JPH09315848A - 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ用セラミック材料Info
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- JPH09315848A JPH09315848A JP8277117A JP27711796A JPH09315848A JP H09315848 A JPH09315848 A JP H09315848A JP 8277117 A JP8277117 A JP 8277117A JP 27711796 A JP27711796 A JP 27711796A JP H09315848 A JPH09315848 A JP H09315848A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 加工性が非常によく、緻密な構造を有し、硬
度が大きく、非磁性であり、信頼性が高く、粒脱落がな
いセラミック材料を得、磁気ヘッドスライダ材料とし
て、CS/S特性を極めて良好なものとする。 【解決手段】 炭化チタン好ましくは30〜40重量%
と、アルミナとを含む焼結体セラミック材料であり、焼
結体中の炭化チタンの中心粒径を好ましくは1.5〜
2.5μm、0.1μm以下の粒径のものを10重量%
以下に規制する。
度が大きく、非磁性であり、信頼性が高く、粒脱落がな
いセラミック材料を得、磁気ヘッドスライダ材料とし
て、CS/S特性を極めて良好なものとする。 【解決手段】 炭化チタン好ましくは30〜40重量%
と、アルミナとを含む焼結体セラミック材料であり、焼
結体中の炭化チタンの中心粒径を好ましくは1.5〜
2.5μm、0.1μm以下の粒径のものを10重量%
以下に規制する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に磁気ヘッドス
ライダ用に用いるセラミック材料に関する。
ライダ用に用いるセラミック材料に関する。
【0002】
【従来の技術とその問題点】最近、高密度記録用磁気ヘ
ッドのヘッド磁気回路構成材料として、高透磁率を有す
るパーマロイ薄膜が使用されている。このような磁気ヘ
ッドのスライダ材料としてはセラミック材料が一般に用
いられているが、その場合、CS/S特性(スライダ摺
動面の耐摩耗性等)が良好なこと、緻密な構造で硬度が
大きく、かつ切断、溝入れ、鏡面加工等の各工程におい
て、加工性に優れていることなどが要求される。 この
ような要求を満たすものとして、アルミナー炭化チタン
(Al2 O3 −TiC)焼結体が挙げられる。
ッドのヘッド磁気回路構成材料として、高透磁率を有す
るパーマロイ薄膜が使用されている。このような磁気ヘ
ッドのスライダ材料としてはセラミック材料が一般に用
いられているが、その場合、CS/S特性(スライダ摺
動面の耐摩耗性等)が良好なこと、緻密な構造で硬度が
大きく、かつ切断、溝入れ、鏡面加工等の各工程におい
て、加工性に優れていることなどが要求される。 この
ような要求を満たすものとして、アルミナー炭化チタン
(Al2 O3 −TiC)焼結体が挙げられる。
【0003】例えば、特開昭55−163665号に記
載のAl2 O3 とTiCとの混合物をホットプレス法に
よって焼成して得られるもので、飛行磁気ヘッドのスラ
イダ要素に用いられるもの、
載のAl2 O3 とTiCとの混合物をホットプレス法に
よって焼成して得られるもので、飛行磁気ヘッドのスラ
イダ要素に用いられるもの、
【0004】特開昭56−140066号に記載のAl
2 O3 とTiCに、酸化イットリウム(固溶体あるいは
複合物の構成成分として含まれる場合もある)または炭
化イットリウム(ダブルカーバイドあるいは複合物の構
成成分として含まれる場合もある)の形でイットリウム
を添加して、熱間等方等圧加圧(HIP)法によって得
られるもの、
2 O3 とTiCに、酸化イットリウム(固溶体あるいは
複合物の構成成分として含まれる場合もある)または炭
化イットリウム(ダブルカーバイドあるいは複合物の構
成成分として含まれる場合もある)の形でイットリウム
を添加して、熱間等方等圧加圧(HIP)法によって得
られるもの、
【0005】特開昭57−135772号に記載のAl
2 O3 、TiCおよびTiO2 に、MgO、NiO、C
r2 O3 、ZrO2 から選ばれる少なくとも1つの快削
性付与剤とY2 O3 とを添加して、HIP法によって得
られるものなどである。
2 O3 、TiCおよびTiO2 に、MgO、NiO、C
r2 O3 、ZrO2 から選ばれる少なくとも1つの快削
性付与剤とY2 O3 とを添加して、HIP法によって得
られるものなどである。
【0006】この他に、MoあるいはWを単体もしくは
炭化物の形で添加して焼成し、Al2 O3 −TiC焼結
体を得る方法も挙げられる。
炭化物の形で添加して焼成し、Al2 O3 −TiC焼結
体を得る方法も挙げられる。
【0007】さらには、特公昭60−54266号に記
載のMgO,Y2 O3 ,CrO3 ,NiOのうちの少な
くとも1種以上およびZrO2 を含む酸化アルミニウム
(粉末の平均粒径1μm 以下)と炭酸化チタン粉末を含
む炭化チタン粉末(粉末の平均粒径1μm 以下)とを混
合して還元性の雰囲気で焼結して得られるもの、特公昭
51−569号および同53ー14568号に記載の炭
化チタン粉末、酸化チタン粉末、アルミナ粉末の混合粉
末をホットプレスして得られるものなどが挙げられる。
載のMgO,Y2 O3 ,CrO3 ,NiOのうちの少な
くとも1種以上およびZrO2 を含む酸化アルミニウム
(粉末の平均粒径1μm 以下)と炭酸化チタン粉末を含
む炭化チタン粉末(粉末の平均粒径1μm 以下)とを混
合して還元性の雰囲気で焼結して得られるもの、特公昭
51−569号および同53ー14568号に記載の炭
化チタン粉末、酸化チタン粉末、アルミナ粉末の混合粉
末をホットプレスして得られるものなどが挙げられる。
【0008】しかし、以上のような方法で得られたAl
2 O3 −TiC焼結体は、いずれも切断加工速度を大き
くすると、チッピング発生率が高く、粒脱落しやすくな
ること、また、鏡面加工時にも粒脱落しやすいこと等の
加工性に問題を残している。
2 O3 −TiC焼結体は、いずれも切断加工速度を大き
くすると、チッピング発生率が高く、粒脱落しやすくな
ること、また、鏡面加工時にも粒脱落しやすいこと等の
加工性に問題を残している。
【0009】チッピング発生率を低下させるために、セ
ラミック工具材料用のセラミック焼結体では、Fe族の
金属が単体もしくは酸化物の形で添加されているが、非
磁性でなくなり、磁気ヘッドスライダ材料として用いる
場合に好ましくない事態が生ずる。
ラミック工具材料用のセラミック焼結体では、Fe族の
金属が単体もしくは酸化物の形で添加されているが、非
磁性でなくなり、磁気ヘッドスライダ材料として用いる
場合に好ましくない事態が生ずる。
【0010】そこで、このような問題を解消した、Al
2 O3 −TiC焼結体として、本発明者等は、Ga,B
a,CeおよびNbの酸化物の少なくとも1種を添加し
たものを提案している(特願昭59−278810
号)。
2 O3 −TiC焼結体として、本発明者等は、Ga,B
a,CeおよびNbの酸化物の少なくとも1種を添加し
たものを提案している(特願昭59−278810
号)。
【0011】しかし、このものでも、特に磁気ヘッドス
ライダを製造する上で加工性、信頼性、CS/S特性の
上で充分ではなく、この点の改善が望まれている。
ライダを製造する上で加工性、信頼性、CS/S特性の
上で充分ではなく、この点の改善が望まれている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
粒脱落がなく、加工性が非常によく、緻密な構造を有
し、硬度が大きく、非磁性であり、信頼性およびCS/
S特性が高い磁気ヘッドスライダ用として有用なセラミ
ック材料を提供することにある。
粒脱落がなく、加工性が非常によく、緻密な構造を有
し、硬度が大きく、非磁性であり、信頼性およびCS/
S特性が高い磁気ヘッドスライダ用として有用なセラミ
ック材料を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(2)の本発明により達成される。 (1)炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを5〜40重量%含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が1.0〜2.5μmで
あり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のものが
10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 (2)5〜40重量%の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物100重量部に対し、Ga,Ba,Ce,Nbお
よびTiの酸化物の少なくとも1種を0.01〜10重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が1.0〜2.5μmであり、炭化チタン
のうち粒径が0.1μm以下のものが10重量%以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。
(1)〜(2)の本発明により達成される。 (1)炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを5〜40重量%含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が1.0〜2.5μmで
あり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のものが
10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 (2)5〜40重量%の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物100重量部に対し、Ga,Ba,Ce,Nbお
よびTiの酸化物の少なくとも1種を0.01〜10重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が1.0〜2.5μmであり、炭化チタン
のうち粒径が0.1μm以下のものが10重量%以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。本発明のセラミック材料は、アルミ
ナ−炭化チタン焼結体である。そして、焼結体中での炭
化チタン(TiC)の平均粒径は、1.0〜2.5μ
m、好ましくは1.5〜2.0μmである。
て詳細に説明する。本発明のセラミック材料は、アルミ
ナ−炭化チタン焼結体である。そして、焼結体中での炭
化チタン(TiC)の平均粒径は、1.0〜2.5μ
m、好ましくは1.5〜2.0μmである。
【0015】TiCの焼結体中での平均粒径が1.0μ
m未満では加工性が非常に悪く、2.5μmをこえると
強度の低下がみられるからである。
m未満では加工性が非常に悪く、2.5μmをこえると
強度の低下がみられるからである。
【0016】TiCの粒度分布としては、粒径0.5〜
2.0μmのTiCがTiC粒子の総数の80%以上と
なるようなものである。この測定は電子顕微鏡写真等に
より行なえばよい。
2.0μmのTiCがTiC粒子の総数の80%以上と
なるようなものである。この測定は電子顕微鏡写真等に
より行なえばよい。
【0017】また、焼結体中でのTiCのうち0.1μ
m以下の粒径のものが10重量%以下、より好ましくは
総数の10%以下ないし0であることが好ましい。0.
1μm以下の粒径のTiCは、表面の活性が高く、特に
スライダとして用いた時の信頼性試験およびCS/S特
性上、欠陥の原因となるからである。
m以下の粒径のものが10重量%以下、より好ましくは
総数の10%以下ないし0であることが好ましい。0.
1μm以下の粒径のTiCは、表面の活性が高く、特に
スライダとして用いた時の信頼性試験およびCS/S特
性上、欠陥の原因となるからである。
【0018】アルミナ−炭化チタン焼結体は、アルミナ
(Al2 O3 )の粉末と炭化チタン(TiC)の粉末の
混合物を含有するものであり、好ましくは、さらに、G
a、Ba、Ce、Nb、およびTiの酸化物から選ばれ
た少なくとも1種を含有するものである。
(Al2 O3 )の粉末と炭化チタン(TiC)の粉末の
混合物を含有するものであり、好ましくは、さらに、G
a、Ba、Ce、Nb、およびTiの酸化物から選ばれ
た少なくとも1種を含有するものである。
【0019】そして、このようなアルミナ−炭化チタン
焼結体は、アルミナ(Al2 O3 )の粉末と炭化チタン
(TiC)の粉末の混合物に、一般に、好ましくは、さ
らに、Ga,Ba,Ce,Nbの酸化物(例えば、Ga
O、CeO2 、Nb2 O5 等)または焼成により酸化物
となる化合物、例えば、炭酸化合物(例えば、BaCO
3 、CaCo3 、SrCO3 等)の化合物の粉末、なら
びにTiの酸化物から選ばれた少なくとも1種を添加し
て、焼成してなるものである。
焼結体は、アルミナ(Al2 O3 )の粉末と炭化チタン
(TiC)の粉末の混合物に、一般に、好ましくは、さ
らに、Ga,Ba,Ce,Nbの酸化物(例えば、Ga
O、CeO2 、Nb2 O5 等)または焼成により酸化物
となる化合物、例えば、炭酸化合物(例えば、BaCO
3 、CaCo3 、SrCO3 等)の化合物の粉末、なら
びにTiの酸化物から選ばれた少なくとも1種を添加し
て、焼成してなるものである。
【0020】Tiの酸化物等の添加方法としては、
(1)Tiの酸化物(TiO2 、TiO、Ti2 O3
等)の粉末あるいは少なくとも表面がTiの酸化物であ
る粉末または焼成により酸化物となる化合物、例えば、
Tiのアルコキシド([(CH3 )2 CHO]4 Ti
等)の粉末を直接添加する方法、(2)アルミナ−炭化
チタン焼結体をホットプレス法、熱間等方等圧加圧(H
IP)法等により焼成する際、酸素雰囲気を用いること
により炭化チタンの一部をTiの酸化物、TiO2 とす
る方法などが挙げられる。これらの方法は単独で用いて
も併用してもよい。
(1)Tiの酸化物(TiO2 、TiO、Ti2 O3
等)の粉末あるいは少なくとも表面がTiの酸化物であ
る粉末または焼成により酸化物となる化合物、例えば、
Tiのアルコキシド([(CH3 )2 CHO]4 Ti
等)の粉末を直接添加する方法、(2)アルミナ−炭化
チタン焼結体をホットプレス法、熱間等方等圧加圧(H
IP)法等により焼成する際、酸素雰囲気を用いること
により炭化チタンの一部をTiの酸化物、TiO2 とす
る方法などが挙げられる。これらの方法は単独で用いて
も併用してもよい。
【0021】Tiの酸化物、TiO2 はAl2 O3 −T
iC焼結体においてAl2 O3 とTiCとの間に介在し
てAl2 O3 とTiCとの粒結合を強固にする役目を果
たすと考えられる。
iC焼結体においてAl2 O3 とTiCとの間に介在し
てAl2 O3 とTiCとの粒結合を強固にする役目を果
たすと考えられる。
【0022】Al2 O3 粉末は微粉化することが好まし
く、平均粒子径が0.1〜1μm 、特に0.4〜0.6
μm であることが好ましい。
く、平均粒子径が0.1〜1μm 、特に0.4〜0.6
μm であることが好ましい。
【0023】TiC粉末は微粉化することが好ましく、
平均粒子径が0.1〜3μm 、特に0.5〜1.5μm
であることが好ましい。
平均粒子径が0.1〜3μm 、特に0.5〜1.5μm
であることが好ましい。
【0024】Al2 O3 とTiCとの混合比率は、Al
2 O3 が60〜95重量%を占め、これに対応して残り
の40〜5重量%をTiCが占めることが好ましい。
2 O3 が60〜95重量%を占め、これに対応して残り
の40〜5重量%をTiCが占めることが好ましい。
【0025】TiCが5重量%より少ないと、TiCの
添加効果が小さく、Al2 O3 も粒成長しやすくなり、
40重量%を超えると、加工性が急激に悪化するからで
ある。
添加効果が小さく、Al2 O3 も粒成長しやすくなり、
40重量%を超えると、加工性が急激に悪化するからで
ある。
【0026】Al2 O3 −TiC混合物に添加するG
a,Ba,Ce,Nbの酸化物や炭酸化合物等の粉末の
平均粒子径は0.1〜3μm 、特に0.5〜1μm であ
ることが好ましい。
a,Ba,Ce,Nbの酸化物や炭酸化合物等の粉末の
平均粒子径は0.1〜3μm 、特に0.5〜1μm であ
ることが好ましい。
【0027】また、添加量はAl2 O3 −TiC混合物
100重量部に対して0.01〜10重量部、特に1〜
7重量部であることが好ましい。
100重量部に対して0.01〜10重量部、特に1〜
7重量部であることが好ましい。
【0028】これらの添加量が0.01重量部より少な
いと、本発明の効果の実効がなくなり、10重量部をこ
えると、添加物の焼結体内における偏在が急激に増すか
らである。
いと、本発明の効果の実効がなくなり、10重量部をこ
えると、添加物の焼結体内における偏在が急激に増すか
らである。
【0029】この場合、Ga、Ba、CeおよびNbの
酸化物の少なくとも1種を0.01〜5重量部、あるい
はまたTiの酸化物を0.01〜5重量部含有させれば
よいが、両者をそれぞれ0.01〜5重量部含有させる
ことが望ましい。
酸化物の少なくとも1種を0.01〜5重量部、あるい
はまたTiの酸化物を0.01〜5重量部含有させれば
よいが、両者をそれぞれ0.01〜5重量部含有させる
ことが望ましい。
【0030】また、Al2 O3 −TiC混合物にTiの
酸化物またはアルコキシドを粉末として直接添加する場
合、Tiの酸化物またはアルコキシドの粉末の平均粒子
径は0.1〜3μm 、特に0.5〜1.0μm であるこ
とが好ましい。
酸化物またはアルコキシドを粉末として直接添加する場
合、Tiの酸化物またはアルコキシドの粉末の平均粒子
径は0.1〜3μm 、特に0.5〜1.0μm であるこ
とが好ましい。
【0031】上記における各酸化物の同定および定量に
は、ICP発光分光分析法および酸素気流中の燃焼赤外
吸収法を用いればよい。
は、ICP発光分光分析法および酸素気流中の燃焼赤外
吸収法を用いればよい。
【0032】Al2 O3 −TiC焼結体は、通常、Al
2 O3 粉末およびTiC粉末の混合物に、好ましくは、
さらに、Ga,Ba,Ce,Nbの酸化物や炭酸化合物
等の粉末、またはTiの酸化物やアルコキシド等の粉末
を添加混合した後、成形体とし、酸素雰囲気中あるいは
非酸化性雰囲気中でのホットプレス焼結法により、この
成形体を焼結し、放冷して得られる。
2 O3 粉末およびTiC粉末の混合物に、好ましくは、
さらに、Ga,Ba,Ce,Nbの酸化物や炭酸化合物
等の粉末、またはTiの酸化物やアルコキシド等の粉末
を添加混合した後、成形体とし、酸素雰囲気中あるいは
非酸化性雰囲気中でのホットプレス焼結法により、この
成形体を焼結し、放冷して得られる。
【0033】この場合の焼結温度は1500〜1800
℃、特に1650〜1750℃が好ましい。
℃、特に1650〜1750℃が好ましい。
【0034】温度が1500℃より低いと、緻密な焼結
体が得られず、1800℃より高いと、添加物の昇華が
増し、表面層と内部が異構造になるからである。また、
プレス圧力は200〜300Kg/cm2 程度である。
体が得られず、1800℃より高いと、添加物の昇華が
増し、表面層と内部が異構造になるからである。また、
プレス圧力は200〜300Kg/cm2 程度である。
【0035】非酸化性雰囲気としては、N2 、Ar、H
e等の不活性ガス、H2 、CO、各種炭化水素等、ある
いはこれらの混合雰囲気、さらには真空等種々のもので
あってよい。
e等の不活性ガス、H2 、CO、各種炭化水素等、ある
いはこれらの混合雰囲気、さらには真空等種々のもので
あってよい。
【0036】焼結時間は、一般に1〜3時間である。
【0037】なお、焼結に際しては、原料粉末の成形体
を酸素雰囲気中あるいは非酸化性雰囲気中(例えば、1
200℃まで真空中、その後はAr雰囲気中等が好まし
い)で予備焼結し、次いでHIP炉内でこの予備焼結体
を焼結する熱間等方等圧加圧(HIP)法を用いてもよ
い。予備焼結の温度は1400〜1650℃、その時間
は1〜3時間とするのがよい。また、HIP法における
温度は1300〜1500℃、焼結時間は1〜5時間、
圧力は1000〜1500Kg/cm2 であり、酸素雰
囲気中あるいはAr等の不活性雰囲気中で行えばよい。
を酸素雰囲気中あるいは非酸化性雰囲気中(例えば、1
200℃まで真空中、その後はAr雰囲気中等が好まし
い)で予備焼結し、次いでHIP炉内でこの予備焼結体
を焼結する熱間等方等圧加圧(HIP)法を用いてもよ
い。予備焼結の温度は1400〜1650℃、その時間
は1〜3時間とするのがよい。また、HIP法における
温度は1300〜1500℃、焼結時間は1〜5時間、
圧力は1000〜1500Kg/cm2 であり、酸素雰
囲気中あるいはAr等の不活性雰囲気中で行えばよい。
【0038】この場合、室温で酸素ガス、Arガス等を
300〜400kg/cm2 まで加圧し、その後、上記
のように加熱により圧力をかける。
300〜400kg/cm2 まで加圧し、その後、上記
のように加熱により圧力をかける。
【0039】ホットプレス法、HIP法を行なう際、酸
素雰囲気、非酸化性雰囲気のいずれを選択するかについ
ては、Tiの酸化物の添加方法に主に依存する。
素雰囲気、非酸化性雰囲気のいずれを選択するかについ
ては、Tiの酸化物の添加方法に主に依存する。
【0040】Tiの酸化物やアルコキシド等の粉末を直
接添加する場合は非酸化性雰囲気とすることが好まし
い。非酸化性雰囲気にするのは、TiCの酸化を防止す
るためである。
接添加する場合は非酸化性雰囲気とすることが好まし
い。非酸化性雰囲気にするのは、TiCの酸化を防止す
るためである。
【0041】一方、焼成中にTiCをTiの酸化物とす
る必要がある場合は酸素雰囲気とすることが好ましい。
る必要がある場合は酸素雰囲気とすることが好ましい。
【0042】添加したTiの酸化物やアルコキシド等は
いずれの添加方法によらず、焼結後、ほとんど酸化物と
して残存し、前記したように粒結合を強固にしている。
いずれの添加方法によらず、焼結後、ほとんど酸化物と
して残存し、前記したように粒結合を強固にしている。
【0043】また、添加したGa,Ba,Ce,Nbの
酸化物や炭酸化合物も、焼結後、ほとんど酸化物として
残存し、Ti化合物同様、粒結合を強固にする働きをす
ると考えられる。
酸化物や炭酸化合物も、焼結後、ほとんど酸化物として
残存し、Ti化合物同様、粒結合を強固にする働きをす
ると考えられる。
【0044】いずれの化合物も金属の状態で残るのは、
結合状態が悪く粒脱落の原因となり、好結果を得ない
が、本発明の焼結体には金属状態で残らないことがX線
分析により確認されている。
結合状態が悪く粒脱落の原因となり、好結果を得ない
が、本発明の焼結体には金属状態で残らないことがX線
分析により確認されている。
【0045】このようにして得られたAl2 O3 −Ti
C焼結体は、ビッカース硬度の高い水準を保持したまま
で、強度を95Kg/mm2 から70〜80Kg/mm
2 に下げることができ、切断加工性を2倍程度に挙げる
ことが可能となる。
C焼結体は、ビッカース硬度の高い水準を保持したまま
で、強度を95Kg/mm2 から70〜80Kg/mm
2 に下げることができ、切断加工性を2倍程度に挙げる
ことが可能となる。
【0046】また、鏡面加工の際、生ずる粒脱落もおこ
りにくい。
りにくい。
【0047】以上述べてきた本発明のセラミック材料は
種々の用途に有用である。 特に磁気ヘッドスライダ材
料としてのAl2 O3 −TiC焼結体は、いわゆる飛行
型の磁気ヘッドの基体ないしスライダのみならず、フロ
ッピーヘッドなどのスライダや各種ダミーブロック等に
適用することができる。
種々の用途に有用である。 特に磁気ヘッドスライダ材
料としてのAl2 O3 −TiC焼結体は、いわゆる飛行
型の磁気ヘッドの基体ないしスライダのみならず、フロ
ッピーヘッドなどのスライダや各種ダミーブロック等に
適用することができる。
【0048】
【発明の具体的作用効果】本発明によれば、炭化チタン
5〜40重量%と、アルミナとを含む混合物またはこの
混合物100重量部に対し、好ましくは、さらにGa,
Ba,Ce,Nbの酸化物や炭酸化合物等の少なくとも
1種ならびにTiの酸化物やアルコキシド等を酸化物の
形で0.01〜10重量部含有するように添加したもの
(この場合Ga,Ba,Ce,Nbの酸化物の少なくと
も1種を0.01〜5重量部、あるいはまたTiの酸化
物を0.01〜5重量部含有すればよいが、両者をそれ
ぞれ0.01〜5重量部含有することが望ましい。)か
ら焼結体を作成しており、焼結体での炭化チタンの中心
粒径が1.0〜2.5μm であり、0.1μm 以下の粒
径のものを10重量%以下に規制するため、加工性が非
常によく、緻密な構造を有し、硬度が大きく、非磁性で
あり、信頼性が高く、粒脱落がないセラミック材料が得
られる。そして、磁気ヘッドスライダ材料として、CS
/S特性も極めて良好である。従って、高密度記録用磁
気ヘッドスライダ材料としての使用が期待される。
5〜40重量%と、アルミナとを含む混合物またはこの
混合物100重量部に対し、好ましくは、さらにGa,
Ba,Ce,Nbの酸化物や炭酸化合物等の少なくとも
1種ならびにTiの酸化物やアルコキシド等を酸化物の
形で0.01〜10重量部含有するように添加したもの
(この場合Ga,Ba,Ce,Nbの酸化物の少なくと
も1種を0.01〜5重量部、あるいはまたTiの酸化
物を0.01〜5重量部含有すればよいが、両者をそれ
ぞれ0.01〜5重量部含有することが望ましい。)か
ら焼結体を作成しており、焼結体での炭化チタンの中心
粒径が1.0〜2.5μm であり、0.1μm 以下の粒
径のものを10重量%以下に規制するため、加工性が非
常によく、緻密な構造を有し、硬度が大きく、非磁性で
あり、信頼性が高く、粒脱落がないセラミック材料が得
られる。そして、磁気ヘッドスライダ材料として、CS
/S特性も極めて良好である。従って、高密度記録用磁
気ヘッドスライダ材料としての使用が期待される。
【0049】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
の効果をさらに詳細に説明する。 実施例1 平均粒径0.5μm のAl2 O3 (純度99.9%)粉
末と平均粒径0.7μm のTiC(純度99%、炭素含
有量19%以上でその1%以下は遊離コクエンである)
とを重量比で7:3の割合で混合したものにBaOを2
重量%添加し、ボールミルにより20時間湿式混合を行
った。
の効果をさらに詳細に説明する。 実施例1 平均粒径0.5μm のAl2 O3 (純度99.9%)粉
末と平均粒径0.7μm のTiC(純度99%、炭素含
有量19%以上でその1%以下は遊離コクエンである)
とを重量比で7:3の割合で混合したものにBaOを2
重量%添加し、ボールミルにより20時間湿式混合を行
った。
【0050】混合したスラリーを乾燥造粒し、内径77
mmの黒鉛型に充填した。これを真空雰囲気中で1時
間、焼結温度1500〜1800℃、プレス圧力200
〜300Kg/cm2 でホットプレス焼結を行った。
mmの黒鉛型に充填した。これを真空雰囲気中で1時
間、焼結温度1500〜1800℃、プレス圧力200
〜300Kg/cm2 でホットプレス焼結を行った。
【0051】冷却後、焼結体を型から取り出し、#20
0ダイヤモンド砥石にて加工し、3インチφ、4mm厚
の試料100を作製した。
0ダイヤモンド砥石にて加工し、3インチφ、4mm厚
の試料100を作製した。
【0052】このように作製した焼結体中でのTiCの
平均粒径は1.5μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径0.5〜2.0μm のTiC
がTiC粒子の総数の92%であった。また、0.1μ
m 以下の粒径を有するTiCは5%であった。
平均粒径は1.5μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径0.5〜2.0μm のTiC
がTiC粒子の総数の92%であった。また、0.1μ
m 以下の粒径を有するTiCは5%であった。
【0053】上記において、焼結体を作製する際原料と
なるTiCの粒径を0.3μm とする他は、同様にして
試料200を作製した。
なるTiCの粒径を0.3μm とする他は、同様にして
試料200を作製した。
【0054】このように作製した焼結体中でのTiCの
平均粒径は0.8μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径0.5〜1.5μm のTiC
がTiC粒子の総数の80%であった。また、0.1μ
m 以下の粒径を有するTiCは15%であった。
平均粒径は0.8μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写
真で観察したところ、粒径0.5〜1.5μm のTiC
がTiC粒子の総数の80%であった。また、0.1μ
m 以下の粒径を有するTiCは15%であった。
【0055】上記の試料100,200について、特性
を以下に示す。なお特性の評価方法は下記のとおりであ
る。
を以下に示す。なお特性の評価方法は下記のとおりであ
る。
【0056】(1)鏡面加工性 各試料をグリーンカーバイド(GC)砥粒でラップ加工
した後、ダイヤモンド砥粒でポリシング加工し、2次電
子像の回折および表面あらさ計により粒脱落の有無を調
べた。
した後、ダイヤモンド砥粒でポリシング加工し、2次電
子像の回折および表面あらさ計により粒脱落の有無を調
べた。
【0057】また、X線マイクロアナライザーを用いて
X線像を得、表面の分析を行い、脱落部の組成を調べ
た。
X線像を得、表面の分析を行い、脱落部の組成を調べ
た。
【0058】(2)磁性 試料振動型マグネトメータ(VSM)により磁性の有無
を調べた。
を調べた。
【0059】(3)切断加工性 (a)切断性(定圧切断実験) 1軸スラストベアリングの上にガラスを接着し、その上
に試料(幅30mm、厚さ4mm)を接着し、この試料
を500gおよび1000gのおもりで引っぱり、ダイ
ヤモンド切断砥石で切断加工したときの切断速度を測定
した。
に試料(幅30mm、厚さ4mm)を接着し、この試料
を500gおよび1000gのおもりで引っぱり、ダイ
ヤモンド切断砥石で切断加工したときの切断速度を測定
した。
【0060】(b)チッピング発生(定速切断実験) 定速送り(25mm/min)により、ダイヤモンド切
断砥石で切断加工したとき、切断面から10μm 以上の
深さのチッピングの発生率(幅30mm、厚さ4mmの
試料について30mmあたりの発生率)を顕微鏡(20
0倍)で調べた。
断砥石で切断加工したとき、切断面から10μm 以上の
深さのチッピングの発生率(幅30mm、厚さ4mmの
試料について30mmあたりの発生率)を顕微鏡(20
0倍)で調べた。
【0061】(4)CS/S特性 (a)耐摩耗性 試料の薄膜素子を一括形成してスライダ形状に加工し、
磁気ヘッドについてコンタクトスタート/ストップを2
万回繰り返した時の摩耗の程度(μm )を調べた。
磁気ヘッドについてコンタクトスタート/ストップを2
万回繰り返した時の摩耗の程度(μm )を調べた。
【0062】(b)粒脱落(電解評価) 白金と試料との間に1Vの電圧を印加し、電解作用によ
るTiCの粒脱落の程度を調べた。
るTiCの粒脱落の程度を調べた。
【0063】表面粗さの指標であるRmax で表わす。
【0064】 試 料 No 100 (本発明) 200 (比較) 鏡面加工性(粒脱落) 無 有 磁 性 無 無 切断加工性 切断加工速度(mm/min) 42 25 チッピング発生 5個以内 5〜10個 CS/S 特性 耐摩耗性( μm /2万回) <0.5 1.0 粒脱落 Rmax≦100 A Rmax>1000A
【0065】以上の結果より、本発明の試料は、鏡面加
工性、切断加工性およびCS/S特性のいずれについて
も優れていることがわかる。また、非磁性であり、鏡面
加工性が良好なことからスライダ摺動面の鏡面加工が容
易となり、信頼性もよく磁気ヘッドスライダ材料として
適していることもわかる。なお、本発明の試料はビッカ
ース硬度も高い値であった。
工性、切断加工性およびCS/S特性のいずれについて
も優れていることがわかる。また、非磁性であり、鏡面
加工性が良好なことからスライダ摺動面の鏡面加工が容
易となり、信頼性もよく磁気ヘッドスライダ材料として
適していることもわかる。なお、本発明の試料はビッカ
ース硬度も高い値であった。
【0066】実施例2 実施例1の試料100を作製する際用いたAl2 O3 :
TiC=7:3(重量比)の割合で混合したもの100
重量部に対して、各種添加物(表1)を、表1に示すよ
うな割合で添加したほかは試料100と同様に、試料1
01〜109(表1)を作製した。
TiC=7:3(重量比)の割合で混合したもの100
重量部に対して、各種添加物(表1)を、表1に示すよ
うな割合で添加したほかは試料100と同様に、試料1
01〜109(表1)を作製した。
【0067】また、実施例1の試料200を作製する際
用いたAl2 O3 :TiC=7:3(重量比)の割合で
混合したもの100重量部に対して、各種添加物(表
1)を、表1に示すような割合で添加したほかは試料2
00と同様に、試料201〜203(表1)を作製し
た。
用いたAl2 O3 :TiC=7:3(重量比)の割合で
混合したもの100重量部に対して、各種添加物(表
1)を、表1に示すような割合で添加したほかは試料2
00と同様に、試料201〜203(表1)を作製し
た。
【0068】これらの試料について実施例1と同様に特
性を評価した。結果を表1に示す。
性を評価した。結果を表1に示す。
【0069】ただし、チッピング発生については、5個
以内を○、5〜10個を△、それ以上を×で表わす。ま
た、粒脱落については、Rmax が100A以下であるも
のを○、100〜1000Aであるものを△、1000
Aをこえるものを×で表わす。
以内を○、5〜10個を△、それ以上を×で表わす。ま
た、粒脱落については、Rmax が100A以下であるも
のを○、100〜1000Aであるものを△、1000
Aをこえるものを×で表わす。
【0070】粒度分布については92%を占める粒径の
範囲を示した。
範囲を示した。
【0071】
【表1】
【0072】表1より本発明の効果は明らかである。そ
して、添加物を含有させることにより、特性、特に粒脱
落が改善される。
して、添加物を含有させることにより、特性、特に粒脱
落が改善される。
【0073】実施例3 実施例1で用いたAl2 O3 粉末とTiC粉末(粒径
0.7μm )とを重量比で65:35の割合で混合した
ものに、BaOを2重量%添加し、実施例1と同様の処
理をし、本発明の試料Aを作製した。ただし、焼成雰囲
気は酸素雰囲気とした。この場合TiCの10重量%が
Tiの酸化物へと変化した。
0.7μm )とを重量比で65:35の割合で混合した
ものに、BaOを2重量%添加し、実施例1と同様の処
理をし、本発明の試料Aを作製した。ただし、焼成雰囲
気は酸素雰囲気とした。この場合TiCの10重量%が
Tiの酸化物へと変化した。
【0074】また、焼結体中でのTiCの平均粒径は
1.5μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写真で観察し
たところ、粒径0.5〜2.0μm の粒子の占める割合
が92%であり、0.1μm 以下の粒径を有するTiC
は5%であった。
1.5μm であり、粒度分布は電子顕微鏡写真で観察し
たところ、粒径0.5〜2.0μm の粒子の占める割合
が92%であり、0.1μm 以下の粒径を有するTiC
は5%であった。
【0075】上記において、焼結体を作製する際原料と
なるTiCの粒径が0.3μm のもの(実施例1で使用
したもの)を用いた他は同様の処理をし、比較の試料B
を作製した。この場合TiCの11重量%がTiの酸化
物へと変化した。
なるTiCの粒径が0.3μm のもの(実施例1で使用
したもの)を用いた他は同様の処理をし、比較の試料B
を作製した。この場合TiCの11重量%がTiの酸化
物へと変化した。
【0076】また、焼結体中でのTiCの平均粒径は
0.8μm であり、粒度分布は粒径0.5〜1.5μm
の粒子が占める割合が80%であり、0.1μm 以下の
粒径を有するTiCは15%であった。
0.8μm であり、粒度分布は粒径0.5〜1.5μm
の粒子が占める割合が80%であり、0.1μm 以下の
粒径を有するTiCは15%であった。
【0077】この試料について実施例1と同様に特性を
評価した。結果を以下に示す。
評価した。結果を以下に示す。
【0078】 試 料 A B 鏡面加工性(粒脱落) 無 有 磁 性 無 無 切断加工性 切断加工速度(mm/min) 42 23 チッピング発生 5個以内 5〜10個 CS/S 特性 耐摩耗性( μm /2万回) <0.5 1.1 粒脱落 Rmax≦100 A Rmax>1000A
【0079】結果より本発明の効果は明らかである。
【手続補正書】
【提出日】平成8年10月25日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(5)の本発明により達成される。 (1)炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを30〜40重量%含むセラミック材料であって、
焼結体中の炭化チタンの平均粒径が1.0〜2.5μm
であり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のもの
が10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ用セラミック材料。 (2)30〜40重量%の炭化チタンとアルミナとを含
む混合物100重量部に対し、Ga,Ba,Ce,Nb
およびTiの酸化物の少なくとも1種を0.01〜10
重量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チ
タンの平均粒径が1.0〜2.5μmであり、炭化チタ
ンのうち粒径が0.1μm以下のものが10重量%以下
であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミッ
ク材料。 (3)炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを5〜40重量%含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が1.5〜2.5μmで
あり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のものが
10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 (4)5〜40重量%の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物100重量部に対し、Ga,Ba,Ce,Nbお
よびTiの酸化物の少なくとも1種を0.01〜10重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が1.5〜2.5μmであり、炭化チタン
のうち粒径が0.1μm以下のものが10重量%以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。 (5)炭化チタンを30〜40重量%含む上記(3)ま
たは(4)の磁気ヘッドスライダ用セラミック材料。
(1)〜(5)の本発明により達成される。 (1)炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを30〜40重量%含むセラミック材料であって、
焼結体中の炭化チタンの平均粒径が1.0〜2.5μm
であり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のもの
が10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ用セラミック材料。 (2)30〜40重量%の炭化チタンとアルミナとを含
む混合物100重量部に対し、Ga,Ba,Ce,Nb
およびTiの酸化物の少なくとも1種を0.01〜10
重量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チ
タンの平均粒径が1.0〜2.5μmであり、炭化チタ
ンのうち粒径が0.1μm以下のものが10重量%以下
であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミッ
ク材料。 (3)炭化チタンとアルミナとを含む混合物中に炭化チ
タンを5〜40重量%含むセラミック材料であって、焼
結体中の炭化チタンの平均粒径が1.5〜2.5μmで
あり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のものが
10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ用セラミック材料。 (4)5〜40重量%の炭化チタンとアルミナとを含む
混合物100重量部に対し、Ga,Ba,Ce,Nbお
よびTiの酸化物の少なくとも1種を0.01〜10重
量部含むセラミック材料であって、焼結体中の炭化チタ
ンの平均粒径が1.5〜2.5μmであり、炭化チタン
のうち粒径が0.1μm以下のものが10重量%以下で
あることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用セラミック
材料。 (5)炭化チタンを30〜40重量%含む上記(3)ま
たは(4)の磁気ヘッドスライダ用セラミック材料。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】Al2O3とTiCとの混合比率は、Al
2O3が60〜95重量%、好ましくは60〜70重量
%を占め、これに対応して残りの40〜5重量%、好ま
しくは40〜30重量%をTiCが占める。
2O3が60〜95重量%、好ましくは60〜70重量
%を占め、これに対応して残りの40〜5重量%、好ま
しくは40〜30重量%をTiCが占める。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0071
【補正方法】変更
【補正内容】
【0071】
【表1】
Claims (2)
- 【請求項1】 炭化チタンとアルミナとを含む混合物中
に炭化チタンを5〜40重量%含むセラミック材料であ
って、焼結体中の炭化チタンの平均粒径が1.0〜2.
5μmであり、炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下
のものが10重量%以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッドスライダ用セラミック材料。 - 【請求項2】 5〜40重量%の炭化チタンとアルミナ
とを含む混合物100重量部に対し、Ga,Ba,C
e,NbおよびTiの酸化物の少なくとも1種を0.0
1〜10重量部含むセラミック材料であって、焼結体中
の炭化チタンの平均粒径が1.0〜2.5μmであり、
炭化チタンのうち粒径が0.1μm以下のものが10重
量%以下であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用
セラミック材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8277117A JP2968736B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8277117A JP2968736B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61149225A Division JPH062617B2 (ja) | 1986-06-25 | 1986-06-25 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09315848A true JPH09315848A (ja) | 1997-12-09 |
| JP2968736B2 JP2968736B2 (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=17579028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8277117A Expired - Lifetime JP2968736B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 磁気ヘッドスライダ用セラミック材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2968736B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100383858C (zh) * | 2005-01-06 | 2008-04-23 | Tdk株式会社 | 磁头滑块用材料、磁头滑块及磁头滑块用材料的制造方法 |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP8277117A patent/JP2968736B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100383858C (zh) * | 2005-01-06 | 2008-04-23 | Tdk株式会社 | 磁头滑块用材料、磁头滑块及磁头滑块用材料的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2968736B2 (ja) | 1999-11-02 |
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