JPH09511481A - 均一な多成分分散液を製造する方法およびそのような分散液から誘導される製品 - Google Patents
均一な多成分分散液を製造する方法およびそのような分散液から誘導される製品Info
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Abstract
(57)【要約】
細かく粉砕された粒子が水性および/または有機媒体に分散されている均一な多成分分散液を製造する方法が記載されている。該方法は、以下を特徴とする:(a)数種類の粒子の表面上に存在する基が親和性に乏しいか非親和性の性質を有する数種類の粒子が存在する場合には、少なくとも1種の粒子が、少なくとも1つの基Bと少なくとも1つの基Yを有する種Aと接触させられ、ここで、使用される条件下に、基Bはこの少なくとも1種の粒子の表面上に存在する基Xと共有、イオンまたは配位結合を形成し、基Yは、その性質により分散液中に存在する他種(単数または複数)の粒子の表面基と親和性である基である;または(b)そのうちの少なくとも1種の粒子が表面上に基Xを有し、少なくとも1種の他種の粒子が表面上に基Wを有する数種類の粒子が存在する場合には、これらの粒子は、少なくとも1つの基Bと少なくとも1つの基Eを有する種Dと接触させられ、ここで、使用される条件下に、一方で基Xと基Bが、他方で基Eと基Wが、共有、イオンまたは配位結合を形成する;あるいは(c)有意的に異なる粒度を有する数種類の粒子が存在する場合には、それら粒子は、そのような状態で別々にあるいは分散状態で反対の表面電荷を与えられ、このように処理された粒子はその後混合される。
Description
【発明の詳細な説明】
均一な多成分分散液を製造する方法および
そのような分散液から誘導される製品
本発明は、均一な多成分分散液を製造する方法およびそれから誘導される製品
、特に、好ましくは100μm以下の平均粒度を有する粒子が水性および/または有
機媒体中に分散されている、均一な多成分分散液を製造する方法に関する。
セラミック材料、ガラスおよび複合材料の製造においては、必要とされる細か
く粉砕された出発物質、例えば、Al、Si、ZrおよびTiの酸化物、窒化物、ホウ化
物、炭化物および炭化窒化物(Carbonitride)、およびアルカリ金属、アルカリ土
類金属、Sc、Y、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Fe、Co、Niのケイ化物、硫化物、
ヒ化物、アンチモン化物、セレニド類、リン化物およびテルル化物ならびにラン
タニド類は、一般に、水性または有機分散媒中の出発物質の懸濁液(スリップ)
を形成するように先ず加工される。適切な状態調整(流動学、固形分濃度、分散
状態などの調整)の後、スリップは、好適な成形法を用いて未焼結体を作製する
よう直接に加工されるか、あるいは、先ず粉末に変形され、加圧されて直接に未
焼結体を作製するか又は再分散され、その後好適な成形法に
より未焼結体に成形される。好適な成形法は、薄片注型(Foliengieβen)、スリ
ップ注型、加圧注型、電気泳動、射出成形、凍結注型、遠心、ゲル注型、沈降、
高温注型および凍結射出成形である。望ましい材料または焼結体は、最終的には
、焼結により未焼結体から得られる。
通常のセラミック出発材料を高密度まで焼結するには、焼結助剤、例えば、細
かく粉砕された炭素(カーボンブラック)および/または細かく粉砕されたAlお
よびBのような金属または上述の出発物質の中から選択される材料を必要とする
。これらの焼結助剤が、スリップ調製の間に水性または有機系に分散される場合
、個々の成分の異なる表面−化学特性および/または非常に異なる粒度は、望ま
しくない凝集物の形成や得られる多成分スリップの不均一性という難点を生じる
。当然、スリップ中のそのような不均一性または凝集物形成も、それから最終的
に得られる材料に好ましからざる影響を及ぼす。
従って、本発明の目的は、特に、100μm以下の、好ましくは50μm以下の、お
よび特に好ましくは10μm以下の平均粒度を有する、細かく粉砕された粒子の多
成分分散液を製造する方法を提供することにあり、該分散液は、粒子を非常に均
一に分布させており、それ故に、固体製品、例えば、優れた均一性およびそれか
ら得られる
有利な特性を有する焼結体を製造するのに好適である。
本発明は、細かく粉砕された粒子が水性および/または有機媒体に分散されて
いる均一な多成分分散液を製造する方法を提供し、ここにおいては、
(a)比較しうる又は有意的に異なる(平均)粒度を有する数種類の粒子が存在
し、数種類の粒子の表面上に存在する基が親和性に乏しいか非親和性の性質を有
する場合には、少なくとも1種の粒子が、少なくとも1つの基Bと少なくとも1
つの基Yを有する種Aと接触させられ、ここで、使用される条件下に、基Bはこの
少なくとも1種の粒子の表面上に存在する基Xと共有、イオンまたは配位結合を
形成し、基Yは、その性質により分散液中に存在する他種(単数または複数)の
粒子の表面基と親和性である基である;または
(b)そのうちの少なくとも1種の粒子が表面上に基Xを有し、少なくとも1種の
他種の粒子が表面上に基Wを有する数種類の粒子(比較しうる又は有意的に異な
る(平均)粒度を有する)が存在する場合には、これらの粒子は、少なくとも1
つの基Bと少なくとも1つの基Eを有する種Dと接触させられ、ここで、使用され
る条件下に、一方で基Xと基Bが、他方で基
Eと基Wが、共有、イオンまたは配位結合を形成する;あるいは
(c)有意的に異なる(平均)粒度を有する数種類の粒子が存在する場合には、
それら粒子は、そのような状態で別々にあるいは分散状態で反対の表面電荷を与
えられ、このように処理された粒子はその後混合される。
分散される粒子は好ましくは、セラミック材料、ガラスおよび複合材料(例え
ば、セラミック/セラミック、ガラス/セラミック、ガラス/金属およびセラミ
ック/金属)の製造に使用され得る材料の粒子である。従って、それらは特に、
無機または金属起源の固体粒子、例えば、炭素粒子である。それら粒子は、特に
好ましくは、Si、B、Al、Ti、Zr、W、Mo、CrおよびZnの粒子であり、それらから
誘導される酸化物、水和酸化物、窒化物、炭化物、ケイ化物、ホウ化物および炭
窒化物(の混合物)である。具体例は、(無水または水和の)Al2O3、ZrO2、Si3
N4、ムライト、コージエライト、ペロブスカイト、例えば、BaTiO3、PZTおよびP
LZT、SiC、TiC、Ti(C,N)、B4C、BN、AlN、TiB2、ZrB2、ZrC、WC、MoSi2、炭化ク
ロム、炭化アルミニウムおよびZnO、さらにカーボンブラックである。無論、他
の材料の粒子、例えば、本書冒頭で述べたもの
も、本発明により使用され得る。一般に、本発明により製造される分散液は、少
なくとも2種の異なる材料の粒子を含む。
さらに、本発明によれば、「ナノサイズ」または「ナノ分散」または「サブミ
クロン」の粒子または粉末を含むそれらの材料の使用が好まれる。本明細書の文
脈では、「ナノサイズ」は、100μm以下の、特に50μm以下の、特に好ましくは3
0μm以下の平均粒度を意味し、粒度に特定の下限値はないが、これは好ましくは
0.lnmであり、特に1nmである。「サブミクロン」は、本明細書の文脈では、100n
m以上から1μmまでの平均粒度を意味する。
無論、本発明の方法においては、より大きい(数種類の)粒子を使用すること
も可能であるが、(平均)粒度は好ましくは、100μm、特に50μm、特に好まし
くは10μmを越えるべきではない。
本発明の方法の手法(a)〜(c)は全て、少なくとも2種類の粒子(一般に、異な
る材料からなる)を改質するのに役立つ。それらは、例えば、それらの異なる粒
度および/または異なる表面特性のために、そのままでは、十分に均一な分散液
を形成することが困難であるか不可能である。本発明によれば、それらの表面ま
たは表面特性は同じか少なくとも非常に類似しているか(手法(a))、
それらの表面は静電気的引力を有しているか(手法(c))、あるいはそれらの表
面基により、それらは化学的に互いに結合する(手法(b))ことができる。
以下に、本発明の方法の3つの手法を、より詳細に説明する。平易さの観点か
ら、議論は2成分系を仮定する、即ち、それぞれの場合2種類の粒子のみが存在
するとして、それらは、それらの有意的に異なる粒度によるか、および/または
それらの異なる表面特性の故に、加工が可能となるのは、特定の予備処置に供す
る場合にのみ適度に均一な分散液を作製し得る。しかしながら、本発明は、その
ような2成分系に限定されず、3、4、5種類などの粒子が同時に存在すること
も可能である。それら粒子も、上述又はそれ以外の理由から、他とともに均一な
分散液を容易に形成できない少なくとも1種の粒子が存在する限り、それらの粒
度および/または表面特性に関して類似または同じ状態を生じうる。3種以上の
粒子が存在する場合、本発明の手法(a)〜(c)の2つ、または全てを互いに組合わ
せることも可能である。
本発明方法の手法(a)は、例えば、比較しうるサイズであり得る2種の粒子が
、表面基の性質に関して(有意的に)異なるとき、均一な分散液を製造する有利
な方法である。これは例えば、表面の基Xが-OH、-COOHなどのよう
な極性または親水性の基であり、他方、第二の粒子が、非極性または疎水性の、
例えば、炭化水素基(例えば、-CH3)である表面基を有するときが、その場合で
ある。当然、そのような組合わせにより、通常、極性表面基Xを有する粒子は、
類似の表面特性を有する、即ち、表面基Xを有する粒子に優先的に近接して位置
している、非極性表面基を有する粒子は好ましくは、同様に非極性表面基を有す
る粒子に近接して位置する、即ち、粒子のランダムな分布ではなく、従って不均
一である、分散液が導かれる。
本発明の手法(a)により、この状態は種々の様式で変化させられることができ
、その結果、粒子はそれらの表面特性において非常に類似しているか同一にさえ
もなり、それにより分散液中のこれらのランダムな分布が可能となる。全てのこ
れらの可能性は、1種または2種の粒子が、粒子の表面基がそのとき非常に類似
している又は同一でさえある(例えば、全て疎水性または全て親水性)ように、
それらの表面で改質されるという点で共通している。これは、表面基Xを有する
粒子を種(化合物)Aと反応させることによって為し得、Aは、一方で前記基Xと
反応する基Bを有して共有、イオンまたは配位結合を形成し、並びに他方で、他
種の粒子の表面上に位置する基と
性質において非常に類似している又は同一でさえある基Yを有する。この方法の
最終的効果は、表面基Xが、均一な分散液を製造するために(より)好適である
表面基Yによって実際的意味で置き換えられる、ことである。しかしながら、基X
は、単に除去されるのではなく、変化した形態でさらに常に存在し(つまり、共
有、イオンまたは配位結合の一部分として)、今や単に「新しい」表面基Yのた
めの定着点としてのみ機能することが認識されるべきである。理想的ケースでは
、他種の粒子の表面上の基は、同様に基Yであるが、これらの表面基がその性質
において基Yと同じクラスに属するものであれば、多くの場合、それでも十分で
ある。例えば、他種の粒子の表面基が酸基である場合には、基Yは同様に酸基(
例えば、カルボン酸基またはスルホン酸基)であれば通常十分である。無論、類
似の状態がまた、例えば、塩基性、非極性または極性基の場合にも当てはまる。
さらに、他種の粒子の表面基は、基Yと類似の様式で、この他種の粒子の表面に
固着されたものであって良い。換言すれば、例えば、表面基X'を有する他種の粒
子を、少なくとも1種の基B'と少なくとも1種の基Y'を有する種A'を用いて、最
終的には、表面基Yと同一であるか少なくとも比較しうる性質を有する表面基Y'
が存在するように改質することも無論、可能
である。しかしながら、成果の経済性の理由により、1種の粒子のみを、それら
の表面基がそのとき他種の粒子の表面基と親和性となるように改質することは、
一般に好ましい。しかしながら、例えば、好適な基Bと好適な基Yとを有する種A
は、可能であるとしても、得るのが困難である。よって、少なくとも1種の基B
と少なくとも1種の基Yとを有する(より容易に得られ得る)種Aを使用し、そう
して、それらが基Vと親和性の(または同一でさえある)ように、他種の粒子の
表面基(例えば、Y)を改質することも、より有利である。
表面基Xを有する種類の粒子と種Aとの反応は、他の(可能ならば、既に表面改
質された)種の粒子の存在下に(例えば、分散媒中で)、または、それらとは別
々に(最終分散液を製造する前に)のいずれかで、行われ得る。後者の手法は、
使用される反応条件下に、他種の粒子の表面基も基Bまたは基Yとさえも反応し、
或いは、他種の粒子が、基Xと基Bとの反応による或る形態干渉を導き得る可能性
を排除できないときに、それも使用され得るという利点を有する。
上述の反応または表面改質における手順は、DE-A-4212633のナノサイズ粒子を
例として包括的に説明されているが、その開示の全範囲を本明細書に参考として
援用す
る。1種の粒子の表面改質が他種の粒子の非存在下に為される場合、使用される
分散媒は、その後、常法により(例えば、濾過により)除去され得、引き続いて
粒子の洗浄および乾燥が行われ得る。この手順はまた、いかなる残存する(即ち
、未反応の)種Aも、後に製造される均一な分散液中には存在しないという利点
も有する。このように改質された粒子は、次に、改質されていない、或いは同様
に適切な様式で先に改質されていた、他種の粒子とともに分散されて均一な分散
液を製造し得る。
種Aおよび好適な分散媒などの具体例を、さらに以下に示す。
本発明方法の手法(b)は、有意的に異なる粒度を有する種類の粒子がともに分
散されるべき場合に特に有利であるが、比較しうる粒度を有する種々の粒子の分
散液に有利に使用されることもできる。しかしながら、この手法(b)は、表面基X
を有する(有意的に)より大きな粒子(例えば、サブミクロンまたはミクロン範
囲の粒子)と表面基Wを有する(有意的に)より小さな粒子(例えば、ナノサイ
ズの粉末)との複合分散液の場合について、より詳細に説明する。手法(b)は、
手法(a)とは、手法(a)の場合には他種の粒子の表面基とのみ親和性であるべき種
Aの基Yが、他種の粒子の表面基Wと反応できる基Eにより
置き換えられて、(基XおよびBの場合と同様に)共有、イオンまたは配位結合を
形成する、という点にのみにおいて実質的に異なる。手法(b)の場合にも、基Xと
Bと基EとWとの反応は、(最終的な分散媒の中で)同時に行われ得るけれども、
これらの反応を連続的に行うのが好ましい。特に、先ず、表面基Xを有するより
大きな粒子を種Dと反応させ(手法(a)において、種Aと反応させたように)、次
に、使用された分散媒を除去して洗浄し、そして所望されるならば、得られた粒
子を乾燥することが好ましい。その後、このように表面改質された粒子は、表面
基Wを有するより小さな粒子と組合わされ反応され得る。反応は、反応媒体を再
び除去しなければならないことを回避するために、最終分散液のために使用され
る分散媒の中で有利に行われる。
手法(a)と手法(b)の両方において、種AまたはDは必ずしも1つの基Bおよび1
つの基YまたはEのみを有する必要はなく、反対に、幾つかのケースでは、少なく
ともそのような複数の定着が立体構造的に可能であることが保証される限り、例
えば、2個または3個もの基BまたはEを介して、これらの種が表面基XまたはWを
有する粒子に定着することが有利であり得る。
表面基Xを有するより大きな粒子と表面基Wを有するよ
り小さな粒子について上記に示した代替的(b)による方法は、基本的には、種Dが
カップリング剤として機能する、より小さな粒子によるより大きな粒子の化学的
コーティングであると見なし得る。これに比して、本発明方法の手法(c)は、よ
り小さな粒子によるより大きな粒子の静電塗装として説明され得る。この手法で
は、分散されるべき2種の粒子(有意的に異なる粒度を有する)の表面電荷の符
号が異なっていて、その結果、それらの反対の表面電荷により、より大きな粒子
がより小さな粒子を引きつけ、またその逆も起こることが、何よりも確保される
べきである。当然、この方法は、関与する粒子の表面電荷の増大とともに、効率
が増加する。本明細書の文脈では、「有意的に異なる粒度」という表現は特に、
その(平均)粒度が、少なくとも3倍、好ましくは少なくとも5倍、より好まし
くは少なくとも10倍、異なる粒子を意味する。
関与する粒子の表面の帯電は、種々の方法により行われ得る。例えば、一方ま
たは双方の粒子が、(別々に)静電気的に帯電し、続いて共に、または連続して
、分散媒に添加され得る。
手法(c)の特に好ましい実施態様によれば、より大きい粒子とより小さい粒子
は、先ず別々に分散され、このよ
うに調製された分散液は組合わされ混合される。個々の分散液のpH値は、これら
の分散液および得られる分散液(組合わせた後)の両方において、種々の粒子の
ゼータ電位が異なる符号を有し、かつ特にできるだけ高い正の値またはできるだ
け高い負の値を有するように選択される。
ゼータ電位は、生じる表面電荷の数の尺度である。それは、pHに依存し、それ
ぞれの材料の等電点に関連して、正または負のいずれかである。換言すれば、ゼ
ータ電位が高いほど、粒子の電荷は高く、反対の電荷の粒子に対する吸引力が高
い。
負または正の表面電荷の形成は、好ましくは、酸または塩基の添加により生起
または促進される。この目的に好適な酸は、例えば、HCl、HNO3、H3PO4およびH2
SO4のような無機酸であり、さらに酢酸、プロピオン酸、クエン酸、コハク酸、
シュウ酸および安息香酸のような有機カルボン酸である。好適な塩基は、例えば
、NH3、NaOH、KOH、Ca(OH)2であり、さらに第一級、第二級および第三級脂肪族
および芳香族アミンならびにテトラアルキル水酸化アンモニウムである。しかし
ながら、最初に使用される粒子が、選択されたpHに依存して(十分に)負または
正に帯電している表面基を有することが、本発明方法の
手法(c)のこの実施態様についての必須要件である。この要件は、表面改質され
ていない粒子によっては、常に満たされるわけではない。特に、組合わされるべ
き2種類の粒子がそれぞれ、pHに依存して正または負の電荷を帯びる好適な表面
基を有するのみでなく、これらの表面基が最終分散液の望ましいpHで反対の(好
ましくは、大きい)表面電荷を有して、強い吸引力の存在を確実にする必要があ
ることも考慮に入れられるべきである。従って、手法(c)の場合、2種の粒子の
うち少なくとも1種を表面上で改質して、表面基を有していて、他種の粒子とと
もに上述の条件を満たす粒子を生じることも必要であり得る。故に、例えば、表
面基Xを有していて、他種の粒子との組合わせではpH依存性の静電塗装方法には
相応しくないであろう(例えば、2種の粒子のゼータ電位が、望ましい又は任意
のpHで同じ符号を有するために)より大きな粒子の場合には、その手順は、これ
らの粒子を先ず種Aと反応させるものであり得る(先に手法(a)で説明したように
)。この場合、種Aの基Yは、望ましいpHで好適なゼータ電位を有するものである
。他種の粒子が、「正しい」符号であるが比較的低い値のゼータ電位を有する場
合には、望ましいpHでさらに同じ符号であるがより高い値のゼータ電位を生ずる
表面基を有するように、第二の
粒子も適切に改質され得る。
手法(c)において、種々の粒子の一種が好適な(帯電された)形態で既に存在
している場合には、勿論、可能ならば(上述したように)先の表面改質の後に、
他種の粒子を適切に帯電させることが必要とされるだけである。
本発明方法の上記手法(a)〜(c)で表面改質の目的で使用され得る種について、
以下でより詳細に説明する。
種AおよびDの場合、基BおよびYまたはBおよびEは例えば、単(共有)結合によ
り、または(好ましくは)炭化水素基により、互いに連結される。この炭化水素
基は、ハロゲン、O、SおよびNのような1個以上のヘテロ原子を、基本的構造の
一部として、および/または(特に、ハロゲンの場合)単にそれに結合している
だけのものとして、含み得る。炭化水素基は、飽和もしくは不飽和、脂肪族、脂
環式または芳香族炭化水素基、あるいはそれらの組合わせであり得、この基は好
ましくは、500、特に300および特に好ましくは200を越えない分子量を有する。
その基本的構造が、30以下の、特に20以下の、および特に好ましくは10以下の原
子(炭素原子およびヘテロ原子)を含む連結基を使用することが特に好ましい。
連結基の具体例は、C2-20−(シクロ)−アルキレン(アルケニレン)基、例え
ば、エチレン、プロピレン、ブチレン、
(シクロ)ペンチレンおよび(シクロ)ヘキシレン、C5-12−(ヘテロ)アリー
レン、例えば、フェニレン、ナフチレンおよびピリジレン、さらにこれらの基の
1種以上の組合わせでもある。
種AおよびDにおける基B、基EおよびYの性質は、分散される粒子の表面上に存
在する基の性質に依存する。しかしながら、好ましい基B、EおよびYは、式-C0T
、-SO2T、-POT2、-OPOT2、-OH、-NHR1および-CO-CHR1-CO-で示されるものであり
、式中、Tは、ハロゲン(F、Cl、BrまたはI)、-OCO-、-OR1および-NR1 2(同一
または異なるものであり得る)であり、R1は同一または異なってHまたはC1-8−
アルキル(好ましくはC1-4−アルキル)であり、式中、Yは、式-CR2 3で示され
る基でもあり得、ここでR2は同一または異なって水素、ハロゲン(特に、Fおよ
びCl)およびC1-8−アルキル(好ましくはC1-4−アルキル)であり、1つの基R2
はOR3またはSR3(R3=C1-8−アルキルまたはC6-12−アリール)でもあり得る。
Yに関する付加的な意味は、Yが、他のいかなる基とも反応して共有、イオンまた
は配位結合を形成する必要のない基であって、分散される他種の粒子の表面上に
存在する基と類似か同じであることのみが必要であり、ここで、これらの基は疎
水性(非極性)基でも良いという事実により説明される。
好ましい種AおよびDの具体例は下記に示すが、しかしながら、これらは本発明
を限定するものとみなされるべきではない。
2〜12個の炭素原子を有するモノカルボン酸およびポリカルボン酸、例えば
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、コハク酸、グルタル酸、シュウ酸、
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
ステアリン酸、トリオキサデカン酸およびその対応する無水物(例えば、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水コハク酸および無水マレイン酸)、ハロゲン化物(
例えば、塩化アセチル、プロピオニルクロリド、ブチリルクロリド、バレリルク
ロリド)、エステル類(例えば、酢酸エチル)およびアミド類(例えば、アセト
アミド)。
一般式R3-nNHn、式中、n=0、1または2であり、基Rは、互いに独立して、
1〜12、特に1〜6、特に好ましくは1〜4の炭素原子を有するアルキル基(
例えば、メチル、エチル、n-およびi-プロピルおよびブチル)で示されるものの
ようなモノアミン類およびポリアミン類およびアルキレン(特に、エチレンおよ
びプロピレン)アミン、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミ
ンおよびジエチレントリアミン。
4〜12個の、特に5〜8個の炭素原子を有するβ−ジカルボニル化合物、例
えば、アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、3,5−ヘプタンジオン、
アセト酢酸およびアセト酢酸C1-4−アルキル。
少なくとも2つの異なる官能基を有する化合物、例えば、アラニン、アルギニ
ン、アスパラギン、アスパラギン酸および他のアミノ酸、さらに、ベタイン、ED
TA、酢酸グアニジン、プロピオン酸グアニジン、酪酸グアニジン、アゾジカルボ
ンアミド、8−ヒドロキシキノリン、2,6−ピリジンジカルボン酸、メタクリ
ロニトリル、ジアミノマレオニトリル、アセトイミド、グアニンおよびグアノシ
ン、さらにグアニジンカーボネート、グアニジンニトレートおよびグアニジノベ
ンズイミダゾール。
本発明で使用される他の好ましい種AおよびDは、基BおよびYまたは基BおよびE
の少なくとも1種が式-MZnR3-nまたは-AlZmR2-mを有するものであり、式中、Mは
Si、TiまたはZrであり、Zは表面基XまたはWと反応する基であり、Rは表面基Xま
たはWと非反応性であって、(3−n)が2に等しい場合、同一または異なる基
であり、nは1、2または3であり、好ましくは1または2であり、mは1また
は2である。無論、MまたはAlがSc、Y、La、Ce、Nd、
Nb、Ta、Mo、W、Bなどで置き換えられた対応する基を使用することも可能である
。
上記の基の中で、Siを含むものが特に好ましい。対応する種の具体例は、以下
のものである:
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−(トリメトキシシリル)プロピル
メタクリレート、3−(トリエトキシシリル)プロピルコハク酸無水物、シアノ
エチルトリメトキシシラン、3−チオシアナトプロピルトリエトキシシラン、3
−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、7−オクト−1−エニルトリメトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキ
シシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−ドデシルトリエトキシシラン、
n−ヘキサデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、
n−オクタデシルトリクロロシラン、ジクロロメチルビニルシラン、ジエトキシ
メチルビニルシラン、ジメチルオクタデシルメトキシシラン、tert−ブチルジメ
チルクロロシラン−メチルジシラザン、ジエトキシジメチルシラン、ジエチルト
リメチルシリルホスファイト、2−(ジフェニルメチルシリル)エタノール、ジ
フェニルシランジオール、エチル(ジフェニル
メチルシリル)アセテート、エチル−2,2,5,5−テトラメチル−1,2,
5−アザジシロリジン 1−アセテート、エチルトリエトキシシラン、ヒドロキ
シトリフェニルシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルシリルアセテー
ト、アリルジメチルクロロシラン、(3−シアノプロピル)ジメチルクロロシラ
ンおよびビニルトリエトキシシラン。
(個々の)表面改質のために、関連する粒子は通常、反応条件下で不活性な好
適な溶媒(分散媒)、例えば、水、ヘキサンまたはトルエンのような脂肪族もし
くは芳香族炭化水素、あるいはジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはTH
Fのようなエーテル、あるいは極性、プロトン性または非プロトン性溶媒(例え
ば、メタノール、エタノール、n−およびi−プロパノールならびにブタノール
のようなアルコール、アセトンおよびブタノンのようなケトン、酢酸エチルのよ
うなエステル、ジメチルアセトアミドおよびジメチルホルムアミドのようなアミ
ド、スルホランおよびジメチルスルホキシドのようなスルホキシドまたはスルホ
ン)中に分散され、適切な様式(可能ならば、高温および/または触媒の存在下
に)で表面改質剤(例えば、種Aまたは種D)と反応させられる。
その後、分散媒は除去することができ、表面改質され
た材料は、所望ならば、洗浄され乾燥されて、最終分散媒(水性および/または
有機)に再分散され得る。好適な分散媒の例は、表面改質のための好適な媒体の
例として既に述べた溶媒である。
使用される分散媒は好ましくは、蒸留(可能ならば、減圧下で)により困難な
く、これを除去可能とする沸点を有する。200℃以下、特に150℃以下の沸点を有
する溶媒が好ましいが、高沸点液体(例えば、沸点>350℃を有する)の使用も
無論、可能である。
セラミック材料、ガラスおよび複合材料の製造の場合には、(最終)分散媒の
量は、一般に10〜90容量%、好ましくは15〜85容量%および特に20〜80容量%で
ある。分散液の残りは、(改質された)出発物質の粉末、無機および/または有
機の加工助剤および可能ならば、さらに存在する遊離の改質剤(例えば、種Aま
たは種D)からなる。
本発明により得られる均一な分散液は、そのままで更に加工しても良く(下記
を参照のこと)、或いは分散媒が完全に若しくは部分的に除去される(例えば、
望ましい固形分濃度となるまで)。分散媒(特に、これが水を含むとき)を除去
する特に好ましい方法は、その種々の実施態様の中での凍結乾燥である(例えば
、凍結噴霧乾
燥)。
本発明の方法により得られる、セラミック粉末の均一な分散液または乾燥した
均一な多成分混合物は、次にさらに加工されて未焼結体または焼結体が製造され
得る。本発明により得られる均一なセラミック・スリップは、例えば、冒頭で述
べた成形法、例えば、薄片注型、スリップ注型、加圧注型、射出成形、電気泳動
、ゲル注型、凍結注型、凍結射出成形または遠心により未焼結体を作製すること
により、直接に成形され得る。
あるいは、上述のように、焼結性粉末は、例えば、濾過、分散媒の蒸発、噴霧
乾燥または凍結乾燥により、スリップから得ることができる。次にこれは、その
ままで加圧されて未焼結体を形成するか、または、焼結性粉末は好ましくは界面
活性剤を分散助剤として用いて再分散され、この懸濁液は続いて前記成形法の1
つにより加工されて未焼結体を形成する。この実施態様において、好適な分散助
剤は、例えば、HCl、HNO3およびH3PO4のような無機酸;酢酸、プロピオン酸、ク
エン酸およびコハク酸のような有機酸;NaOH、KOHおよびCa(OH)2のような無機塩
基;および第一級、第二級および第三級アミン類ならびにテトラアルキル水酸化
アンモニウムのような有機塩基;ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスル
ホ
ン酸、ポリカルボン酸、これらの化合物の塩(例えば、NaまたはNH4)、N,N-ジ
アルキルイミダゾリン類およびN-アルキルピリジニウム塩のような有機高分子電
解質;またはポリエチレンオキシド、脂肪酸ポリアルキロールアミド、スクロー
ス−脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドおよびポリヒドロキシ化合物
の脂肪酸エステルのような非イオン性界面活性剤。
未焼結体は、ほとんどの場合1000〜2500℃の範囲にある通常の温度で最終的に
焼結され、焼結体を生じ得る。しかしながら、特定の場合には、使用される焼結
温度はまた、大幅に低い温度、例えば、250℃以下であり得る。
下記の実施例は、本発明を説明するものであるが、本発明を限定するものでは
ない。実施例1
手法(a)に従うAl2O3/SiC分散液の製造
(a)トルエン中SiC粉末の表面改質
精密ガラス攪拌機、還流冷却器および乾燥用チューブを設けた500mlの三つ口
丸底フラスコに、カールフィッシャー滴定により水分含量が測定されていたトル
エン70mlを注いだ。再現可能な結果を確実にするために、使用されるトルエンの
水分含量は0.10±0.04重量%の範囲内になるように状態調整された。
アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン1.27gまたは3−(トリエト
キシシリルプロピル)コハク酸無水物1.74gを、さらに30mlのトルエンに溶解し
、三つ口丸底フラスコを攪拌しながら加えた。SiC粉末(UF 45、ロンザ(Lonza)
)50gを添加した後、懸濁液を130℃にて5時間維持した。次に、改質されたSiC
粉末を濾過し、それぞれトルエン100mlで3回洗浄した。乾燥器の中で、120℃に
て16時間乾燥した後、スリップ製造のために粉末を粉砕した。
同様の実験手順が、SiおよびB4Cの改質のためにも使用された。それぞれの粉
末50gについて、3−(トリエトキシシリルプロピル)コハク酸無水物2.46g(
B4C)または0.68g(Si)使用され、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシ
シランが1.80g(B4C)または0.49g(Si)使用された。
(b)Al2O3とSiCとの組合わせ
酸官能基を有する二重くし型高分子(Doppelkammopolymer)(ダプラル・イー・
エヌ1469(Dapral EN 1496)、アイシーアイ(ICI))2gを、蒸留水100mlに溶解し
、その後、(a)で記載されるようなアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシ
ランで表面改質したSiC粉末5.6gを加え、超音波により分散した。この後、Al2O3
粉末(CS
400M、マルチンスベルク(Martinswerk))128gを添加した。得られた懸濁液は、
超音波によりプレ分散し、一方、懸濁液の最終的な均一化は攪拌ボールミル中で
2時間微粉砕する(1000rpm)ことにより行った。
この予め行う改質の結果として、SiCの表面化学特性はAl2O3のものと本質的に
同じになるので、35容量%の固形分含量と5容量%のSiC含量を有する均一で安
定な2成分懸濁液が製造できた。懸濁液の粘度は、剪断速度200s-1で12mPa.sで
あった。相対未焼結密度59〜62%を有する成形体が、このスリップから石膏型中
でのスリップ注型により得られ、これらの成形体は、窒素気流雰囲気中で1800℃
にて焼結され、相対密度98%以上を有する焼結体を生み出した。焼結体は、SiC
粒子の均一な分布を有した。焼結体の平均粒度は、2〜2.5μmで、一方、650〜7
00mPaの強度が測定された。
驚くべきことに、このようにして1800℃での非加圧高密度化は、非常に高い密
度をもたらし、一方、極めて細かい微細構造を維持する。これは、スリップの著
しく改善された均一性にのみ起因する。実施例2
手法(b)に従うナノサイズ・カーボンブラックによるSiCの化学的コーティング
表面にカルボキシル基を有するカーボンブラック(FW 200)3.75gを、トルエ
ン1リットル中に入れた。攪拌しながら、実施例1(a)で記載されたようにアミ
ノエチルアミノプロピルトリメトキシシランで改質されたSiC粉末150gを加えた
。添加が完了した後、懸濁液を、水分離機を用い130℃にて5時間反応させた。
この反応時間の後、改質された粉末を濾過し、トルエン100mlでそれぞれ3回洗
浄し、乾燥炉で110℃にて16時間乾燥した。これにより、視覚的に均一で濃い黒
色の粉末が得られた。実施例3
手法(c)に従う静電塗装によるナノサイズTiNを含むAl2O3/TiNスリップの製造
TiNを1〜5容量%含むAl2O3スリップを、実施例1と同様の手順により製造し
た。静電塗装による均一なAl2O3/TiNスリップの製造は、pHが3〜8の範囲で反
対の符号を有するAl2O3とTiNのゼータ電位に基づく。複合スリップは、以下のよ
うにして製造した:
(a)水性Al2O3懸濁液の製造
水性Al2O3懸濁液(Al2O3粉末はスミトモ(Sumitomo)のAKP 50)を製造するため
に、対応する量の水を最初に注入し、攪拌を続けながら、秤量したAl2O3粉末を
ゆっくり加えた。HCl添加により、pHを3〜4の値に維持した。一方
で、効果的な分散液を得るために、懸濁液を超音波で処理した。
(b)ナノ分散TiN懸濁液の製造
手順は(a)と同様であり、使用されるTINは実施例1(a)と類似の方法により表
面改質されたナノサイズ粉末であった。懸濁液のpHは、水酸化テトラブチルアン
モニウムにより3〜9に維持された。
(c)最終分散液の製造
上記(a)および(b)で製造されたAl2O3とTiNの懸濁液を、攪拌を続けながら混合
し、超音波で処理した。2つの懸濁液を混合した後、複合スリップのpHは4〜5
であった。
(d)さらなる加工
複合スリップを、非イオン性保護コロイド(TweenR80、アイシーアイ)を2重
量%(Al2O3とTiNに基づく)の濃度で添加することにより、安定化させた。
分散媒(水)、Al2O3およびTiNの量、さらにAl2O3/TiN比は、ナノサイズTiN
を1〜5容量%および固形分を20〜30容量%含むスリップが得られるようなもの
であった(表1を参照のこと)。
得られたスリップは、スリップ注型または加圧スリップ注型のような成形方法
に直接に使用でき、あるいは濃縮した後に、加工されて押出用組成物とすること
もでき
る。スリップ注型により製造される未焼結体は、Al2O3マトリックスの中で、ナ
ノ分散TiN粒子の極めて均一な分布を有していた。
実施例4
手法(c)に従う静電塗装による均一なAl2O3/SiC複合スリップの製造
異なる表面化学特性のために、水性懸濁液中Al2O3/SiC粒子は、3と8の範囲
のpHで反対の符号の表面電荷を有する。従って、Al2O3をSiC(または、その逆)
で静電塗装するための必須要件は、このpH範囲で満たされる。
この原則に基づき、SiCを5〜15容量%含む水性Al2O3スリップを、以下のよう
にして製造した:
(a)水性Al2O3懸濁液の製造
水性Al2O3懸濁液(Al2O3粉末CS400m、マルチンスベルク(Martinswerk)、d50〜
400nm)を製造するために、適切な量の脱イオン水を最初に注入し、攪拌を続け
ながら、秤量したAl2O3粉末を加えた。HCl添加により、pHを3〜4の値に維持し
た。一方で、効果的な分散液を得るために、懸濁液を超音波で処理した。
(b)水性SiC懸濁液の製造
手順は(a)と同様であり、使用されるSiC粉末は実施例1(a)により表面改質さ
れた粉末(TF 45、ロンザ;平均粒度90nm)であった。懸濁液のpHは、稀アンモ
ニウムにより 6〜7に維持された。
(c)最終分散液の製造
上記(a)および(b)で記載されたように製造された懸濁液を、攪拌を続けながら
混合した。反応の後、得られたスリップのpHは4〜5であった。
(d)さらなる加工
複合スリップを、非イオン性保護コロイド(TweenR80、アイシーアイ)を全固
形分に基づき2重量%の濃度で加えて、安定化させた。
得られたスリップは、表2に要約される。
SiCを5容量%、固形分を30容量%含むスリップでは、剪断速度200s-1で、粘
度16mPa.sが測定された。このスリップを石膏型中でスリップ注型して、0.56〜
0.58の未焼結密度を有する未焼結体が作製され、それは、Al2O3マトリックス中
に非常に均一なSiC分布を有していた。これらの未焼結体は、窒素気流雰囲気中
で1800℃にて非加圧焼結に供されて、98%を上回る相対密度を有する焼結体が形
成され、700MPaを上回る曲げ強さが測定された。未焼結体中の均一なSiC分布は
、焼結した後では、2〜3μmの平均粒度を有する微細構造をもたらし、それは
、出発平均粒度400nmを有するAl2O3にとって、また1800℃という焼結温度にとっ
て、非常に細かいものであった。
下記実施例は、セラミック材料を製造するのに好適な、粒子の表面改質につい
て更に説明する。実施例5
カーボンブラックの表面改質
精密ガラス攪拌機、還流冷却器および乾燥用チューブを設けた2lの三つ口丸
底フラスコに、カーボンブラック50gを入れた。このカーボンブラックに、改質
反応の前にカールフィッシャー滴定によって水分含量が測定されていたトルエン
1.3lを加えた。再現可能な結果を確実にするために、使用されるトルエンの水
分含量は0.10±0.04重量%の範囲内になるように状態調整された。
アミノエチルアミノプロピルコハク酸無水物45.4gを、さらに0.2lのトルエ
ンに溶解し、三つ口丸底フラスコを攪拌しながら加えた。得られた懸濁液を、13
0℃にて5時間維持し、その後、表面改質されたカーボンブラックを濾過し、そ
れぞれトルエン100mlで3回洗浄した。乾燥器の中で、120℃にて16時間乾燥した
後、粉末を粉砕した。実施例6
B4Cの表面改質
精密ガラス攪拌機、還流冷却器および乾燥用チューブを設けた500mlの三つ口
丸底フラスコに、改質反応の前にカールフィッシャー滴定により水分含量が測定
されていたトルエン70mlを注いだ。再現可能な結果を確実にするために、使用さ
れるトルエンの水分含量は0.10±0.04重量%の範囲内になるように状態調整され
た。
アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン1.80gまたは3−(トリエト
キシシリルプロピル)コハク酸無水物2.46gを、さらに30mlのトルエンに溶解し
、三つ口丸底フラスコを攪拌しながら加えた。B4Cを50g添加した後、懸濁液を1
30℃にて5時間維持し、その後、改質された粉末を濾過し、それぞれトルエン10
0mlで3回洗浄した。乾燥器の中で、120℃にて16時間乾燥した後、スリップ製造
のために粉末を粉砕した。実施例7
n-TiN粉末の表面改質
n-TiN粉末の改質のために、H2O/メタノール混合物(1:1)200mlを、還流冷却器
および乾燥用チューブを設けた三つ口フラスコに入れ、プロピオン酸グアニジン
0.7gを、それに加えた。加熱と攪拌をしながら、プロピオン酸グアニジンを溶
解した後、n-TiN粉末10gを攪拌しながら少量ずつ加え、その後、混合物を還流
(90℃)下に4時間加熱した。次に、高温の懸濁液を吸引フィルター(孔幅:3
〜6μm)で濾過し、残留物をH2O/エタノール混合物で完全に洗浄し、その後
フィルターケークを90℃にて10時間乾燥した。乾燥された粉末は、40nmを下回る
平均粒度まで再分散され得た。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ナス リューディガー
ドイツ国 ディー−66292 リーゲルスベ
ルク ヴァイアーシュトラーセ 7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 細かく粉砕された粒子が水性および/または有機媒体に分散されている均 一な多成分分散液を製造する方法であって、 (a)粒子の表面上に存在する基が親和性に乏しいか非親和性の性質を有する数 種類の粒子が存在する場合には、少なくとも1種の粒子が、少なくとも1つの基 Bと少なくとも1つの基Yを有する種Aと接触させられ、ここで、使用される条件 下に、基Bはこの少なくとも1種の粒子の表面上に存在する基Xと共有、イオンま たは配位結合を形成し、基Yは、その性質により分散液中に存在する他種(単数 または複数)の粒子の表面基と親和性である基である;または (b)そのうちの少なくとも1種の粒子が表面上に基Xを有し、少なくとも1種の 他種の粒子が表面上に基Wを有する数種類の粒子が存在する場合には、これらの 粒子は、少なくとも1つの基Bと少なくとも1つの基Eを有する種Dと接触させら れ、ここで、使用される条件下に、一方で基Xと基Bが、他方で基Eと基Wが、共有 、イオンまたは配位結合を形成する;あるいは (c)有意的に異なる粒度を有する数種類の粒子が存在す る場合には、それら粒子は、そのような状態で別々にあるいは分散状態で反対の 表面電荷を与えられ、このように処理された粒子はその後混合される、 ことを特徴とする方法。 2. 基Yおよび分散液中の前記他種(1種または複数)の粒子の表面基がそれ ぞれ親水性(疎油性)または疎水性(親油性)基であることを特徴とする請求項 1(a)に記載の方法。 3. 基Yおよび分散液中の前記他種(1種または複数)の粒子の表面基がそれ ぞれ酸基または塩基であるかそれぞれ疎水性基であることを特徴とする請求項2 に記載の方法。 4. 粒子の1種が他種(1種または複数)の粒子よりも有意的により大きいこ とを特徴とする請求項1(b)に記載の方法。 5. より大きい粒子とより小さい粒子が別々に分散しており、このように得ら れる分散液が組合わされ混合されて、別々の分散液のpH値がこれらの分散液およ び得られる分散液の両方においても種々の粒子のゼータ電位が異なる符号を有す るように選択されることを特徴とする請求項1(c)に記載の方法。 6. 少なくとも1種の粒子が他種の(反対に帯電して いる)粒子と接触させられる前に静電的に帯電していることを特徴とする請求項 1(c)に記載の方法。 7. 分散される粒子が無機または金属起源の固体粒子、特にセラミック材料の 製造に使用され得るそれらの物質の粒子、および炭素粒子から選択され、好まし くは0.1nm〜10μmの範囲の粒度を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれ かに記載の方法。 8. 粒子がSi、B、Al、Ti、Zr、W、Mo、Cr、Znの粒子であり、それらから誘導 される(混合された)酸化物、水和酸化物、窒化物、炭化物、ケイ化物、ホウ化 物および炭化窒化物並びにそれらの混合物であることを特徴とする請求項1〜7 のいずれかに記載の方法。 9. 少なくとも1種の分散される粒子が100 nmを越えない平均粒度を有するこ とを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の方法。 10. 基BとYまたは基BとEがヘテロ基を含んでも良い炭化水素基により互いに 連結していることを特徴とする請求項1〜4および7〜9のいずれかに記載の方 法。 11. 種Aまたは種Dが式-MZnR3-nまたは-AlZmR2-mで示される少なくとも1種 の基を含み、式中、MはSi、TiまたはZrであり、Zは表面基XまたはWと反応する基 であり、Rは表面基XまたはWと非反応性であり、(3−n)が2に 等しい場合、同一または異なる基であり、nは1、2または3であり、mは1ま たは2であることを特徴とする請求項1〜4および7〜10のいずれかに記載の 方法。 12. 基B、EおよびYの少なくとも1種が式-COT、-SO2T、-POT2、-OPOT2、-OH 、-NHR1および-CO-CHR1-CO-で示されるものから選択され、式中、Tは、ハロゲン 、-OCO-、-OR1および-NR1 2(同一または異なるものであり得る)であり、R1は同 一または異なってHまたはC1-8−アルキルであり、Yは、式-CR2 3で示される基で もあり得、ここでR2は同一または異なって水素、ハロゲンおよびC1-8−アルキル であり、1つの基R2はOR3またはSR3(R3=C1-8−アルキルまたはC6-12−アリー ル)でもあり得ることを特徴とする請求項1〜4および7〜11のいずれかに記 載の方法。 13. 請求項1〜12のいずれかに記載の方法により得られ得る均一な分散液 。 14. 分散媒が請求項13に記載の分散液から除去され、このように得られる 粒子が所望ならば洗浄、乾燥および/または焼結されることを特徴とする細かく 粉砕された粒子の均一な多成分混合物を製造する方法。 15. 請求項14に記載の方法により得られ得る均一な多成分混合物。 16. 請求項13に記載の均一な分散液および/または請求項15に記載の均 一な混合物に使用されることを特徴とするセラミック材料、ガラスおよび複合体 を製造する方法。 17. 請求項16に記載の方法により得られるセラミック材料、ガラスおよび 複合体。
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