６Ｈ， ｅ）， ３．４４（ｍ， ３
Ｈ， ｆ）， ４．２３（ｄ， ４Ｈ， ｇ）， ４．
９５（ｍ， １Ｈ， ｈ） 実施例５ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた ５００ｍｌ容オ
ートクレーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、イソ
ブチルアルデヒド230 ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネ
シウム6.69ｇ（0.055 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ
（pH6.6) 4.1ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150
℃で12時間反応させた。反応終了後、濾過により触媒お
よび硫酸マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のイソ
ブチルアルデヒドを除去する事により、下記式(VIII)で
表されるグリセロール トリ〔12−（２−メチルプロポ
キシ）ステアレート〕を116 ｇ得た（単離収率；99
％）。
(m, 18H, a), 3.26(t, 6H, b), 1.28(broad, 72H, c),
1.46〜１．６７（ｂｒｏａｄ， ２４Ｈ， ｄ），
２．１１（ｍ， ６Ｈ， ｅ）， ３．４４（ｍ， ３
Ｈ， ｆ）， ４．２３（ｄ， ４Ｈ， ｇ）， ４．
９５（ｍ， １Ｈ， ｈ） 実施例５ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた ５００ｍｌ容オ
ートクレーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、イソ
ブチルアルデヒド230 ｇ（3.20モル）、無水硫酸マグネ
シウム6.69ｇ（0.055 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ
（pH6.6) 4.1ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150
℃で12時間反応させた。反応終了後、濾過により触媒お
よび硫酸マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のイソ
ブチルアルデヒドを除去する事により、下記式(VIII)で
表されるグリセロール トリ〔12−（２−メチルプロポ
キシ）ステアレート〕を116 ｇ得た（単離収率；99
％）。
【００３７】
【化１１】
【００３８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；0.89
(m, 27H, a), 3.25(t, 6H, b), 1.21(broad, 66H, c),
1.46〜１．６８（ｂｒｏａｄ， ２１Ｈ， ｄ），
２．１０（ｍ， ６Ｈ， ｅ）， ３．４５（ｍ， ３
Ｈ， ｆ）， ４．２３（ｄ， ４Ｈ， ｇ）， ４．
９５（ｍ， １Ｈ， ｈ） 実施例６ 水素ガス導入管、攪拌装置及び還流脱水管を備えた ５
００ｍｌ容オートクレーブにひまし油 100ｇ（0.11モ
ル）、ｎ−ブチルアルデヒド115 ｇ（1.60モル）、触媒
として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6) 4.0ｇを仕込み、水素圧８
kg／cm2 下、水素を700ml／min で連続的に流通しなが
ら 150℃で８時間反応させた。なおこの間、脱水管より
生成する水を抜くと共に、水と共に留出した未反応原料
はオートクレーブ内に戻した。反応終了後、濾過により
触媒を除去し、減圧下にて過剰のｎ−ブチルアルデヒド
を除去する事により、上記式(VII) で表されるグリセロ
ール トリ（12−n-ブトキシステアレート）を116 ｇ得
た（単離収率；99％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；実施例４のものと
一致した。
(m, 27H, a), 3.25(t, 6H, b), 1.21(broad, 66H, c),
1.46〜１．６８（ｂｒｏａｄ， ２１Ｈ， ｄ），
２．１０（ｍ， ６Ｈ， ｅ）， ３．４５（ｍ， ３
Ｈ， ｆ）， ４．２３（ｄ， ４Ｈ， ｇ）， ４．
９５（ｍ， １Ｈ， ｈ） 実施例６ 水素ガス導入管、攪拌装置及び還流脱水管を備えた ５
００ｍｌ容オートクレーブにひまし油 100ｇ（0.11モ
ル）、ｎ−ブチルアルデヒド115 ｇ（1.60モル）、触媒
として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6) 4.0ｇを仕込み、水素圧８
kg／cm2 下、水素を700ml／min で連続的に流通しなが
ら 150℃で８時間反応させた。なおこの間、脱水管より
生成する水を抜くと共に、水と共に留出した未反応原料
はオートクレーブ内に戻した。反応終了後、濾過により
触媒を除去し、減圧下にて過剰のｎ−ブチルアルデヒド
を除去する事により、上記式(VII) で表されるグリセロ
ール トリ（12−n-ブトキシステアレート）を116 ｇ得
た（単離収率；99％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3, δppm ）；実施例４のものと
一致した。
【００３９】実施例７ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500ml容オートク
レーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、イソブチル
アルデヒド39ｇ（0.54モル）、無水硫酸マグネシウム3.
36ｇ（0.028 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6)
4.1ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で６時
間反応させた。反応終了後、濾過により触媒および硫酸
マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のイソブチルア
ルデヒドを除去する事により、上記式(VIII)で表される
グリセロール トリ〔12−（２−メチルプロポキシ）ス
テアレート〕を112 ｇ得た（単離収率；96％）。JIS K0
070 により水酸基価を測定したところ、このもののエー
テル化率は71％であり、種々のエーテル化度の混合物で
あった（水酸基価：硬化ひまし油＝161、グリセロール
トリ〔12−（２−メチルプロポキシ）ステアレート〕
＝47）。
レーブに硬化ひまし油100ｇ（0.11モル）、イソブチル
アルデヒド39ｇ（0.54モル）、無水硫酸マグネシウム3.
36ｇ（0.028 モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（pH6.6)
4.1ｇを仕込み、水素圧 100kg／cm2 下、 150℃で６時
間反応させた。反応終了後、濾過により触媒および硫酸
マグネシウムを除去し、減圧下にて過剰のイソブチルア
ルデヒドを除去する事により、上記式(VIII)で表される
グリセロール トリ〔12−（２−メチルプロポキシ）ス
テアレート〕を112 ｇ得た（単離収率；96％）。JIS K0
070 により水酸基価を測定したところ、このもののエー
テル化率は71％であり、種々のエーテル化度の混合物で
あった（水酸基価：硬化ひまし油＝161、グリセロール
トリ〔12−（２−メチルプロポキシ）ステアレート〕
＝47）。
【００４０】以下に本発明のエーテル化合物を用いた化
粧料の処方例を示す。 処方例１（クリーム） 下記組成の油相成分を混合し、加熱溶解して80℃に保っ
た。下記組成の水相成分も同様に80℃で加熱混合し、こ
れを上記油相部に加えて乳化器にて乳化した。乳化物を
徐々に冷却してクリームを得た。得られたクリームは、
優れた感触、皮膚との良好な親和性を示し、安全性にも
優れ、極めて安定なものであった。
粧料の処方例を示す。 処方例１（クリーム） 下記組成の油相成分を混合し、加熱溶解して80℃に保っ
た。下記組成の水相成分も同様に80℃で加熱混合し、こ
れを上記油相部に加えて乳化器にて乳化した。乳化物を
徐々に冷却してクリームを得た。得られたクリームは、
優れた感触、皮膚との良好な親和性を示し、安全性にも
優れ、極めて安定なものであった。
【００４１】＜組成＞ 油相成分： ミリスチン酸オクチルドデシル 5.0重量％ セタノール 2.0 POE(20) ソルビタンモノステアレート 1.5 ソルビタンモノステアレート 0.5 実施例１で得られたエーテル化合物 2.0 ブチルパラベン 0.1 水相成分： グリセリン 3.0 メチルパラベン 0.2 香料 0.1 精製水 バランス ──────────────────────── 合計 100.0重量％。
【００４２】処方例２（口紅） 下記組成の基剤を加熱融解して均一に混合した。これに
下記組成の色材を加えてロールミルで練り、均一に分散
させた。再融解して香料を加え、脱泡してから型に流し
込み、急冷して固めた。型から取り出し容器に充填し、
スティックの外観を整え、炎の中を通して表面を均一に
し、口紅を得た。得られた口紅は、優れた感触、皮膚と
の良好な親和性を示し、安全性にも優れていた。
下記組成の色材を加えてロールミルで練り、均一に分散
させた。再融解して香料を加え、脱泡してから型に流し
込み、急冷して固めた。型から取り出し容器に充填し、
スティックの外観を整え、炎の中を通して表面を均一に
し、口紅を得た。得られた口紅は、優れた感触、皮膚と
の良好な親和性を示し、安全性にも優れていた。
【００４３】＜組成＞ 基剤： ミリスチン酸オクチルドデシル 30.0重量％ ヒマシ油 20.0 バチルアルコール 25.0 ラノリン 5.0 実施例２で得られたエーテル化合物 6.0 実施例３で得られたエーテル化合物 6.0 トコフェロール 0.2 プロピルパラベン 0.2 色材： 酸化チタン 2.5 有機色素 5.0 香料 0.1 ─────────────────────── 合計 100.0重量％ 処方例３（クリーム） 下記組成の油相成分を混合し、加熱溶解して80℃に保っ
た。下記組成の水相成分も同様に80℃で加熱混合し、こ
れを上記油相部に加えて乳化器にて乳化した。乳化物を
徐々に冷却してクリームを得た。得られたクリームは、
優れた感触、皮膚との良好な親和性を示し、安全性にも
優れ、極めて安定なものであった。
た。下記組成の水相成分も同様に80℃で加熱混合し、こ
れを上記油相部に加えて乳化器にて乳化した。乳化物を
徐々に冷却してクリームを得た。得られたクリームは、
優れた感触、皮膚との良好な親和性を示し、安全性にも
優れ、極めて安定なものであった。
【００４４】＜組成＞ 油相成分： ミリスチン酸オクチルドデシル 5.0重量％ セタノール 2.0 POE(20) ソルビタンモノステアレート 1.5 ソルビタンモノステアレート 0.5 実施例４で得られたエーテル化合物 2.0 ブチルパラベン 0.1 水相成分： グリセリン 3.0 メチルパラベン 0.2 香料 0.1 精製水 バランス ──────────────────────── 合計 100.0重量％。
【００４５】処方例４（クリーム） 下記組成の油相成分を混合し、加熱溶解して80℃に保っ
た。下記組成の水相成分も同様に80℃で加熱混合し、こ
れを上記油相部に加えて乳化器にて乳化した。乳化物を
徐々に冷却してクリームを得た。得られたクリームは、
優れた感触、皮膚との良好な親和性を示し、安全性にも
優れ、極めて安定なものであった。
た。下記組成の水相成分も同様に80℃で加熱混合し、こ
れを上記油相部に加えて乳化器にて乳化した。乳化物を
徐々に冷却してクリームを得た。得られたクリームは、
優れた感触、皮膚との良好な親和性を示し、安全性にも
優れ、極めて安定なものであった。
【００４６】＜組成＞ 油相成分： ミリスチン酸オクチルドデシル 5.0重量％ セタノール 2.0 POE(20) ソルビタンモノステアレート 1.5 ソルビタンモノステアレート 0.5 実施例５で得られたエーテル化合物 2.0 ブチルパラベン 0.1 水相成分： グリセリン 3.0 メチルパラベン 0.2 香料 0.1 精製水 バランス ──────────────────────── 合計 100.0重量％。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 喜多 克己 和歌山県和歌山市湊1334 花王株式会社研 究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表される新規エーテル化
合物。 【化１】 〔式中、R1は水素原子、又は式（II） 【化２】 （式中、R2及びR3は同一又は異なって、水素原子、ある
いは炭素数１〜12の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示
す。）で表される基を示す。但し３個のR1は同一でも異
なっていてもよく、少なくとも１個は式（II）で表され
る基である。〕 - 【請求項２】 ひまし油又は硬化ひまし油と、一般式(I
II) 【化３】 （式中、R2及びR3は前記の意味を示す。）で表されるカ
ルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を用いて反応さ
せることを特徴とする請求項１記載の一般式（Ｉ）で表
されるエーテル化合物の製造方法。 - 【請求項３】 触媒がカーボン、アルミナ、シリカアル
ミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水酸
化パラジウム又は酸化パラジウムである請求項２記載の
エーテル化合物の製造方法。 - 【請求項４】 反応により副生する水を除去しながら反
応を行う請求項２又は３記載のエーテル化合物の製造方
法。 - 【請求項５】 請求項１記載のエーテル化合物を含有す
ることを特徴とする化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8116039A JPH09301927A (ja) | 1996-05-10 | 1996-05-10 | 新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8116039A JPH09301927A (ja) | 1996-05-10 | 1996-05-10 | 新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09301927A true JPH09301927A (ja) | 1997-11-25 |
Family
ID=14677219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8116039A Pending JPH09301927A (ja) | 1996-05-10 | 1996-05-10 | 新規エーテル化合物及びその製造方法、並びにそれを含有する化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09301927A (ja) |
-
1996
- 1996-05-10 JP JP8116039A patent/JPH09301927A/ja active Pending
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