JPH0936021A - 電子ビーム描画装置の描画データ生成方法及び生成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は複数の処理対象領域に登録する描画デ
ータの演算処理を並行に行いながら、描画データの図形
の欠落やオーバーラップを未然に防止し得る電子ビーム
描画装置用の描画データ生成方法を提供することを目的
とする。 【解決手段】分割図形が矩形領域に包含されているとき
及び分割図形が外部マージンの内にあり、かつ少なくと
も一部が内部マージンより内にあるとき、分割図形が矩
形領域に登録される。分割図形の一部が外部マージンよ
り外にあり、分割図形の少なくとも一部が内部マージン
より内にあるときは、分割図形が矩形領域の境界線で切
断されて、境界線内図形と境界線外図形とに分割され、
境界線内図形が矩形領域に登録される。矩形領域のマー
ジン領域内に存在する図形は、その矩形領域と、マージ
ン領域を共有する他の矩形領域とのうち、いずれか一つ
に登録される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、マスクパターン
の図形データから、電子ビーム描画装置用の描画データ
を生成するための生成方法及び生成装置に関するもので
ある。

【０００２】近年の半導体集積回路装置の大規模化及び
高集積化にともなって、この半導体集積回路装置を製造
するためのマスクパターンも大規模化及び高密度化され
ている。近年、製造プロセスにおいて、ウェハ上に塗布
されたフォトレジストに、電子ビーム描画装置で直接に
回路パターンを描画する製造方法が確立されている。こ
の電子ビーム描画装置で使用する描画データは、マスク
パターンの図形データから生成されている。そして、半
導体集積回路装置の高集積化にともなって、高密度化さ
れたマスクパターンの図形データから描画データを生成
するための処理時間を短縮することが必要となってい
る。

【０００３】

【従来の技術】大規模で高密度な半導体集積回路装置の
回路パターンをウェハ上に短時間で描画するためには、
回路パターンが存在する箇所のみを走査して露光を行う
ベクトルスキャン方式の電子ビーム描画装置が使用され
ている。ベクトルスキャン方式の電子ビーム描画装置で
は、底辺または高さ、あるいは幅が所定長未満の微小な
パターンは、電子ビームの照射ができず描画できなかっ
たり、あるいは描画精度が低下するため、半導体集積回
路装置の高集積化の妨げとなる。

【０００４】このため、ベクトルスキャン方式の電子ビ
ーム描画装置で使用する描画データは、図４に示すよう
に半導体集積回路のチップを、電磁偏向で描画可能な碁
盤目状の矩形領域となるような多数のサブフィールド４
０（実線で囲まれた領域）に分割し、そのサブフィール
ド４０毎にマスクパターンの図形データから描画データ
を生成して登録している。

【０００５】各サブフィールド４０には、その境界線を
基準として内部及び外部に所定幅のマージンＭ（破線で
示す）が設定されて、微小な図形の発生を防止するよう
にしている。なお、サブフィールド４０の外部マージン
は、当該サブフィールドに隣接するサブフィールドの内
部マージンと一致する。

【０００６】すなわち、チップ上の図形データを各サブ
フィールド４０に分割して登録する際、マージンを考慮
しないでサブフィールドの境界線で切断し、各サブフィ
ールドに完全に包含される図形のみを登録すると、微小
な図形が発生することがある。

【０００７】例えば、図９に示す図形Ｆ１，Ｆ２をサブ
フィールド４０の境界線で切断すると、図１０に示すよ
うに図形Ｆ１ａ，Ｆ２ａが登録される。この場合、図形
Ｆ２ａが微小図形となってしまう。

【０００８】そこで、このような微小図形での登録を防
止するために、マージンＭを考慮した登録が行われる。
すなわち、図形がサブフィールド内に完全に包含されて
いるとき、または図形の一部分が外部マージンを含みな
がら外部マージンより内にあり、かつ内部マージンを含
んで、同内部マージンより内にあるときは、当該図形を
そのサブフィールドに登録する。

【０００９】図形の一部分が外部マージンより外にあ
り、かつ内部マージンより内にあるときは、当該図形を
サブフィールドの境界で切断した内部の図形をそのサブ
フィールドに登録する。

【００１０】また、上側のサブフィールド境界線あるい
は左側のサブフィールド境界線において、図形が対応す
る外部マージンを含んで同外部マージンより内にあり、
かつ図形の一部分でも境界線より内にあり、かつ内部マ
ージンを含んで同内部マージンより内にあるとき、その
サブフィールドに登録する。

【００１１】下側あるいは右側のサブフィールド境界線
に対応する外部マージン及び内部マージンにおいて、上
記条件となった場合には、そのサブフィールドには登録
しない。

【００１２】従って、例えば図９に示す図形Ｆ１，Ｆ２
のうち、図形Ｆ２は登録対象から除外され、図形Ｆ１は
登録対象となって、図１１に示すようにサブフィールド
４０に登録される。この結果、微小な図形の登録が防止
される。

【００１３】上記のような描画データの生成方法では、
図形データをサブフィールドに登録する処理を図形単位
で行うと、高密度なマスクパターンデータに基づいて描
画データを生成するには多大な時間を要する。

【００１４】そこで、描画データの生成時間を短縮する
ために、前記サブフィールドを一つの単位として、ある
いは電子ビーム描画装置の電磁偏向で描画可能な範囲
で、図５に示すように前記サブフィールドをＸ軸方向及
びＹ軸方向に整数個集めて碁盤目状に分割した矩形領域
５０を一つの単位として、前記図形処理を複数のＣＰＵ
で並列に処理している。特に、前記矩形領域５０を複数
の図形処理用ＣＰＵで並列に処理すると、描画データが
効率よく生成される。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な生成方法では、処理対象矩形領域の外部マージンが、
隣接する他の処理対象矩形領域の内部マージンと一致す
ることから、共通の領域となるマージン部分での図形処
理の結果が異なり、製造された半導体集積回路装置に不
具合が発生することがある。

【００１６】例えば、図１２に示すように隣接する処理
対象矩形領域５１，５２に登録する描画データの演算を
異なる図形処理用ＣＰＵで並行して処理し、図形Ｆ１
０，Ｆ１１を登録する場合について説明する。

【００１７】第一の図形処理用ＣＰＵには、まず図１４
（ａ）に示すように処理対象矩形領域５１に含まれる図
形Ｆ１０が取り込まれる。この図形Ｆ１０に対して各種
図形処理が実行された後、図１４（ｂ）に示すように描
画可能図形形状とするために、公知の技術により図形Ｆ
１０が図形Ｆ２０，Ｆ２１に分割される。

【００１８】次いで、図形Ｆ２０，Ｆ２１の登録判定が
行われ、各図形Ｆ２０、Ｆ２１はその一部が外部マージ
ンよりも外にあり、かつ内部マージンよりも内にあるた
め、処理対象領域５１の境界線で切断される。

【００１９】従って、図１４（ｃ）に示すように、処理
対象領域５１には図形Ｆ２０ａ，Ｆ２１ａが登録され
る。第二の図形処理用ＣＰＵには、図１５（ａ）に示す
ように処理対象領域５２に含まれる図形Ｆ１０，Ｆ１１
が取り込まれる。図形Ｆ１０，Ｆ１１に対して各種の図
形処理が実行された後、図１５（ｂ）に示すように図形
Ｆ１０，Ｆ１１の重なりが除去されて図形Ｆ２２が生成
される。

【００２０】次いで、図１５（ｃ）に示すように図形Ｆ
２２の各頂点から上下方向に分割線が発生されて図形Ｆ
２３〜Ｆ２６に分割される。次いで、図形Ｆ２３〜Ｆ２
６の登録判定が行われる。図形Ｆ２３は、外部マージン
よりも外にあるため登録対象から除外され、図形Ｆ２４
はその一部が外部マージンよりも外にあり、かつ内部マ
ージンより外にあるため登録対象から除外される。各図
形Ｆ２５，Ｆ２６は、その一部が外部マージンよりも外
にあり、かつ内部マージンより内にあるため、処理対象
領域５２の境界線で切断される。

【００２１】従って、図１５（ｄ）に示すように処理対
象領域５２にはＦ２５ａ，Ｆ２６ａが登録される。な
お、図形Ｆ２５ａの左側は処理対象領域５２の境界線か
ら離れている。

【００２２】この結果、描画データは図１６に示すよう
に処理対象領域５１の図形Ｆ２１ａと処理対象領域５２
の図形Ｆ２５ａとの間が欠落したものとなる。この状態
では、半導体集積回路を構成するパターンが電気的に断
線することになり、所望の描画データを生成することが
できない。

【００２３】図１３に示すように、隣接する処理対象領
域５３，５４を異なる図形処理用ＣＰＵで並行して処理
する場合について説明する。第一の図形処理用ＣＰＵに
は、まず図１７（ａ）に示すように処理対象領域５３に
含まれる図形Ｆ１２が取り込まれる。この図形Ｆ１２に
対して各種図形処理が実行された後、図１７（ｂ）に示
すように処理対象領域５３にはＦ２７，Ｆ２８が登録さ
れる。

【００２４】次いで、図形Ｆ２７，Ｆ２８の登録判定が
行われ、各図形Ｆ２７，Ｆ２８はその一部が外部マージ
ンよりも外にあり、かつ内部マージンよりも内にあるた
め、処理対象領域５３の境界線で切断される。

【００２５】従って、図１７（ｃ）に示すように処理対
象領域５３には図形Ｆ２７ａ，Ｆ２８ａが登録される。
第二の図形処理用ＣＰＵには、図１８（ａ）に示すよう
に処理対象領域５４に含まれる図形Ｆ１２，Ｆ１３が取
り込まれる。この図形Ｆ１２，Ｆ１３に対して各種図形
処理が行われた後、図１８（ｂ）に示すように図形Ｆ１
２，Ｆ１３の重なりが除去されて図形Ｆ２９が生成され
る。

【００２６】次いで、図１８（ｃ）に示すように図形Ｆ
２９の各頂点から上下方向に分割線が発生されて、図形
Ｆ３０〜Ｆ３３に分割される。次いで、図形Ｆ３０〜Ｆ
３３の登録判定が行われる。図形Ｆ３０は外部マージン
より外にあるため除外され、図形Ｆ３１はその一部が外
部マージンより外にあり、かつ内部マージンより外にあ
るため、登録対象から除外される。図形Ｆ３２，Ｆ３３
はその一部が外部マージンよりも外にあり、かつ内部マ
ージンよりも内にあるため、処理対象領域５４の境界線
で切断される。

【００２７】従って、図１８（ｄ）に示すように、処理
対象領域５４には図形Ｆ３２ａ，Ｆ３３ａが登録され
る。なお、図形Ｆ３２ａの左側は処理対象領域５４の境
界線より外側に突出している。

【００２８】従って、描画データは図１９に示すように
処理対象領域５３の図形Ｆ２８ａと処理対象領域５４の
図形Ｆ３２ａとがオーバーラップする。この状態で、ベ
クトルスキャン方式の電子ビーム描画装置により描画す
ると、オーバーラップ部分において二重露光となって、
異常に線幅の太い部分が発生する。

【００２９】この結果、微細化された半導体集積回路装
置においては、二重露光部分で隣接するパターンが電気
的に短絡することがあり、所望の描画データを生成する
ことができない。

【００３０】以上のように、各処理対象領域に登録する
描画データを複数のＣＰＵで並行して生成する方法で
は、描画データに欠落部分やオーバーラップ部分が生じ
たりすることがある。

【００３１】図形の欠落やオーバーラップが発生する原
因は、マージン領域が他の処理対象領域と共通の領域と
なっており、これらが複数のＣＰＵで並行に処理され、
共通のマージン領域で図形の分割形状が相違することに
よって、登録される図形が相違することによる。

【００３２】つまり、一つの処理対象領域のマージン領
域で登録されなかった分割図形が、隣接する他の処理対
象領域でも登録されない場合に、図形の欠落が生じ、一
つの処理対象領域のマージン領域で登録された分割図形
が、他の処理対象領域でも登録されると図形のオーバー
ラップが生じる。

【００３３】従って、このような不具合を防止するため
には、各図形データを逐次的に処理し、各図形データを
サブフィールドに登録する処理においては、図形単位に
登録するサブフィールドを決定する必要があるため、描
画データ作成に多大な時間を要し、作業効率が低下する
という問題点がある。

【００３４】この発明の目的は、複数の処理対象領域に
登録する描画データの演算処理を並行に行いながら、描
画データの図形の欠落やオーバーラップを未然に防止し
得る電子ビーム描画装置用の描画データ生成方法及び生
成装置を提供することにある。

【００３５】

【課題を解決するための手段】請求項１では、マスクパ
ターンの図形データが電子ビーム描画装置で描画可能な
図形に分割され、かつその分割図形が複数の矩形領域に
分割して描画データとして登録する処理が複数の処理装
置で並行して行われる。前記矩形領域の境界線を基準と
してその内部及び外部に所定幅の内部マージン及び外部
マージンが設定され、内部マージンと外部マージンとで
構成されるマージン領域は、隣接する矩形領域で共有さ
れる。前記分割図形が前記矩形領域に包含されていると
き及び前記分割図形が前記外部マージンの内にあり、か
つ少なくとも一部が内部マージンより内にあるとき、該
分割図形が該矩形領域に登録される。前記分割図形の一
部が外部マージンより外にあり、該分割図形の少なくと
も一部が内部マージンより内にあるときは、当該分割図
形が当該矩形領域の境界線で切断されて、境界線内分割
図形と境界線外分割図形とに分割されるとともに、該境
界線内分割図形が該矩形領域に登録される。前記各矩形
領域のマージン領域内に存在する図形は、該矩形領域
と、該マージン領域を共有する他の矩形領域とのうち、
いずれか一つに登録される。

【００３６】請求項２では、前記各矩形領域のマージン
領域は、優先登録領域と、非優先登録領域とからなり、
非優先登録領域は他の矩形領域の優先登録領域と共有さ
れ、優先登録領域は他の矩形領域の非優先登録領域若し
くは優先登録領域と共有され、非優先登録領域が他の矩
形領域の優先登録領域に共有されるときは、該非優先登
録領域内の図形と優先登録領域内の図形とを重ねた図形
の輪郭が該優先登録領域に登録され、前記優先登録領域
が他の矩形領域の優先登録領域と共有されるときは、各
優先登録領域内の図形の互いに重なる部分が、いずれか
一つの優先登録領域に登録される。

【００３７】請求項３では、前記優先登録領域は、前記
矩形領域の隣り合う二辺に対応するマージン領域とさ
れ、前記非優先登録領域は、残りのマージン領域とさ
れ、前記優先登録領域は他の矩形領域の優先登録領域に
共有されて重なりを検出する領域毎に分割され、前記非
優先登録領域は、それぞれ矩形となるように二つに分割
される。

【００３８】請求項４では、前記優先登録領域は、前記
矩形領域の下部に位置する第一の優先登録領域と、前記
矩形領域の右下部に位置する第二の優先登録領域と、前
記矩形領域の右部に位置する第三の優先登録領域と、前
記矩形領域の右上部に位置する第四の優先登録領域とで
構成され、前記非優先登録領域は、前記矩形領域の上部
に位置する第一の非優先登録領域と、前記矩形領域の左
部に位置する第二の非優先登録領域とで構成される。前
記第一の優先登録領域内の図形は下方に隣接する矩形領
域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前記第二
の優先登録領域内の図形は下方と右下方と右方に隣接す
る各矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第三の優先登録領域内の図形は右方に隣接する
矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前
記第四の優先登録領域内の図形は右方及び右上方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第一の非優先登録領域内の図形は、上方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第二の非優先登録領域内の図形は、左方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され
る。

【００３９】請求項５では、前記優先登録領域は、前記
矩形領域の右部に位置する第一の優先登録領域と、前記
矩形領域の右上部に位置する第二の優先登録領域と、前
記矩形領域の上部に位置する第三の優先登録領域と、前
記矩形領域の左上部に位置する第四の優先登録領域とで
構成され、前記非優先登録領域は、前記矩形領域の左部
に位置する第一の非優先登録領域と、前記矩形領域の下
部に位置する第二の非優先登録領域とで構成される。前
記第一の優先登録領域内の図形は右方に隣接する矩形領
域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前記第二
の優先登録領域内の図形は右方と右上方と上方に隣接す
る各矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第三の優先登録領域内の図形は上方に隣接する
矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前
記第四の優先登録領域内の図形は上方及び左上方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第一の非優先登録領域内の図形は、左方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第二の非優先登録領域内の図形は、下方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され
る。

【００４０】請求項６では、前記優先登録領域は、前記
矩形領域の上部に位置する第一の優先登録領域と、前記
矩形領域の左上部に位置する第二の優先登録領域と、前
記矩形領域の左部に位置する第三の優先登録領域と、前
記矩形領域の左下部に位置する第四の優先登録領域とで
構成され、前記非優先登録領域は、前記矩形領域の下部
に位置する第一の非優先登録領域と、前記矩形領域の右
部に位置する第二の非優先登録領域とで構成される。前
記第一の優先登録領域内の図形は上方に隣接する矩形領
域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前記第二
の優先登録領域内の図形は上方と左上方と左方に隣接す
る各矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第三の優先登録領域内の図形は左方に隣接する
矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前
記第四の優先登録領域内の図形は左方及び左下方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第一の非優先登録領域内の図形は、下方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第二の非優先登録領域内の図形は、右方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され
る。

【００４１】請求項７では、前記優先登録領域は、前記
矩形領域の左部に位置する第一の優先登録領域と、前記
矩形領域の左下部に位置する第二の優先登録領域と、前
記矩形領域の下部に位置する第三の優先登録領域と、前
記矩形領域の右下部に位置する第四の優先登録領域とで
構成され、前記非優先登録領域は、前記矩形領域の右部
に位置する第一の非優先登録領域と、前記矩形領域の上
部に位置する第二の非優先登録領域とで構成される。前
記第一の優先登録領域内の図形は左方に隣接する矩形領
域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前記第二
の優先登録領域内の図形は左方と左下方と下方に隣接す
る各矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第三の優先登録領域内の図形は下方に隣接する
矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され、前
記第四の優先登録領域内の図形は下方及び右下方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第一の非優先登録領域内の図形は、右方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送さ
れ、前記第二の非優先登録領域内の図形は、上方に隣接
する矩形領域の図形登録処理を行う処理装置に転送され
る。

【００４２】請求項８では、マスクパターンの図形デー
タを電子ビーム描画装置で描画可能な図形に分割し、か
つその分割図形を複数の矩形領域に分割して描画データ
として登録する処理を複数の処理装置で並行して行う描
画データ生成装置は、前記矩形領域の境界線を基準とし
てその内部及び外部に所定幅の内部マージン及び外部マ
ージンを設定し、前記内部マージンと外部マージンとで
構成されるマージン領域は、隣接する矩形領域で共有す
るように設定する第一の処理部と、前記分割図形が前記
矩形領域に包含されているとき及び前記分割図形が前記
外部マージンの内にあり、かつ少なくとも一部が内部マ
ージンより内にあるとき、該分割図形を該矩形領域に登
録する複数の第二の処理部と、前記分割図形の一部が外
部マージンより外にあり、該分割図形の少なくとも一部
が内部マージンより内にあるときは、当該分割図形を当
該矩形領域の境界線で切断して、境界線内分割図形と境
界線外分割図形とに分割するとともに、該境界線内分割
図形を該矩形領域に登録する複数の第三の処理部と、前
記各矩形領域のマージン領域内に存在する図形は、該矩
形領域と、該マージン領域を共有する他の矩形領域との
うちのいずれか一つに登録する複数の第四の処理部とが
備えられる。

【００４３】（作用）請求項１，８では、各矩形領域に
設定した各マージン領域内の図形は、そのマージン領域
を共有する矩形領域のいずれか一つに登録される。

【００４４】請求項２では、マージン登録領域の非優先
登録領域内の図形は、共有される優先登録領域内の図形
とでＯＲ処理されて、その優先登録領域に登録される。
優先登録領域内の図形は、共有される優先登録領域内の
図形との重なりが除去されて、その優先登録領域に登録
される。

【００４５】請求項３では、矩形領域の隣り合う二辺に
対応するマージン領域に優先登録領域が設定され、残り
のマージン領域で非優先登録領域が設定され、優先登録
領域及び非優先登録領域は、分割された領域内の図形毎
にデータが転送されて、重ねた図形の輪郭を抽出して登
録する処理及び図形の重複した登録を除外する処理が行
われる。

【００４６】請求項４〜７では、矩形領域の隣り合う各
二辺に対応するマージン領域に優先登録領域が設定さ
れ、残りのマージン領域で非優先登録領域が設定され、
優先登録領域及び非優先登録領域は、分割された領域内
の図形毎に隣接する矩形領域の図形登録処理を行う処理
装置に転送される。

【００４７】

【発明の実施の形態】図１は、ベクトルスキャン方式の
電子ビーム描画装置用の描画データを作成する描画デー
タ生成装置の電気的な概略構成を示す。

【００４８】ホストＣＰＵ１は、システム制御部２、被
処理図形データ入力部３、チップ分割処理部４、図形処
理部５、サブフィールド登録処理部６、描画データ作成
部７及び描画データ出力部８をそれぞれ備えている。

【００４９】前記ホストＣＰＵ１の制御に基づいて動作
する複数のサブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄは、システム制御
部１５、チップ分割処理部１６、図形処理部１７及びサ
ブフィールド登録処理部１８を備えている。

【００５０】前記ホストＣＰＵ１のシステム制御部２
は、描画データ生成を指示する制御コマンド９が入力さ
れると、所定の処理プログラムを起動させ、被処理図形
データ入力部３、チップ分割処理部４、図形処理部５、
サブフィールド登録処理部６、描画データ作成部７及び
描画データ出力部８を制御する。

【００５１】前記被処理図形データ入力部３は、磁気テ
ープあるいは磁気ディスク１０に記録されたマスクパタ
ーンの図形データを読み込む。チップ分割処理部４は、
サブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄのチップ分割処理部１６を制
御し、サブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄのうち、動作していな
い、すなわちデータの処理が終了して次のデータの受信
を待っているサブＣＰＵに所定の大きさだけの被処理図
形データを転送して、チップを前記矩形領域５０に分割
する。

【００５２】前記チップ分割処理部１６で処理されたデ
ータは、再びホストＣＰＵ１のチップ分割部４へ転送さ
れ、チップ分割処理部４により磁気ディスク装置１１に
格納される。

【００５３】また、チップ分割処理部４，１６は、図５
に示すように、各矩形領域５０の境界線を基準として、
同矩形領域５０の内部及び外部に所定幅のマージンＭ
（破線で示す）を設定するとともに、外部マージンで囲
まれる領域と、さらにサイジング等を考慮した大きさを
加えた領域である処理対象図形抽出領域ＥＡとする。

【００５４】従って、チップ分割処理部４，１６によっ
て矩形領域５０に登録されるマスクパターンは、前記領
域ＥＡ内に一部でも入る図形が当該処理対象領域のマス
クパターンとして登録される。各処理対象領域に登録さ
れたマスクパターンは磁気ディスク装置１１に格納され
る。

【００５５】図形処理部５は、サブＣＰＵ１４ａ〜１４
ｄの図形処理部１７を制御し、同図形処理部１７のう
ち、動作していない、すなわちデータの処理が終了して
次のデータの受信を待っているサブＣＰＵに、磁気ディ
スク装置１１から領域ＥＡ内の被処理図形データを転送
する。

【００５６】前記図形処理部１７で所定の図形処理が行
われたデータは、再びホストＣＰＵ１の図形処理部５へ
転送され、同図形処理部５から磁気ディスク装置１１へ
格納される。

【００５７】前記サブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄの図形処理
部１７は、図２のフローチャートに示す図形処理を実行
する。すなわち、ステップ２０ではホストＣＰＵ１の図
形処理部５からの終了信号を受信したか否かを検出し、
受信しているときにはサブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄでの図
形処理を終了し、受信していないときは、ステップ２１
へ移行する。

【００５８】ステップ２１では領域ＥＡに含まれる図形
データをホストＣＰＵ１から受信し、図形処理部１７に
含まれるメモリ等に格納して、ステップ２２へ移行す
る。ステップ２２では重なり除去処理、サイジング処
理、スケーリング処理、描画可能図形形状となるような
図形分割処理等の各種図形処理を行い、ステップ２３へ
移行する。

【００５９】ステップ２３ではステップ２２の各種図形
処理で分割された各図形が、前記矩形領域５０にマージ
ンを考慮して登録されるか否かを図７に示す登録基準に
基づいて判断し、登録対象となった図形を処理対象矩形
領域５０に登録し、登録されない図形をメモリに格納す
る。

【００６０】すなわち、図７（ａ）に示すように、各図
形Ｆ６１，Ｆ６２が矩形領域５０に完全に包含されてい
るとき、各図形Ｆ６１，Ｆ６２は処理対象領域５０への
登録対象となる。

【００６１】図７（ｂ）に示すように、図形Ｆ６３の一
部でも外部マージンより外にあり、かつ内部マージンよ
り内にあるときは、図形Ｆ６３は矩形領域５０の境界線
で図形Ｆ６３ａ，Ｆ６３ｂに切断される。そして、矩形
領域５０の内部の図形Ｆ６３ａのみが矩形領域５０への
登録対象となり、図形Ｆ６３ｂは削除される。

【００６２】図７（ｃ）に示すように、図形Ｆ６４が矩
形領域５０の外部マージンを含んでそれよりも内にあ
り、かつ内部マージンよりも内にあるとき、図形Ｆ６４
は処理対象矩形領域５０への登録対象となる。

【００６３】さらに、図７（ｄ）に示すように、図形Ｆ
６５，Ｆ６６が矩形領域５０の上側及び左側の境界線に
対する外部マージン及び内部マージンにおいて、図形の
全てが外部マージンを含んでそれよりも内にあり、かつ
図形の一部でも境界線より内にあり、かつ内部マージン
を含んでそれよりも外にあるとき、図形Ｆ６５，Ｆ６６
は矩形領域５０への登録対象となる。矩形領域５０の下
側及び右側の境界線に対して上記条件の場合は登録対象
とならない。

【００６４】ステップ２４では、ステップ２３で処理対
象領域に登録された図形と登録されなかった図形に対し
て処理を行う。処理対象領域に登録された図形に対し、
図８（ａ）に示すような領域Ａ１〜Ａ４内に図形の一部
でもオーバーラップする図形を優先登録領域Ａ１〜Ａ４
の境界で切断して内部の図形を取り出す。

【００６５】また、処理対象領域に登録されなかった図
形に対して、図８（ａ）に示す領域Ａ５，Ａ６内に図形
の一部でもオーバーラップする図形を非優先登録領域Ａ
５，Ａ６の境界で切断して、内部の図形を取り出す。

【００６６】領域Ａ１〜Ａ６の境界でそれぞれ切断され
て取り出された図形に対して、領域Ａ１内の図形には処
理対象領域の下側に隣接する処理対象領域にも含まれる
図形としての識別子を付ける。

【００６７】領域Ａ２内の図形には、処理対象領域の下
側、右下側及び下側に隣接する処理対象領域にも含まれ
る図形としての識別子を付ける。領域Ａ３内の図形に
は、処理対象領域の右側に隣接する処理対象領域にも含
まれる図形としての識別子を付ける。領域Ａ４内の図形
には処理対象領域の右側及び右上側に隣接する処理対象
領域にも含まれる図形としての識別子を付ける。

【００６８】領域Ａ５内の図形には、処理対象領域の上
側に隣接する処理対象領域にも含まれる図形としての識
別子を付け、領域Ａ６内の図形には、処理対象領域の左
側に隣接する処理対象領域にも含まれる図形としての識
別子を付ける。

【００６９】ステップ２５では、ステップ２３で処理対
象領域に登録された図形と、ステップ２４で領域Ａ１〜
Ａ６に登録され、識別子が付加された図形をホストＣＰ
Ｕ１に転送し、ステップ２０へ移行する。

【００７０】ホストＣＰＵ１と複数のサブＣＰＵ１４ａ
〜１４ｄとのデータのやり取りにより、被処理図形に対
してすべての図形処理が行われると、ホストＣＰＵ１の
動作はサブフィールド登録処理部６に移行し、サブＣＰ
Ｕ１４ａ〜１４ｄの動作はサブフィールド登録処理部１
８に移行する。

【００７１】サブフィールド登録処理部６では、図形処
理部５によって処理された処理対象領域５０に登録され
た図形データと、領域Ａ１〜Ａ６によって取り出された
図形のうち処理対象領域に該当する識別子が付加された
図形をまとめて、ホストＣＰＵ１からのデータの受信待
ちの状態にあるサブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄへ転送する。

【００７２】ここで、領域Ａ１〜Ａ６によって取り出さ
れた図形とは隣接した処理対象領域で当該処理対象領域
の識別子が付けられたものである。一方、サブＣＰＵ１
４ａ〜１４ｄのサブフィールド登録処理部１８ではホス
トＣＰＵ１から転送されてきた図形データを受信して、
図３のフローチャートに示すサブフィールド登録処理を
行う。

【００７３】すなわち、ステップ３０ではホストＣＰＵ
１で図形処理部５からの終了信号を受信したか否かを検
出し、受信しているときにはサブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄ
での図形処理を終了し、受信していないときは、ステッ
プ３１へ移行する。

【００７４】ステップ３１では、処理対象領域に含まれ
る図形データをホストＣＰＵ１から受信してメモリに格
納し、ステップ３２へ移行する。ステップ３２では、前
記ステップ２２で処理された図形に対し、図８（ａ）に
示す領域Ａ５，Ａ６により切り出した図形と、当該処理
対象領域５０の図形とで、図形論理処理によるＯＲ処理
を行う。すなわち、処理対象領域５０内の図形に領域Ａ
５，Ａ６の図形を追加し、図形の輪郭部分のみを抽出し
て、ステップ３３へ移行する。

【００７５】ステップ３３では、ステップ３２で処理さ
れた図形に対して、さらに当該処理対象領域の図形に対
して、図８（ａ）に示す領域Ａ１〜Ａ４により切り出し
た図形でＳＵＢＴＲＡＣＴ処理を行う。

【００７６】すなわち、処理対象領域５０内の図形のう
ち、領域Ａ１〜Ａ４の図形とオーバーラップする部分を
削除して、ステップ３４に移行する。ステップ３４で
は、前記ステップ２２で分割された各図形が、前記サブ
フィールド４０にマージンを考慮して登録されるか否か
を、図６に示す登録基準に基づいて判断し、登録対象と
なった図形をサブフィールド４０に登録する。

【００７７】すなわち、図６（ａ）に示すように、各図
形Ｆ４１，Ｆ４２がサブフィールド４０に完全に包含さ
れているとき、各図形Ｆ４１，Ｆ４２はサブフィールド
４０への登録対象となる。

【００７８】図６（ｂ）に示すように、図形Ｆ４３の一
部でも外部マージンより外にあり、かつ内部マージンよ
り内にあるときは、図形Ｆ４３はサブフィールド４０の
境界線で図形Ｆ４３ａ，Ｆ４３ｂに切断される。そし
て、サブフィールド４０の内部の図形Ｆ４３ａのみがサ
ブフィールド４０への登録対象となり、図形Ｆ４３ｂは
削除される。

【００７９】図６（ｃ）に示すように、図形Ｆ４４がサ
ブフィールド４０の外部マージンを含んでそれよりも内
にあり、かつ内部マージンよりも内にあるとき、図形Ｆ
４４はサブフィールド４０への登録対象となる。さら
に、図６（ｄ）に示すように、図形Ｆ４５，Ｆ４６がサ
ブフィールド４０の上側及び左側の境界線に対する外部
マージン及び内部マージンにおいて、図形のすべてが外
部マージンを含んでそれよりも内にあり、かつ図形の一
部でも境界線より内にあり、かつ内部マージンを含んで
それよりも外にあるとき、図形Ｆ４５，Ｆ４６はサブフ
ィールド４０への登録対象となる。サブフィールド４０
の下側及び右側の境界線に対して上記条件の場合は、登
録されない。

【００８０】ステップ３５では、サブフィールド４０に
登録された図形データをホストＣＰＵ１のサブフィール
ド登録処理部６へと転送し、ステップ３０へ移行する。
描画データ作成部７は、サブフィールドに登録された図
形データを電子ビーム描画装置に入力できるデータ形式
の描画データに変換する。

【００８１】描画データ出力部８は、描画データ作成部
７で生成された描画データを磁気テープ１３に記録す
る。次に、上記のように構成された描画データ作成装置
の作用を説明する。

【００８２】図１２に示す図形Ｆ１０，Ｆ１１を処理す
る場合について説明する。チップ分割処理部４，１６に
より、図形Ｆ１０，Ｆ１１は処理対象領域５１，５２，
５５，５６に、前記従来例と同様にして、図１４
（ａ）、図１５（ａ）、図２５及び図２９に示すように
登録される。

【００８３】次いで、図形処理部５，１７に処理が移
り、ホストＣＰＵ１では処理対象領域５１，５２，５
５，５６をサブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄに割り当てて、各
処理対象領域内の図形データをサブＣＰＵ１４ａ〜１４
ｄに転送する。また、サブＣＰＵ１４ａ〜１４ｄで処理
の終了した図形データを磁気ディスク装置１１へ格納す
る。

【００８４】サブＣＰＵ１４ａには、図１４（ａ）に示
すように処理対象矩形領域５１を含む処理対象図形抽出
領域ＥＡに含まれる図形Ｆ１０が転送される。この図形
Ｆ１０に対し、各種図形処理及び矩形領域登録処理が行
われ、図１４（ｃ）に示すように処理対象領域に登録さ
れた図形Ｆ２０ａ，Ｆ２１ａと、図２０に示すように処
理対象領域に登録されなかった図形Ｆ８０が生成され
る。

【００８５】次いで、図８（ａ）の領域Ａ１〜Ａ６でマ
ージン領域内の図形抽出処理を行われる。すなわち、図
１４（ｃ）に示す図形Ｆ２０ａ，Ｆ２１ａから領域Ａ１
〜Ａ４にオーバーラップする部分を抽出する。領域Ａ１
〜Ａ３にオーバーラップする部分は、図２１（ａ）〜
（ｃ）に示す図形Ｆ８１，Ｆ８２，Ｆ８３となる。

【００８６】また、処理対象領域に登録されなかった図
形は、図２０に示すような図形Ｆ８０であり、この図形
Ｆ８０と領域Ａ５，Ａ６とオーバーラップする部分は存
在しない。

【００８７】そして、処理対象領域に登録された図形Ｆ
２０ａ，Ｆ２１ａと領域Ａ１〜Ａ６に登録された図形Ｆ
８１〜Ｆ８３がホストＣＰＵ１に転送される。このと
き、領域Ａ１により抽出された図形Ｆ８１は処理対象領
域５５の図形データとして、領域Ａ２により抽出された
図形Ｆ８２は処理対象領域５２，５５，５６の図形デー
タとして、領域Ａ３により抽出された図形Ｆ８３は処理
対象領域５２の図形データとして転送される。

【００８８】サブＣＰＵ１４ａと並行して動作するサブ
ＣＰＵ１４ｂには、図１５（ａ）に示すように処理対象
領域５２を含む処理対象図形抽出領域ＥＡに含まれる図
形Ｆ１０，Ｆ１１が処理される。

【００８９】この図形Ｆ１０，Ｆ１１に対して各種図形
処理及び矩形領域登録処理が行われ、図１５（ｄ）に示
すように処理対象領域５２に登録された図形と、図２２
に示すように処理対象領域５２に登録されなかった図形
Ｆ８４が生成される。

【００９０】次いで、図８（ａ）に示す領域Ａ１〜Ａ６
でマージン領域内に位置する図形の抽出処理が行われ
る。すなわち、図１５（ｄ）に示すように処理対象領域
５２に登録された図形Ｆ２５ａ，Ｆ２６ａから領域Ａ１
〜Ａ４にオーバーラップする部分が抽出される。

【００９１】領域Ａ１にオーバーラップする部分は図２
３に示すように図形Ｆ８６となり、領域Ａ２〜Ａ４にオ
ーバーラップする部分は存在しない。また、処理対象領
域５２に登録されなかった図形Ｆ８４と領域Ａ６とがオ
ーバーラップする部分は、図２４に示すように図形Ｆ８
７となる。

【００９２】そして、処理対象領域５２に登録された図
形Ｆ２５ａ，Ｆ２６ａと領域Ａ１〜Ａ６に登録された図
形Ｆ８６，Ｆ８７がホストＣＰＵ１に転送される。この
とき、領域Ａ１により抽出された図形Ｆ８６は、処理対
象領域５６の図形データとしてホストＣＰＵ１に転送さ
れ、領域Ａ６により抽出された図形Ｆ８７は、処理対象
領域５１の図形データとしてホストＣＰＵ１に転送され
る。

【００９３】また、サブＣＰＵ１４ａ，１４ｂと並行し
て動作するサブＣＰＵ１４ｃには、図２５に示すよう
に、処理対象領域５５を含む処理対象図形抽出領域ＥＡ
に含まれる図形Ｆ１０，Ｆ１１が転送されている。

【００９４】この図形Ｆ１０，Ｆ１１に対して各種図形
処理及び矩形領域登録処理が実行され、図２６（ａ）に
示すように処理対象領域５５に登録された図形Ｆ８８
と、図２６（ｂ）に示すように処理対象領域５５に登録
されなかった図形Ｆ８９が生成される。

【００９５】次いで、図８（ａ）に示す領域Ａ１〜Ａ６
内に位置する図形の抽出処理が行われる。すなわち、図
２６（ａ）に示すように処理対象領域５５に登録された
図形Ｆ８８から領域Ａ１〜Ａ４にオーバーラップする部
分が抽出される。

【００９６】領域Ａ１〜Ａ３にオーバーラップする部分
はなく、領域Ａ４にオーバーラップする部分は、図２８
に示すように図形Ｆ９１となる。処理対象領域５５に登
録されなかった図形Ｆ８９と領域Ａ５とがオーバーラッ
プする部分は、図２７に示すように図形Ｆ９０となる。
また、図形Ｆ８９と領域Ａ６とがオーバーラップする部
分は存在しない。

【００９７】そして、処理対象領域５５に登録された図
形Ｆ８８と領域Ａ１〜Ａ６に登録された図形Ｆ９０，Ｆ
９１がホストＣＰＵ１に転送される。このとき、領域Ａ
４により抽出された図形Ｆ９１は、処理対象領域５２，
５６の図形データとしてホストＣＰＵ１に転送され、領
域Ａ５により抽出された図形Ｆ９０は、処理対象領域５
１の図形データとしてホストＣＰＵ１に転送される。

【００９８】また、サブＣＰＵ１４ａ，１４ｂ，１４ｃ
と並行して動作するサブＣＰＵ１４ｄには、図２９に示
すように、処理対象領域５６を含む処理対象図形抽出領
域ＥＡに含まれる図形Ｆ１０，Ｆ１１が転送されてい
る。

【００９９】この図形Ｆ１０，Ｆ１１に対して各種図形
処理及び矩形領域登録処理が実行され、図３０（ａ）に
示すように処理対象領域５６に登録された図形Ｆ９２
と、図３０（ｂ）に示すように処理対象領域５６に登録
されなかった図形Ｆ９３が生成される。

【０１００】次いで、図８（ａ）に示す領域Ａ１〜Ａ６
でマージン領域内に位置する図形の抽出処理が行われ
る。すなわち、図３０（ａ）に示すように処理対象領域
５６に登録された図形Ｆ９２から領域Ａ１〜Ａ４にオー
バーラップする部分が抽出される。

【０１０１】領域Ａ１〜Ａ４にオーバーラップする部分
は存在しない。また、処理対象領域５６に登録されなか
った図形Ｆ９３と領域Ａ５とがオーバーラップする部分
は、図３１（ａ）に示すように図形Ｆ９４となり、図形
Ｆ９３と領域Ａ６とがオーバーラップする部分は図３１
（ｂ）に示すように図形Ｆ９５となる。

【０１０２】そして、処理対象領域５６に登録された図
形Ｆ９２と領域Ａ１〜Ａ６に登録された図形Ｆ９４，Ｆ
９５がホストＣＰＵ１に転送される。このとき、領域Ａ
５により抽出された図形Ｆ９４は、処理対象領域５２の
図形データとしてホストＣＰＵ１に転送され、領域Ａ６
により抽出された図形Ｆ９５は、処理対象領域５５の図
形データとしてホストＣＰＵ１に転送される。

【０１０３】次いで、サブフィールド登録処理部６，１
８の動作に移行し、ホストＣＰＵ１は処理対象領域５１
を図形処理した結果、処理対象領域５１に登録された図
形Ｆ２０ａ，Ｆ２１ａと、処理対象領域５２を図形処理
した結果、処理対象領域５１に登録された図形Ｆ８７
と、処理対象領域５５を図形処理した結果、処理対象領
域５１に登録された図形Ｆ９０，Ｆ９１とを、処理対象
領域５１の図形データとしてサブＣＰＵ１４ａに転送す
る。

【０１０４】処理対象領域５２を図形処理した結果、処
理対象領域５２に登録された図形Ｆ２５ａ，Ｆ２６ａ
と、処理対象領域５１を図形処理した結果、処理対象領
域５２に登録された図形Ｆ８２，Ｆ８３と、処理対象領
域５５を図形処理した結果、処理対象領域５２に登録さ
れた図形Ｆ９１と、処理対象領域５６を図形処理した結
果、処理対象領域５２に登録された図形Ｆ９４とを、処
理対象領域５２の図形データとしてサブＣＰＵ１４ｂに
転送する。

【０１０５】同様に、処理対象領域５５と、処理対象領
域５６も他の隣接する処理対象領域を図形処理した結
果、登録された図形とともに、処理対象領域に登録され
た図形をそれぞれサブＣＰＵ１４ｃ，１４ｄに転送す
る。

【０１０６】サブＣＰＵ１４ａでは、処理対象領域５１
に登録された図形Ｆ２０ａ，Ｆ２１ａと、処理対象領域
５２で領域Ａ６により切り取られた図形Ｆ８７と、処理
対象領域５５で領域Ａ５により切り取られた図形Ｆ９０
のＯＲ処理を行い、図３２（ａ）に示す図形Ｆ９６を生
成する。

【０１０７】そして、図３２（ｂ）に示すように、図形
Ｆ９７は描画装置で描画可能な図形形状へさらに分割さ
れ、図形Ｆ９８，Ｆ９９としてサブフィールドに登録さ
れる。

【０１０８】また、サブＣＰＵ１４ａと並行して動作す
るサブＣＰＵ１４ｂでは、処理対象領域５２に登録され
た図形Ｆ２５ａ，Ｆ２６ａと、処理対象領域５６で領域
Ａ５により切り取られた図形Ｆ９４のＯＲ処理を行い、
図３３（ａ）に示す図形Ｆ１００を生成する。

【０１０９】そして、処理対象領域５１で領域Ａ２，Ａ
３により切り取られた図形Ｆ８２，Ｆ８３と、処理対象
領域５５で領域Ａ４により切り取られた図形Ｆ９１で図
形Ｆ１００からＳＵＢＴＲＡＣＴ処理を行うことによ
り、オーバーラップする部分を除去する。

【０１１０】図３３（ｂ）に示すように、図形Ｆ８２，
Ｆ８３，Ｆ９１と図形Ｆ１００とにオーバーラップする
部分はなく、その結果図３３（ｃ）の図形Ｆ１０１が生
成される。図３３（ｄ）に示すように、図形Ｆ１０１は
描画装置で描画可能な図形形状へさらに分割され、図形
Ｆ１０２，Ｆ１０３としてサブフィールドに登録され
る。

【０１１１】サブＣＰＵ１４ａ，１４ｂと並行して動作
するサブＣＰＵ１４ｃ，１４ｄでは、それぞれ処理対象
領域５５及び処理対象領域５６に登録された図形と、隣
接する他の処理対象領域から登録された図形に対してサ
ブＣＰＵ１４ａ，１４ｂと同様の動作を行う。

【０１１２】以上のような動作により、各処理対象領域
のマージン領域内の図形は、当該処理対象領域と、隣接
する処理対象領域とのいずれか一つにのみ登録される。
従って、各処理対象領域に登録される図形データは、例
えば処理対象領域５１，５２に登録される図形Ｆ９８〜
Ｆ１０３のように、図形の欠落やオーバーラップが生じ
ない図形データとして登録することができる。

【０１１３】また、各処理対称領域において、ＯＲ処理
及びＳＵＢＴＲＡＣＴ処理を行うために、各処理対称領
域に登録する図形データを演算するＣＰＵ間において、
各処理対称領域が共有するマージン領域Ａ１〜Ａ０内の
図形データを転送するだけでよい。

【０１１４】従って、各処理対称領域内の図形をすべて
転送する必要はなく、転送データ量を削減して、描画デ
ータの演算処理速度を向上させることができる。前記実
施例では、処理対象領域５０及びサブフィールド４０へ
の分割図形の登録方法として、処理対象領域５０及びサ
ブフィールド４０の上側及び左側の境界線に対する外部
マージン及び内部マージンにおいて、外部マージンを含
んでそれよりも内にあり、かつ内部マージンを含んでそ
れよりも外にあるとき、分割図形を登録するようにした
が、次に示す登録方法としてもよい。 （１）図６（ｅ）、図７（ｅ）に示すように、処理対象
領域５０及びサブフィールド４０の左側及び下側の境界
線に対する外部マージン及び内部マージンにおいて、図
形のすべてが外部マージンを含んでそれよりも内にあ
り、かつ図形の一部でも境界線の内にありかつ内部マー
ジンを含んでそれよりも外にあるとき、分割図形を登録
するようにすること。 （２）図６（ｆ）、図７（ｆ）に示すように、処理対象
領域５０及びサブフィールド４０の下側及び右側の境界
線に対する外部マージン及び内部マージンにおいて、図
形のすべてが外部マージンを含んでそれよりも内にあ
り、かつ図形の一部でも境界線の内にありかつ内部マー
ジンを含んでそれよりも外にあるとき、分割図形を登録
するようにすること。 （３）図６（ｇ）、図７（ｇ）に示すように、処理対象
領域５０及びサブフィールド４０の右側及び上側の境界
線に対する外部マージン及び内部マージンにおいて、図
形のすべてが外部マージンを含んでそれよりも内にあ
り、かつ図形の一部でも境界線の内にありかつ内部マー
ジンを含んでそれよりも外にあるとき、分割図形を登録
するようにすること。

【０１１５】また、前記領域Ａ１〜Ａ６に換えて、図８
（ｂ）に示す領域Ａ１１〜Ａ１６、図８（ｃ）に示す領
域Ａ２１〜Ａ２６、図８（ｄ）に示す領域Ａ３１〜Ａ３
６としてもよい。

【０１１６】また、前記実施の形態では、処理対象領域
をサブフィールドと同じ大きさとしたが、サブフィール
ドをＸ軸方向及びＹ軸方向に２個以上あつめた矩形領域
を処理対象領域としても同様な効果を得ることができ
る。

【０１１７】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１〜８の発
明では、複数の処理対象領域に登録する描画データの演
算処理を並行に行いながら、描画データの図形の欠落や
オーバーラップを未然に防止し得る電子ビーム描画装置
用の描画データ生成方法及び生成装置を提供することが
できる。

【０１１８】また、請求項３〜７の発明では、各矩形装
置の図形登録処理を行う処理装置間での転送データ量を
削減して、図形登録処理に要する時間を短縮することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 描画データ生成装置の電気的構成を示すブロ
ック図である。

【図２】 サブＣＰＵの図形処理部の動作を示すフロー
チャート図である。

【図３】 サブＣＰＵのサブフィールド登録処理部の動
作を示すフローチャート図である。

【図４】 チップをサブフィールドに分割した状態を示
す説明図である。

【図５】 チップをサブフィールドを基準に矩形領域に
分割した状態を示す説明図である。

【図６】 サブフィールドへの図形の登録基準を示す説
明図である。

【図７】 矩形領域への図形の登録基準を示す説明図で
ある。

【図８】 図形の切り出しを行うためのマージン領域を
示す説明図である。

【図９】 サブフィールドのマージンの設定を示す説明
図である。

【図１０】従来の図形データの登録処理を示す説明図で
ある。

【図１１】従来の図形データの登録処理を示す説明図で
ある。

【図１２】マスクパターンデータを示す説明図である。

【図１３】マスクパターンデータを示す説明図である。

【図１４】図形データの登録処理を示す説明図である。

【図１５】図形データの登録処理を示す説明図である。

【図１６】従来の図形処理方法により生成された描画デ
ータを示す説明図である。

【図１７】従来の図形データの登録処理を示す説明図で
ある。

【図１８】従来の図形データの登録処理を示す説明図で
ある。

【図１９】従来の図形処理方法により生成された描画デ
ータを示す説明図である。

【図２０】処理対象領域５１に登録されない図形を示す
説明図である。

【図２１】処理対象領域５１に登録された図形から切り
出される図形を示す説明図である。

【図２２】処理対象領域５２に登録されない図形を示す
説明図である。

【図２３】処理対象領域５２に登録された図形から切り
出される図形を示す説明図である。

【図２４】処理対象領域５２に登録されない図形から切
り出される図形を示す説明図である。

【図２５】処理対象領域５５で処理される図形を示す説
明図である。

【図２６】処理対象領域５５に登録される図形及び登録
されない図形を示す説明図である。

【図２７】処理対象領域５５に登録されない図形から切
り出される図形を示す説明図である。

【図２８】処理対象領域５５で登録された図形から切り
出される図形を示す説明図である。

【図２９】処理対象領域５６で処理される図形を示す説
明図である。

【図３０】処理対象領域５６に登録される図形及び登録
されない図形を示す説明図である。

【図３１】処理対象領域５６に登録されない図形から切
り出される図形を示す説明図である。

【図３２】処理対象領域５１の図形処理からサブフィー
ルド登録処理までの説明図である。

【図３３】処理対象領域５２の図形処理からサブフィー
ルド登録処理までの説明図である。

【図３４】処理結果を示す説明図である。

【符号の説明】

５０ 矩形領域 Ｍ 内部マージン、外部マージン Ａ マージン領域

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクパターンの図形データを電子ビー
   ム描画装置で描画可能な図形に分割し、かつその分割図
   形を境界線で区画された複数の矩形領域に分割して描画
   データとして登録する処理を複数の処理装置で並行して
   行う描画データ生成方法であって、 前記矩形領域の境界線を基準としてその内部及び外部に
   所定幅の内部マージン及び外部マージンを設定し、 前記内部マージンと外部マージンとで構成されるマージ
   ン領域は、隣接する矩形領域で共有し、 前記分割図形が前記矩形領域に包含されているとき及び
   前記分割図形が前記外部マージンの内にあり、かつ少な
   くとも一部が内部マージンより内にあるとき、該分割図
   形を該矩形領域に登録し、 前記分割図形の一部が外部マージンより外にあり、該分
   割図形の少なくとも一部が内部マージンより内にあると
   きは、当該分割図形を当該矩形領域の境界線で切断し
   て、境界線内分割図形と境界線外分割図形とに分割する
   とともに、該境界線内分割図形を該矩形領域に登録し、 前記各矩形領域のマージン領域内に存在する図形は、該
   矩形領域と、該マージン領域を共有する他の矩形領域と
   のうちのいずれか一つに登録することを特徴とする電子
   ビーム描画装置の描画データ生成方法。
2. 【請求項２】 前記各矩形領域のマージン領域は、優先
   登録領域と、非優先登録領域とからなり、非優先登録領
   域は他の矩形領域の優先登録領域と共有され、優先登録
   領域は他の矩形領域の非優先登録領域若しくは優先登録
   領域と共有され、非優先登録領域が他の矩形領域の優先
   登録領域に共有されるときは、該非優先登録領域内の図
   形と優先登録領域内の図形とを重ねた図形の輪郭を該優
   先登録領域に登録し、前記優先登録領域が他の矩形領域
   の優先登録領域と共有されるときは、各優先登録領域内
   の図形が互いに重なる部分を、いずれか一つの優先登録
   領域に登録することを特徴とする請求項１記載の電子ビ
   ーム描画装置の描画データ生成方法。
3. 【請求項３】 前記優先登録領域は、前記矩形領域の隣
   り合う二辺に対応するマージン領域とし、前記非優先登
   録領域は、残りのマージン領域とし、前記優先登録領域
   は他の矩形領域の優先登録領域に共有されて重なりを検
   出する領域毎に分割し、前記非優先登録領域は、それぞ
   れ矩形となるように二つに分割したことを特徴とする請
   求項２記載の電子ビーム描画装置の描画データ生成方
   法。
4. 【請求項４】 前記優先登録領域は、前記矩形領域の下
   部に位置する第一の優先登録領域と、前記矩形領域の右
   下部に位置する第二の優先登録領域と、前記矩形領域の
   右部に位置する第三の優先登録領域と、前記矩形領域の
   右上部に位置する第四の優先登録領域とで構成し、前記
   非優先登録領域は、前記矩形領域の上部に位置する第一
   の非優先登録領域と、前記矩形領域の左部に位置する第
   二の非優先登録領域とで構成し、前記第一の優先登録領
   域内の図形は下方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第二の優先登録領域内の図
   形は下方と右下方と右方に隣接する各矩形領域の図形登
   録処理を行う処理装置に転送し、前記第三の優先登録領
   域内の図形は右方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第四の優先登録領域内の図
   形は右方及び右上方に隣接する矩形領域の図形登録処理
   を行う処理装置に転送し、前記第一の非優先登録領域内
   の図形は、上方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行
   う処理装置に転送し、前記第二の非優先登録領域内の図
   形は、左方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行う処
   理装置に転送することを特徴とする請求項３記載の電子
   ビーム描画装置の描画データ生成方法。
5. 【請求項５】 前記優先登録領域は、前記矩形領域の右
   部に位置する第一の優先登録領域と、前記矩形領域の右
   上部に位置する第二の優先登録領域と、前記矩形領域の
   上部に位置する第三の優先登録領域と、前記矩形領域の
   左上部に位置する第四の優先登録領域とで構成し、前記
   非優先登録領域は、前記矩形領域の左部に位置する第一
   の非優先登録領域と、前記矩形領域の下部に位置する第
   二の非優先登録領域とで構成し、前記第一の優先登録領
   域内の図形は右方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第二の優先登録領域内の図
   形は右方と右上方と上方に隣接する各矩形領域の図形登
   録処理を行う処理装置に転送し、前記第三の優先登録領
   域内の図形は上方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第四の優先登録領域内の図
   形は上方及び左上方に隣接する矩形領域の図形登録処理
   を行う処理装置に転送し、前記第一の非優先登録領域内
   の図形は、左方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行
   う処理装置に転送し、前記第二の非優先登録領域内の図
   形は、下方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行う処
   理装置に転送することを特徴とする請求項３記載の電子
   ビーム描画装置の描画データ生成方法。
6. 【請求項６】 前記優先登録領域は、前記矩形領域の上
   部に位置する第一の優先登録領域と、前記矩形領域の左
   上部に位置する第二の優先登録領域と、前記矩形領域の
   左部に位置する第三の優先登録領域と、前記矩形領域の
   左下部に位置する第四の優先登録領域とで構成し、前記
   非優先登録領域は、前記矩形領域の下部に位置する第一
   の非優先登録領域と、前記矩形領域の右部に位置する第
   二の非優先登録領域とで構成し、前記第一の優先登録領
   域内の図形は上方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第二の優先登録領域内の図
   形は上方と左上方と左方に隣接する各矩形領域の図形登
   録処理を行う処理装置に転送し、前記第三の優先登録領
   域内の図形は左方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第四の優先登録領域内の図
   形は左方及び左下方に隣接する矩形領域の図形登録処理
   を行う処理装置に転送し、前記第一の非優先登録領域内
   の図形は、下方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行
   う処理装置に転送し、前記第二の非優先登録領域内の図
   形は、右方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行う処
   理装置に転送することを特徴とする請求項３記載の電子
   ビーム描画装置の描画データ生成方法。
7. 【請求項７】 前記優先登録領域は、前記矩形領域の左
   部に位置する第一の優先登録領域と、前記矩形領域の左
   下部に位置する第二の優先登録領域と、前記矩形領域の
   下部に位置する第三の優先登録領域と、前記矩形領域の
   右下部に位置する第四の優先登録領域とで構成し、前記
   非優先登録領域は、前記矩形領域の右部に位置する第一
   の非優先登録領域と、前記矩形領域の上部に位置する第
   二の非優先登録領域とで構成し、前記第一の優先登録領
   域内の図形は左方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第二の優先登録領域内の図
   形は左方と左下方と下方に隣接する各矩形領域の図形登
   録処理を行う処理装置に転送し、前記第三の優先登録領
   域内の図形は下方に隣接する矩形領域の図形登録処理を
   行う処理装置に転送し、前記第四の優先登録領域内の図
   形は下方及び右下方に隣接する矩形領域の図形登録処理
   を行う処理装置に転送し、前記第一の非優先登録領域内
   の図形は、右方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行
   う処理装置に転送し、前記第二の非優先登録領域内の図
   形は、上方に隣接する矩形領域の図形登録処理を行う処
   理装置に転送することを特徴とする請求項３記載の電子
   ビーム描画装置の描画データ生成方法。
8. 【請求項８】 マスクパターンの図形データを電子ビー
   ム描画装置で描画可能な図形に分割し、かつその分割図
   形を複数の矩形領域に分割して描画データとして登録す
   る処理を複数の処理装置で並行して行う描画データ生成
   装置であって、 前記矩形領域の境界線を基準としてその内部及び外部に
   所定幅の内部マージン及び外部マージンを設定し、前記
   内部マージンと外部マージンとで構成されるマージン領
   域は、隣接する矩形領域で共有するように設定する第一
   の処理部と、 前記分割図形が前記矩形領域に包含されているとき及び
   前記分割図形が前記外部マージンの内にあり、かつ少な
   くとも一部が内部マージンより内にあるとき、該分割図
   形を該矩形領域に登録する複数の第二の処理部と、 前記分割図形の一部が外部マージンより外にあり、該分
   割図形の少なくとも一部が内部マージンより内にあると
   きは、当該分割図形を当該矩形領域の境界線で切断し
   て、境界線内分割図形と境界線外分割図形とに分割する
   とともに、該境界線内分割図形を該矩形領域に登録する
   複数の第三の処理部と、 前記各矩形領域のマージン領域内に存在する図形は、該
   矩形領域と、該マージン領域を共有する他の矩形領域と
   のうちのいずれか一つに登録する複数の第四の処理部と
   を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置の描画デ
   ータ生成装置。