JPH1022218A - 基板のアライメント方法 - Google Patents
基板のアライメント方法Info
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- JPH1022218A JPH1022218A JP8191559A JP19155996A JPH1022218A JP H1022218 A JPH1022218 A JP H1022218A JP 8191559 A JP8191559 A JP 8191559A JP 19155996 A JP19155996 A JP 19155996A JP H1022218 A JPH1022218 A JP H1022218A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板のアライメント作業の効率化を図るこ
と。 【解決手段】 アライメントセンサ（３０ａ，３０ｂ，
３０ｃ，３０ｄ）の複数の検出用の光（４２ａ，４２
ｂ，４２ｃ，４２ｄ）を感光基板（１２）上の複数のア
ライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）
に対して照射し、それぞれの検出範囲内で各アライメン
トマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）の位置を
それぞれ検出する。この時、複数のアライメントマーク
（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）の一部（４０ｂ）
が検出範囲から外れているために当該マーク（４０ｂ）
の位置が検出できない場合には、検出された他のアライ
メントマーク（４０ａ，４０ｃ，４０ｄ）の位置に基づ
き、複数のアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ，４０ｄ）が全て対応するアライメントセンサの検出
範囲内に入るような再検出位置を算出する。
と。 【解決手段】 アライメントセンサ（３０ａ，３０ｂ，
３０ｃ，３０ｄ）の複数の検出用の光（４２ａ，４２
ｂ，４２ｃ，４２ｄ）を感光基板（１２）上の複数のア
ライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）
に対して照射し、それぞれの検出範囲内で各アライメン
トマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）の位置を
それぞれ検出する。この時、複数のアライメントマーク
（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）の一部（４０ｂ）
が検出範囲から外れているために当該マーク（４０ｂ）
の位置が検出できない場合には、検出された他のアライ
メントマーク（４０ａ，４０ｃ，４０ｄ）の位置に基づ
き、複数のアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ，４０ｄ）が全て対応するアライメントセンサの検出
範囲内に入るような再検出位置を算出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基板のアライメント
方法に関し、特に、マスクに形成されたパターンの像を
感光基板上に転写する露光装置に採用される基板のアラ
イメント方法に関する。
方法に関し、特に、マスクに形成されたパターンの像を
感光基板上に転写する露光装置に採用される基板のアラ
イメント方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子等を製造するための露光装
置においては、マスクに形成されたパターンの像を投影
レンズを介して感光基板上に転写するようになってい
る。感光基板上には複数のパターンが重ねて露光される
ため、感光基板を正確に位置合わせする必要がある。感
光基板のアライメント方法としては、当該基板上に形成
された複数のアライメントマークを、それぞれに対応し
た複数の顕微鏡によって観察する方法がある。例えば、
各顕微鏡から射出されたスリット状の光に対して、感光
基板上のアライメントマークを走査し、その時に発生す
る回折光や散乱光の状態を観察することによって各アラ
イメントマークの位置を計測する。そして、このように
検出された各アライメントマークの位置に基づいて感光
基板の位置調整を行う。
置においては、マスクに形成されたパターンの像を投影
レンズを介して感光基板上に転写するようになってい
る。感光基板上には複数のパターンが重ねて露光される
ため、感光基板を正確に位置合わせする必要がある。感
光基板のアライメント方法としては、当該基板上に形成
された複数のアライメントマークを、それぞれに対応し
た複数の顕微鏡によって観察する方法がある。例えば、
各顕微鏡から射出されたスリット状の光に対して、感光
基板上のアライメントマークを走査し、その時に発生す
る回折光や散乱光の状態を観察することによって各アラ
イメントマークの位置を計測する。そして、このように
検出された各アライメントマークの位置に基づいて感光
基板の位置調整を行う。
【０００３】一般に、感光基板上に形成されるアライメ
ントマークは高い精度で形成されるが、これらのマーク
を検出する顕微鏡はその設置位置に比較的大きな誤差
（数１０μｍ〜１００μｍ程度）を含む場合がある。こ
のため、例えば、４つの顕微鏡で４つのアライメントマ
ークを観察するような場合、いくつかのアライメントマ
ークが検出範囲内に収まらない場合がある。このような
場合、従来では、露光装置からオペレータアシストのエ
ラーメッセージを出し、全てのアライメントマークが検
出範囲内に収まるように、オペレータの操作により走査
開始位置を設定し直して、再びアライメントマークの検
出を行っている。
ントマークは高い精度で形成されるが、これらのマーク
を検出する顕微鏡はその設置位置に比較的大きな誤差
（数１０μｍ〜１００μｍ程度）を含む場合がある。こ
のため、例えば、４つの顕微鏡で４つのアライメントマ
ークを観察するような場合、いくつかのアライメントマ
ークが検出範囲内に収まらない場合がある。このような
場合、従来では、露光装置からオペレータアシストのエ
ラーメッセージを出し、全てのアライメントマークが検
出範囲内に収まるように、オペレータの操作により走査
開始位置を設定し直して、再びアライメントマークの検
出を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アライ
メントマークのいくつかが検出できない場合に、その都
度、オペレータによるマニュアル操作を必要とするのは
効率が悪い。
メントマークのいくつかが検出できない場合に、その都
度、オペレータによるマニュアル操作を必要とするのは
効率が悪い。
【０００５】本発明は、上記のような状況に鑑みて成さ
れたものであり、基板のアライメント作業の効率化を図
ることを目的とする。
れたものであり、基板のアライメント作業の効率化を図
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記のような課題を解決
するために、本発明においては、アライメントセンサ
（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）の複数の検出用の
光（４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ）を感光基板（１
２）上の複数のアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，
４０ｃ，４０ｄ）に対して照射し、それぞれの検出範囲
内で各アライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，
４０ｄ）の位置をそれぞれ検出する。この時、複数のア
ライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）
の一部（４０ｂ）が検出範囲から外れているために当該
マーク（４０ｂ）の位置が検出できない場合には、検出
された他のアライメントマーク（４０ａ，４０ｃ，４０
ｄ）の位置に基づき、複数のアライメントマーク（４０
ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）が全て対応するアライメ
ントセンサの検出範囲内に入るような再検出位置を算出
する。例えば、検出された他のアライメントマーク（４
０ａ，４０ｃ，４０ｄ）が対応するアライメントセンサ
の検出範囲の中央付近で検出されるような位置を再検出
位置とすることができる。次に、このように算出された
再検出位置から、各アライメントセンサ（３０ａ，３０
ｂ，３０ｃ，３０ｄ）から検出用の光（４２ａ，４２
ｂ，４２ｃ，４２ｄ）の照射を再び行うことによって全
てのアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４
０ｄ）の位置を検出する。そして、このように検出され
た全てのアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ，４０ｄ）の位置に基づいて、感光基板（１２）のア
ライメントを行う。
するために、本発明においては、アライメントセンサ
（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ）の複数の検出用の
光（４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ）を感光基板（１
２）上の複数のアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，
４０ｃ，４０ｄ）に対して照射し、それぞれの検出範囲
内で各アライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，
４０ｄ）の位置をそれぞれ検出する。この時、複数のア
ライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）
の一部（４０ｂ）が検出範囲から外れているために当該
マーク（４０ｂ）の位置が検出できない場合には、検出
された他のアライメントマーク（４０ａ，４０ｃ，４０
ｄ）の位置に基づき、複数のアライメントマーク（４０
ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ）が全て対応するアライメ
ントセンサの検出範囲内に入るような再検出位置を算出
する。例えば、検出された他のアライメントマーク（４
０ａ，４０ｃ，４０ｄ）が対応するアライメントセンサ
の検出範囲の中央付近で検出されるような位置を再検出
位置とすることができる。次に、このように算出された
再検出位置から、各アライメントセンサ（３０ａ，３０
ｂ，３０ｃ，３０ｄ）から検出用の光（４２ａ，４２
ｂ，４２ｃ，４２ｄ）の照射を再び行うことによって全
てのアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４
０ｄ）の位置を検出する。そして、このように検出され
た全てのアライメントマーク（４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ，４０ｄ）の位置に基づいて、感光基板（１２）のア
ライメントを行う。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を以下
に示す実施例に基づいて説明する。本実施例は、レチク
ル１０上に形成されたパターンの像をフォトレジストが
塗布されたガラスプレート１２上に転写する液晶表示デ
バイス製造用の投影露光装置に本発明を適用したもので
ある。
に示す実施例に基づいて説明する。本実施例は、レチク
ル１０上に形成されたパターンの像をフォトレジストが
塗布されたガラスプレート１２上に転写する液晶表示デ
バイス製造用の投影露光装置に本発明を適用したもので
ある。
【０００８】
【実施例】図１は、本実施例にかかる投影露光装置の概
略構成を示す。この露光装置は、露光用の光を射出する
照明光学系１４と、レチクル１０の位置を計測するレチ
クルアライメント系１６ａ，１６ｂと、レチクル交換機
構１８と、等倍の投影倍率を有する投影レンズ２０と、
ガラスプレート１２を紙面に垂直な面内で移動可能に保
持したＸＹステージ２２と、このＸＹステージ２２を駆
動する駆動系２４とを備えている。ＸＹステージ２２上
には、レーザ干渉計２６からのレーザ光を反射する移動
鏡２８が固定されている。レーザ干渉計２６は、移動鏡
２８からの反射光に基づいて、ＸＹステージ２２の位置
を計測するようになっている。なお、レーザ干渉計２６
及び移動鏡２８は、ＸＹステージ２２のＸ方向の位置を
計測するものであり、実際にはＹ方向の位置を計測する
レーザ干渉計及び移動鏡も設けられている。
略構成を示す。この露光装置は、露光用の光を射出する
照明光学系１４と、レチクル１０の位置を計測するレチ
クルアライメント系１６ａ，１６ｂと、レチクル交換機
構１８と、等倍の投影倍率を有する投影レンズ２０と、
ガラスプレート１２を紙面に垂直な面内で移動可能に保
持したＸＹステージ２２と、このＸＹステージ２２を駆
動する駆動系２４とを備えている。ＸＹステージ２２上
には、レーザ干渉計２６からのレーザ光を反射する移動
鏡２８が固定されている。レーザ干渉計２６は、移動鏡
２８からの反射光に基づいて、ＸＹステージ２２の位置
を計測するようになっている。なお、レーザ干渉計２６
及び移動鏡２８は、ＸＹステージ２２のＸ方向の位置を
計測するものであり、実際にはＹ方向の位置を計測する
レーザ干渉計及び移動鏡も設けられている。
【０００９】照明光学系１４は、露光光を射出する光源
の他に、露光光の照度の均一化等の処理を行う複数の光
学素子を含んでいる。レチクル交換機構１８は、４枚の
レチクルを収容しており、これらのレチクルを順次照明
位置に配置するようになっている。すなわち、４枚のレ
チクルを用いてガラスプレート１２上の異なる露光領域
を順次露光し、４つのパターンを継ぎ合わせてガラスプ
レート１２全面の露光を行うようになっている。
の他に、露光光の照度の均一化等の処理を行う複数の光
学素子を含んでいる。レチクル交換機構１８は、４枚の
レチクルを収容しており、これらのレチクルを順次照明
位置に配置するようになっている。すなわち、４枚のレ
チクルを用いてガラスプレート１２上の異なる露光領域
を順次露光し、４つのパターンを継ぎ合わせてガラスプ
レート１２全面の露光を行うようになっている。
【００１０】投影レンズ２０の側部には、ガラスプレー
ト１２に形成されたアライメントマーク４０ａ，４０
ｂ，４０ｃ，４０ｄ（図３参照）を観察するプレート顕
微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ（図２参照）が配
置されている。各顕微鏡（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３
０ｄ）からは、スリット状の光４２ａ，４２ｂ，４２
ｃ，４２ｄ（図４及び図５参照）が射出され、当該光を
ガラスプレート１２上のアライメントマーク４０ａ，４
０ｂ，４０ｃ，４０ｄで走査するようになっている。そ
して、これらアライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ，４０ｄから発生する散乱光又は回折光を観察するこ
とによって、各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４
０ｃ，４０ｄの位置を計測する。
ト１２に形成されたアライメントマーク４０ａ，４０
ｂ，４０ｃ，４０ｄ（図３参照）を観察するプレート顕
微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ（図２参照）が配
置されている。各顕微鏡（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３
０ｄ）からは、スリット状の光４２ａ，４２ｂ，４２
ｃ，４２ｄ（図４及び図５参照）が射出され、当該光を
ガラスプレート１２上のアライメントマーク４０ａ，４
０ｂ，４０ｃ，４０ｄで走査するようになっている。そ
して、これらアライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０
ｃ，４０ｄから発生する散乱光又は回折光を観察するこ
とによって、各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４
０ｃ，４０ｄの位置を計測する。
【００１１】なお、アライメントマーク４０ａ，４０
ｂ，４０ｃ，４０ｄとしては、例えば回折格子マークを
用いることができる。また、プレート顕微鏡３０ａ，３
０ｂ，３０ｃ，３０ｄは、アライメントマーク４０ａ，
４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位置に対応し、長方形状に配
置されている。
ｂ，４０ｃ，４０ｄとしては、例えば回折格子マークを
用いることができる。また、プレート顕微鏡３０ａ，３
０ｂ，３０ｃ，３０ｄは、アライメントマーク４０ａ，
４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位置に対応し、長方形状に配
置されている。
【００１２】図２は、本実施例のアライメントに関する
制御系の構成を示す。統括的な制御を行う制御装置３２
には、上述したプレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０
ｃ，３０ｄ及び干渉計２６の検出信号（出力信号）が供
給されるようになっている。制御装置３２には、演算装
置３４が接続されており、各プレート顕微鏡３０ａ，３
０ｂ，３０ｃ，３０ｄからの信号に基づいて、後に詳述
する所定の演算を行う。そして、制御装置３２は、演算
装置３４からの信号に基づき、駆動系２４を介してＸＹ
ステージ２２を駆動することによって、ガラスプレート
１２のアライメントを行うようになっている。なお、制
御装置３２内の記憶装置（図示せず）には、各プレート
顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄの設置位置（検
出位置）が記憶されている。
制御系の構成を示す。統括的な制御を行う制御装置３２
には、上述したプレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０
ｃ，３０ｄ及び干渉計２６の検出信号（出力信号）が供
給されるようになっている。制御装置３２には、演算装
置３４が接続されており、各プレート顕微鏡３０ａ，３
０ｂ，３０ｃ，３０ｄからの信号に基づいて、後に詳述
する所定の演算を行う。そして、制御装置３２は、演算
装置３４からの信号に基づき、駆動系２４を介してＸＹ
ステージ２２を駆動することによって、ガラスプレート
１２のアライメントを行うようになっている。なお、制
御装置３２内の記憶装置（図示せず）には、各プレート
顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄの設置位置（検
出位置）が記憶されている。
【００１３】次に、本実施例によるガラスプレート１２
のアライメント方法について、図４のフローチャートに
沿って説明する。先ず、不図示の調整ピン等を用いて機
械的にガラスプレート１２のプリアライメント、すなわ
ち、大まかな位置合わせを行う。次に、ＸＹステージ２
２を駆動系２４によって駆動することにより、各プレー
ト顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄから出射した
スリット状の光４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ（図４
及び図５参照）をガラスプレート１２上の各アライメン
トマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄで走査する。
各プレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄで
は、上記のような走査によって各アライメントマーク４
０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄから発生する回折光又は
散乱光を観察することによって、これらアライメントマ
ーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位置をそれぞれ
検出し、出力信号として制御装置３２に送出する。
のアライメント方法について、図４のフローチャートに
沿って説明する。先ず、不図示の調整ピン等を用いて機
械的にガラスプレート１２のプリアライメント、すなわ
ち、大まかな位置合わせを行う。次に、ＸＹステージ２
２を駆動系２４によって駆動することにより、各プレー
ト顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄから出射した
スリット状の光４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ（図４
及び図５参照）をガラスプレート１２上の各アライメン
トマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄで走査する。
各プレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄで
は、上記のような走査によって各アライメントマーク４
０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄから発生する回折光又は
散乱光を観察することによって、これらアライメントマ
ーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位置をそれぞれ
検出し、出力信号として制御装置３２に送出する。
【００１４】制御装置３２は、全てのプレート顕微鏡３
０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄから検出信号を受信した
場合には、その検出信号に基づき、駆動系３４を介して
ＸＹステージ２２のアライメントを行う。一方、何れの
プレート顕微鏡からも検出信号が出力されない場合に
は、エラー表示を行う。すなわち、何れのアライメント
マークによっても対応するスリット光が走査されなかっ
た場合には、プリアライメントの不備としてプリアライ
メントからやり直す。
０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄから検出信号を受信した
場合には、その検出信号に基づき、駆動系３４を介して
ＸＹステージ２２のアライメントを行う。一方、何れの
プレート顕微鏡からも検出信号が出力されない場合に
は、エラー表示を行う。すなわち、何れのアライメント
マークによっても対応するスリット光が走査されなかっ
た場合には、プリアライメントの不備としてプリアライ
メントからやり直す。
【００１５】また、プレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３
０ｃ，３０ｄの一部からのみ検出信号が出力されている
場合には、以下のような手順によって再度検出動作を行
う。例えば、図５に示すように、４つのプレート顕微鏡
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄのうち、１つの顕微鏡
３０ｂが正常な位置より図の上側にずれて設置され、そ
の結果、当該顕微鏡３０ｂから出射されるスリット状の
光４２ｂも正常な位置からずれているものとする。この
状態で、ＸＹステージ１２を図の破線の位置まで移動し
て、各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４
０ｄで対応するスリット光４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４
２ｄを走査した場合、アライメントマーク４０ｂは対応
するスリット光４２ｂを走査せず、対応するプレート顕
微鏡３０ｂで当該アライメントマーク４０ｂを検出する
ことができなくなる。
０ｃ，３０ｄの一部からのみ検出信号が出力されている
場合には、以下のような手順によって再度検出動作を行
う。例えば、図５に示すように、４つのプレート顕微鏡
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄのうち、１つの顕微鏡
３０ｂが正常な位置より図の上側にずれて設置され、そ
の結果、当該顕微鏡３０ｂから出射されるスリット状の
光４２ｂも正常な位置からずれているものとする。この
状態で、ＸＹステージ１２を図の破線の位置まで移動し
て、各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４
０ｄで対応するスリット光４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４
２ｄを走査した場合、アライメントマーク４０ｂは対応
するスリット光４２ｂを走査せず、対応するプレート顕
微鏡３０ｂで当該アライメントマーク４０ｂを検出する
ことができなくなる。
【００１６】図５の場合、プレート顕微鏡３０ｂからの
検出信号が制御装置３２に供給されないため、演算装置
３４は、他のプレート顕微鏡３０ａ，３０ｃ，３０ｄか
らの検出信号に基づいて適切な走査開始位置を算出す
る。すなわち、前回の走査によって検出されたアライメ
ントマーク４０ａ，４０ｃ，４０ｄの位置に基づき、全
てのアライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０
ｄが走査範囲内に収まるようなＸＹステージ２２の走査
開始位置を算出する。この時、既に検出されているアラ
イメントマーク４０ａ，４０ｃ，４０ｄの１つが走査範
囲の中央で検出されるような位置を走査開始位置と定め
ることも可能である。
検出信号が制御装置３２に供給されないため、演算装置
３４は、他のプレート顕微鏡３０ａ，３０ｃ，３０ｄか
らの検出信号に基づいて適切な走査開始位置を算出す
る。すなわち、前回の走査によって検出されたアライメ
ントマーク４０ａ，４０ｃ，４０ｄの位置に基づき、全
てのアライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０
ｄが走査範囲内に収まるようなＸＹステージ２２の走査
開始位置を算出する。この時、既に検出されているアラ
イメントマーク４０ａ，４０ｃ，４０ｄの１つが走査範
囲の中央で検出されるような位置を走査開始位置と定め
ることも可能である。
【００１７】演算装置３４によって走査開始位置が算出
されたら、図６の実線に示すように、制御装置３２は駆
動系２４を介してＸＹステージ２２を算出された走査開
始位置まで移動させる。そして、図の破線で示すよう
に、再び駆動系２４を介してＸＹステージ２２をＹ方向
に駆動することにより、各アライメントマーク４０ａ，
４０ｂ，４０ｃ，４０ｄによって対応するスリット光４
２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄを走査する。図より分か
るように、全てのアライメントマーク４０ａ，４０ｂ，
４０ｃ，４０ｄが対応するスリット光４２ａ，４２ｂ，
４２ｃ，４２ｄを通過するため、対応するプレート顕微
鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄによって、全てのア
ライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位
置が検出される。その後、制御装置３２は、各プレート
顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄから供給される
各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ
の位置情報に基づき、ＸＹステージ２２を駆動してガラ
スプレート１２のアライメントを行う。
されたら、図６の実線に示すように、制御装置３２は駆
動系２４を介してＸＹステージ２２を算出された走査開
始位置まで移動させる。そして、図の破線で示すよう
に、再び駆動系２４を介してＸＹステージ２２をＹ方向
に駆動することにより、各アライメントマーク４０ａ，
４０ｂ，４０ｃ，４０ｄによって対応するスリット光４
２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄを走査する。図より分か
るように、全てのアライメントマーク４０ａ，４０ｂ，
４０ｃ，４０ｄが対応するスリット光４２ａ，４２ｂ，
４２ｃ，４２ｄを通過するため、対応するプレート顕微
鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄによって、全てのア
ライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位
置が検出される。その後、制御装置３２は、各プレート
顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄから供給される
各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ
の位置情報に基づき、ＸＹステージ２２を駆動してガラ
スプレート１２のアライメントを行う。
【００１８】上記のようにアライメントが完了した後
は、レチクル１０に形成されたパターンの像で順次ガラ
スプレート１２の露光を行う。
は、レチクル１０に形成されたパターンの像で順次ガラ
スプレート１２の露光を行う。
【００１９】上記実施例においては、アライメントセン
サとしてプレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０
ｄを使用しているが、これに代えて撮像形式で各アライ
メントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位置を
検出するＣＣＤイメージセンサを使用することもでき
る。図７は、ガラスプレート１２上のアライメントマー
ク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄとこれに対応するＣ
ＣＤセンサの視野範囲４６ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ
の関係を示す。また、図７は、上記実施例で説明した図
５の状態に対応し、アライメントマーク４０ｂを検出す
るＣＣＤセンサの視野範囲４６ｂが正常な位置からず
れ、当該アライメントマーク４０ｂがその視野範囲４６
ｂから外れている状態を示している。
サとしてプレート顕微鏡３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０
ｄを使用しているが、これに代えて撮像形式で各アライ
メントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの位置を
検出するＣＣＤイメージセンサを使用することもでき
る。図７は、ガラスプレート１２上のアライメントマー
ク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄとこれに対応するＣ
ＣＤセンサの視野範囲４６ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ
の関係を示す。また、図７は、上記実施例で説明した図
５の状態に対応し、アライメントマーク４０ｂを検出す
るＣＣＤセンサの視野範囲４６ｂが正常な位置からず
れ、当該アライメントマーク４０ｂがその視野範囲４６
ｂから外れている状態を示している。
【００２０】次に、ＣＣＤイメージセンサを用いた本実
施例の動作について説明する。上記実施例と同様にガラ
スプレート１２のプリアライメントを行った後、各ＣＣ
Ｄセンサによってガラスプレート１２上の各アライメン
トマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄを撮像するこ
とによって、各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４
０ｃ，４０ｄの位置をそれぞれ検出する。
施例の動作について説明する。上記実施例と同様にガラ
スプレート１２のプリアライメントを行った後、各ＣＣ
Ｄセンサによってガラスプレート１２上の各アライメン
トマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄを撮像するこ
とによって、各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４
０ｃ，４０ｄの位置をそれぞれ検出する。
【００２１】また、図７に示すように、アライメントマ
ーク４０ｂを検出することができない場合には、演算装
置３４において他のアライメントマーク４０ａ，４０
ｃ，４０ｄの位置に基づき、全てのアライメントマーク
４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄがＣＣＤセンサの視野
範囲内に収まるようなＸＹステージ２２の再検出位置を
算出する。この時、既に検出されているアライメントマ
ーク４０ａ，４０ｃ，４０ｄの１つが対応するＣＣＤセ
ンサの視野範囲の中央で検出されるような位置を再検出
位置と定めることも可能である。
ーク４０ｂを検出することができない場合には、演算装
置３４において他のアライメントマーク４０ａ，４０
ｃ，４０ｄの位置に基づき、全てのアライメントマーク
４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄがＣＣＤセンサの視野
範囲内に収まるようなＸＹステージ２２の再検出位置を
算出する。この時、既に検出されているアライメントマ
ーク４０ａ，４０ｃ，４０ｄの１つが対応するＣＣＤセ
ンサの視野範囲の中央で検出されるような位置を再検出
位置と定めることも可能である。
【００２２】演算装置３４によって再検出位置が算出さ
れたら、図８に示すように、制御装置３２は駆動系２４
を介してＸＹステージ２２を算出された再検出位置まで
移動させる。そして、再びＣＣＤイメージセンサによっ
て各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０
ｄの位置を検出する。その後は、上記実施例と同様に、
制御装置３２は、各ＣＣＤイメージセンサから供給され
る各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０
ｄの位置情報に基づいき、ＸＹステージ２２を駆動して
ガラスプレート１２のアライメントを行う。
れたら、図８に示すように、制御装置３２は駆動系２４
を介してＸＹステージ２２を算出された再検出位置まで
移動させる。そして、再びＣＣＤイメージセンサによっ
て各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０
ｄの位置を検出する。その後は、上記実施例と同様に、
制御装置３２は、各ＣＣＤイメージセンサから供給され
る各アライメントマーク４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０
ｄの位置情報に基づいき、ＸＹステージ２２を駆動して
ガラスプレート１２のアライメントを行う。
【００２３】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に示された本発明の技術的思想とし
ての要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に示された本発明の技術的思想とし
ての要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００２４】
【効果】以上説明したように、本発明においては、複数
のアライメントマークの一部が検出範囲から外れていて
検出できない場合に、検出された他のアライメントマー
クの位置に基づき、全てのアライメントマークが検出範
囲内に入るような再検出位置を算出してアライメントを
行っているため、基板のアライメント作業の効率化を図
ることができる。
のアライメントマークの一部が検出範囲から外れていて
検出できない場合に、検出された他のアライメントマー
クの位置に基づき、全てのアライメントマークが検出範
囲内に入るような再検出位置を算出してアライメントを
行っているため、基板のアライメント作業の効率化を図
ることができる。
【図１】図１は、本発明の実施例にかかる露光装置の構
成を示す概念図である。
成を示す概念図である。
【図２】図２は、実施例のアライメント機構の制御系の
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
【図３】図３は、実施例に使用されるガラスプレート上
のアライメントマークを示す平面図である。
のアライメントマークを示す平面図である。
【図４】図４は、実施例の動作を説明するためのフロー
チャートである。
チャートである。
【図５】図５は、実施例の作用を説明するための説明図
である。
である。
【図６】図６は、実施例の作用を説明するための説明図
である。
である。
【図７】図７は、本発明の他の実施例の動作を示す説明
図である。
図である。
【図８】図８は、図７に示す実施例の動作を示す説明図
である。
である。
１０・・・レチクル １２・・・ガラスプレート ２２・・・ＸＹステージ ２４・・・駆動系 ３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ・・・プレート顕微鏡 ３２・・・制御装置 ３４・・・演算装置 ４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ・・・アライメントマ
ーク ４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ・・・スリット光 ４６ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ・・・視野範囲（ＣＣ
Ｄセンサ）
ーク ４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ・・・スリット光 ４６ａ，４６ｂ，４６ｃ，４６ｄ・・・視野範囲（ＣＣ
Ｄセンサ）
Claims (3)
- 【請求項１】マスクに形成されたパターンの像を感光基
板上に転写するに際し、所定位置に配置された複数のア
ライメントセンサを用いて前記感光基板上に形成された
複数のアライメントマークを検出することにより当該感
光基板のアライメントを行う方法において、 前記アライメントセンサの複数の検出用の光を前記複数
のアライメントマークに対して照射し、それぞれの検出
範囲内で前記アライメントマークの位置をそれぞれ検出
する工程と；前記複数のアライメントマークの一部が前
記検出範囲から外れているために当該マークの位置が検
出できない場合に、検出された他のアライメントマーク
の位置に基づき、前記複数のアライメントマークが全て
前記検出範囲内に入るような再検出位置を算出する工程
と；前記再検出位置から、前記照射を再び行うことによ
って前記全てのアライメントマークの位置を検出する工
程と；前記検出された全てのアライメントマークの位置
に基づいて、前記感光基板のアライメントを行う工程と
を含むことを特徴とする基板のアライメント方法。 - 【請求項２】前記複数のアライメントマークの一部が前
記検出範囲から外れているために当該マークの位置が検
出できない場合に、検出された他のアライメントマーク
が前記検出範囲の中央付近で検出されるように前記再検
出位置を求めることを特徴とする請求項１に記載の基板
のアライメント方法。 - 【請求項３】前記検出用の光としてスリット状の光を用
い、当該スリット状の光に対して前記アライメントマー
クとを相対走査することによって発生する回折光又は散
乱光に基づいて前記アライメントマークの位置を検出す
ることを特徴とする請求項１，又は２に記載の基板のア
ライメント方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8191559A JPH1022218A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 基板のアライメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8191559A JPH1022218A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 基板のアライメント方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1022218A true JPH1022218A (ja) | 1998-01-23 |
| JPH1022218A5 JPH1022218A5 (ja) | 2004-07-22 |
Family
ID=16276694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8191559A Pending JPH1022218A (ja) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | 基板のアライメント方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1022218A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012060119A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板にパターンを与える方法 |
| JP2016027414A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-02-18 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
-
1996
- 1996-07-02 JP JP8191559A patent/JPH1022218A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016027414A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-02-18 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JP2016106254A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-06-16 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JP2016128929A (ja) * | 2006-08-31 | 2016-07-14 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| JP2012060119A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板にパターンを与える方法 |
| US8570487B2 (en) | 2010-09-08 | 2013-10-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and method of applying a pattern to a substrate |
| US8610898B2 (en) | 2010-09-08 | 2013-12-17 | Asml Netherlands B.V. | Self-referencing interferometer, alignment system, and lithographic apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050224 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061128 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070327 |