JPH0935231A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH0935231A JPH0935231A JP17721695A JP17721695A JPH0935231A JP H0935231 A JPH0935231 A JP H0935231A JP 17721695 A JP17721695 A JP 17721695A JP 17721695 A JP17721695 A JP 17721695A JP H0935231 A JPH0935231 A JP H0935231A
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- Japan
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】プラスチック基体を用いて量産性が高く、安価
な薄膜磁気記録媒体または大記録容量のフレキシブルデ
ィスクを提供する。 【構成】非磁性基体上に、少なくとも、非磁性金属下地
層、磁性層を順次積層形成してなる磁気記録媒体におい
て、磁性層はＣｏＳｍ系合金からなり、非磁性基体はプ
ラスチックからなる。また、プラスチックは射出成形、
または押し出し成形により成形されたものであり、さら
にプラスチック基体のテクスチャは金型を介して形成さ
れると良い。９１はテクスチャＴを具えたシリコン母
型、９２は電鋳Ｎｉ層、９３は電鋳Ｎｉ金型である。ま
た、プラスチック基体はシート状でも良い。
な薄膜磁気記録媒体または大記録容量のフレキシブルデ
ィスクを提供する。 【構成】非磁性基体上に、少なくとも、非磁性金属下地
層、磁性層を順次積層形成してなる磁気記録媒体におい
て、磁性層はＣｏＳｍ系合金からなり、非磁性基体はプ
ラスチックからなる。また、プラスチックは射出成形、
または押し出し成形により成形されたものであり、さら
にプラスチック基体のテクスチャは金型を介して形成さ
れると良い。９１はテクスチャＴを具えたシリコン母
型、９２は電鋳Ｎｉ層、９３は電鋳Ｎｉ金型である。ま
た、プラスチック基体はシート状でも良い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク装置
等、磁気記録を利用した記憶装置に用いられる磁気記録
媒体に関する。
等、磁気記録を利用した記憶装置に用いられる磁気記録
媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は代表的な磁気記録媒体の構成を示
す断面図である。Ａｌまたはガラス等の非磁性基体１１
上に、Ｎｉ−ＰまたはＡｌ等のような非磁性金属下地層
１２が形成された基体１の上に、非磁性金属下地層２、
保磁力（Ｈｃ）が１６００Oe以上の単層の磁性層３（例
えばＣｏＣｒＴａまたはＣｏＣｒＰｔＴａ等）およびＣ
を主とする保護層４が形成されており、更にその上に、
液体潤滑剤からなる潤滑層５が形成されている。このよ
うな磁気記録媒体（以下、媒体と記す）は、例えばＡｌ
合金またはガラス材料からなる非磁性基体１１の表面に
無電解めっき等の湿式成膜工程、またはスパッタ、蒸着
等のようなドライ工程によりＮｉ−ＰまたはＡｌ層から
なる非磁性金属下地層１２を形成されて非磁性基体１
（以下、基体と記す）とされる。この後、機械加工等に
より平面度及び表面粗さを再度仕上げ加工する場合もあ
る。また、必要に応じてＲａ１０nm程度の凹凸（テクス
チャ）を表面に形成して、磁気特性や記録ヘッドとの摺
動特性を改善することも行われる。
す断面図である。Ａｌまたはガラス等の非磁性基体１１
上に、Ｎｉ−ＰまたはＡｌ等のような非磁性金属下地層
１２が形成された基体１の上に、非磁性金属下地層２、
保磁力（Ｈｃ）が１６００Oe以上の単層の磁性層３（例
えばＣｏＣｒＴａまたはＣｏＣｒＰｔＴａ等）およびＣ
を主とする保護層４が形成されており、更にその上に、
液体潤滑剤からなる潤滑層５が形成されている。このよ
うな磁気記録媒体（以下、媒体と記す）は、例えばＡｌ
合金またはガラス材料からなる非磁性基体１１の表面に
無電解めっき等の湿式成膜工程、またはスパッタ、蒸着
等のようなドライ工程によりＮｉ−ＰまたはＡｌ層から
なる非磁性金属下地層１２を形成されて非磁性基体１
（以下、基体と記す）とされる。この後、機械加工等に
より平面度及び表面粗さを再度仕上げ加工する場合もあ
る。また、必要に応じてＲａ１０nm程度の凹凸（テクス
チャ）を表面に形成して、磁気特性や記録ヘッドとの摺
動特性を改善することも行われる。
【０００３】この基体 1を約３００℃に加熱し、かつ基
体に直流ハ゛イアス−３５０ Vを印加しながら、表面にＣｒ
からなる膜厚１００nmの非磁性金属下地層２、Ｃｏを主
とするＣｏＣｒＰｔＴａ等のような膜厚３０nmの磁性層
３及びＣを主とする膜厚１０nmの保護層４を形成し、そ
の上にフロロカーボンン系の液体潤滑剤を膜厚２ nm塗
布して液体潤滑層５とすることによって媒体は作製され
る。
体に直流ハ゛イアス−３５０ Vを印加しながら、表面にＣｒ
からなる膜厚１００nmの非磁性金属下地層２、Ｃｏを主
とするＣｏＣｒＰｔＴａ等のような膜厚３０nmの磁性層
３及びＣを主とする膜厚１０nmの保護層４を形成し、そ
の上にフロロカーボンン系の液体潤滑剤を膜厚２ nm塗
布して液体潤滑層５とすることによって媒体は作製され
る。
【０００４】このように作製された媒体は、強度、寸法
精度等の機械特性は実用上支障なく良好であり、磁気特
性も非保磁力が２０００Oe程度かつ、残留磁束密度と膜
厚の積（Ｂｒ・δ）が１００ G・μm 程度と良好であ
る。近年、ハードディスク装置の小型化と大容量化が急
激に進展し、更なる高保磁力化が望まれている。最近、
特開平3-23513 号公報に開示されているように、保磁力
が３０００Oe以上の材料としてＣｏＳｍ合金が注目を集
めている。ＣｏＳｍ合金は、従来のＣｏＣｒＴａ等のＣ
ｏ合金磁性層よりも高保磁力が得られ、しかも低温プロ
セスが可能である。
精度等の機械特性は実用上支障なく良好であり、磁気特
性も非保磁力が２０００Oe程度かつ、残留磁束密度と膜
厚の積（Ｂｒ・δ）が１００ G・μm 程度と良好であ
る。近年、ハードディスク装置の小型化と大容量化が急
激に進展し、更なる高保磁力化が望まれている。最近、
特開平3-23513 号公報に開示されているように、保磁力
が３０００Oe以上の材料としてＣｏＳｍ合金が注目を集
めている。ＣｏＳｍ合金は、従来のＣｏＣｒＴａ等のＣ
ｏ合金磁性層よりも高保磁力が得られ、しかも低温プロ
セスが可能である。
【０００５】またＣｏＳｍ合金はＣｏとＳｍの組成比に
よって特性が変化するが、保磁力と飽和磁束密度がトレ
イドオフの関係にあるため読み取り／書き込み特性（R/
W 特性）が低下するという問題があったが、特開平6-31
0328号公報に開示されているように、ＣｏＳｍにＦｅを
添加することにより改善されている。
よって特性が変化するが、保磁力と飽和磁束密度がトレ
イドオフの関係にあるため読み取り／書き込み特性（R/
W 特性）が低下するという問題があったが、特開平6-31
0328号公報に開示されているように、ＣｏＳｍにＦｅを
添加することにより改善されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記媒
体に用いられているＡｌ合金またはガラス材料からなる
非磁性基体は各基体毎にテクスチャ処理工程を行うこと
が必要であり、また材料費が比較的高いため、高コスト
であり、薄膜磁気記録媒体のコストのネックとなってい
た。
体に用いられているＡｌ合金またはガラス材料からなる
非磁性基体は各基体毎にテクスチャ処理工程を行うこと
が必要であり、また材料費が比較的高いため、高コスト
であり、薄膜磁気記録媒体のコストのネックとなってい
た。
【０００７】フレキシブルディスクについては、現在、
記録容量が２ＭＢのものが標準規格品として用いられて
おり、また高記録容量（１００ＭＢ）のものも発売され
始めている。これらには酸化物磁性体が塗布されて用い
られているが、これ以上の大記録容量化は期待できな
い。本発明は、かかる問題を鑑みてなされたものであ
り、量産性が高く、安価な薄膜磁気記録媒体および大記
録容量のフレキシブルディスクを提供することを目的と
する。
記録容量が２ＭＢのものが標準規格品として用いられて
おり、また高記録容量（１００ＭＢ）のものも発売され
始めている。これらには酸化物磁性体が塗布されて用い
られているが、これ以上の大記録容量化は期待できな
い。本発明は、かかる問題を鑑みてなされたものであ
り、量産性が高く、安価な薄膜磁気記録媒体および大記
録容量のフレキシブルディスクを提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、非磁性基体上に、少なくとも、非磁性金属下地
層、磁性層を順次積層形成してなる磁気記録媒体におい
て、磁性層はＣｏＳｍ系合金からなり、非磁性基体はプ
ラスチックからなるものとする。前記プラスチックは射
出成形、または押し出し成形により成形されたものとす
る。
めに、非磁性基体上に、少なくとも、非磁性金属下地
層、磁性層を順次積層形成してなる磁気記録媒体におい
て、磁性層はＣｏＳｍ系合金からなり、非磁性基体はプ
ラスチックからなるものとする。前記プラスチックは射
出成形、または押し出し成形により成形されたものとす
る。
【０００９】前記プラスチックはシート状であるものと
する。
する。
【００１０】
【作用】本発明によれば、磁気記録媒体において、非磁
性基体をプラスチックとし、磁性層をＣｏＳｍ系合金と
するが、この構成の成立は以下の作用によるものであ
る。従来の薄膜磁気記録媒体では磁性層３に結晶性の高
いＣｏ合金を用いており、この層を形成する際、前述の
ように基体１を約３００℃に加熱する必要があり、非磁
性基体１１としてはこの温度以上の耐熱性が必要とされ
た。一方、ＣｏＳｍ系合金からなる磁性層３はアモルフ
ァス、もしくは微細結晶体の薄膜を室温で形成しても十
分な磁気特性を得ることができる。本発明はこの点に着
目して、磁性層３としてＣｏＳｍ系合金を用いることに
より記録媒体製造工程の温度を抑制し、非磁性基体１１
としてプラスチック材料を用いることによりコストの抑
制を達成するものである。
性基体をプラスチックとし、磁性層をＣｏＳｍ系合金と
するが、この構成の成立は以下の作用によるものであ
る。従来の薄膜磁気記録媒体では磁性層３に結晶性の高
いＣｏ合金を用いており、この層を形成する際、前述の
ように基体１を約３００℃に加熱する必要があり、非磁
性基体１１としてはこの温度以上の耐熱性が必要とされ
た。一方、ＣｏＳｍ系合金からなる磁性層３はアモルフ
ァス、もしくは微細結晶体の薄膜を室温で形成しても十
分な磁気特性を得ることができる。本発明はこの点に着
目して、磁性層３としてＣｏＳｍ系合金を用いることに
より記録媒体製造工程の温度を抑制し、非磁性基体１１
としてプラスチック材料を用いることによりコストの抑
制を達成するものである。
【００１１】また、プラスチック基体の作製方法とし
て、射出成形、押出成形等の方法を用いる場合は、成形
用金型に予めテクスチャを施しておくことにより、成形
したプラスチック基体にそれが転写され、従来のテクス
チャ処理工程を省略することができるとともに、同一の
金型で作製された基体のテクスチャがすべて同一となる
ため、磁気特性の安定化も可能となる。
て、射出成形、押出成形等の方法を用いる場合は、成形
用金型に予めテクスチャを施しておくことにより、成形
したプラスチック基体にそれが転写され、従来のテクス
チャ処理工程を省略することができるとともに、同一の
金型で作製された基体のテクスチャがすべて同一となる
ため、磁気特性の安定化も可能となる。
【００１２】プラスチック基体のもう一つの形態とし
て、シート状であれば、ＣｏＳｍ系合金からなる低温成
膜スパッタ膜を磁性層として用いることができ、テー
プ、フレキシブルディスク等の磁気記録媒体の高記録密
度化が達せられる。
て、シート状であれば、ＣｏＳｍ系合金からなる低温成
膜スパッタ膜を磁性層として用いることができ、テー
プ、フレキシブルディスク等の磁気記録媒体の高記録密
度化が達せられる。
【００１３】
【実施例】プラスチック材料には、成形性、耐候性、耐
水性などが求められ、具体例としては、ポリエステル、
ポリエステルカーボネート、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリフェニレンサルファイド、ポリサルホン、ポリ
エーテルサルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミ
ド、およびこれらの変成体、共重合体などを含有する非
晶性熱可塑性樹脂が挙げられる。また、プラスチック基
体の作製方法としては、射出成形、押出成形等がある。
プラスチック基体のもう一つの作製方法としてはカレン
ダ成形などの一般的なシート成形方法がある。シート状
基体はそれ自体がフレキシブルであり、例えばテープ、
フレキシブルディスク等の磁気記録媒体に使用されるも
のである。 実施例１ この発明に係る実施例の磁気記録媒体は、非磁性基体１
１としてポリカーボネートの射出成形基体を用い、非磁
性金属下地層１２としてＮｉ−Ｐを無電解メッキ成膜、
Ｃｒ下地層、ＣｏＳｍ合金磁性層をスパッタ成膜し、更
に保護層、潤滑層を積層した構成である。
水性などが求められ、具体例としては、ポリエステル、
ポリエステルカーボネート、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリフェニレンサルファイド、ポリサルホン、ポリ
エーテルサルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミ
ド、およびこれらの変成体、共重合体などを含有する非
晶性熱可塑性樹脂が挙げられる。また、プラスチック基
体の作製方法としては、射出成形、押出成形等がある。
プラスチック基体のもう一つの作製方法としてはカレン
ダ成形などの一般的なシート成形方法がある。シート状
基体はそれ自体がフレキシブルであり、例えばテープ、
フレキシブルディスク等の磁気記録媒体に使用されるも
のである。 実施例１ この発明に係る実施例の磁気記録媒体は、非磁性基体１
１としてポリカーボネートの射出成形基体を用い、非磁
性金属下地層１２としてＮｉ−Ｐを無電解メッキ成膜、
Ｃｒ下地層、ＣｏＳｍ合金磁性層をスパッタ成膜し、更
に保護層、潤滑層を積層した構成である。
【００１４】非磁性基体１を精密洗浄し、ホルダーにセ
ットした後インライン方式のマグネトロンスパッタ装置
の仕込み室へ送り込む。そして、この仕込み室を５×１
０-6Torr以下の真空度まで排気する。続いて、基体のセ
ットされたホルダーを成膜室へ搬送し、この成膜室を圧
力が３ＰａのArガス雰囲気中とする。次に、この成膜室
において、Ｃｒからなり膜厚が１００nmの下地層、続い
てＣｏＳｍ合金からなる膜厚３０nmの磁性層１０nmのＤ
ＬＣ保護層を順次ＤＣマグネトロンスパッタ法により成
膜する。ＣｏＳｍ合金の組成はＣｏ：７９at% 、Ｓｍ：
２１at% とした。これらの成膜が全て終了した後、ホル
ダーを取り外し室に搬送し、大気圧下において成膜され
た基体をホルダーより取り外す。そして、保護層の表面
に、フロロカーボン系の液体潤滑剤を塗布して膜厚１〜
２nmの潤滑層を形成し、磁気記録媒体とする。
ットした後インライン方式のマグネトロンスパッタ装置
の仕込み室へ送り込む。そして、この仕込み室を５×１
０-6Torr以下の真空度まで排気する。続いて、基体のセ
ットされたホルダーを成膜室へ搬送し、この成膜室を圧
力が３ＰａのArガス雰囲気中とする。次に、この成膜室
において、Ｃｒからなり膜厚が１００nmの下地層、続い
てＣｏＳｍ合金からなる膜厚３０nmの磁性層１０nmのＤ
ＬＣ保護層を順次ＤＣマグネトロンスパッタ法により成
膜する。ＣｏＳｍ合金の組成はＣｏ：７９at% 、Ｓｍ：
２１at% とした。これらの成膜が全て終了した後、ホル
ダーを取り外し室に搬送し、大気圧下において成膜され
た基体をホルダーより取り外す。そして、保護層の表面
に、フロロカーボン系の液体潤滑剤を塗布して膜厚１〜
２nmの潤滑層を形成し、磁気記録媒体とする。
【００１５】このようにして得られた媒体の保磁力（Ｈ
ｃ）および飽和磁束密度（Ｂｒ）と膜厚（δ）の積Ｂｒ
・δはそれぞれ２９００Ｏｅおよび８３Ｇ・μm であ
り、これらの値は基体として従来のＡｌ合金を用いた場
合と同等であった。 実施例２ この実施例では基体用金型について説明する。一般に、
プラスチック用金型は耐熱性鋼材やＮｉの電鋳等により
作製されるが、磁気記録媒体のプラスチック基体用金型
も同様に作製できた。
ｃ）および飽和磁束密度（Ｂｒ）と膜厚（δ）の積Ｂｒ
・δはそれぞれ２９００Ｏｅおよび８３Ｇ・μm であ
り、これらの値は基体として従来のＡｌ合金を用いた場
合と同等であった。 実施例２ この実施例では基体用金型について説明する。一般に、
プラスチック用金型は耐熱性鋼材やＮｉの電鋳等により
作製されるが、磁気記録媒体のプラスチック基体用金型
も同様に作製できた。
【００１６】鋼材を用いる場合には、プラスチック基体
の外形に相当する部分を加工した後、媒体表面に相当す
る部分をダイヤモンド砥粒で研磨することによりテクス
チャ加工を施す。テクスチャ加工においては、基体用金
型を回転させながら研磨し同心円状のテクスチャを形成
することもできる。図２はこの発明に係るテクスチャ付
きＮｉ電鋳金型の製造工程の模式図であり、（ａ）はテ
クスチャを具えたシリコン母型、（ｂ）はシリコン母型
に電鋳されたＮｉであり（ｃ）はシリコン母型を除去さ
れた電鋳Ｎｉである。シリコン母型９１にダイヤモンド
砥粒のスラリーによってテクスチャＴを加工した後、そ
の上にＮｉを電鋳し、適当な厚さの電鋳層９２を形成し
た後、シリコン母型９１を化学的に溶解除去すると、内
面にはテクスチャＴが形成されている電鋳Ｎｉ金型９３
が作製できる。
の外形に相当する部分を加工した後、媒体表面に相当す
る部分をダイヤモンド砥粒で研磨することによりテクス
チャ加工を施す。テクスチャ加工においては、基体用金
型を回転させながら研磨し同心円状のテクスチャを形成
することもできる。図２はこの発明に係るテクスチャ付
きＮｉ電鋳金型の製造工程の模式図であり、（ａ）はテ
クスチャを具えたシリコン母型、（ｂ）はシリコン母型
に電鋳されたＮｉであり（ｃ）はシリコン母型を除去さ
れた電鋳Ｎｉである。シリコン母型９１にダイヤモンド
砥粒のスラリーによってテクスチャＴを加工した後、そ
の上にＮｉを電鋳し、適当な厚さの電鋳層９２を形成し
た後、シリコン母型９１を化学的に溶解除去すると、内
面にはテクスチャＴが形成されている電鋳Ｎｉ金型９３
が作製できる。
【００１７】この電鋳Ｎｉ金型９３を用いてプラスチッ
ク基体の成型を行い、テクスチャＴをプラスチック基体
に転写させた。このようにして作製したプラスチック基
体に実施例１と同様にして非磁性層、磁性層、保護層お
よび潤滑層を形成し磁気記録媒体とした。 実施例３ この実施例では、非磁性の基体としてフレキシブルなポ
リエステルのシート材に非磁性金属下地層としてＮｉを
スパッタ成膜したものを用い、その上にＣｒ下地層、Ｃ
ｏＳｍ合金磁性層が成膜され、更に保護層、潤滑層が積
層された構成とした磁気記録媒体の製造方法を説明す
る。
ク基体の成型を行い、テクスチャＴをプラスチック基体
に転写させた。このようにして作製したプラスチック基
体に実施例１と同様にして非磁性層、磁性層、保護層お
よび潤滑層を形成し磁気記録媒体とした。 実施例３ この実施例では、非磁性の基体としてフレキシブルなポ
リエステルのシート材に非磁性金属下地層としてＮｉを
スパッタ成膜したものを用い、その上にＣｒ下地層、Ｃ
ｏＳｍ合金磁性層が成膜され、更に保護層、潤滑層が積
層された構成とした磁気記録媒体の製造方法を説明す
る。
【００１８】図２はこの発明に係る磁気記録媒体の製造
方法の模式図である。非磁性のフレキシブル基体として
ポリエステルのシート材１３を精密洗浄し、巻き取りロ
ーラー７１に巻き取った後、インライン方式のマグネト
ロンスパッタ装置の仕込み室６１に装着する。シート材
の先端はスパッタ成膜室６２を通して別の取り出し室６
３にセットされた巻き取りローラー７２に固定する。そ
して、仕込み室６１、成膜室６２、取り出し室６３を含
む成膜装置全体を５×１０-6Torr以下の真空度まで排気
した後、成膜室６２を圧力が３ＰａのＡｒガス雰囲気中
とすた。シート材１３は巻き取りローラー７１から巻き
取りローラー７３へ緩まないようにガイド７４を介し
て、連続的に一定速度で走行させた。この成膜室６２に
おいては、Ｎｉからなり膜厚が２００nmの非磁性金属下
地層、Ｃｒからなり膜厚が１０nmの下地層、続いてＣｏ
Ｓｍ合金からなる膜厚３０nmの磁性層、１０nmのダイヤ
モンド状カーボンの保護層を順次ＤＣマグネトロンスパ
ッタにより成膜した。一定速度で走行しているシート材
に材料毎に異なる所定の膜厚の層を形成すること、およ
び所定の磁気特性は一定の投入パワーによってしか得ら
れないことを両立させるため、ターゲットのシート材の
走行方向の長さを調整した。
方法の模式図である。非磁性のフレキシブル基体として
ポリエステルのシート材１３を精密洗浄し、巻き取りロ
ーラー７１に巻き取った後、インライン方式のマグネト
ロンスパッタ装置の仕込み室６１に装着する。シート材
の先端はスパッタ成膜室６２を通して別の取り出し室６
３にセットされた巻き取りローラー７２に固定する。そ
して、仕込み室６１、成膜室６２、取り出し室６３を含
む成膜装置全体を５×１０-6Torr以下の真空度まで排気
した後、成膜室６２を圧力が３ＰａのＡｒガス雰囲気中
とすた。シート材１３は巻き取りローラー７１から巻き
取りローラー７３へ緩まないようにガイド７４を介し
て、連続的に一定速度で走行させた。この成膜室６２に
おいては、Ｎｉからなり膜厚が２００nmの非磁性金属下
地層、Ｃｒからなり膜厚が１０nmの下地層、続いてＣｏ
Ｓｍ合金からなる膜厚３０nmの磁性層、１０nmのダイヤ
モンド状カーボンの保護層を順次ＤＣマグネトロンスパ
ッタにより成膜した。一定速度で走行しているシート材
に材料毎に異なる所定の膜厚の層を形成すること、およ
び所定の磁気特性は一定の投入パワーによってしか得ら
れないことを両立させるため、ターゲットのシート材の
走行方向の長さを調整した。
【００１９】ＣｏＳｍ合金の組成はＣｏが８０at% 、Ｓ
ｍが２０at% とした。これらの成膜が全て終了した後、
取り出し室から巻き取りローラー６３を取り出し、大気
圧下において、保護層の表面に、フロロカーボン系の液
体潤滑剤を塗布して膜厚15Åの潤滑層を形成し、磁気記
録媒体とする。このようにして得られた媒体の保磁力
（Ｈｃ）および飽和磁束密度（Ｂｒ）と膜厚（δ）の積
Ｂｒ・δはそれぞれ２８００Ｏｅおよび８５Ｇ・μm で
あり、これらの値は基体として従来のＡｌ合金を用いた
場合と同等であった。
ｍが２０at% とした。これらの成膜が全て終了した後、
取り出し室から巻き取りローラー６３を取り出し、大気
圧下において、保護層の表面に、フロロカーボン系の液
体潤滑剤を塗布して膜厚15Åの潤滑層を形成し、磁気記
録媒体とする。このようにして得られた媒体の保磁力
（Ｈｃ）および飽和磁束密度（Ｂｒ）と膜厚（δ）の積
Ｂｒ・δはそれぞれ２８００Ｏｅおよび８５Ｇ・μm で
あり、これらの値は基体として従来のＡｌ合金を用いた
場合と同等であった。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、磁気記録媒体におい
て、非磁性基体をプラスチックとし、磁性層をＣｏＳｍ
系合金とするので、ＣｏＳｍ系合金からなる磁性層３は
アモルファス、もしくは微細結晶体の薄膜を室温で形成
しても十分な磁気特性を得ることができる。記録媒体製
造工程の温度を抑制し、非磁性基体１１としてプラスチ
ック材料を用いることによりコストを抑制することがで
きる。
て、非磁性基体をプラスチックとし、磁性層をＣｏＳｍ
系合金とするので、ＣｏＳｍ系合金からなる磁性層３は
アモルファス、もしくは微細結晶体の薄膜を室温で形成
しても十分な磁気特性を得ることができる。記録媒体製
造工程の温度を抑制し、非磁性基体１１としてプラスチ
ック材料を用いることによりコストを抑制することがで
きる。
【００２１】また、成形用金型に予めテクスチャを施し
ておくことにより、成形したプラスチック基体にそれが
転写され、従来のテクスチャ処理工程を省略することが
できるとともに、同一の金型で作製された基体のテクス
チャがすべて同一となるため、磁気特性の安定化も可能
となる。さらにテクスチャ処理工程が省略でき、コスト
低減ができる。
ておくことにより、成形したプラスチック基体にそれが
転写され、従来のテクスチャ処理工程を省略することが
できるとともに、同一の金型で作製された基体のテクス
チャがすべて同一となるため、磁気特性の安定化も可能
となる。さらにテクスチャ処理工程が省略でき、コスト
低減ができる。
【００２２】シート状基体とすれば、ＣｏＳｍ系合金か
らなる低温成膜スパッタ膜を磁性層として用いることが
でき、テープ、フレキシブルディスク等の磁気記録媒体
の高記録密度化が達せられる。
らなる低温成膜スパッタ膜を磁性層として用いることが
でき、テープ、フレキシブルディスク等の磁気記録媒体
の高記録密度化が達せられる。
【図１】この発明に係るテクスチャ付きＮｉ電鋳金型の
製造工程の模式図
製造工程の模式図
【図２】この発明に係る磁気記録媒体の製造方法の模式
図
図
【図３】磁気記録媒体の構成を示す断面図
１ 非磁性基体 １１ 非磁性基体 １２ 非磁性金属層 １３ シート材 ２ 非磁性金属下地層 ３ 磁性層 ４ 保護層 ５ 潤滑層 ６１ 仕込み室 ６２ 成膜室 ６３ 取り出し室 ７１ 巻き取りローラー ７３ 巻き取りローラー ７４ ガイド ８０ 対向電極 ８１ Ｎｉターゲット ８２ Ｃｒターゲット ８３ ＣｏＳｍターゲット ８４ Ｃターゲット ９１ Ｓｉ母型 ９２ 電鋳Ｎｉ層 ９３ 電鋳Ｎｉ金型 Ｔ テクスチャ
Claims (4)
- 【請求項１】非磁性基体上に、少なくとも、非磁性金属
下地層、磁性層を順次積層形成してなる磁気記録媒体に
おいて、磁性層はＣｏＳｍ系合金からなり、非磁性基体
はプラスチックからなることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】請求項１に記載の磁気記録媒体において、
前記プラスチックは射出成形、または押し出し成形によ
り成形されたものであることを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。 - 【請求項３】請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法
において、前記プラスチック基体のテクスチャは金型を
介して形成されることを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。 - 【請求項４】請求項１に記載の磁気記録媒体において、
前記プラスチックが、シート状であることを特徴とする
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17721695A JPH0935231A (ja) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17721695A JPH0935231A (ja) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0935231A true JPH0935231A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16027195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17721695A Pending JPH0935231A (ja) | 1995-07-13 | 1995-07-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0935231A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049698A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Denso Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
-
1995
- 1995-07-13 JP JP17721695A patent/JPH0935231A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049698A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Denso Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
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