JPH09304334A - 酸素センサ素子の製造方法及び酸素センサ素子 - Google Patents
酸素センサ素子の製造方法及び酸素センサ素子Info
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- JPH09304334A JPH09304334A JP8150255A JP15025596A JPH09304334A JP H09304334 A JPH09304334 A JP H09304334A JP 8150255 A JP8150255 A JP 8150255A JP 15025596 A JP15025596 A JP 15025596A JP H09304334 A JPH09304334 A JP H09304334A
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Abstract
の界面の界面抵抗が小さい酸素センサ素子の製造方法及
び酸素センサ素子を提供すること。 【解決手段】 固体電解質2と,該固体電解質2の表面
に形成された電極を有する。核形成用の貴金属化合物を
含有する溶液を上記固体電解質2の電極形成部分に塗布
して塗膜となし,次いで上記塗膜を加熱することにより
熱処理して貴金属核22が析出した核形成部20を形成
し,次いで該核形成部20に対しメッキを施してメッキ
膜119となし,更に該メッキ膜119を焼成すること
により上記電極を形成する。また,上記核形成部2にお
ける貴金属核22は,その平均粒径が0.05μm以下
である。
Description
に使用することができる酸素センサ素子の製造方法及び
酸素センサ素子に関する。
気ガスにおける酸素濃度を測定し,この値を元に空燃比
制御を行うために酸素センサが設けてある。上記酸素セ
ンサには,後述する図6に示すごとく,酸素濃度を検出
するための酸素センサ素子が内蔵されている。上記酸素
センサ素子は,固体電解質と,該固体電解質に設けられ
た電極とよりなり,上記電極は基準ガスと接触する内側
電極及び被測定ガスと接触する外側電極とよりなる。
るに当たっては,従来,以下に示す方法が採用されてい
た。まず固体電解質の電極形成部に対し貴金属核を付着
させ,核形成部となす。次いで,上記核形成部に対しメ
ッキを施しメッキ膜となす。その後,上記メッキ膜を焼
成する。以上により,上記電極を形成することができ
た。そして,上記核形成部は,上記電極形成部に対し白
金等の貴金属粒子を吹付けることにより形成されてい
た。
微細な穴(くぼみ)が形成されている(図1(a),図
24(a)参照)。従って,上記電極形成部となる固体
電解質の表面に貴金属粒子を塗布することにより,上記
貴金属粒子が上記穴に入り込み,核形成部を形成するこ
とができる。上記核形成部に対しメッキを施すことによ
り,メッキ液が穴内部の貴金属粒子と反応することによ
り,メッキ膜が個体電解質を構成する粒子と有機的に絡
み合い,両者の間にアンカー効果による強い密着力を得
ることができる。そして,上記メッキ膜を焼成すること
により電極が得られるため,この場合には,剥離し難い
電極を得ることができる。
は問題がある。即ち,上記電極としては,後述の図2,
図9等に示すごとく,固体電解質の表面に対し複雑なパ
ターンを形成するものもある。このため,貴金属粒子の
吹付けを利用した形成方法においては,固体電解質の表
面を部分的にマスキングする必要がある。このため,複
雑な形状の電極の製造は困難であった。
は,貴金属化合物を含有する溶液を電極形成部分に塗布
して塗膜となし,次いで上記塗膜を高温で加熱すること
により,溶液中の貴金属以外の成分(例えば,溶液のバ
インダ等)を揮発,分解し,貴金属核のみを析出させ,
核形成部となす方法が知られている(特開平4−957
66号)。この方法においては,例えば,スクリーン印
刷,スタンプ印刷,パッド印刷,ロール転写,ディップ
法,スプレー法,ディスペンサー法の利用等により,容
易に所望形状の電極形成部に核形成部を設けることがで
きる。
の形成方法においては,以下の問題が生じる。即ち,上
記塗膜の加熱は,およそ700℃以上という高温におい
てなされるため,貴金属の凝集が進行し,得られた核形
成部における貴金属核の平均粒径は0.1μm〜0.8
μmとなる。このため,図24(a)に示すごとく,上
述した固体電解質2の表面に存在する空孔21に上記貴
金属核92は入り込むことができず,空孔21の入口で
留まってしまう。
く,メッキ膜119が上記空孔21の内部まで行き渡ら
ず,該メッキ膜119と固体電解質2との間においてア
ンカー効果による密着力を得ることができない。
成方法においては,貴金属核92は固体電解質2の表面
において局在化してしまう。即ち,隣接する貴金属核9
2間の距離が大きい。そして,貴金属核92の存在しな
い部分では,メッキ膜119と固体電解質2との間に密
着力を得ることができず,更にこのような密着力を得ら
れない部分が固体電解質2の表面の広い範囲に形成され
てしまう。この結果,上記従来方法においては,電極の
剥離が生じ易く,かつ電極と固体電解質2との界面の界
面抵抗が増大し,酸素濃度検出に必要とする出力が得ら
れない酸素センサ素子が製造され易かった。
離が生じ難く,電極と固体電解質との界面の界面抵抗が
小さい酸素センサ素子の製造方法及び酸素センサ素子を
提供しようとするものである。
該固体電解質の表面に形成された電極を有する酸素セン
サ素子を製造するに当たり,核形成用の貴金属化合物を
含有する溶液を上記固体電解質の電極形成部分に塗布し
て塗膜となし,次いで上記塗膜を加熱することにより熱
処理して貴金属核が析出した核形成部を形成し,次いで
該核形成部に対しメッキを施してメッキ膜となし,更に
該メッキ膜を焼成することにより上記電極を形成してな
り,かつ上記核形成部における貴金属核は,その平均粒
径が0.05μm以下であることを特徴とする酸素セン
サ素子の製造方法にある。
液に含有される貴金属化合物が分解し,固体電解質の表
面に析出することにより形成された貴金属の半球体ない
し球体を示す。これらが所望の領域に集合して上記核形
成部を構成する。上記貴金属核は,メッキを施す際にメ
ッキ液に含まれる貴金属化合物と反応し,メッキ膜の形
成を助けることができる。なお,上記メッキは,無電解
メッキにより行うことができる。そして,上記核形成部
は,上述したごとく,上記貴金属化合物を含有した溶液
をスクリーン印刷,スタンプ印刷,パッド印刷,ロール
転写,ディップ法,スプレー法,ディスペンサー法等を
利用し,電極形成部分に塗布し,塗膜となす。この塗膜
に対し,上記熱処理を施すことにより核形成部を形成す
ることができる。
ド印刷,ロール転写を利用することが好ましい。上記方
法は,例えば円筒形の固体電解質の側面などの曲面に対
して所望の形状に塗膜を容易に形成することができると
いう優れた方法である。更に,上記パッド印刷,ロール
転写は,塗膜を精度よく形成することができるという点
においても好ましい。
し貴金属核となすと共に,溶液の他の成分を揮発または
分解し,貴金属核より分離することができる。以上によ
り,上記固体電解質の表面に核形成部を形成することが
できる。なお,上記貴金属核と固体電解質との密着力
は,アンカー効果によるものが主体となっている。
記核形成部に形成された貴金属核は,その平均粒径が
0.05μm以下である。ところで,上記固体電解質の
表面は,後述の図1(a)に示すごとく,微細な穴(く
ぼみ)が多数形成された状態にある。このため,上記貴
金属核は空孔の奥まで充分入り込むことができる(図1
(c)参照)。
金属化合物を含有した溶液を塗布,熱処理することによ
り,析出形成されたものである。このため,上記溶液を
塗布した電極形成部の全体に対し,貴金属核を均一に分
散形成させることができ,貴金属核が均一な分散状態に
ある核形成部を得ることができる。
は,固体電解質表面との界面において強いアンカー効果
により密着することができ,上記メッキ膜を焼成するこ
とにより得られた電極と固体電解質との間には強い密着
力を得ることができる。このため,上記電極は固体電解
質より剥離し難い。更に,上記貴金属核は核形成部の全
体に均一に分散しており,よって上述の強い密着力は電
極と固体電解質との界面の全体において作用する。従っ
て,両者の界面における界面抵抗は小さくなる。
が生じ難く,電極と固体電解質との界面の界面抵抗が小
さい酸素センサ素子の製造方法を提供することができ
る。
るものであればよい。詳細は後述する。更に,上記固体
電解質はイオン伝導性を示すものであればよい。例え
ば,ZrO2 −Y2 O3 系ジルコニア焼結体を用いるこ
とができる。また,形状に関しても特に問わない。例え
ば,円筒形(実施形態例1〜4参照),平板状(実施形
態例5参照)がある。
理は,温度200〜600℃において行うことが好まし
い。上記熱処理温度が600℃より高い場合には,貴金
属核の凝集が起こりやすくなるため,貴金属核の平均粒
径が0.05μmより大きくなるおそれがある。また,
上記貴金属核の凝集に伴い,該貴金属核が局在化するお
それもある。このような平均粒径の貴金属核により構成
された核形成部にはメッキ膜が密着し難いため,電極の
剥離が生じ易くなるおそれがある。
る場合には,貴金属化合物の分解が殆ど発生しないおそ
れがある。この場合には,貴金属核の析出が進行せず,
核形成部が得られず,よってメッキ膜も殆ど密着せず,
従って,該電極に固体電解質が露出した部分が生じてし
まうおそれがある。また,上記貴金属化合物を含有した
液体の貴金属化合物以外の成分である溶媒,バインダ
等,また,これらの成分より生成された炭素等が固体電
解質の表面に残留するおそれがある。この場合には,貴
金属核と固体電解質との間に強い密着力を得ることがで
きないおそれがある。
属化合物は有機貴金属化合物であることが好ましい。こ
のような上記貴金属化合物は溶液の粘度調整がより容易
となり,所望の位置に塗布する作業がより容易となる。
電解質は,その表面が凹凸処理されていることが好まし
い。上記凹凸処理により,固体電解質の表面に深い凹凸
を数多く形成することができる。これにより,固体電解
質とメッキ膜との接触面積を増大させ,より多くの貴金
属核とメッキ膜とが接触することができ,更にメッキ膜
が個体電解質の表面においてより深く入り込み,かつ数
多くの凹凸と絡み合うため,より強い密着力を両者の間
に作用させることができる。
側電極の外方に保護層等を設けた場合には,上記固体電
解質表面の凹凸が外側電極の密着力と共に該保護層の密
着力も高めることができる。なお,上記凹凸処理は,エ
ッチング,粉末塗布,溶射等の方法により行うことがで
きる。
属化合物を含有する溶液における上記貴金属化合物の濃
度は,上記溶液全量に対し0.05〜0.4重量%であ
ることが好ましい。上記濃度が0.05重量%未満であ
る場合には,貴金属化合物の量が少なすぎるため,電極
形成部に対し,貴金属核が均一に分散形成された核形成
部を形成することが困難となるおそれがある。この場合
には,メッキ膜と固体電解質との間に強い密着力を得難
いため,電極の剥離が生じ易くなるおそれがある。
合には,貴金属核の凝集が起こりやすく,該貴金属核の
平均粒径が0.05μmより大きくなるおそれがある。
また,上記貴金属核の凝集に伴い,該貴金属核が局在化
するおそれもある。このような平均粒径の貴金属核によ
り構成された核形成部にはメッキ膜が密着し難いため,
電極の剥離が生じ易くなるおそれがある。
属化合物における貴金属は,Pt,Pd,Au,Rhの
グループより選ばれる少なくとも一種であることが好ま
しい。これらの金属は,メッキを施すための触媒機能を
有し,固体電解質上に良好なメッキを施すことができ
る。
と,該固体電解質の表面に形成された電極を有する酸素
センサ素子において,上記電極は,固体電解質の表面に
設けた貴金属核を介して形成されたメッキ膜よりなり,
かつ上記貴金属核はその平均粒径が0.05μm以下で
あることを特徴とする酸素センサ素子にある。
おける貴金属核の平均粒径は0.05μm以下である。
従って,上述と同様に,上記核形成部に施したメッキ膜
は,固体電解質表面との界面において強いアンカー効果
により密着することができ,上記メッキ膜を焼成するこ
とにより得られた電極と固体電解質との間には強い密着
力を得ることができる。このため,上記電極は固体電解
質より剥離し難い。
一に分散しており,よって上述の強い密着力は電極と固
体電解質との界面の全体において作用する。従って,両
者の界面における界面抵抗は小さくなる。従って,電極
の剥離が生じ難く,電極と固体電解質との界面の界面抵
抗が小さい酸素センサ素子を提供することができる。
及び酸素センサ素子につき,図1〜図9を用いて説明す
る。図2に示すごとく,本例の酸素センサ素子1は,固
体電解質2と,該固体電解質2の表面に形成された電極
を有する。上記表面とは固体電解質2の外側面及び内側
面を示し,電極とは外側面に形成された外側電極11,
内側面に形成された内側電極12を示す。
当たっては,まず,核形成用の貴金属化合物を含有する
溶液を上記固体電解質2の電極形成部分に塗布して塗膜
となす。次いで,上記塗膜を加熱することにより熱処理
し,図1(a)に示すごとく,貴金属核22が析出した
核形成部20を形成する。次いで,上記核形成部20に
対しメッキを施しメッキ膜119となし,更に該メッキ
膜119を焼成することにより上記電極11,12を形
成する。そして,上記核形成部20における貴金属核2
2は,その平均粒径が0.05μm以下である。
説明する。本例の酸素センサ素子1は,図2,図3に示
すごとく,一方の先端を閉塞し,基準ガス室13を設け
たコップ状のジルコニア固体電解質2よりなる。上記固
体電解質2の外側面には外側電極11が,上記基準ガス
室13を形成する内側面には内側電極12が設けてあ
る。なお,上記固体電解質2の外側面には半径方向外方
に突出した鍔部29が設けてある。そして,上記鍔部2
9の上方には二段の段差が設けてある。
1は上記固体電解質2の先端部201に帯状に設けてあ
る。図2(b)に示すごとく,上記内側電極12は,上
記外側電極11と対応する基準ガス室13の内側面に設
けてある。上記外側電極11及び内側電極12は,これ
らより上方に延設された電極リード部110,120に
よって,上記固体電解質2の胴部202に設けた電極端
子部111,121と導通がとられている。そして,上
記電極端子部12は,上記固体電解質2の外側面に設け
てある。また,図7に示すごとく,上記電極端子部12
1が,上記固体電解質2の内側面に設けることもある。
て,外側電極11,電極リード部110及び電極端子部
111は一体形成されている。同様に,内側面におい
て,内側電極12,電極リード部120及び電極端子部
121は一体形成されている。そして,図3に示すごと
く,上記電極リード部110,120は固体電解質2の
対向する側面に2ヶ所設けてある。また,図8に示すご
とく,上記電極リード部110,120を固体電解質2
の対向しない側面に設けることができる。また,必ずし
も電極リード部が2本である必要はなく,センサ出力を
取り出すことができればよい。
長さに形成されており,その電極長さL1,L2は共に
10mmである。また,電極厚みは共に1μmである。
更に上記電極リード部110,120におけるリード幅
W1,W2は共に1.5mm,電極リード部110の長
さR1は23mm,電極リード部120の長さR2は3
4mmである。更に,電極端子部111,121は共に
横幅5mm,縦幅4mmの長方形状である。なお,上記
電極端子部111,121の形状は,出力を取り出すこ
とができればよい。
0mmであることが好ましい。上記電極長さが2mmよ
りも短い場合には,必要な酸素センサ出力が取り出せな
いおそれがあり,電極長さが20mmより長い場合に
は,酸素センサの出力が応答性の劣る部分(低温部)の
出力も含み,全体として応答性が悪化するおそれがあ
る。また,コスト効果も小さくなるおそれがある。
素センサ3につき説明する。図6に示すごとく,上記酸
素センサ3は,ハウジング30と該ハウジング30に挿
入配置された酸素センサ素子1とよりなる。上記ハウジ
ング30の下方には被測定ガス室33を形成し,酸素セ
ンサ素子1の先端部201を保護するための二重の被測
定ガス側カバー330が設けてある。上記ハウジング3
0の上方には,三段の大気側カバー31,32,33が
設けてある。また,上記酸素センサ素子1の基準ガス室
13には棒状のヒータ34が挿入配置されている。上記
ヒータ34は基準ガス室13の内側面との間に所望のク
リアランスを確保して,挿入配置されている。
は,リード線391〜393を挿通させた弾性絶縁部材
39が設けてある。上記リード線391,392は,固
体電解質2において発生した電流を信号として取出し,
外部に送るものである。また,上記リード線393は,
上記ヒータ34に対し通電し,これを発熱させるための
ものである。
続端子383,384が設けてあり,該接続端子38
3,384により,上記酸素センサ素子1に固定したタ
ーミナル381,382との導通が取られている。な
お,上記ターミナル381,382は,上記酸素センサ
素子1における電極端子部111,121に対し接触固
定されている。
つき詳細に説明する。なお,上記外側電極11に導通す
る電極リード部110,電極端子部111は,上記外側
電極11と同時に形成した一体部分である。内側電極1
2についても同様である。従って,電極形成部とは,上
記外側電極11及び内側電極12が形成される部分だけ
でなく,電極リード部110,120,電極端子部11
1,121が形成される部分をも含んでいる。
状に成形,仮焼成し固体電解質2を得る。次いで,上記
固体電解質2の表面,即ち内側面及び外側面の双方の電
極形成部に対し,貴金属化合物を含有する溶液を塗布
し,塗膜となす(図2(a)及び(b)参照)。上記貴
金属化合物としては,有機白金化合物例えば,ジべンジ
リデン白金(化学式;C16H16Pt)を使用する。そし
て,上記溶液中に上記有機白金化合物は0.4重量%含
有されている。なお,上記溶液は,上記有機白金化合物
の他に,アクリル系バインダ,ターピネオールよりな
る。
対してはディスペンサー法を利用し,溶液を塗布した。
また,上記外側面に対しては,パッド印刷を数回行うこ
とにより,溶液を塗布した。
いては,図4に示す形状の内部が空洞となったノズル4
を使用する。上記ノズル4の先端部41はほぼ90度に
曲折され,該先端部41の中心には溶液を噴出させるた
めの吹出穴410が設けてある。
ガス室13の底部近傍まで挿入する。この挿入の際に片
方の電極リード部を塗布する。そして,この位置におい
て,上記ノズル4の先端部41を上下左右に回動させつ
つ溶液を塗布する。これにより,電極形成部の中で,内
側電極12となる部分への塗布が完了する。次いで,上
記先端部41より溶液を噴出させつつ,ノズル4を基準
ガス室13の上方に引き上げる。この時,上記ノズル4
の先端部41は,内側面の周方向には動かさない。
位置に設けられた電極リード部120となる部分への塗
布が完了する。更に,その後電極リード部120を固体
電解質2の外側面へ引き出すリード部129(図2参
照)を塗布し,その後固体電解質2の上端部近傍で電極
端子部121となる部分へ塗布し,完了する。
するノズル4としては,図5に示す形状のものを用いて
もよい。上記ノズル4の先端部は多孔質体42より構成
され,該多孔質体42の内部の微細孔より,上記溶液を
噴出させ,塗布を行う。
記塗膜を温度400℃にて熱処理し,塗膜中のバインダ
等を除去すると共に,有機白金化合物を分解し,白金よ
りなる貴金属核を上記電極形成部に対し析出させる。以
上により,図1(a),(c)に示すごとく,貴金属核
22が均一に分散し,かつ固体電解質2の表面の多数の
細孔21に充分入り込んだ,核形成部20が形成され
た。
成部20に対し,白金の無電解メッキを施し,メッキ膜
を形成した。なお,メッキ膜は白金以外の貴金属,例え
ばPd,Au,Rhなどでも良く貴金属核と同一材料と
しなくてもよい。その後,上記メッキ膜を固体電解質2
ごと温度1000℃で焼成し,上記外側電極11及び内
側電極12,電極リード部110,120,電極端子部
111,121となす。以上により,本例の酸素センサ
素子1を得た。
用効果につき,以下に説明する。上記酸素センサ素子1
における固体電解質2の表面は,図1(a)に示すごと
く,多数の穴(くぼみ)21が形成されている。
その平均粒径が0.05μm以下と,上記空孔21と比
べて大変小さい。このため,上記貴金属核22は上記空
孔21の内部に充分に入り込むことができる。その上,
図1(c)に示すごとく,上記穴21の更に内部に形成
された穴(くぼみ)210にさえも入り込むことができ
る。また,隣接する貴金属核22の距離dも大変小さ
く,貴金属核は上記電極形成部に対して局在化すること
なく,均一に分散した状態となった核形成部20を形成
している。
キ膜119は,固体電解質2の表面との界面において強
いアンカー効果により密着することができ,上記メッキ
膜119を焼成することにより得られた外側電極11及
び内側電極12と固体電解質2との間には強い密着力を
得ることができる。このため,上記外側電極11及び内
側電極12は固体電解質2より剥離し難い。
に均一に分散しており,よって上述の強い密着力は外側
電極11及び内側電極12と固体電解質2との界面の全
体において作用する。従って,両者の界面における界面
抵抗は小さくなる。また,これらの作用は,電極リード
部110,120,電極端子部111,121において
も得ることができる。
料の性能評価につき,比較試料と共に説明する。表1,
表2において試料を示す。表1は本発明にかかる試料,
表2は比較試料について記したものである。上記試料は
それぞれ上述の製造方法に基づいて製造された酸素セン
サ素子である。ただし,有機貴金属化合物として,Pt
の場合には例えば,ジべンジリデン白金(化学式;C16
H16Pt)を,Pdの場合にはバルサムパラジウム(化
学式;C10H18SPdClx ,ここにxは1〜3)を使
用した。
酸素センサ素子の抵抗値及び剥離試験に基づき行った。
上記抵抗値は,温度400℃における外側電極と内側電
極との間の直流抵抗を測定することにより判定した。
電極に対し密着させ,その後該テープを剥離することに
より行った。剥離後,上記外側電極のマクロ観察によ
り,電極の剥離が無く,かつミクロ観察においても,電
極がめくれ上がる等といった剥離がなかった場合,表1
及び表2において○と記した。なお,上記マクロ観察と
は拡大鏡による観察である。ミクロ観察とは,走査型電
子顕微鏡を用いた観察である。
表1に示す試料1〜19にかかる酸素センサ素子は,抵
抗値がいずれも低く,界面抵抗が低いことが分かった。
このため,これらの酸素センサ素子は,酸素濃度の検知
に必要な出力を充分得ることができる状態にあることが
分かった。また,これらの酸素センサ素子は剥離試験の
結果も優れていた。
にかかる酸素センサ素子は抵抗値が大きく,剥離試験の
結果も悪かった。以上により本発明にかかる酸素センサ
素子は電極の剥離が生じ難く,電極と固体電解質との界
面の界面抵抗が小さく,酸素濃度の検知に必要出力が得
られることが分かった。なお,仮に界面抵抗が高い場合
には,酸素濃度の検知に必要な充分な出力が得られない
ため,正確な酸素濃度の検知が不可能となる。
貴金属化合物として有機貴金属化合物を使用したが,表
3に示すごとく,無機の貴金属化合物を使用することも
できる。表3に示す,試料29,30の場合において
も,試料1と同様の濃度となる溶液を準備し,該溶液を
塗布し,同様の熱処理を施すことで,小さな平均粒径の
貴金属核よりなる核形成部が得られたことが分かった。
このため,試料1〜19と同様に優れた酸素センサ素子
を得ることができることが分かった。
体電解質2は,図2に示すごとく,鍔部29の上方に二
段の段差が設けてある。上記固体電解質2として,図9
に示すごとく,鍔部29の上方の段差を一段としたもの
を使用することもできる。また,段差をもたないものを
使用することもできる。
酸素センサ素子であって,外側電極11及び内側電極1
2の形状がそれぞれ異なる酸素センサ素子1を示すもの
である。図10(a),(b)に示す酸素センサ素子1
は,電極等を形成するに当たり,固体電解質の外側面に
おいては,メッキ膜を先端部から胴部に渡る広い範囲に
設け,内側面においては,該内側面の全面に設けてあ
る。
子1は,実施形態例1とほぼ同形状の外側電極11及び
内側電極12を有している。ただし,上記外側電極11
及び内側電極12の下方は酸素センサ素子1の先端部2
01全体を被覆した形状を有している。
素センサ素子1は,外側電極11及び内側電極12の概
略形状は実施形態例1と同様であるが,上記外側電極1
1及び内側電極12は網目状に形成されているものであ
る。図14(a),(b)に示す酸素センサ素子1も,
実施形態例1とほぼ同形状の外側電極11及び内側電極
12を有している。ただし,上記外側電極11及び内側
電極12の長さL1,L2は実施形態例1において示し
たものの約半分である。
素センサ素子1も,実施形態例1と同形状の外側電極1
1及び内側電極12を有している。ただし,上記外側電
極11及び内側電極12より延設された電極リード部1
10,120は各々4本となったものである。その他
は,いずれの酸素センサ素子1も,実施形態例1と同様
である。
子1を製造するに当たっても,実施形態例1と同様に,
まず,貴金属化合物を含有する溶液を上記固体電解質の
電極形成部分に塗布して塗膜となし,その後該塗膜を加
熱することにより熱処理し,貴金属核が析出した核形成
部となす。その後,上記核形成部に対しメッキ膜を形成
し,該メッキ膜を固体電解質ごと焼成することにより,
酸素センサ素子となした。なお,上記貴金属核の平均粒
径は,いずれも0.05μm以下である。
につき説明する。図10に示す酸素センサ素子1におい
ては,外側電極等の形状が非常に単純であるため,核形
成部の形成を容易に行うことでき,酸素センサ素子の製
造が容易となる。図11に示す酸素センサ素子において
も,外側電極11及び内側電極12を固体電解質10の
先端部201まで設けてあるため,核形成部を形成する
に当たり,マスキング等の作業が一部不要となり,酸素
センサ素子の製造が容易となる。
は,網目状に外側電極11及び内側電極12を構成する
ことにより,固体電解質10への酸素の拡散性が向上す
る。よって,応答性に優れた酸素センサ素子を得ること
ができる。なお,上記網目状に形成する電極は,外側電
極11のみ,内側電極12のみであっても,上述の効果
を得ることができる。
は,使用する貴金属の量を低減することができる。図1
3に示す酸素センサ素子1においては,片方の電極リー
ド部が劣化しても十分なセンサ出力を取り出すことがで
きる。その他は,実施形態例1と同様の作用効果を有す
る。
酸素センサ素子であって,外側電極11に保護層を設け
た酸素センサ素子である。図17に示す酸素センサ素子
1は,図9と同様の外側電極11及び内側電極12を有
する酸素センサ素子1である。そして,上記外側電極1
1の全体を被覆するよう第一保護層191が設けられて
いる。上記第一保護層191は拡散抵抗層としての機能
も有しており,その厚みは100μm,気孔率20%
で,MgAl2 O4 スピネルを用い,プラズマ溶射によ
り形成されている。
と同様の構造の酸素センサ素子1である。ただし,第一
保護層191の表面に,更に第二保護層192を設けて
ある。上記第二保護層は,その厚みが120μm,気孔
率20〜50%で,Al2 O3 より形成されている。そ
して,上記第二保護層192は,Al2 O3 をスラリー
化し,ディッピング法により第一保護層191の表面を
コートした後,熱処理を施すことにより形成することが
できる。その他は実施形態例1と同様である。
電極11の表面に第一保護層191が設けてある。従っ
て,外側電極11の耐久性に優れた酸素センサ素子1を
得ることができる。また,図18に示す酸素センサ素子
1においては,上述の効果の他に,第二保護層192に
よる被毒物のトラップ効果を得ることができる。このた
め,更に外側電極11の耐久性に優れた酸素センサ素子
1を得ることができる。
層192を設けた酸素センサ素子1において,凹凸処理
を固体電解質2の表面に施した後,電極形成部に対し核
形成部を設けることもできる。これにより,外側電極1
1及び第一保護層191の,固体電解質2に対する付着
強度が向上し,耐久性に優れた酸素センサ素子1を得る
ことができる。
酸素センサ素子1である。上記酸素センサ素子1を製造
するに当たっては,まず,固体電解質2の外側面に対
し,核形成部を先端部201から胴部202におけるA
部に至る範囲に設け,該核形成部に対し,メッキ膜を設
ける。次いで,図20に示すごとく,外側電極11とし
て作用する先端部201のメッキ膜を除いた部分に対
し,MgAl2 O4 スピネルまたはAl2 O3 よりなる
絶縁層17を設ける。
よう電極リード部110及び電極端子部111を上記絶
縁層17の上に設ける(図21)。その後,上記固体電
解質2と共にメッキ膜を焼成することにより,本発明に
かかる酸素センサ素子1を得た。その他は実施形態例1
と同様である。
の劣る部分をマスキングしているため,この部分のセン
サ出力は含まず,全体として優れた応答性を有する。そ
の他は実施形態例1と同様の作用効果を有する。
層型酸素センサ素子5である。上記積層型酸素センサ素
子5は,図22,図23に示すごとく,外側電極11及
び内側電極12を設けた板状の固体電解質2よりなる酸
素センサ素子である。そして,上記外側電極11及び内
側電極12は,固体電解質2の電極形成部に対し,実施
形態例1と同様の手順でもって,核形成部を形成し,そ
の後メッキ膜を形成し,更にこれらを焼成することによ
り,得ることができる。
外側面には第一及び第二保護層191,192が設けて
ある。また,内側電極12を設けた固体電解質2の内側
面には,大気導入用のダクトを有し,かつ内部に発熱体
58を内蔵したヒータ基板59を設けてある。上記ヒー
タ基板59はAl2 O3 よりなり,プレス成形,インジ
ェクション成形,シート成形,積層等により形成された
セラミックシートである。
10を介して外部に露出した電極端子部111と導通し
ている。また,上記内側電極12も,電極リード部12
0を介して外部に露出した電極端子部121と導通して
いる。上記電極端子部111,121は酸素センサ素子
5の外表面に露出形成されている。その他は実施形態例
1と同様である。
層型であっても,本発明は適用することができる。そし
て,実施形態例1と同様の効果を有する。なお,積層型
酸素センサ素子5として,本例以外の構造を有するもの
であっても,同様の効果を得ることができる。異なる構
造の例としては,複数枚の固体電解質に対し電極を設け
た2セルタイプ等の積層型酸素センサ素子がある。
(a)固体電解質の表面の拡大図,(b)固体電解質の
表面に設けたメッキ膜の拡大図,(c)固体電解質の表
面の穴(くぼみ)の拡大図。
(a)正面図,(b)縦断面図。
部近傍の横断面図。
用するノズルの正面図と側面図。
用する他のノズルの正面図と側面図。
(a)正面図,(b)縦断面図。
先端部近傍の横断面図。
段である固体電解質の正面図。
極,電極リード部,電極端子部を表面の広い範囲に設け
た酸素センサ素子の(a)正面図,(b)縦断面図。
をも被覆した電極を設けた酸素センサ素子の(a)正面
図,(b)縦断面図。
び内側電極を設けた酸素センサ素子の(a)正面図,
(b)縦断面図。
センサ素子の電極表面の要部拡大図。
短い外側電極及び内側電極を設けた酸素センサ素子の
(a)正面図,(b)縦断面図。
極それぞれに4本の電極リード部を設けた酸素センサ素
子の(a)正面図,(b)縦断面図。
センサ素子の先端部近傍の横断面図。
酸素センサ素子の先端部の縦断面図。
酸素センサ素子の先端部の縦断面図。
酸素センサ素子の固体電解質,電極及び保護層の界面の
要部断面図。
センサ素子の正面図。
センサ素子の先端部の縦断面図。
素子の正面図。
センサ素子の横断面図。
拡大図,(b)固体電解質の表面に設けたメッキ膜の拡
大図。
Claims (7)
- 【請求項1】 固体電解質と,該固体電解質の表面に形
成された電極を有する酸素センサ素子を製造するに当た
り,核形成用の貴金属化合物を含有する溶液を上記固体
電解質の電極形成部分に塗布して塗膜となし,次いで上
記塗膜を加熱することにより熱処理して貴金属核が析出
した核形成部を形成し,次いで該核形成部に対しメッキ
を施してメッキ膜となし,更に該メッキ膜を焼成するこ
とにより上記電極を形成してなり,かつ上記核形成部に
おける貴金属核は,その平均粒径が0.05μm以下で
あることを特徴とする酸素センサ素子の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1において,上記熱処理は,温度
200〜600℃において行うことを特徴とする酸素セ
ンサ素子の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1または2において,上記貴金属
化合物は有機貴金属化合物であることを特徴とする酸素
センサ素子の製造方法。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか一項において,
上記固体電解質は,その表面が凹凸処理されていること
を特徴とする酸素センサ素子の製造方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項において,
上記貴金属化合物を含有する溶液における上記貴金属化
合物の濃度は,上記溶液全量に対し0.05〜0.4重
量%であることを特徴とする酸素センサ素子の製造方
法。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか一項において,
上記貴金属化合物における貴金属は,Pt,Pd,A
u,Rhのグループより選ばれる少なくとも一種である
ことを特徴とする酸素センサ素子の製造方法。 - 【請求項7】 固体電解質と,該固体電解質の表面に形
成された電極を有する酸素センサ素子において,上記電
極は,固体電解質の表面に設けた貴金属核を介して形成
されたメッキ膜よりなり,かつ上記貴金属核はその平均
粒径が0.05μm以下であることを特徴とする酸素セ
ンサ素子。
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