JPH09303723A - 触媒燃焼装置 - Google Patents
触媒燃焼装置Info
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- JPH09303723A JPH09303723A JP8121189A JP12118996A JPH09303723A JP H09303723 A JPH09303723 A JP H09303723A JP 8121189 A JP8121189 A JP 8121189A JP 12118996 A JP12118996 A JP 12118996A JP H09303723 A JPH09303723 A JP H09303723A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 触媒燃焼停止後に長期間放置した場合の触媒
燃焼開始時における触媒活性の低下を抑制すること。 【解決手段】 パラジウムを含む触媒層１、燃料供給管
２、エアーコンプレッサー４、流量制御装置３、５、燃
料−空気混合室６、燃焼室１３、炎口７、着火用電極８
を設け、さらに触媒層１の下流側に排ガス検出器９を設
置し、未燃焼炭化水素（以下ＨＣ）などを検出できる。
排ガス検出器９のさらに下流側には、浄化用の空気供給
管１０の出口、浄化触媒層１１を順に設置している。排
ガス検出器９の信号に基づいて、流量制御装置３、５の
制御が行える。その制御により、触媒燃焼停止時に、燃
料が完全燃焼するのに必要な空気量以下に空気供給量を
減少、もしくは燃料のみを供給して、触媒に対して還元
雰囲気を与える。
燃焼開始時における触媒活性の低下を抑制すること。 【解決手段】 パラジウムを含む触媒層１、燃料供給管
２、エアーコンプレッサー４、流量制御装置３、５、燃
料−空気混合室６、燃焼室１３、炎口７、着火用電極８
を設け、さらに触媒層１の下流側に排ガス検出器９を設
置し、未燃焼炭化水素（以下ＨＣ）などを検出できる。
排ガス検出器９のさらに下流側には、浄化用の空気供給
管１０の出口、浄化触媒層１１を順に設置している。排
ガス検出器９の信号に基づいて、流量制御装置３、５の
制御が行える。その制御により、触媒燃焼停止時に、燃
料が完全燃焼するのに必要な空気量以下に空気供給量を
減少、もしくは燃料のみを供給して、触媒に対して還元
雰囲気を与える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、都市ガス等の燃料
を用いた触媒燃焼装置に関するものである。
を用いた触媒燃焼装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、触媒燃焼の停止は、一酸化炭素、
未燃焼炭化水素などの放出をさけるために、燃料供給を
停止させた後に空気供給を停止させるか、燃料と空気の
供給を同時に停止させていた。
未燃焼炭化水素などの放出をさけるために、燃料供給を
停止させた後に空気供給を停止させるか、燃料と空気の
供給を同時に停止させていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記のように触媒燃焼
を停止させると、パラジウムが酸化度の高い状態にな
り、空気雰囲気下で放置することによって、ＰｄＯ、も
しくは、これに近い状態になり、酸化パラジウム結晶格
子中の酸素欠陥が減少するため、２〜３日後には著しく
着火時の活性が低下し、触媒燃焼を開始させるために
は、予熱時間を長くするなどの対処が必要であった。
を停止させると、パラジウムが酸化度の高い状態にな
り、空気雰囲気下で放置することによって、ＰｄＯ、も
しくは、これに近い状態になり、酸化パラジウム結晶格
子中の酸素欠陥が減少するため、２〜３日後には著しく
着火時の活性が低下し、触媒燃焼を開始させるために
は、予熱時間を長くするなどの対処が必要であった。
【０００４】本発明はこのような従来の触媒燃焼装置の
課題を考慮し、長時間放置しても、触媒燃焼開始時に優
れた触媒活性を有する触媒燃焼装置を提供することを目
的とするものである。
課題を考慮し、長時間放置しても、触媒燃焼開始時に優
れた触媒活性を有する触媒燃焼装置を提供することを目
的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の触媒燃焼装置
は、少なくともパラジウムを含む触媒層を備え、燃焼停
止時に、空気流量を燃料が完全燃焼するのに必要な空気
量以下まで減少、あるいは、空気供給を完全に停止さ
せ、燃料ガスのみを供給することによって、触媒層に還
元雰囲気を与えることを特徴とするものである。触媒燃
焼を停止させることによって、長期間放置後でも、触媒
燃焼開始時の触媒活性低下を避けることができる。
は、少なくともパラジウムを含む触媒層を備え、燃焼停
止時に、空気流量を燃料が完全燃焼するのに必要な空気
量以下まで減少、あるいは、空気供給を完全に停止さ
せ、燃料ガスのみを供給することによって、触媒層に還
元雰囲気を与えることを特徴とするものである。触媒燃
焼を停止させることによって、長期間放置後でも、触媒
燃焼開始時の触媒活性低下を避けることができる。
【０００６】燃焼中の触媒層に対して燃料過剰の混合ガ
スを供給すると、未燃焼炭化水素や一酸化炭素などの発
生が起こる。触媒層の下流で排ガスの特定成分を検出
し、その情報に基づいて、混合ガスの供給を制御するこ
とにより、大量の不完全燃焼ガスの放出を防ぐことがで
きる。
スを供給すると、未燃焼炭化水素や一酸化炭素などの発
生が起こる。触媒層の下流で排ガスの特定成分を検出
し、その情報に基づいて、混合ガスの供給を制御するこ
とにより、大量の不完全燃焼ガスの放出を防ぐことがで
きる。
【０００７】触媒層の下流に浄化触媒層を設置し、かつ
触媒層と浄化触媒層の中間に必要量の空気を供給するこ
とによって、触媒燃焼停止時の不完全燃焼ガス放出を完
全に抑制することができる。
触媒層と浄化触媒層の中間に必要量の空気を供給するこ
とによって、触媒燃焼停止時の不完全燃焼ガス放出を完
全に抑制することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。まず本発明の原理について
説明する。触媒層に用いているパラジウムは燃焼時には
部分酸化状態、もしくは金属に近い状態であるが、燃焼
停止時に酸素の過剰な状態で温度を下げることによっ
て、酸化度の高い状態になる。この段階では酸化パラジ
ウムの結晶格子中には酸素欠陥が多く含まれており、触
媒活性も高いため、触媒燃焼は容易に開始できるが２〜
３日間、空気雰囲気中で放置すると、酸化パラジウム中
の酸素欠陥が減少し、触媒活性は著しく低下する。本発
明では、触媒燃焼を燃料過剰の混合ガスを供給しながら
停止させることにより、パラジウムが金属に近い状態に
なるようにして、触媒活性の低下を抑制している。触媒
燃焼停止時には、空気を供給することによって、触媒層
で燃焼反応が起こり、触媒層の温度が下がるのに時間が
かかって、ＨＣやＣＯの発生が多くなると同時に、パラ
ジウムの還元反応が充分に終了しない恐れがあるので、
空気供給は完全に停止させた方が良い。また、触媒燃焼
停止時に、空気供給を減少、または停止させた後に、し
ばらくしてからＣＯの発生が始まるが、その前にＣＯよ
り反応性の低いＨＣの排出が始まる。したがって、触媒
層下流のＨＣ増加を検出し、混合ガスの供給を停止させ
ることにより、ＣＯの発生は避けることができ、ＨＣも
ほぼ抑制できる。ＨＣ、ＣＯの外部への排出を避けるた
めには、触媒層下流に浄化触媒層を設置するが、触媒層
には燃料過剰の混合ガスを供給しているため、不足分の
空気を浄化触媒層の上流部に供給する必要がある。本発
明で用いる触媒層はパラジウムを含むものであれば、白
金やロジウム、その他の金属との混合系であっても良
い。また、アルミナを始めとする担体にパラジウムが担
持されたようなものでも、複合酸化物などのマトリック
ス中にパラジウムイオンなどの形で取り込まれたもので
も良い。本実施の形態では、触媒層としてコージェライ
トハニカムにパラジウムを担持させたアルミナをコーテ
ィングさせて用いたが、ハニカムの材質、形状はどのよ
うなものでも良く、ハニカムを用いずに単にパラジウム
を担体に担持させた粉末をそのまま触媒層として用いて
も良い。
て図面を参照して説明する。まず本発明の原理について
説明する。触媒層に用いているパラジウムは燃焼時には
部分酸化状態、もしくは金属に近い状態であるが、燃焼
停止時に酸素の過剰な状態で温度を下げることによっ
て、酸化度の高い状態になる。この段階では酸化パラジ
ウムの結晶格子中には酸素欠陥が多く含まれており、触
媒活性も高いため、触媒燃焼は容易に開始できるが２〜
３日間、空気雰囲気中で放置すると、酸化パラジウム中
の酸素欠陥が減少し、触媒活性は著しく低下する。本発
明では、触媒燃焼を燃料過剰の混合ガスを供給しながら
停止させることにより、パラジウムが金属に近い状態に
なるようにして、触媒活性の低下を抑制している。触媒
燃焼停止時には、空気を供給することによって、触媒層
で燃焼反応が起こり、触媒層の温度が下がるのに時間が
かかって、ＨＣやＣＯの発生が多くなると同時に、パラ
ジウムの還元反応が充分に終了しない恐れがあるので、
空気供給は完全に停止させた方が良い。また、触媒燃焼
停止時に、空気供給を減少、または停止させた後に、し
ばらくしてからＣＯの発生が始まるが、その前にＣＯよ
り反応性の低いＨＣの排出が始まる。したがって、触媒
層下流のＨＣ増加を検出し、混合ガスの供給を停止させ
ることにより、ＣＯの発生は避けることができ、ＨＣも
ほぼ抑制できる。ＨＣ、ＣＯの外部への排出を避けるた
めには、触媒層下流に浄化触媒層を設置するが、触媒層
には燃料過剰の混合ガスを供給しているため、不足分の
空気を浄化触媒層の上流部に供給する必要がある。本発
明で用いる触媒層はパラジウムを含むものであれば、白
金やロジウム、その他の金属との混合系であっても良
い。また、アルミナを始めとする担体にパラジウムが担
持されたようなものでも、複合酸化物などのマトリック
ス中にパラジウムイオンなどの形で取り込まれたもので
も良い。本実施の形態では、触媒層としてコージェライ
トハニカムにパラジウムを担持させたアルミナをコーテ
ィングさせて用いたが、ハニカムの材質、形状はどのよ
うなものでも良く、ハニカムを用いずに単にパラジウム
を担体に担持させた粉末をそのまま触媒層として用いて
も良い。
【０００９】次に浄化触媒層について述べる。浄化触媒
層は触媒層と同じく、どのようなものでも良いが、排ガ
ス中の希薄なＨＣが浄化できるように、触媒層よりも活
性でなければならず、さらに、浄化性能を向上させるた
めに、触媒層に近づけるか、電気などで加熱し、浄化触
媒層の温度を高くする方が良い。
層は触媒層と同じく、どのようなものでも良いが、排ガ
ス中の希薄なＨＣが浄化できるように、触媒層よりも活
性でなければならず、さらに、浄化性能を向上させるた
めに、触媒層に近づけるか、電気などで加熱し、浄化触
媒層の温度を高くする方が良い。
【００１０】本実施の形態では燃料ガスとして、都市ガ
スを用いたが、プロパンガス、ブタンガス、ガソリン、
灯油などパラジウムを燃焼に用いることができる燃料な
らば、どのようなものでも良い。
スを用いたが、プロパンガス、ブタンガス、ガソリン、
灯油などパラジウムを燃焼に用いることができる燃料な
らば、どのようなものでも良い。
【００１１】図１に本発明の触媒燃焼装置の構成を示
す。図１において、１はパラジウムを含む触媒層、２は
燃料供給管（都市ガス配管など）、４はエアーコンプレ
ッサー、３、５は流量制御装置、６は燃料−空気混合室
で、燃焼室１３の入り口付近には炎口７を備えており、
その近傍には着火用電極８を設置している。触媒層１の
下流側には排ガス検出器９を設置し、未燃焼炭化水素
（以下ＨＣ）などを検出できるようにしてある。排ガス
検出器９のさらに下流側には、浄化用の空気供給管１０
の出口、浄化触媒層１１を順に設置している。また、排
ガス検出器９の信号に基づいて、流量制御装置３、５の
制御が行えるようにしてある。また、燃焼室１３の前方
にはセキエイガラス１２が設けられそこから熱線が放出
されるようになっている。
す。図１において、１はパラジウムを含む触媒層、２は
燃料供給管（都市ガス配管など）、４はエアーコンプレ
ッサー、３、５は流量制御装置、６は燃料−空気混合室
で、燃焼室１３の入り口付近には炎口７を備えており、
その近傍には着火用電極８を設置している。触媒層１の
下流側には排ガス検出器９を設置し、未燃焼炭化水素
（以下ＨＣ）などを検出できるようにしてある。排ガス
検出器９のさらに下流側には、浄化用の空気供給管１０
の出口、浄化触媒層１１を順に設置している。また、排
ガス検出器９の信号に基づいて、流量制御装置３、５の
制御が行えるようにしてある。また、燃焼室１３の前方
にはセキエイガラス１２が設けられそこから熱線が放出
されるようになっている。
【００１２】次に、本実施の形態の動作について、詳細
に説明する。触媒燃焼を開始させるには、流量制御装置
３、５によって、所定の燃焼量、空気過剰率（燃料が完
全燃焼するために必要な空気量に対する実際に供給した
空気量の比率）の混合ガスを燃焼室に供給し、着火用電
極８によって、炎口７に火炎をつける。火炎燃焼の高温
排ガスによって、触媒層１の上流部を触媒の活性化温度
（約４３０℃）まで加熱した後、流量制御装置３、５に
よって、一旦、混合ガス供給を停止し、火炎を消火す
る。触媒温度が下降しないうちに、再び混合ガスを供給
することによって、触媒燃焼が開始する。燃焼は主に触
媒層１の上流部で起こり、燃焼の輻射熱はセキエイガラ
ス１２を通して外部へ放出され、暖房などに利用でき
る。
に説明する。触媒燃焼を開始させるには、流量制御装置
３、５によって、所定の燃焼量、空気過剰率（燃料が完
全燃焼するために必要な空気量に対する実際に供給した
空気量の比率）の混合ガスを燃焼室に供給し、着火用電
極８によって、炎口７に火炎をつける。火炎燃焼の高温
排ガスによって、触媒層１の上流部を触媒の活性化温度
（約４３０℃）まで加熱した後、流量制御装置３、５に
よって、一旦、混合ガス供給を停止し、火炎を消火す
る。触媒温度が下降しないうちに、再び混合ガスを供給
することによって、触媒燃焼が開始する。燃焼は主に触
媒層１の上流部で起こり、燃焼の輻射熱はセキエイガラ
ス１２を通して外部へ放出され、暖房などに利用でき
る。
【００１３】触媒燃焼を停止させるには、流量制御装置
３、５によって、空気過剰率を１以下、かつ燃焼が継続
しない燃焼量にするか、空気供給を完全に停止させて、
燃料のみを触媒層１に供給する。パラジウム還元後にお
けるＨＣやＣＯの大量発生を抑制させるために、ＨＣ、
ＣＯ濃度の増加を排ガス検出器９で検出し、流量制御装
置３、５によって、触媒層１への燃料、及び空気供給を
停止させる。ＨＣ、ＣＯの外部への放出を避けるため、
流量制御装置５によって、浄化触媒層１１に必要量の空
気を供給する。
３、５によって、空気過剰率を１以下、かつ燃焼が継続
しない燃焼量にするか、空気供給を完全に停止させて、
燃料のみを触媒層１に供給する。パラジウム還元後にお
けるＨＣやＣＯの大量発生を抑制させるために、ＨＣ、
ＣＯ濃度の増加を排ガス検出器９で検出し、流量制御装
置３、５によって、触媒層１への燃料、及び空気供給を
停止させる。ＨＣ、ＣＯの外部への放出を避けるため、
流量制御装置５によって、浄化触媒層１１に必要量の空
気を供給する。
【００１４】
（実施例１）パラジウム２ｗｔ％を担持したγーアルミ
ナ粉末１００ｇを水１６０ｇ中に分散させ、スラリーを
調製した。直径５０ｍｍ、高さ２０ｍｍの円筒形で、平
方インチ当たり４００セルの空孔を有するコージェライ
ト製のハニカム状担体基材を、このスラリーに浸漬し、
乾燥した後、５００℃で１時間焼成することによって触
媒層１を作製した。浄化触媒層１１はパラジウム８ｗｔ
％をγーアルミナ粉末に担持し、この触媒粉末１００ｇ
を水１６０ｇ中に分散させ、スラリーを調製して、直径
３０ｍｍ、高さ２０ｍｍの円筒形で、平方インチ当たり
４００セルの空孔を有するコージェライト製のハニカム
状担体基材を、このスラリーに浸漬し、乾燥した後、５
００℃で１時間焼成することによって作製した。
ナ粉末１００ｇを水１６０ｇ中に分散させ、スラリーを
調製した。直径５０ｍｍ、高さ２０ｍｍの円筒形で、平
方インチ当たり４００セルの空孔を有するコージェライ
ト製のハニカム状担体基材を、このスラリーに浸漬し、
乾燥した後、５００℃で１時間焼成することによって触
媒層１を作製した。浄化触媒層１１はパラジウム８ｗｔ
％をγーアルミナ粉末に担持し、この触媒粉末１００ｇ
を水１６０ｇ中に分散させ、スラリーを調製して、直径
３０ｍｍ、高さ２０ｍｍの円筒形で、平方インチ当たり
４００セルの空孔を有するコージェライト製のハニカム
状担体基材を、このスラリーに浸漬し、乾燥した後、５
００℃で１時間焼成することによって作製した。
【００１５】触媒層１と浄化触媒層１１を図１の装置に
組み込み、都市ガス及び空気の供給量を燃焼量２５０ｋ
ｃａｌ／ｈ、空気過剰率１．２となるように設定し、触
媒燃焼を上記の方法で開始させた。定常燃焼を３０分間
続け、流量制御装置５によって、触媒層１への空気供給
を停止させ、浄化触媒層１１への空気供給を始めた。触
媒層１の下流におけるＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割
合で増加を始めることを検出すると、流量制御装置３を
閉じ、都市ガスの供給を停止させた。その後、３ヶ月
間、空気雰囲気下で放置した。
組み込み、都市ガス及び空気の供給量を燃焼量２５０ｋ
ｃａｌ／ｈ、空気過剰率１．２となるように設定し、触
媒燃焼を上記の方法で開始させた。定常燃焼を３０分間
続け、流量制御装置５によって、触媒層１への空気供給
を停止させ、浄化触媒層１１への空気供給を始めた。触
媒層１の下流におけるＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割
合で増加を始めることを検出すると、流量制御装置３を
閉じ、都市ガスの供給を停止させた。その後、３ヶ月
間、空気雰囲気下で放置した。
【００１６】触媒燃焼開始時の活性は、火炎予熱終了後
の触媒層１の下流におけるＨＣ濃度の変化を測定し、Ｈ
Ｃ濃度が１０００ｐｐｍを切るまでの時間で比較した。
結果を（表１）に示す。 （実施例２）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．２となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
の触媒層１の下流におけるＨＣ濃度の変化を測定し、Ｈ
Ｃ濃度が１０００ｐｐｍを切るまでの時間で比較した。
結果を（表１）に示す。 （実施例２）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．２となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
【００１７】このものについて、着火時の活性を調べた
結果を（表１）に示す。 （実施例３）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．４となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
結果を（表１）に示す。 （実施例３）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．４となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
【００１８】このものについて、着火時の活性を調べた
結果を（表１）に示す。 （実施例４）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．６となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
結果を（表１）に示す。 （実施例４）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．６となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
【００１９】このものについて、着火時の活性を調べた
結果を（表１）に示す。 （実施例５）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．８となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
結果を（表１）に示す。 （実施例５）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、燃焼を停止させる時には、流量制御装置５によ
って、空気過剰率が０．８となるように空気流量を調節
し、ＨＣ濃度が１ｐｐｍ／ｓｅｃの割合で増加を始める
のを検出すると、流量制御装置３、５によって、混合ガ
ス供給を停止させた。その後、３ヶ月間、空気雰囲気下
で放置した。
【００２０】このものについて、着火時の活性を調べた
結果を（表１）に示す。 （実施例６）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、流量制御装置５によって、空気供給を停止させ
た。触媒層１の下流におけるＨＣ濃度が１秒間に１ｐｐ
ｍの割合で増加していることを検出すると、流量制御装
置３によって、都市ガスの供給を停止させた。空気供給
停止後の触媒層１の下流におけるＨＣ、ＣＯ濃度を測定
し、それぞれの濃度の最大値を（表２）に示した。 （実施例７）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、流量制御装置５によって、空気供給を停止させ
た。触媒層１の下流におけるＣＯ濃度が１秒間に１ｐｐ
ｍの割合で増加していることを検出すると、流量制御装
置３によって、都市ガスの供給を停止させた。空気供給
停止後の触媒層１の下流におけるＨＣ、ＣＯ濃度を測定
し、それぞれの濃度の最大値を（表２）に示した。 （実施例８）実施例６で、浄化触媒層１１の下流におけ
るＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの濃度の最大値を
（表２）に示した。 （実施例９）実施例７で、浄化触媒層１１の下流におけ
るＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの濃度の最大値を
（表２）に示した。 （比較例１）実施例１と同様に、燃焼量２５０ｋｃａｌ
／ｈ、空気過剰率１．２の条件で３０分間、定常燃焼さ
せた後、都市ガスと空気の供給を流量制御装置３、５に
よって停止した。その後、３日間、空気雰囲気下で放置
した。
結果を（表１）に示す。 （実施例６）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、流量制御装置５によって、空気供給を停止させ
た。触媒層１の下流におけるＨＣ濃度が１秒間に１ｐｐ
ｍの割合で増加していることを検出すると、流量制御装
置３によって、都市ガスの供給を停止させた。空気供給
停止後の触媒層１の下流におけるＨＣ、ＣＯ濃度を測定
し、それぞれの濃度の最大値を（表２）に示した。 （実施例７）実施例１と同じ条件で、３０分間、触媒燃
焼させ、流量制御装置５によって、空気供給を停止させ
た。触媒層１の下流におけるＣＯ濃度が１秒間に１ｐｐ
ｍの割合で増加していることを検出すると、流量制御装
置３によって、都市ガスの供給を停止させた。空気供給
停止後の触媒層１の下流におけるＨＣ、ＣＯ濃度を測定
し、それぞれの濃度の最大値を（表２）に示した。 （実施例８）実施例６で、浄化触媒層１１の下流におけ
るＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの濃度の最大値を
（表２）に示した。 （実施例９）実施例７で、浄化触媒層１１の下流におけ
るＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの濃度の最大値を
（表２）に示した。 （比較例１）実施例１と同様に、燃焼量２５０ｋｃａｌ
／ｈ、空気過剰率１．２の条件で３０分間、定常燃焼さ
せた後、都市ガスと空気の供給を流量制御装置３、５に
よって停止した。その後、３日間、空気雰囲気下で放置
した。
【００２１】このものについて、着火時の活性を調べた
結果を（表１）に示す。 （比較例２）実施例１と同様に、３０分間、触媒燃焼さ
せ、流量制御装置５によって、空気供給を停止させ、燃
料供給は停止させなかった。空気供給停止後の触媒層１
の下流におけるＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの最
大値を（表２）に示した。 （比較例３）比較例２で、浄化触媒１１層の下流におけ
るＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの最大値を（表
２）に示した。
結果を（表１）に示す。 （比較例２）実施例１と同様に、３０分間、触媒燃焼さ
せ、流量制御装置５によって、空気供給を停止させ、燃
料供給は停止させなかった。空気供給停止後の触媒層１
の下流におけるＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの最
大値を（表２）に示した。 （比較例３）比較例２で、浄化触媒１１層の下流におけ
るＨＣ、ＣＯ濃度を測定し、それぞれの最大値を（表
２）に示した。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】実施例１〜５と比較例１の結果から分かる
ように、空気過剰率が０．２以下で触媒燃焼を停止させ
ることによって、着火時の触媒活性低下防止に大きな効
果が見られ、その効果は長期間にわたって持続すること
が分かった。
ように、空気過剰率が０．２以下で触媒燃焼を停止させ
ることによって、着火時の触媒活性低下防止に大きな効
果が見られ、その効果は長期間にわたって持続すること
が分かった。
【００２５】また、実施例６〜９と比較例２、３の結果
から分かるように、触媒層１の下流側に排ガス検出器９
を設置し、ＨＣ濃度の増加を検出して、燃料ガス供給を
制御することにより、ＣＯの発生を完全に抑制すること
ができた。また、ＨＣの排出もかなり抑制することがで
きた。さらに、浄化触媒１１を触媒層１の下流側に設置
し、かつ主触媒と浄化触媒の途中経路で必要量の空気を
供給できるようにすると、ＣＯ、ＨＣの排出を完全に抑
制することができた。
から分かるように、触媒層１の下流側に排ガス検出器９
を設置し、ＨＣ濃度の増加を検出して、燃料ガス供給を
制御することにより、ＣＯの発生を完全に抑制すること
ができた。また、ＨＣの排出もかなり抑制することがで
きた。さらに、浄化触媒１１を触媒層１の下流側に設置
し、かつ主触媒と浄化触媒の途中経路で必要量の空気を
供給できるようにすると、ＣＯ、ＨＣの排出を完全に抑
制することができた。
【００２６】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明によると、長時間放置しても、触媒燃焼開始時に
優れた触媒活性を有する触媒燃焼装置を提供することが
できる。
本発明によると、長時間放置しても、触媒燃焼開始時に
優れた触媒活性を有する触媒燃焼装置を提供することが
できる。
【図１】本発明の一実施の形態の触媒燃焼装置の概略図
である。
である。
【符号の説明】 １ 触媒層 ２ 燃料供給管 ３ 流量制御装置 ４ エアーコンプレッサー ５ 流量制御装置 ６ 燃料−空気混合室 ７ 炎口 ８ 着火用電極 ９ 排ガス検出器 １０ 浄化用空気供給管 １１ 浄化触媒層 １２ セキエイガラス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 保坂 正人 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくともパラジウムを含む触媒層を備
えた触媒燃焼装置において、燃焼を停止させる時、空気
流量を燃料が完全燃焼するのに必要な空気量以下まで減
少、あるいは、燃料ガスのみを供給することにより、前
記触媒層に還元雰囲気を与えることを特徴とする触媒燃
焼装置。 - 【請求項２】 触媒層の下流側に、排ガスの特定成分を
検出する検出手段を備え、この検出結果に基づいて触媒
燃焼停止時に、空気及び／又は燃料の供給を制御するこ
とを特徴とする触媒燃焼装置。 - 【請求項３】 触媒層下流側に浄化触媒層を備え、かつ
前記触媒層と浄化触媒層の中間に空気を取り入れること
を特徴とする請求項２記載の触媒燃焼装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8121189A JPH09303723A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 触媒燃焼装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8121189A JPH09303723A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 触媒燃焼装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09303723A true JPH09303723A (ja) | 1997-11-28 |
Family
ID=14805068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8121189A Pending JPH09303723A (ja) | 1996-05-16 | 1996-05-16 | 触媒燃焼装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09303723A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100566504B1 (ko) * | 1998-06-05 | 2006-03-31 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 촉매 연소장치 및 연소 제어방법 |
-
1996
- 1996-05-16 JP JP8121189A patent/JPH09303723A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100566504B1 (ko) * | 1998-06-05 | 2006-03-31 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 촉매 연소장치 및 연소 제어방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |