JPH0940815A - ポリエチレン系樹脂組成物 - Google Patents
ポリエチレン系樹脂組成物Info
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- JPH0940815A JPH0940815A JP19515195A JP19515195A JPH0940815A JP H0940815 A JPH0940815 A JP H0940815A JP 19515195 A JP19515195 A JP 19515195A JP 19515195 A JP19515195 A JP 19515195A JP H0940815 A JPH0940815 A JP H0940815A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明性に優れ、かつ、成形性および外観も良
好なポリエチレン樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)ポリエチレン系樹脂 50〜99
重量%と(B)ポリエチレン系樹脂を電離性放射線で照
射処理した樹脂1〜50重量%からなる樹脂分100重
量部に対し(C)造核剤、炭酸リチウムおよびエチレン
ーアクリルアミド樹脂からなる群から選ばれた少なくと
も1種を配合する。
好なポリエチレン樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 (A)ポリエチレン系樹脂 50〜99
重量%と(B)ポリエチレン系樹脂を電離性放射線で照
射処理した樹脂1〜50重量%からなる樹脂分100重
量部に対し(C)造核剤、炭酸リチウムおよびエチレン
ーアクリルアミド樹脂からなる群から選ばれた少なくと
も1種を配合する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明性に優れ、か
つ、外観良好なポリエチレン系樹脂組成物に関する。
つ、外観良好なポリエチレン系樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリエチレン系樹脂は、一般に安価であ
り、かつ、機械的強度、耐熱性、表面光沢性、耐薬品
性、耐油性、剛性、耐屈曲疲労性などの特徴を生かし、
射出成形法などで成形され工業分野などに広く用いられ
ている。しかし、ポリエチレン系樹脂は、他の樹脂、例
えばポリプロピレンなどに比較して透明性に劣るという
欠点があり、透明性が要求される用途には制限されるこ
とが多かった。これを改善する方法として、例えばジベ
ンジリデンソルビトール誘導体を添加する方法(特開昭
53−117044号公報、特開昭58−85632号
公報など)、あるいは該ソルビトールと脂肪族アミンを
添加する方法(特開昭58−180542号公報、米国
特許第4,410,649号など)などが提案されてい
る。
り、かつ、機械的強度、耐熱性、表面光沢性、耐薬品
性、耐油性、剛性、耐屈曲疲労性などの特徴を生かし、
射出成形法などで成形され工業分野などに広く用いられ
ている。しかし、ポリエチレン系樹脂は、他の樹脂、例
えばポリプロピレンなどに比較して透明性に劣るという
欠点があり、透明性が要求される用途には制限されるこ
とが多かった。これを改善する方法として、例えばジベ
ンジリデンソルビトール誘導体を添加する方法(特開昭
53−117044号公報、特開昭58−85632号
公報など)、あるいは該ソルビトールと脂肪族アミンを
添加する方法(特開昭58−180542号公報、米国
特許第4,410,649号など)などが提案されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では透明性をある程度改善するものではあるが、依
然とし不十分であり、成形条件によっては成形品のヤ
ケ、コゲの原因となり、外観を著しく損なう場合が多
い。本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、
透明性に優れ、かつ、外観も良好なポリエチレン系樹脂
を提供することを目的とする。
方法では透明性をある程度改善するものではあるが、依
然とし不十分であり、成形条件によっては成形品のヤ
ケ、コゲの原因となり、外観を著しく損なう場合が多
い。本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、
透明性に優れ、かつ、外観も良好なポリエチレン系樹脂
を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を重ねた結果、ポリエチレン系樹脂とポリエチレン系樹
脂に電離性放射線照射処理した樹脂と造核剤またはエチ
レン−アクリルアミド樹脂を配合するすることにより、
上記目的を達成しうることを見出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
を重ねた結果、ポリエチレン系樹脂とポリエチレン系樹
脂に電離性放射線照射処理した樹脂と造核剤またはエチ
レン−アクリルアミド樹脂を配合するすることにより、
上記目的を達成しうることを見出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
【0005】すなわち、本発明は(A)ポリエチレン系
樹脂 50〜99重量%と(B)ポリエチレン系樹脂を
電離性放射線照射した樹脂 1〜50重量%からなる樹
脂分100重量部に対し(C)造核剤、炭酸リチウムお
よびエチレンーアクリルアミド樹脂からなる群から得れ
ばれた少なくとも1種を配合してなるポリエチレン系樹
脂組成物を提供するものである。
樹脂 50〜99重量%と(B)ポリエチレン系樹脂を
電離性放射線照射した樹脂 1〜50重量%からなる樹
脂分100重量部に対し(C)造核剤、炭酸リチウムお
よびエチレンーアクリルアミド樹脂からなる群から得れ
ばれた少なくとも1種を配合してなるポリエチレン系樹
脂組成物を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明における(A)ポリエチレ
ン系樹脂としては、高密度ポリエチレン、中・低密度ポ
リエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、エチレンと炭
素数が3〜20個であるα−オレフィンとの共重合体な
どを挙げることができる。α−オレフィンの具体例とし
ては、プロピレン、1−ブテン、1‐ペンテン、1‐ヘ
キセン、4‐メチルペンテンー1、ビニルシクロペンタ
ン、ビニルシクロヘキサンなどが挙げられる。これらの
α−オレフィンとの共重合割合は、多くとも10重量%
であり、好ましくは6重量%以下である。これらのα‐
オレフィンは1種でもよく2種類以上を混合したものも
使用できる。メルトフロレート(JIS K7210に
準拠し表1、条件4で測定、「以下、MFRという」)
は、通常0.05〜150g/10分であり、0.1〜
100g/10分が好ましい。
ン系樹脂としては、高密度ポリエチレン、中・低密度ポ
リエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、エチレンと炭
素数が3〜20個であるα−オレフィンとの共重合体な
どを挙げることができる。α−オレフィンの具体例とし
ては、プロピレン、1−ブテン、1‐ペンテン、1‐ヘ
キセン、4‐メチルペンテンー1、ビニルシクロペンタ
ン、ビニルシクロヘキサンなどが挙げられる。これらの
α−オレフィンとの共重合割合は、多くとも10重量%
であり、好ましくは6重量%以下である。これらのα‐
オレフィンは1種でもよく2種類以上を混合したものも
使用できる。メルトフロレート(JIS K7210に
準拠し表1、条件4で測定、「以下、MFRという」)
は、通常0.05〜150g/10分であり、0.1〜
100g/10分が好ましい。
【0007】また、本発明における(B)樹脂処理物
は、前記(A)成分のポリエチレン系樹脂を電離性放射
線で照射処理したものである。該ポリエチレン系樹脂の
MFRは通常1〜300g/10分であり、2〜200
g/10分が好ましく、とりわけ3〜100g/10分
が好適である。MFRが1g/10分以下では電離性放
射線を照射したときにMFRの低下および一部ゲル化す
る可能性があり、組成物化しても成形性が悪く成形品の
外観も悪い。300g/10分以上でも特に問題はない
が組成物化しても透明性があまり向上しない場合があ
る。電離性放射線照射処理は、ポリエチレンの粉末もし
くはペレットを真空下、不活性ガス下または空気雰囲気
のいずれの条件でも行うことができるが、不活性ガス下
で行うことが望ましい。電離性放射線としては、X線、
α線、γ線および電子線などが挙げられるが、特に、γ
線および電子線が好ましい。照射線量としては一般に
0.5〜150kGyであり、好ましくは1〜100k
Gy、とりわけ2〜75kGyである。照射線量が15
0kGyを超えると(B)のポリエチレン系樹脂のMF
Rおよび密度にもよるがゲル化する可能性があり、相溶
性の面から不具合が生じるばかりでなく、成形品の表面
に凹凸ができ価値がなくなる。したがってゲル化しない
条件で照射する必要がある。本発明の樹脂分中に占める
(B)成分の組成割合は1〜50重量%であり、好まし
くは2〜45重量%、とりわけ3〜40重量%が好適で
ある。配合割合が1重量%未満では下記で述べる(C)
成分を配合しても透明性の改良の相乗効果は僅かで乏し
い。一方、50重量%を超えてもその効果は飽和状態に
なるばかりでなく、機械的特性が低下するので好ましく
ない。
は、前記(A)成分のポリエチレン系樹脂を電離性放射
線で照射処理したものである。該ポリエチレン系樹脂の
MFRは通常1〜300g/10分であり、2〜200
g/10分が好ましく、とりわけ3〜100g/10分
が好適である。MFRが1g/10分以下では電離性放
射線を照射したときにMFRの低下および一部ゲル化す
る可能性があり、組成物化しても成形性が悪く成形品の
外観も悪い。300g/10分以上でも特に問題はない
が組成物化しても透明性があまり向上しない場合があ
る。電離性放射線照射処理は、ポリエチレンの粉末もし
くはペレットを真空下、不活性ガス下または空気雰囲気
のいずれの条件でも行うことができるが、不活性ガス下
で行うことが望ましい。電離性放射線としては、X線、
α線、γ線および電子線などが挙げられるが、特に、γ
線および電子線が好ましい。照射線量としては一般に
0.5〜150kGyであり、好ましくは1〜100k
Gy、とりわけ2〜75kGyである。照射線量が15
0kGyを超えると(B)のポリエチレン系樹脂のMF
Rおよび密度にもよるがゲル化する可能性があり、相溶
性の面から不具合が生じるばかりでなく、成形品の表面
に凹凸ができ価値がなくなる。したがってゲル化しない
条件で照射する必要がある。本発明の樹脂分中に占める
(B)成分の組成割合は1〜50重量%であり、好まし
くは2〜45重量%、とりわけ3〜40重量%が好適で
ある。配合割合が1重量%未満では下記で述べる(C)
成分を配合しても透明性の改良の相乗効果は僅かで乏し
い。一方、50重量%を超えてもその効果は飽和状態に
なるばかりでなく、機械的特性が低下するので好ましく
ない。
【0008】また、(C)成分の(a)造核剤として
は、カルボン酸の金属塩、ジベンジリデンソルビトール
誘導体、アルカリ金属塩が挙げられるが、特に、リン酸
のアルカリ金属塩を配合することが好ましい。具体的に
は、ナトリウム−2,2−メチレン−ビス(4,6−ジ
−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム−
2,2−エチリデン−ビス(4,6−ジーt−ブチルフ
ェニル)フォスフェート、ナトリウム−2,2−ブチリ
デン−ビス(4,6−ジ−メチルフェニル)フォスフェ
ート、ナトリウム−2,2,−ブチリデン−ビス(4,
6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリ
ウム−2,2−メチレン−ビス(4−メチルー6−t−
ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム−2,2
−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェニ
ル)フォスフェート、ナトリウム(4,4−ジメチル−
5,6−ジ−t−ブチル−2,2−ビフェニル)フォス
フェート、ナトリウム−2,2−エチリデン−ビス−
(4−m−ブチル−6−t−ブチルフェニル)フォスフ
ェート、ナトリウム−2,2−メチレンービス(4,6
−ジ−メチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム−
2,2−メチレンービス−(4,6−ジ−エチルフェニ
ル)フォスフェート、カリウム−2,2−エチリデンー
ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェー
ト、カリウム−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニ
ル)フォスフェート等を挙げることができる。これらの
造核剤は1種または2種以上併用して用いても良い。と
りわけナトリウム−2,2−メチレン−ビス(4,6−
ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム
−2,2−エチリデン−ビス(4,6−ジ−t−ブチル
フェニル)フォスフェート等が好ましい。これらの造核
剤の配合割合は、(A)成分と(B)成分の合計量10
0重量部に対し0.05〜0.7重量部であり、特に
0.07〜0.6重量部が好適である。配合割合が0.
05重量部未満では透明性の改良効果に乏しい。一方、
0.7重量部を超えてもそれ以上の効果は期待できず飽
和状態であり、コストの面からも好ましくない。
は、カルボン酸の金属塩、ジベンジリデンソルビトール
誘導体、アルカリ金属塩が挙げられるが、特に、リン酸
のアルカリ金属塩を配合することが好ましい。具体的に
は、ナトリウム−2,2−メチレン−ビス(4,6−ジ
−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム−
2,2−エチリデン−ビス(4,6−ジーt−ブチルフ
ェニル)フォスフェート、ナトリウム−2,2−ブチリ
デン−ビス(4,6−ジ−メチルフェニル)フォスフェ
ート、ナトリウム−2,2,−ブチリデン−ビス(4,
6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリ
ウム−2,2−メチレン−ビス(4−メチルー6−t−
ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム−2,2
−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェニ
ル)フォスフェート、ナトリウム(4,4−ジメチル−
5,6−ジ−t−ブチル−2,2−ビフェニル)フォス
フェート、ナトリウム−2,2−エチリデン−ビス−
(4−m−ブチル−6−t−ブチルフェニル)フォスフ
ェート、ナトリウム−2,2−メチレンービス(4,6
−ジ−メチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム−
2,2−メチレンービス−(4,6−ジ−エチルフェニ
ル)フォスフェート、カリウム−2,2−エチリデンー
ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェー
ト、カリウム−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニ
ル)フォスフェート等を挙げることができる。これらの
造核剤は1種または2種以上併用して用いても良い。と
りわけナトリウム−2,2−メチレン−ビス(4,6−
ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム
−2,2−エチリデン−ビス(4,6−ジ−t−ブチル
フェニル)フォスフェート等が好ましい。これらの造核
剤の配合割合は、(A)成分と(B)成分の合計量10
0重量部に対し0.05〜0.7重量部であり、特に
0.07〜0.6重量部が好適である。配合割合が0.
05重量部未満では透明性の改良効果に乏しい。一方、
0.7重量部を超えてもそれ以上の効果は期待できず飽
和状態であり、コストの面からも好ましくない。
【0009】また、本発明における(b)炭酸リチウム
は医薬品、陶磁器、ホウロウ原料、耐熱ガラスなどの配
合剤として用いられている白色粉末である。該炭酸リチ
ウムの平均粒径は通常50μm以下であり、好ましくは
20μm以下である。炭酸リチウムの純度については特
に制限するものではないが、不純物等が影響する場合を
考慮して高純度のものを選ぶのが良い。炭酸リチウムの
配合量は(A)成分および(B)成分の合計量100重
量部に対し、0.01〜0.5重量部、好ましくは0.
03〜0.45重量部である。炭酸リチウムの配合量が
0.01重量部未満では透明性の改良に乏しい。一方、
0.5重量部を超えると乳白色に着色する。
は医薬品、陶磁器、ホウロウ原料、耐熱ガラスなどの配
合剤として用いられている白色粉末である。該炭酸リチ
ウムの平均粒径は通常50μm以下であり、好ましくは
20μm以下である。炭酸リチウムの純度については特
に制限するものではないが、不純物等が影響する場合を
考慮して高純度のものを選ぶのが良い。炭酸リチウムの
配合量は(A)成分および(B)成分の合計量100重
量部に対し、0.01〜0.5重量部、好ましくは0.
03〜0.45重量部である。炭酸リチウムの配合量が
0.01重量部未満では透明性の改良に乏しい。一方、
0.5重量部を超えると乳白色に着色する。
【0010】本発明における(c)エチレンーアクリル
アミド樹脂は、エチレンとアクリルアミド系化合物を高
圧下で共重合する方法、あるいはポリエチレン系樹脂に
アクリルアミドをグラフト重合する方法などによって得
ることができる。これらの製造方法は当業者に公知の方
法である(例えば、特公昭43−9063号公報、特公
昭44−19537号公報など)。アクリルアミド系化
合物としては、N−アルキルアクリルアミド、N,N−
ジアルキルアクリルアミド、N−アルキルメタアクリル
アミド、N,N−ジアルキルメタアクリルアミドなどが
挙げられる。具体的には、N−エチルアクリルアミド、
N−n−プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルア
クリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−イ
ソブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチ
ルアクリルアミド、N−エチルメタアクリルアミド、N
−n−プロピルメタクリルアミド、N−t−ブチルメタ
クリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、
N,N−ジエチルメタクリルアミド、N−メチル−N−
エチルアクリルアミドなどが挙げられる。なお、グラフ
ト反応においてはグラフト率を向上させるために高密度
ポリエチレンを用いることが好ましい。これらの化合物
は2種以上を混合してもよい。該化合物のうち、好まし
いものとしてはN−エチルアクリルアミド、N−イソプ
ロピルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチ
ルアクリルアミド、N−メチル−N−エチル−アクリル
アミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−t−
ブチルメタクリルアミドが挙げられる。
アミド樹脂は、エチレンとアクリルアミド系化合物を高
圧下で共重合する方法、あるいはポリエチレン系樹脂に
アクリルアミドをグラフト重合する方法などによって得
ることができる。これらの製造方法は当業者に公知の方
法である(例えば、特公昭43−9063号公報、特公
昭44−19537号公報など)。アクリルアミド系化
合物としては、N−アルキルアクリルアミド、N,N−
ジアルキルアクリルアミド、N−アルキルメタアクリル
アミド、N,N−ジアルキルメタアクリルアミドなどが
挙げられる。具体的には、N−エチルアクリルアミド、
N−n−プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルア
クリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−イ
ソブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチ
ルアクリルアミド、N−エチルメタアクリルアミド、N
−n−プロピルメタクリルアミド、N−t−ブチルメタ
クリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、
N,N−ジエチルメタクリルアミド、N−メチル−N−
エチルアクリルアミドなどが挙げられる。なお、グラフ
ト反応においてはグラフト率を向上させるために高密度
ポリエチレンを用いることが好ましい。これらの化合物
は2種以上を混合してもよい。該化合物のうち、好まし
いものとしてはN−エチルアクリルアミド、N−イソプ
ロピルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチ
ルアクリルアミド、N−メチル−N−エチル−アクリル
アミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−t−
ブチルメタクリルアミドが挙げられる。
【0011】さらに、共重合させる方法によってエチレ
ンーアクリルアミド樹脂を製造する場合には、エチレン
およびアクリルアミド系化合物の他に第三モノマーを含
有させてもよい。該第三モノマーとしては、酢酸ビニ
ル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルなどの不飽
和エステル、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸な
どの不飽和カルボン酸、メチルビニルエーテル、エチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなどの不飽和エ
ーテルなどが挙げられる。これら第三モノマーの含有割
合はアクリルアミド系化合物との合計量で多くとも50
重量%であり、好ましくは45重量%以下である。エチ
レンーアクリルアミド樹脂の配合量は、(A)成分と
(B)成分の合計量100重量部に対し0.1〜50重
量部であり、好ましくは0.15〜45重量部、とりわ
け0.2〜40重量部である。配合割合が0.1重量部
未満では、透明性の改良効果が乏しい。一方、50重量
部を超えて配合しても飽和状態であり、しかも組成によ
っては物性が低下するので好ましくない。
ンーアクリルアミド樹脂を製造する場合には、エチレン
およびアクリルアミド系化合物の他に第三モノマーを含
有させてもよい。該第三モノマーとしては、酢酸ビニ
ル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルなどの不飽
和エステル、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸な
どの不飽和カルボン酸、メチルビニルエーテル、エチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなどの不飽和エ
ーテルなどが挙げられる。これら第三モノマーの含有割
合はアクリルアミド系化合物との合計量で多くとも50
重量%であり、好ましくは45重量%以下である。エチ
レンーアクリルアミド樹脂の配合量は、(A)成分と
(B)成分の合計量100重量部に対し0.1〜50重
量部であり、好ましくは0.15〜45重量部、とりわ
け0.2〜40重量部である。配合割合が0.1重量部
未満では、透明性の改良効果が乏しい。一方、50重量
部を超えて配合しても飽和状態であり、しかも組成によ
っては物性が低下するので好ましくない。
【0012】本発明の樹脂組成物は、上記各成分をリボ
ンブレンダー、ヘンシェルミキサーなどを用いて混合
し、さらに、ニーダー、押出機、ミキシングロール、バ
ンバリーミキサーなどを用いて溶融混練りして得られ
る。得られる樹脂組成物のメルトフローレート(JIS
K7210に準拠し、表1、条件4で測定)は通常
0.05〜100g/10分である。
ンブレンダー、ヘンシェルミキサーなどを用いて混合
し、さらに、ニーダー、押出機、ミキシングロール、バ
ンバリーミキサーなどを用いて溶融混練りして得られ
る。得られる樹脂組成物のメルトフローレート(JIS
K7210に準拠し、表1、条件4で測定)は通常
0.05〜100g/10分である。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳しく説明す
る。なお、全光線透過率およびヘーズ(曇価)はJIS
K7105に準拠してスガ試験機社製ヘーズメーター
により測定した。外観は試験片表面状態を目視にて次の
3段階で評価した。 ○ ・・・・ 着色がまったくない。 △ ・・・・ 着色、斑点および乳白色が多少見られる。 × ・・・・ 着色、斑点および乳白色が著しい。
る。なお、全光線透過率およびヘーズ(曇価)はJIS
K7105に準拠してスガ試験機社製ヘーズメーター
により測定した。外観は試験片表面状態を目視にて次の
3段階で評価した。 ○ ・・・・ 着色がまったくない。 △ ・・・・ 着色、斑点および乳白色が多少見られる。 × ・・・・ 着色、斑点および乳白色が著しい。
【0014】(A)成分のポリエチレン系樹脂として次
のものを用いた。 PE−1:MFRが22g/10分および密度が0.9
58g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−2:MFRが19g/10分および密度が0.9
47g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−3:MFRが0.65g/10分および密度が
0.955g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−4:MFRが6.3g/10分および密度が0.
917g/cm3 である低密度ポリエチレン PE−5:MFRが3.8g/10分および密度が0.
921g/cm3 である低密度ポリエチレン
のものを用いた。 PE−1:MFRが22g/10分および密度が0.9
58g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−2:MFRが19g/10分および密度が0.9
47g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−3:MFRが0.65g/10分および密度が
0.955g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−4:MFRが6.3g/10分および密度が0.
917g/cm3 である低密度ポリエチレン PE−5:MFRが3.8g/10分および密度が0.
921g/cm3 である低密度ポリエチレン
【0015】(B)成分用ポリエチレン樹脂として次の
ものを用いた。 PE−6:MFRが22g/10分であり、密度が0.
958g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−7:MFRが5.2g/10分であり、密度が
0.956g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−8:MFRが9.2g/10分であり、密度が
0.935g/cm3 である中密度ポリエチレン PE−9:MFRが12g/10分であり、密度が0.
917g/cm3 である低密度ポリエチレン
ものを用いた。 PE−6:MFRが22g/10分であり、密度が0.
958g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−7:MFRが5.2g/10分であり、密度が
0.956g/cm3 である高密度ポリエチレン PE−8:MFRが9.2g/10分であり、密度が
0.935g/cm3 である中密度ポリエチレン PE−9:MFRが12g/10分であり、密度が0.
917g/cm3 である低密度ポリエチレン
【0016】(C)成分の造核剤として次のものを用い
た。 C−1:ナトリウム−2,2−メチレンービス(4,6
−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート C−2:ナトリウム−2,2−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート (C)成分の炭酸リチウムとして次のものを用いた。 LC−1:平均粒径16μmおよび純度99.1%のも
の LC−2:平均粒径7μmおよび純度99.1%のもの
た。 C−1:ナトリウム−2,2−メチレンービス(4,6
−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート C−2:ナトリウム−2,2−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート (C)成分の炭酸リチウムとして次のものを用いた。 LC−1:平均粒径16μmおよび純度99.1%のも
の LC−2:平均粒径7μmおよび純度99.1%のもの
【0017】(C)成分のエチレンーアクリルアミド樹
脂として次のものを用いた。 DMA−1:エチレン−N,N−ジメチルアクリルアミ
ド共重合体(N,N−ジメチルアクリルアミド含有量;
18.3重量%、MFR;3.5g/10分) DMA−2:エチレン−N,N−ジメチルアクリルアミ
ド共重合体(N,N−ジメチルアクリルアミド含有量;
37重量%、MFR;4.2g/10分) DMA−3:エチレン−アクリルアミド共重合体(アク
リルアミド含有量;11.4重量%、MFR;4.6g
/10分) g−DMA−1:N,N−ジメチルアクリルアミドグラ
フト高密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;MFR
8.1g/10分,密度 0.954g/cm3 、N,
N−ジメチルアクリルアミド 11.2重量%、MFR
1.2g/10分) g−DMA−2:N,N−ジエチルアクリルアミドグラ
フト高密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;MFR
7.6g/10分,密度 0.946g/cm3 、N,
N−ジエチルアクリルアミド 10.6重量%、MFR
0.8g/10分) g−DMA−3:N,N−ジメチルアクリルアミドグラ
フト直鎖状低密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;M
FR 12g/10分,密度 0.917g/cm3 、
N,N−ジメチルアクリルアミド 4.3重量%、MF
R 0.8g/10分) g−DMA−4:N,N−ジメチルアクリルアミドグラ
フト中密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;MFR
9.2g/10分,密度 0.935g/cm3 、N,
N−ジメチルアクリルアミド 5.7重量%、MFR
1.1g/10分) なお、アクリルアミド含有量は、赤外分光光度計および
13C−NMRを用いて測定した。
脂として次のものを用いた。 DMA−1:エチレン−N,N−ジメチルアクリルアミ
ド共重合体(N,N−ジメチルアクリルアミド含有量;
18.3重量%、MFR;3.5g/10分) DMA−2:エチレン−N,N−ジメチルアクリルアミ
ド共重合体(N,N−ジメチルアクリルアミド含有量;
37重量%、MFR;4.2g/10分) DMA−3:エチレン−アクリルアミド共重合体(アク
リルアミド含有量;11.4重量%、MFR;4.6g
/10分) g−DMA−1:N,N−ジメチルアクリルアミドグラ
フト高密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;MFR
8.1g/10分,密度 0.954g/cm3 、N,
N−ジメチルアクリルアミド 11.2重量%、MFR
1.2g/10分) g−DMA−2:N,N−ジエチルアクリルアミドグラ
フト高密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;MFR
7.6g/10分,密度 0.946g/cm3 、N,
N−ジエチルアクリルアミド 10.6重量%、MFR
0.8g/10分) g−DMA−3:N,N−ジメチルアクリルアミドグラ
フト直鎖状低密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;M
FR 12g/10分,密度 0.917g/cm3 、
N,N−ジメチルアクリルアミド 4.3重量%、MF
R 0.8g/10分) g−DMA−4:N,N−ジメチルアクリルアミドグラ
フト中密度ポリエチレン(原料ポリエチレン;MFR
9.2g/10分,密度 0.935g/cm3 、N,
N−ジメチルアクリルアミド 5.7重量%、MFR
1.1g/10分) なお、アクリルアミド含有量は、赤外分光光度計および
13C−NMRを用いて測定した。
【0018】(B)成分の製造例(XPE−1〜5) (B)成分として次の表1に示されたポリエチレンをγ
線照射装置(コーガアイソトープ社製)または電子線照
射装置(日新ハイボルテージ社製)を用いて窒素雰囲気
下で表1に示す照射線量を照射した。その後、MFRを
測定し、その結果を表1に示す。
線照射装置(コーガアイソトープ社製)または電子線照
射装置(日新ハイボルテージ社製)を用いて窒素雰囲気
下で表1に示す照射線量を照射した。その後、MFRを
測定し、その結果を表1に示す。
【0019】
【表1】
【0020】実施例1〜22、比較例1〜10 表2および表3に示す各成分の種類および配合量でタン
ブラーを用いて混合した後、同軸方向2軸ベント付き押
出機(神戸製鋼所社製、KTX−37)を用いてペレッ
トにした。得られたペレットを射出成形機(東芝機械社
製、IS−170II−5A型)を用いて試験片(大きさ
10×12cm、厚さ1.0mm)をそれぞれ作製し
た。各試験片について光学特性(全光線透過率およびヘ
ーズ)ならびに外観を測定した。これらの結果を表2お
よび表3に示す。
ブラーを用いて混合した後、同軸方向2軸ベント付き押
出機(神戸製鋼所社製、KTX−37)を用いてペレッ
トにした。得られたペレットを射出成形機(東芝機械社
製、IS−170II−5A型)を用いて試験片(大きさ
10×12cm、厚さ1.0mm)をそれぞれ作製し
た。各試験片について光学特性(全光線透過率およびヘ
ーズ)ならびに外観を測定した。これらの結果を表2お
よび表3に示す。
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、透明性に優れ、
かつ、成形性および外観も良好であるので、各種包装材
料、工業材料、医療用材料として有用である。
かつ、成形性および外観も良好であるので、各種包装材
料、工業材料、医療用材料として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 33:26)
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)ポリエチレン系樹脂 50〜99
重量%および (B)ポリエチレン系樹脂を電離性放射線照射処理した
樹脂処理物 1〜50重量%からなる樹脂分 100重
量部に対し、 (C)下記(a)、(b)および(c)から選ばれた少
なくとも1種を配合してなるポリエチレン系樹脂組成
物。 (a)造核剤 :0.05〜0.7重量部 (b)炭酸リチウム :0.01〜0.5重量部 (c)エチレンーアクリルアミド樹脂:0.1〜50重量部 - 【請求項2】 造核剤がリン酸のアルカリ金属塩である
ことを特徴とする請求項1記載のポリエチレン系樹脂組
成物。 - 【請求項3】 エチレンーアクリルアミド樹脂がアクリ
ルアミド系化合物単位0.01〜50重量%とエチレン
単位を含有するエチレンーアクリルアミド樹脂であるこ
とを特徴とする請求項1記載のポリエチレン系樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19515195A JPH0940815A (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | ポリエチレン系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19515195A JPH0940815A (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | ポリエチレン系樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0940815A true JPH0940815A (ja) | 1997-02-10 |
Family
ID=16336287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19515195A Pending JPH0940815A (ja) | 1995-07-31 | 1995-07-31 | ポリエチレン系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0940815A (ja) |
-
1995
- 1995-07-31 JP JP19515195A patent/JPH0940815A/ja active Pending
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