JPH09323093A

JPH09323093A - 温水循環器

Info

Publication number: JPH09323093A
Application number: JP8144636A
Authority: JP
Inventors: Michio Goshima; 教夫五嶋; Norie Watanabe; 訓江渡辺; Yuichi Ishino; 裕一石野
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1996-06-06
Filing date: 1996-06-06
Publication date: 1997-12-16

Abstract

(57)【要約】【課題】不用な雑菌の殺菌が可能な温水循環器を得
る。【解決手段】本温水循環器１０は、浄化筒３０の内筒
部３２の外側にはセラミックスヒータ４０が配置されて
おり、浴水が内筒部３２内に送給されると、内筒部３２
内で浴水が加熱される。ここで、セラミックスヒータ４
０による浴水の加熱温度は摂氏４５度とされており、ブ
ドウ球菌や大腸菌等の雑菌は殺菌するが、内筒部３２内
の粒状セラミックス４０に付着されたBacillus Subtili
s ATCC 6603 の生息は可能である。このため、Bacillus
Subtilis ATCC 6603 による有機物の分解、浄化効果を
損なうことなく、雑菌を確実に殺菌でき、浴槽１２内の
浴水を常に清潔に保つことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽内の浴水を取
水し、浄化した後に再度浴槽内へ戻す温水循環器に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、浴槽内の温水を濾過材と微生物の
働きで浄化し、再度浴槽内に戻し、常時使用に供せられ
る温水循環器が家庭で使用されるようになってきた。

【０００３】この温水循環器は、浴槽内に配置された取
水部から、プレフィルターを通し髪の毛、タオルの糸
屑、アカの一部等の比較的大きなごみを取り除いた浴水
をポンプで取水し、この取水した浴水を殺菌装置を通し
浴水中の細菌を殺菌し、さらに濾過タンクを通し浴水中
のアンモニア、アカ、脂肪類を吸着するとともに微生物
の働きで有機物を分解し、浄化された浴水をヒータで所
要温度に温めてから吐出部を通して浴槽に戻すように構
成されている。これにより、浴槽の浴水を毎日交換する
ことなく浴水を浄化及び加熱して、２４時間いつでも入
浴可能とし、極めて便利に、しかも節水して風呂を利用
できるようにしたものである。

【０００４】この温水循環器の水質の浄化のメカニズム
は、次のようになっている。すなわち、毛髪などの粗大
なごみは、ウレタンフォームなどで作られたプレフィル
タ（例えばヘアキャッチャー）で濾過される。

【０００５】さらに、入浴する人体に由来する細菌類
は、紫外線、オゾンなどで殺菌する殺菌装置によって殺
菌される。

【０００６】また、浴水中の身体から分泌された有機物
（例えば、体液に含まれるアミノ酸や蛋白質、或いは角
質化した皮膚等）などは、濾過タンク内で分解され、連
続的に浄化される。

【０００７】ここで、身体から分泌された有機物が濾過
タンクで浄化される原理を以下に説明する。つまり、濾
過タンクの中には、麦飯石等の天然石、或いはこのよう
な天然石を粉砕して多孔質の状態に焼結した粒状セラミ
ックスなどの濾材が収容されている。濾過タンクの中に
浴水が循環されると、この濾材に有機物が吸着するとと
もに、微生物が繁殖することになる。そして、この繁殖
した微生物である浄化菌が、浴水に含まれるアンモニア
や蛋白質等の有機物を分解するため、浴水が浄化され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の温水循環器では、濾過タンク内で繁殖する微生
物は浄化菌だけではなく、殺菌装置で殺菌しきれなかっ
た浴水中の雑菌等が繁殖する場合もある。このような場
合、濾過タンクから雑菌混じりの浴水が出て、浴槽内へ
循環されてしまうことになる。

【０００９】本発明は上記事実を考慮し、不用な雑菌を
殺菌できる温水循環器を得ることが目的である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の温水循環
器は、浴槽内に配置され前記浴槽から浴水を取水する取
水部と、前記浴槽内に配置され前記取水部によって取水
された浴水を前記浴槽内に吐出する吐出部と、内部に前
記浴水中に含まれる有機物を分解可能な耐熱性の浄化菌
を有し、前記取水部と吐出部の間に設置されて前記取水
部によって取水された浴水を浄化する浄化装置と、前記
浄化菌が生息可能で且つ前記浄化菌以外の雑菌の殺菌が
可能な所定の温度まで浴水を加熱するヒータと、を備え
ている。

【００１１】上記構成の温水循環器によれば、浴槽内の
浴水が取水部によって取水されて浄化装置内に送給され
ると、浴水内に含まれる有機物（例えば、角質化された
皮膚や体液に含まれるアミノ酸等）が浄化装置内の浄化
菌によって分解されて浄化される。この浄化された浴水
は吐出部から浴槽内に戻され再び使用される。

【００１２】また、本温水循環器はヒータを備えてお
り、浴水を循環させて浄化する場合や浴水を排水する場
合等に取水部から取水された浴水が、ヒータによって浄
化菌以外の雑菌、例えば、ブドウ球菌や大腸菌等の雑菌
の殺菌が可能な所定の温度まで加熱される。これによ
り、上述した浄化菌以外の雑菌が加熱殺菌される。ま
た、この場合、ヒータの加熱温度は上述した浄化菌の生
息が可能な温度とされるため、雑菌は加熱殺菌されても
浄化装置内の浄化菌が殺菌されることはなく、浄化装置
における浴水の浄化効果、すなわち、浄化菌による有機
物の分解効果を損なうことがなく、浴水を常に清潔に保
つことができる。

【００１３】請求項２記載の温水循環器は、請求項１の
温水循環器において、前記ヒータは、前記浄化装置に設
けられたことを特徴としている。

【００１４】上記構成の温水循環器によれば、ヒータが
浄化装置に設けられており、浄化装置の内部がヒータに
よって直接加熱される。ここで、上述した雑菌等の菌や
微生物は主として浄化装置内で繁殖しやすいため、浄化
装置の内部をヒータによって直接加熱すると、浄化装置
内で繁殖した雑菌が極めて効率よく、しかも効果的に殺
菌される。

【００１５】請求項３記載の温水循環器は、請求項１又
は請求項２の温水循環器において、前記浄化菌をバチラ
ス・ズブチリスに属する微生物としたことを特徴として
いる。

【００１６】上記構成の温水循環器によれば、浄化菌
に、例えばBacillus Subtilis ATCC 6603 等のバチラス
・ズブチリスに属する微生物が用いられる。ここで、バ
チラス・ズブチリスに属する微生物は、摂氏７０度乃至
１００度までの高温雰囲気中での生息が可能とされるた
め、摂氏４５度乃至５０度位で死滅する前述したブドウ
球菌や大腸菌等の雑菌を殺菌するために浄化装置内の浴
水を十分に加熱しても浄化菌（すなわち、バチラス・ズ
ブチリスに属する微生物）を死滅させることはない。こ
のため、浄化菌による浴水の浄化効果を低下させること
なく雑菌を十分に殺菌できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１には、本発明の第１の実施の
形態に係る温水循環器１０のシステムの概略が示されて
いる。この図に示されるように、温水循環器１０は取水
部１２を備えている。この取水部１２は浴槽１４の内部
に設置されている。また、取水部１２はパイプ１６を介
してポンプ１８に接続されており、温水循環器１０の制
御装置（図示省略）を操作してポンプ１８を作動させる
ことにより、取水部１２からの浴槽１４内の浴水の汲み
上げ（取水）が可能である。

【００１８】また、取水部１２の内部にはヘアキャッチ
ャー２０が着脱自在に取り付けられている。ヘアキャッ
チャー２０はウレタンフォームなどの連続気泡を持つ素
材によって形成されており、取水部１２から浴槽１４内
の浴水を汲み上げる場合には、浴水中の毛髪などの粗大
なごみを、このヘアキャッチャー２０によって捕獲し、
取水部１２以降への粗大なごみの流入を防止する構成で
ある。

【００１９】一方、ポンプ１８の取水部１２とは逆側
（すなわち、排出側）はパイプ２２を介して紫外線殺菌
装置２４に接続されており、取水部１２から汲み上げた
浴水を紫外線殺菌装置２４内へ送給できる。この紫外線
殺菌装置２４の内部には紫外線殺菌灯（図示省略）が収
容されており、ポンプ１８から送給された浴水内のブド
ウ球菌や大腸菌等の雑菌を紫外線によって殺菌できる。

【００２０】また、紫外線殺菌装置２４はパイプ２８を
介して浄化装置としての浄化筒３０に接続されており、
紫外線殺菌装置２４の内部を通過した浴水を浄化筒３０
内へ送給できる。この浄化筒３０は、フェノール樹脂や
メラミン樹脂等の熱硬化性の樹脂材によって形成された
内筒部３２と、内筒部３２と同様に熱硬化性の樹脂材に
よって形成された外筒部３４の二種類の筒体を重ね合わ
せた二重構造とされている。紫外線殺菌装置２４と浄化
筒３０とを接続するパイプ２８は、外筒部３４を貫通し
て内筒部３２の上端部に取り付けられており、紫外線殺
菌装置２４からの浴水が内筒部３２の内部へ送給される
構成である。また、内筒部３２の内部には、例えば、麦
飯石等の天然石、或いはこのような天然石を粉砕して焼
結することにより全体的に多孔質に形成された粒状セラ
ミックス等の濾材３６が多数収容されている。これらの
濾材３６の一部、或いは全てには、バチラス・ズブチリ
スに属する菌として、Bacillus Subtilis ATCC 6603 が
付着されている。このBacillus Subtilis ATCC 6603
は、他のバチラス・ズブチリスに属する菌と同様に、有
機物やある種の無機物を分解し、これらの有機物やある
種の無機物を栄養源として繁殖する。また、Bacillus S
ubtilis ATCC 6603 は、他のバチラス・ズブチリスに属
する菌と同様に、高温雰囲気下での生息が可能とされて
おり、例えば、摂氏７０度乃至１００度の熱湯中におい
ても生息できるという特性を有している。

【００２１】一方、内筒部３２と外筒部３４の間にはヒ
ータとしてのセラミックヒータ４０が配置されている。
このセラミックヒータ４０は有底の筒状とされており、
内筒部３２の周囲を覆う如く配置され、外筒部３４の外
部に配置された電源４２からの電力によって発熱し、内
筒部３２を介して内筒部３２内の浴水を加熱できる。

【００２２】ここで、セラミックヒータ４０は、内筒部
３２（浄化筒３０）内に送給された浴水の温度が摂氏４
５度となるまで加熱するように設定されており、紫外線
殺菌装置２４にて殺菌しきれず浴水と共に内筒部３２
（浄化筒３０）内に送給されたブドウ球菌や大腸菌等の
雑菌を殺菌する。

【００２３】また、内筒部３２の下端部にはパイプ４８
の一端が取り付けられており、このパイプ４８を介して
浴槽１４内に設置された吐出部５０に接続されている。

【００２４】次に本実施の形態の作用について説明す
る。本温水循環器１０では、制御装置（図示省略）を操
作してポンプ１８を作動させ、取水部１２から浴槽１４
内の浴水を汲み上げると、先ず、ヘアキャッチャー２０
によって浴水中の毛髪などの粗大なごみが捕獲されて除
去される。次いで、ヘアキャッチャー２０を通過した浴
水は紫外線殺菌装置２４の内部へ送給され、紫外線殺菌
灯（図示省略）からの紫外線が照射される。これによ
り、浴水内のブドウ球菌や大腸菌等の雑菌が殺菌され
る。

【００２５】さらに、紫外線殺菌装置２４を通過した浴
水は浄化筒３０の内筒部３２の内部へ送給される。この
内筒部３２の内部では、濾材３６に付着されたBacillus
Subtilis ATCC 6603 によって浴水内に含まれる有機物
（例えば、体液に含まれるアミノ酸や蛋白質、或いは角
質化した皮膚等）が分解されて浴水が浄化される。ま
た、この状態では、セラミックヒータ４０によって内筒
部３２の内部の浴水の温度が摂氏４５度まで加熱され
る。これにより、紫外線殺菌装置２４にて殺菌しきれず
浴水と共に内筒部３２（浄化筒３０）内に送給されたブ
ドウ球菌や大腸菌等の雑菌が加熱殺菌される。ここで、
セラミックヒータ４０によって加熱された浴水の水温は
摂氏４５度であるため、摂氏７０度乃至１００度の熱湯
中においても生息可能なBacillus Subtilis ATCC 6603
は当然死滅することなく生息している。このため、Baci
llus Subtilis ATCC 6603 による浄化効果（すなわち、
有機物の分解効果）を損なうことなく、ブドウ球菌や大
腸菌等の雑菌を確実に加熱殺菌できる。

【００２６】このように、浄化筒３０内において浄化、
殺菌された浴水は、吐出部５０から浴槽１４内に吐出さ
れて再度利用される。ここで、浴水は浄化筒３０内にお
いて摂氏４５度まで加熱されているため、浴槽１４内の
浴水を特別に沸かし直したりすることなく入浴が可能で
ある。

【００２７】以上、説明したように、本温水循環器１０
では、浴水内の雑菌を紫外線殺菌装置２４により殺菌す
るのみならず、紫外線殺菌装置２４によって殺菌しきれ
なかった雑菌をセラミックヒータ４０によって加熱殺菌
するため、ブドウ球菌や大腸菌等の雑菌を確実に殺菌で
きる。このため、浴槽１４内の浴水を常に清潔に保つこ
とができ、浴水を繰り返し使用できる。

【００２８】また、セラミックヒータ４０によって加熱
する浴水の温度を摂氏４５度に設定したため、内筒部３
２内の濾材３６に付着されたBacillus Subtilis ATCC 6
603が死滅することはなく、Bacillus Subtilis ATCC 66
03 による浴水中の有機物の分解、浄化効果を損なうこ
とない。

【００２９】さらに、浴水を加熱するセラミックヒータ
４０が内筒部３２を覆う如く設置されているため、浄化
筒３０内の浴水を早急且つ均一に加熱できる。しかも、
ヒータにはセラミックヒータ４０を使用しているため、
セラミックヒータ４０から放出される遠赤外線の効果も
加わり、より一層早急且つ均一に加熱でき、短時間にて
効率よく且つ効果的に加熱殺菌できる。

【００３０】また、セラミックヒータ４０によって浴水
を加熱して吐出部５０から浴槽１４内に吐出するため、
浴槽１４内の浴水を特別に沸かし直すことなく入浴に利
用でき、浴水を沸かし直すための加熱手段を別に設ける
必要がない。

【００３１】なお、本実施の形態では、円筒状のセラミ
ックヒータ４０を用いて浄化筒３０（内筒部３２）内の
浴水を加熱する構成であったが、例えば、図２に示され
るように、セラミックヒータ４０に代えてテープ状のヒ
ータ６２を内筒部３２の周囲に巻き付ける構成としても
よい。この場合であっても、上述した効果を損なうこと
がない。

【００３２】また、本実施の形態では、円筒状のセラミ
ックヒータ４０を浄化筒３０の内筒部３２の外側に配置
し、内筒部３２を介して浴水を加熱する構成であった
が、必ずしもヒータを内筒部３２の外側に配置する必要
はない。すなわち、浄化筒３０を二重構造とせずに、例
えば、図３に示されるように、一重構造の浄化筒７０を
適用して、浄化筒７０の内部に螺旋状のヒータ７２を設
け、ヒータ７２によって浴水を直接加熱する構成として
もよい。また、図４に示されるように、ヒータ７２に代
えて円盤状のヒータ８２を浄化筒７０の内部の底部近傍
に配置する構成としてもよく、図５に示されるように、
ドーナッツ状にヒータ９２を浄化筒７０の内部の底部近
傍に配置する構成としてもよい。さらには、図６に示さ
れるように、浄化筒７０の軸線方向に沿って長手の棒状
のヒータ１０２を浄化筒７０の上部から内部に差し込
み、浴水を直接加熱する構成としてもよい。これらのい
ずれの構成においても、上述した効果を損なうことがな
い。

【００３３】さらに、本実施の形態では、セラミックヒ
ータ４０によって浴水を摂氏４５度まで加熱して雑菌を
加熱殺菌し、その後は単に浴水を浴槽１４へ戻す構成で
あったが、例えば、浄化筒３０と吐出部５０との間を流
れる浴水の温度を冷却する冷却手段を設け、この冷却手
段によって加熱殺菌後の浴水の温度を入浴に適した温度
（例えば、摂氏３７度乃至４２度）まで冷却した後に吐
出部５０から浴槽内１４内に戻し、再度浴水を入浴用に
供する構成としてもよい。この場合では、Bacillus Sub
tilis ATCC 6603 の生息が可能な温度、すなわち、摂氏
７０度乃至１００度まで浄化筒３０内の浴水の温度を上
昇させても、浴水を浴槽１４へ戻す際には冷却手段によ
って入浴に適した温度まで冷却できるため、浄化筒３０
内の浴水をより高温に加熱して確実に雑菌を殺菌でき
る。また、このような構成であれば、温水循環器１０に
よる浴水の循環流速が速い場合には、濾材３６に付着し
た雑菌を死滅させるべく濾材３６の温度が摂氏４５度乃
至５０度位になるようにセラミックヒー４０で加熱し、
循環する浴水の最終的な温度（すなわち、浴槽１４内で
の温度）を摂氏３７度乃至４２度の入浴に適した温度に
調節することも可能である。

【００３４】次に本発明の第２の実施の形態について説
明する。なお、前記第１の実施の形態と基本的の同一の
部位については、前記第１の実施の形態と同一の符号を
付与してその説明を省略する。

【００３５】図７には、本発明の第２の実施の形態に係
る温水循環器１１０のシステムの概略が示されている。
この図に示されるように、温水循環器１１０はヒータと
してのセラミックヒータ１１２を備えている。このセラ
ミックヒータ１１２は、紫外線殺菌装置２４のポンプ１
８とは逆側に設置され、パイプ１１４を介して紫外線殺
菌装置２４に接続されている。このセラミックヒータ１
１２は、外部に配置された電源１１３からの電力によっ
て発熱し、紫外線殺菌装置２４からの浴水を所望の温度
まで加熱できる。また、セラミックヒータ１１２はパイ
プ１１６を介して浄化装置としての浄化筒１２０に接続
されている。

【００３６】この浄化筒１２０は、フェノール樹脂やメ
ラミン樹脂等の熱硬化性の樹脂材によって有底の筒状に
形成されており、内部にBacillus Subtilis ATCC 6603
を付着させた濾材３６が収容されている。また、浄化筒
１２０の下端部は、パイプ１２４を介して弁１２６に接
続されている。この弁１２６は所謂三方弁とされてお
り、弁１２６のパイプ１２４とは逆側の一方は、パイプ
１２８を介して吐出部５０に接続されており、他方は浴
槽１４の外部で開口した排水管１３０に接続されてい
る。すなわち、弁１２６によって、排水管１３０側を閉
塞しパイプ１２８側を開放することにより浴水の循環が
可能とされ、パイプ１２８側を閉塞し排水管１３０側を
開放することにより浴水の排水が可能とされている。

【００３７】上記構成の温水循環器１１０において、浴
水を循環させて浴水を浄化する場合には、先ず、制御装
置（図示省略）を操作して弁１２６を作動させ、弁１２
６の排水管１３０側を閉塞しパイプ１２８側を開放する
と共にポンプ１８を作動させる。これによって、取水部
１２から取水され、ヘアキャッチャー２０によって毛髪
などの粗大なごみが除去された浴槽１４の浴水が、紫外
線殺菌装置２４内に送給され、紫外線殺菌装置２４内の
紫外線殺菌灯（図示省略）からの紫外線によって浴水内
のブドウ球菌や大腸菌等の雑菌が殺菌される。次いで、
紫外線殺菌装置２４内で雑菌が殺菌された後の浴水がセ
ラミックヒータ１１２へ送給される。セラミックヒータ
１１２では、送給された浴水が所定の温度まで加熱され
る。ここで、この場合（浴水を浄化する場合）には、浴
水が再度浴槽１４内に戻され入浴用に供されることか
ら、浴槽１４内に戻された状態で入浴に適した温度、す
なわち、摂氏３７度乃至４２度位までセラミックヒータ
１１２が浴水を加熱する。なお、ここで記載した温度範
囲はあくまで一般的に入浴に適しているとされる温度範
囲であり、これとは異なる温度設定であってもなんら差
し支えない。次いで、セラミックヒータ１１２によって
加熱された浴水は浄化筒１２０に送給される。浄化筒１
２０では濾材３６に付着されたBacillus Subtilis ATCC
6603 によって浴水内に含まれる有機物（例えば、体液
に含まれるアミノ酸や蛋白質、或いは角質化した皮膚
等）が分解されて浴水が浄化される。浄化筒１２０によ
って浄化された浴水は弁１２６を介して吐出部５０から
浴槽１４内へ吐出され再利用される。

【００３８】ところで、このように浴水の循環を繰り返
すと、紫外線殺菌装置２４内で殺菌しきれなかった雑菌
が浄化筒１２０の濾材３６に付着して繁殖する可能性が
ある。このようなことを考慮すると、定期的に（例え
ば、一週間に一回で且つ一回一時間程度）浄化筒１２０
内で繁殖した雑菌を殺菌することが好ましい。この場合
には、先ず、制御装置を操作して弁１２６を作動させ、
弁１２６のパイプ１２８側を閉塞し排水管１３０側を開
放する。更に、紫外線殺菌装置２４を非作動状態とする
と共にポンプ１８を作動させる。これによって、取水部
１２から取水され、紫外線殺菌装置２４内を通過した浴
水がセラミックヒータ１１２へ送給される。ここで、こ
の状態では紫外線殺菌装置２４は非作動状態とされてお
り、浴水は単に紫外線殺菌装置２４内を通過するだけで
ある。

【００３９】セラミックヒータ１１２では、送給された
浴水が所定の温度まで加熱されて浄化筒１２０へ送給さ
れる。ここで、この場合には、浄化筒１２０内で繁殖し
た雑菌（すなわち、濾材３６に付着して繁殖した雑菌）
を確実に殺菌するために、浄化筒１２０へ送給された状
態で雑菌の殺菌が可能な温度、すなわち、摂氏４５度乃
至７０度の温度までセラミックヒータ１１２によって浴
水が加熱される。このように、加熱された浴水が浄化筒
１２０内へ送給されると浄化筒１２０内で繁殖した雑菌
が確実に加熱殺菌される。さらに、浄化筒１２０内で雑
菌を殺菌した浴水は、弁１２６を介して排水管１３０へ
送給され、排水管１３０から浴槽１４の外部へ排水され
る。これにより、浄化筒１２０内における雑菌の繁殖を
抑制することができ浄化筒１２０内をを常に清潔に保つ
ことができる。また、ここで、セラミックヒータ１１２
によって加熱されて浄化筒１２０内に送給された浴水の
水温は、摂氏４５度乃至７０度であるため、摂氏７０度
乃至１００度の熱湯中においても生息可能なBacillus S
ubtilis ATCC 6603 は当然死滅することなく生息してい
る。このため、殺菌終了後に再度浴水を循環させた場合
であっても、Bacillus Subtilis ATCC 6603 による浴水
の浄化効果を損なうことがない。

【００４０】なお、本実施の形態では、セラミックヒー
タ１１２を紫外線殺菌装置２４と浄化筒１２０の間に設
置した構成であったが、セラミックヒータ１１２の設置
箇所はこれに限るものではない。すなわち、浴水を循環
させて浄化する場合には入浴に適した温度まで浴水を加
熱すること、及び浄化筒１２０内で繁殖した雑菌を殺菌
する場合には殺菌可能な温度まで浴水を加熱することが
セラミックヒータ１１２を設けた目的であることを考慮
すれば、セラミックヒータ１１２の設置箇所は浄化筒１
２０と取水部１２の間であればよく、例えば、ポンプ１
８と紫外線殺菌装置２４の間にセラミックヒータ１１２
を設置してもよい。更には、浄化筒１２０にセラミック
ヒータ１１２を設けた構成としてもよい。

【００４１】また、本実施の形態では、浄化筒１２０内
を加熱殺菌した後の浴水は排水管１３０から排水する構
成であったが、例えば、浄化筒１２０と吐出部５０との
間を流れる浴水の温度を冷却する冷却手段を設け、この
冷却手段によって加熱殺菌後の浴水の温度を入浴に適し
た温度（例えば、摂氏３７度乃至４２度）まで冷却した
後に吐出部５０から浴槽内１４内に戻し、再度浴水を入
浴用に供する構成としてもよい。この場合では、殺菌後
の浴水の再利用が可能であるため、より一層浴水を節約
できる。

【００４２】さらに、本実施の形態では、浄化筒１２０
内を加熱殺菌する際に、浄化筒１２０内において浴水の
温度が摂氏４５度乃至７０度となるようにヒータ１１２
によって浴水を加熱する構成であったが、このヒータ１
１２による浴水の加熱温度はこれに限定するものではな
い。すなわち、適用する浄化菌の耐熱性等の様々な条件
次第では浴水の温度を異ならせた方がよい場合もありう
る。

【００４３】また、上記の各実施の形態では、浄化菌に
Bacillus Subtilis ATCC 6603 を用いた構成であった
が、バチラス・ズブチリスに属する他の微生物、或いは
バチラス・ズブチリスに属しない他の微生物であっても
上述した有機物を分解でき、しかもブドウ球菌や大腸菌
等の雑菌を殺菌可能な温度下においても生息可能な微生
物であれば、Bacillus Subtilis ATCC 6603 に代えてこ
れを適用してもよい。

【００４４】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の温水循
環器では、浴水中に含まれる有機物を分解して浴水を浄
化できるのみならず、ブドウ球菌や大腸菌等の雑菌を確
実に殺菌できるため、浴槽内の浴水を常に清潔に保つこ
とができ、浴水を繰り返し使用できるという極めて優れ
た効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態係る温水循環器のシ
ステムの概略を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態係る温水循環器の変
形例を示す図で、ヒータの形状を変えた変形例を示す図
である。

【図３】本発明の第１の実施の形態係る温水循環器の変
形例を示す図で、ヒータを浄化装置内部に設けた構成の
変形例を示す図である。

【図４】本発明の第１の実施の形態係る温水循環器の変
形例を示す図で、ヒータを浄化装置内部に設けた構成の
変形例を示す図である。

【図５】本発明の第１の実施の形態係る温水循環器の変
形例を示す図で、ヒータを浄化装置内部に設けた構成の
変形例を示す図である。

【図６】本発明の第１の実施の形態係る温水循環器の変
形例を示す図で、ヒータを浄化装置内部に設けた構成の
変形例を示す図である。

【図７】本発明の第２の実施の形態係る温水循環器のシ
ステムの概略を示す図である。

【符号の説明】

１０温水循環器１２取水部１４浴槽３０浄化筒（浄化装置）４０セラミックヒータ（ヒータ）５０吐出部６２ヒータ７０浄化筒（浄化装置）７２ヒータ８２ヒータ９２ヒータ１０２ヒータ１１０温水循環器１１２セラミックヒータ（ヒータ）１２０浄化筒（浄化装置）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】浴槽内に配置され前記浴槽から浴水を取
水する取水部と、前記浴槽内に配置され前記取水部によって取水された浴
水を前記浴槽内に吐出する吐出部と、内部に前記浴水中に含まれる有機物を分解可能な耐熱性
の浄化菌を有し、前記取水部と吐出部の間に設置されて
前記取水部によって取水された浴水を浄化する浄化装置
と、前記浄化菌が生息可能で且つ前記浄化菌以外の雑菌の殺
菌が可能な所定の温度まで浴水を加熱するヒータと、を備える温水循環器。
【請求項２】前記ヒータは、前記浄化装置に設けられ
たことを特徴とする請求項１記載の温水循環器。
【請求項３】前記浄化菌をバチラス・ズブチリスに属
する微生物としたことを特徴とする請求項１又は請求項
２記載の温水循環器。