JPH0954379A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ゼラチン皮膜の強度や脆性が改良されたハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供する。 【解決手段】少なくともスルフィン酸、ハロアルキルも
しくはビニルスルホン基を有する、モノマーの繰り返し
単位を含むシェルを有するコア/シェルポリマーラテッ
クスを含有するハロゲン化銀写真感光材料。
ン化銀写真感光材料を提供する。 【解決手段】少なくともスルフィン酸、ハロアルキルも
しくはビニルスルホン基を有する、モノマーの繰り返し
単位を含むシェルを有するコア/シェルポリマーラテッ
クスを含有するハロゲン化銀写真感光材料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料に関し、詳しくは新規なポリマーラテックスを含
むハロゲン化銀写真感光材料に関する。更に詳しくは、
該ポリマーラテックスを含む事により、写真特性を損う
事なく膜物理性の改良されたハロゲン化銀写真感光材料
に関する。
光材料に関し、詳しくは新規なポリマーラテックスを含
むハロゲン化銀写真感光材料に関する。更に詳しくは、
該ポリマーラテックスを含む事により、写真特性を損う
事なく膜物理性の改良されたハロゲン化銀写真感光材料
に関する。
【0002】
【従来の技術】写真感光材料を構成する親水性コロイド
層には、一般にバインダーとしてゼラチンが多く用いら
れる。ゼラチンは高い膨潤能とゲル化能力とを有し、ま
た、種々硬膜剤による架橋も容易である事等、極めて優
れた特性を有するバインダーである。一方で、親水性コ
ロイド層としてのゼラチンは皮膜物性の点で必ずしも万
能な素材ではなく、例えば高湿下での膜の可塑化に基づ
く変形や吸湿による膜の伸びあるいは低湿下における膜
の脆化等の欠点を有している。
層には、一般にバインダーとしてゼラチンが多く用いら
れる。ゼラチンは高い膨潤能とゲル化能力とを有し、ま
た、種々硬膜剤による架橋も容易である事等、極めて優
れた特性を有するバインダーである。一方で、親水性コ
ロイド層としてのゼラチンは皮膜物性の点で必ずしも万
能な素材ではなく、例えば高湿下での膜の可塑化に基づ
く変形や吸湿による膜の伸びあるいは低湿下における膜
の脆化等の欠点を有している。
【0003】このようなゼラチン膜の欠点を克服すべ
く、ハロゲン化銀乳剤層、保護層、バック層、中間層等
の親水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有させ
る事で親水性コロイド膜の湿度に対する寸度安定性、引
っかき強度、脆性、乾燥性等の皮膜物性を改良する試み
が行われている。
く、ハロゲン化銀乳剤層、保護層、バック層、中間層等
の親水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有させ
る事で親水性コロイド膜の湿度に対する寸度安定性、引
っかき強度、脆性、乾燥性等の皮膜物性を改良する試み
が行われている。
【0004】例えば、米国特許2,763,625号、
2,852,382号、特開昭62−115,152
号、特開平5−66,512号、同5−80449号、
特公昭60−15935号、特公平4−64,058
号、同5−45014号などには、アルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレートをはじめ、種々のモノマー
からなるポリマーラテックスをゼラチン含有親水性コロ
イド層に用いる事が開示されている。
2,852,382号、特開昭62−115,152
号、特開平5−66,512号、同5−80449号、
特公昭60−15935号、特公平4−64,058
号、同5−45014号などには、アルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレートをはじめ、種々のモノマー
からなるポリマーラテックスをゼラチン含有親水性コロ
イド層に用いる事が開示されている。
【0005】しかしながら、この種のラテックスの使用
は、ゼラチンのいくつかの皮膜物性改良には有効である
が、特に高湿あるいは含水状態でのゼラチン膜の強度が
不十分となってしまう。これに対して、ゼラチンもしく
は共存する硬膜剤と反応可能な活性メチレン基をラテッ
クスに共重合する事で、このような問題が解決される事
が知られている。これに対して、ゼラチンもしくは共存
する硬膜剤と反応可能なスルフィン酸基、ハロアルキル
基、ビニルスルホン基又はビニルスルホン基に誘導され
る基などの反応性基をラテックスに共重合する事で、こ
のような問題が解決される事が知られている。
は、ゼラチンのいくつかの皮膜物性改良には有効である
が、特に高湿あるいは含水状態でのゼラチン膜の強度が
不十分となってしまう。これに対して、ゼラチンもしく
は共存する硬膜剤と反応可能な活性メチレン基をラテッ
クスに共重合する事で、このような問題が解決される事
が知られている。これに対して、ゼラチンもしくは共存
する硬膜剤と反応可能なスルフィン酸基、ハロアルキル
基、ビニルスルホン基又はビニルスルホン基に誘導され
る基などの反応性基をラテックスに共重合する事で、こ
のような問題が解決される事が知られている。
【0006】例えば、特開昭63−221343号には
スルフィン酸基を有するモノマーを含有するポリマーラ
テックスを、特公平4−64058号にはクロロメチル
基を有するスチレンモノマーを含有するポリマーラテッ
クスを、特開昭63−220239号、特開平2−29
3735号にはビニルスルホン基又はビニルスルホン基
に誘導される基を有するモノマーを含有するポリマーラ
テックスをそれぞれ写真感光材料のゼラチン層中に含有
させることにより、写真感光材料の寸度安定性、失透
性、膜強度、接着強度等が改良される事が開示されてい
る。
スルフィン酸基を有するモノマーを含有するポリマーラ
テックスを、特公平4−64058号にはクロロメチル
基を有するスチレンモノマーを含有するポリマーラテッ
クスを、特開昭63−220239号、特開平2−29
3735号にはビニルスルホン基又はビニルスルホン基
に誘導される基を有するモノマーを含有するポリマーラ
テックスをそれぞれ写真感光材料のゼラチン層中に含有
させることにより、写真感光材料の寸度安定性、失透
性、膜強度、接着強度等が改良される事が開示されてい
る。
【0007】しかしながら、これらのラテックスによ
る、ゼラチン膜の寸度安定性や膜強度の望ましい改良の
ためには反応性モノマーをある程度の量以上、共重合す
る事が必要である。また、ラテックスのゼラチンに対す
る比率が高くなったり、ゼラチンの絶対量が少くなる
と、湿潤状態でのゼラチン膜の強度が著しく低下するた
め、さらに多量の反応性モノマーの共重合が必要となっ
たり、反応性モノマーの量を増やすのみでは必要な膜強
度が得られないといった問題があった。
る、ゼラチン膜の寸度安定性や膜強度の望ましい改良の
ためには反応性モノマーをある程度の量以上、共重合す
る事が必要である。また、ラテックスのゼラチンに対す
る比率が高くなったり、ゼラチンの絶対量が少くなる
と、湿潤状態でのゼラチン膜の強度が著しく低下するた
め、さらに多量の反応性モノマーの共重合が必要となっ
たり、反応性モノマーの量を増やすのみでは必要な膜強
度が得られないといった問題があった。
【0008】最近の写真感光材料においては、高画質
化、より高いフィルム物性の要求、処理の迅速化等の観
点から従来よりゼラチンの塗布量の低減化が重要な課題
の1つとなっている。例えば写真製版の分野において
は、写真感光材料に塗設されたゼラチンを低減化する事
による、寸度安定性の改良あるいは処理液持ち出し量の
低減化による補充量の低減化等が強く望まれている。
化、より高いフィルム物性の要求、処理の迅速化等の観
点から従来よりゼラチンの塗布量の低減化が重要な課題
の1つとなっている。例えば写真製版の分野において
は、写真感光材料に塗設されたゼラチンを低減化する事
による、寸度安定性の改良あるいは処理液持ち出し量の
低減化による補充量の低減化等が強く望まれている。
【0009】従って、従来の単なる反応性モノマー共重
合ラテックスでは、膜強度改良が十分でない場合が生じ
たり、比較的複雑な構造を有する反応性モノマーを多量
に用いる事によるポリマーラテックスの製造コスト上昇
の問題を生じ、さらなる改良が望まれていた。
合ラテックスでは、膜強度改良が十分でない場合が生じ
たり、比較的複雑な構造を有する反応性モノマーを多量
に用いる事によるポリマーラテックスの製造コスト上昇
の問題を生じ、さらなる改良が望まれていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、新規なポリマーラテックスを含有するハロゲン化銀
写真感光材料を提供する事にある。本発明の第2の目的
は、上記のラテックスを含む事により、写真特性に悪影
響を与える事なくゼラチン皮膜の強度や脆性が改良され
たハロゲン化銀写真感光材料を提供する事にある。本発
明の第3の目的は、低ゼラチン使用量でも十分な膜強度
を有し、かつ寸度安定性に優れ、処理液補充量の低減化
が可能なハロゲン化銀写真感光材料を提供する事にあ
る。
は、新規なポリマーラテックスを含有するハロゲン化銀
写真感光材料を提供する事にある。本発明の第2の目的
は、上記のラテックスを含む事により、写真特性に悪影
響を与える事なくゼラチン皮膜の強度や脆性が改良され
たハロゲン化銀写真感光材料を提供する事にある。本発
明の第3の目的は、低ゼラチン使用量でも十分な膜強度
を有し、かつ寸度安定性に優れ、処理液補充量の低減化
が可能なハロゲン化銀写真感光材料を提供する事にあ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の手段により達成された。 (1)下記一般式(I)、(II) 、(III) で表されるエ
チレン性不飽和モノマーの少なくとも一種より誘導され
る繰り返し単位を有するシェルを有するコア/シェルポ
リマーラテックスを含有する事を特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。
下の手段により達成された。 (1)下記一般式(I)、(II) 、(III) で表されるエ
チレン性不飽和モノマーの少なくとも一種より誘導され
る繰り返し単位を有するシェルを有するコア/シェルポ
リマーラテックスを含有する事を特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。
【0012】
【化2】
【0013】式中R1 は水素原子、炭素数1〜4の置換
または無置換アルキル基、ハロゲン原子を表す。Qは単
結合または2価の連結基を表す。L1 、L3 はアルキレ
ン、アラルキレン、アリーレンを表し、L2 はアルキレ
ン、アラルキレン、ヘテロアリーレンを表す。Mは水素
原子もしくは陽イオンを表す。X1 はハロゲン原子を表
す。R2 は -CH=CH2、-CH2-CH2-X2 のいずれかを表し、
X2 は求核基により置換されるか、塩基によってHX2
の形で脱離しうる基を表す。
または無置換アルキル基、ハロゲン原子を表す。Qは単
結合または2価の連結基を表す。L1 、L3 はアルキレ
ン、アラルキレン、アリーレンを表し、L2 はアルキレ
ン、アラルキレン、ヘテロアリーレンを表す。Mは水素
原子もしくは陽イオンを表す。X1 はハロゲン原子を表
す。R2 は -CH=CH2、-CH2-CH2-X2 のいずれかを表し、
X2 は求核基により置換されるか、塩基によってHX2
の形で脱離しうる基を表す。
【0014】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の好ま
しい態様は下記(2) 、(3) である。 (2)ポリマーラテックスのコア部とシェル部の各ポリ
マーの重量比が20/80ないし95/5の範囲にある
事を特徴とする上記(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。 (3)コア及びまたはシェルのガラス転移温度が50℃
以下である事を特徴とする上記(1)、(2)に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
しい態様は下記(2) 、(3) である。 (2)ポリマーラテックスのコア部とシェル部の各ポリ
マーの重量比が20/80ないし95/5の範囲にある
事を特徴とする上記(1)に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。 (3)コア及びまたはシェルのガラス転移温度が50℃
以下である事を特徴とする上記(1)、(2)に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に本発明のコア/シェル構造
を有するポリマーラテックスについて説明する。本発明
のラテックスを構成するコアは、具体的には種々の重合
可能なエチレン性不飽和モノマーの1種もしくは2種以
上の繰返し単位からなるポリマーである。
を有するポリマーラテックスについて説明する。本発明
のラテックスを構成するコアは、具体的には種々の重合
可能なエチレン性不飽和モノマーの1種もしくは2種以
上の繰返し単位からなるポリマーである。
【0016】このようなモノマーとしては、アクリル酸
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、オレフィン類、ジエン類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエーテル類、他種々のエチレン
性不飽和モノマーを用いる事ができ、また、二個以上の
エチレン性不飽和基を有するモノマーも好ましく用いる
事ができる。
エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル
類、オレフィン類、ジエン類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエーテル類、他種々のエチレン
性不飽和モノマーを用いる事ができ、また、二個以上の
エチレン性不飽和基を有するモノマーも好ましく用いる
事ができる。
【0017】さらに具体的な例を挙げると、アクリル酸
エステル類としては、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルア
クリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアク
リレート、sec −ブチルアクリレート、tert−ブチルア
クリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリ
レート、tert−オクチルアクリレート、シアノエチルア
クリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、ジメ
チルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルアクリレート、2,2−ジメチル−3
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メトキシエチ
ルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2
−エトキシエチルアクリレート、2−iso −プロポキシ
アクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−
(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−
(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω−メ
トキシポリエチレングリコールアクリレート(付加モル
数n=9)、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレ
ート、1,1-ジクロロ−2−エトキシエチルアクリレート
等が挙げられる。
エステル類としては、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルア
クリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアク
リレート、sec −ブチルアクリレート、tert−ブチルア
クリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリ
レート、tert−オクチルアクリレート、シアノエチルア
クリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、ジメ
チルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、5−ヒ
ドロキシペンチルアクリレート、2,2−ジメチル−3
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メトキシエチ
ルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2
−エトキシエチルアクリレート、2−iso −プロポキシ
アクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−
(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−
(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω−メ
トキシポリエチレングリコールアクリレート(付加モル
数n=9)、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレ
ート、1,1-ジクロロ−2−エトキシエチルアクリレート
等が挙げられる。
【0018】メタクリル酸エステル類の例としては、メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロ
ピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n
−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、
sec −ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレ
ート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリ
レート、N−エチル−N−フェニルアミノエチルメタク
リレート、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチル
メタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタ
クリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタ
クリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシ
ブチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリ
レート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso
−プロポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチ
ルメタクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチ
ルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチ
ルメタクリレート、アリルメタクリレートなどを挙げる
ことができる。
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロ
ピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n
−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、
sec −ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレ
ート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリ
レート、N−エチル−N−フェニルアミノエチルメタク
リレート、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチル
メタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタ
クリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタ
クリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシ
ブチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリ
レート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso
−プロポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチ
ルメタクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチ
ルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチ
ルメタクリレート、アリルメタクリレートなどを挙げる
ことができる。
【0019】ビニルエステル類の例としては、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルメ
トキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香
酸ビニル、サリチル酸ビニルなどを挙げることができ
る。共役ジエンモノマーとしては、1,3−ブタジエ
ン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2−エチル−
1,3−ブタジエン、2−n−プロピル−1,3−ブタ
ジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2−
メチル−1,3−ペンタジエン、1−フェニル−1,3
−ブタジエン、1−α−ナフチル−1,3−ブタジエ
ン、1−β−ナフチル−1,3−ブタジエン、2−クロ
ル−1,3−ブタジエン、1−ブロム−1,3−ブタジ
エン、1−クロルブタジエン、2−フルオロ−1,3−
ブタジエン、2,3−ジクロル−1,3−ブタジエン、
1,1,2−トリクロル−1,3−ブタジエン及び2−
シアノ−1,3−ブタジエンを挙げることができる。
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルメ
トキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香
酸ビニル、サリチル酸ビニルなどを挙げることができ
る。共役ジエンモノマーとしては、1,3−ブタジエ
ン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2−エチル−
1,3−ブタジエン、2−n−プロピル−1,3−ブタ
ジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2−
メチル−1,3−ペンタジエン、1−フェニル−1,3
−ブタジエン、1−α−ナフチル−1,3−ブタジエ
ン、1−β−ナフチル−1,3−ブタジエン、2−クロ
ル−1,3−ブタジエン、1−ブロム−1,3−ブタジ
エン、1−クロルブタジエン、2−フルオロ−1,3−
ブタジエン、2,3−ジクロル−1,3−ブタジエン、
1,1,2−トリクロル−1,3−ブタジエン及び2−
シアノ−1,3−ブタジエンを挙げることができる。
【0020】また、上記のモノマー以外にアクリルアミ
ド類:例えば、アクリルアミド、エチルアクリルアミ
ド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアク
リルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチル
アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミドなど; メタクリルアミド類:例えば、メタクリルアミド、エチ
ルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、
ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリ
ルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタク
リルアミドなど;
ド類:例えば、アクリルアミド、エチルアクリルアミ
ド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアク
リルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチル
アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミドなど; メタクリルアミド類:例えば、メタクリルアミド、エチ
ルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、
ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリ
ルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタク
リルアミドなど;
【0021】オレフィン類:例えば、エチレン、プロピ
レン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン等;スチレン類:例えば、スチレン、メチルス
チレン、エチルスチレン、クロルメチルスチレン、メト
キシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、
ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メ
チルエステルなど; ビニルエーテル類:例えば、メチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテルなど;
レン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン等;スチレン類:例えば、スチレン、メチルス
チレン、エチルスチレン、クロルメチルスチレン、メト
キシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、
ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メ
チルエステルなど; ビニルエーテル類:例えば、メチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテルなど;
【0022】その他として、クロトン酸ブチル、クロト
ン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸
ジメチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン、メトキシエチルビニルケトン、N−ビニルピロリド
ン、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、メチレ
ンマロンニトリル、塩化ビニリデン、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、
ビニルスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプ
ロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、等を挙げるこ
とができる。
ン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸
ジメチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン、メトキシエチルビニルケトン、N−ビニルピロリド
ン、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、メチレ
ンマロンニトリル、塩化ビニリデン、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、
ビニルスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプ
ロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、等を挙げるこ
とができる。
【0023】また本発明のラテックスのコアには、少な
くとも2個の共重合可能なエチレン性不飽和基を有する
モノマーを用いる事もできる。このようなモノマーの例
としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
トリビニルシクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、などが挙げられる。
くとも2個の共重合可能なエチレン性不飽和基を有する
モノマーを用いる事もできる。このようなモノマーの例
としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
トリビニルシクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、などが挙げられる。
【0024】以上、列挙したモノマーは1種のみを用い
ても良いし2種以上のモノマーを共重合してもよい。ま
た重合の行いやすさ、コア/シェル構造形成のしやすさ
の点から、上記のモノマー群のうち、好ましく用いられ
るのはアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、共役ジエン類、スチレン類、2
個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーである。
以上述べたコアポリマーのうち、特に好ましい態様とし
ては、コアポリマーが乳化重合により製造され、かつ水
性媒体中に微粒子分散物(ラテックス)の形で存在して
いる事である。
ても良いし2種以上のモノマーを共重合してもよい。ま
た重合の行いやすさ、コア/シェル構造形成のしやすさ
の点から、上記のモノマー群のうち、好ましく用いられ
るのはアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、ビニルエステル類、共役ジエン類、スチレン類、2
個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーである。
以上述べたコアポリマーのうち、特に好ましい態様とし
ては、コアポリマーが乳化重合により製造され、かつ水
性媒体中に微粒子分散物(ラテックス)の形で存在して
いる事である。
【0025】このような分散物においては、コアポリマ
ーは微粒子の形で存在している。このポリマーの粒子径
は、ゼラチンと混合したフィルムの膜物理性や、それ自
体の水分散安定性、被膜形成性に影響を及ぼし、大きす
ぎると好ましくない。以上の点より、コアポリマーの数
平均粒子径は1.0μm以下、好ましくは0.7μm以
下、特に好ましくは0.5μm以下である。そして下限
は0.00001μm以上が好ましい。
ーは微粒子の形で存在している。このポリマーの粒子径
は、ゼラチンと混合したフィルムの膜物理性や、それ自
体の水分散安定性、被膜形成性に影響を及ぼし、大きす
ぎると好ましくない。以上の点より、コアポリマーの数
平均粒子径は1.0μm以下、好ましくは0.7μm以
下、特に好ましくは0.5μm以下である。そして下限
は0.00001μm以上が好ましい。
【0026】本発明のコア/シェルラテックスのシェル
部について以下に説明する。本発明のシェル部は下記一
般式(I)、(II)、(III) で表される反応性基を有する
エチレン性不飽和モノマーの少なくとも1種より誘導さ
れる繰り返し単位を有するポリマーである。
部について以下に説明する。本発明のシェル部は下記一
般式(I)、(II)、(III) で表される反応性基を有する
エチレン性不飽和モノマーの少なくとも1種より誘導さ
れる繰り返し単位を有するポリマーである。
【0027】
【化3】
【0028】式中R1 は水素原子、炭素数1〜4の置換
または無置換アルキル基、ハロゲン原子を表す。Qは単
結合または2価の連結基を表す。L1 、L3 はアルキレ
ン、アラルキレン、アリーレンを表し、L2 はアルキレ
ン、アラルキレン、ヘテロアリーレンを表す。Mは水素
原子もしくは陽イオンを表す。X1 はハロゲン原子を表
す。R2 は -CH=CH2、-CH2-CH2-X2 のいずれかを表し、
X2 は求核基により置換されるか、塩基によってHX2
の形で脱離しうる基を表す。
または無置換アルキル基、ハロゲン原子を表す。Qは単
結合または2価の連結基を表す。L1 、L3 はアルキレ
ン、アラルキレン、アリーレンを表し、L2 はアルキレ
ン、アラルキレン、ヘテロアリーレンを表す。Mは水素
原子もしくは陽イオンを表す。X1 はハロゲン原子を表
す。R2 は -CH=CH2、-CH2-CH2-X2 のいずれかを表し、
X2 は求核基により置換されるか、塩基によってHX2
の形で脱離しうる基を表す。
【0029】さらに詳細に説明すると、R1 は水素原
子、炭素数1〜4(例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル、n−ブチル)またはハロゲン原子(例えば、塩素
原子、臭素原子)を表し、好ましくは水素原子、メチル
基、塩素原子を表す。Qは単結合もしくは二価の連結基
を表し、具体的には下式で表される。
子、炭素数1〜4(例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル、n−ブチル)またはハロゲン原子(例えば、塩素
原子、臭素原子)を表し、好ましくは水素原子、メチル
基、塩素原子を表す。Qは単結合もしくは二価の連結基
を表し、具体的には下式で表される。
【0030】
【化4】
【0031】Q1 は−CON(R3 )−(R3 は水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の
置換アルキル基を表わす)、−COO−、−NHCO
−、−OCO−、
子、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の
置換アルキル基を表わす)、−COO−、−NHCO
−、−OCO−、
【0032】
【化5】
【0033】(R4 、R5 はそれぞれ独立に、水素、ヒ
ドロキシル、ハロゲン原子または置換もしくは無置換
の、アルキル、アルコキシ、アシルオキシもしくはアリ
ールオキシを表わす)を表わし、Q2 はQ1 と反応性基
を結ぶ連結基を表わし、mは0または1を表わしnは0
または1を表わす。また、n=0のときはm=0であ
る。L2 で表される連結基は具体的には、下記の一般式
で表される。
ドロキシル、ハロゲン原子または置換もしくは無置換
の、アルキル、アルコキシ、アシルオキシもしくはアリ
ールオキシを表わす)を表わし、Q2 はQ1 と反応性基
を結ぶ連結基を表わし、mは0または1を表わしnは0
または1を表わす。また、n=0のときはm=0であ
る。L2 で表される連結基は具体的には、下記の一般式
で表される。
【0034】
【化6】
【0035】J1 、J2 、J3 、J4 は同じでも異なっ
ていてもよく、−CO−、−SO2−、−CON
(R6 )−(R6 は水素原子、アルキル基(炭素数1〜
6)、置換アルキル基(炭素数1〜6))、−SO2 N
(R6 )−(R6 は上記と同義)、−N(R6 )−R7
−(R6 は上記と同義、R7 は炭素数1〜約4のアルキ
レン基)、−N(R6 )−R7 −N(R8 )−(R6 、
R7 は上記と同義、R8 は水素原子、アルキル基(炭素
数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1〜6)を表わ
す。)、−O−、−S−、−N(R6 )−CO−N(R
8 )−(R6 、R8 は上記と同義)、−N(R6 )−S
O2 −N(R8 )−(R6 、R8 は上記と同義)、−C
OO−、−OCO−、−N(R6 )CO2 −(R6 は上
記と同義)、−N(R6 )CO−(R6 は上記と同義)
等を挙げることができる。
ていてもよく、−CO−、−SO2−、−CON
(R6 )−(R6 は水素原子、アルキル基(炭素数1〜
6)、置換アルキル基(炭素数1〜6))、−SO2 N
(R6 )−(R6 は上記と同義)、−N(R6 )−R7
−(R6 は上記と同義、R7 は炭素数1〜約4のアルキ
レン基)、−N(R6 )−R7 −N(R8 )−(R6 、
R7 は上記と同義、R8 は水素原子、アルキル基(炭素
数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1〜6)を表わ
す。)、−O−、−S−、−N(R6 )−CO−N(R
8 )−(R6 、R8 は上記と同義)、−N(R6 )−S
O2 −N(R8 )−(R6 、R8 は上記と同義)、−C
OO−、−OCO−、−N(R6 )CO2 −(R6 は上
記と同義)、−N(R6 )CO−(R6 は上記と同義)
等を挙げることができる。
【0036】p、q、rは0または1を表わす。Y1 、
Y2 、Y3 、Y4 は互いに同じでも異なっていてもよ
く、炭素数1〜10個の無置換もしくは置換のアルキレ
ン基、炭素数7〜20のアラルキレン基、または炭素数
6〜20のフェニレン基を表わし、アルキレン基は直鎖
でも分岐でもよい。L1 、L3 は炭素数1〜10個の置
換もしくは無置換のアルキレン基、炭素数7〜20のア
ラルキレン基、または炭素数6〜20のアリーレン基を
表し、L2は炭素数1〜10の置換もしくは無置換のア
ルキレン基、炭素数7〜20のアラルキレン基、置換も
しくは無置換のヘテロアリーレン基を表す。アルキレン
基は直鎖でも分岐でもよい。L2 がアラルキレン基の場
合は、X1 とはアルキレン側で連結する。
Y2 、Y3 、Y4 は互いに同じでも異なっていてもよ
く、炭素数1〜10個の無置換もしくは置換のアルキレ
ン基、炭素数7〜20のアラルキレン基、または炭素数
6〜20のフェニレン基を表わし、アルキレン基は直鎖
でも分岐でもよい。L1 、L3 は炭素数1〜10個の置
換もしくは無置換のアルキレン基、炭素数7〜20のア
ラルキレン基、または炭素数6〜20のアリーレン基を
表し、L2は炭素数1〜10の置換もしくは無置換のア
ルキレン基、炭素数7〜20のアラルキレン基、置換も
しくは無置換のヘテロアリーレン基を表す。アルキレン
基は直鎖でも分岐でもよい。L2 がアラルキレン基の場
合は、X1 とはアルキレン側で連結する。
【0037】R2 は -CH=CH2、-CH2-CH2-X2 のいずれか
を表し、X2 は求核基により置換されるか、塩基によっ
てHX2 の形で脱離しうる基を表す。X2 はハロゲン原
子、水酸基、-O3SR9(R9 はメチル基、フェニル基、メ
チルフェニル基、ハロメチル基)、-O2CR9(R9 は上記
と同義)等を挙げることができる。
を表し、X2 は求核基により置換されるか、塩基によっ
てHX2 の形で脱離しうる基を表す。X2 はハロゲン原
子、水酸基、-O3SR9(R9 はメチル基、フェニル基、メ
チルフェニル基、ハロメチル基)、-O2CR9(R9 は上記
と同義)等を挙げることができる。
【0038】アルキレン基としては、例えばメチレン、
メチルメチレン、ジメチルメチレン、メトキシメチレ
ン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラル
キレン基としては、例えばフェニレンメチレン、フェニ
レンエチレン、メチレンフェニレン、エチレンフェニレ
ン、アリーレン基としては、例えばp−フェニレン、m
−フェニレン、メチルフェニレン、クロルフェニレン、
ヘテロアリーレン基としては、例えばトリアジンジイ
ル、ピリミジンジイルなどがある。
メチルメチレン、ジメチルメチレン、メトキシメチレ
ン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラル
キレン基としては、例えばフェニレンメチレン、フェニ
レンエチレン、メチレンフェニレン、エチレンフェニレ
ン、アリーレン基としては、例えばp−フェニレン、m
−フェニレン、メチルフェニレン、クロルフェニレン、
ヘテロアリーレン基としては、例えばトリアジンジイ
ル、ピリミジンジイルなどがある。
【0039】以下に本発明のラテックスにおけるシェル
を構成する繰り返し単位を与えるスルフィン酸基、ハロ
アルキル基、ビニルスルホン基を有するモノマーをそれ
ぞれ具体的に例示するが、本発明はこれらに限定されな
い。
を構成する繰り返し単位を与えるスルフィン酸基、ハロ
アルキル基、ビニルスルホン基を有するモノマーをそれ
ぞれ具体的に例示するが、本発明はこれらに限定されな
い。
【0040】スルフィン酸基を有するモノマー M−1 スチレンスルフィン酸ナトリウム M−2 スチレンスルフィン酸カリウム M−3 スチレンスルフィン酸 M−4 α−メチルスチレンスルフィン酸ナトリウム M−5 α−クロルスチレンスルフィン酸ナトリウム
【0041】
【化7】
【0042】ハロアルキル基又はハロヘテロアリーレン
基を有するモノマー M−9 2−クロロエチルアクリレート M−10 2−ブロモエチルアクリレート M−11 2−クロロエチルメタクリレート M−12 2−クロロプロピルアクリレート M−13 3−クロロプロピルアクリレート M−14 4−ブロモブチルアクリレート M−15 2−クロロシクロヘキシルアクリレート M−16 2,2−ジクロロエチルアクリレート M−17 2,2,2−トリクロロエチルメタクリレート M−18 クロロメチルスチレン M−19 ブロモメチルスチレン M−20 2−メチル−4−クロロメチルスチレン
基を有するモノマー M−9 2−クロロエチルアクリレート M−10 2−ブロモエチルアクリレート M−11 2−クロロエチルメタクリレート M−12 2−クロロプロピルアクリレート M−13 3−クロロプロピルアクリレート M−14 4−ブロモブチルアクリレート M−15 2−クロロシクロヘキシルアクリレート M−16 2,2−ジクロロエチルアクリレート M−17 2,2,2−トリクロロエチルメタクリレート M−18 クロロメチルスチレン M−19 ブロモメチルスチレン M−20 2−メチル−4−クロロメチルスチレン
【0043】
【化8】
【0044】ビニルスルホン基又はビニルスルホン基に
誘導される基を有するモノマー
誘導される基を有するモノマー
【0045】
【化9】
【0046】本発明のシェル部を構成するポリマー中に
は、上記の反応性基を含むエチレン性不飽和モノマー以
外のエチレン性不飽和モノマーが共重合されていてもよ
い。このようなモノマーとしては、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、オレフィン類、ス
チレン類、ビニルエーテル類、他前記のコア粒子を構成
するモノマーを具体例として挙げる事ができ、このうち
アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニ
ルエステル類、スチレン類が特に好ましい。
は、上記の反応性基を含むエチレン性不飽和モノマー以
外のエチレン性不飽和モノマーが共重合されていてもよ
い。このようなモノマーとしては、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、オレフィン類、ス
チレン類、ビニルエーテル類、他前記のコア粒子を構成
するモノマーを具体例として挙げる事ができ、このうち
アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニ
ルエステル類、スチレン類が特に好ましい。
【0047】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
において、シェルポリマーにおける反応性基を有するモ
ノマーユニットの割合は、性能上の必要により任意に変
える事ができ、0.1ないし100重量%の範囲で用い
る事ができる。但し、反応性基を有するモノマーユニッ
トの共重合量を増やすと前記の種々効果は増大するが、
ある量以上ではその効果が飽和してしまう場合がある。
又、スルフィン酸基を有するモノマーの場合には、モノ
マーユニットの共重合量を増やすと親水性が高まるた
め、ラテックス合成の難度が上昇する場合もある。この
ため、反応性を有するモノマーユニットの割合は、スル
フィン酸基を有するモノマーの場合で、好ましくは0.
1ないし40重量%、特に好ましくは1ないし20重量
%であり、ハロアルキル基又はハロヘテロアリーレン
基、ビニルスルホン基又はビニルスルホン基に誘導され
る基を有するモノマーの場合で、好ましくは0.1ない
し60重量%、特に好ましくは1ないし40重量%であ
る。
において、シェルポリマーにおける反応性基を有するモ
ノマーユニットの割合は、性能上の必要により任意に変
える事ができ、0.1ないし100重量%の範囲で用い
る事ができる。但し、反応性基を有するモノマーユニッ
トの共重合量を増やすと前記の種々効果は増大するが、
ある量以上ではその効果が飽和してしまう場合がある。
又、スルフィン酸基を有するモノマーの場合には、モノ
マーユニットの共重合量を増やすと親水性が高まるた
め、ラテックス合成の難度が上昇する場合もある。この
ため、反応性を有するモノマーユニットの割合は、スル
フィン酸基を有するモノマーの場合で、好ましくは0.
1ないし40重量%、特に好ましくは1ないし20重量
%であり、ハロアルキル基又はハロヘテロアリーレン
基、ビニルスルホン基又はビニルスルホン基に誘導され
る基を有するモノマーの場合で、好ましくは0.1ない
し60重量%、特に好ましくは1ないし40重量%であ
る。
【0048】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
におけるコア部ポリマーとシェル部ポリマーの量比は任
意に変える事ができるが、コア/シェル重量比で10/
90ないし95/5、好ましくは20/80ないし95
/5、特に好ましくは30/70ないし90/10であ
る。この事はコアが少なすぎると活性メチレンモノマー
のシェル部への集中効果が目減りし、シェルが少なすぎ
ると、明確なコア/シェル構造形成が難しくなる事を意
味する。またコア/シェルポリマーラテックスの粒子径
は、前記コアポリマー粒子と同様1.0μm以下、好ま
しくは0.7μm以下、特に好ましくは0.5μm以下
である。そして、下限は0.00001μm以上が好ま
しい。
におけるコア部ポリマーとシェル部ポリマーの量比は任
意に変える事ができるが、コア/シェル重量比で10/
90ないし95/5、好ましくは20/80ないし95
/5、特に好ましくは30/70ないし90/10であ
る。この事はコアが少なすぎると活性メチレンモノマー
のシェル部への集中効果が目減りし、シェルが少なすぎ
ると、明確なコア/シェル構造形成が難しくなる事を意
味する。またコア/シェルポリマーラテックスの粒子径
は、前記コアポリマー粒子と同様1.0μm以下、好ま
しくは0.7μm以下、特に好ましくは0.5μm以下
である。そして、下限は0.00001μm以上が好ま
しい。
【0049】乳化重合におけるコア/シェルラテックス
形成技術の分野ではよく知られている様に、コアポリマ
ーとシェルポリマーの極性が近く、相溶化してしまうよ
うな組合せでは、目的とするコア/シェル構造を十分に
形成し得ない場合もあり得る。より効果的なコア/シェ
ル構造を形成するためには、シェルを構成するポリマー
とコアを形成するポリマーが相溶しにくいものを選択す
る事が好ましい。
形成技術の分野ではよく知られている様に、コアポリマ
ーとシェルポリマーの極性が近く、相溶化してしまうよ
うな組合せでは、目的とするコア/シェル構造を十分に
形成し得ない場合もあり得る。より効果的なコア/シェ
ル構造を形成するためには、シェルを構成するポリマー
とコアを形成するポリマーが相溶しにくいものを選択す
る事が好ましい。
【0050】この点で極めて有用な態様の1つはコアと
して共役ジエンモノマー成分を有するポリマーを用いる
事である。共役ジエンモノマーを一定量以上用いるとコ
ア粒子は極めて低極性となるため前記したシェル部に用
いるモノマーの大部分と有効なコア/シェル構造の形成
が可能となる。このような性能のコアを形成させるため
の目安は共役ジエンモノマーが重量比で25%以上含ま
れる事であり、好ましい例としては、スチレン−ブタジ
エン共重合体(一般にSBRと呼ばれ、溶液重合SBR
と乳化重合SBRがある。溶液重合SBRとしては、ラ
ンダム重合体の他に前記のブロック共重合体(例えば、
ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体)がある)、ブタ
ジエン単独重合体(例えばシス−1,4−ブタジエン、
トランス−1,2−ブタジエン、あるいは、これらとト
ランス−1,4−ブタジエン構造の混在したゴム)、イ
ソプレン単独重合体(立体構造の例は、ブタジエン重合
体に同じ)、スチレン−イソプレン共重合体(ランダム
共重合体、ブロック共重合体)、エチレン−プロピレン
−ジエン共重合体(ジエン単量体としては、1,4−ヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボ
ルネン等を挙げることができる)、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、クロロプレン重合体、イソブチレ
ン−イソプレン共重合体、ブタジエン−アクリル酸エス
テル共重合体(アクリル酸エステルとしては、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル等)及びブタジエン−アク
リル酸エステル−アクリロニトリル共重合体(アクリル
酸エステルとしては前記に同じ)を挙げることができ
る。
して共役ジエンモノマー成分を有するポリマーを用いる
事である。共役ジエンモノマーを一定量以上用いるとコ
ア粒子は極めて低極性となるため前記したシェル部に用
いるモノマーの大部分と有効なコア/シェル構造の形成
が可能となる。このような性能のコアを形成させるため
の目安は共役ジエンモノマーが重量比で25%以上含ま
れる事であり、好ましい例としては、スチレン−ブタジ
エン共重合体(一般にSBRと呼ばれ、溶液重合SBR
と乳化重合SBRがある。溶液重合SBRとしては、ラ
ンダム重合体の他に前記のブロック共重合体(例えば、
ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合体)がある)、ブタ
ジエン単独重合体(例えばシス−1,4−ブタジエン、
トランス−1,2−ブタジエン、あるいは、これらとト
ランス−1,4−ブタジエン構造の混在したゴム)、イ
ソプレン単独重合体(立体構造の例は、ブタジエン重合
体に同じ)、スチレン−イソプレン共重合体(ランダム
共重合体、ブロック共重合体)、エチレン−プロピレン
−ジエン共重合体(ジエン単量体としては、1,4−ヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボ
ルネン等を挙げることができる)、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、クロロプレン重合体、イソブチレ
ン−イソプレン共重合体、ブタジエン−アクリル酸エス
テル共重合体(アクリル酸エステルとしては、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル等)及びブタジエン−アク
リル酸エステル−アクリロニトリル共重合体(アクリル
酸エステルとしては前記に同じ)を挙げることができ
る。
【0051】また、コアとシェルを構成するポリマーの
極性差が大きいものを選択する事によっても有効なコア
/シェル構造形成が可能である。但しこれらは、本発明
のコア/シェルポリマーラテックスにおける効果の大小
の点で選択できる事を示すものであって、たとえ、極性
の近いポリマー同志の組合せにおいても、非コア/シェ
ル型のポリマーラテックスに対しては、本発明のコア/
シェルラテックスの方がより優れた皮膜強度特性を示
す。
極性差が大きいものを選択する事によっても有効なコア
/シェル構造形成が可能である。但しこれらは、本発明
のコア/シェルポリマーラテックスにおける効果の大小
の点で選択できる事を示すものであって、たとえ、極性
の近いポリマー同志の組合せにおいても、非コア/シェ
ル型のポリマーラテックスに対しては、本発明のコア/
シェルラテックスの方がより優れた皮膜強度特性を示
す。
【0052】また、極性の近いモノマーをコア及びシェ
ルに用いた場合でも、コアを前記の架橋モノマー(分子
内に二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー)
を用いて三次元架橋化する事により、極めて効果的なコ
ア/シェルポリマーラテックスとする事ができる。以上
により、本発明においては、用いるモノマーの種類によ
らず有用なコア/シェルポリマーラテックス構造の形成
が可能である。
ルに用いた場合でも、コアを前記の架橋モノマー(分子
内に二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー)
を用いて三次元架橋化する事により、極めて効果的なコ
ア/シェルポリマーラテックスとする事ができる。以上
により、本発明においては、用いるモノマーの種類によ
らず有用なコア/シェルポリマーラテックス構造の形成
が可能である。
【0053】本発明のコア/シェルラテックスは、皮膜
強度特性とは別にゼラチンフィルムに添加した時の脆性
改良効果の点でコア部またはシェル部、あるいはコア
部、シェル部の両方のガラス転移温度(Tg)が50℃
以下であるのが適当であり、好ましくは30℃以下、特
に好ましくは20℃以下である。そして下限は−110
℃以上が好ましい。
強度特性とは別にゼラチンフィルムに添加した時の脆性
改良効果の点でコア部またはシェル部、あるいはコア
部、シェル部の両方のガラス転移温度(Tg)が50℃
以下であるのが適当であり、好ましくは30℃以下、特
に好ましくは20℃以下である。そして下限は−110
℃以上が好ましい。
【0054】ポリマーのTgは例えば「J.Brandrup ,
E.H.Immergut共著. PolymerHandbook,2nd Edition,
III−139〜 III−192(1975)」に詳細に記
載されており、また、共重合体の場合には下式により求
める事ができる。
E.H.Immergut共著. PolymerHandbook,2nd Edition,
III−139〜 III−192(1975)」に詳細に記
載されており、また、共重合体の場合には下式により求
める事ができる。
【0055】
【数1】
【0056】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
において、コアポリマー、またはシェルポリマー、ある
いは両者ともに、架橋されていてもよい。この場合、得
られるポリマーの分子量は無限大である。未架橋の場合
に於ける本発明のポリマーの分子量は、モノマーの種類
や合成条件により異なるが、5000ないし200万の
範囲内であり、また、目的によって、連鎖移動剤等によ
り分子量を調節する事も可能である。
において、コアポリマー、またはシェルポリマー、ある
いは両者ともに、架橋されていてもよい。この場合、得
られるポリマーの分子量は無限大である。未架橋の場合
に於ける本発明のポリマーの分子量は、モノマーの種類
や合成条件により異なるが、5000ないし200万の
範囲内であり、また、目的によって、連鎖移動剤等によ
り分子量を調節する事も可能である。
【0057】以下に本発明のコア/シェルラテックスの
好ましい化合物例を示すが本発明がこれらに限定される
ものではない。下記の各ラテックス化合物の構造は、コ
アポリマー構造、シェルポリマーの構造およびコア/シ
ェルの比率の順に記載し、各ポリマーにおける共重合組
成比およびコア/シェル比についてはいずれも重量百分
率比で表した。
好ましい化合物例を示すが本発明がこれらに限定される
ものではない。下記の各ラテックス化合物の構造は、コ
アポリマー構造、シェルポリマーの構造およびコア/シ
ェルの比率の順に記載し、各ポリマーにおける共重合組
成比およびコア/シェル比についてはいずれも重量百分
率比で表した。
【0058】 P−1〜3 コア:ブタジエン単独重合体 P−1 シェル:スチレン/M−1(70/30) コア/シェル=50/50 P−2 シェル:スチレン/M−18(70/30) コア/シェル=50/50 P−3 シェル:スチレン/M−30(70/30) コア/シェル=50/50
【0059】 P−4〜12 コア:スチレン/ブタジエン共重合体(37/63) P−4 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(95/5) コア/シェル=50/50 P−5 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(90/10) コア/シェル=50/50 P−6 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(85/15) コア/シェル=50/50 P−7 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(80/20) コア/シェル=50/50 P−8 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(75/25) コア/シェル=50/50 P−9 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(80/20) コア/シェル=67/33 P−10 シェル:n−ブチルアクリレート/M−1(80/20) コア/シェル=80/20 P−11 シェル:n−ブチルアクリレート/M−7(80/20) コア/シェル=50/50 P−12 シェル:n−ブチルアクリレート/M−17(80/20) コア/シェル=50/50
【0060】 P−13〜19 コア:スチレン/ブタジエン共重合体(49/51) P−13 シェル:エチルアクリレート/M−2(80/20) コア/シェル=50/50 P−14 シェル:エチルアクリレート/アクリル酸/M−3(75/5/20) コア/シェル=50/50 P−15 シェル:メチルアクリレート/M−4(60/40) コア/シェル=50/50 P−16 シェル:エチルアクリレート/M−10(80/20) コア/シェル=50/50 P−17 シェル:メチルアクリレート/アクリル酸/M−10(65/5/30) コア/シェル=50/50 P−18 シェル:エチルアクリレート/M−25(80/20) コア/シェル=50/50 P−19 シェル:エチルアクリレート/アクリル酸/M−26(75/5/20) コア/シェル=50/50
【0061】 P−20〜29 コア:アクリロニトリル/スチレン/ブタジエン共重合体(25/25/50) P−20 シェル:エチルアクリレート/M−13(95/5) コア/シェル=50/50 P−21 シェル:エチルアクリレート/M−13(90/10) コア/シェル=50/50 P−22 シェル:エチルアクリレート/M−13(85/15) コア/シェル=50/50 P−23 シェル:エチルアクリレート/M−13(80/20) コア/シェル=50/50 P−24 シェル:エチルアクリレート/M−13(75/25) コア/シェル=50/50 P−25 シェル:エチルアクリレート/M−13(80/20) コア/シェル=67/33 P−26 シェル:エチルアクリレート/M−13(80/20) コア/シェル=80/20 P−27 シェル:エチルアクリレート/M−13(80/20) コア/シェル=50/50 P−28 シェル:エチルアクリレート/M−25(80/20) コア/シェル=50/50 P−29 シェル:メチルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプロ パンスルホン酸ソーダ/M−25(70/10/20) コア/シェル=50/50
【0062】 P−30〜33 コア:n−ブチルアクリレート/ブタジエン共重合体 P−30 シェル:スチレン/M−7(80/20) コア/シェル=50/50 P−31 シェル:スチレン/M−24(80/20) コア/シェル=50/50 P−32 シェル:スチレン/M−29(80/20) コア/シェル=50/50 P−33 シェル:ラウリルメタクリレート/M−27(80/20) コア/シェル=50/50
【0063】 P−34〜44 コア:ジビニルベンゼン/スチレン/メチルメタクリレート共重合体(10/45 /45) P−34 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(98/2) コア/シェル=50/50 P−35 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(96/4) コア/シェル=50/50 P−36 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(92/8) コア/シェル=50/50 P−37 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(84/16) コア/シェル=50/50 P−38 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(68/32) コア/シェル=50/50 P−39 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(84/16) コア/シェル=67/33 P−40 シェル:n−ブチルアクリレート/M−25(84/16) コア/シェル=80/20 P−41 シェル:エチルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプロ パンスルホン酸ソーダ/M−25(74/10/16) コア/シェル=50/50 P−42 シェル:メチルアクリレート/アクリル酸/M−25(79/5/16) コア/シェル=50/50 P−43 シェル:エチルアクリレート/アクリル酸/M−1(75/5/20) コア/シェル=50/50 P−44 シェル:エチルアクリレート/アクリル酸/M−9(75/5/20) コア/シェル=50/50
【0064】 P−45〜53 コア:n−ドデシルメタクリレート単独重合体 P−45 シェル:スチレン/M−4(70/30) コア/シェル=50/50 P−46 シェル:メチルアクリレート/M−4(70/30) コア/シェル=50/50 P−47 シェル:メチルアクリレート/メタクリル酸/M−5(60/10/30) コア/シェル=50/50 P−48 シェル:酢酸ビニル/M−4(70/30) コア/シェル=50/50 P−49 シェル:n−ブチルアクリレート/M−21(80/20) コア/シェル=50/50 P−50 シェル:n−ブチルアクリレート/アクリル酸/M−21(70/10/20 ) コア/シェル=50/50 P−51 シェル:n−ブチルアクリレート/メタクリル酸/M−28(70/10/ 20) コア/シェル=50/50 P−52 シェル:スチレン/M−37(84/16) コア/シェル=50/50 P−53 シェル:スチレン/アクリル酸/M−37(74/10/16) コア/シェル=50/50
【0065】 P−54〜62 コア:エチレングリコールジメタクリレート/n−ブチルアクリレート共重合 体(10/90) P−54 シェル:メチルアクリレート/アクリル酸/M−8(70/10/20) コア/シェル=50/50 P−55 シェル:メチルアクリレート/スチレン/メタクリル酸/M−8 (30/40/10/20) コア/シェル=50/50 P−56 シェル:n−ブチルアクリレート/2−アクリルアミド−2−メチル プロパンスルホン酸ソーダ/M−8(65/15/20) コア/シェル=50/50 P−57 シェル:メチルアクリレート/M−17(80/20) コア/シェル=50/50 P−58 シェル:メチルアクリレート/アクリロニトリル/M−17(65/15/ 20) コア/シェル=50/50 P−59 シェル:エチルアクリレート/アクリル酸/M−17(70/10/20) コア/シェル=50/50 P−60 シェル:エチルアクリレート/M−33(50/50) コア/シェル=50/50 P−61 シェル:エチルアクリレート/2−アクリクアミド−2−メチルプロ パン酸ソーダ/M−33(45/10/45) コア/シェル=50/50 P−62 シェル:n−ブチルアクリレート/メタクリル酸/M−34(40/20/ 40) コア/シェル=50/50
【0066】 P−63〜67 コア:酢酸ビニル単独共重合体 P−63 シェル:スチレン/M−1(80/20) コア/シェル=50/50 P−64 シェル:スチレン/M−11(80/20) コア/シェル=50/50 P−65 シェル:スチレン/ジビニルベンゼン/M−11(70/10/20) コア/シェル=50/50 P−66 シェル:スチレン/M−19(84/16) コア/シェル=50/50 P−67 シェル:ラウリルメタクリレート/M−22(80/20) コア/シェル=50/50
【0067】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
は、コアラテックスポリマーを乳化重合して得られる水
分散物に対し、シェルを形成するモノマーを一括投入ま
たは滴下しながらさらに乳化重合する事により、容易に
得る事ができる。乳化重合法は好ましくは少くとも一種
の乳化剤を用いて水あるいは水と水に混和しうる有機溶
媒(たとえばメタノール、エタノール、アセトン等)の
混合溶媒中でモノマーを乳化させラジカル重合開始剤を
用いて一般に30℃ないし約100℃、好ましくは40
℃ないし約90℃の温度で行なわれる。水に混和しうる
有機溶媒の量は水に対して体積比で0〜100%、好ま
しくは0〜50%である。
は、コアラテックスポリマーを乳化重合して得られる水
分散物に対し、シェルを形成するモノマーを一括投入ま
たは滴下しながらさらに乳化重合する事により、容易に
得る事ができる。乳化重合法は好ましくは少くとも一種
の乳化剤を用いて水あるいは水と水に混和しうる有機溶
媒(たとえばメタノール、エタノール、アセトン等)の
混合溶媒中でモノマーを乳化させラジカル重合開始剤を
用いて一般に30℃ないし約100℃、好ましくは40
℃ないし約90℃の温度で行なわれる。水に混和しうる
有機溶媒の量は水に対して体積比で0〜100%、好ま
しくは0〜50%である。
【0068】重合反応は、通常重合すべき単量体に対し
0.05〜5重量%のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て0.1〜10重量%の乳化剤を用いて行なわれる。重
合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒など、たとえ
ば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプ
ロピルパ−カーボネート、2,4−ジクロロベンジルパ
ーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、ク
メンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、2,2′−アゾビスイソブチレート、2,2′−ア
ゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロライド、
過硫酸カリウムと亜硫酸水素ナトリウムの組合せなどが
ある。
0.05〜5重量%のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て0.1〜10重量%の乳化剤を用いて行なわれる。重
合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒など、たとえ
ば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプ
ロピルパ−カーボネート、2,4−ジクロロベンジルパ
ーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、ク
メンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、2,2′−アゾビスイソブチレート、2,2′−ア
ゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロクロライド、
過硫酸カリウムと亜硫酸水素ナトリウムの組合せなどが
ある。
【0069】乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、
両性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーな
どがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナ
トリウム、1−オクトキシカルボニルメチル−1−オク
トキシカルボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチレンアンモニウムクロライド、N−2−エチルヘキ
シルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラ
ウリルエステル、ドデシル−ジフェニルエーテルジスル
ホン酸ナトリウム、2-テトラデセン−1−スルホン酸ナ
トリウム、3-ヒドロキシテトラデカン−1−スルホン酸
ナトリウム、ゼラチン、PVA、その他特公昭53-6190
号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがあり、このう
ちアニオン性もしくはノニオン性の界面活性剤、水溶性
ポリマーが特に好ましい。
両性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーな
どがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナ
トリウム、1−オクトキシカルボニルメチル−1−オク
トキシカルボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリ
メチレンアンモニウムクロライド、N−2−エチルヘキ
シルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラ
ウリルエステル、ドデシル−ジフェニルエーテルジスル
ホン酸ナトリウム、2-テトラデセン−1−スルホン酸ナ
トリウム、3-ヒドロキシテトラデカン−1−スルホン酸
ナトリウム、ゼラチン、PVA、その他特公昭53-6190
号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがあり、このう
ちアニオン性もしくはノニオン性の界面活性剤、水溶性
ポリマーが特に好ましい。
【0070】乳化重合に於けるモノマーの添加は、重合
に伴う発熱の回避や、より明確なコア/シェル構造の形
成の観点から滴下しながら添加する方が好ましい。ま
た、上記の開始剤、乳化剤の存在下に乳化重合により、
コアラテックス粒子を形成した後、シェルモノマーを重
合する際には乳化剤をさらに添加してもよいし、添加せ
ずに重合を行ってもよい。乳化剤の追添は生成ポリマー
ラテックスの安定性の観点から必要となる場合も多いが
逆に過剰の乳化剤が存在すると目的以外のシェルポリマ
ーのみからなる粒子が副生してしまう事がある。従って
コアポリマー形成後に追添する乳化剤の量はコア粒子に
対し、0.001ないし5重量%程度に抑えるか、もし
くは全く添加しない方が好ましい。
に伴う発熱の回避や、より明確なコア/シェル構造の形
成の観点から滴下しながら添加する方が好ましい。ま
た、上記の開始剤、乳化剤の存在下に乳化重合により、
コアラテックス粒子を形成した後、シェルモノマーを重
合する際には乳化剤をさらに添加してもよいし、添加せ
ずに重合を行ってもよい。乳化剤の追添は生成ポリマー
ラテックスの安定性の観点から必要となる場合も多いが
逆に過剰の乳化剤が存在すると目的以外のシェルポリマ
ーのみからなる粒子が副生してしまう事がある。従って
コアポリマー形成後に追添する乳化剤の量はコア粒子に
対し、0.001ないし5重量%程度に抑えるか、もし
くは全く添加しない方が好ましい。
【0071】有効なコア/シェル構造を有するラテック
スを形成するためには、シェル形成モノマー添加時にお
けるコア粒子の重合はできるだけ完結している事が好ま
しく、重合率は90%以上、好ましくは95%以上、特
に好ましくは実質的に100%である。
スを形成するためには、シェル形成モノマー添加時にお
けるコア粒子の重合はできるだけ完結している事が好ま
しく、重合率は90%以上、好ましくは95%以上、特
に好ましくは実質的に100%である。
【0072】前記のポリマーラテックス/ゼラチン複合
膜における膜強度改良において、反応性基が重要な機能
を果たす。すなわち、ラテックス表面に存在する反応性
基の量が性能上重要な要素である。本発明のコア/シェ
ルラテックスは基本的に反応性基を必要な部位であるラ
テックス表面に集中化させる事ができる点で有用であ
る。また、コア部に他の必要とされる機能、例えばラテ
ックス全体のTgをコントロールする事により、被膜形
成能や、得られるフィルムやゼラチン等との複合膜の物
理性(例えば脆性)をシェル部とは独立に盛り込む事が
できる点でも極めて有用である。
膜における膜強度改良において、反応性基が重要な機能
を果たす。すなわち、ラテックス表面に存在する反応性
基の量が性能上重要な要素である。本発明のコア/シェ
ルラテックスは基本的に反応性基を必要な部位であるラ
テックス表面に集中化させる事ができる点で有用であ
る。また、コア部に他の必要とされる機能、例えばラテ
ックス全体のTgをコントロールする事により、被膜形
成能や、得られるフィルムやゼラチン等との複合膜の物
理性(例えば脆性)をシェル部とは独立に盛り込む事が
できる点でも極めて有用である。
【0073】本発明のコア/シェルラテックス粒子は、
上記の乳化重合法によって水分散物の形で得る事がてき
るが、コア/シェル構造を維持したままで、微粒子粉体
とする事もできる。このような粉体化の方法としては、
凍結乾燥法や強酸または塩を用いた凝集、濾過法、ある
いはラテックス液の凍結−解凍のくり返しによる凝集、
濾過法等の公知の手法を用いる事ができる。以下に、本
発明のコア/シェルラテックスの合成例を示す。
上記の乳化重合法によって水分散物の形で得る事がてき
るが、コア/シェル構造を維持したままで、微粒子粉体
とする事もできる。このような粉体化の方法としては、
凍結乾燥法や強酸または塩を用いた凝集、濾過法、ある
いはラテックス液の凍結−解凍のくり返しによる凝集、
濾過法等の公知の手法を用いる事ができる。以下に、本
発明のコア/シェルラテックスの合成例を示す。
【0074】合成例1 コア=スチレン/ブタジエン共重合体(37/63)、シェ
ル=n−ブチルアクリレート/スチレンスルフィン酸カ
リウム(80/20)のコア/シェルラテックス(コア/シ
ェル比=50/50)の合成(例示化合物P−7の合
成)
ル=n−ブチルアクリレート/スチレンスルフィン酸カ
リウム(80/20)のコア/シェルラテックス(コア/シ
ェル比=50/50)の合成(例示化合物P−7の合
成)
【0075】攪拌装置、還流冷却管を装着した1リット
ル三ツ口フラスコに、蒸留水539gとポリスチレンブ
タジエンラテックス(粒子径144nm、固型分50.2
%:日本ゼオン(株)商品名、LX−426)199.
2gとを入れ、窒素気流下65℃に加熱攪拌した。
ル三ツ口フラスコに、蒸留水539gとポリスチレンブ
タジエンラテックス(粒子径144nm、固型分50.2
%:日本ゼオン(株)商品名、LX−426)199.
2gとを入れ、窒素気流下65℃に加熱攪拌した。
【0076】n−ブチルアクリレート80.0g、及び
スチレンスルフィン酸カリウム20.0gと4,4′−
アゾビス(4−シアノ−ペンタン酸)ナトリウム4.6
8gを蒸留水100gにとかした液をそれぞれ1.5時
間で滴下が完了するように等速で滴下を開始した。滴下
終了後、さらに4時間加熱攪拌を続けた。
スチレンスルフィン酸カリウム20.0gと4,4′−
アゾビス(4−シアノ−ペンタン酸)ナトリウム4.6
8gを蒸留水100gにとかした液をそれぞれ1.5時
間で滴下が完了するように等速で滴下を開始した。滴下
終了後、さらに4時間加熱攪拌を続けた。
【0077】室温まで冷却、濾過して目的のコア/シェ
ルラテックス921.5g(固型分21.4%、固型分
収率96.3%、平均粒子径177nm:粒子径はコール
ターサブミクロンアナライザー(日科機)で測定)を得
た。
ルラテックス921.5g(固型分21.4%、固型分
収率96.3%、平均粒子径177nm:粒子径はコール
ターサブミクロンアナライザー(日科機)で測定)を得
た。
【0078】合成例2 コア=ブタジエン単独共重合体、シェル=スチレン/ク
ロロメチルスチレン(70/30)、コア/シェル=50/
50の合成(例示化合物P−2の合成) 攪拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに、亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナ
トリウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水4
54gを入れ、攪拌溶解した後、ポリブタジエンラテッ
クス(粒子径112nm、固型分34.3重量%:日本ゼ
オン(株)商品名、LX−111J)294.1gを入
れ、窒素気流下70℃に加熱攪拌した。
ロロメチルスチレン(70/30)、コア/シェル=50/
50の合成(例示化合物P−2の合成) 攪拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに、亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナ
トリウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水4
54gを入れ、攪拌溶解した後、ポリブタジエンラテッ
クス(粒子径112nm、固型分34.3重量%:日本ゼ
オン(株)商品名、LX−111J)294.1gを入
れ、窒素気流下70℃に加熱攪拌した。
【0079】過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20g
にとかしたものを添加した後、スチレン70.0g、ク
ロロメチルスチレン30gの混合液、及び過硫酸カリウ
ム0.32gを蒸留水50gにとかした液をそれぞれ2
時間で滴下が完了するように等速で滴下した。
にとかしたものを添加した後、スチレン70.0g、ク
ロロメチルスチレン30gの混合液、及び過硫酸カリウ
ム0.32gを蒸留水50gにとかした液をそれぞれ2
時間で滴下が完了するように等速で滴下した。
【0080】滴下終了後、1時間加熱攪拌を行ったの
ち、過硫酸カリウム0.10gを蒸留水20gに溶かし
た液を加えさらに3時間加熱攪拌を続けた。室温まで冷
却、濾過して目的のコア/シェルラテックス905.4
g(固型分22.1g、固型分収率99.2%、平均粒
子径140nm)を得た。
ち、過硫酸カリウム0.10gを蒸留水20gに溶かし
た液を加えさらに3時間加熱攪拌を続けた。室温まで冷
却、濾過して目的のコア/シェルラテックス905.4
g(固型分22.1g、固型分収率99.2%、平均粒
子径140nm)を得た。
【0081】合成例3 コア=ジビニルベンゼン/スチレン/メチルメタクリレ
ート共重合体(10/45/45)、シェル=n−ブチルアク
リレート/M−25(84/16)、コア/シェル=50/5
0の合成(例示化合物P−37の合成) 攪拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナト
リウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水56
0gを入れ窒素気流下80℃に加熱攪拌した。
ート共重合体(10/45/45)、シェル=n−ブチルアク
リレート/M−25(84/16)、コア/シェル=50/5
0の合成(例示化合物P−37の合成) 攪拌装置、還流冷却管を装着した1リットル三ツ口フラ
スコに亜硫酸水素ナトリウム0.28g、炭酸水素ナト
リウムの1モル/リットル溶液3.52g、蒸留水56
0gを入れ窒素気流下80℃に加熱攪拌した。
【0082】過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20g
に溶かしたものを添加した後、ジビニルベンゼン10
g、スチレン45g、メチルメタクリレート45gの混
合液、及び過硫酸カリウム0.32gを蒸留水50gに
溶かした液をそれぞれ2時間で滴下が完了するように等
速で滴下した。
に溶かしたものを添加した後、ジビニルベンゼン10
g、スチレン45g、メチルメタクリレート45gの混
合液、及び過硫酸カリウム0.32gを蒸留水50gに
溶かした液をそれぞれ2時間で滴下が完了するように等
速で滴下した。
【0083】滴下終了後、1時間加熱攪拌を行ったの
ち、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶かし
た液を加え、90℃で3時間加熱攪拌を続け、コアラテ
ックス(粒子径121nm)を得た。
ち、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶かし
た液を加え、90℃で3時間加熱攪拌を続け、コアラテ
ックス(粒子径121nm)を得た。
【0084】得られたコアラテックスの内温を80℃に
調整した後、n−ブチルアクリレート84g、M−25
16gの混合溶液、及び亜硫酸水素ナトリウム0.14
g、過硫酸カリウム0.32gを蒸留水50gに溶かし
た液をそれぞれ2時間で滴下が完了するように等速で滴
下した。
調整した後、n−ブチルアクリレート84g、M−25
16gの混合溶液、及び亜硫酸水素ナトリウム0.14
g、過硫酸カリウム0.32gを蒸留水50gに溶かし
た液をそれぞれ2時間で滴下が完了するように等速で滴
下した。
【0085】滴下終了時に、亜硫酸水素ナトリウム0.
07g、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶
かした液を加えて2時間加熱攪拌を行ったのち、再び亜
硫酸水素ナトリウム0.07g、過硫酸カリウム0.1
6g、蒸留水20gの開始剤溶液を加え、さらに90℃
で加熱攪拌を3時間続けた。
07g、過硫酸カリウム0.16gを蒸留水20gに溶
かした液を加えて2時間加熱攪拌を行ったのち、再び亜
硫酸水素ナトリウム0.07g、過硫酸カリウム0.1
6g、蒸留水20gの開始剤溶液を加え、さらに90℃
で加熱攪拌を3時間続けた。
【0086】室温まで冷却した後、炭酸水素ナトリウム
1モル/リットル溶液で中和し、濾過して目的のコア/
シェルラテックス917.6g(固型分21.7%、固
型分収率98.7%、粒子径149nm)を得た。
1モル/リットル溶液で中和し、濾過して目的のコア/
シェルラテックス917.6g(固型分21.7%、固
型分収率98.7%、粒子径149nm)を得た。
【0087】その他の例示ポリマーも合成例1、2、3
に準じた方法により合成が可能であった。また、合成例
1、2、3において、コアラテックスの粒子径とコア/
シェルラテックスの粒子径はそれぞれのポリマーの重量
比から予測される粒子径とよい一致を示しており重合時
における凝集や、コア/シェル以外の別粒子の生成がほ
とんどない事が明らかである。
に準じた方法により合成が可能であった。また、合成例
1、2、3において、コアラテックスの粒子径とコア/
シェルラテックスの粒子径はそれぞれのポリマーの重量
比から予測される粒子径とよい一致を示しており重合時
における凝集や、コア/シェル以外の別粒子の生成がほ
とんどない事が明らかである。
【0088】本発明のハロゲン化銀乳剤層及びその他の
親水性コロイド層のバインダーとしてはゼラチンを用い
るのが好ましいが、それ以外の親水性コロイドを併用す
ることもできる。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと
他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイ
ン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキ
シメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の如
きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体な
どの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアル
コール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等
の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子
物質を用いることができる。ゼラチンとしては石灰処理
ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラ
チン加水分解物、ゼラチン酵素分解物も用いることがで
きる。
親水性コロイド層のバインダーとしてはゼラチンを用い
るのが好ましいが、それ以外の親水性コロイドを併用す
ることもできる。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと
他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイ
ン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキ
シメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の如
きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体な
どの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアル
コール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等
の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子
物質を用いることができる。ゼラチンとしては石灰処理
ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラ
チン加水分解物、ゼラチン酵素分解物も用いることがで
きる。
【0089】本発明のラテックスを含むハロゲン化銀写
真感光材料としては、具体的にはX線感光材料、印刷用
感光材料、黒白撮影感光材料、カラーネガ感光材料、カ
ラー反転感光材料、カラー印画紙などを挙げることがで
きる。
真感光材料としては、具体的にはX線感光材料、印刷用
感光材料、黒白撮影感光材料、カラーネガ感光材料、カ
ラー反転感光材料、カラー印画紙などを挙げることがで
きる。
【0090】このうち好ましい態様である印刷用感光材
料、X線感光材料においてはバインダーとしてのゼラチ
ン塗布量としては、どのような塗布量に於いても十分な
効果を有するが、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の全親
水性コロイド層の総ゼラチン量として好ましくは3.0
g/m2以下で、特に好ましくは1.0〜2.5g/m2で
ある。
料、X線感光材料においてはバインダーとしてのゼラチ
ン塗布量としては、どのような塗布量に於いても十分な
効果を有するが、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の全親
水性コロイド層の総ゼラチン量として好ましくは3.0
g/m2以下で、特に好ましくは1.0〜2.5g/m2で
ある。
【0091】本発明のコア/シェルポリマーラテックス
は、ハロゲン化銀乳剤層、バック層、その他の親水性コ
ロイド層の少なくとも1層に含有し、添加量は親水性コ
ロイド層のゼラチンに対し、0.1〜200重量%、好
ましくは5〜150重量%である。
は、ハロゲン化銀乳剤層、バック層、その他の親水性コ
ロイド層の少なくとも1層に含有し、添加量は親水性コ
ロイド層のゼラチンに対し、0.1〜200重量%、好
ましくは5〜150重量%である。
【0092】本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳
剤には、ハロゲン化銀として、臭化銀、沃臭化銀、塩化
銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤
に使用される任意のものを用いることができる。ハロゲ
ン化銀粒子は、酸性法、中性法及びアンモニア法のいず
れで得られたものでもよい。ハロゲン化銀粒子は、粒子
内において均一なハロゲン化銀組成分布を有するもので
も、粒子の内部と表面層とでハロゲン化銀組成が異なる
コア/シェル粒子であってもよく、潜像が主として表面
に形成されるような粒子であっても、また主として粒子
内部に形成されるような粒子でもよい。本発明に係るハ
ロゲン化銀粒子の形状は任意のものを用いることができ
る。好ましい1つの例は、{100}面を結晶表面とし
て有する立方体である。又、米国特許4,183,75
6号、同4,225,666号、特開昭55−2658
9号、特公昭55−42737号等や、ザ・ジャーナル
・オブ・フォトグラフィック・サイエンス(J. Photog
r.Sci. )、21〜39(1973)等の文献に記載さ
れた方法により、8面体、14面体、12面体等の形状
を有する粒子をつくり、これを用いることもできる。更
に、双晶面を有する粒子を用いてもよい。本発明に係る
ハロゲン化銀粒子は、単一の形状からなる粒子を用いて
もよいし、種々の形状の粒子が混合されたものでもよ
い。本発明において、単分散乳剤が好ましい。単分散乳
剤中の単分散のハロゲン化銀粒子としては、平均粒径γ
を中心に±10%の粒径範囲内に含まれるハロゲン化銀
重量が、全ハロゲン化銀粒子重量の60%以上であるも
のが好ましい。
剤には、ハロゲン化銀として、臭化銀、沃臭化銀、塩化
銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤
に使用される任意のものを用いることができる。ハロゲ
ン化銀粒子は、酸性法、中性法及びアンモニア法のいず
れで得られたものでもよい。ハロゲン化銀粒子は、粒子
内において均一なハロゲン化銀組成分布を有するもので
も、粒子の内部と表面層とでハロゲン化銀組成が異なる
コア/シェル粒子であってもよく、潜像が主として表面
に形成されるような粒子であっても、また主として粒子
内部に形成されるような粒子でもよい。本発明に係るハ
ロゲン化銀粒子の形状は任意のものを用いることができ
る。好ましい1つの例は、{100}面を結晶表面とし
て有する立方体である。又、米国特許4,183,75
6号、同4,225,666号、特開昭55−2658
9号、特公昭55−42737号等や、ザ・ジャーナル
・オブ・フォトグラフィック・サイエンス(J. Photog
r.Sci. )、21〜39(1973)等の文献に記載さ
れた方法により、8面体、14面体、12面体等の形状
を有する粒子をつくり、これを用いることもできる。更
に、双晶面を有する粒子を用いてもよい。本発明に係る
ハロゲン化銀粒子は、単一の形状からなる粒子を用いて
もよいし、種々の形状の粒子が混合されたものでもよ
い。本発明において、単分散乳剤が好ましい。単分散乳
剤中の単分散のハロゲン化銀粒子としては、平均粒径γ
を中心に±10%の粒径範囲内に含まれるハロゲン化銀
重量が、全ハロゲン化銀粒子重量の60%以上であるも
のが好ましい。
【0093】本発明の乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する経過及び/又は成長させる過程
で、カドミウム塩、亜鉛鉛、鉛塩、タリウム塩、イリジ
ウム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子
表面に包含させる事ができる。本発明で用いる写真乳剤
は、硫黄増感、金・硫黄増感の他、還元性物質を用いる
還元増感法:貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを
併用することもできる。感光性乳剤としては、前記乳剤
を単独で用いてもよく、二種以上の乳剤を混合してもよ
い。本発明の実施に際しては、上記のような化学増感の
終了後に、例えば、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデン、5−メルカプト−1
−フェニルテトラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾ
ール等を始め、種々の安定剤も使用できる。更に必要で
あればチオエーテル等のハロゲン化銀溶剤、又はメルカ
プト基含有化合物や増感色素のような晶癖コントロール
剤を用いてもよい。
子は、粒子を形成する経過及び/又は成長させる過程
で、カドミウム塩、亜鉛鉛、鉛塩、タリウム塩、イリジ
ウム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子
表面に包含させる事ができる。本発明で用いる写真乳剤
は、硫黄増感、金・硫黄増感の他、還元性物質を用いる
還元増感法:貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを
併用することもできる。感光性乳剤としては、前記乳剤
を単独で用いてもよく、二種以上の乳剤を混合してもよ
い。本発明の実施に際しては、上記のような化学増感の
終了後に、例えば、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデン、5−メルカプト−1
−フェニルテトラゾール、2−メルカプトベンゾチアゾ
ール等を始め、種々の安定剤も使用できる。更に必要で
あればチオエーテル等のハロゲン化銀溶剤、又はメルカ
プト基含有化合物や増感色素のような晶癖コントロール
剤を用いてもよい。
【0094】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
おいて写真乳剤は、増感色素によって比較的長波長の青
色光、緑色光、赤色光または赤外光に分光増感されても
良い。用いられる色素には、シアニン色素、メロシアニ
ン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホ
ロポーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル
色素、及びヘミオキソノール色素等が包含される。これ
らの増感色素は単独で用いてもよく、又、これらを組合
せて用いてもよい。増感色素の組合せは特に、強色増感
の目的でしばしば用いられる。本発明に係るハロゲン化
銀写真感光材料には、親水性コロイド層にフィルター染
料として、あるいはイラジエーション防止、ハレーショ
ン防止その他種々の目的で水溶性染料を含有してよい。
このような染料には、オキソノール染料、ヘミオキソノ
ール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シアニン
染料及びアゾ染料等が包含される。中でもオキソノール
染料;ヘミオキソノール染料及びメロシアニン染料が有
用である。用い得る染料の具体例は西独特許616,0
07号、英国特許584,609号、同1,117,4
29号、特公昭26−7777号、同39−22069
号、同54−38129号、特開昭48−85130
号、同49−99620号、同49−114420号、
同49−129537号、PBレポート74175号、
フォトグラフィック・アブストラクト(Photo.Abstr.)
128(’21)等に記載されているものである。特に
明室返し感光材料においてはこれらの染料を用いるのが
好適である。また、特願平5−244717号の23〜
30頁に記載の染料の固体微粒子分散体を使用してもよ
い。本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料において、
親水性コロイド層に染料や紫外線吸収剤等が包含される
場合に、それらはカチオン性ポリマー等によって媒染さ
れてもよい。
おいて写真乳剤は、増感色素によって比較的長波長の青
色光、緑色光、赤色光または赤外光に分光増感されても
良い。用いられる色素には、シアニン色素、メロシアニ
ン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホ
ロポーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル
色素、及びヘミオキソノール色素等が包含される。これ
らの増感色素は単独で用いてもよく、又、これらを組合
せて用いてもよい。増感色素の組合せは特に、強色増感
の目的でしばしば用いられる。本発明に係るハロゲン化
銀写真感光材料には、親水性コロイド層にフィルター染
料として、あるいはイラジエーション防止、ハレーショ
ン防止その他種々の目的で水溶性染料を含有してよい。
このような染料には、オキソノール染料、ヘミオキソノ
ール染料、スチリル染料、メロシアニン染料、シアニン
染料及びアゾ染料等が包含される。中でもオキソノール
染料;ヘミオキソノール染料及びメロシアニン染料が有
用である。用い得る染料の具体例は西独特許616,0
07号、英国特許584,609号、同1,117,4
29号、特公昭26−7777号、同39−22069
号、同54−38129号、特開昭48−85130
号、同49−99620号、同49−114420号、
同49−129537号、PBレポート74175号、
フォトグラフィック・アブストラクト(Photo.Abstr.)
128(’21)等に記載されているものである。特に
明室返し感光材料においてはこれらの染料を用いるのが
好適である。また、特願平5−244717号の23〜
30頁に記載の染料の固体微粒子分散体を使用してもよ
い。本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料において、
親水性コロイド層に染料や紫外線吸収剤等が包含される
場合に、それらはカチオン性ポリマー等によって媒染さ
れてもよい。
【0095】本発明のラテックスはカラーハロゲン化銀
写真感光材料にも用いる事ができる。カラー写真感光材
料は、支持体上に青感色性層、緑感色性層、赤感色性層
のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層が設けられてい
ればよく、ハロゲン化銀乳剤層および非感光性層の層数
および層順に特に制限はない。典型的な例としては、支
持体上に、実質的に感色性は同じであるが感光度の異な
る複数のハロゲン化銀乳剤層から成る感光性層を少なく
とも1つ有するハロゲン化銀写真感光材料であり、該感
光性層は青色光、緑色光、および赤色光の何れかに感色
性を有する単位感光性層であり、多層ハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料においては、一般に単位感光性層の配列
が、支持体側から順に赤感色性層、緑感色性層、青感色
性の順に設置される。しかし、目的に応じて上記設置順
が逆であっても、また同一感色性層中に異なる感光性層
が挟まれたような設置順をも取り得る。設置において
は、各層を逐次塗布してもよく、重層で一度の塗布(い
わゆる同時重層塗布)で実施されてもよく、当業界では
ごく当たり前の製造形態であり、特に特記するものでは
ない。
写真感光材料にも用いる事ができる。カラー写真感光材
料は、支持体上に青感色性層、緑感色性層、赤感色性層
のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層が設けられてい
ればよく、ハロゲン化銀乳剤層および非感光性層の層数
および層順に特に制限はない。典型的な例としては、支
持体上に、実質的に感色性は同じであるが感光度の異な
る複数のハロゲン化銀乳剤層から成る感光性層を少なく
とも1つ有するハロゲン化銀写真感光材料であり、該感
光性層は青色光、緑色光、および赤色光の何れかに感色
性を有する単位感光性層であり、多層ハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料においては、一般に単位感光性層の配列
が、支持体側から順に赤感色性層、緑感色性層、青感色
性の順に設置される。しかし、目的に応じて上記設置順
が逆であっても、また同一感色性層中に異なる感光性層
が挟まれたような設置順をも取り得る。設置において
は、各層を逐次塗布してもよく、重層で一度の塗布(い
わゆる同時重層塗布)で実施されてもよく、当業界では
ごく当たり前の製造形態であり、特に特記するものでは
ない。
【0096】上記、ハロゲン化銀感光性層の間および最
上層、最下層には各種の中間層等の非感光性層を設けて
もよい。該中間層には、特開昭61−43748号、同
59−113438号、同59−113440号、同6
1−20037号、同61−20038号に記載されて
いるようなカプラー、DIR化合物等が含まれていても
よく、通常用いられるように混色防止剤を含んでいても
よい。各単位感光性層を構成する複数のハロゲン化銀乳
剤層は、西独特許第1,121,470号あるいは英国
特許第923,045号、特開昭57−112751
号、同62−200350号、同62−206541
号、同62−206543号、同56−25738号、
同62−63936号、同59−202464号、特公
昭55−34932号、同49−15495号等に記載
されている。
上層、最下層には各種の中間層等の非感光性層を設けて
もよい。該中間層には、特開昭61−43748号、同
59−113438号、同59−113440号、同6
1−20037号、同61−20038号に記載されて
いるようなカプラー、DIR化合物等が含まれていても
よく、通常用いられるように混色防止剤を含んでいても
よい。各単位感光性層を構成する複数のハロゲン化銀乳
剤層は、西独特許第1,121,470号あるいは英国
特許第923,045号、特開昭57−112751
号、同62−200350号、同62−206541
号、同62−206543号、同56−25738号、
同62−63936号、同59−202464号、特公
昭55−34932号、同49−15495号等に記載
されている。
【0097】カラー感光材料には種々のカラーカプラー
を使用することができ、その具体例はリサーチ・ディス
クロージャー(RD)No. 17643、VII −C〜Gに
記載された特許等に記載されている。イエローカプラー
としては、例えば米国特許第3,933,501号、同
第4,022,620号、同第4,326,024号、
同第4,401,752号、同第4,248,961
号、特公昭58−10739号、英国特許第1,42
5,020号、同第1,476,760号、米国特許第
3,973,968号、同第4,314,023号、同
第4,511,649号、同5,298,383号、欧
州特許第249,473A号、特開平5−165171
号、等に記載のものが好ましい。
を使用することができ、その具体例はリサーチ・ディス
クロージャー(RD)No. 17643、VII −C〜Gに
記載された特許等に記載されている。イエローカプラー
としては、例えば米国特許第3,933,501号、同
第4,022,620号、同第4,326,024号、
同第4,401,752号、同第4,248,961
号、特公昭58−10739号、英国特許第1,42
5,020号、同第1,476,760号、米国特許第
3,973,968号、同第4,314,023号、同
第4,511,649号、同5,298,383号、欧
州特許第249,473A号、特開平5−165171
号、等に記載のものが好ましい。
【0098】マゼンタカプラーとしては5−ピラゾロン
系及びピラゾロアゾール系の化合物が好ましく、米国特
許第4,310,619号、同第4,351,897
号、欧州特許第73,636号、米国特許第3,06
1,432号、同第3,725,067号、リサーチ・
ディスクロージャーNo. 24220(1984年6
月)、特開昭60−33552号、リサーチ・ディスク
ロージャーNo. 24230(1984年6月)、特開昭
60−43659号、同61−72238号、同60−
35730号、同55−118034号、同60−18
5951号、米国特許第4,500,630号、同第
4,540,654号、同第4,556,630号、W
O(PCT)88/04795号等に記載のものが特に
好ましい。
系及びピラゾロアゾール系の化合物が好ましく、米国特
許第4,310,619号、同第4,351,897
号、欧州特許第73,636号、米国特許第3,06
1,432号、同第3,725,067号、リサーチ・
ディスクロージャーNo. 24220(1984年6
月)、特開昭60−33552号、リサーチ・ディスク
ロージャーNo. 24230(1984年6月)、特開昭
60−43659号、同61−72238号、同60−
35730号、同55−118034号、同60−18
5951号、米国特許第4,500,630号、同第
4,540,654号、同第4,556,630号、W
O(PCT)88/04795号等に記載のものが特に
好ましい。
【0099】シアンカプラーとしては、フェノール系及
びナフトール系カプラーが挙げられ、米国特許第4,0
52,212号、同第4,146,396号、同第4,
228,233号、同第4,296,200号、同第
2,369,929号、同第2,801,171号、同
第2,772,162号、同第2,895,826号、
同第3,772,002号、同第3,758,308
号、同第4,334,011号、同第4,327,17
3号、西独特許公開第3,329,729号、欧州特許
第121,365A号、同第249,453A号、米国
特許第3,446,622号、同第4,333,999
号、同第4,753,871号、同第4,451,55
9号、同第4,427,767号、同第4,690,8
89号、同第4,254,212号、同第4,296,
199号、特開昭61−42658号、特開平5−34
1467号等に記載のものが好ましい。
びナフトール系カプラーが挙げられ、米国特許第4,0
52,212号、同第4,146,396号、同第4,
228,233号、同第4,296,200号、同第
2,369,929号、同第2,801,171号、同
第2,772,162号、同第2,895,826号、
同第3,772,002号、同第3,758,308
号、同第4,334,011号、同第4,327,17
3号、西独特許公開第3,329,729号、欧州特許
第121,365A号、同第249,453A号、米国
特許第3,446,622号、同第4,333,999
号、同第4,753,871号、同第4,451,55
9号、同第4,427,767号、同第4,690,8
89号、同第4,254,212号、同第4,296,
199号、特開昭61−42658号、特開平5−34
1467号等に記載のものが好ましい。
【0100】発色色素の不要吸収を補正するためのカラ
ード・カプラーは、リサーチ・ディスクロージャーNo.
17643のVII −G項、米国特許第4,163,67
0号、同5,266,456号、特公昭57−3941
3号、米国特許第4,004,929号、同第4,13
8,258号、英国特許第1,146,368号に記載
のものが好ましい。発色色素が適度な拡散性を有するカ
プラーとしては、米国特許第4,366,237号、英
国特許第2,125,570号、欧州特許第96,57
0号、西独特許(公開)第3,234,533号に記載
のものが好ましい。ポリマー化された色素形成カプラー
の典型例は、米国特許第3,451,820号、同第
4,080,211号、同第4,367,282号、同
第4,409,320号、同第4,576,910号、
英国特許2,102,137号等に記載されている。カ
ップリングに伴って写真的に有用な残基を放出するカプ
ラーもまた本発明で好ましく使用できる。現像抑制剤を
放出するDIRカプラーは、前述のRD17643、VI
I −F項に記載された特許、特開昭57−151944
号、同57−154234号、同60−184248
号、同63−37346号、米国特許4,248,96
2号、特開平5−113635号等に記載されたものが
好ましい。
ード・カプラーは、リサーチ・ディスクロージャーNo.
17643のVII −G項、米国特許第4,163,67
0号、同5,266,456号、特公昭57−3941
3号、米国特許第4,004,929号、同第4,13
8,258号、英国特許第1,146,368号に記載
のものが好ましい。発色色素が適度な拡散性を有するカ
プラーとしては、米国特許第4,366,237号、英
国特許第2,125,570号、欧州特許第96,57
0号、西独特許(公開)第3,234,533号に記載
のものが好ましい。ポリマー化された色素形成カプラー
の典型例は、米国特許第3,451,820号、同第
4,080,211号、同第4,367,282号、同
第4,409,320号、同第4,576,910号、
英国特許2,102,137号等に記載されている。カ
ップリングに伴って写真的に有用な残基を放出するカプ
ラーもまた本発明で好ましく使用できる。現像抑制剤を
放出するDIRカプラーは、前述のRD17643、VI
I −F項に記載された特許、特開昭57−151944
号、同57−154234号、同60−184248
号、同63−37346号、米国特許4,248,96
2号、特開平5−113635号等に記載されたものが
好ましい。
【0101】現像時に画像状に造核剤もしくは現像促進
剤を放出するカプラーとしては、英国特許第2,09
7,140号、同第2,131,188号、特開昭59
−157638号、同59−170840号に記載のも
のが好ましい。その他、本発明の感光材料に用いること
のできるカプラーとしては、米国特許第4,130,4
27号等に記載の競争カプラー、米国特許第4,28
3,472号、同第4,338,393号、同第4,3
10,618号等に記載の多当量カプラー、特開昭60
−185950号、特開昭62−24252号等に記載
のDIRレドックス化合物放出カプラー、DIRカプラ
ー放出カプラー、DIRカプラー放出レドックス化合物
もしくはDIRレドックス放出レドックス化合物、欧州
特許第173,302A号に記載の離脱後復色する色素
を放出するカプラー、R.D.No. 11449、同24
241、特開昭61−201247号等に記載の漂白促
進剤放出カプラー、米国特許第4,553,477号等
に記載のリガンド放出するカプラー、特開昭63−75
747号に記載のロイコ色素を放出するカプラー等が挙
げられる。
剤を放出するカプラーとしては、英国特許第2,09
7,140号、同第2,131,188号、特開昭59
−157638号、同59−170840号に記載のも
のが好ましい。その他、本発明の感光材料に用いること
のできるカプラーとしては、米国特許第4,130,4
27号等に記載の競争カプラー、米国特許第4,28
3,472号、同第4,338,393号、同第4,3
10,618号等に記載の多当量カプラー、特開昭60
−185950号、特開昭62−24252号等に記載
のDIRレドックス化合物放出カプラー、DIRカプラ
ー放出カプラー、DIRカプラー放出レドックス化合物
もしくはDIRレドックス放出レドックス化合物、欧州
特許第173,302A号に記載の離脱後復色する色素
を放出するカプラー、R.D.No. 11449、同24
241、特開昭61−201247号等に記載の漂白促
進剤放出カプラー、米国特許第4,553,477号等
に記載のリガンド放出するカプラー、特開昭63−75
747号に記載のロイコ色素を放出するカプラー等が挙
げられる。
【0102】本発明に使用するカプラーは、種々の公知
分散方法により感光材料に導入できる。水中油滴分散法
に用いられる高沸点溶媒の例は米国特許第2,322,
027号などに記載されている。水中油滴分散法に用い
られる常圧での沸点が175℃以上の高沸点有機溶剤の
具体例としては、フタル酸エステル類、リン酸またはホ
スホン酸のエステル類、安息香酸エステル類、アミド
類、アルコール類またはフェノール類、脂肪族カルボン
酸エステル、アニリン誘導体、炭化水素類などが挙げら
れる。また補助溶剤としては、沸点が約30℃以上、好
ましくは50℃以上約160℃以下の有機溶剤などが使
用でき、典型例としては酢酸エチル、酢酸ブチル、プロ
ピオン酸エチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、2−エトキシエチルアセテート、ジメチルホルムア
ミドなどが挙げられる。ラテックス分散法の工程、効果
および含浸用のラテックスの具体例は、米国特許第4,
199,363号、西独特許出願(OLS)第2,54
1,274号および同第2,541,230号などに記
載されている。
分散方法により感光材料に導入できる。水中油滴分散法
に用いられる高沸点溶媒の例は米国特許第2,322,
027号などに記載されている。水中油滴分散法に用い
られる常圧での沸点が175℃以上の高沸点有機溶剤の
具体例としては、フタル酸エステル類、リン酸またはホ
スホン酸のエステル類、安息香酸エステル類、アミド
類、アルコール類またはフェノール類、脂肪族カルボン
酸エステル、アニリン誘導体、炭化水素類などが挙げら
れる。また補助溶剤としては、沸点が約30℃以上、好
ましくは50℃以上約160℃以下の有機溶剤などが使
用でき、典型例としては酢酸エチル、酢酸ブチル、プロ
ピオン酸エチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、2−エトキシエチルアセテート、ジメチルホルムア
ミドなどが挙げられる。ラテックス分散法の工程、効果
および含浸用のラテックスの具体例は、米国特許第4,
199,363号、西独特許出願(OLS)第2,54
1,274号および同第2,541,230号などに記
載されている。
【0103】カラー感光材料は乳剤層を有する側の全親
水性コロイド層の膜厚の総和が28μm以下であり、か
つ、膜膨潤速度T1/2 は30秒以下が好ましい。膜厚は
25℃相対湿度55%調湿下(2日)で測定した膜厚を
意味し、膜膨潤速度T1/2 は、当該技術分野において公
知の手法に従って測定することができる。例えばエー・
グリーン(A.Green)らによりフォトグラフィック・サイ
エンス・アンド・エンジニアリング (Photogr.Sci.En
g.)、19卷、2号、124〜129頁に記載の型のス
エロメーター(膨潤計)を使用することにより測定で
き、T1/2 は発色現像液で30℃、3分15秒処理した
時に到達する最大膨潤膜厚の90%を飽和膜厚とし、こ
のT1/2 の膜厚に到達するまでの時間と定義する。膜膨
潤速度T1/2 は、バインダーとしてのゼラチンに硬膜剤
を加えること、あるいは塗布後の経時条件を変えること
によって調整することができる。また、膨潤率は150
〜400%が好ましい。膨潤率とは、さきに述べた条件
下での最大膨潤膜厚から、式:(最大膨潤膜厚−膜厚)
/膜厚に従って計算できる。
水性コロイド層の膜厚の総和が28μm以下であり、か
つ、膜膨潤速度T1/2 は30秒以下が好ましい。膜厚は
25℃相対湿度55%調湿下(2日)で測定した膜厚を
意味し、膜膨潤速度T1/2 は、当該技術分野において公
知の手法に従って測定することができる。例えばエー・
グリーン(A.Green)らによりフォトグラフィック・サイ
エンス・アンド・エンジニアリング (Photogr.Sci.En
g.)、19卷、2号、124〜129頁に記載の型のス
エロメーター(膨潤計)を使用することにより測定で
き、T1/2 は発色現像液で30℃、3分15秒処理した
時に到達する最大膨潤膜厚の90%を飽和膜厚とし、こ
のT1/2 の膜厚に到達するまでの時間と定義する。膜膨
潤速度T1/2 は、バインダーとしてのゼラチンに硬膜剤
を加えること、あるいは塗布後の経時条件を変えること
によって調整することができる。また、膨潤率は150
〜400%が好ましい。膨潤率とは、さきに述べた条件
下での最大膨潤膜厚から、式:(最大膨潤膜厚−膜厚)
/膜厚に従って計算できる。
【0104】また本発明においては、帯電防止剤が好ま
しく用いられる。それらの帯電防止剤としては、特に制
限はなく、たとえばアニオン性高分子電解質としてはカ
ルボン酸及びカルボン酸塩、スルホン酸塩を含む高分子
で例えば特開昭48−22017号、特公昭46−24
159号、特開昭51−30725号、特開昭51−1
29216号、特開昭55−95942号に記載されて
いるような高分子である。カチオン性高分子としては例
えば特開昭49−121523号、特開昭48−911
65号、特公昭49−24582号に記載されているよ
うなものがある。またイオン性界面活性剤もアニオン性
とカチオン性とがあり、例えば特開昭49−85826
号、特開昭49−33630号、米国特許第2,99
2,108、米国特許第3,206,312、特開昭4
8−87826号、特公昭49−11567号、特公昭
49−11568号、特開昭55−70837号などに
記載されているような化合物を挙げることができる。
しく用いられる。それらの帯電防止剤としては、特に制
限はなく、たとえばアニオン性高分子電解質としてはカ
ルボン酸及びカルボン酸塩、スルホン酸塩を含む高分子
で例えば特開昭48−22017号、特公昭46−24
159号、特開昭51−30725号、特開昭51−1
29216号、特開昭55−95942号に記載されて
いるような高分子である。カチオン性高分子としては例
えば特開昭49−121523号、特開昭48−911
65号、特公昭49−24582号に記載されているよ
うなものがある。またイオン性界面活性剤もアニオン性
とカチオン性とがあり、例えば特開昭49−85826
号、特開昭49−33630号、米国特許第2,99
2,108、米国特許第3,206,312、特開昭4
8−87826号、特公昭49−11567号、特公昭
49−11568号、特開昭55−70837号などに
記載されているような化合物を挙げることができる。
【0105】帯電防止剤として最も好ましいものは、Z
nO、TiO2 、SnO2 、Al2O3 、In2 O3 、
SiO2 、MgO、BaO、MoO3 、V2 O5 の中か
ら選ばれた少くとも1種の結晶性の金属酸化物あるいは
これらの複合酸化物(Sb,P,B,In,S,Si,
Cなど)の微粒子、更にはゾル状の金属酸化物あるいは
これらの複合酸化物の微粒子である。本発明に使用され
る導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子ま
たは針状フィラーはその体積抵抗率が107 Ω−cm以
下、より好ましくは105 Ω−cm以下である。またその
粒子サイズは0.001〜1.0μm、特に0.001
〜0.3μmとすることが望ましい。更に効率良く導電
性を与えるために、一次微粒子を一部凝集させて0.0
1〜0.2μmにした導電性の結晶性酸化物又はその複
合酸化物の微粒子やフィラーを用いることが好ましい。
更に、これらを用いて帯電防止層を作製する場合に到達
する導電性としては、好ましくは生、処理後共にその電
気抵抗が1012Ω以下であり、より好ましくは1010Ω
以下、特に好ましいのは電気抵抗が109.5 Ω以下であ
る。その場合一般的に感材への含有量としては、5〜5
00mg/m2が好ましく特に好ましくは10〜350mg/
m2である。また、バインダーの量は1〜500mg/m2が
好ましく、特に5〜300mg/m2が好ましい。導電性の
結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子または針状フ
ィラーとバインダーの量の比は1/300〜100/1
が好ましく、より好ましくは1/100〜100/5で
ある。
nO、TiO2 、SnO2 、Al2O3 、In2 O3 、
SiO2 、MgO、BaO、MoO3 、V2 O5 の中か
ら選ばれた少くとも1種の結晶性の金属酸化物あるいは
これらの複合酸化物(Sb,P,B,In,S,Si,
Cなど)の微粒子、更にはゾル状の金属酸化物あるいは
これらの複合酸化物の微粒子である。本発明に使用され
る導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子ま
たは針状フィラーはその体積抵抗率が107 Ω−cm以
下、より好ましくは105 Ω−cm以下である。またその
粒子サイズは0.001〜1.0μm、特に0.001
〜0.3μmとすることが望ましい。更に効率良く導電
性を与えるために、一次微粒子を一部凝集させて0.0
1〜0.2μmにした導電性の結晶性酸化物又はその複
合酸化物の微粒子やフィラーを用いることが好ましい。
更に、これらを用いて帯電防止層を作製する場合に到達
する導電性としては、好ましくは生、処理後共にその電
気抵抗が1012Ω以下であり、より好ましくは1010Ω
以下、特に好ましいのは電気抵抗が109.5 Ω以下であ
る。その場合一般的に感材への含有量としては、5〜5
00mg/m2が好ましく特に好ましくは10〜350mg/
m2である。また、バインダーの量は1〜500mg/m2が
好ましく、特に5〜300mg/m2が好ましい。導電性の
結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子または針状フ
ィラーとバインダーの量の比は1/300〜100/1
が好ましく、より好ましくは1/100〜100/5で
ある。
【0106】本発明の感材には滑り性が有る事が好まし
い。滑り性は感光層面、バック面ともに良いがバック面
の方が効果が大きい。好ましい滑り性としては動摩擦係
数で0.25以下0.01以上である。この時の測定は
直径5mmのステンレス球に対し、60cm/m2で移動した
時の値を表す。この評価において相手材として感光層面
に置き換えてもほぼ同レベルの値となる。本発明に使用
可能な滑りとしては、例えば、特公昭53−292号公
報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米
国特許第4,275,146号明細書に開示されている
ような高級脂肪酸アミド、特公昭58−33541号公
報、英国特許第927,446号明細書或いは特開昭5
5−126238号及び同58−90633号公報に開
示されているような高級脂肪酸エステル(炭素数10〜
24の脂肪酸と炭素数10〜24のアルコールのエステ
ル)、そして、米国特許第3,933,516号明細書
に開示されているような高級脂肪酸金属塩、また、特開
昭58−50534に開示されているような、直鎖高級
脂肪酸と直鎖高級アルコールのエステル、世界公開90
108115.8に開示されているような分岐アルキル
基を含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等が知ら
れている。
い。滑り性は感光層面、バック面ともに良いがバック面
の方が効果が大きい。好ましい滑り性としては動摩擦係
数で0.25以下0.01以上である。この時の測定は
直径5mmのステンレス球に対し、60cm/m2で移動した
時の値を表す。この評価において相手材として感光層面
に置き換えてもほぼ同レベルの値となる。本発明に使用
可能な滑りとしては、例えば、特公昭53−292号公
報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米
国特許第4,275,146号明細書に開示されている
ような高級脂肪酸アミド、特公昭58−33541号公
報、英国特許第927,446号明細書或いは特開昭5
5−126238号及び同58−90633号公報に開
示されているような高級脂肪酸エステル(炭素数10〜
24の脂肪酸と炭素数10〜24のアルコールのエステ
ル)、そして、米国特許第3,933,516号明細書
に開示されているような高級脂肪酸金属塩、また、特開
昭58−50534に開示されているような、直鎖高級
脂肪酸と直鎖高級アルコールのエステル、世界公開90
108115.8に開示されているような分岐アルキル
基を含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等が知ら
れている。
【0107】又、高級脂肪酸及びその誘導体、高級アル
コール及びその誘導体としては、高級脂肪酸、高級脂肪
酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、
高級脂肪酸の多価アルコールエステル等、また、高級脂
肪族アルコール、高級脂肪族アルコールのモノアルキル
フォスファイト、ジアルキルフォスファイト、トリアル
キルフォスファイト、モノアルキルフォスフェート、ジ
アルキルフォスフェート、トリアルキルフォスフェー
ト、高級脂肪族のアルキルスルフォン酸、そのアミド化
合物またはその塩等を用いることができる。また、特願
平5−153909号、同5−153910号、同5−
345871号などに記載の高級脂肪酸−高級アルコー
ルエステルが好ましく用いられる。又、本発明に使用す
る滑り剤は、有機溶剤中に分散する方法も各種用いる事
ができる。有機溶剤中に分散する方法としては、滑り剤
を有機溶剤中で、ボールミル、サンドグラインダー等に
より、固体分散法する方法、滑り剤を有機溶剤中で加温
溶解しておき、攪拌しながら冷却析出させて分散する方
法、また、滑り剤を有機溶剤中で加温溶解しておき、こ
れを、常温または冷却した有機溶剤中に添加して冷却析
出させて分散する方法、また、相互に相溶しない有機溶
剤同志により乳化する方法等である。用いられる分散機
としては、通常の攪拌機が使用できるが、特に好ましい
のは、超音波分散機、ホモジナイザーである。
コール及びその誘導体としては、高級脂肪酸、高級脂肪
酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、
高級脂肪酸の多価アルコールエステル等、また、高級脂
肪族アルコール、高級脂肪族アルコールのモノアルキル
フォスファイト、ジアルキルフォスファイト、トリアル
キルフォスファイト、モノアルキルフォスフェート、ジ
アルキルフォスフェート、トリアルキルフォスフェー
ト、高級脂肪族のアルキルスルフォン酸、そのアミド化
合物またはその塩等を用いることができる。また、特願
平5−153909号、同5−153910号、同5−
345871号などに記載の高級脂肪酸−高級アルコー
ルエステルが好ましく用いられる。又、本発明に使用す
る滑り剤は、有機溶剤中に分散する方法も各種用いる事
ができる。有機溶剤中に分散する方法としては、滑り剤
を有機溶剤中で、ボールミル、サンドグラインダー等に
より、固体分散法する方法、滑り剤を有機溶剤中で加温
溶解しておき、攪拌しながら冷却析出させて分散する方
法、また、滑り剤を有機溶剤中で加温溶解しておき、こ
れを、常温または冷却した有機溶剤中に添加して冷却析
出させて分散する方法、また、相互に相溶しない有機溶
剤同志により乳化する方法等である。用いられる分散機
としては、通常の攪拌機が使用できるが、特に好ましい
のは、超音波分散機、ホモジナイザーである。
【0108】本発明の感光材料の支持体としては、セル
ローストリアセテート、セルロースジアセテート、ニト
ロセルロース、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、バライタ紙、ポリエチレン被覆紙などを用いう
る。これらの支持体は、公知の方法でコロナ処理されて
もよく、又、必要に応じて公知の方法で下引き加工され
てもよい。
ローストリアセテート、セルロースジアセテート、ニト
ロセルロース、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、バライタ紙、ポリエチレン被覆紙などを用いう
る。これらの支持体は、公知の方法でコロナ処理されて
もよく、又、必要に応じて公知の方法で下引き加工され
てもよい。
【0109】本発明は、透明磁気記録層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料についても適応できる。従来、ハロ
ゲン化銀写真感光材料(以下感材と略す)においては、
撮影時やプリント時に画像情報を提供するのみであった
が、特開平4−68336や、特開平4−73737に
開示されているように、感材に透明磁気記録層を全面に
付与することにより、画像以外に、撮影の日時、天候、
縮小/拡大比などの撮影条件、再プリント枚数、ズーム
したい箇所、メッセージ、および、現像、プリント条件
などを感材に入力でき、またテレビ/ビデオなどの映像
機器への入力も可能となる。その際には帯電によるほこ
りの影響を取り除いたり、フィルムの滑り性を良くした
り、支持体を含むカールの影響をなくすことが望まれ
る。
ン化銀写真感光材料についても適応できる。従来、ハロ
ゲン化銀写真感光材料(以下感材と略す)においては、
撮影時やプリント時に画像情報を提供するのみであった
が、特開平4−68336や、特開平4−73737に
開示されているように、感材に透明磁気記録層を全面に
付与することにより、画像以外に、撮影の日時、天候、
縮小/拡大比などの撮影条件、再プリント枚数、ズーム
したい箇所、メッセージ、および、現像、プリント条件
などを感材に入力でき、またテレビ/ビデオなどの映像
機器への入力も可能となる。その際には帯電によるほこ
りの影響を取り除いたり、フィルムの滑り性を良くした
り、支持体を含むカールの影響をなくすことが望まれ
る。
【0110】これらについて以下に詳細に記述する。本
発明で用い得る磁性粒子は、γ−Fe2 O3 などの強磁
性酸化鉄(FeOx、4/3<x≦3/2)、Co被着
γ−Fe2 O3 などのCo被着強磁性酸化鉄(FeO
x、4/3<x≦3/2)、Co被着マグネタイト、そ
の他Co含有の強磁性酸化鉄、Co含有マグネタイト、
強磁性二酸化クロム、強磁性金属、強磁性合金、さらに
その他のフェライト、例えば六方晶系のBaフェライ
ト、Srフェライト、Pbフェライト、Caフェライト
あるいはこれらの固溶体またはイオン置換体などを使用
できるが、Co被着γ−Fe2 O3 などのCo被着強磁
性酸化鉄で、Fe2+/Fe3+比が0〜10%のものが透
過濃度の点から好ましい。
発明で用い得る磁性粒子は、γ−Fe2 O3 などの強磁
性酸化鉄(FeOx、4/3<x≦3/2)、Co被着
γ−Fe2 O3 などのCo被着強磁性酸化鉄(FeO
x、4/3<x≦3/2)、Co被着マグネタイト、そ
の他Co含有の強磁性酸化鉄、Co含有マグネタイト、
強磁性二酸化クロム、強磁性金属、強磁性合金、さらに
その他のフェライト、例えば六方晶系のBaフェライ
ト、Srフェライト、Pbフェライト、Caフェライト
あるいはこれらの固溶体またはイオン置換体などを使用
できるが、Co被着γ−Fe2 O3 などのCo被着強磁
性酸化鉄で、Fe2+/Fe3+比が0〜10%のものが透
過濃度の点から好ましい。
【0111】強磁性体の形状としては針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換特性上好ましい。またその粒子サイズは、針状の場合
は長軸が0.01〜0.8μm、長軸/短軸比は2〜1
00が好ましく、更に長軸は0.05〜0.3μm、長
軸/短軸比は4〜15がより好ましい。比表面積ではS
BET で20m2/g以上が好ましく、30m2/g以上が特
に好ましい。強磁性体の飽和磁化(σs )は大きいほど
好ましいが、50 emu/g以上、さらに好ましくは70
emu/g以上であり、実用上は100 emu/g以下とな
る。また、強磁性体の角型比(σr/σs )は40%以
上、さらには45%以上が好ましい。保磁力(Hc)は
小さすぎると消去されやすく、大きすぎるとシステムに
よっては書き込めなくなるため適度な値が好ましく、20
0 Oe以上3000 Oe以下、好ましくは500 Oe以上2000 Oe以
下、さらに好ましくは650 Oe以上950 Oe以下である。
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換特性上好ましい。またその粒子サイズは、針状の場合
は長軸が0.01〜0.8μm、長軸/短軸比は2〜1
00が好ましく、更に長軸は0.05〜0.3μm、長
軸/短軸比は4〜15がより好ましい。比表面積ではS
BET で20m2/g以上が好ましく、30m2/g以上が特
に好ましい。強磁性体の飽和磁化(σs )は大きいほど
好ましいが、50 emu/g以上、さらに好ましくは70
emu/g以上であり、実用上は100 emu/g以下とな
る。また、強磁性体の角型比(σr/σs )は40%以
上、さらには45%以上が好ましい。保磁力(Hc)は
小さすぎると消去されやすく、大きすぎるとシステムに
よっては書き込めなくなるため適度な値が好ましく、20
0 Oe以上3000 Oe以下、好ましくは500 Oe以上2000 Oe以
下、さらに好ましくは650 Oe以上950 Oe以下である。
【0112】これらの強磁性体粒子を、例えば特開昭5
9−23505や特開平4−096052記載のものな
どのような、シリカおよび/またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平4−195726、同4−1
92116、同4−259911、同5−081652
記載のような無機および/または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。次に本発明の磁性粒子が好ま
しく用いられるバインダーについて記す。本発明に用い
られるバインダーは従来、磁気記録媒体用の結合剤とし
て使用されている公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
放射線硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、アルカリ又は生分
解性ポリマー、天然物重合体(セルロース誘導体、糖誘
導体など)およびこれらの混合物を使用することができ
る。好ましい上記樹脂のTgは−40℃〜300℃、重
量平均分子量は0.2万〜100万、好ましくは0.5
万〜30万である。
9−23505や特開平4−096052記載のものな
どのような、シリカおよび/またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平4−195726、同4−1
92116、同4−259911、同5−081652
記載のような無機および/または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。次に本発明の磁性粒子が好ま
しく用いられるバインダーについて記す。本発明に用い
られるバインダーは従来、磁気記録媒体用の結合剤とし
て使用されている公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
放射線硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、アルカリ又は生分
解性ポリマー、天然物重合体(セルロース誘導体、糖誘
導体など)およびこれらの混合物を使用することができ
る。好ましい上記樹脂のTgは−40℃〜300℃、重
量平均分子量は0.2万〜100万、好ましくは0.5
万〜30万である。
【0113】バインダーの中ではセルロースジ(または
トリ)アセテートが好ましい。バインダーは単独または
数種混合で使用され、エポキシ系、アジリジン系、イソ
シアネトー系の公知の架橋剤、および/あるいは放射線
硬化型ビニル系モノマーを添加して硬化処理することが
できる。特に好ましいのはイソシアネート系架橋剤であ
り、例えばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物
(例えば、トリレンジイソシアナート3mol とトリメチ
ロールプロパン1mol の反応生成物)、及びこれらのイ
ソシアネート類の縮合により生成したポリイシソアネー
トなどがあげられる。またエポキシ基を有する架橋剤と
しては、例えばトリメチロールプロパン、トリグリシジ
ル付加物やペンタエリスリトールのテトラグリシジル付
加物等が好ましい。放射線硬化ビニル系モノマーとして
は、放射線照射によって重合可能な化合物であって、好
ましいものとして(メタ)アクリロイル基を2個以上有
する、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、など
のポリエチレングリコールの(メタ)アクリレート類、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリ
イシソアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレート化合
物との反応物、等がある。これらの架橋剤は、架橋剤を
含むバインダー全体に対して5から45wt%であるこ
とが好ましい。
トリ)アセテートが好ましい。バインダーは単独または
数種混合で使用され、エポキシ系、アジリジン系、イソ
シアネトー系の公知の架橋剤、および/あるいは放射線
硬化型ビニル系モノマーを添加して硬化処理することが
できる。特に好ましいのはイソシアネート系架橋剤であ
り、例えばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物
(例えば、トリレンジイソシアナート3mol とトリメチ
ロールプロパン1mol の反応生成物)、及びこれらのイ
ソシアネート類の縮合により生成したポリイシソアネー
トなどがあげられる。またエポキシ基を有する架橋剤と
しては、例えばトリメチロールプロパン、トリグリシジ
ル付加物やペンタエリスリトールのテトラグリシジル付
加物等が好ましい。放射線硬化ビニル系モノマーとして
は、放射線照射によって重合可能な化合物であって、好
ましいものとして(メタ)アクリロイル基を2個以上有
する、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、など
のポリエチレングリコールの(メタ)アクリレート類、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリ
イシソアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレート化合
物との反応物、等がある。これらの架橋剤は、架橋剤を
含むバインダー全体に対して5から45wt%であるこ
とが好ましい。
【0114】また、本発明の磁気記録層に親水性バイン
ダーも使用でき、水溶性ポリマー、セルロースエステ
ル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルなどが例
示されている。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼ
ラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、で
んぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合
体、無水マレイン酸共重合体などであり、セルロースエ
ステルとしてはカルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロースなどである。ラテックスポリマーと
しては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共
重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル
含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などである。こ
の中で最も好ましいのはゼラチンである。ゼラチンの硬
膜剤としては、たとえば、2−ヒドロキシ−4,6−ジ
クロロ−1,3,5−トリアジン、ジビニルスルホン、
米国特許第3,103,437号等に記載されているイ
シソアナート類、米国特許第3,017,280号、同
2,983,611号等に記載されているアジリジン化
合物類、米国特許3,321,313号などに記載され
ているカルボキシル基活性型硬膜剤などを例示できる。
硬膜剤の使用量は、通常乾燥ゼラチンに対して0.01
〜30重量%、好ましくは0.05〜20重量%であ
る。
ダーも使用でき、水溶性ポリマー、セルロースエステ
ル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステルなどが例
示されている。水溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼ
ラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、で
んぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合
体、無水マレイン酸共重合体などであり、セルロースエ
ステルとしてはカルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロースなどである。ラテックスポリマーと
しては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共
重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル
含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などである。こ
の中で最も好ましいのはゼラチンである。ゼラチンの硬
膜剤としては、たとえば、2−ヒドロキシ−4,6−ジ
クロロ−1,3,5−トリアジン、ジビニルスルホン、
米国特許第3,103,437号等に記載されているイ
シソアナート類、米国特許第3,017,280号、同
2,983,611号等に記載されているアジリジン化
合物類、米国特許3,321,313号などに記載され
ているカルボキシル基活性型硬膜剤などを例示できる。
硬膜剤の使用量は、通常乾燥ゼラチンに対して0.01
〜30重量%、好ましくは0.05〜20重量%であ
る。
【0115】前述の磁性体を上記バインダー中に分散す
る方法は、種々の公知の手段が可能であるが、ニーダ
ー、ピン型ミル、アニュラー型ミルなどが好ましく、ニ
ーダーとピン型ミル、もしくはニーダーとアニュラー型
ミルの併用も好ましい。磁気記録層の厚みは0.1μ〜
10μ、好ましくは0.2μ〜5μ、より好ましくは
0.3μ〜3μである。磁気粒子とバインダーの重量比
は好ましくは0.5:100〜60:100からなり、
より好ましくは1:100〜30:100である。磁性
体としての塗布量は0.005〜3g/m2、好ましくは
0.01〜2g/m2、さらに好ましくは0.02〜0.
5g/m2である。
る方法は、種々の公知の手段が可能であるが、ニーダ
ー、ピン型ミル、アニュラー型ミルなどが好ましく、ニ
ーダーとピン型ミル、もしくはニーダーとアニュラー型
ミルの併用も好ましい。磁気記録層の厚みは0.1μ〜
10μ、好ましくは0.2μ〜5μ、より好ましくは
0.3μ〜3μである。磁気粒子とバインダーの重量比
は好ましくは0.5:100〜60:100からなり、
より好ましくは1:100〜30:100である。磁性
体としての塗布量は0.005〜3g/m2、好ましくは
0.01〜2g/m2、さらに好ましくは0.02〜0.
5g/m2である。
【0116】本発明の磁気記録層は、写真用支持体の裏
面に塗布又は印刷によって全面またはストライプ状に設
けることができる。この磁気記録層を塗布する方法とし
てはエアードクターコート、ブレードコート、エアナイ
フコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロー
ルコート、トランスファーロールコート、グラビアコー
ト、キスコート、キャストコート、スプレイコート、デ
ィップコート、バーコート、エクストリュージョンコー
ト等が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの
具体的説明は朝倉書店発行の「コーティング工学」25
3頁〜277頁(昭和46.3.20.発行)に詳細に
記載されている。磁気記録層に、潤滑性向上、カール調
節、帯電防止、接着防止、ヘッド研磨などの機能を合せ
持たせてもよいし、別の機能性層を設けて、これらの機
能を付与させてもよく、必要に応じて磁気記録層に隣接
する保護層を設けて耐傷性を向上させてもよく、例え
ば、無機、有機の微粒子(例えば、シリカ、SiO2 、
SnO2 、Al2 O3 、TiO2 、架橋ポリメチルメタ
クリレート、炭酸バリウム、シリコーン微粒子など)を
添加するのは好ましい。
面に塗布又は印刷によって全面またはストライプ状に設
けることができる。この磁気記録層を塗布する方法とし
てはエアードクターコート、ブレードコート、エアナイ
フコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロー
ルコート、トランスファーロールコート、グラビアコー
ト、キスコート、キャストコート、スプレイコート、デ
ィップコート、バーコート、エクストリュージョンコー
ト等が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの
具体的説明は朝倉書店発行の「コーティング工学」25
3頁〜277頁(昭和46.3.20.発行)に詳細に
記載されている。磁気記録層に、潤滑性向上、カール調
節、帯電防止、接着防止、ヘッド研磨などの機能を合せ
持たせてもよいし、別の機能性層を設けて、これらの機
能を付与させてもよく、必要に応じて磁気記録層に隣接
する保護層を設けて耐傷性を向上させてもよく、例え
ば、無機、有機の微粒子(例えば、シリカ、SiO2 、
SnO2 、Al2 O3 、TiO2 、架橋ポリメチルメタ
クリレート、炭酸バリウム、シリコーン微粒子など)を
添加するのは好ましい。
【0117】次に本発明での好ましく用いられる支持体
であるポリエチレン芳香族ジカルボキシレート系ポリエ
ステル支持体について記す。本発明のポリエステルは、
ジオールと芳香族ジカルボン酸を必須成分として形成さ
れるが、その他のジカルボン酸との混用もよく使用可能
な二塩基酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フ
タル酸、無水フタル酸、ナフタレンジカルボン酸(2,
6−、1,5−、1,4−、2,7−)、ジフェニレン
p,p′−ジカルボン酸、テトラクロロ無水フタル酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、無水
コハク酸、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル
酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル
酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ハロゲン化
テレフタル酸、ビス(p−カルボキシフェンノール)エ
ーテル、1,1−ジカルボキシ−2−フェニルエチレ
ン、1,4−ジカルボキシメチルフェノール、1,3−
ジカルボキシ−5フェニルフェノール、3−スルフォイ
ソフタル酸ソーダ等を挙げることができる。必須である
芳香族ジカルボン酸は前述したジカルボン酸の中で、ベ
ンゼン核を少なくとも一個有するものである。
であるポリエチレン芳香族ジカルボキシレート系ポリエ
ステル支持体について記す。本発明のポリエステルは、
ジオールと芳香族ジカルボン酸を必須成分として形成さ
れるが、その他のジカルボン酸との混用もよく使用可能
な二塩基酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フ
タル酸、無水フタル酸、ナフタレンジカルボン酸(2,
6−、1,5−、1,4−、2,7−)、ジフェニレン
p,p′−ジカルボン酸、テトラクロロ無水フタル酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、無水
コハク酸、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル
酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル
酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ハロゲン化
テレフタル酸、ビス(p−カルボキシフェンノール)エ
ーテル、1,1−ジカルボキシ−2−フェニルエチレ
ン、1,4−ジカルボキシメチルフェノール、1,3−
ジカルボキシ−5フェニルフェノール、3−スルフォイ
ソフタル酸ソーダ等を挙げることができる。必須である
芳香族ジカルボン酸は前述したジカルボン酸の中で、ベ
ンゼン核を少なくとも一個有するものである。
【0118】次にジオールとしては、エチレングリコー
ル、1,3−プロパンジーオル、1,2−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジ
オール、1,8−オクタンジオール、1,10−デカン
ジオール、1,12−ドデカンジオール、1,4−シク
ロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノ
ール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,1−シク
ロヘキサンジメタノール、カテコール、レゾルシン、ハ
イドロキノン、1,4−ベンゼンジメタノール、ジメチ
ロールナフタレン、p−ヒドロキシエチルオキシベンゼ
ン(PHBA)、ビスフェノールA等を挙げることがで
きる。また、必要に応じて、単官能または、3以上の多
官能の水酸基含有化合物あるいは、酸含有化合物が共重
合されていても構わない。また、本発明のポリエステル
には、分子内に水酸基とカルボキシル基(あるいはその
エステル)を同時に有する化合物が共重合されていても
構わなくサリチル酸などがある。
ル、1,3−プロパンジーオル、1,2−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジ
オール、1,8−オクタンジオール、1,10−デカン
ジオール、1,12−ドデカンジオール、1,4−シク
ロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノ
ール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,1−シク
ロヘキサンジメタノール、カテコール、レゾルシン、ハ
イドロキノン、1,4−ベンゼンジメタノール、ジメチ
ロールナフタレン、p−ヒドロキシエチルオキシベンゼ
ン(PHBA)、ビスフェノールA等を挙げることがで
きる。また、必要に応じて、単官能または、3以上の多
官能の水酸基含有化合物あるいは、酸含有化合物が共重
合されていても構わない。また、本発明のポリエステル
には、分子内に水酸基とカルボキシル基(あるいはその
エステル)を同時に有する化合物が共重合されていても
構わなくサリチル酸などがある。
【0119】形成されるポリマーとして好ましいのは、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート
(PCT)等のホモポリマー、およびテレフタル酸、ナ
フタレンジカルボン酸とエチレングリコールのコポリマ
ー(テレフタル酸とナフタレンジカルボン酸の混合モル
比は0.9:0.1〜0.1:0.9の間が好ましく、
0.8:0.2〜0.2:0.8が更に好ましい。)が
好ましい。特に好ましいのは2,6−ナフタレンジカル
ボン酸を含むポリエステルである。具体的には2,6−
ナフタレンジカルボン酸を0.1〜1.0含むポリエス
テルである。中でも特に好ましいのはポリエチレン2,
6−ナフタレートである。
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート
(PCT)等のホモポリマー、およびテレフタル酸、ナ
フタレンジカルボン酸とエチレングリコールのコポリマ
ー(テレフタル酸とナフタレンジカルボン酸の混合モル
比は0.9:0.1〜0.1:0.9の間が好ましく、
0.8:0.2〜0.2:0.8が更に好ましい。)が
好ましい。特に好ましいのは2,6−ナフタレンジカル
ボン酸を含むポリエステルである。具体的には2,6−
ナフタレンジカルボン酸を0.1〜1.0含むポリエス
テルである。中でも特に好ましいのはポリエチレン2,
6−ナフタレートである。
【0120】これらのホモポリマーおよびコポリマー
は、従来公知のポリエステルの製造方法に従って合成で
き、例えば、高分子実験学第5巻「重縮合と重付加」
(共立出版、1980年)第103頁〜第136頁、
“合成高分子V”(朝倉書店、1971年)第187頁
〜第286頁の記載を参考に行うことができる。これら
のポリエステルの好ましい平均分子量の範囲は約500
0ないし200000である。さらに、これらのポリエ
ステルには別の種類のポリエステルとの接着性を向上さ
せるために、別のポリエステルを一部ブレンドしたり、
別のポリエステルを構成するモノマーを共重合させた
り、または、これらのポリエステル中に、不飽和結合を
有するモノマーを共重合させ、ラジカル架橋させたりす
ることができる。得られたポリマーを2種類以上混合し
たポリマーブレンドは、特開昭49−5482、同64
−4325、特開平3−192718、リサーチ・ディ
スクロージャー283,739−41、同284,77
9−82、同294,807−14に記載した方法に従
って、容易に形成することができる。
は、従来公知のポリエステルの製造方法に従って合成で
き、例えば、高分子実験学第5巻「重縮合と重付加」
(共立出版、1980年)第103頁〜第136頁、
“合成高分子V”(朝倉書店、1971年)第187頁
〜第286頁の記載を参考に行うことができる。これら
のポリエステルの好ましい平均分子量の範囲は約500
0ないし200000である。さらに、これらのポリエ
ステルには別の種類のポリエステルとの接着性を向上さ
せるために、別のポリエステルを一部ブレンドしたり、
別のポリエステルを構成するモノマーを共重合させた
り、または、これらのポリエステル中に、不飽和結合を
有するモノマーを共重合させ、ラジカル架橋させたりす
ることができる。得られたポリマーを2種類以上混合し
たポリマーブレンドは、特開昭49−5482、同64
−4325、特開平3−192718、リサーチ・ディ
スクロージャー283,739−41、同284,77
9−82、同294,807−14に記載した方法に従
って、容易に形成することができる。
【0121】本発明のポリエステルはそのTgが50℃
以上であるが、その使用条件は、一般に十分注意されて
取り扱われるわけではなく、特に真夏の屋外においてそ
の気温が40℃までに晒されることが多々有り、この観
点から本発明のTgは安全をみこして55℃以上が好ま
しい。さらに好ましくは、Tgは60℃以上であり特に
好ましくは70℃以上である。更に完全をきすためには
Tgが90℃以上が好ましい。これは、この熱処理によ
る巻き癖改良の効果が、ガラス転移温度を超える温度に
さらされると消失するため、一般ユーザーに使われた際
に苛酷な条件である温度、即ち夏季の温度40℃を超え
る温度以上のガラス転移温度を有するポリエステルが好
ましい。
以上であるが、その使用条件は、一般に十分注意されて
取り扱われるわけではなく、特に真夏の屋外においてそ
の気温が40℃までに晒されることが多々有り、この観
点から本発明のTgは安全をみこして55℃以上が好ま
しい。さらに好ましくは、Tgは60℃以上であり特に
好ましくは70℃以上である。更に完全をきすためには
Tgが90℃以上が好ましい。これは、この熱処理によ
る巻き癖改良の効果が、ガラス転移温度を超える温度に
さらされると消失するため、一般ユーザーに使われた際
に苛酷な条件である温度、即ち夏季の温度40℃を超え
る温度以上のガラス転移温度を有するポリエステルが好
ましい。
【0122】次に本発明に用いるポリエステルの好まし
い具体的化合物例を示すが、本発明がこれに限定される
ものではない。 ポリエステル化合物例 BP−0:〔テレフタル酸(TPA)/エチレングリコール(EG) (100/100)〕(PET) Tg=80℃ BP−1:〔2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDCA)/エチレングリコー ル(EG)(100/100)〕(PEN) Tg=119℃ BP−2:〔テレフタル酸(TPA)/シクロヘキサンジメタノール(CHDM )(100/100)〕 Tg=93℃ BP−3:〔TPA/ビスフェノール(BPA) (100/100)〕 Tg=192℃
い具体的化合物例を示すが、本発明がこれに限定される
ものではない。 ポリエステル化合物例 BP−0:〔テレフタル酸(TPA)/エチレングリコール(EG) (100/100)〕(PET) Tg=80℃ BP−1:〔2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDCA)/エチレングリコー ル(EG)(100/100)〕(PEN) Tg=119℃ BP−2:〔テレフタル酸(TPA)/シクロヘキサンジメタノール(CHDM )(100/100)〕 Tg=93℃ BP−3:〔TPA/ビスフェノール(BPA) (100/100)〕 Tg=192℃
【0123】 BP−4:2,6−NDCA/TPA/EG(50/50/100) Tg=92℃ BP−5:2,6−NDCA/TPA/EG(75/25/100) Tg=102℃ BP−6:2,6−NDCA/TPA/EG/BPA(50/50/75/25) Tg=112℃ BP−7:TPA/EG/BPA(100/50/50) Tg=105℃ BP−8:TPA/EG/BPA(100/25/75) Tg=135℃ BP−9:TPA/EG/CHDM/BPA(100/25/25/50) Tg=115℃
【0124】 BP−10:イソフタル酸(IPA)/NDCA/TPA/EG(20/50/3 0/100) Tg=95℃ BP−11:NDCA/ネオペンチルグリコール(NPG)/EG(100/70 /30) Tg=105℃ BP−12:TPA/EG/ビスフェノール(BP)(100/20/80) Tg=115℃ BP−13:PHBA/EG/TPA(200/100/100) Tg=125℃ BP−14:PEN/PET(60/40) Tg=95℃ BP−15:PEN/PET(80/20) Tg=104℃ BP−16:ポリアリレート(PAr)/PEN(50/50) Tg=142℃ BP−17:PAr/ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート(PCT) (50/50) Tg=118℃ BP−18:PAr/PET(60/40) Tg=101℃ BP−19:PEN/PET/PAr(50/25/25) Tg=108℃ BP−20:TPA/5−スルフォイソフタル酸(SIP)/EG(95/5/1 00) Tg=65℃ BP−21:PEN/SIP/EG(99/1/100) Tg=115℃
【0125】本発明のこれらの支持体は、50μm以上
300μm以下の厚みである。50μm未満では乾燥時
に発生する感光層の収縮応力に耐えることができず、一
方300μmを越えるとコンパクト化のために厚みを薄
くしようとする目的と矛盾する。より好ましくはその腰
の強さから厚い方が好ましく50〜200μmであり、
更には80〜115μmが好ましく、特に好ましくは8
5〜105μmである。次に本発明のポリエステル支持
体は熱処理を施されることを特徴とし、その際には40
℃以上ガラス転移温度以下の温度で0.1〜1500時
間行う必要がありこれにより巻きぐせの付きにくいフィ
ルムとなる。より好ましくはTg−20℃以上Tg未満
で熱処理である。熱処理はこの温度範囲内の一定温度で
実施してもよく、冷却しながら熱処理してもよい。冷却
の平均冷却速度は−0.01〜−20℃/時間、より好
ましくは−0.1〜−5℃/時間である。この熱処理時
間は、0.1時間以上1500時間以下、さらに好まし
くは0.5時間以上200時間以下である。0.1時間
以下では十分な効果を得ることができず、1500時間
以上では効果が飽和する一方、支持体の着色や脆化が起
こりやすくなる。巻き癖解消の効果をより一層増大させ
るには、この熱処理の前にTg以上融点(DSCで求め
た融解温度)未満の温度で熱処理をし、支持体の熱履歴
を消去させた後、上記40℃以上Tg未満の温度で再熱
処理を行うとよい。
300μm以下の厚みである。50μm未満では乾燥時
に発生する感光層の収縮応力に耐えることができず、一
方300μmを越えるとコンパクト化のために厚みを薄
くしようとする目的と矛盾する。より好ましくはその腰
の強さから厚い方が好ましく50〜200μmであり、
更には80〜115μmが好ましく、特に好ましくは8
5〜105μmである。次に本発明のポリエステル支持
体は熱処理を施されることを特徴とし、その際には40
℃以上ガラス転移温度以下の温度で0.1〜1500時
間行う必要がありこれにより巻きぐせの付きにくいフィ
ルムとなる。より好ましくはTg−20℃以上Tg未満
で熱処理である。熱処理はこの温度範囲内の一定温度で
実施してもよく、冷却しながら熱処理してもよい。冷却
の平均冷却速度は−0.01〜−20℃/時間、より好
ましくは−0.1〜−5℃/時間である。この熱処理時
間は、0.1時間以上1500時間以下、さらに好まし
くは0.5時間以上200時間以下である。0.1時間
以下では十分な効果を得ることができず、1500時間
以上では効果が飽和する一方、支持体の着色や脆化が起
こりやすくなる。巻き癖解消の効果をより一層増大させ
るには、この熱処理の前にTg以上融点(DSCで求め
た融解温度)未満の温度で熱処理をし、支持体の熱履歴
を消去させた後、上記40℃以上Tg未満の温度で再熱
処理を行うとよい。
【0126】このような支持体の熱処理は、ロール状で
実施してもよく、またウェブ状で搬送しながら実施して
もよい。ロール状で熱処理する場合、ロールを室温から
恒温槽中で熱処理する方法、ウェブ搬送中に所定温度に
した後ロール状に巻取り熱処理する方法のいずれの方法
で実施してもよい。ロール状での熱処理では、熱処理中
に発生する熱収縮応力のために、巻締まりによるしわ
や、巻芯部の切り口写り等の面状故障が発生しやすい。
このため、表面に凹凸を付与し(例えばSnO2/Sb
2 O5 等の導電性無機微粒子やコロイダルシリカを塗布
する)、支持体間のきしみを低減させることで巻締まり
によるしわを防止したり、支持体の端部にローレットを
付与し端部のみ少し高くすることで巻芯部の切り口写り
を防止するなどの工夫を行うことが望ましい。ウェブ状
で熱処理する場合、長大な後熱処理工程を必要とする
が、ロール状での熱処理に比べて良好な支持体面状が得
られる。これらの熱処理は支持体製膜後、グロー放電処
理後、バック層塗布後(帯電防止剤、滑り剤等)、下塗
り塗布後のどこの段階で実施してもよい。好ましいのは
帯電防止剤塗布後である。これにより熱処理中の支持体
の面状故障となる帯電によるゴミの付着を防ぐことがで
きる。
実施してもよく、またウェブ状で搬送しながら実施して
もよい。ロール状で熱処理する場合、ロールを室温から
恒温槽中で熱処理する方法、ウェブ搬送中に所定温度に
した後ロール状に巻取り熱処理する方法のいずれの方法
で実施してもよい。ロール状での熱処理では、熱処理中
に発生する熱収縮応力のために、巻締まりによるしわ
や、巻芯部の切り口写り等の面状故障が発生しやすい。
このため、表面に凹凸を付与し(例えばSnO2/Sb
2 O5 等の導電性無機微粒子やコロイダルシリカを塗布
する)、支持体間のきしみを低減させることで巻締まり
によるしわを防止したり、支持体の端部にローレットを
付与し端部のみ少し高くすることで巻芯部の切り口写り
を防止するなどの工夫を行うことが望ましい。ウェブ状
で熱処理する場合、長大な後熱処理工程を必要とする
が、ロール状での熱処理に比べて良好な支持体面状が得
られる。これらの熱処理は支持体製膜後、グロー放電処
理後、バック層塗布後(帯電防止剤、滑り剤等)、下塗
り塗布後のどこの段階で実施してもよい。好ましいのは
帯電防止剤塗布後である。これにより熱処理中の支持体
の面状故障となる帯電によるゴミの付着を防ぐことがで
きる。
【0127】次に本発明のポリエステルについて、その
写真支持体としての機能を更に高めるために、種々の添
加剤を共存させることが好ましい。これらのポリエステ
ルフィルム中に蛍光防止および経時安定性付与の目的で
紫外線吸収剤を、練り込んでも良い。紫外線吸収剤とし
ては、可視領域に吸収を持たないものが望ましく、かつ
その添加量はポリエステルフィルムの重量に対して通常
0.01重量%ないし20重量%、好ましくは0.05
重量%ないし10重量%程度である。紫外線吸収剤とし
ては2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ドデシルオキ
シ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジ
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノンなど
のベンゾフェノン系、2(2′−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキ
シ3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2(2′−ヒドロキシ−3′−ジ−t−ブチル
−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベン
ゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル、サリチル酸メ
チル等のサリチル酸系紫外線吸収剤が挙げられる。
写真支持体としての機能を更に高めるために、種々の添
加剤を共存させることが好ましい。これらのポリエステ
ルフィルム中に蛍光防止および経時安定性付与の目的で
紫外線吸収剤を、練り込んでも良い。紫外線吸収剤とし
ては、可視領域に吸収を持たないものが望ましく、かつ
その添加量はポリエステルフィルムの重量に対して通常
0.01重量%ないし20重量%、好ましくは0.05
重量%ないし10重量%程度である。紫外線吸収剤とし
ては2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ドデシルオキ
シ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジ
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノンなど
のベンゾフェノン系、2(2′−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2′−ヒドロキ
シ3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2(2′−ヒドロキシ−3′−ジ−t−ブチル
−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベン
ゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル、サリチル酸メ
チル等のサリチル酸系紫外線吸収剤が挙げられる。
【0128】またライトパイピング現象を回避するため
に支持体に不活性無機粒子等を含有させる方法、ならび
に染料を添加することがこのましく、染料については特
に限定されなく例えば染料としては、三菱化成製のDiar
esin、日本化薬製のKayaset等ポリエステル用として市
販されている染料を混合することにより目的を達成する
ことが可能である。染色濃度に関しては、マクベス社製
の色濃度計にて可視光域での色濃度を測定し少なくとも
0.01以上であることが必要である。更に好ましくは
0.03以上である。本発明によるポリエステルフィル
ムは、用途に応じて易滑性を付与することも可能であ
り、不活性無機粒子としてはSiO2 、TiO2 、Ba
SO4 、CaCO3 、タルク、カオリン等が添加され
る。
に支持体に不活性無機粒子等を含有させる方法、ならび
に染料を添加することがこのましく、染料については特
に限定されなく例えば染料としては、三菱化成製のDiar
esin、日本化薬製のKayaset等ポリエステル用として市
販されている染料を混合することにより目的を達成する
ことが可能である。染色濃度に関しては、マクベス社製
の色濃度計にて可視光域での色濃度を測定し少なくとも
0.01以上であることが必要である。更に好ましくは
0.03以上である。本発明によるポリエステルフィル
ムは、用途に応じて易滑性を付与することも可能であ
り、不活性無機粒子としてはSiO2 、TiO2 、Ba
SO4 、CaCO3 、タルク、カオリン等が添加され
る。
【0129】これらのポリエステルフィルムを支持体に
使用する場合、これらポリエステル支持体がいずれも疎
水性の表面を有するため、支持体上にゼラチンを主とし
た保護コロイドからなる写真層(例えば感光性ハロゲン
化銀乳剤層、中間層、フィルター層等)を強固に接着さ
せるために各種の表面処理をすることが好ましい。例え
ば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処
理、などの表面活性化処理があげられる。これらの表面
処理をした後、下塗層を設けたり直接写真乳剤層を塗布
してもよい。
使用する場合、これらポリエステル支持体がいずれも疎
水性の表面を有するため、支持体上にゼラチンを主とし
た保護コロイドからなる写真層(例えば感光性ハロゲン
化銀乳剤層、中間層、フィルター層等)を強固に接着さ
せるために各種の表面処理をすることが好ましい。例え
ば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処
理、などの表面活性化処理があげられる。これらの表面
処理をした後、下塗層を設けたり直接写真乳剤層を塗布
してもよい。
【0130】表面処理の中でも好ましいのは、紫外線照
射処理、火焔処理、コロナ処理、グロー処理である。先
ず紫外線照射処理について以下に記す。これらは特公昭
43−2603号、特公昭43−2604号、特公昭4
5−3828号記載の処理方法などによって行われるの
が好ましい。水銀灯は石英管からなる高圧水銀灯で、紫
外線の波長が180〜320nmの間であるものが好まし
い。紫外線照射は支持体の延伸工程、熱固定時、熱固定
後の何れでもよい。被支持体の表面温度が150℃前後
にまで上昇することが支持体性能上問題なければ、主波
長が365nmの高圧水銀灯ランプを使用することができ
る。低温処理が必要とされる場合には主波長が254nm
の低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプの高圧
水銀ランプ、及び低圧水銀ランプを使用する事も可能で
ある。
射処理、火焔処理、コロナ処理、グロー処理である。先
ず紫外線照射処理について以下に記す。これらは特公昭
43−2603号、特公昭43−2604号、特公昭4
5−3828号記載の処理方法などによって行われるの
が好ましい。水銀灯は石英管からなる高圧水銀灯で、紫
外線の波長が180〜320nmの間であるものが好まし
い。紫外線照射は支持体の延伸工程、熱固定時、熱固定
後の何れでもよい。被支持体の表面温度が150℃前後
にまで上昇することが支持体性能上問題なければ、主波
長が365nmの高圧水銀灯ランプを使用することができ
る。低温処理が必要とされる場合には主波長が254nm
の低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプの高圧
水銀ランプ、及び低圧水銀ランプを使用する事も可能で
ある。
【0131】次にコロナ放電処理について記すと、従来
公知のいずれの方法、例えば特公昭48−5043号、
同47−51905号、特開昭47−28067号、同
49−83767号、同51−41770号、同51−
131576号等に開示された方法により達成すること
ができる。放電周波数は50Hz〜5000KHz、好
ましくは5KHz〜数100KHzが適当であり特に好
ましくは10Hz〜30KHzである。被処理物の処理
強度に関しては、通常は0.001KV・A・分/m2〜
5KV・A・分/m2、好ましくは0.01KV・A・分
/m2〜1KV・A・分/m2が適当である。電極と誘電体
ロールのギャップクリアランスは0.5〜2.5mm、好
ましくは1.0〜2.0mmが適当である。コロナ放電処
理機はPillar社製ソリッドステートコロナ処理機6KV
Aモデルを用いることができる。又、火焔処理としては
天然ガス、液化プロパンガスなどを利用でき空気との混
合比が重要である。好ましいガス/空気の混合比は容積
比で、プロパンでは1/14〜1/22、より好ましく
は1/16〜1/19である。天然ガスでは1/6〜1
/10、より好ましくは1/7〜1/9である。火焔処
理量は、1〜50Kcal/m2、より好ましくは3〜2
0Kcal/m2である。またバーナーの内炎の先端と支
持体の距離を4cm未満とすることがより効果的である。
公知のいずれの方法、例えば特公昭48−5043号、
同47−51905号、特開昭47−28067号、同
49−83767号、同51−41770号、同51−
131576号等に開示された方法により達成すること
ができる。放電周波数は50Hz〜5000KHz、好
ましくは5KHz〜数100KHzが適当であり特に好
ましくは10Hz〜30KHzである。被処理物の処理
強度に関しては、通常は0.001KV・A・分/m2〜
5KV・A・分/m2、好ましくは0.01KV・A・分
/m2〜1KV・A・分/m2が適当である。電極と誘電体
ロールのギャップクリアランスは0.5〜2.5mm、好
ましくは1.0〜2.0mmが適当である。コロナ放電処
理機はPillar社製ソリッドステートコロナ処理機6KV
Aモデルを用いることができる。又、火焔処理としては
天然ガス、液化プロパンガスなどを利用でき空気との混
合比が重要である。好ましいガス/空気の混合比は容積
比で、プロパンでは1/14〜1/22、より好ましく
は1/16〜1/19である。天然ガスでは1/6〜1
/10、より好ましくは1/7〜1/9である。火焔処
理量は、1〜50Kcal/m2、より好ましくは3〜2
0Kcal/m2である。またバーナーの内炎の先端と支
持体の距離を4cm未満とすることがより効果的である。
【0132】グロー放電処理は、従来知られているいず
れの方法、例えば特公昭35−7578号、同36−1
0336号、同45−22004号、同45−2200
5号、同45−24040号、同46−43480号、
米国特許3,057,792号、同3,057,795
号、同3,179,482号、同3,288,638
号、同3,309,299号、同3,424,735
号、同3,462,335号、同3,475,307
号、同3,761,299号、英国特許997,093
号、特開昭53−129262号等を用いることができ
る。グロー放電処理の雰囲気に酸素、窒素、ヘリウムあ
るいはアルゴンのような種々のガスを導入しながら行う
手法があるが、水蒸気の存在下でグロー放電処理が好ま
しい。水蒸気分圧は、10%以上100%以下が好まし
く、更に好ましくは40%以上90%以下である。10
%未満では不充な接着性を得ることが困難となる。水蒸
気以外のガスは酸素、窒素等からなる空気である。さら
に、表面処理すべきフィルムを予め加熱することが好ま
しく、50℃以上Tg以下が好ましく、70℃以上Tg
以下がより好ましく、90℃以上Tg以下がさらに好ま
しい。真空中で支持体表面温度を上げる方法としては、
赤外線ヒータによる加熱、熱ロールに接触させることに
よる加熱等がある。
れの方法、例えば特公昭35−7578号、同36−1
0336号、同45−22004号、同45−2200
5号、同45−24040号、同46−43480号、
米国特許3,057,792号、同3,057,795
号、同3,179,482号、同3,288,638
号、同3,309,299号、同3,424,735
号、同3,462,335号、同3,475,307
号、同3,761,299号、英国特許997,093
号、特開昭53−129262号等を用いることができ
る。グロー放電処理の雰囲気に酸素、窒素、ヘリウムあ
るいはアルゴンのような種々のガスを導入しながら行う
手法があるが、水蒸気の存在下でグロー放電処理が好ま
しい。水蒸気分圧は、10%以上100%以下が好まし
く、更に好ましくは40%以上90%以下である。10
%未満では不充な接着性を得ることが困難となる。水蒸
気以外のガスは酸素、窒素等からなる空気である。さら
に、表面処理すべきフィルムを予め加熱することが好ま
しく、50℃以上Tg以下が好ましく、70℃以上Tg
以下がより好ましく、90℃以上Tg以下がさらに好ま
しい。真空中で支持体表面温度を上げる方法としては、
赤外線ヒータによる加熱、熱ロールに接触させることに
よる加熱等がある。
【0133】グロー放電処理時の圧力は0.005〜2
0Torrとするのが好ましい。より好ましくは0.02〜
2Torrである。また、電圧は、500〜5000Vの間
が好ましい。より好ましくは500〜3000Vであ
る。使用する放電周波数は、従来技術に見られるよう
に、直流から数1000MHz、好ましくは50Hz〜
20MHz、さらに好ましくは1KHz〜1MHzであ
る。放電処理強度は、0.01KV・A・分/m2〜5K
V・A・分/m2が好ましく、更に好ましくは0.15K
V・A・分/m2〜1KV・A・分/m2で所望の接着性能
が得られる。このようにして、グロー放電処理を施した
支持体は、直ちに冷却ロールを用いて温度を下げること
が好ましい。
0Torrとするのが好ましい。より好ましくは0.02〜
2Torrである。また、電圧は、500〜5000Vの間
が好ましい。より好ましくは500〜3000Vであ
る。使用する放電周波数は、従来技術に見られるよう
に、直流から数1000MHz、好ましくは50Hz〜
20MHz、さらに好ましくは1KHz〜1MHzであ
る。放電処理強度は、0.01KV・A・分/m2〜5K
V・A・分/m2が好ましく、更に好ましくは0.15K
V・A・分/m2〜1KV・A・分/m2で所望の接着性能
が得られる。このようにして、グロー放電処理を施した
支持体は、直ちに冷却ロールを用いて温度を下げること
が好ましい。
【0134】次に表面処理された支持体の下塗法につい
て述べる。単層でも重層法でもよく例えば塩化ビニル、
塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル
酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた
単量体を出発原料とする共重合体を始めとして、ポリエ
チレンイミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニ
トロセルロース、など数多くのポリマーについて、重層
での下塗第2層では主としてゼラチンを主体とするバイ
ンダーが好ましい。本発明に使用する下塗ポリマーとし
ては、水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテック
スポリマー、水溶性ポリエステルなどが例示される。水
溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カ
ゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニ
ールアルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイ
ン酸共重合体などであり、セルロースエステルとしては
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ースなどである。ラテックスポリマーとしては塩化ビニ
ル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共重合体、アクリ
ル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体、
ブタジエン含有共重合体などである。この中でも最も好
ましいのはゼラチンである。
て述べる。単層でも重層法でもよく例えば塩化ビニル、
塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル
酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた
単量体を出発原料とする共重合体を始めとして、ポリエ
チレンイミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニ
トロセルロース、など数多くのポリマーについて、重層
での下塗第2層では主としてゼラチンを主体とするバイ
ンダーが好ましい。本発明に使用する下塗ポリマーとし
ては、水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテック
スポリマー、水溶性ポリエステルなどが例示される。水
溶性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カ
ゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニ
ールアルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイ
ン酸共重合体などであり、セルロースエステルとしては
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ースなどである。ラテックスポリマーとしては塩化ビニ
ル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共重合体、アクリ
ル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体、
ブタジエン含有共重合体などである。この中でも最も好
ましいのはゼラチンである。
【0135】本発明に使用される支持体を膨潤させる化
合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、メチルレ
ゾルシン、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、フェノール、o−クロルフェノール、p−クロ
ルフェノール、ジクロルフェノール、トリクロルフェノ
ール、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢
酸、抱水クロラールなどがあげられる。この中で好まし
いのは、レゾルシンとp−クロルフェノールである。本
発明の下びき層には種々のゼラチン硬化剤を用いること
ができる。ゼラチン硬化剤としてはコロム塩(クロム明
ばんなど)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルタ
ールアルデヒドなど)、イソシアネート類、活性ハロゲ
ン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−ト
リアジンなど)、エピクロルヒドリン樹脂などを挙げる
ことができる。
合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、メチルレ
ゾルシン、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、フェノール、o−クロルフェノール、p−クロ
ルフェノール、ジクロルフェノール、トリクロルフェノ
ール、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢
酸、抱水クロラールなどがあげられる。この中で好まし
いのは、レゾルシンとp−クロルフェノールである。本
発明の下びき層には種々のゼラチン硬化剤を用いること
ができる。ゼラチン硬化剤としてはコロム塩(クロム明
ばんなど)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルタ
ールアルデヒドなど)、イソシアネート類、活性ハロゲ
ン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−ト
リアジンなど)、エピクロルヒドリン樹脂などを挙げる
ことができる。
【0136】本発明の下びき層にはSiO2 、Ti
O2 、マット剤の如き無機物微粒子又はポリメチルメタ
クリレート共重合体微粒子(1〜10μm)をマット剤
として含有することができる。本発明に係わる下塗液
は、一般によく知られた塗布方法、例えばディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法、或いは米国特許第2,681,294号明細書に記
載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法に
より塗布することが出来る。所望により、米国特許第
2,761,791号、同3,508,947号、同
2,941,898号、及び同3,526,528号明
細書、原崎勇次著、「コーティング工学」253頁(1
973年、朝倉書店発行)などに記載された方法により
2層以上の層を同時に塗布することが出来る。本発明に
おいて、好ましいのは支持体がポリエチレン−2,6−
ナフタレンジカルボキシレートが100℃〜115℃の
間で24時間熱処理されかつその支持体の厚さが85μ
m〜105μmであり、その表面が紫外線照射処理又は
グロー放電処理されているものであり、バック側の非感
光性親水性層が1〜7μmのゼラチン層であり且つ非感
光性親水性層が0.5〜5μmのセルロースバインダー
であることを特徴とするものである。この時バック層の
非感光性親水性層のゼラチン量と反対側の乳剤層のゼラ
チン層の重量比は0.1〜0.5が好ましい。
O2 、マット剤の如き無機物微粒子又はポリメチルメタ
クリレート共重合体微粒子(1〜10μm)をマット剤
として含有することができる。本発明に係わる下塗液
は、一般によく知られた塗布方法、例えばディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法、或いは米国特許第2,681,294号明細書に記
載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法に
より塗布することが出来る。所望により、米国特許第
2,761,791号、同3,508,947号、同
2,941,898号、及び同3,526,528号明
細書、原崎勇次著、「コーティング工学」253頁(1
973年、朝倉書店発行)などに記載された方法により
2層以上の層を同時に塗布することが出来る。本発明に
おいて、好ましいのは支持体がポリエチレン−2,6−
ナフタレンジカルボキシレートが100℃〜115℃の
間で24時間熱処理されかつその支持体の厚さが85μ
m〜105μmであり、その表面が紫外線照射処理又は
グロー放電処理されているものであり、バック側の非感
光性親水性層が1〜7μmのゼラチン層であり且つ非感
光性親水性層が0.5〜5μmのセルロースバインダー
であることを特徴とするものである。この時バック層の
非感光性親水性層のゼラチン量と反対側の乳剤層のゼラ
チン層の重量比は0.1〜0.5が好ましい。
【0137】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行 その製法 目から同第21頁左下欄14行目及び特開平2−1 2236号公報第7頁右上欄19行目から同第8頁 左下欄12行目、特願平3−116573号、特願 平3−189532号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目か ら同第8頁右下欄8行目、同2−39042号公報 第7頁右下欄8行目から第13頁右下欄5行目。特 開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目か ら同右下欄4行目、同2−103536号公報第1 6頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、 さらに特開平1−112235号、同2−1245 60号、同3−7928号、特願平3−18953 2号及び同3−411064号。
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行 その製法 目から同第21頁左下欄14行目及び特開平2−1 2236号公報第7頁右上欄19行目から同第8頁 左下欄12行目、特願平3−116573号、特願 平3−189532号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目か ら同第8頁右下欄8行目、同2−39042号公報 第7頁右下欄8行目から第13頁右下欄5行目。特 開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目か ら同右下欄4行目、同2−103536号公報第1 6頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、 さらに特開平1−112235号、同2−1245 60号、同3−7928号、特願平3−18953 2号及び同3−411064号。
【0138】 3)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目。 4)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目、及び同2−553 49号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁左 上欄8行目。 5)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 6)ポリヒドロキシ 特開平2−55349号公報第11頁左上欄9頁か ベンゼン類 ら同右下欄17行目。 7)滑り剤、可塑剤 特開平2−103536号公報第19頁右上欄6行 目から同第19頁右上欄15行目。 8)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同17行目。
【0139】 9)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目、同2−39042号公報第4頁 右上欄1行目から第6頁右上欄5行目、同2−29 4638号公報及び特願平3−185773号に記 載の固体染料。 10)テトラゾリウム化合 特開平2−39143号公報第4頁左下欄8行目か 物 ら第6頁左下欄6行目、特開平3−123346号 公報第3頁右上欄19行目から第5頁左上欄20行 目。 11)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特願平3−69466 号、同3−15648号に記載の化合物。 12)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−25)。 13)コロイド状シリカ 特開平4−214551号段落記号「0005」記 載の化合物。 14) 現像液及び現像方法 特開平2−103536号公報第19頁右上欄16 行目から同第21頁左上欄8行目。 特開平2−55349号公報第13頁右下欄1行目 から同第16頁左上欄10行目。
【0140】
【実施例】以下に実施例をあげて、本発明を更に詳細に
説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
【0141】実施例1 両面に下塗層を施した二軸延伸したポリエチレンテレフ
タレート支持体(厚味100μm)の一方の側に下記組
成の導電層及びバック層を同時塗布した。 <導電層> SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200 mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm) 77 〃 化合物−6 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
タレート支持体(厚味100μm)の一方の側に下記組
成の導電層及びバック層を同時塗布した。 <導電層> SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200 mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm) 77 〃 化合物−6 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【0142】 <バック層> ゼラチン(Ca**含有量 30ppm) 2.82 g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子( 平均粒径4.0 μm) 20 mg/m2 化合物−1 3 〃 化合物−2 40 〃 化合物−3 40 〃 化合物−4 80 〃 化合物−5 150 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 化合物−6 5 〃 硫酸ナトリウム 50 〃 酢酸ナトリウム 85 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 150 〃
【0143】
【化10】
【0144】
【化11】
【0145】
【化12】
【0146】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す乳剤層、保護層下層及び上層を同時塗布した。 <乳剤層>40℃に保った5,6−シクロペンタン−4
−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン
(銀1モル当り5×10-3モル)を含有するゼラチン水
溶液中に硝酸銀水溶液と銀1モル当り4×10-5モルの
(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に
7分で添加し、その間の電位を95mVにコントロール
することにより、芯部の粒子0.12μmを調製した。
その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-4モ
ルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同
時に14分間で添加しその間の電位を95mVにコント
ロールすることによって平均粒子サイズ0.15μmの
塩化銀立方体粒子を調製した。この乳剤にC16H33O(CH2C
H2O)25H の構造式をもつ化合物を50mg/m2、5,6−
シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラザインデンを24mg/m2、5−メチルトリアゾー
ルを5mg/m2、化合物−6を3mg/m2、ポリマーラテッ
クスを表−1の様に、硬膜剤として2−ビス(ビニルス
ルホニルアセトアミド)エタンを126mg/m2を加え、
銀量3.0g/m2、ゼラチン1.1g/m2になる様に塗
布した。
す乳剤層、保護層下層及び上層を同時塗布した。 <乳剤層>40℃に保った5,6−シクロペンタン−4
−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン
(銀1モル当り5×10-3モル)を含有するゼラチン水
溶液中に硝酸銀水溶液と銀1モル当り4×10-5モルの
(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に
7分で添加し、その間の電位を95mVにコントロール
することにより、芯部の粒子0.12μmを調製した。
その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-4モ
ルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同
時に14分間で添加しその間の電位を95mVにコント
ロールすることによって平均粒子サイズ0.15μmの
塩化銀立方体粒子を調製した。この乳剤にC16H33O(CH2C
H2O)25H の構造式をもつ化合物を50mg/m2、5,6−
シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラザインデンを24mg/m2、5−メチルトリアゾー
ルを5mg/m2、化合物−6を3mg/m2、ポリマーラテッ
クスを表−1の様に、硬膜剤として2−ビス(ビニルス
ルホニルアセトアミド)エタンを126mg/m2を加え、
銀量3.0g/m2、ゼラチン1.1g/m2になる様に塗
布した。
【0147】 <保護層下層> ゼラチン 0.7 g/m2 5−ニトロインダゾール 5 mg/m2 リポ酸 8 〃 C2 H5 SO2 Na 6 〃 ハイドロキノン 50 〃 1−ヒドロキシ−2−ベンズアルドオキシム 15 〃 ポリマーラテックス 表−1 <保護層上層> ゼラチン 0.5 g/m2 二酸化ケイ素微粒子(平均粒径3.5 μm) 55 mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.02μm) 135 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 25 〃 ポリ(重合度5)オキシエチレンノニルフェニル エーテルの硫酸エステルナトリウム塩 20 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロ ピルグリシンポタシウム塩 3 〃
【0148】得られた試料を25℃50%RHの雰囲気
下で、1週間保存した後、以下の評価をおこなった。 1)感度及びγ値 大日本スクリーン(株)製明室プリンターP−627F
M(水銀ランプ光源)で、光学ウェッジを通して露光
し、現像液及び定着液は、富士写真フイルム社製SR−
D2及びGR−F1を用いて、自動現像機FG−680
AG(富士写真フイルム社製)で38℃20秒の現像条
件で処理した。感度は濃度3.0を与える露光量の対数
値で試料番号−15を100としたときの相対値で示し
た。γ値は特性曲線の濃度0.3から3.0までの平均
階調度を示すものであり、2.7を△logE(濃度3.0
を与える露光量の対数値と濃度0.3を与える露光量の
対数値の差)で割って得られる値で示した。数値が大き
いほど高コントラストな画像特性を有している。 2)ウェット膜強度 試料を25℃の蒸留水中に5分間浸漬後、半径0.3mm
のサファイヤ針で、試料膜面に圧着し、10mm/秒の速
さで、移動しながら、針の荷重を連続的に変化させ、膜
が破壊する時の荷重(g)を測定した。 3)脆性 試料を25℃10%RHの雰囲気下に2時間放置後IS
O6077「Wedgebrittleness test」と同様の方法に
て、ハロゲン化銀乳剤層を含む側にクラックが最初に発
生した点の平均値を求めた。
下で、1週間保存した後、以下の評価をおこなった。 1)感度及びγ値 大日本スクリーン(株)製明室プリンターP−627F
M(水銀ランプ光源)で、光学ウェッジを通して露光
し、現像液及び定着液は、富士写真フイルム社製SR−
D2及びGR−F1を用いて、自動現像機FG−680
AG(富士写真フイルム社製)で38℃20秒の現像条
件で処理した。感度は濃度3.0を与える露光量の対数
値で試料番号−15を100としたときの相対値で示し
た。γ値は特性曲線の濃度0.3から3.0までの平均
階調度を示すものであり、2.7を△logE(濃度3.0
を与える露光量の対数値と濃度0.3を与える露光量の
対数値の差)で割って得られる値で示した。数値が大き
いほど高コントラストな画像特性を有している。 2)ウェット膜強度 試料を25℃の蒸留水中に5分間浸漬後、半径0.3mm
のサファイヤ針で、試料膜面に圧着し、10mm/秒の速
さで、移動しながら、針の荷重を連続的に変化させ、膜
が破壊する時の荷重(g)を測定した。 3)脆性 試料を25℃10%RHの雰囲気下に2時間放置後IS
O6077「Wedgebrittleness test」と同様の方法に
て、ハロゲン化銀乳剤層を含む側にクラックが最初に発
生した点の平均値を求めた。
【0149】その結果を表−1に示す。表−1から明ら
かな様に本発明の試料は写真特性に悪影響がなく、反応
性基含有モノマーが少ないにもかかわらず、ウェット膜
強度が著るしく良化し、脆性も良好であることがわか
る。また、乳剤層、保護層の総ゼラチン量を3g、4g
とした場合も同様な優れた結果を得た。
かな様に本発明の試料は写真特性に悪影響がなく、反応
性基含有モノマーが少ないにもかかわらず、ウェット膜
強度が著るしく良化し、脆性も良好であることがわか
る。また、乳剤層、保護層の総ゼラチン量を3g、4g
とした場合も同様な優れた結果を得た。
【0150】
【表1】
【0151】
【化13】
【0152】実施例2 両面に下塗層を施した二軸延伸したポリエチレンテレフ
タレート支持体(厚味100μ)支持体の一方の側に下
記組成の導電層及びバック層を塗布した。 <導電層> SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200 mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm) 77 〃 化合物−(1) 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃 導電層の表面抵抗率は25℃20%RH条件下で3.0
×109 Ωであった。
タレート支持体(厚味100μ)支持体の一方の側に下
記組成の導電層及びバック層を塗布した。 <導電層> SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200 mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm) 77 〃 化合物−(1) 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃 導電層の表面抵抗率は25℃20%RH条件下で3.0
×109 Ωであった。
【0153】 <バック層> ゼラチン(Ca**含有量 30ppm) 2.82 g/m2 化合物−(1) 3 mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4 μm) 50 〃 化合物−(2) 40 〃 化合物−(3) 40 〃 化合物−(4) 80 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 化合物−(5) 5 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタシウム 7 〃 硫酸ナトリウム 50 〃 酢酸ナトリウム 85 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 150 〃
【0154】
【化14】
【0155】
【化15】
【0156】次いで、支持体の反対側の面に、下記組成
の乳剤層、保護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 <乳剤層> 乳剤の調製 I液 水 1000 ml ゼラチン 20 g 塩化ナトリウム 20 g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20 g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 6 mg II液 水 400 ml 硝酸銀 100 g III液 水 400 ml 塩化ナトリウム 30.5 g 臭化カリウム 14 g ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム (0.001%水溶液) 15 ml ヘキサブロモロジウム(III)酸アンモニウム (0.001%水溶液) 1.5 ml 38℃、pH=4.5に保たれたI液にII液とIII 液を
攪拌しながら同時に10分間にわたって加え、0.16
μmの微粒子を形成した。続いて下記IV液、V液を10
分間にわたって加えた。さらにヨウ化カリウム0.15
gを加え粒子形成を終了した。
の乳剤層、保護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 <乳剤層> 乳剤の調製 I液 水 1000 ml ゼラチン 20 g 塩化ナトリウム 20 g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20 g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 6 mg II液 水 400 ml 硝酸銀 100 g III液 水 400 ml 塩化ナトリウム 30.5 g 臭化カリウム 14 g ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム (0.001%水溶液) 15 ml ヘキサブロモロジウム(III)酸アンモニウム (0.001%水溶液) 1.5 ml 38℃、pH=4.5に保たれたI液にII液とIII 液を
攪拌しながら同時に10分間にわたって加え、0.16
μmの微粒子を形成した。続いて下記IV液、V液を10
分間にわたって加えた。さらにヨウ化カリウム0.15
gを加え粒子形成を終了した。
【0157】 IV液 水 400 ml 硝酸銀 100 g V液 水 400 ml 塩化ナトリウム 30.5 g 臭化カリウム 14 g K4 Fe(CN)6 1 ×10-5モル/モルAg その後常法にしたがって、フロキュレーション法によっ
て、水洗し、ゼラチン40gを加えた。
て、水洗し、ゼラチン40gを加えた。
【0158】この乳剤を、pH=5.3、pAg=7.
5に調整し、チオ硫酸ナトリウム5.2mg、塩化金酸1
0.0mgとN,N−ジメチルセレノ尿素を2.0mg加
え、ベンゼンスルホン酸ナトリウム8mg、ベンゼンスル
フィン酸ナトリウム2.0mgを加え、55℃で最適感度
になるように化学増感し、最終的に塩化銀80モル%を
含む、平均粒子径0.20μmのヨウ塩臭化銀立方体粒
子乳剤を調製した。次いで増感色素をAg1モル当り
100mg加えて、パンクロ増感した。さらにカブリ防止
剤として、ハイドロキノン、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールをAg1モル当りそれぞれ2.5g、
50mg、コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックス
C、平均粒径0.015μm)をゼラチンに対し、30
重量%加え、可塑剤としてポリマーラテックスを表−2
に示す様に加え、硬膜剤として、1,1′−ビス(ビニ
ルスルホニル)メタンを100mg/m2加えた。この塗布
液をAg3.3g/m2、ゼラチン1.5g/m2になる様
に塗布した。
5に調整し、チオ硫酸ナトリウム5.2mg、塩化金酸1
0.0mgとN,N−ジメチルセレノ尿素を2.0mg加
え、ベンゼンスルホン酸ナトリウム8mg、ベンゼンスル
フィン酸ナトリウム2.0mgを加え、55℃で最適感度
になるように化学増感し、最終的に塩化銀80モル%を
含む、平均粒子径0.20μmのヨウ塩臭化銀立方体粒
子乳剤を調製した。次いで増感色素をAg1モル当り
100mg加えて、パンクロ増感した。さらにカブリ防止
剤として、ハイドロキノン、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールをAg1モル当りそれぞれ2.5g、
50mg、コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックス
C、平均粒径0.015μm)をゼラチンに対し、30
重量%加え、可塑剤としてポリマーラテックスを表−2
に示す様に加え、硬膜剤として、1,1′−ビス(ビニ
ルスルホニル)メタンを100mg/m2加えた。この塗布
液をAg3.3g/m2、ゼラチン1.5g/m2になる様
に塗布した。
【0159】
【化16】
【0160】 <保護層下層処方> m2当り ゼラチン 0.5 g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 4 mg 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 25 mg ポリマーラテックス 表−2 <保護層上層処方> m2当り ゼラチン 0.25g ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.7 μm) 40 mg 化合物−(6)(滑り剤のゼラチン分散物) 30 mg コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックスC) 30 mg 化合物−(7) 5 mg ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 22 mg
【0161】
【化17】
【0162】得られた試料を633nmにピークを持つ干
渉フィルターと連続濃度ウェッジを介して、発光時間1
0-6秒のキセノンフラッシュ光で露光し、富士写真フイ
ルム(株)製自動現像機FG−680ASを用いて、現
像処理を行ない、実施例1と同様に感度及びγを求め
た。なお、現像液及び定着液は富士写真フイルム社製S
R−D2及びSR−F1を用いて、現像条件38℃11
秒で行なった。ウェット膜強度及び脆性は実施例1と同
様におこなった。
渉フィルターと連続濃度ウェッジを介して、発光時間1
0-6秒のキセノンフラッシュ光で露光し、富士写真フイ
ルム(株)製自動現像機FG−680ASを用いて、現
像処理を行ない、実施例1と同様に感度及びγを求め
た。なお、現像液及び定着液は富士写真フイルム社製S
R−D2及びSR−F1を用いて、現像条件38℃11
秒で行なった。ウェット膜強度及び脆性は実施例1と同
様におこなった。
【0163】その結果を表−2に示す。表−2から明ら
かな様に本発明の試料は、ポリマーラテックスの含有量
を増加しても、ウェット膜強度の低下がなく、著るしく
優れていることがわかる。
かな様に本発明の試料は、ポリマーラテックスの含有量
を増加しても、ウェット膜強度の低下がなく、著るしく
優れていることがわかる。
【0164】
【表2】
【0165】実施例3 特開平4−340951号記載の実施例1の乳剤層及び
保護層下層のポリマーラテックス、特願平6−4660
6号記載の実施例2のバック層、乳剤層第1層及び第2
層、保護層下層のポリマーラテックス、実施例6の非感
光性層、乳剤層のポリマーラテックス、実施例7のUL
層、EM層、PC層のポリマーラテックス、実施例8の
乳剤層のポリマーラテックス、実施例11の最下層、乳
剤第1層、中間層、乳剤第2層のポリマーラテックス、
特開平6−27590号記載の実施例1の乳剤層のポリ
マーラテックスをそれぞれ本発明のポリマーラテックス
化合物例P−4に替えて、実施例1と同様の評価をおこ
なった結果、実施例1と同様に、写真特性を損うことな
く、優れた膜物性が得られた。
保護層下層のポリマーラテックス、特願平6−4660
6号記載の実施例2のバック層、乳剤層第1層及び第2
層、保護層下層のポリマーラテックス、実施例6の非感
光性層、乳剤層のポリマーラテックス、実施例7のUL
層、EM層、PC層のポリマーラテックス、実施例8の
乳剤層のポリマーラテックス、実施例11の最下層、乳
剤第1層、中間層、乳剤第2層のポリマーラテックス、
特開平6−27590号記載の実施例1の乳剤層のポリ
マーラテックスをそれぞれ本発明のポリマーラテックス
化合物例P−4に替えて、実施例1と同様の評価をおこ
なった結果、実施例1と同様に、写真特性を損うことな
く、優れた膜物性が得られた。
【0166】実施例4 特願平4−341005実施例1、2に準じて塗布サン
プル作成、処理を行なったところ本発明の実施例1、2
と同様の効果が現われた。
プル作成、処理を行なったところ本発明の実施例1、2
と同様の効果が現われた。
【0167】実施例5 特願平5−33721実施例1、2、3に準じて塗布サ
ンプル作成、処理を行なったところ本発明の実施例1、
2と同様の効果が現われた。
ンプル作成、処理を行なったところ本発明の実施例1、
2と同様の効果が現われた。
【0168】実施例6 特願平6−272259実施例2に準じて塗布サンプル
作成、処理を行なったところ本発明の実施例1、2と同
様の効果が現われた。
作成、処理を行なったところ本発明の実施例1、2と同
様の効果が現われた。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(I)、(II) 、(III) で表
されるエチレン性不飽和モノマーの少なくとも一種より
誘導される繰り返し単位を有するシェルを有するコア/
シェルポリマーラテックスを含有することを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 式中R1 は水素原子、炭素数1〜4の置換または無置換
アルキル基、ハロゲン原子を表す。Qは単結合または2
価の連結基を表す。L1 、L3 はアルキレン、アラルキ
レン、アリーレンを表し、L2 はアルキレン、アラルキ
レン、ヘテロアリーレンを表す。Mは水素原子もしくは
陽イオンを表す。X1 はハロゲン原子を表す。R2 は -
CH=CH2、-CH2-CH2-X2 のいずれかを表し、X2 は求核基
により置換されるか、塩基によってHX2 の形で脱離し
うる基を表す。 - 【請求項2】 ポリマーラテックスのコア部とシェル部
の各ポリマーの重量比が20/80ないし95/5の範
囲にある事を特徴とする請求項1に記載のハロゲン化銀
写真感光材料。 - 【請求項3】 コア及びまたはシェルのガラス転移温度
が50℃以下である事を特徴とする請求項1、2に記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22864095A JPH0954379A (ja) | 1995-08-15 | 1995-08-15 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22864095A JPH0954379A (ja) | 1995-08-15 | 1995-08-15 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0954379A true JPH0954379A (ja) | 1997-02-25 |
Family
ID=16879515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22864095A Pending JPH0954379A (ja) | 1995-08-15 | 1995-08-15 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0954379A (ja) |
-
1995
- 1995-08-15 JP JP22864095A patent/JPH0954379A/ja active Pending
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