JPH0940486A - 単結晶の製造方法 - Google Patents
単結晶の製造方法Info
- Publication number
- JPH0940486A JPH0940486A JP19336495A JP19336495A JPH0940486A JP H0940486 A JPH0940486 A JP H0940486A JP 19336495 A JP19336495 A JP 19336495A JP 19336495 A JP19336495 A JP 19336495A JP H0940486 A JPH0940486 A JP H0940486A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- material rod
- single crystal
- seed crystal
- oxygen concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/16—Heating of the molten zone
- C30B13/22—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge
- C30B13/24—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge using electromagnetic waves
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
径化を可能とし、原料棒と種結晶の接合を容易とする。 【解決手段】 フローティングゾーン法により単結晶を
製造する際に、原料棒と種結晶の接合後、単結晶育成方
向において次第に大径とされ、種結晶よりも大径とされ
る肩部を形成し、この上に円筒状の直胴部を形成する。
なお、接合後から肩部形成までの雰囲気ガス中の酸素濃
度Co1 、肩部形成時の酸素濃度Co2 、直胴部形成時
の酸素濃度Co3 がCo1 =Co3 、Co1 <Co2 、
Co3 <Co2 の関係を有することが好ましい。また、
上記のようにして単結晶を製造するに際し、原料棒及び
種結晶を融点近傍における液体の密度が固体の密度より
も小さい材料系により形成し、原料棒と種結晶の接合時
の雰囲気ガス中の酸素濃度を後工程における酸素濃度よ
りも低くする。
Description
れる単結晶の製造方法に関する。詳しくはフローティン
グゾーン法を適用した単結晶の製造方法において、チョ
コラルスキー法において一般的である肩部を形成し、大
径の単結晶を製造することを可能とする単結晶の製造方
法及び原料棒と種結晶の接合時の酸素濃度を低くし、こ
れらの接合を容易とする単結晶の製造方法に係るもので
ある。
イヤ等の単結晶材料は電子材料やその他の材料として多
用されており、その製造技術は各種産業分野において重
要なものとなっている。
法,固相法,気相法が挙げられるが、例えば融液法を適
用した単結晶の製造方法としては主にチョコラルスキー
法(以下、Cz法と称する。)、フローティングゾーン
法(以下、Fz法と称する。)が挙げられる。
接触させ、種結晶或いは種結晶とるつぼの両方を回転さ
せながら単結晶を引き上げる方法である。上記Cz法は
メルトと単結晶が融けた場合の組成が同一である一致溶
融化合物を対象にした材料の単結晶の製造に使用されて
いる。また、上記Cz法は、製造装置の制御が容易であ
り、大径の単結晶の製造が可能であることから、量産性
が良好である。
の欠陥の混入を防ぐために、種結晶を融液に接触させた
後、比較的小径のネッキング部と称される部分を製造
し、単結晶育成方向において次第に大径とされ、種結晶
よりも大径とされる肩部と称される部分を形成し、続い
て円筒状の直胴部と称される部分を形成するようにして
単結晶を製造している。
ぼを使用するため、るつぼ材の融点、材料の融点、双方
の反応性を考慮する必要があり、使用可能な材料が限定
されるという欠点がある。また、上記Cz法は、一方向
の凝固法であるため、組成ずれが生じない系で上述のよ
うにメルトと結晶が融けた場合の組成が同一である一致
溶融化合物の材料の単結晶の製造にしか適用できず、こ
のことからも使用可能な材料が限定される。さらに、上
記Cz法においては、メルトの蒸散による組成ずれを避
けるために低蒸気圧の材料の単結晶の製造にしか適用で
きず、このことからも使用可能な材料が限定される。
保持し、その一部を加熱溶融して溶融帯を形成し、これ
を一端側から他端側へと移動して順次単結晶化する方法
である。上記Fz法は、主に高融点材料或いは分解溶融
化合物の結晶の製造に使用されている。
るつぼ材による汚染がなく、加熱するヒーター材が限定
されないことから、育成可能な温度領域を広くすること
が可能である。また、上記Fz法においては、原料棒同
士からでも単結晶の製造が可能である上、少量の原料粉
からでも単結晶の製造が可能であることから材料探査等
に適している。さらに、上記Fz法においては、一致溶
融化合物だけでなく分解溶融化合物の単結晶の製造も可
能であり、使用可能な材料が比較的限定されない。さら
にまた、上記Fz法を適用した製造装置は閉じた装置系
となり、単結晶の製造を閉じた系の中で行うこととなる
ため、雰囲気の制御が容易である。
径の単結晶の製造が困難であり、単結晶の大型化に対応
が困難であるといった不都合を有している。
おいて大型の単結晶の製造が困難であるのは、以下のよ
うな理由による。
に移動させて順次単結晶化するものであるため、原料棒
から送り込んだ分だけ単結晶が晶出され単結晶が育成さ
れる。従って、単結晶を大径化するには、原料棒の送り
込み速度を単結晶の育成速度よりも相対的に速くする方
法が用いられる。
は溶融帯自体の表面張力と重力のバランスにより保持さ
れており、表面張力が小さく、密度も大きい材料系にお
いては溶融帯を保持することが難しい。
において、上記のような方法で単結晶の大径化を行おう
とすると、溶融帯を保持することが困難で、溶融帯の垂
れが生じ、単結晶の大径化は困難である。
単結晶を育成するのが一般的であり、種結晶と原料棒を
溶融部を介して接合し、上記溶融部を最初の溶融帯とし
て上記のような方法で単結晶の製造を行う。このとき、
前述のように上記種結晶及び原料棒が高融点材料である
ことから、加熱手段として使用される例えば赤外線ラン
プとしては高出力のものを使用することが望ましい。
常、ランニングコストの安価なハロゲンランプが使用さ
れており、大出力のハロゲンランプにおいてはランプの
フィラメントが大きくなる傾向があり、その分、集光が
ブロードになり、集光部の加熱により形成される溶融帯
が大きくなってしまう。すなわち、溶融帯の垂れが発生
する可能性も高くなり、単結晶の大径化が困難となって
しまう。
うためには、ランプとしてできるだけ小出力のものを使
用し、集光度を高めることが好ましく、上記のような種
結晶と原料棒の溶融部を介した接合は困難である。
されたものであり、Fz法における単結晶の大径化を可
能とする単結晶の製造方法及び原料棒と種結晶の接合を
容易とする単結晶の製造方法を提供することを目的とす
る。
めに本発明者等が鋭意検討した結果、Fz法においても
Cz法において単結晶への欠陥の混入を防止するべく実
施されている肩部及び直胴部の形成を行えば、最終的に
は種結晶よりも大径となる肩部の上にそのままの径を有
する直胴部が形成されることから、単結晶の大径化が可
能であることを見い出した。そして、このようにして単
結晶を製造すれば、Fz法の利点を生かした良質な単結
晶が製造される。
eeded Solution Growth)法等に
おける融液成長及び溶液成長の酸化物の単結晶育成で
は、固体を融かして(溶かして)から種結晶を用いて融
液(溶液)の温度を下げながら単結晶を晶出させて単結
晶を育成している。
えば木村茂行により、融液成長による単結晶育成におい
て融液の物性が単結晶育成の制御の重要な因子となって
いることが指摘されている。(結晶成長国内会議 特別
講演 1992年 7月) すなわち、融液の結晶成長においては、融液の粘性及び
表面張力を下げることが、融液を均一に攪拌できること
につながり、液体である融液から固体である結晶に均一
に物質を供給することを可能とするので望ましいとされ
ている。
則正しく並んで結合した固体とは異なり、原子はより自
由度をもっていると考えられるが、液体表面では酸素原
子を介して他の原子と架橋(ダングルボンド)を形成し
ており、この架橋の結合の力が表面張力に反映している
と考えられる。すなわち、酸素原子を介した架橋の力が
大きいほど、表面張力は大きいことになる。
における銅酸化物単結晶育成.日本結晶成長学会紙,v
ol.21(1994) No.3 113に示される
ように、酸素の少ない雰囲気、還元雰囲気ほど、この酸
素原子による架橋を断ち切ることが可能となり、表面張
力を下げることが可能となる。言い換えれば、融液の結
晶成長においては雰囲気中の酸素濃度を変化させること
により融液の表面張力を変化させることが可能となると
言える。
果、Fz法においても、雰囲気ガス中の酸素濃度を変化
させることにより溶融帯の表面張力を変化させることが
可能で、酸素濃度を高くすることにより溶融帯の表面張
力を高めれば、溶融帯の垂れが起こり難くなることから
上述のような肩部が容易に形成されることを見い出し
た。
法と比較して非常に少ないことから表面張力を上げるこ
とにより攪拌効果が弱くなっても不都合は生じないこと
も見い出した。
囲気ガス中の酸素濃度、言い換えれば雰囲気ガス中の酸
素分圧が原料棒及び種結晶の融点を左右することを見い
出した。すなわち、相平衡の熱力学によるClausi
us−Claperonの式によれば、液相と固相が共
存する系において、圧力をp、温度をT、潜熱をL、液
体の体積をVL 、固体の体積をVS とすると、これらの
関係は下記式1のように表される。
し、液体の体積が固体の体積よりも大きい材料系を使用
している場合、言い換えれば固体よりも液体の密度が小
さい場合、すなわち(VL −VS )>0であると、dT
<0となり、この材料系においては酸素分圧を下げると
融点が下がることがわかる。また、逆に酸素分圧を上げ
ると融点が上がることになる。水と氷の場合は逆となる
が、多くの系においては融点近傍では固体よりも液体の
方が密度が小さく、上記のように雰囲気ガス中の酸素分
圧を低くすると融点が下がる。
おいて原料棒及び/又は種結晶の先端部に溶融部を形成
し、原料棒と種結晶を接合してこれらの間に溶融帯を形
成し、この溶融帯を回転させながら前記原料棒内におい
て相対的に移動させることにより順次単結晶化してFz
法により単結晶を製造するに際し、原料棒と種結晶の接
合後、単結晶育成方向において次第に大径とされ、種結
晶よりも大径とされる肩部を形成し、続いて円筒状の直
胴部を形成することを特徴とするものである。
から肩部形成までの雰囲気ガス中の酸素濃度をCo1 と
し、肩部形成時の雰囲気ガス中の酸素濃度をCo2 と
し、直胴部形成時の雰囲気ガス中の酸素濃度をCo3 と
した場合に、これらがCo1 =Co3 、Co1 ≦Co
2 、Co3 ≦Co2 の関係を有することが好ましく、肩
部形成時の酸素濃度を高めることにより溶融帯の垂れが
起こり難くなることから容易に肩部が形成されることと
なる。
o2 ,Co3 が、1≦Co1 /Co2 ≦12.5、1≦
Co3 /Co2 ≦12.5の関係を有することが好まし
い。なお、上記のような酸素濃度の比が1未満である
と、肩部形成時の溶融帯の表面張力を高める効果が弱
く、上記のような酸素濃度の比が12.5よりも大であ
ると、肩部形成時の融点が高くなりすぎて単結晶の製造
が困難となる。
り単結晶を製造するに際し、原料棒及び種結晶を融点近
傍における液体の密度が固体の密度よりも小さい材料系
により形成し、原料棒と種結晶の接合時の雰囲気ガス中
の酸素濃度(酸素分圧)を後工程における雰囲気ガス中
の酸素濃度(酸素分圧)よりも低くすることを特徴とす
るものである。
法により単結晶の製造を行うに際し、原料棒及び種結晶
を融点近傍における液体の密度が固体の密度よりも小さ
い材料系により形成し、原料棒と種結晶の接合時の雰囲
気ガス中の酸素濃度を後工程における雰囲気ガス中の酸
素濃度よりも低くするとともに、原料棒と種結晶の接合
後、単結晶育成方向において次第に大径とされ、種結晶
よりも大径とされる肩部を形成し、続いて円筒状の直胴
部を形成するようにしても良い。
z法により単結晶の製造を行うに際し、最終的には種結
晶よりも大径となる肩部を形成し、この上に直胴部を形
成することから、単結晶の大径化がなされる。そして、
このようにして単結晶を製造すれば、Fz法の利点を生
かした良質な単結晶が製造される。
の雰囲気ガス中の酸素濃度を高めれば、溶融帯の表面張
力が高くなり、溶融帯の垂れが起こり難くなり、肩部が
容易に形成される。
は、Fz法により単結晶を製造するに際し、原料棒及び
種結晶を融点近傍における液体の密度が固体の密度より
も小さい材料系により形成し、原料棒と種結晶の接合時
の雰囲気ガス中の酸素濃度(酸素分圧)を後工程におけ
る雰囲気ガス中の酸素濃度(酸素分圧)よりも低くして
いるため、原料棒と種結晶の接合時のこれらの融点が低
くなり、これらの接合が容易となる。
態について述べる。先ず、本発明の単結晶の製造方法に
より単結晶の製造を行うのに使用する単結晶製造装置に
ついて述べる。
に、赤外線集光加熱型育成炉2内に配される原料棒1a
と例えば種結晶1bが接する部分に、上記赤外線集光加
熱型育成炉2内に配される赤外線ランプ3,4の赤外線
を集光照射して溶融帯1cを形成し、上記原料棒1aを
所定の速さで図中下方に送り出す上部シャフト5と上記
種結晶1bを所定の速さで図中下方に引き下げる下部シ
ャフト6により原料棒1a及び種結晶1bを移動させる
ことにより溶融帯1cを原料棒1aの図中上方に相対的
に移動させて、溶融帯1c下端部を順次単結晶化して連
続的に単結晶を製造するものである。なお、上記単結晶
製造装置においては、種結晶1bの代わりに原料棒を用
いても良い。
一端部を切り欠いた略楕円形の断面の空洞部7a,7b
をそれぞれ有する炉体2a,2bが、上記空洞部7a,
7bを対向させるようにして突き合わされたものであ
る。そして、上記赤外線集光加熱型育成炉2内には、断
面が、2個の楕円の一方の焦点同士を重ねた形状、いわ
ゆる双楕円形の空洞部7が形成され、上記空洞部7の中
心は双楕円形の重ねた焦点となる。このとき、炉体2
a,2bの空洞部7a,7bの壁面が反射鏡となされて
いるため、空洞部7の壁面は双楕円面鏡となる。
その中央を貫通するように図中上下方向に延在する石英
管8が設けられており、該石英管8内の図中上下方向に
は雰囲気ガス流入口9と雰囲気ガス排気口10が設けら
れている。そして、雰囲気ガスの充填された石英管8内
において、原料棒1aは上部シャフト5、種結晶1bは
下部シャフト6により保持され、双楕円形の空洞部7の
中心、すなわち重ねた焦点上にこれらの接する部分が位
置するように配されている。
11が接続され、原料棒1aを回転させながら図中下方
に送り出すことが可能とされており、下部シャフト6に
も駆動装置12が接続されて、種結晶1bを回転させな
がら図中下方に引き下げることが可能なようになされて
いる。
ない例えば白金線のフックが設けられて原料棒1aを保
持できるようになされ、下部シャフト6の先端部は図示
しない例えばアルミナのチューブで芯出しされて種結晶
1bを固定できるようになされているが、上部シャフト
5の先端部も同様の構成としても構わない。
炉体2a,2bの空洞部7a,7bの他方の焦点、すな
わち双楕円形の空洞部7の焦点にそれぞれ位置するよう
に一対の赤外線ランプ3,4が配されている。
する一対の赤外線ランプ3,4から照射される赤外線
は、空洞部7壁面の双楕円面鏡により反射されて、原料
棒1aと種結晶1bの接する部分にあたる空洞部7の重
ねた焦点に位置する部分に必ず集光され、この部分が加
熱されて溶融帯1cとなる。なお、上記単結晶製造装置
においては、赤外線ランプ3,4として、ハロゲンラン
プを使用しているが、キセノンランプの使用も可能であ
る。
炉体2a,2bを図中左右方向に移動させて開閉扉とし
て炉の開閉を可能とし、この開閉部から原料棒の取り付
け,取り外し、単結晶の取り出しを可能としている。
外線集光加熱型育成炉2内部を観察できるように、該赤
外線集光加熱型育成炉2に図示しない観察用の窓が設け
られており、さらにこの観察用の窓に向けてレンズ1
3,フィルター14を介してビデオカメラ15が設けら
れている。
の単結晶製造方法に従って単結晶の製造を行う場合に
は、先ず、所定の雰囲気ガスの充填された石英管8内に
おいて、上部シャフト5に原料棒を保持させるととも
に、下部シャフト6に種結晶を保持させる。
保持された原料棒及び種結晶を逆方向に回転させ、例え
ば上部シャフト5に保持される原料棒の先端部に、一対
の赤外線ランプ3,4の赤外線を空洞部7の双楕円面鏡
により反射させて集光して照射し、上記先端部を加熱し
て溶融させ、メルトを形成する。
棒と下部シャフト6に保持される種結晶をメルトを介し
て接合させる。
o1 の雰囲気ガスを充填し、この中で上記メルトを最初
の溶融帯とし、上部シャフト5及び下部シャフト6によ
り上記接合された原料棒と種結晶を所定の速さで逆方向
に回転させながら図中下方に引き下げて移動させること
により上記溶融帯1cを上部シャフト5側の原料棒1a
の図中上方に相対的に移動させ、溶融帯1cの下端部を
順次単結晶化する。
定の酸素濃度Co2 の雰囲気ガスに変える。このとき、
上記酸素濃度Co1 ,Co2 間には、Co1 ≦Co2 の
関係が成り立ち、1≦Co1 /Co2 ≦12.5である
ことが好ましく、1≦Co1/Co2 ≦7.5であるこ
とがより好ましい。
ると、溶融帯1cの表面張力が高まり溶融帯1cの垂れ
が起こり難くなることから、原料棒の送り込み速度を徐
々に速くし結晶径を徐々に大径とすることが可能であ
り、単結晶育成方向において次第に大径とされ、最終的
には種結晶よりも大径とされる肩部を形成することが可
能である。
度を上げると、融点が高くなるため、溶融帯1cが固化
してくる可能性がある。そこで、上記のように酸素濃度
を上げる際には、赤外線ランプ3,4の出力も上げて溶
融帯の固化を防止するようにすることが好ましい。
o2 の比、Co1 /Co2 が1未満であると、肩部形成
時の溶融帯の表面張力を高める効果が弱く、上記のよう
な酸素濃度の比が12.5よりも大であると、肩部形成
時の融点が高くなりすぎて単結晶の製造が困難となる。
工程においては、原料棒1aの送り込み速度を遅くし、
径の細い単結晶を製造し、いわゆるネッキング部を形成
することが好ましく、上記のようなネッキング部を形成
した方が肩部の形成が容易となる。
料棒1aとしては、小径の原料棒と大径の原料棒が徐々
に大径となされる原料棒構成材料よりなる接続部を介し
て接続される原料棒を使用することが好ましく、小径の
原料棒により上記ネッキング部を形成し、接続部により
肩部を形成するようにすれば、上記のようなネッキング
部及び肩部の形成が容易となる。
素濃度を徐々に下げ、所定の酸素濃度Co2 まで下げる
とともに赤外線ランプ3,4の出力も徐々に下げ、上記
肩部の上に肩部の最上部と同等の直径の直胴部を形成す
る。このとき、上記酸素濃度Co2 ,Co3 間には、C
o3 ≦Co2 の関係が成り立ち、1≦Co3 /Co2≦
12.5であることが好ましく、1≦Co3 /Co2 ≦
7.5であることがより好ましい。
o3 の比、Co3 /Co2 が1未満であると、肩部形成
時の溶融帯の表面張力を高める効果が弱く、上記のよう
な酸素濃度の比が12.5よりも大であると、肩部形成
時の融点が高くなりすぎて単結晶の製造が困難となる。
には上部シャフト5側の原料棒略全体を単結晶化すれ
ば、種結晶よりも大径となる肩部の上にこれと同径の直
胴部が形成されることから大型の単結晶が製造され、単
結晶の大型化がなされる。また、このようにして単結晶
を製造すればFz法の利点を生かした良質な単結晶が製
造される。
の製造方法に従って単結晶を製造する際に、原料棒及び
種結晶を融点近傍における液体の密度が固体の密度より
も小さい材料系により形成し、原料棒と種結晶の接合時
の雰囲気ガス中の酸素濃度(酸素分圧)を後工程におけ
る雰囲気ガス中の酸素濃度(酸素分圧)よりも低くすれ
ば、原料棒と種結晶の接合時のこれらの融点が低くな
り、これらの接合が容易となる。また、上記のように接
合時の融点を低くすれば、加熱手段である赤外線ランプ
としてさほど高出力のものを必要とせず、集光度の高い
ものを使用できることから、単結晶の大径化の点におい
ても好ましい。
る際に酸素濃度を低くし、その後工程ではそれ以上とす
る場合には、酸素濃度を上げると融点が高くなることか
ら酸素濃度を上げた直後において溶融帯が安定するまで
原料棒及び種結晶の回転方向を同方向とした方が良い。
結果に基づいて説明する。なお、ここでは、YVO4 単
結晶を製造する例について述べる。
イットリウム試薬(Y2 O3 )の灼熱減量を空気中で1
000℃×10時間で加熱処理して求め、純度4Nの酸
化バナジウム試薬(V2 O5 )の灼熱減量を空気中で5
00℃×10時間で加熱処理して求めた。そして、上記
Y2 O3 及びV2 O5 を1:1のモル比となるように秤
量した。
用いて湿式混合して乾燥させて原料粉を作製した。そし
て、上記原料粉を直径が5〜8mm程度の袋状の生ゴム
(ラバーチューブ)内に充填し、これに静水圧3kg/
cm2 の圧力をかけて成形して原料棒とした。次に、こ
の原料棒を空気中で1300℃で6〜10時間程度焼成
し、原料棒サンプル1とした。得られた原料棒サンプル
1は、直径が約5mm程度で長さは50〜100mm程
度であった。
の小径部と直径が10mm程度の大径部が長さ5〜10
mmの円錐状の接続部を介して接続された袋状の生ゴム
(ラバーチューブ)内に充填し、これに静水圧3kg/
cm2 の圧力をかけて成形して原料棒とした。次に、こ
の原料棒を空気中で1300℃で6〜10時間程度焼成
し、原料棒サンプル2とした。得られた原料棒サンプル
2は、小径部の直径が約5mm程度で大径部の直径が8
〜9mm程度で、長さが100mm程度であった。
及び種結晶の融点の関係を調査した。すなわち、本実験
例においては、雰囲気ガス中の酸素濃度を変化させ、そ
れぞれの条件下で原料棒を赤外線ランプにより加熱し、
原料棒が融け出す際の赤外線ランプの出力を調査し、雰
囲気ガス中の酸素濃度と赤外線ランプの出力の関係を調
査した。
プとして100V−1.5kWのランプを使用すること
とし、種結晶として〈001〉方位のYVO4 単結晶の
3〜4mm角で長さ20〜30mmのものを使用し、原
料棒として上記原料棒サンプル1のうちの長さ50mm
程度のものを使用した。
のと3.5kWのものを用意し、これらの15V〜20
Vの電圧に相当する出力の時の集光領域を紙にあぶりだ
して確認したところ、1.5kWのものは直径5mmの
領域で集光され、3.5kWのものは直径10mmの領
域で集光された。集光領域が10mmではメルトの垂れ
が生じる可能性が高いことから集光領域が5mmの1.
5kWのものを使用することとした。
シャフトにフックにより保持させ、種結晶を下部シャフ
トにアルミナよりなるチューブで芯出しして保持させ
た。次に、前述の構成の単結晶製造装置の石英管内に所
定の雰囲気ガスを充填させた。
排気装置が設けられていないことから、石英管内の空気
を完全に排気して所定の雰囲気ガスに置換することは不
可能である。そこで、雰囲気ガス流入口と雰囲気ガス流
出口を通じて所定の雰囲気ガスを終夜流通させることに
より、置換を行い、充填させることとした。
2.5リットルと酸素ガスを毎分0〜0.6リットルの
範囲で変化させた酸素濃度0〜20%のガスを使用し
た。このとき、石英管内は十分に時間をかけて雰囲気ガ
スにより置換されているため、上記のように流量の割合
で酸素濃度を表すものとした。
速度で回転させ、上記種結晶を6rpmの回転速度で反
対方向に回転させ、原料棒の先端に上記赤外線ランプの
光を照射した。
行うものとし、1つのプログラム計で2つの赤外線ラン
プの出力制御を行うものとした。そして、赤外線ランプ
の出力を原料棒が融け始めると思われる電圧近傍までプ
ログラムを使用して自動的に上げ、次に原料棒が融け始
めるまで手動で上げていくこととし、このときの赤外線
ランプの出力を調査するとともに溶融帯の固液界面の幅
が4mmになったときの赤外線ランプの出力も調査し
た。酸素濃度と赤外線ランプの出力の関係を表1に示
し、原料棒が融け始めた時(融点)の赤外線ランプの出
力をPw1 、固液界面の幅が4mmになったときの赤外
線ランプの出力をPw2 として示す。また、酸素濃度と
赤外線ランプの出力Pw2 の関係は図2にも示す。
素濃度が低いほど、原料棒が溶融するとき、溶融帯の固
液界面の幅が4mmになったときの赤外線ランプの出力
が小さいことがわかる。
おける温度の関係を図3に示す。図3から赤外線ランプ
の出力が大きいほど集光部の温度が高くなることがわか
る。
の酸素濃度を低くすると原料棒の融点が低くなることが
確認され、原料棒と種結晶の接合時の雰囲気ガス中の酸
素濃度を低くすれば、これらの接合が容易となることも
わかった。さらには、接合時の雰囲気ガス中の酸素濃度
を低くすることで、このときの赤外線ランプの出力を小
さく抑えることが可能であることから、赤外線ランプと
してさほど出力の大きなものは必要なく、単結晶の大径
化の点からも好ましいことがわかった。
先ず、前述の構成の単結晶製造装置の石英管内に前述の
直径5mm程度の小径部の長さが5〜10mm程度で直
径8〜9mm程度の大径部の長さが50mm程度の原料
棒サンプル2を上部シャフトの白金線のフックにより保
持し、〈100〉方位のYVO4 単結晶の3〜4mm角
で長さが20〜30mmの種結晶を下部シャフトのアル
ミナのチューブに芯出しして保持した。
リットル近傍で終夜流通させ、石英管内を窒素ガスによ
り置換し、充填した。
転させるとともに種結晶を回転速度6rpmで逆方向に
回転させ、原料棒の先端部に赤外線ランプの光を集光照
射した。なお、上記赤外線ランプとしては100V−
1.5kWの赤外線ランプを使用することとし、ランプ
の出力制御は電圧により行うものとし、1つのプログラ
ム計で2つの赤外線ランプの制御を行うことにした。
ランプの電圧を原料棒が融け始めると思われる出力に対
応する電圧に近い60V(1.3kW)まで2時間程度
かけて自動的に上げて集光部分の温度を昇温させ、次に
手動操作により電圧を上げ、原料棒先端部を溶融させて
メルトを形成し、これを溶融帯として介して原料棒と種
結晶を接合した。このときの電圧は64V(1.4k
W)前後であった。
する際、特願平6−16853号明細書に記載されるよ
うに、原料棒と種結晶の接する部分を、酸素を含み、バ
ナジウムとイットリウムの組成比をV/Yとすると、上
記V/Yが0.8≦V/Y≦1.25である組成を有
し、波長0.4μm以上,1.3μm以下の帯域に吸収
を有する黒色物質としても良い。
6rpmで回転させ、雰囲気ガス中の酸素濃度Co1 を
0.8%とした。このように酸素濃度を上げると、溶融
帯の融点が上がり一部が固化して溶融帯が不安定となる
可能性があるため、上記のように原料棒と種結晶を同方
向に回転させることとした。続いて、上記溶融帯の固液
界面の幅が4mm程度となるまで赤外線ランプの電圧を
上げた。このときの電圧は68〜70V(1.5〜1.
7kW)程度であった。
して回転させ、種結晶を回転速度を6rpmとして反対
方向に回転させながら原料棒を下部シャフト側に送り出
し、溶融帯を原料棒中で相対的に移動させ、溶融帯下端
部を順次単結晶化して単結晶を製造した。ただし、この
とき、単結晶の育成速度を5.0mm/時とし、原料棒
の送り出し速度を3.9mm/時から3.4mm/時ま
で徐々に遅くして単結晶の径を細くし、いわゆるネッキ
ング部を長さ5〜10mm程度に形成した。
を上げながら赤外線ランプの出力も上げて原料棒の送り
出し速度を速め、結晶径を徐々に大径とし、単結晶育成
方向において次第に大径とされ、最終的には種結晶より
も大径とされる肩部を形成した。単に雰囲気ガス中の酸
素濃度を上げると、溶融帯の融点が上がり一部が固化し
て溶融帯が不安定となる可能性があるため、溶融帯の固
液界面の幅を一定に保てるように赤外線ランプの電圧も
上げた。酸素濃度は肩部形成工程の8割程度までかけて
徐々に上昇させるものとし、最終的な酸素濃度Co2 は
10%とした。すなわち、Co1 ≦Co2 であり、Co
1 /Co2 =12.5である。また、原料棒の送り出し
速度は7.5mm/時まで上げた。
溶融帯の固液界面の幅が一定となるようにランプの電圧
を下げながら酸素濃度も除々に下げ、酸素濃度Co3 が
0.8%となるように下げた。そして原料棒の送り込み
速度を7.5mm/時とし、上記肩部の上に肩部の最上
部と同等の直径の直胴部を形成した。このとき、上記酸
素濃度Co2 ,Co3 間には、Co3 ≦Co2 の関係が
成り立ち、Co3 /Co2 =12.5である。得られた
直胴部は直径9mm程度で長さが30〜50mm程度の
ものであった。
o3 を0.8%としているが、これは酸素濃度を比較的
低くして融点を下げるためと、バナジウムの蒸気圧が高
いのでその蒸散を抑えるためである。
おいては、最終的には種結晶よりも大径となる肩部の上
に直胴部を形成することから、単結晶の大径化がなされ
るとともに、Fz法の利点を生かした良質な特性を有す
ることが確認された。
使用して酸素濃度を0.8%の一定に保って単結晶の製
造を行ってみたが、メルトが垂れないような原料棒の送
り出し速度は4mm/時程度であり、肩部の形成は難し
いことが確認された。また、得られた単結晶の直径も4
〜6mm程度であり、単結晶の大型化には対応困難であ
ることも確認された。
棒への赤外線ランプの照射密度が低くなり、メルトの形
成が難しく、赤外線ランプの電圧が80V程度となって
もメルトが形成されず、84Vと高電圧下で突然メルト
が形成されて垂れる等のトラブルが発生した。
に肩部の形成を行う、或いは原料棒と種結晶の接合を行
うのは困難であることが確認された。
めの酸素濃度の範囲についても調査した。その結果、3
%以上、12%以下、好ましくは6%以下であることが
わかった。すなわち、雰囲気ガス中の酸素濃度Co1 ,
Co2 ,Co3が、1≦Co1 /Co2 ≦12.5、1
≦Co3 /Co2 ≦12.5、好ましくは1≦Co1 /
Co2 ≦7.5、1≦Co3 /Co2 ≦7.5であれ
ば、溶融帯の垂れが起こらないことが確認された。
明の単結晶の製造方法においては、Fz法により単結晶
の製造を行うに際し、最終的には種結晶よりも大径とな
る肩部の上にそのまま直胴部を形成することから、単結
晶の大径化がなされる。そして、このようにして単結晶
を製造すれば、Fz法の利点を生かした良質な単結晶が
製造される。
の雰囲気ガス中の酸素濃度を高めれば、溶融帯の表面張
力が高くなり、溶融帯の垂れが起こり難くなり、肩部が
容易に形成される。
は、Fz法により単結晶を製造するに際し、原料棒及び
種結晶を融点近傍における液体の密度が固体の密度より
も小さい材料系により形成し、原料棒と種結晶の接合時
の雰囲気ガス中の酸素濃度を後工程における雰囲気ガス
中の酸素濃度よりも低くしているため、原料棒と種結晶
の接合時のこれらの融点が低くなり、これらの接合が容
易となる。また、上記のように接合時の融点を低くすれ
ば、加熱手段として例えば赤外線ランプ等を使用した場
合においてもさほど高出力のものを必要とせず、結晶の
大径化の点からも好ましい。
図である。
示す特性図である。
係を示す特性図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 所定の雰囲気ガス中において原料棒及び
/又は種結晶の先端部に溶融部を形成し、原料棒と種結
晶を接合してこれらの間に溶融帯を形成し、この溶融帯
を回転させながら前記原料棒内において相対的に移動さ
せることにより順次単結晶化して単結晶を製造する単結
晶の製造方法において、 原料棒と種結晶の接合後、単結晶育成方向において次第
に大径とされ、種結晶よりも大径とされる肩部を形成
し、続いて円筒状の直胴部を形成することを特徴とする
単結晶の製造方法。 - 【請求項2】 原料棒と種結晶の接合後から肩部形成ま
での雰囲気ガス中の酸素濃度をCo1 とし、肩部形成時
の雰囲気ガス中の酸素濃度をCo2 とし、直胴部形成時
の雰囲気ガス中の酸素濃度をCo3 とした場合に、これ
らがCo1 =Co3 、Co1 ≦Co2 、Co3 ≦Co2
の関係を有することを特徴とする請求項1記載の単結晶
の製造方法。 - 【請求項3】 雰囲気ガス中の酸素濃度Co1 ,Co
2 ,Co3 が、1≦Co1 /Co2 ≦12.5、1≦C
o3 /Co2 ≦12.5の関係を有することを特徴とす
る請求項2記載の単結晶の製造方法。 - 【請求項4】 所定の雰囲気ガス中において原料棒及び
/又は種結晶の先端部に溶融部を形成し、原料棒と種結
晶を接合してこれらの間に溶融帯を形成し、この溶融帯
を回転させながら前記原料棒内において相対的に移動さ
せることにより順次単結晶化して単結晶を製造する単結
晶の製造方法において、 原料棒及び種結晶を融点近傍における液体の密度が固体
の密度よりも小さい材料系により形成し、原料棒と種結
晶の接合時の雰囲気ガス中の酸素濃度を後工程における
雰囲気ガス中の酸素濃度よりも低くすることを特徴とす
る単結晶の製造方法。 - 【請求項5】 所定の雰囲気ガス中において原料棒及び
/又は種結晶の先端部に溶融部を形成し、原料棒と種結
晶を接合してこれらの間に溶融帯を形成し、この溶融帯
を回転させながら前記原料棒内において相対的に移動さ
せることにより順次単結晶化して単結晶を製造する単結
晶の製造方法において、 原料棒及び種結晶を融点近傍における液体の密度が固体
の密度よりも小さい材料系により形成し、原料棒と種結
晶の接合時の雰囲気ガス中の酸素濃度を後工程における
雰囲気ガス中の酸素濃度よりも低くするとともに、原料
棒と種結晶の接合後、単結晶育成方向において次第に大
径とされ、種結晶よりも大径とされる肩部を形成し、続
いて円筒状の直胴部を形成することを特徴とする単結晶
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19336495A JP3557734B2 (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | 単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19336495A JP3557734B2 (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | 単結晶の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0940486A true JPH0940486A (ja) | 1997-02-10 |
| JP3557734B2 JP3557734B2 (ja) | 2004-08-25 |
Family
ID=16306691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19336495A Expired - Fee Related JP3557734B2 (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | 単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3557734B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003332657A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-21 | Megaopto Co Ltd | レーザーシステム |
-
1995
- 1995-07-28 JP JP19336495A patent/JP3557734B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003332657A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-21 | Megaopto Co Ltd | レーザーシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3557734B2 (ja) | 2004-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1999063132A1 (en) | Apparatus and method for manufacturing monocrystals, and monocrystal | |
| JP3557734B2 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
| JP3551242B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法及び装置 | |
| JP3106182B2 (ja) | バルク単結晶の製造方法 | |
| JP4682350B2 (ja) | 結晶成長方法およびその装置 | |
| JP2831906B2 (ja) | 単結晶製造装置 | |
| JP2734485B2 (ja) | 単結晶成長装置 | |
| JP2002234795A (ja) | フッ化リチウムカルシウムアルミニウム単結晶及びその製造方法 | |
| JP2000234108A (ja) | 球状の金属チタン及びチタン化合物の製造方法 | |
| JP3078547B1 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
| JP3563780B2 (ja) | 単結晶育成方法 | |
| JPH0474789A (ja) | 半導体単結晶引上方法 | |
| JP2535773B2 (ja) | 酸化物単結晶の製造方法とその装置 | |
| JPH0948697A (ja) | リチウムトリボレート単結晶の製造方法 | |
| JPS63274697A (ja) | 銅酸ランタン単結晶の製造方法 | |
| JPH042700A (ja) | 酸化物結晶細線材の製造方法 | |
| JPH03290390A (ja) | 光学用単結晶の製造方法 | |
| JPS5945990A (ja) | 単結晶の育成方法 | |
| JPH01138192A (ja) | 単結晶の成長方法及びその装置 | |
| JPH0354186A (ja) | 浮遊帯溶融装置 | |
| JPS59217695A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
| JPH0558772A (ja) | 化合物半導体単結晶の製造方法 | |
| JPH07206590A (ja) | 単結晶育成方法 | |
| JPS62191489A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
| JPH01183497A (ja) | チタン酸ストロンチユウム大口径単結晶の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040203 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040402 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040427 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20040510 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090528 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |