JPH0938560A

JPH0938560A - 塗布装置

Info

Publication number: JPH0938560A
Application number: JP30306995A
Authority: JP
Inventors: Shogo Sato; 章吾佐藤; Osamu Maniwa; 修間庭
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-05-23
Filing date: 1995-11-21
Publication date: 1997-02-10

Abstract

(57)【要約】【課題】高速塗布化および塗膜の薄膜化を図ることが
でき、良好な塗膜が得られる塗布装置を提供する。【解決手段】塗料６が供給される塗料溜り（ポケット
９）を有してなるダイ２を備え、連続的に走行する支持
体１上に前記ダイ２先端に設けられたスリット５より塗
料６を押し出しながら塗布するエクストルージョン型の
塗布装置であって、先端同士が隣接して磁気ギャップ１
５が構成されてなる磁石部３が、前記支持体１を挟み前
記ダイ２と反対側に、該磁気ギャップ１５が前記ダイ２
先端に対向するように配設されているとともに、前記ダ
イ２先端にて前記スリット５を構成する上リップ７およ
び下リップ８が、それぞれ前記支持体１に非接触に配設
されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆるエクスト
ルージョン型の塗布装置に関し、特に磁気記録媒体を製
造する際に磁性塗料等を塗布するために用いて好適な塗
布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、オーディオテープやビデオテー
プとしては、ポリエステルフィルム等の非磁性の支持体
上に磁性粉末や結合剤、分散剤、潤滑剤等を有機溶剤に
分散混練してなる磁性塗料を塗布することにより磁性層
が形成されてなる、いわゆる塗布型の磁気記録媒体が使
用されている。

【０００３】この塗布型の磁気記録媒体を製造するに際
し、磁性塗料を支持体上に塗布するための装置として
は、従来より、グラビアロールやリバースロール等のロ
ールを用いた塗布装置が用いられており、特に幅広い構
造粘性（チキソ性）のものを塗布することができるダイ
レクトグラビア方式を適用した装置が一般的となってい
る。

【０００４】上記グラビアロールには、耐摩耗性を考慮
してハードクローム処理等の表面処理が施される。磁性
塗料の構造粘性によっては、ロールから支持体であるベ
ースフィルム上への塗料転写性が損なわれて塗布厚ムラ
のための出力変動や塗料飛散によるドロップアウト等が
起こりやすい状態となる。そして、高速塗布になるにし
たがってこれらの問題が顕著になる傾向にある。

【０００５】特に、フロッピーディスクの磁性層を形成
する場合のように、厚さ５０μｍ以上の支持体上に、構
造粘性の高い磁性塗料、またはメタル系の磁性塗料を転
写させるときには、グラビアロールのセル溝と支持体と
の間に空気層ができやすく、転移不良を生じやすい。

【０００６】一方、このような問題を解決し得る新しい
塗布装置として、エクストルージョン（ダイ）型の塗布
装置が注目され、既に一部実用化されている。

【０００７】このエクストルージョン型の塗布装置は、
先端面に臨んで幅広のスリットを有するとともに、この
先端部近傍がドクターエッジ化されてなるダイを備えて
なり、走行している支持体の表面に向けて連続的に押し
出された磁性塗料がドクターエッジによって均一な厚さ
をもって支持体上に塗布されるような構成とされてい
る。なお、スリットの背面側には塗液溜りが設けられ、
ダイの両サイドより供給された塗料は、該塗液溜りを介
して上記スリット内へ送り出される。

【０００８】このようなエクストルージョン型の塗布装
置は、均一な膜厚を有する塗膜を容易に形成することが
できるとともに、大径を有するロールを用いないために
装置の低価格化や小型化の点で有利であり、またダイ内
に供給された塗料が全て塗布されるので該ダイ廻りでの
塗料の循環を行う必要がないことから、これまで写真フ
ィルムや印画紙等の分野において使用されている。

【０００９】ところで、近年、塗布型の磁気記録媒体に
おいては、生産性の向上を図るための高速塗布化や磁性
塗膜の薄膜化に十分対向できる塗布技術の開発が望まれ
ている。

【００１０】そこで、上記エクストルージョン型の塗布
装置においては、薄膜化された磁性塗膜を膜厚ムラを生
じさせることなく形成するために、例えば、特開昭６２
−９５１７０号公報に開示されるような、走行する支持
体の背面を支持することなくダイ先端に形成されたスリ
ットを上記支持体に押しつけるとともに、該支持体を挟
んで上記スリットと反対側に５０〜５０００ガウスの磁
力を有する永久磁石を配設し、上記スリットから磁性塗
料を押し出して塗布を行う方法が提案されている。ま
た、特開平４−２１４２２９号公報に開始されるよう
に、永久磁石の代わりに電磁石を用い、磁気フラックス
の方向を支持体の表面となす角によって規定する方法も
提案されている。なお、これらの塗布装置におけるダイ
の先端は非磁性材料で構成されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような方法を適用しても、高速塗布時に磁性塗料の動
きを保持しきれず、安定した塗布が困難であり、膜厚ム
ラが生じてしまう。

【００１２】このように、従来の塗布装置では、高速塗
布化および塗膜の薄膜化について十分な効果が得られて
いないのが実情である。

【００１３】そこで本発明は上述の従来の実情に鑑みて
提案されたものであり、高速塗布化および塗膜の薄膜化
を図ることができ、良好な塗膜が得られる塗布装置を提
供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る塗布装置
は、上述の目的を達成するために提案されたものであっ
て、塗料が供給される塗料溜りを有してなるダイを備
え、連続的に走行する支持体上に前記ダイ先端に設けら
れたスリットより塗料を押し出しながら塗布するエクス
トルージョン型の塗布装置であって、先端同士が隣接し
て磁気ギャップが構成されてなる磁石部が、前記支持体
を挟み前記ダイと反対側に、該磁気ギャップが前記ダイ
先端に対向するように配設されているとともに、前記ダ
イ先端にて前記スリットを構成する上リップおよび下リ
ップが、それぞれ前記支持体に非接触に配設されてい
る。

【００１５】通常、エクストルージョン型の塗布装置に
おいては、先端面に臨んで幅広のスリットが形成される
とともに、前記先端面近傍がドクターエッジ化されてな
るダイを用い、走行している支持体の表面に向けて連続
的に押し出した塗料を前記ドクターエッジによって均一
な厚さをもって支持体上に塗布する。しかし、この塗布
装置においては、下リップをドクターエッジとして機能
させず、支持体を下リップに非接触に走行させる。リッ
プが支持体と非接触とされると、該リップが支持体表面
を傷付けたり、削ったりすることがなく、形成された塗
膜に塵、異物、支持体の削れ粉等による欠けスジを発生
させにくくなる。

【００１６】上述したように、この塗布装置において
は、支持体を挟んでダイと反対側に磁石部が配設される
ため、塗料が磁性材料を含むものであると、該磁石部か
らの磁気フラックスにより、スリットから押し出された
該塗料の動きが保持される。この場合、上リップおよび
下リップがそれぞれ非磁性材料より構成されてもよい
が、磁性材料より構成されると、磁気フラックスの方向
が良好に制御できる。

【００１７】また、磁石部を、その先端同士が隣接され
て磁気ギャップが構成されているものとすると、該磁気
ギャップから両リップに向かって磁気フラックスを集中
させることができる。なお、磁石部は、その先端同士が
隣接されて磁気ギャップが構成されてなるものであれ
ば、全体が永久磁石よりなるものであっても、高透磁率
材料よりなるヨーク間に永久磁石が挟み込まれていても
よい。なお、永久磁石としては、アルニコ磁石、希土類
磁石、フェライト磁石等に代表される従来公知のものが
いずれも使用できる。また、永久磁石の代わりに電磁石
を用いてもよい。

【００１８】ここで、前記磁石部先端と前記ダイ先端と
の隙間は、０．２〜３ｍｍとなされて好適である。この
隙間が小さすぎると、磁気フラックスが両リップ方向に
向かわなくなってしまい、逆に、隙間が大きすぎると、
磁気フラックスを集中させることができなくなってしま
う。

【００１９】また、ダイに対する磁石部の配設位置は、
磁気ギャップの上端面が、ダイにおけるスリットの上端
面の高さを基準として±１ｍｍなる範囲に位置するよう
に設定されて好適である。磁石部の配設位置が上述した
範囲から外れると、磁気フラックスにより塗料の動きを
保持する効果が劣化してしまう。

【００２０】さらに、ダイ先端付近の磁力、即ち、両リ
ップ近傍の磁力は、塗布速度や塗料特性（粘度、表面張
力等）によって適宜選択すればよいが、小さすぎると、
塗料の動きを保持することができず、大きすぎると、得
られた塗膜に面あれが生じてしまう。このため、両リッ
プ近傍には、５００〜６０００ガウス、特に３０００〜
６０００ガウスの磁力を持たせるようにして好適であ
る。

【００２１】また、本発明に係る塗布装置は、塗料が供
給される塗料溜りを有してなるダイを備え、連続的に走
行する支持体上に前記ダイ先端に設けられたスリットよ
り塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン型
の塗布装置であって、先端同士が隣接して磁気ギャップ
が構成されてなる磁石部が、前記支持体を挟み前記ダイ
と反対側に、該磁気ギャップが前記ダイ先端に対向する
ように配設されているとともに、前記ダイ先端にて前記
スリットを構成する上リップおよび下リップが、それぞ
れ磁性材料より構成され、該下リップが前記支持体に当
接するごとく配設されるものであってもよい。

【００２２】即ち、下リップをドクターエッジとして機
能させ、支持体を塗料を介して該下リップに接触させな
がら走行させて塗布を行う塗布装置において、支持体を
挟み前記ダイと反対側に磁石部を配設し、且つ、上リッ
プおよび下リップをそれぞれ磁性材料より構成する。こ
の場合も、上述したリップを支持体に非接触に配設した
塗布装置と同様、磁石部からの磁気フラックスにより、
スリットから押し出された該塗料の動きを良好に保持で
きる。

【００２３】また、この塗布装置においても、ダイと磁
石部との位置関係やリップ近傍に持たせる磁力の大きさ
等の設定は、上述したリップを支持体に非接触に配設す
る塗布装置と同様とすればよい。

【００２４】ところで、以上のような塗布装置は、リッ
プを支持体に非接触に配設する場合、リップを支持体に
接触させて配設する場合のいずれにおいても、走行する
支持体に対するダイおよび磁石部の相対的な配置が確保
されていれば、支持体の走行方向、ダイおよび磁石部の
配設方向は任意に設定できる。このため、本明細書にお
いて、「上」、「下」といった記述は必ずしも鉛直方向
の上側、下側を示すものではなく、支持体の走行方向の
上流側、下流側を表すものとする。このため、「上リッ
プ」、「下リップ」なる記載は、必ずしも、上リップが
下リップに対して鉛直方向上側に存在することを示すも
のではない。

【００２５】上述の塗布装置は、塗布型の磁気記録媒体
における磁性塗料の塗布に適用して好適であるが、その
場合、支持体や磁性塗料を構成する磁性粉末、樹脂結合
剤等は従来公知のものがいずれも使用可能で、何ら限定
されるものではない。

【００２６】例示するならば、上記支持体としては、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート、セル
ロースブチレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボ
ネート類、ポリイミド類、ポリアミドイミド等に代表さ
れるようなプラスチックによって形成される高分子基板
や、Ａｌ合金、チタン合金からなる金属基板、アルミナ
ガラス等からなるセラミックス基板、ガラス基板等が挙
げられる。その形状も何ら限定されるものではなく、テ
ープ状、シート状、ドラム状等、いかなる形態であって
も良い。なお、Ａｌ合金板やガラス板等の剛性基板を使
用した場合には、基板表面にアルマイト処理等の酸化被
膜やＮｉ−Ｐ被膜等を形成して、その表面を硬くするよ
うにしてもよい。但し、支持体を連続走行させることを
考慮すると、テープ状、シート状の可撓性支持体である
ことが好ましい。

【００２７】一方、磁性塗料を構成する磁性粉末として
は、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の強磁性金属材料や、Ｆｅ−Ｃ
ｏ，Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ
−Ｍｎ−Ｚｎ，Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ，Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ等のＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ
を主成分とする各種強磁性合金材料、Ｍｎ−Ｂｉ，Ｍｎ
−Ａｌ等の合金材料からなる強磁性金属粒子が好適であ
る。また、種々の特性を改善する目的でＡｌ，Ｓｉ，Ｔ
ｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｍｇ，Ｐ等の元素が添加
されても良い。また、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃，Ｃｏ含有γ−Ｆ
ｅ₂Ｏ₃，Ｆｅ₃Ｏ₄，Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₃Ｏ₄，Ｃｏ
被着γ−Ｆｅ₃Ｏ₄，ＣｒＯ₂等、従来公知の酸化物磁
性粉末であってもよい。

【００２８】結合剤としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、塩化ビニリデン、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエ
ン、アクリロニトリル等の重合体、或いはこれら二種以
上を組み合わせた共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂等が例示される。特に、ビニ
ル系共重合体、ポリエステル−ポリウレタン系共重合
体、ポリカーボネート−ポリウレタン系共重合体、ニト
ロセルロース等を用いて好適である。

【００２９】また、これら結合剤と磁性粉末とを分散さ
せるための溶剤としては、アセトン，メチルエチルケト
ン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン等のケ
トン系、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチル，乳酸エ
チル，酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル
系、グリコールジメチルエーテル，グリコールモノエチ
ルエーテル，ジオキサン等のグリコールエーテル系、ベ
ンゼン，トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキ
サン，ヘプタン等の脂肪族炭化水素、メチレンクロライ
ド，エチレンクロライド，四塩化炭素，クロロホルム，
エチレンクロルヒドリン，ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素等が挙げられる。

【００３０】さらに、磁性塗料中には、添加剤として分
散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤等が加えら
れても良い。

【００３１】また、上述した支持体には、磁性層の他
に、必要に応じて、バックコート層やトップコート層等
が形成されても良い。この場合、バックコート層、トッ
プコート層等の成膜条件は、通常この種の磁気記録媒体
の製造方法に適用される方法であれば良く、特に限定さ
れない。

【００３２】そして、本発明の塗布装置は、このような
塗布型の磁気記録媒体の製造工程において、磁性塗料の
塗布のみでなく、バックコート層やトップコート層を塗
布する際に使用することも可能である。

【００３３】また、本発明の塗布装置を写真フィルムや
印画紙等の製造分野に適用することも可能である。

【００３４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について図面を参照しながら説明する。

【００３５】第１の実施の形態本実施の形態に係る塗布装置は、図１および図２に示さ
れるように、ダイ２先端にてスリット５を構成するリッ
プ４が支持体１に非接触に配設されているものである。

【００３６】具体的には、この塗布装置は、非磁性で可
撓性を有する支持体１が巻き出し側から巻き取り側に亘
って図中Ａ方向に順次走行される中途部に、所定の幅を
持った略直方体の金属ブロックからなるダイ（エクスト
ルーダ）２が配設されるとともに、支持体１を挟んでダ
イ２と反対側に、所定の幅を有する磁石部３が配設され
てなる。

【００３７】ダイ２は、図中Ａ方向に向かって走行する
支持体１の側方に配設され、該ダイ２の先端部に取り付
けられたリップ４が支持体１の表面と所定の間隔をもっ
て配設される。

【００３８】このリップ４は、非磁性材料あるいは磁性
材料より構成され、その先端面に臨んでスリット５が塗
布幅に応じた幅を有して形成されている。このスリット
５は、磁性材料からなる塗料６が押し出される隙間とな
るものであって、通常０．０１〜２．０ｍｍ程度の非常
に狭い隙間とされる。

【００３９】なお、この塗布装置においては、下リップ
８の先端部を上リップ７の先端部よりも後退させてい
る。また、両リップ７，８は支持体１に非接触となされ
ているため、上リップ７の先端近傍をフロントブレード
として機能させたり、下リップ８の先端近傍をスムージ
ングブレードとして機能させることはない。

【００４０】そして、スリット５の背面側には、該スリ
ット５と通ずるポケット（塗液溜り）９が形成される。
このポケット９は、上記スリット５の幅と略等しい長さ
をもってオリフィス状の空間として形成されている。

【００４１】このポケット９の両端部には、図示しない
塗液供給口が上記ダイ２の両端面に開口するごとく設け
られており、これら塗液供給口には塗料６を導入するた
めの塗液供給管が接続されている。また、この塗液供給
管の中途部には、ポンプ１０が取り付けられており、こ
のポンプ１０により塗料６が上記塗液供給管からポケッ
ト９内に所定の圧力で圧送されるようになされている。
したがって、ポケット９は、圧送される塗料６を受ける
空間となり、アキュームレータの機能を持つことにな
る。そして、このポケット９内に圧送された塗料６は、
上記スリット５内に供給され、さらにスリット５の先端
部より走行する支持体１の表面に押し出されることとな
る。

【００４２】一方、上述のようなダイ２によって塗料６
が塗布される支持体１は、図示しないガイドロールによ
って支持されるとともに、これらガイドロールにより適
当なテンションがかけられ、円滑な走行が行われるよう
になされている。また、ガイドロールは移動可能に配さ
れ、支持体１とリップ４先端との間隔を調整可能とする
とともに、ダイ２に対する支持体１の角度を調整可能と
している。

【００４３】この支持体１を挟んで反対側にダイ２と所
定距離を有する隙間をあけて設けられる磁石部３は、永
久磁石１１が上がＮ極、下がＳ極となされて、高透磁率
材料よりなるヨーク１２間に挟み込まれてなる。そし
て、ヨーク１２の上側（上ヨーク１３）およびヨーク１
２の下側（下ヨーク１４）はそれぞれその一端が永久磁
石１１よりも突出しており、先端に向かってその厚みが
小さくなされている。また、下ヨーク１４は、その先端
が上ヨーク１３の先端に隣接するごとく屈曲している。

【００４４】このため、この磁石部３においては、上ヨ
ーク１３の先端と下ヨーク１４の先端との間に磁気ギャ
ップ１５が形成され、磁性材料を含む塗料６に向かっ
て、また、リップ４が磁性材料よりなる場合には該リッ
プ４にも向かって、磁気フラックスを生じさせることが
できる。

【００４５】なお、上述した磁石部３は、図示しない
が、該磁石部３を任意の方向に移動可能とする支持台に
固定され、ヨーク１２先端とリップ４先端との隙間ｄ、
スリット５に対する磁気ギャップ１５の高さ位置ｈが調
整可能となされている。ここでは、磁石部３における上
ヨーク１３の下面（磁気ギャップ１５の上端面に相当す
る。）の高さが、ダイ２における上リップ７の下面（ス
リット５の上端面に相当する。）の高さと一致する高さ
位置を０として、ダイ２に対する磁石部３の高さが高く
なる方向をプラス、ダイ２に対する磁石部３の高さが低
くなる方向をマイナスとして、磁気ギャップ１５の高さ
位置ｈを設定する。

【００４６】以上のような構成を有することにより、こ
の塗布装置においては、図中Ａ方向に走行する支持体１
の表面に対して、ダイ２におけるリップ４の先端面に臨
んで形成されたスリット５より押し出された塗料６を付
着させるに際して、磁石部３における磁気ギャップ１５
からの磁気フラックスにより塗料６の動きを保持して、
良好な塗布が行われることとなる。

【００４７】また、この塗布装置においては、リップ４
先端が支持体１と当接しないため、支持体１表面を傷付
けたり、削ったりすることがなく、形成された塗膜に
塵、異物、支持体の削れ粉等による欠けスジを発生させ
にくい。

【００４８】ところで、図１および図２においては、鉛
直方向上方から下方に向かって走行する支持体１に対し
て塗料を塗布するごとく、ダイおよび磁石部を配置した
図を示したが、本実施の形態に係る塗布装置はこれに限
定されない。具体的には、ダイ２および磁石部３の配設
位置に対する支持体１の走行方向は、スリット５の中心
が延在する面（以下、スリット中心面と称す。）と支持
体１の主面とが交わる線を中心とし、該スリット中心面
と支持体１の主面とが垂直となる角度を０°として、±
１５°以内で回転させてもよい。

【００４９】また、走行する支持体１とダイ２および磁
石部３との相対的な配置が上述の範囲内であれば、支持
体１の走行方向、ダイ２および磁石部３の配設方向は任
意に設定できる。即ち、図３に示されるように、ダイ２
におけるスリット中心面が水平面を基準として４５°傾
いていてもよいし、図４に示されるように、スリット中
心面が水平面を基準として９０°回転していてもよく、
同様に３６０°いずれの角度に回転していてもよい。

【００５０】第２の実施の形態本実施の形態に係る塗布装置においては、図５および図
６に示されるように、ダイ２２の構成が第１の実施の形
態とは異なり、先端にてスリット５を構成するリップ２
４が支持体１に当接するごとく配設される。

【００５１】この塗布装置においては、スリット５を構
成する上リップ２７および下リップ２８が磁性材料より
構成されている。また、上リップ２７は、先端面近傍が
直線的に斜めに削り取られ、いわゆるくさび形となさ
れ、フロントブレードとして機能して、スリット５を通
って支持体１上に押し出される塗料６の塗布量を規制す
る。一方、下リップ２８は、その先端面が突出して支持
体１に当接するごとく形成され、スムージングブレード
として機能して、支持体１上に供給された塗料６の表面
を平坦化する。

【００５２】このような構成を有するダイ２２によって
塗料６が塗布される支持体１は、ガイドロールにより適
当なテンションがかけられ、このガイドロールが移動可
能に配設されることにより、支持体１がリップ４側へ抱
き込まれる量（リップ４における支持体１の抱き量）が
調整される。

【００５３】なお、その他の構成は、実施例１にて示し
た塗布装置と同一であり、このため、同じ部材について
は、図１および図２中で使用した符号と同じものを使用
し、説明を省略する。

【００５４】以上のような構成を有することにより、こ
の塗布装置においては、図中Ａ方向に走行する支持体１
の表面に対して、ダイ２２におけるリップ２４が当接さ
れ、この当接面でリップ２４の先端面に臨んで形成され
たスリット５より塗料６が押し出され、磁石部３におけ
る磁気ギャップ１５から磁性材料よりなる両リップ７，
８へ向かう磁気フラックスにより、スリット５から押し
出された塗料６の動きを保持しながら、塗膜が形成され
ることとなる。

【００５５】

【実施例】以下、上述した第１の実施の形態、第２の実
施の形態にて示された塗布装置の塗布性能を調べるた
め、実際に、非磁性の支持体１上に磁性塗料を塗布し
た。

【００５６】実施例１ここでは、第１の実施の形態にて示された塗布装置の塗
布性能を調べるために、塗布装置における種々の設定を
行って磁性塗料の塗布を行った。

【００５７】具体的には、図１、図２に示されるような
塗布装置を用い、下記の条件にて、走行する支持体１に
対して磁性塗料を塗布した。

【００５８】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：１３０ｍｍ塗布幅：１１０ｍｍリップ４：超硬合金（磁性材料）上リップ７の肉厚５ｍｍ、下リップ８の肉厚３ｍｍ上リップ７に対して下リップ８を１ｍｍ後退スリット５の隙間：０．３ｍｍ支持体１とリップ４先端との距離：０〜３．５ｍｍ＜磁石部＞全幅：１５０ｍｍ永久磁石１１：ネオジューム合金磁石リップ４近傍に４０００ガウスの磁力を発生ヨーク１２：Ｓ１０Ｃ（高透磁率材料）磁気ギャップ１５の大きさ：１ｍｍスリット５に対する磁気ギャップ１５の高さ位置：０
ｍｍ支持体１とヨーク１２先端との距離：０．５ｍｍ＜塗料＞種類：ＶＨＳビデオテープの磁性層形成用塗布厚：２〜３μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：１２７ｍｍ厚さ：１４．５μｍ材料：ポリエチレンテレフタレート塗布時張力：支持体全幅で３ｋｇｆ走行速度：４００〜１０００ｍ／分なお、支持体１の走行速度は、４００〜１０００ｍ／分
の範囲で変化させ、その条件において良好な塗布が可能
となるように、支持体１のリップ４先端との距離を調整
した。

【００５９】このようにして塗布を行うと、支持体１の
走行速度を１０００ｍ／分まで上げても、何等問題が生
じることなく塗布を行うことが可能であった。また、本
実施例のように、第１の実施の形態に示した塗布装置を
用いると、リップ４先端が支持体１と当接しないため、
支持体１表面を傷付けたり、削ったりすることがなく、
形成された塗膜に塵、異物、支持体１の削れ粉等による
スジが生じることもなかった。

【００６０】比較のために、磁石部３を設けなかった以
外は上述したと同様の条件にて磁性塗料の塗布を行った
ところ、磁性塗料が支持体１にスダレ状に付着し、良好
な塗膜を形成することはできなかった。

【００６１】また、本実施例にて塗布した磁性塗料の代
わりに、オーディオテープの磁性層形成用の磁性塗料
（酸化鉄系磁性粉末を使用）を用い、その他の条件は本
実施例と同様として塗布を行ったところ、本実施例と同
様、支持体１の走行速度を１０００ｍ／分まで上げて
も、何等問題が生じることなく塗布を行うことが可能で
あった。

【００６２】さらに、支持体１の厚さを１２〜１４．５
μｍの範囲で変更しても、磁性塗料の乾燥後の塗布厚を
２〜４μｍの範囲で変更しても、ダイ２の先端にてスリ
ット５を構成する両リップ７，８を非磁性材料に変更し
ても、スリット５の間隔を０．２６μｍに変更しても、
本実施例と同様、支持体１の走行速度が１０００ｍ／分
なる高速となるまで良好な塗布を行うことができた。

【００６３】これより、支持体１を挟みリップ４と反対
側に磁気ギャップ１５を有する磁石部３が設けられた塗
布装置を用いて磁性塗料の塗布を行うと、オーバーフロ
ーや欠けスジのない良好な塗膜を高速形成できることが
わかった。

【００６４】実施例２ここでは、支持体１の幅および磁性塗料の塗布幅、磁性
塗料の種類等を実施例１とは異ならせて、磁性塗料の塗
布を行った。

【００６５】具体的には、図１、図２に示されるような
塗布装置を用い、下記の条件にて、走行する支持体１に
対して磁性塗料を塗布した。

【００６６】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：７００ｍｍ塗布幅：６００ｍｍスリット５の隙間：０．２６ｍｍ＜磁石部＞実施例１と同様の構成＜塗料＞種類：８ｍｍビデオテープの磁性層形成用
（メタル磁性粉末を使用）塗布厚：１．５〜２μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：６２０ｍｍ厚さ：８〜１２μｍ材料：ポリエチレンテレフタレートそして、この条件において良好な塗布が可能となるよう
に、支持体１の走行速度を調整したところ、３５０ｍ／
分においても何等問題が生じることなく塗布を行うこと
が可能であった。

【００６７】これより、第１の実施の形態に係る塗布装
置は、磁性塗料の塗布幅、磁性塗料の種類等が変更させ
ても、非常に薄くても良好な塗膜を高速に形成できるこ
とがわかった。

【００６８】実施例３ここでも、支持体１の幅および磁性塗料の塗布幅、磁性
塗料の種類等を実施例１とは異ならせて、磁性塗料の塗
布を行った。

【００６９】具体的には、図１、図２に示されるような
塗布装置を用い、下記の条件にて、走行する支持体１に
対して磁性塗料を塗布した。

【００７０】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：１３２０ｍｍ塗布幅：１２２０ｍｍリップ４：超硬合金（非磁性材料）スリット５の隙間：０．２６ｍｍ＜磁石部＞実施例１と同様の構成＜塗料＞種類：ＶＨＳビデオテープの磁性層形成用塗布厚：２〜２．７μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：１２４０ｍｍ厚さ：１２〜１４．５μｍ材料：ポリエチレンテレフタレートそして、この条件において良好な塗布が可能となるよう
に、支持体１の走行速度を調整したところ、６００ｍ／
分においても何等問題が生じることなく塗布を行うこと
が可能であった。

【００７１】これより、第１の実施の形態に係る塗布装
置は、磁性塗料の塗布幅、磁性塗料の種類等が変更させ
ても、良好な塗膜を高速に形成できることがわかった。

【００７２】実施例４ここでは、ダイ２および磁石部３の配設位置に対する支
持体１の走行方向を変化させて磁性塗料の塗布を行っ
た。

【００７３】具体的には、図１、図２に示されるような
塗布装置を用い、下記の条件にて、走行する支持体１に
対して磁性塗料を塗布した。

【００７４】塗布装置における設定＜ダイ＞両リップ７，８が非磁性材料よりなる以外は実
施例１と同様の構成＜磁石部＞実施例１と同様の構成＜塗料＞種類は実施例１と同じ塗布厚：２μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅、厚さ、材料は実施例１と同じ走行方向：スリット中心面と支持体の主面とが交
わる線を中心とし該スリット中心面と支持体の主面とが
垂直となる角度を０°として、±３０° 走行速度：２５０〜８００ｍ／分なお、支持体１の走行方向を±３０°以内で変化させ、
また、各条件において支持体１の走行速度も上記範囲で
変化させた。

【００７５】このような設定にて塗布を行った結果を表
１に示す。なお、表１では、良好な塗布が行えた場合を
○、支持体１が両リップ７，８のいずれか、あるいは、
磁石部３の両ヨーク１３，１４のいずれかに接触してし
まう場合を×とする。

【００７６】

【表１】

【００７７】表１より、ダイ２および磁石部３に対し
て、支持体１の走行方向を±２０°以上とすると、ダイ
２あるいは磁石部３のいずれかに接触しまうのに対し、
該支持体１の走行方向を±１５°以内とすると、８００
ｍ／分までの高速塗布が良好に行えることがわかった。
但し、支持体１を±２０°以上の走行方向とすると、ダ
イ２あるいは磁石部３のいずれかに接触するというのは
単なる設計上の問題である。

【００７８】これより、ダイ２および磁石部３に対する
支持体１の走行方向が変化しても、良好な塗膜を高速形
成できることがわかった。

【００７９】実施例５ここでは、支持体１の走行方向、ダイ２および磁石部３
の配設方向を変更して磁性塗料の塗布を行った。

【００８０】具体的には、図１、図２に示されるような
塗布装置を、図３に示されるように、ダイ２におけるス
リット中心面が水平面を基準として４５°傾くように配
設し、下記の条件にて、走行する支持体１に対して磁性
塗料を塗布した。

【００８１】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：１３２０ｍｍ塗布幅：１２２０ｍｍリップ４：超硬合金（非磁性材料）スリット５の隙間：０．２６ｍｍ＜磁石部＞実施例１と同様の構成＜塗料＞種類：オーディオテープの磁性層形成用塗布厚：４〜６μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：１２４０ｍｍ厚さ：８〜１２μｍ材料：ポリエチレンテレフタレートそして、この条件において良好な塗布が可能となるよう
に、支持体１の走行速度を調整したところ、６００ｍ／
分においても何等問題が生じることなく塗布を行うこと
が可能であった。

【００８２】これより、第１の実施の形態に係る塗布装
置は、支持体１の走行方向、ダイ２および磁石部３の配
設方向が４５°傾いても、良好な塗膜を高速に形成でき
ることがわかった。

【００８３】実施例６ここでも、支持体１の走行方向、ダイ２および磁石部３
の配設方向を変更して磁性塗料の塗布を行った。

【００８４】具体的には、図１、図２に示されるような
塗布装置を、実施例６同様、図３に示されるように、ダ
イ２におけるスリット中心面が水平面を基準として４５
°傾くように配設し、下記の条件にて、走行する支持体
１に対して磁性塗料を塗布した。

【００８５】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：１３２０ｍｍ塗布幅：１２２０ｍｍリップ４：超硬合金（非磁性材料）スリット５の隙間：０．２６ｍｍ＜磁石部＞実施例１と同様の構成＜塗料＞種類：８ｍｍビデオテープの磁性層形成用塗布厚：２μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：１２４０ｍｍ厚さ：８〜１２μｍ材料：ポリエチレンテレフタレートそして、この条件において良好な塗布が可能となるよう
に、支持体１の走行速度を調整したところ、３５０ｍ／
分においても何等問題が生じることなく塗布を行うこと
が可能であった。

【００８６】これより、第１の実施の形態に係る塗布装
置は、支持体１の走行方向、ダイ２および磁石部３の配
設方向が傾き、磁性塗料の種類が異なっても、良好な塗
膜を高速に形成できることがわかった。

【００８７】実施例７ここでは、支持体１の走行方向、ダイ２および磁石部３
の配設方向をさらに変更して磁性塗料の塗布を行った。

【００８８】具体的には、具体的には、図１、図２に示
されるような塗布装置を、図４に示されるように、ダイ
２におけるスリット中心面が水平面を基準として９０°
傾くように配設し、下記の条件にて、走行する支持体１
に対して磁性塗料を塗布した。

【００８９】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：７００ｍｍ塗布幅：６００ｍｍリップ４：超硬合金（非磁性材料）スリット５の隙間：０．２６ｍｍ＜磁石部＞実施例１と同様の構成＜塗料＞種類：ＶＨＳビデオテープの磁性層形成用塗布厚：２μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：６２０ｍｍ厚さ：１２〜１４．５μｍ材料：ポリエチレンテレフタレートそして、この条件において良好な塗布が可能となるよう
に、支持体１の走行速度を調整したところ、６００ｍ／
分においても何等問題が生じることなく塗布を行うこと
が可能であった。

【００９０】これより、第１の実施の形態に係る塗布装
置は、支持体１の走行方向、ダイ２および磁石部３の配
設方向が９０°傾いても、良好な塗膜を高速に形成でき
ることがわかった。

【００９１】実施例８本実施例では、第２の実施の形態にて示された塗布装置
の塗布性能を調べるために、塗布装置における種々の設
定を行って磁性塗料の塗布を行った。

【００９２】具体的には、図５、図６に示されるような
塗布装置を用い、下記の条件にて、走行する支持体１に
対して磁性塗料を塗布した。

【００９３】塗布装置における設定＜ダイ＞全幅：１６０ｍｍ塗布幅：１１０ｍｍリップ２４：超硬合金（磁性材料）上リップ２７の肉厚５ｍｍ下リップ２８の肉厚３ｍｍスリット５の隙間：０．３ｍｍ＜磁石部＞全幅：１５０ｍｍ永久磁石１１：ネオジューム合金磁石リップ２４近傍に５００〜４０００ガウスの磁力発生ヨーク１２：Ｓ１０Ｃ（高透磁率材料）磁気ギャップ１５の大きさ：１ｍｍヨーク１２先端とリップ２４先端との隙間ｄ：０．２
〜３ｍｍスリット５に対する磁気ギャップ１５の高さ位置ｈ：
±１．０ｍｍ＜塗料＞種類：ＶＨＳビデオテープの磁性層形成用塗布厚：２〜３μｍ（乾燥後）＜支持体＞幅：１２５ｍｍ厚さ：１４μｍ材料：ポリエチレンテレフタレート張力：支持体全幅で３〜４ｋｇｆ走行速度：４００〜６００ｍ／分なお、リップ２４近傍に発生させる磁力は、５００〜４
０００ガウスの範囲で変化させた。また、その磁力にお
いて良好な塗布（オーバーフローや欠けスジがない状
態）が可能となるように、支持体１の抱き量の他、ヨー
ク１２とリップ２４との隙間ｄ、スリット５に対する磁
気ギャップ１５の高さ位置ｈ、支持体１の走行速度も調
整した。

【００９４】このようにして、磁力を変化させながら磁
性塗料の塗布を行ったとき、良好な塗布が可能となる最
高塗布速度を調べたところ、表２に示されるような結果
となった。なお、表２には、最高塗布速度を達成できる
ヨーク１２先端とリップ２４先端との隙間ｄ、スリット
５に対する磁気ギャップ１５の高さ位置ｈの範囲を併せ
て示す。また、比較のために、磁石部３を設けなかった
以外は上述したと同様の設定の塗布装置を用いた場合の
最高塗布速度も併せて示す。

【００９５】

【表２】

【００９６】表２より、ダイ２２に対向させて磁石部２
３を配設することにより、最高塗布速度を上げることが
できること、リップ２４近傍に発生させる磁力を大きく
するほど、ヨーク１２先端とリップ２４先端との隙間ｄ
やスリット５に対する磁気ギャップ１５の高さ位置ｈの
設定をラフとしても、最高塗布速度を速くすることがで
きることがわかる。但し、磁力を３０００ガウス以上と
しても、それ以上最高塗布速度を上がっていないことも
わかる。

【００９７】これより、３０００ガウス以上の磁力をリ
ップ２４近傍に発生させ、ヨーク１２先端とリップ２４
先端との隙間ｄを０．２〜３．０ｍｍ、スリット５に対
する磁気ギャップ１５の高さ位置ｈを±１．０ｍｍとす
ると、磁性塗料を高速塗布できることがわかる。

【００９８】また、ここでは、リップ２４を磁性材料よ
り構成したが、比較のためリップ２４を非磁性材料より
構成して、同様に磁性塗料の塗布を行った。具体的に
は、リップ２４近傍に３０００ガウスの磁力を発生させ
て磁性塗料を塗布し、このときの最高塗布速度を調べ
た。

【００９９】この結果、リップ２４が磁性材料よりなる
場合には、表２にも示されるように、最高塗布速度が６
００ｍ／分であったのに対し、リップ２４を非磁性材料
より構成した場合には、最高塗布速度が５００ｍ／分と
なった。

【０１００】これより、第２の実施の形態に示されるよ
うな、ダイ２２先端にてスリット５を構成するリップ２
４が支持体１に当接するごとく配設された塗布装置にお
いては、リップ２４を磁性材料より構成することが好ま
しく、これにより、磁石部３からの磁気フラックスを集
中させることができ、磁性塗料の動きを良好に保持でき
るようになることがわかる。

【０１０１】以上、本発明に係る塗布装置について説明
したが、本発明の塗布装置は、上述した実施の形態に示
される構成に限定されるものではなく、また、上述した
実施例に示される条件に限定されるものではなく、種々
の変形変更が可能である。

【０１０２】例えば、上述の実施例では磁石部３におけ
る永久磁石１１としてネオジューム合金磁石を用いた
が、所望の磁力を有するものであれば、他の材料よりな
るものを用いてもよく、また、永久磁石１１の代わりに
電磁石を用いてもよい。また、磁石部３におけるヨーク
１２の形状も、磁石部３の先端同士が隣接し、両先端間
に所望の大きさの磁気ギャップ１５が構成できれば、必
ずしも下ヨーク１４を屈曲させずともよい。

【０１０３】さらに、ダイ２においても、リップ４をＳ
１０Ｃなる磁性材料より構成したが、他の磁性材料であ
ってもよいし、リップ４のみならずダイ２全体を磁性材
料より構成してもよい。

【０１０４】また、第１の実施の形態に示されるよう
な、リップ２４が支持体１に非接触に配設される塗布装
置においては、実施例５，６，７にて、ダイ２および磁
石部３の配設方向を４５°、９０°に傾けた場合につい
て説明したが、３６０°いずれの角度に傾けてもよい。
さらに、第２の実施の形態に示されるような、リップ２
４が支持体１に当接される塗布装置においても、ダイ２
および磁石部３の配設方向を任意に変更することができ
る。

【０１０５】その他、支持体１に塗布される塗料６の種
類や、適用される分野等も限定されない。

【０１０６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る塗布装置においては、磁石部の磁気ギャップに
よって絞り込まれた磁気フラックスによって、支持体上
に供給される塗料の動きを保持することができる。この
ため、本発明に係る塗布装置を用いると、高速塗布およ
び薄膜塗布を行う場合にも、異常な塗料挙動の発生を防
止でき、安定した塗布を行うことができる。

【０１０７】したがって、本発明を適用することによっ
て、良好な塗膜を生産性よく形成することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る塗布装置の一構成例を示す模式的
断面図である。

【図２】本発明に係る塗布装置の一構成例を示す要部斜
視図である。

【図３】図１の塗布装置を、支持体の走行方向、ダイお
よび磁石部の配設方向が４５°傾くように配設した状態
を示す模式的断面図である。

【図４】図１の塗布装置を、支持体の走行方向、ダイお
よび磁石部の配設方向が９０°傾くように配設した状態
を示す模式的断面図である。

【図５】本発明に係る塗布装置の他の構成例を示す模式
的断面図である。

【図６】本発明に係る塗布装置の他の構成例を示す要部
斜視図である。

【符号の説明】

１支持体２ダイ３磁石部４リップ５スリット６塗料７上リップ８下リップ９ポケット１１永久磁石１２ヨーク１３上ヨーク１４下ヨーク１５磁気ギャップ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】塗料が供給される塗料溜りを有してなる
ダイを備え、連続的に走行する支持体上に前記ダイ先端
に設けられたスリットより塗料を押し出しながら塗布す
るエクストルージョン型の塗布装置において、先端同士が隣接して磁気ギャップが構成されてなる磁石
部が、前記支持体を挟み前記ダイと反対側に、該磁気ギ
ャップが前記ダイ先端に対向するように配設されている
とともに、前記ダイ先端にて前記スリットを構成する上リップおよ
び下リップが、それぞれ前記支持体に非接触に配設され
ることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】前記上リップおよび前記下リップがそれ
ぞれ磁性材料より構成されていることを特徴とする請求
項１記載の塗布装置。
【請求項３】前記磁石部先端と前記ダイ先端との隙間
が、０．２〜３ｍｍとなされることを特徴とする請求項
１記載の塗布装置。
【請求項４】前記磁石部は、前記磁気ギャップの上端
面が、前記スリットの上端面の高さを基準として±１ｍ
ｍなる範囲に位置するように配設されることを特徴とす
る請求項１記載の塗布装置。
【請求項５】前記磁石部は、前記両リップの近傍に５
００〜６０００ガウスの磁力を持たせることを特徴とす
る請求項１記載の塗布装置。
【請求項６】塗料が供給される塗料溜りを有してなる
ダイを備え、連続的に走行する支持体上に前記ダイ先端
に設けられたスリットより塗料を押し出しながら塗布す
るエクストルージョン型の塗布装置において、先端同士が隣接して磁気ギャップが構成されてなる磁石
部が、前記支持体を挟み前記ダイと反対側に、該磁気ギ
ャップが前記ダイ先端に対向するように配設されている
とともに、前記ダイ先端にて前記スリットを構成する上リップおよ
び下リップが、それぞれ磁性材料より構成され、前記支
持体に接触するごとく配設されることを特徴とする塗布
装置。
【請求項７】前記磁石部先端と前記ダイ先端との隙間
が、０．２〜３ｍｍとなされることを特徴とする請求項
６記載の塗布装置。
【請求項８】前記磁石部は、前記磁気ギャップの上端
面が、前記スリットの上端面の高さを基準として±１ｍ
ｍなる範囲に位置するように配設されることを特徴とす
る請求項６記載の塗布装置。
【請求項９】前記磁石部は、前記両リップの近傍に５
００〜６０００ガウスの磁力を持たせることを特徴とす
る請求項６記載の塗布装置。