JPH09509525A - ゲッターを収容するフィールドエミッターフラットディスプレー及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （ａ）励起可能な蛍光物質の層、及び高い電界によって駆動される電子を放射する複数のマイクロカソード（ＭＴ）、及び（ｂ）複数の電気フィードスルー（Ｐ）及び真空安定剤（Ｇ）、が収容された内部真空空間を有するフィールドエミッターフラットディスプレー。真空安定剤（Ｇ）は、マイクロカソード、蛍光物質及びフィードスルーから本質上離れた区域に収容された２０〜１８０μｍ厚の不揮発性ゲッター物質の多孔質担持層より本質上形成される。

Description

【発明の詳細な説明】 ゲッターを収容するフィールドエミッター フラットディスプレー及びその製造法発明の分野 本発明は、内部真空空間を有するフィールドエミッターフラットディスプレー に関する。この種のディスプレーは、しばしばＦＥＤ（Field Emitter Display ）と称されそしてフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）のより広い群に属する 。かかるＦＰＤは、周知のように、一組のマイクロカソード、幾つかの電気フィ ードスルー及び複数の蛍光物質も収容する。 詳細に言えば、ＦＥＤは、電子を放射する複数のとがったマイクロカソードと 、極め高い電界を発生するように該カソードから極めて短い距離で配置された複 数のグリッド電極とを収容する。かかるカソードと蛍光物質との間には真空空間 が存在するが、これは、ある場合には数十μｍから数百μｍ厚になりうる。また 、カソードはダイヤモンドエミッターであってもよい。真空空間における真空度 は、通常、ゲッター物質の助けを借りて１０^-5ミリバールの下に保たれる。発明の背景 しばしば、マイクロカソードの先端、グリッド電極及び蛍光物質は、ヘンリー ・エフ・グレー氏が“Informat ion Display”（３／９３、１１ページ）に記載したように単一の平らな表面上 に整列される。 特許文献であるＥＰ−Ａ−０４４３８６５には、マイクロカソードそして場合 によってはグリッド電極も担持し更に補助的な促進アノードをも担持する非導電 性基体例えば石英を、カソード及び他の電極から離れたその一部分において、揮 発性バリウム基材ゲッター合金例えばＢａＡｌ₄の薄層で被覆することからなる ＦＥＤの製造法が記載されている。 しかしながら、かくして得られたＦＥＤは幾つかの不利益を示す。実際に、こ の種のゲッターは、効果のあるものになるためには、活性化熱処理（＞８００℃ ）を必要とする。この熱処理は、通常、ＦＥＤの外部の誘電コイルによって放射 される無線周波数によって実施されることができる。揮発性ゲッター物質の場合 には、熱処理は、ＦＥＤの内面の完全に画成され且つ局部化された区域に金属（ 例えば、最も一般的に使用される揮発性ゲッターのうちの１つであるバリウム） の被膜を付着させる。 バリウムは良好な導電体であるので、特にＦＥＤにおけるような極めて小さい 空間でのその付着は、絶縁表面の短絡又は電気的破壊を引き起こす可能性がある 。更に、かかる処理は、ＦＥＤの機械的抵抗を重大に危険にさらす程の局部的な 熱衝撃を引き起こす可能性もある。 一般には、極めて小さな有効空間は、十分なガス収着 能を有するゲッターの挿入を妨げる。 過去において、いくらかの人達は、マイクロチップＭＴとスクリーンＳＣＨと の間の真空空間の厚みを変えずにゲッターＧを収容するように意図された図６に 示す如き付属物又は“テール”Ｃをディスプレーに加えることを提案している。 しかしながら、かかる技術は厚みを過度に増大させ、それ故にディスプレーの容 積を増大させる。 かかる不都合なもの（該付属物）は、図７に概略的に示される本発明の方法に 従って製造されたディスプレーでは消失される。 ごく最近になって、特許出願ＥＰ−Ａ−５７２１７０は、揮発性ゲッターの代 わりに他の特定の種類のゲッター例えばジルコニウム（これは、例えばマイクロ カソード（マイクロチップ）のような好ましくは多量で存在する不揮発性ゲッタ ー（ＮＥＧ）の群に属する）を使用することを提案している。 しかしながら、この提案も亦、負の結果を免れない。実際のこととして、マイ クロチップのとがった先端の電子放射は、もしもそれが含酸素ガスにさらされる 場合には、酸化ジルコニウムの生成のために変化される場合がある。 他の不利益は、マイクロチップを通常予備形成層の化学的エッチングによって 作るときに生じる困難によるものである。実際に、この技術は、マイクロチップ 内に異 物を残し、それ故にそれらのゲッターの能力の大部分を失う。 最後に、既に記載したように、マイクロチップをゲッターとして使用したとき に起こるそれらの酸化は、それらの電子放射特性を変える。 それ故に、本発明の目的は、従来技術の上記の不都合のうちの１つを打破する ＦＥＤを提供することである。 本発明の他の目的は、ＦＥＤの内部の望まれない区域でのゲッター物質又は又 は他の物質の付着を排除し、同時にＦＥＤの製造をより容易にするためにゲッタ ーをＦＥＤの極めて限定された空間に一体化させることである。 他の目的は、次の記載から明らかになるであろう。 本件出願人は、本発明によって上記の不利益を打破することに成功した。 最も広い観点において、本発明は、 （ａ）励起可能な蛍光物質の層、及び高い電界によって駆動される電子を放射 する複数のマイクロカソード、及び （ｂ）複数の電気フィードスルー及び真空安定剤、が収容された内部真空空間 を有するフィールドエミッターフラットディスプレーにおいて、 真空安定剤が２０〜１８０μｍ（好ましくは２０〜１５０μｍ）厚の不揮発性 ゲッター物質の多孔質担持層よ り本質的に形成され、しかも該層がマイクロカソード、蛍光物質及びフィードス ルーから本質上離れた区域に収容されていることを特徴とするフィールドエミッ ターフラットディスプレー、 からなる。 ＦＥＤの分野では、ゲッター物質の選択及びこれらのＦＥＤの製造法に関する 問題に対しての明確な解決策は今日まで存在していなかった。より具体的に言え ば、ＦＥＤの特殊な特徴によって、その動作に必要な真空の発生及び維持に関す る製造の規模、品質及び容易さについて差し迫ったデリケートな問題が生じてき た。 本発明に従ったディスプレーは、上記の問題に対して極めて満足な方法で答え る成功的な選択を提供するものである。 本発明に従ったＦＥＤの内部空間は、図７に示されるように、絶縁材料から作 られた数十又は数百〜数千μｍの厚さを有する本質上互いに平行に配置された２ つの薄板によって形成されるのが好ましい。これらの薄板は、周囲に沿って気密 封止されておりそして高真空空間によって隔離されている。第一板（ＳＣＨ）は 蛍光物質を担持し、そして第二板（Ｓ）は例えばモリブデンから作られたマイク ロカソードそして場合によっては例えばニオブから作られたいくつかのグリッド 電極、並びに不揮発性ゲッター物質の１つ以上の多孔質層も担持する。 このとき、かかる層は該２つの薄板の間に配置され、 かくしてこれらの層（又は薄ストリップ）はディスプレー（ＦＥＤ）の一体的部 分である。 本発明に従ったディスプレー中に存在する担持された多孔質層は、ある場合に は極めて低い活性化温度（≦５００℃そして≦４５０℃さえも）を有するゲッタ ー物質を基材とする。かかる層は、様々な方法で薄い金属及び非金属基体上に適 用されることができ、そしてその適用後に可能なだけ長い焼結処理を受けるのが 有益である。かかる処理は、ゲッター物質を強化し、これによってそれらが上記 の目的に対して極めて有害ないくつかの粒子を損失するのを防止する。 本発明の目的に特に好適なゲッター物質は、 （Ａ）ジルコニウム及び／又はチタニウム及び／又はトリウム及び／又はそれ らの水素化物及び／又はそれらの組み合わせ、 （Ｂ）（ｉ）ＵＳＰ３２０３９０１に従ったＺｒ−Ａｌ合金、及び／又はＵＳ Ｐ４０７１３３５及びＵＳＰ４３０６８８７に従ったＺｒ−Ｆｅ合金、 （ii）ＵＳＰ４２６９６２４に従ったＺｒ−Ｍ１−Ｍ２合金（ここで、Ｍ１は Ｖ及びＮｂから選択され、そしてＭ２はＦｅ及びＮｉから選択される）及びＵＳ Ｐ４９０７９４８に従ったＺΓ−Ｔｉ−Ｆｅ合金、 （iii）ＥＰ−Ａ−９３／８３０４１１に従ったジルコニウム及びバナジウム 含有合金、特に、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ、 （iv）それらの組み合わせ、 から選択されるジルコニウム及び／又はチタン基材ゲッター合金、 より本質上形成された焼結組成物である。 Ｓｔ１２１及び／又はＳｔ１２２として知られ、本件出願人によって製造販売 され、そして次の２つの群の成分、 （Ｈ）水素化チタン、 （Ｋ）（ａ）上記（Ｂ／ｉ）に従ったＺｒ−Ａｌ合金、特に８４重量％のジル コニウムを含有する合金（Ｓｔ１２１において）、 （ｂ）上記（Ｂ／iii）に従ったＺｒ−Ｖ又はＺｒ−Ｖ−Ｆｅ合金（Ｓｔ１２ ２において）、 （ｃ）それらの組み合わせ、 から選択されるゲッター合金、 より本質上なる組成物が本発明の目的に対して特に有益であることが判明した。 本発明に従ったディスプレーは、様々な方法で得ることができる。特に有益な 具体例に従えば、該ディスプレーは、 （ａ）基体上に不揮発性ゲッター物質を付着させそして付着した物質を適当な 真空炉において焼結させることによって多孔質層を得る、 （ｂ）かくして得た担持層をディスプレーの他の内部部材と一緒に内部空間に 収容する、 （ｃ）該内部空間を真空ポンプによって排気させそしてポンプ作用の間に気密 封止する、 ことからなる方法において、 懸濁媒体中に懸濁させたゲッター物質粒子の懸濁液の電気泳動によって又は手 動若しくは機械的適用好ましくは吹付によって基体へのゲッター物質の付着を実 施することを特徴とする方法で得られる。 吹付被覆とは異なる機械的適用の例としては、例えば、１つ以上のパネルによ って又は掻取り刃を備えた塗布機によって実施されるかかる懸濁液の塗布を挙げ ることができる。 電気泳動法に関しては、本件出願人に認可された特許にかかるＧＢ−Ｂ−２１ ５７４８６及びＥＰ−Ｂ−０２７５８４４を参照されたい。 ディスプレーの内部空間を気密封止するために、通常は真空作用下でのフリッ トシーリングを行い、次いで内部空間から且つ周囲壁から高度のガス抜き（これ も、真空ポンプ作用の下に）を行う。フリットシーリング及びガス抜きは高い温 度において実施されるが、これは、ゲッター物質の必要な熱活性化を行うために 有益下に使用することができる（活性化を行わないと、ゲッターはその機能を果 たすことができない）。これらはすべて、例えば過去において使用された誘電コ イルによって、余分な活性化に頼ることなく得ることができる。これは、極めて 低い活性化温度を有する本件出願人選択の特定のゲ ッター物質によってのみ可能であることに注目されたい。 上記の方法のより一層好ましい具体例は、次の工程、 （ａ）懸濁媒体中に懸濁させた不揮発性ゲッター物質の懸濁液を調製し、 （ｂ）かかる懸濁液を使用して吹付塗布技術によって基体を被覆し、そして （ｃ）焼成する、 各工程を含む不揮発性ゲッター物質の多孔質担持層の形成を可能にする。 上記の粒子は、有益には、 （Ｈ）本質的に１〜１０（好ましくは３〜５）μｍの平均粒度及び１〜８．５ （好ましくは７〜８）ｍ²／ｇの表面積を有する水素化チタン粒子と、 （Ｋ）本質的に５〜１５（好ましくは８〜１０）μｍの平均粒度及び０．５〜 ２．５ｍ²／ｇの表面積を有するゲッター合金粒子と、 の混合物であって、該ゲッター合金がＺｒ−Ａｌ合金、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金及び それらの組み合わせから選択されそしてＨ粒子とＫ粒子との間の重量比が１：１ ０〜１０：１そして好ましくは１：１〜３：１である混合物から形成される。 上記の粒度及び表面積を有するゲター物質の粉末を使用することによって、Ｆ ＥＤの製造間に且つＦＥＤそれ 自体の全寿命間に発散されるガスの良好な収着能が確保される。かかるガスは通 常はＨ₂、そしてマイクロカソード先端に対して極めて有害な酸素含有ガス（Ｃ Ｏ、ＣＯ₂、Ｈ₂Ｏ、Ｏ₂のような）である。ＣＯの場合の収着能は、約０．５× １０^-3mbar×１／ｃｍ²の値に達する場合がある。 上記特許ＧＢ−Ｂ−２１５７４８６に記載される分散媒体又は他の均等媒体の うちの１つを懸濁媒体として使用することができる。 多孔質ゲッター層は、金属基体によって、導電性非金属基体（例えば、珪素） によって又は絶縁基体によって担持されることができる。金属基体の場合には、 その厚さは通常は極めて薄く、例えば５〜５０μｍである。その上、基体は、特 許ＥＰ−Ｂ−０２７５８４４に記載されるようにモノ金属又はマルチ金属であっ てよい。 金属基体の一例は、該特許ＥＰ−Ｂ−０２７５８４４に記載されるように、チ タン、モリブデン、ジルコニウム、ニッケル、クロム−ニッケル合金又は鉄基合 金の層であり、そして場合によってはアルミニウム層を組み合わせたものである 。かかる基体は、好ましくは任意の形状、例えば、円形、長方形、正方形、多角 形、長円形、葉形、長楕円形等の孔又は細長い穴を有する薄いストリップである のが有益である。 他の特定の種類の金属基体は、ＥＰ−Ａ−０５７７８９８に記載される鉄及び マンガン基材非磁性合金のうち の１つである。 もしも基体が本質上絶縁性又は非金属性であるならば、かかる絶縁性又は非金 属性基体の上にＮＥＧの懸濁液を直接付着させることができ、又は上記金属基体 と全く同じモノ金属又はマルチ金属性固定層を有益下に介在させることができる 。 別法に従えば、金属ストリップ上にＮＥＧの懸濁液を別個に付着させ次いで該 ストリップを絶縁性基体のミクロの溝に機械的に収容させることができる。 吹付被覆を行うためには、“マルチサイクル”技術を使用するのが有益である 場合がある。かかる技術は、所定の表面を極めて短い時間例えば数秒間又は１秒 未満の間吹付し、その吹付を先の時間よりも長い時間例えば約１０〜５０秒の間 中止してその揮発性液体を揮発させ、次いで所要の条件に従って吹付工程、蒸発 工程等を反復することよりなる。 多数の吹付は単一のノズルを使用して有益下に実施することができ、又は別法 として、支持体ストリップに運動方向に沿って適当に離置された一連の単一工程 ノズルを使用することによって単一ノズルの反復使用を置き換えることができる 。第二の別法は、運動方向に沿って一連の比例ノズルによって吹き付けられる固 定ストリップの使用を可能にする。 単一サイクルで使用される懸濁液は、同じでも又は互いに異なってもよい。あ る場合には、１つ以上のサイク ルにおいてＡ粒子のみ（又はＨ、例えば水素化チタン）の懸濁液、そして第二の １つ以上のサイクルにおいてＢ粒子のみ（又はＫ、例えばＺｒ−Ｖ又はＺｒ−Ｖ −Ｆｅ合金）の懸濁液を吹き付けることさえも可能である。別法として、２種の 粒子を変動濃度で例えば漸次的に変わる濃度で使用することが可能である。 かくして、同じ又は異なる組成を有する元素の重複する層からなるゲッター層 を有益下に得ることが可能である。基体側にチタン粒子のみより本質上なる１つ 以上の元素の層を有するこれらの元素の層は、基体に対する付着性の故に極めて 有益であることが判明した。 吹付被覆の終わりに、被覆された基体は温和な空気加熱によって例えば７０〜 ８０℃で乾燥され、その後に真空焼結処理が１０^-5mbarよりも低い圧力で且つ本 質上６５０〜１２００℃の温度で実施される。 ここで、用語「焼結」は、表面積を過度に小さくすることなく隣接粒子の間に ある決まった物質移動を生じさせるのに十分な温度で且つ時間でのゲッター物質 の層の加熱処理を意味する。かかる物質移動は、粒子を一緒に結合させ、これに よって機械的強度を増大させ且つ担体への粒子の付着を可能にする。低い温度程 、長い時間を必要とする。本発明の好ましい具体例に従えば、Ｈ成分の焼結温度 と同じ又はそれよりも僅かに高くそしてＫ成分の焼結温度よりも僅かに低い温度 が選択される。 本明細書では、可能な基体のうちの１つに与えられる に用語「絶縁」は、加工温度において電気を導かない任意の物質、例えば、パイ ロセラム、石英ガラス、石英、一般名称での耐火性金属酸化物、特にアルミナを 意味する。図面の簡単な説明 ここで、添付図面を参照しながら本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら に限定されるものではない。 図１及び２は、担持された多孔質層の顕微鏡写真である。 図３は、一酸化炭素収着試験から得られた結果を示すグラフである。 図４は、薄い固定ストリップ（図示せず）に支持された厚さｄの薄いゲッター ストリップが載置されたＦＥＤ絶縁基体（“後板”）の斜視図であって、マイク ロカソード（マイクロチップ）は示されていない。 図５は、１つの代わりに２つのストリップが載置された他の“後板”の斜視図 である。 図６は、“テール”を備えた従来技術のＦＥＤの横断面図である。 図７は、本発明に従ったＦＥＤの簡単化した断面図である。 ここで、図１、即ち、例１に従って得られた層の可視表面部分の１０００倍拡 大した顕微鏡写真について説明すると、これは、試料の高い多孔度及び良好な焼 結レベルを明確に示している。 図２、即ち、例１の同じ層の横断面（図４におけるＡ−Ａ断面）の一部分の１ ８６０倍拡大した顕微鏡写真（逆散乱分析による）は、焼結した混合物成分の良 好な層多孔度のみならず満足な分布均一性、並びにＮｉ−Ｃｒ基体への良好な固 定を示している。 図３は、例１に従って得られた試料についての一酸化炭素収着試験の結果のグ ラフである。Ｘ軸のＱ及びＹ軸のＧの意味に関しては先の国際特許出願ＷＯ９４ ／０２９５７を参照されたい。本出願では、１ｃｍ²の露出面の収着が関係して いる点で異なる。詳細には、本発明に従って且つ例１に従って得られた試料は、 ・ほぼ３ 1/s×ｃｍ²に等しい一酸化炭素初期収着速度Ｇ₁、 ・速度Ｇを０．１ 1/s×ｃｍ²に下げたときにほぼ０．５×１０^-3mbar×１／ｃ ｍ²に等しい一酸化炭素収着量Ｑ₁、 を示すことに注目されたい。 収着試験は、次の操作条件、 ・収着温度：２５℃ ・活性化温度：５００℃（１０分間） ・試験圧：３×１０^-5mbar を使用して実施された。 図４は、蛍光体スクリーンを有しないフィールドエミッターディスプレーであ って、四辺形支持体にその支持体の側面のうちの１つに平行である厚さｄの多孔 質ＮＥ Ｇ層の長方形ストリップを備えたフィールドエミッターディスプレーを示す。 この多孔質ゲッターのストリップは、ＦＥＤの同じ製造法、特には、フリット シーリングと称される工程又は先のガス抜き工程を利用することによって有益な 態様で熱的に活性化されることができるが、この場合に約３００〜４５０℃の温 度に達する。用語「フリットシーリング」に関する詳細については、イタリア国 特許出願Ｍ１９３Ａ００２４２２を参照されたい。 更に、多孔質ゲッターのストリップは、その後の更なる活性化が必要ならばそ れに備えて１つ以上の電気フィードスルーＰと有益下に連結させることができる 。 図５は、２つの互いに垂直なストリップであって片方が他方よりも長い２つの ストリップを備えた図４のＦＥＤと同様のＦＥＤを示しているが、フィードスル ーは示されていない。 図６については、明細書の他の部分で既に説明済である。 図７は、“テール”を有しない本発明のフィールドエミッターディスプレー（ ＦＥＤ）の横断面図であり、ここで絶縁基体Ｓ及びＮＥＧの多孔質層（Ｇ）は金 属固定ストリップＮＳによって隔離されている。 次の実施例は、説明の目的で単に提供されるものであって、いかなる点におい ても本発明の精神及び範囲を限定するものではない。 実施例 遊星ボールミルのステンレス容器に、６０μｍよりも小さい粒度を有する１５ ０ｇの水素化チタンを５０ｃｃの脱イオン水と一緒に導入した。 水の自然蒸発後に、時間（約４時間）及びミリング速度を調整することによっ て、そして該容器でのボールの適当な数と寸法との組み合わせを固定した後に２ ０μｍよりも小さい粒度（平均粒度３〜５μｍ）を有する水素化チタンの粉末を 得た。 水素化チタンのミリングに使用したと同じ条件で且つ同じパラメーターで５３ μｍよりも小さい粒度を有する１５０ｇのＳｔ１０１合金（８４％Ｚｒ、１６％ Ａｌ）をミリングした。かくして、３０μｍよりも小さい寸法（平均寸法８〜１ ９μｍ）の粒子よりなる粉末を得た。表面積は２．０６ｍ²／ｇであった。 その後に、プラスチックボトルにおいて、７０ｇの上記のミリングされた水素 化チタンに、微細にミリングした上記Ｓｔ１０１合金を３０ｇ混合した。これら は、Ｓｔ１２１と称される複合ゲッター物質を形成するための典型的な割合であ る。次いで、３００ｃｃの酢酸イソブチル、４２０ｃｃのイソブチルアルコール 及び５．３ｇのコロジオン綿（ニトロセルロース）を混合することによって得ら れた１５０ｃｃの懸濁媒体を加えた。次いで、ボトルを密封しそして４時間より も長い時間機械的に振盪させた。 かくして、均質な懸濁液が得られたが、これは、もしも任意の時間貯蔵した場 合には使用前に約２時間再度振盪されなければならない。 次いで、プラスチックタンク、圧力調整型噴霧ニードル弁（ＥＦＤカンパニー の７８０Ｓモデルスプレーバルブ）及び制御装置（ＥＦＤカンパニーの７０４０ モデルValvemate）を含む吹付系によって上記懸濁液を金属支持体の表面に付着 させた。 本発明の例では、Ｎｉ−Ｃｒより作られた厚さ０．０５ｍｍで幅４ｍｍのスト リップ形状の金属支持体が使用された（他の試験では、厚さ０．０２ｍｍのシー トが使用された）。 弁は、吹付ノズルが支持体の水平面から約３０ｃｍ離れるようにポールによっ て支持された。付着法は、弁をほぼ１秒間開き、これによって懸濁液を小さな液 滴として流動させ次いでほぼ１５秒間閉じ、ここで懸濁媒体が蒸発できるように した一連の工程（サイクル）からなっていた。この方法を促進させるために、支 持体は加熱支持板によって約３０℃に保たれた。 ゲッター物質の付着厚さは、吹付サイクルの数に比例した。 Ｓｔ１２１粉末によって片面だけ被覆された試料を真空炉に入れ、ここで圧力 を１０^-5mbarよりも下に下げ、次いで温度を約４５０℃まで上昇させ、この値を 約１５分間保った。 その後、炉の温度を９００℃（焼結温度）まで上昇させて３０分間保った。 最後に、系を周囲温度まで冷却し、そして冷却された支持体を炉から取り出し た。焼結された粉末の付着物は、金属支持体の表面に沿って１５０〜１８０μｍ 厚であった。 図１及び２は、焼結された後のゲッター物質付着物の可視表面のＳＥＭ（走査 電子鏡検法）分析から得られた顕微鏡写真である。 図１、即ち、例１に従って得られたゲッター物質層の可視表面部分の１０００ 倍拡大した顕微鏡写真は、試料の高い多孔度及び良好な焼結レベルを明確に示し ている。 図２、即ち、例１の同じゲッター物質層の横断面（図４におけるＡ−Ａ断面） の一部分の１８６０倍拡大した顕微鏡写真（逆散乱分析による）は、焼結した混 合物成分の良好な層多孔度のみならず満足な分布均一性、並びにＮｉ−Ｃｒ基体 への良好な固定を示している。 図３（曲線１）は、例１に従って得られた試料についての一酸化炭素収着試験 の結果を示している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．（ａ）励起可能な蛍光物質の層、及び高い電界によって駆動される電子を 放射する複数のマイクロカソード（ＭＴ）、及び （ｂ）複数の電気フィードスルー（Ｐ）及び真空安定剤（Ｇ）、 が収容された内部真空空間を有するフィールドエミッターフラットディスプレー において、 真空安定剤（Ｇ）が２０〜１８０μｍ（好ましくは２０〜１５０μｍ）厚の不 揮発性ゲッター物質の多孔質担持層より本質的に形成され、しかも該層がマイク ロカソード、蛍光物質及びフィードスルーから本質上離れた区域に収容されてい ることを特徴とするフィールドエミッターフラットディスプレー。 ２．内部空間が、絶縁材料及び／又はから非金属導電性材料から作られた数十 又は数百μｍの厚さを有する本質上互いに平行に配置された２つの薄板であって 、周囲に沿って気密封止され且つ高真空の空間によって隔離された２つの薄板（ ＳＨＣ、Ｓ）にとって形成され、しかも、ディスプレーの一体的部分として、第 一板（ＳＣＨ）は蛍光物質を担持し、そして第二板（Ｓ）は、不揮発性ゲッター 物質の１つ以上の多孔質層（Ｇ）及びマイクロカソードそして場合によっては、 上記の高い電界を発生する複数のグリッド電極も担持することを特徴とする 請求項１記載のディスプレー。 ３．ゲッター物質（Ｇ）が、次の２つの群、 （Ａ）ジルコニウム及び／又はチタニウム及び／又はトリウム及び／又はそれ らの水素化物及び／又はそれらの組み合わせ、 （Ｂ）（ｉ）Ｚｒ−Ａｌ合金及び／又はＺｒ−Ｎｉ及び／又はＺｒ−Ｆｅ合金 、 （ii）Ｚｒ−Ｍ１−Ｍ２合金（ここで、Ｍ１はＶ及びＮｂから選択されそして Ｍ２はＦｅ及びＮｉから選択される）及び／又はＺｒ−Ｔｉ−Ｆｅ合金、 （iii）ジルコニウム及びバナジウム含有合金、特に、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金、 及び （iv）それらの組み合わせ、 から選択されるジルコニウム及び／又はチタン基材ゲッター合金、 から選択される粒子の焼結混合物より本質上形成されることを特徴とする請求項 １又は２記載のディスプレー。 ４．不揮発性ゲッター物質の多孔質層が、好ましくは５〜５０μｍ厚のモノ金 属又はマルチ金属の薄いストリップ（ＮＳ）より本質上形成される基体上に支持 されることを特徴とする請求項１記載のディスプレー。 ５．ストリップ（ＮＳ）が、ニッケル、チタン、モリブデン、ジルコニウム、 クロム−ニッケル合金及び鉄基合金から選択される１種以上の金属より本質上形 成され ることを特徴とする請求項１記載のディスプレー。 ６．ストリップ（ＮＳ）が孔又は溝穴を含有することを特徴とする請求項４記 載のディスプレー。 ７．不揮発性ゲッター物質の多孔質層（Ｇ）が、請求項４記載のストリップ（ ＮＳ）と完全に同じである介在されたモノ金属又はマルチ金属の固定層によって 該ゲッター物質（Ｇ）から好ましくは隔離された絶縁物質又は非金属導電性基体 より本質上形成された基体（Ｓ）上に支持されることを特徴とする請求項１記載 のディスプレー。 ８．絶縁基体が正方形、長方形又は少なくとも一部分が多角形の形状を有しそ して少なくとも不揮発性ゲッター物質の多孔質層（Ｇ）を担持し、そして該層が 基体の側面のうちの１つに対して本質上平行な側面を持つ長方形の表面を少なく とも有することを特徴とする請求項７記載のディスプレー。 ９．基体（Ｓ）が正方形又は長方形の形状を有し、そして同じ又は異なる長さ を有する２つの互いに垂直の層を支持することを特徴とする請求項８記載のディ スプレー。 １０．ゲッター物質の多孔質層が、同じ又は異なる組成を有する一連の元素の重 複する層から形成されることを特徴とする請求項３記載のディスプレー。 １１．支持基体（Ｓ）の側にある最初の沿うから１つ以上の元素の層がチタン粒 子のみより本質上形成されるこ とを特徴とする請求項１０記載のディスプレー。 １２．（ａ）基体（Ｓ、ＮＳ）上に不揮発性ゲッター物質（Ｇ）を付着させそし て付着した物質を適当な真空炉において焼結させることによって多孔質層を得る 、 （ｂ）かくして得た担持層をディスプレーの他の内部部材と一緒に内部空間中 に収容する、そして （ｃ）該内部空問を真空ポンプによって排気させそしてポンプ作用の間に気密 封止する、 ことからなり、しかも、 懸濁媒体中のゲッター物質粒子の懸濁液の電気泳動によって又は手動若しくは 機械的適用好ましくは吹付によって基体へのゲッター物質の付着を実施すること を特徴とする請求項１又は２記載のディスプレーの製造法。 １３．揮発性ゲッター物質の多孔質層（Ｇ）が、該層を１つ以上の電気フィード スルー（Ｐ）に連結しそして層自体の電気抵抗を利用することによって熱的に活 性化されることを特徴とする請求項１２記載の方法。 １４．内部空間が、真空ポンプ作用下でのフリットシーリング操作それに続く真 空ポンプ作用下でのガス抜き操作によって気密封止され、しかもかかる操作はゲ ッター物質を熱的に活性化させる高温で実施されることを特徴とする請求項１２ 記載の方法。 １５．支持されたゲッター物質の多孔質層が、 （ａ）懸濁媒体中に懸濁させた不揮発性ゲッター物質（Ｇ）粒子の懸濁液を調 製し、 （ｂ）かかる懸濁液を使用して吹付塗布技術によって支持基体を塗布し、そし て （ｃ）かくして得た付着物を焼成する、 ことによって得られることを特徴とする請求項１２記載の方法。 １６．粒子が、 （Ｈ）本質的に１〜１０（好ましくは３〜５）μｍの平均粒度及び１〜８．５ （好ましくは７〜８）ｍ²／ｇの表面積を有する水素化チタン粒子と、 （Ｋ）本質的に５〜１５（好ましくは８〜１０）μｍの平均粒度及び０．５〜 ２．５ｍ²／ｇの表面積を有するゲッター合金粒子と、 より本質上なる混合物であって、該ゲッター合金はＺｒ−Ａｌ合金、Ｚｒ−Ｖ合 金、Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ合金及びそれらの組み合わせから選択されそしてＨ粒子とＫ 粒子との間の重量比が１：１０〜１０：１そして好ましくは１：１〜３：１であ る混合物からなることを特徴とする請求項１４記載の方法。 １７．基体表面が予定の時間１回以上（１つ以上のサイクル）吹き付けられ、そ して各吹付の後に懸濁媒体の成分の満足な蒸発を可能にする中断が行われ、各中 断の時間は先の吹付時間よりも長いことを特徴とする請求項１５記載の方法。 １８．１つのサイクルで使用される懸濁液が少なくとも一部分互いに異なること を特徴とする請求項１７記載の 方法。 １９．最初の吹付サイクル（又は最初の２〜３回のサイクル）が水素化チタン粒 子のみを含有する懸濁液で実施されることを特徴とする請求項１８記載の方法。