JPH09503207A - 1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造 - Google Patents

1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造

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JPH09503207A
JPH09503207A JP7510324A JP51032495A JPH09503207A JP H09503207 A JPH09503207 A JP H09503207A JP 7510324 A JP7510324 A JP 7510324A JP 51032495 A JP51032495 A JP 51032495A JP H09503207 A JPH09503207 A JP H09503207A
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ヴァン・ダー・プイ,マイケル
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Abstract

(57)【要約】 本発明はClCF2CFClCF2ClからHCF2CHFCF2Hへの還元脱塩素化方法であって、1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンを含む生成物流を製造するために充分な反応条件下において、1,2,3,−トリクロロペンタフルオロエタンとH2とを、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム及びこれらの混合物から成る群から選択される触媒の存在下で接触させる工程を含む方法に関する。本発明はさらに、還元すべきClCF2CFClCF2Clを、(a)HFを式I: [式中、XはH、Cl又はFであり、YはH又はClである]で示される化合物と反応させて、式II: [式中、XとYは式I化合物の場合と同じである]で示される化合物を得る工程と;(b)式II化合物を塩素化して、式III: [式中、mは0又は1である]で示される化合物を得る工程と;(c)式III化合物をフッ素化して、CClF2CFClCF2Clを得る工程とによって合成する三工程方法に関する。式:HCF2CHFCF2Clを有する組成物も開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造 発明の背景 ヒドロフルオロカーボンは、洗浄用溶剤及び発泡剤を含めた、多様な用途に用 いられているオゾン消耗性CFCに代わることができるために、非常に興味深い 。例えば、1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンはテトラヒドロフラン の三フッ化コバルトフッ素化にマイナー(minor)副生成物として製造されている 有用な発泡剤又は洗浄用溶剤(Eur.381,986)である(J.Burd on等,J.Chem.Soc.(C),1969,1739)。 当該技術分野は現在、オゾン消耗性CFCの適当な代替え品を見いだすために 、クロロフルオロカーボン(CFC)からヒドロフルオロカーボン(HFC)へ の還元方法を意欲的に求めている。単純なアルキルハライドは緩和な条件下、塩 基の存在下における接触還元によって容易に脱ハロゲン化されることができる。 しかし、このような脱ハロゲン化は過ハロゲン化化合物の還元には適さない。 一部のCFCは触媒の存在下の蒸気相中で還元的に脱塩素化されている。しか し、先行技術の還元脱塩素化は選択性と還元制御との欠落という欠点を有する。 還元フッ素化は比較的低温においても還元脱塩素化を伴うことがある。例えば、 EPA437,705(1991年7月3日)は、150℃における炭素担体付 きイリジウム上でのCF3CFCl2の還元がCF3CHClF(74%)を生じ たが、同じ条件下でのパラジウム上での還元が95%CF3CH3を生じたことを 開示する。 したがって、経済的であり、かつ大規模生産に適した方法を用いて、1,1, 2,3,3−ペンタフルオロプロパンを製造する方法が必要とされる。 発明の説明 本発明はClCF2CFClCF2ClからHCF2CHFCF2Hへの還元脱塩 素化方法であって、1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパン(HFC−2 45ca)を含む生成物流を製造するために充分な反応条件下において、1,2 ,3,−トリクロロペンタフルオロプロパンとH2とを、パラジウム、白金、ル テニウム、ロジウム、イリジウム及びこれらの混合物から成る群から選択される 触 媒の存在下で接触させる工程を含む方法に関する。本発明はさらに、還元すべき ClCF2CFClCF2Clを、 (a)HFを式I: XCH=CYCH2X [式中、XはH、Cl又はFであり、YはH又はClである] で示される化合物と反応させて、式II: CH2XCFYCH2X [式中、XとYは式I化合物の場合と同じである] で示される化合物を得る工程と; (b)式II化合物を塩素化して、式III: CCl3-mmCFClCCl3-mm [式中、mは0又は1である] で示される化合物を得る工程と; (c)式III化合物をフッ素化して、CClF2CFClCF2Clを得る工程 と によって合成する三工程方法に関する。 CClF2CFClCF2Clの還元脱塩素化をPd、Pt、Ru、Rh、Ir 及びこれらの混合物から成る群から選択される触媒の存在下で実施する場合に、 フッ素原子が殆ど還元されずに、1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパン が製造されることが、驚くべきことに、判明した。CF3CFCl2をパラジウム 触媒の存在下で150℃程度の低温において還元的に脱塩素化する場合に、主要 な生成物(95%)は脱フッ素化化合物(CF3CH3)であると言う事実を考慮 すると、この結果は特に意外であった。 本発明の触媒は任意の形状をとることができる。しかし、粉末は反応器を通っ て運ばれるか又は大きな圧力低下を惹起するのに十分に微細であるので、粉末は 蒸気相還元では好ましくない。したがって、本発明の触媒を成形することが好ま しい。触媒は任意の形状で、例えば押出成形又は錠剤化のような技術上周知の任 意の方法によって製造することができる。適当な形状の例は、限定する訳ではな く、大きい塊、球体及びペレットを含む。 触媒物質はPd又はPtであることが好ましい。触媒は例えば炭素顆粒又はア ルミナペレットのような不活性な担体物質によって支持されることが好ましい。 好ましい担体は炭素顆粒である。触媒物質を担体上に例えば触媒物質のハロゲン 化物又は酸化物のような、任意の便利な形状で担体上に付着させることができる 。典型的には、所望のハロゲン化物又は酸化物塩を担体に含浸させ、乾燥させ、 次にH2によって金属に還元させる。 触媒は商業的に入手可能であり、一般には、担体物質上に0.5〜20重量% の金属を有する触媒を入手することができる。より一般的には、0.5〜5重量 %の負荷が用いられる。例は活性炭顆粒上1%パラジウムと、1/8”アルミナ ペレット上0.5%白金を含む。 液相又は蒸気相のいずれにおいても還元を実施することができる。しかし、大 規模生産のためには、反応を連続流動系において、CClF2CFClCF2Cl の蒸気を水素と共に、1種類の臨界的に画定された触媒上に通すことによって実 施することが好ましい。反応器は例えばインコネル(Inconel)のような 、任意の耐食性物質から製造することができる。 圧力は決定的ではない。減圧(subatmospheric pressure)又は100気圧まで の圧力を用いることができ、バッチ操作では後者が特に有用である。大気圧がし ばしば最も便利であり、したがって好ましい。 有用な温度は約100℃〜約350℃の範囲である。好ましい温度は約150 ℃〜約250℃である。当該技術分野では、供給材料CF3CFCl2の脱フッ素 化が150℃程度の低温においてパラジウムの存在下で観察されており、当業者 は脱フッ素化が温度と共に上昇することを期待していたと思われるので、これら の温度範囲は特に意外である。 反応の化学量論に基づくと、水素対CF2ClCFClCF2Clの必要な比は CF2ClCFClCF2Cl 1モルにつき水素 3モルである。水素量は化学 量論比の1〜約10倍の範囲で変化することができ、化学量論量の約2〜4倍が 好ましい。 還元の条件は変動し、一部は触媒の活性(これは使用金属の種類、担体上のそ の濃度、及び担体物質の性質に依存する)と、反応器における接触時間又は滞留 時間とに依存する。滞留時間は反応温度、触媒量及び水素/被還元有機物質の流 速度を変えることによって調節することができる。有用な接触時間は約0.1秒 から約2分間までの範囲である。本発明の場合に、好ましい接触時間は約3〜約 20秒間の範囲である。 大気圧、約100℃〜約325℃の温度におけるClCF2CFClCF2Cl の還元では、一般に、HCF2CHFCF2HとHCF2CHFCF2Clの両方が 反応器流出物流中に存在する。HCF2CHFCF2H/HCF2CHFCF2Cl の比は反応温度の上昇と共に増加する。しかし、高温(>300℃)における連 続操作は触媒活性が徐々に低下する恐れがあるために好ましくない。高い転化率 は接触時間の延長によって、又は同様に、所望の結果が得られるまで、生成物流 を再循環させることができる。所望のHCF2CHFCF2HをHCF2CHFC F2Clと存在しうる他の未還元(under-reduction)物質とから分離した後に、H CF2CHFCF2Clを単独で又はClCF2CFClCF2Clと混合して、再 び反応器に供給することができる。或いは、製造されたHCF2CHFCF2Cl を分離して、農業用化学薬品の製造に用いることができる。 HFC−245caは例えば蒸留のような、任意の既知分離又は精製方法によ って生成物流から分離することができる。 還元の供給材料、ClCF2CFClCF2Clは商業的に大量には入手不能で ある。したがって、本発明はClCF2CFClCF2Clの製造方法をも提供す る。 この方法の第1工程では、HFを式I:XCH=CYCH2X [式中、XはH、Cl又はFであり、YはH又はClである] で示される化合物と蒸気相又は液相のいずれかにおいて接触させる。式(I)化 合物に存在するハロゲン数に依存して、反応を約15℃〜約100℃の温度にお いて実施することができる。例えば、米国特許第2,917,559号に記載さ れるように、25℃において活性炭素上にHFとプロピレンとを通すことによっ て、フッ化イソプロピルは便利に製造される。HFをCH2=CClCH2Clと 50℃〜60℃において反応させて、CH3CFClCH2Clを形成することも できる。 式Iの受容される化合物の例はプロピレン、フッ化アリル、塩化アリル、2, 3−ジクロロ−1−プロペン、2−クロロプロペン、2−クロロ−3−フルオロ −1−プロペン及び1,3−ジクロロプロペンを含む。最も好ましい化合物は蒸 気相反応と液相反応のいずれが望ましいかに依存する。経済性と大量の入手可能 性とのために、好ましい化合物はプロピレン、塩化アリル及び2,3−ジクロロ −1−プロペンである。好ましくは、これらの化合物を蒸気相中でHFと接触さ せる。C−1炭素(=C−C)に塩素又はフッ素を有する式I化合物は、HF の添加が競合反応として逆方向で起こりうるので、あまり好ましくない。A.L .HenneとE.P.Plueddeman、J.Am.Chem.Soc. ,1943,65,1271。反応を液相において実施する場合に、塩化アリル 又は2,3−ジクロロ−1−プロペンが好ましい。 工程1からの反応生成物は反応II: CH2XCFYCH2X [式中、XはH、Cl又はFであり、YはH又はClである] を有する。 本発明の方法の第2工程では、式IIの反応生成物を塩素化して、式: CCl3-mmCFClCCl3-mm (III) [式中、m=0又は1である] を有する塩素化生成物を得る。 塩素化工程は技術上周知の任意の方法によって実施することができる。例えば 、周囲圧力及び周囲温度においてUV光線を照射しながら、塩素をCH3CFC lCH2Cl中にバブルさせて、CCl3CFClCCl3とCCl3CFClCC l2Hとの混合物を得る、この混合物を蒸留すると純粋なCCl3CFClCCl3 が得られる。A.L.HenneとT.H.Newby(J.Am.Chem .Soc.,1948,70,130)。熱塩素化を用いることもできる(オキ シ塩素化、すなわち、酸素とHClとの組合せ(反応して、水と塩素とを形成す る)を含む)。 反応生成物である式II化合物を塩素化の前に純粋な形で単離する必要はない 。 或いは、式III組成物はCCl4又はCFCl3を、CFCl=CF2、CF Cl=CFCl、CF2=CFCH及びCFCl=CFHから成る群から選択さ れる炭素数2オレフィンと反応させることによって製造することができる。この ような反応は四塩化炭素、塩化メチレン及び二硫化炭素から成る群から選択され る溶媒中のルイス酸によって一般に約50℃未満である温度において触媒作用を 受ける。好ましい触媒はAlCl3、FeCl3、BF3及びBCl3を含み、Al Cl3が最も好ましい。O.Paleta,“Fluorine Chemis try Reviews”,P.Tarrant,M.Dekker編集(ニュ ーヨーク),第2章(1977)。 第3工程では、CCl3CFClCCl3とCCl3CFClCCl2Hとの混合 物又は純粋なCCl3CFClCCl3のいずれかである塩素化生成物をフッ素化 する。このフッ素化は第2塩素がフッ素によって置換されず、2つの末端基がフ ッ素化によって同程度に進行するように、すなわち−CF2Clに進行し、−C F3又は−CFCl2には進行しないように実施される。これは、塩素化生成物を HFと、好ましくは液相反応ではフッ化アンチモン、クロロフッ化アンチモン及 び酸化第二水銀、蒸気相反応ではクロム含有触媒のような触媒の存在下で反応さ せることによって達成することができる。例えば、SbF3と塩素との反応によ って得られる試薬による、約225℃における圧力下で約2時間、次に150℃ における一晩のCCl3CFClCCl3のフッ素化はCF2ClCFClCF2C lを生成した。或いは、CF2ClCFClCFCl2を約175℃における圧力 下で約24時間、HFとHgOとによって処理して、CF2ClCFClCF2C lを得ることができる。同様な条件下におけるCFCl2CFClCCl3とCF Cl2CFClCFCl2との混合物のフッ素化も所望のClCF2CFClCF2 Clを生成することができる。実施例1 この実施例に用いた水素化反応器は、電気加熱テープによって加熱される垂直 1インチ直径ガラス管から構成された。熱電対が管中心の温度を測定した。触媒 床は総床容積25ccに対して10ccの0.5%Pd/Al23(Engle hard又はJohnson Mattheyから入手可能な1/8”ペレット 、ガラスヘリックス 15ccと混合)から構成された。水素流速度は140c c /分であった。有機物(ClCF2CFClCF2Cl)を反応器の頂部から注射 器ポンプによって供給した。反応器からの流出物を2個の−78℃コールドトラ ップに回収した。有機物流(organic flow)は156℃の初期温度で開始した。温 度を1/2時間かけて186℃に上昇させ、185〜190℃に1時間維持し、 次に225℃に上昇させた。4.25時間の総時間後に、ClCF2CFClC F2Cl(42.1g)を反応器に供給した。コールドトラップは22.8gの 物質を含有した。ガスクロマトグラフィー分析は、回収された物質が低沸点物質 (bp<HCF2CFHCF2H)27%を含有することを実証した。所望の化合 物、HCF2CHFCF2Hは混合物の7%として存在し、残りの66%は塩素化 化合物であった。実施例2 実施例1に述べた反応器に、ガラスヘリックス(10cc)と混合した炭素担 体付き1%パラジウム(4〜8メッシュ、Aldrichから購入)(20cc )から成る触媒を装入した。水素流速度は140cc/分であった。反応器温度 は4.5時間のラン時間の大部分の間、255〜265℃であった。全体で46 .8gのClCF2CFClCF2Clを装入し、生成物(25.1g)をコール ドトラップに回収した。この物質のガスクロマトグラフィー分析は低沸点物質( <3%)、HCF2CHFCF2H(39%)、HCF2CHFCF2Cl(51% )及びC3HCl25(7%)を示した。 実施例1と2は、HFC−245caが良好な収率で製造され、パラジウム触 媒の存在下では還元脱塩素化を経る脱フッ素化は殆ど生じなかった。実施例3 実施例2に述べたように、全体で65.1gのClCF2CFClCF2Clを 325〜330℃において6時間にわたって水素化して、粗生成物34.4gを 得、これをガスクロマトグラフィーによって分析し、49%HCF2CHFCF2 Hから成ることを発見した。実施例4 実施例2に述べたように、58.8%HCF2CHFCF2Hと36%HCF2 CHFCF2Clとから成る混合物(28.3g)を325℃の平均温度におい て3時間にわたって水素化した。コールドトラップから、86.1%HCF2C HFCF2Hと10.1%HCF2CHFCF2Clとから成る混合物から成る粗 生成物(22.8g)が得られた。この物質の蒸留は748mmHgにおいて3 9〜39.5℃の沸点を有する95%純粋HCF2CHFCF2Hを生じた。した がって、生成物を本発明の水素化反応によって再循環させることによって、実施 例2で得られた混合物は、非常に高い収率で、所望の生成物に容易に転化した。実施例5 実施例1に述べた装置及び方法で、ClCF2CFClCF2Cl(16.8g )を20ccの炭素担体付き0.5%Pt(4〜8メッシュ)上に1.5時間、 265℃の平均温度において通した。水素流速度は140cc/分であった。コ ールドトラップは液体8.3gを含有し、これはガスクロマトグラフィー分析に よる測定によると、38.3%HCF2CHFCF2Hと2.83%HCF2CH FCF2Clから成るものであった。したがって、白金触媒の存在下での還元脱 塩素化もHFC−245caを生じ、脱フッ素化を殆ど生じない。実施例6 W.T.Miller、Jr.とA.H.Fainbergの方法(J.Am .Chem.Soc.,1957,79,4164を用いて、ClCF2CFC lCF2Clをエタノール中のZn/ZnClによって脱塩素化して、CF=C FCF2Clを製造した。このオレフィンをガラスリング(50cc)と混合し た1%Pd/C(15cc)から構成された触媒床上で水素化した。全体で35 .0gのオレフィンを触媒上に平均温度110℃によって4.25時間、通した (140cc/分での水素と共に)。コールドトラップは33.7gの液体を含 有し、この液体は6%未反応オレフィン、17%HCF2CFHCF2H及び74 %HCF2CHFCF2Clから成るものであった。蒸留はHCF2CHFCF2C l(bp.39℃)を生成した(HCF2CHFCF2ClとHCF2CHFCF2 Hとは約37〜38℃において共沸蒸留するように見えた)。NMRスペクトル は構造的割り当てを実証し、ClCF2CClFCF2Clの直接還元において同 じ物質が形成されることを立証した。したがって、通常の方法によって製造され るCF2ClCF=CF2を本発明によって還元して、HCF2CHFCF2Hを製 造することができる。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1995年11月21日 【補正内容】 差し替え用紙第1頁の翻訳文:原翻訳文第1頁第1行から第1頁第21行まで[ 明細書・・・・・を開示する。]と差し替える。 明細書 1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造 発明の背景 ヒドロフルオロカーボンは、洗浄用溶剤及び発泡剤を含めた、多様な用途に用 いられているオゾン消耗性CFCに代わることができるために、非常に興味深い 。例えば、1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンはテトラヒドロフラン の三フッ化コバルトフッ素化にマイナー(minor)副生成物として製造されている 有用な発泡剤又は洗浄用溶剤(Eur.381,986)である(J.Burd on等,J.Chem.Soc.(C),1969,1739)。 当該技術分野は現在、オゾン消耗性CFCの適当な代替え品を見いだすために 、クロロフルオロカーボン(CFC)からヒドロフルオロカーボン(HFC)へ の還元方法を意欲的に求めている。単純なアルキルハライドは緩和な条件下、塩 基の存在下における接触還元によって容易に脱ハロゲン化されることができる。 しかし、このような脱ハロゲン化は過ハロゲン化化合物の還元には適さない。 例えば、EPA539,989(1993年5月5日)に開示されているよう に、一部のCFCは触媒の存在下の蒸気相中で還元的に脱塩素化されている。し かし、先行技術の還元脱塩素化は選択性と還元制御との欠落という欠点を有する 。還元フッ素化は比較的低温においても還元脱塩素化を伴うことがある。例えば 、EPA437,705(1991年7月3日)は、150℃における炭素担体 付きイリジウム上でのCF3CFCl2の還元がCF3CHClF(74%)を生 じたが、同じ条件下でのパラジウム上での還元が95%CF3CH3を生じたこと を開示する。 請求の範囲 1.1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法であって、1 ,2,3,−トリクロロペンタフルオロプロパンとH2とを、炭素担体上に支持 された、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム及びこれらの混 合物から成る群から選択される触媒上で、100〜350℃の温度において0. 1秒間〜2分間の接触時間にわたって接触させる工程を含む方法。 2.前記触媒がパラジウムである請求項1記載の方法。 3.前記触媒が白金である請求項1記載の方法。 4.1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンを含む生成物流の少なく とも一部を触媒上に再通過させて、さらに多くの1,1,2,3,3−ペンタフ ルオロプロパンを生成する工程を付加的に含む請求項1記載の方法。 5 式(III): CCl3-mmCFClCCl3-mm [式中、mは0又は1である] を有する塩素化化合物を、フッ化アンチモン、塩化アンチモン、クロロフッ化ア ンチモン、酸化第二水銀及びクロム含有触媒から成る群から選択される第2触媒 の存在下でフッ化水素によって選択的に水素化することによって、1,2,3− トリクロロペンタフルオロプロパンを製造する請求項1記載の方法。 6.前記第2触媒がフッ化アンチモン、クロロフッ化アンチモン及び酸化第 二水銀から成る群から選択され、フッ素化が液相で実施される請求項5記載の方 法。 7.前記第2触媒がクロム含有触媒であり、フッ素化が蒸気相で実施される 請求項5記載の方法。 8.前記塩素化化合物が1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロ パンである請求項5記載の方法。 9.前記塩素化化合物がCCl4又はCFCl3を、CFCl=CF2、CF Cl=CFCl、CF2=CFCH及びCFCl=CFHから成る群から選択さ れる二炭素オレフィンと、AlCl3、FeCl3、BF3及びBCl3から成る群 から選択されるルイス酸の存在下で約50℃未満の温度において反応させること によって製造される請求項5記載の方法。 10.前記塩素化化合物が式(II): CH2XCFYCH2X [式中、XはH、Cl又はFであり、YはH又はClである] を有する化合物の塩素化によって製造される請求項5記載の方法。 11.前記塩素化工程がUV光線を照射しながらの塩素化化合物中への塩素 バブリング、熱塩素化及びオキシ塩素化から成る群から選択される方法によって 実施される請求項10記載の方法。 12.式(II)化合物がHFと式(I): XCH=CYCH2X [式中、XはH、Cl又はFであり、YはH又はClである] を有する不飽和化合物を蒸気相又は液相において接触させることによって製造さ れる請求項10記載の方法。 13.式(I)不飽和化合物がプロピレン、フッ化アリル、塩化アリル、2 ,3−ジクロロ−1−プロペン、2−クロロプロペン、2−クロロ−3−フルオ ロ−1−プロペン及び1,3−ジクロロプロペンから成る群から選択される請求 項12記載の方法。 14.式(I)不飽和化合物がプロピレン、塩化アリル及び2,3−ジクロ ロ−1−プロペンから成る群から選択され、前記接触工程が蒸気相において実施 される請求項13記載の方法。 15.前記式(I)不飽和化合物が塩化アリル又は2,3−ジクロロ−1− プロペンから成る群から選択され、前記接触工程が液相において実施される請求 項12記載の方法。 16.式:HCF2CHFCF2Clを有する組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C07C 17/087 9546−4H C07C 17/087 17/10 9546−4H 17/10 17/20 9546−4H 17/20 17/23 9546−4H 17/23 17/278 9546−4H 17/278 19/10 9546−4H 19/10 // C07B 61/00 300 7419−4H C07B 61/00 300 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD),AM,AU, BB,BG,BR,BY,CA,CN,CZ,FI,G E,HU,JP,KZ,LK,LT,LV,MD,MG ,MN,MW,NO,NZ,PL,RO,RU,SD, SI,SK,TJ,TT,UA,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式: 1.CF3(CH2CF2nF[式中、n=1〜3] で示されるヒドロフルオロカーボンの製造方法であって、 CCl3(CH2CCl2nCl、CCl3(CH2CF2nCl又はCCl2[ (CH2CF2)Cl]2から選択される少なくとも1種の反応物をフッ化水素と 、約25〜約200℃の温度において少なくとも1種類のフッ素化触媒の存在下 で反応させることを含み、この反応時に、HFが反応物1モルにつき少なくとも 化学量論量で存在する前記方法。 2.前記反応物がCCl3(CH2CCl2nCl、CCl3(CH2CF2n Cl及びCCl2[(CH2CF2)Cl]2から選択される請求項1記載の方法。 3.前記触媒が少なくとも1種類の金属ハロゲン化物である請求項1記載の 方法。 4.前記触媒がSn、Ti、Ta及びSbのハロゲン化物から選択される請 求項3記載の方法。 5.前記触媒が金属(V)ハロゲン化物である請求項4記載の方法。 6.前記金属ハロゲン化物触媒中のハロゲン化物が塩素、フッ素又はこれら の組合せから選択される請求項5記載の方法。 7.触媒がSnCl4、TiCl4、SbF5、SbCl5又はSbFmCl5-m [式中、mは1〜4の範囲である]から選択される請求項6記載の方法。 8.前記反応が約25〜約225℃において実施される請求項1記載の方法 。 9.前記プロセスがCCl4を塩化ビニリデン又はフッ化ビニリデンと反応 させることによってCCl3(CH2CCl2nCl、CCl3(CH2CF2nC l及びCCl2[(CH2CF2)Cl]2を製造することをさらに含む請求項1記 載の方法。 10.CCl3(CH2CCl2nCl、CCl3(CH2CF2nCl及びC Cl2[(CH2CF2)Cl]2の前記製造が金属触媒の存在下で実施される請求 項9記載の方法。 11.触媒が銅又は鉄の金属塩である請求項10記載の方法。 12.前記プロセスがアミン助触媒の存在下で実施される請求項11記載の 方法。 13.前記CCl3(CH2CCl2nCl、CCl3(CH2CF2nCl又 はCCl2[(CH2CF2mCl]2の前記製造プロセスが約40〜約225℃ の温度において実施される請求項9〜12のいずれかに記載の方法。 14.触媒塩を+5酸化状態に実質的に維持するために充分な量で、塩素を 加える請求項13記載の方法。 15.CCl3(CH2CCl2nCl、CCl3(CH2CF2nCl及びC Cl2[(CH2CF2mCl]2の前記製造プロセスが有機溶媒中で実施される 請求項13記載の方法。
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