JPH07234478A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JPH07234478A JPH07234478A JP6046606A JP4660694A JPH07234478A JP H07234478 A JPH07234478 A JP H07234478A JP 6046606 A JP6046606 A JP 6046606A JP 4660694 A JP4660694 A JP 4660694A JP H07234478 A JPH07234478 A JP H07234478A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- sodium
- gelatin
- mol
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 106
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 63
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims abstract description 98
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims abstract description 98
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims abstract description 98
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims abstract description 98
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims abstract description 98
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 64
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 61
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims description 26
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims description 26
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 177
- 238000000034 method Methods 0.000 description 77
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 64
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 58
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 54
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 37
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 35
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 34
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 30
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 28
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 28
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 28
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 19
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 17
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 16
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 15
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 15
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 15
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 15
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 description 14
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 14
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 14
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 13
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 12
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 12
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 12
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 12
- 229940006186 sodium polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 12
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 11
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- YUCTUWYCFFUCOR-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihexoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCC YUCTUWYCFFUCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 9
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 9
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 8
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 8
- JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M sodium;4-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 7
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 7
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 7
- 229940068984 polyvinyl alcohol Drugs 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 7
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 7
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 6
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 6
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 5
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 5
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 5
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 5
- WVFDILODTFJAPA-UHFFFAOYSA-M sodium;1,4-dihexoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCOC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCCCCCC WVFDILODTFJAPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfidosulfonylbenzene Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=S)C1=CC=CC=C1 BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- FYHIXFCITOCVKH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolidine-2-thione Chemical compound CN1CCN(C)C1=S FYHIXFCITOCVKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 4
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 4
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 4
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 3
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 102000011632 Caseins Human genes 0.000 description 3
- 108010076119 Caseins Proteins 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 3
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 3
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQMJYWDVABFRZ-UHFFFAOYSA-N cloxiquine Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C(Cl)C2=C1 CTQMJYWDVABFRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 3
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 3
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 3
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 2
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 2
- 229940023476 agar Drugs 0.000 description 2
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNFNDJAIBTYOQL-UHFFFAOYSA-N chloral hydrate Chemical compound OC(O)C(Cl)(Cl)Cl RNFNDJAIBTYOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002327 chloral hydrate Drugs 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- DGJMPUGMZIKDRO-UHFFFAOYSA-N cyanoacetamide Chemical compound NC(=O)CC#N DGJMPUGMZIKDRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 2
- QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N dioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo]=O QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- SAIGUZYNPDJAHY-UHFFFAOYSA-N ethane;2-ethenylsulfonylacetamide Chemical compound CC.NC(=O)CS(=O)(=O)C=C SAIGUZYNPDJAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000011194 food seasoning agent Nutrition 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 108700039708 galantide Proteins 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 2
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- PODWXQQNRWNDGD-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([S-])(=O)=O PODWXQQNRWNDGD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M sodium;2-[methyl-[(z)-octadec-9-enyl]amino]ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN(C)CCS([O-])(=O)=O AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NZKWZUOYGAKOQC-UHFFFAOYSA-H tripotassium;hexachloroiridium(3-) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[K+].[K+].[K+].[Ir+3] NZKWZUOYGAKOQC-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N (1S,2S,4R,8S,9S,11S,12R,13S,19S)-6-[(3-chlorophenyl)methyl]-12,19-difluoro-11-hydroxy-8-(2-hydroxyacetyl)-9,13-dimethyl-6-azapentacyclo[10.8.0.02,9.04,8.013,18]icosa-14,17-dien-16-one Chemical compound C([C@@H]1C[C@H]2[C@H]3[C@]([C@]4(C=CC(=O)C=C4[C@@H](F)C3)C)(F)[C@@H](O)C[C@@]2([C@@]1(C1)C(=O)CO)C)N1CC1=CC=CC(Cl)=C1 AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N 0.000 description 1
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 1
- GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N (2S,3R)-N-[(2S)-3-(cyclopenten-1-yl)-1-[(2R)-2-methyloxiran-2-yl]-1-oxopropan-2-yl]-3-hydroxy-3-(4-methoxyphenyl)-2-[[(2S)-2-[(2-morpholin-4-ylacetyl)amino]propanoyl]amino]propanamide Chemical compound C1(=CCCC1)C[C@@H](C(=O)[C@@]1(OC1)C)NC([C@H]([C@@H](C1=CC=C(C=C1)OC)O)NC([C@H](C)NC(CN1CCOCC1)=O)=O)=O GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical group OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- LXMMUXCVYVMRKZ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutanoylamino)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)NCOC(=O)C(C)=C LXMMUXCVYVMRKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKXZMCUFRWLMBT-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=C(Cl)C=C1 PKXZMCUFRWLMBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MPUZDPBYKVEHNH-BQYQJAHWSA-N (e)-2-methyl-3-phenylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(/C)=C/C1=CC=CC=C1 MPUZDPBYKVEHNH-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- DCXDVGKTBDNYRX-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethylsulfanyl)ethane Chemical compound CCSCCSCC DCXDVGKTBDNYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenylsulfonyl)propan-2-ol Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(O)CS(=O)(=O)C=C SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVXJIYJPQXRIEM-UHFFFAOYSA-N 1-$l^{1}-selanyl-n,n-dimethylmethanimidamide Chemical compound CN(C)C([Se])=N RVXJIYJPQXRIEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOOZKHMFNNJCMG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)propan-2-yl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OC(=O)CC(C)=O IOOZKHMFNNJCMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJHIIHORMWQZRQ-UHFFFAOYSA-N 1-(ethenylsulfonylmethylsulfonyl)ethene Chemical compound C=CS(=O)(=O)CS(=O)(=O)C=C IJHIIHORMWQZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 1-[(3s,4s)-4-[8-(2-chloro-4-pyrimidin-2-yloxyphenyl)-7-fluoro-2-methylimidazo[4,5-c]quinolin-1-yl]-3-fluoropiperidin-1-yl]-2-hydroxyethanone Chemical compound CC1=NC2=CN=C3C=C(F)C(C=4C(=CC(OC=5N=CC=CN=5)=CC=4)Cl)=CC3=C2N1[C@H]1CCN(C(=O)CO)C[C@@H]1F WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 0.000 description 1
- ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 1-[2-[(2s,3r,4s,5r)-3,4-dihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxy-4,6-dihydroxyphenyl]-3-(4-hydroxyphenyl)propan-1-one Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 0.000 description 1
- CKFQIYSINORIFY-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2-methylprop-2-enoyl)piperazin-1-yl]butane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)N1CCN(C(=O)C(C)=C)CC1 CKFQIYSINORIFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 1-[6-[2-[3-[3-[3-[2-[2-[3-[[2-[2-[[(2r)-1-[[2-[[(2r)-1-[3-[2-[2-[3-[[2-(2-amino-2-oxoethoxy)acetyl]amino]propoxy]ethoxy]ethoxy]propylamino]-3-hydroxy-1-oxopropan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]-3-[(2r)-2,3-di(hexadecanoyloxy)propyl]sulfanyl-1-oxopropan-2-yl Chemical compound O=C1C(SCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(=O)N[C@@H](CSC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CO)C(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(N)=O)CC(=O)N1CCNC(=O)CCCCCN\1C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2CC/1=C/C=C/C=C/C1=[N+](CC)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1 UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 0.000 description 1
- AZEOFJAORYORAE-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-2-hexylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCC1=CC=CC=[N+]1CC AZEOFJAORYORAE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C=C)C1=CC=CC=C1 CBQFBEBEBCHTBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGZDFOYYIXAAPC-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxypropan-2-yl 3-oxobutanoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)OC(=O)CC(C)=O NGZDFOYYIXAAPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trichlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMPSXRYVXUPCOS-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(Cl)=C1Cl UMPSXRYVXUPCOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJUCCGSXGKTYBT-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CC(C)(C)C QJUCCGSXGKTYBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLEHKYDBUSECFA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1-[(2,4-dichlorophenyl)methylperoxymethyl]benzene Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1COOCC1=CC=C(Cl)C=C1Cl VLEHKYDBUSECFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBZBISQOWJYWCC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-carboxypropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(O)=O VBZBISQOWJYWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCQHHYHGZQLDLH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanoacetyl)oxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)CC#N BCQHHYHGZQLDLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHZIKFVMPFWPJE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 3-oxopentanoate Chemical compound CCC(=O)CC(=O)OCCNC(=O)C(C)=C ZHZIKFVMPFWPJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCS(O)(=O)=O PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYIXVBSYPBIFCL-UHFFFAOYSA-N 2-(3-oxobutanoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)NCCOC(=O)C(C)=C MYIXVBSYPBIFCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUIYGDPBFYSWNG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-oxobutanoylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)NCCOC(=O)C=C RUIYGDPBFYSWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZWXRQASCOKEEG-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoylamino)ethyl 2-cyanoacetate Chemical compound C=CC(=O)NCCOC(=O)CC#N WZWXRQASCOKEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVYVKSBVZFBBPL-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)NC(=O)C=C MVYVKSBVZFBBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDOYKFSQFYNPKF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid;sodium Chemical compound [Na].[Na].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O BDOYKFSQFYNPKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(1,4,6,7-tetrahydropyrazolo[4,3-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=C2 AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQGBNAQGHQSREJ-UHFFFAOYSA-N 2-[butyl(3-oxobutanoyl)amino]ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCN(C(=O)CC(C)=O)CCOC(=O)C=C FQGBNAQGHQSREJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICGLGDINCXDWJB-UHFFFAOYSA-N 2-benzylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CC1=CC=CC=C1 ICGLGDINCXDWJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWZVJOLLQTWFCW-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1Cl SWZVJOLLQTWFCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFDKVXNMRLLVSL-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O YFDKVXNMRLLVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWZOJDWOQYTACD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylsulfonyl-n-[2-[(2-ethenylsulfonylacetyl)amino]ethyl]acetamide Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(=O)NCCNC(=O)CS(=O)(=O)C=C QWZOJDWOQYTACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethenylbenzene Chemical compound CCOC=CC1=CC=CC=C1 FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPRIWFSSXKQMPB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OPRIWFSSXKQMPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEBNPEXFDZBTIB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylbut-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CCC1=CC=CC=C1 AEBNPEXFDZBTIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBVILWHQIWQAQA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine Chemical compound N1=CC=CN2N=C(C)N=C21 VBVILWHQIWQAQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1O ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFTHUBZIEMOORC-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-2-enamide Chemical compound CC=C(C)C(N)=O KFTHUBZIEMOORC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXQOBTQMLMZFOW-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-2-enamide Chemical compound CCCC=C(C)C(N)=O ZXQOBTQMLMZFOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanamide Chemical compound CCC(=C)C(N)=O LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenehexanamide Chemical compound CCCCC(=C)C(N)=O GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YICILWNDMQTUIY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(N)=O YICILWNDMQTUIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGTISPYIJZXZSE-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-enamide Chemical compound CCC=C(C)C(N)=O PGTISPYIJZXZSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODPPVFMETNCIRW-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxymethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCS(O)(=O)=O ODPPVFMETNCIRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMOLAGKJZFODRK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylprop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 IMOLAGKJZFODRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCOC(=O)C=C GQTFHSAAODFMHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UALZDWDGZCUNPF-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl 2-cyanoacetate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)CC#N UALZDWDGZCUNPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPNBAXSEWHWRI-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl 3-oxopentanoate Chemical compound CCC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C=C LGPNBAXSEWHWRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- BRCPOVNFTXLBPI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-5,6,7,8-tetrahydro-1h-quinazolin-4-one Chemical compound C1CCCC2=C1NC(=S)NC2=O BRCPOVNFTXLBPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFNGWPXYNSJXOP-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCS(O)(=O)=O KFNGWPXYNSJXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNAXEZDVTMQXPB-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxy-2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=O)OC=C(C)C(O)=O NNAXEZDVTMQXPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-1,3-oxazolidin-2-id-4-one Chemical compound C(=C)N1[CH-]OCC1=O XHULUQRDNLRXPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDNHWPVAYKOIGU-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-2-methylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=C(C)C(N)=O SDNHWPVAYKOIGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)C=CC1=CC=CC=C1 CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=CC(N)=O WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGLJYJVYUYQOHR-UHFFFAOYSA-N 3-oxobutanoyl 4-hydroxy-2-methylidenebutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC(=O)C(=C)CCO ZGLJYJVYUYQOHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCOC(=O)C=C NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(O)=O RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMWEQHOZPTUQQ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylbut-2-enamide Chemical compound NC(=O)C(C)=CCO PBMWEQHOZPTUQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIYTYGOUZOARSH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(O)=O OIYTYGOUZOARSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIRPEUWCTMKABH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound COCCC(=C)C(N)=O PIRPEUWCTMKABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCXNXRUTKSIZND-UHFFFAOYSA-N 6-(dimethylamino)hexan-1-ol Chemical compound CN(C)CCCCCCO QCXNXRUTKSIZND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBJVVSCPOBPEIT-UHFFFAOYSA-N AZT-1152 Chemical compound N=1C=NC2=CC(OCCCN(CC)CCOP(O)(O)=O)=CC=C2C=1NC(=NN1)C=C1CC(=O)NC1=CC=CC(F)=C1 GBJVVSCPOBPEIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEFSAAGVHOUBPR-UHFFFAOYSA-L C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)OC1=NC(=NC(=C1)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12)NC1=C(C(=C(C=C1)C=CC1=CC=C(C=C1)NC1=NC(=CC(=N1)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12)S(=O)(=O)[O-])S(=O)(=O)[O-].[Na+].[Na+] Chemical compound C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)OC1=NC(=NC(=C1)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12)NC1=C(C(=C(C=C1)C=CC1=CC=C(C=C1)NC1=NC(=CC(=N1)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12)OC1=CC=CC2=CC=CC=C12)S(=O)(=O)[O-])S(=O)(=O)[O-].[Na+].[Na+] QEFSAAGVHOUBPR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OLVRNENKICWIHR-UHFFFAOYSA-N COCCC=C(C)C(N)=O Chemical compound COCCC=C(C)C(N)=O OLVRNENKICWIHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 229940126657 Compound 17 Drugs 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N Ethyl hydrogen fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(O)=O XLYMOEINVGRTEX-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100273739 Homo sapiens CD68 gene Proteins 0.000 description 1
- 241000243251 Hydra Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100150295 Mus musculus Scarf1 gene Proteins 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical group C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical group CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 241000047703 Nonion Species 0.000 description 1
- KCFQLCPMVCXRHF-UHFFFAOYSA-N O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] Chemical compound O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] KCFQLCPMVCXRHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQVPPLWYIDMWDA-UHFFFAOYSA-N OS(=O)(=O)c1ccccc1.CCCCCCCCCCCC[Na] Chemical compound OS(=O)(=O)c1ccccc1.CCCCCCCCCCCC[Na] CQVPPLWYIDMWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N Oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WREOTYWODABZMH-DTZQCDIJSA-N [[(2r,3s,4r,5r)-3,4-dihydroxy-5-[2-oxo-4-(2-phenylethoxyamino)pyrimidin-1-yl]oxolan-2-yl]methoxy-hydroxyphosphoryl] phosphono hydrogen phosphate Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](COP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O)O[C@H]1N(C=C\1)C(=O)NC/1=N\OCCC1=CC=CC=C1 WREOTYWODABZMH-DTZQCDIJSA-N 0.000 description 1
- WDENQIQQYWYTPO-IBGZPJMESA-N acalabrutinib Chemical compound CC#CC(=O)N1CCC[C@H]1C1=NC(C=2C=CC(=CC=2)C(=O)NC=2N=CC=CC=2)=C2N1C=CN=C2N WDENQIQQYWYTPO-IBGZPJMESA-N 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAKZZMMCDILMEF-UHFFFAOYSA-H barium(2+);diphosphate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[Ba+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O WAKZZMMCDILMEF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FAARTQSZKSBAOS-UHFFFAOYSA-N barium(2+);diphosphite Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[Ba+2].[O-]P([O-])[O-].[O-]P([O-])[O-] FAARTQSZKSBAOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L calcium acetate Chemical compound [Ca+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001639 calcium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011092 calcium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005147 calcium acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAEHPKIXIIACPQ-UHFFFAOYSA-L calcium;terephthalate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 AAEHPKIXIIACPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003090 carboxymethyl hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- RLGQACBPNDBWTB-UHFFFAOYSA-N cetyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C RLGQACBPNDBWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OIDPCXKPHYRNKH-UHFFFAOYSA-J chrome alum Chemical compound [K]OS(=O)(=O)O[Cr]1OS(=O)(=O)O1 OIDPCXKPHYRNKH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 1
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 1
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 1
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 1
- 229940126142 compound 16 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical group I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- YVIGPQSYEAOLAD-UHFFFAOYSA-L disodium;dodecyl phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCOP([O-])([O-])=O YVIGPQSYEAOLAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGVQVNIIRBPOAM-UHFFFAOYSA-N dodecyl naphthalene-1-sulfonate;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OCCCCCCCCCCCC)=CC=CC2=C1 QGVQVNIIRBPOAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical group CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910021472 group 8 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 1
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- QRXWMOHMRWLFEY-UHFFFAOYSA-N isoniazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=NC=C1 QRXWMOHMRWLFEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMQVDVJKPMGHDO-UHFFFAOYSA-K magnesium;potassium;chloride;sulfate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Mg+2].[Cl-].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O BMQVDVJKPMGHDO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 1
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 description 1
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- MPHUYCIKFIKENX-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethenylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C=C MPHUYCIKFIKENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N methyl hydrogen fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C(C)=C QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KELHQGOVULCJSG-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-1-(5-methylfuran-2-yl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(CN)C1=CC=C(C)O1 KELHQGOVULCJSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YALAVAYMNJCEBU-UHFFFAOYSA-N n-(2-chloro-3-formylpyridin-4-yl)-2,2-dimethylpropanamide Chemical compound CC(C)(C)C(=O)NC1=CC=NC(Cl)=C1C=O YALAVAYMNJCEBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEOJXQORMIVKQQ-UHFFFAOYSA-N n-(2-cyanoethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCC#N HEOJXQORMIVKQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTJXXXSSRCHQKC-UHFFFAOYSA-N n-(2-cyanoethyl)prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCC#N FTJXXXSSRCHQKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCBBWYIVFRLKCD-UHFFFAOYSA-N n-[2-(dimethylamino)ethyl]-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)CCNC(=O)C(C)=C DCBBWYIVFRLKCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)=C VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1CCCCC1 JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCLLINSDAJVOHP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n',n'-dimethylprop-2-enehydrazide Chemical compound CCN(N(C)C)C(=O)C=C RCLLINSDAJVOHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N n-tert-butylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)NC(=O)C=C XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 238000001225 nuclear magnetic resonance method Methods 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N pent-1-enylbenzene Chemical compound CCCC=CC1=CC=CC=C1 KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001596 poly (chlorostyrenes) Polymers 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000779 poly(divinylbenzene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001608 poly(methyl styrenes) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920003053 polystyrene-divinylbenzene Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920001447 polyvinyl benzene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YJAFGIAEMSIQOD-UHFFFAOYSA-N potassium;styrene Chemical compound [K].C=CC1=CC=CC=C1 YJAFGIAEMSIQOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBGXDQCATAOYOE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxymethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)COC(=O)C=C IBGXDQCATAOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHIHJODVQGBOND-UHFFFAOYSA-M propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC([O-])=O AHIHJODVQGBOND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M sodium dodecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004320 sodium erythorbate Substances 0.000 description 1
- 235000010352 sodium erythorbate Nutrition 0.000 description 1
- 229940082004 sodium laurate Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N sodium;(2r)-2-[(2r)-3,4-dihydroxy-5-oxo-2h-furan-2-yl]-2-hydroxyethanolate Chemical compound [Na+].[O-]C[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N 0.000 description 1
- RCIJACVHOIKRAP-UHFFFAOYSA-M sodium;1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCOC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC RCIJACVHOIKRAP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M sodium;2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KQFAFFYKLIBKDE-UHFFFAOYSA-M sodium;ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCS([O-])(=O)=O KQFAFFYKLIBKDE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PISVIEQBTMLLCS-UHFFFAOYSA-M sodium;ethyl-oxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [Na+].CCS([O-])(=O)=S PISVIEQBTMLLCS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 229940032147 starch Drugs 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- XWKBMOUUGHARTI-UHFFFAOYSA-N tricalcium;diphosphite Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])[O-].[O-]P([O-])[O-] XWKBMOUUGHARTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/795—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】寸度安定性に優れ見当合わせ作業が容易なハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供する。 【構成】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記乳
剤層を有する側の全親水性コロイド層及びその反対側の
面の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/m2以下
であり、かつ該支持体がシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体であることを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。
ゲン化銀写真感光材料を提供する。 【構成】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記乳
剤層を有する側の全親水性コロイド層及びその反対側の
面の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/m2以下
であり、かつ該支持体がシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体であることを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版に用いられる超硬調ハロゲン
化銀写真感光材料に関するものである。
材料に関し、特に写真製版に用いられる超硬調ハロゲン
化銀写真感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料は、一般に、
プラスチックフィルム、紙、ポリエチレンなどで被覆さ
れた紙などの支持体に、ハロゲン化銀乳剤層及び必要に
応じて、中間層、保護層、バック層、アンチハレーショ
ン層、帯電防止層などの構成層が種々組み合わされて、
塗布されたものである。
プラスチックフィルム、紙、ポリエチレンなどで被覆さ
れた紙などの支持体に、ハロゲン化銀乳剤層及び必要に
応じて、中間層、保護層、バック層、アンチハレーショ
ン層、帯電防止層などの構成層が種々組み合わされて、
塗布されたものである。
【0003】ハロゲン化銀写真材料は、一般に、支持体
の少なくとも一方の側にゼラチン等の親水性コロイドを
バインダーとする層を有して成る。かかる親水性コロイ
ド層は、湿度変化、温度変化に対して伸縮し易い欠点を
有している。親水性コロイド層の伸縮に起因する写真感
光材料の寸度変化は、多色印刷のため網点画像や精密な
線画の再現が要求される印刷用写真感光材料等に於ては
極めて重大な欠点となる。寸度変化の少ない、即ち寸度
安定性(Dimensional Stability)の秀れた写真感光材料
を得るために親水性コロイド層と支持体の厚み比を規定
する技術が米国特許第3,201,250号明細書に親
水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有せしめる
技術が特公昭39−4272号、同39−17702
号、同43−13482号、同45−5331号、米国
特許第2,376,005号、同2,763,625
号、同2,772,166号、同2,852,386
号、同2,853,457号、同3,397,988
号、同3,411,911号、同3,411,912号
明細書に記載されている。また上記技術の理論的裏付け
は、ゼーキューアムバーガー(J.Q.Umberger) によりフ
ォトグラフィック サイエンスアンド エンジニアリン
グ(Phot. Sci. and Eng.)(1957年)69−73頁に述べら
れている。
の少なくとも一方の側にゼラチン等の親水性コロイドを
バインダーとする層を有して成る。かかる親水性コロイ
ド層は、湿度変化、温度変化に対して伸縮し易い欠点を
有している。親水性コロイド層の伸縮に起因する写真感
光材料の寸度変化は、多色印刷のため網点画像や精密な
線画の再現が要求される印刷用写真感光材料等に於ては
極めて重大な欠点となる。寸度変化の少ない、即ち寸度
安定性(Dimensional Stability)の秀れた写真感光材料
を得るために親水性コロイド層と支持体の厚み比を規定
する技術が米国特許第3,201,250号明細書に親
水性コロイド層中にポリマーラテックスを含有せしめる
技術が特公昭39−4272号、同39−17702
号、同43−13482号、同45−5331号、米国
特許第2,376,005号、同2,763,625
号、同2,772,166号、同2,852,386
号、同2,853,457号、同3,397,988
号、同3,411,911号、同3,411,912号
明細書に記載されている。また上記技術の理論的裏付け
は、ゼーキューアムバーガー(J.Q.Umberger) によりフ
ォトグラフィック サイエンスアンド エンジニアリン
グ(Phot. Sci. and Eng.)(1957年)69−73頁に述べら
れている。
【0004】また、ポリエステルフィルム支持体を塩化
ビニリデン共重合体で被覆する技術がUS4,645,
731号、US4,933,267号、US4,95
4,430号明細書等に記載されている。さらに、低湿
乾燥及び熱処理による技術が特開平1−229240
号、特開平1−229244号等に記載されている。
ビニリデン共重合体で被覆する技術がUS4,645,
731号、US4,933,267号、US4,95
4,430号明細書等に記載されている。さらに、低湿
乾燥及び熱処理による技術が特開平1−229240
号、特開平1−229244号等に記載されている。
【0005】しかしながら、近年、印刷における高精細
化が益々盛んになっており、写真感光材料に対する寸法
安定性の更なる改良が強く望まれている。写真製版に用
いられるハロゲン化銀写真感光材料のプラスチック支持
体は、一般にポリエステルテレフタレート(以下「PE
T」と記す)に代表されるポリエステル系のポリマーが
使用されている。PETフィルムは寸法安定性、機械的
強度及び生産性に優れた特徴を有しており、今日まで広
く使用されている。しかしながら、PETフィルムで従
来の寸法安定性改良技術を用いても、高精細印刷におけ
る要求には、まだ不十分であった。
化が益々盛んになっており、写真感光材料に対する寸法
安定性の更なる改良が強く望まれている。写真製版に用
いられるハロゲン化銀写真感光材料のプラスチック支持
体は、一般にポリエステルテレフタレート(以下「PE
T」と記す)に代表されるポリエステル系のポリマーが
使用されている。PETフィルムは寸法安定性、機械的
強度及び生産性に優れた特徴を有しており、今日まで広
く使用されている。しかしながら、PETフィルムで従
来の寸法安定性改良技術を用いても、高精細印刷におけ
る要求には、まだ不十分であった。
【0006】ポリエステルフィルムに比べ、湿度膨張係
数の小さいシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体(以下「SPS」と記す)フィルムが特開平3−
131843号に開示されている。このSPSフィルム
を支持体に用いた写真製版用ハロゲン化銀写真感光材料
は、多色印刷における複数の版の見当合わせがPETフ
ィルムより良化するが、高精細印刷には、まだ不十分で
あった。写真製版における見当不良は、温度・湿度に対
する寸法変化、露光時の光学特性・密着性、現像処理に
おける寸法変化など種々の要因が複雑に重なって生じ
る。したがって、この見当合わせが容易にできるハロゲ
ン化銀写真感光材料の開発が強く望まれていた。
数の小さいシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体(以下「SPS」と記す)フィルムが特開平3−
131843号に開示されている。このSPSフィルム
を支持体に用いた写真製版用ハロゲン化銀写真感光材料
は、多色印刷における複数の版の見当合わせがPETフ
ィルムより良化するが、高精細印刷には、まだ不十分で
あった。写真製版における見当不良は、温度・湿度に対
する寸法変化、露光時の光学特性・密着性、現像処理に
おける寸法変化など種々の要因が複雑に重なって生じ
る。したがって、この見当合わせが容易にできるハロゲ
ン化銀写真感光材料の開発が強く望まれていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、見当
合わせに優れた写真製版用ハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
合わせに優れた写真製版用ハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有し、乳剤
層を有する側の全親水性コロイド層及びその反対側の面
の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/m2以下で
あり、かつ該支持体がシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体であることを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料によって達成された。
上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有し、乳剤
層を有する側の全親水性コロイド層及びその反対側の面
の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/m2以下で
あり、かつ該支持体がシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体であることを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料によって達成された。
【0009】(発明の具体的構成)はじめに、本発明の
SPSフィルムについて述べる。本発明のシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体とは、炭素−炭素
結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基
やその誘導体が交互に反対方向に位置する立体構造を有
するものであり、その立体規則性(タクティシティー)
は同位体炭素による核磁気共鳴法(13C−NMR法)に
より定量されるのが一般的でかつ精度に優れる。この13
C−NMR法により測定される立体規則性は、連続する
複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダイ
アッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペンタ
ッドによって示すことができる。本発明に言うシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体とは、通常は
ラセミダイアッドで75%以上、好ましくは85%以
上、若しくはラセミペンタッドで30%以上、好ましく
は50%以上の立体規則性を有するものである。具体的
には立体規則性のポリスチレン、ポリ(アルキルスチレ
ン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)、ポリ(ハロゲン化
アルキルスチレン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポ
リ(ビニル安息香酸エステル)、これらの水素化重合体
及びこれらの混合物、あるいはこれらの構造単位を含む
共重合体を指称する。
SPSフィルムについて述べる。本発明のシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体とは、炭素−炭素
結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基
やその誘導体が交互に反対方向に位置する立体構造を有
するものであり、その立体規則性(タクティシティー)
は同位体炭素による核磁気共鳴法(13C−NMR法)に
より定量されるのが一般的でかつ精度に優れる。この13
C−NMR法により測定される立体規則性は、連続する
複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダイ
アッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペンタ
ッドによって示すことができる。本発明に言うシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体とは、通常は
ラセミダイアッドで75%以上、好ましくは85%以
上、若しくはラセミペンタッドで30%以上、好ましく
は50%以上の立体規則性を有するものである。具体的
には立体規則性のポリスチレン、ポリ(アルキルスチレ
ン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)、ポリ(ハロゲン化
アルキルスチレン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポ
リ(ビニル安息香酸エステル)、これらの水素化重合体
及びこれらの混合物、あるいはこれらの構造単位を含む
共重合体を指称する。
【0010】なお、ここでポリ(アルキルスチレン)と
しては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ(エチルスチレ
ン)、ポリ(プロピルスチレン)、ポリ(ブチルスチレ
ン)、ポリ(フェニルスチレン)、ポリ(ビニルナフタ
レン)、ポリ(ビニルスチレン)、ポリ(アセナフチレ
ン)などがあり、ポリ(ハロゲン化スチレン)として
は、ポリ(クロロスチレン)、ポリ(ブロモスチレ
ン)、ポリ(フルオロスチレン)などがある。また、ポ
リ(アルコキシスチレン)としては、ポリ(メトキシス
チレン)、ポリ(エトキシスチレン)などがある。また
これらの構造単位を含む共重合体のコモノマー成分とし
ては、上述の如きスチレン系重合体のモノマーのほか、
エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン等
のオレフィンモノマー、ブタジエン、イソプレン等のジ
エンモノマー、環状オレフィンモノマー、環状ジエンモ
ノマーやメタクリル酸メチル、無水マレイン酸、アクリ
ロニトリル等の極性ビニルモノマー等を挙げることがで
きる。これらのうち特に好ましいスチレン系重合体とし
ては、ポリスチレン、ポリ(アルキルスチレン)、水素
化ポリスチレン及びこれらの構造単位を含む共重合体が
挙げられる。
しては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ(エチルスチレ
ン)、ポリ(プロピルスチレン)、ポリ(ブチルスチレ
ン)、ポリ(フェニルスチレン)、ポリ(ビニルナフタ
レン)、ポリ(ビニルスチレン)、ポリ(アセナフチレ
ン)などがあり、ポリ(ハロゲン化スチレン)として
は、ポリ(クロロスチレン)、ポリ(ブロモスチレ
ン)、ポリ(フルオロスチレン)などがある。また、ポ
リ(アルコキシスチレン)としては、ポリ(メトキシス
チレン)、ポリ(エトキシスチレン)などがある。また
これらの構造単位を含む共重合体のコモノマー成分とし
ては、上述の如きスチレン系重合体のモノマーのほか、
エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン等
のオレフィンモノマー、ブタジエン、イソプレン等のジ
エンモノマー、環状オレフィンモノマー、環状ジエンモ
ノマーやメタクリル酸メチル、無水マレイン酸、アクリ
ロニトリル等の極性ビニルモノマー等を挙げることがで
きる。これらのうち特に好ましいスチレン系重合体とし
ては、ポリスチレン、ポリ(アルキルスチレン)、水素
化ポリスチレン及びこれらの構造単位を含む共重合体が
挙げられる。
【0011】またこのスチレン系重合体の分子量につい
て特に制限はないが、重量平均分子量が10,000以上3,00
0,000 以下のものが好ましく、特に好ましくは50,000以
上1,500,000 以下のものである。さらに、分子量分布に
ついてもその広狭は制約がなく、様々なものを充当する
ことが可能であるが、重量平均分子量(Mw)/数平均分
子量(Mn)が1.5以上8以下が好ましい。なお、こ
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
は、従来のアタクチック構造のスチレン系重合体に比べ
て耐熱性が格段に優れている。
て特に制限はないが、重量平均分子量が10,000以上3,00
0,000 以下のものが好ましく、特に好ましくは50,000以
上1,500,000 以下のものである。さらに、分子量分布に
ついてもその広狭は制約がなく、様々なものを充当する
ことが可能であるが、重量平均分子量(Mw)/数平均分
子量(Mn)が1.5以上8以下が好ましい。なお、こ
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
は、従来のアタクチック構造のスチレン系重合体に比べ
て耐熱性が格段に優れている。
【0012】このようなシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体は、例えば不活性炭化水素溶媒中ま
たは溶媒の不存在下に、チタン化合物及び水とトリアル
キルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン
系重量体(上記スチレン系重合体に対応する単量体)を
重合することにより製造することができる(特開昭62
−187708号公報)。あるいはチタン化合物及びカ
チオンと複数の基が元素に結合したアニオンとからなる
化合物を触媒として重合することにより製造することが
できる(特開平4−249504号公報)。
るスチレン系重合体は、例えば不活性炭化水素溶媒中ま
たは溶媒の不存在下に、チタン化合物及び水とトリアル
キルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン
系重量体(上記スチレン系重合体に対応する単量体)を
重合することにより製造することができる(特開昭62
−187708号公報)。あるいはチタン化合物及びカ
チオンと複数の基が元素に結合したアニオンとからなる
化合物を触媒として重合することにより製造することが
できる(特開平4−249504号公報)。
【0013】本発明において、上記スチレン系重合体を
フィルムの素材として用いるが、本発明の目的を妨げな
い範囲で、他の樹脂成分を含有させてもよい。例えば、
アタクチック構造やアイソタクチック構造のスチレン系
重合体、ポリフェニレンエーテル等、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等のポリオレ
フィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエス
テル、ナイロン−6やナイロン−6,6等のポリアミ
ド、ポリフェニレンスルフィド等のポリチオエーテル、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポ
リイミド、テフロン等のハロゲン化ビニル系重合体、ポ
リメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体、ポリビニ
ルアルコール等、上記樹脂を含む架橋樹脂が挙げられ
る。
フィルムの素材として用いるが、本発明の目的を妨げな
い範囲で、他の樹脂成分を含有させてもよい。例えば、
アタクチック構造やアイソタクチック構造のスチレン系
重合体、ポリフェニレンエーテル等、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等のポリオレ
フィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエス
テル、ナイロン−6やナイロン−6,6等のポリアミ
ド、ポリフェニレンスルフィド等のポリチオエーテル、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポ
リイミド、テフロン等のハロゲン化ビニル系重合体、ポ
リメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体、ポリビニ
ルアルコール等、上記樹脂を含む架橋樹脂が挙げられ
る。
【0014】またさらに本発明の目的を妨げない範囲で
無機微粒子、酸化防止剤、帯電防止剤、色素等を配合す
ることができる。ここで使用し得る無機微粒子として
は、IA族、IIA族、IVA族、VIA族、VII A族、VIII
族、IB族、IIB族、III B族、IVB族元素の酸化物、
水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、
酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸
塩、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、それ
らを中心とする複合化合物、天然鉱物粒子などが挙げら
れる。具体的には、弗化リチウム、硼砂(硼酸ナトリウ
ム含水塩)等のIA族元素化合物、炭酸マグネシウム、
燐酸マグネシウム、酸化マグネシウム(マグネシア)、
塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、弗化マグネシウ
ム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マ
グネシウム含水塩(タルク)、炭酸カルシウム、燐酸カ
ルシウム、亜燐酸カルシウム、硫酸カルシウム(石
膏)、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、水酸
化カルシウム、珪酸カルシウム、弗化カルシウム、チタ
ン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、
無機微粒子、酸化防止剤、帯電防止剤、色素等を配合す
ることができる。ここで使用し得る無機微粒子として
は、IA族、IIA族、IVA族、VIA族、VII A族、VIII
族、IB族、IIB族、III B族、IVB族元素の酸化物、
水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、
酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸
塩、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、それ
らを中心とする複合化合物、天然鉱物粒子などが挙げら
れる。具体的には、弗化リチウム、硼砂(硼酸ナトリウ
ム含水塩)等のIA族元素化合物、炭酸マグネシウム、
燐酸マグネシウム、酸化マグネシウム(マグネシア)、
塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、弗化マグネシウ
ム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マ
グネシウム含水塩(タルク)、炭酸カルシウム、燐酸カ
ルシウム、亜燐酸カルシウム、硫酸カルシウム(石
膏)、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、水酸
化カルシウム、珪酸カルシウム、弗化カルシウム、チタ
ン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、
【0015】炭酸バリウム、燐酸バリウム、硫酸バリウ
ム、亜燐酸バリウム等のIIA族元素化合物、二酸化チタ
ン(チタニア)、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジ
ルコニウム(ジルコニア)、一酸化ジルコニウム等IVA
族元素化合物、二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、
硫化モリブデン等のVIA族元素化合物、塩化マンガン、
酢酸マンガン等のVII A族元素化合物、塩化コバルト、
酢酸コバルト等のVIII族元素化合物、沃化第一銅等のI
B族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のIIB族元素化
合物、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化アルミニウ
ム、弗化アルミニウム、アルミノシリケート(珪酸アル
ミナ、カオリン、カオリンナイト)等のIII B族元素化
合物、酸化珪素(シリカ、シリカゲル)、石墨、カーボ
ン、グラファイト、ガラス等のIVB族元素化合物、カー
ナル石、カイナイト、雲母(マイカ、キンウンモ)、バ
イロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられる。
ム、亜燐酸バリウム等のIIA族元素化合物、二酸化チタ
ン(チタニア)、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジ
ルコニウム(ジルコニア)、一酸化ジルコニウム等IVA
族元素化合物、二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、
硫化モリブデン等のVIA族元素化合物、塩化マンガン、
酢酸マンガン等のVII A族元素化合物、塩化コバルト、
酢酸コバルト等のVIII族元素化合物、沃化第一銅等のI
B族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のIIB族元素化
合物、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化アルミニウ
ム、弗化アルミニウム、アルミノシリケート(珪酸アル
ミナ、カオリン、カオリンナイト)等のIII B族元素化
合物、酸化珪素(シリカ、シリカゲル)、石墨、カーボ
ン、グラファイト、ガラス等のIVB族元素化合物、カー
ナル石、カイナイト、雲母(マイカ、キンウンモ)、バ
イロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられる。
【0016】本発明のSPSフィルムは、上記の如き素
材からなるフィルムであり、かつ厚さ20〜500μm
でヘイズが3%以下のものである。この範囲の厚さ、ヘ
イズを有するフィルムを得るためには、比較的結晶速度
の遅いものが好適である。結晶化速度の遅いものとして
上記スチレン系重合体のうちランダム共重合体であっ
て、その含量が30mol %以下のもの、例えばスチレン
−アルキルスチレン共重合体が挙げられる。ここでアル
キルスチレン単位の含量として1〜30mol%、好まし
くは1〜20mol %、さらに好ましくは1〜15mol %
である。
材からなるフィルムであり、かつ厚さ20〜500μm
でヘイズが3%以下のものである。この範囲の厚さ、ヘ
イズを有するフィルムを得るためには、比較的結晶速度
の遅いものが好適である。結晶化速度の遅いものとして
上記スチレン系重合体のうちランダム共重合体であっ
て、その含量が30mol %以下のもの、例えばスチレン
−アルキルスチレン共重合体が挙げられる。ここでアル
キルスチレン単位の含量として1〜30mol%、好まし
くは1〜20mol %、さらに好ましくは1〜15mol %
である。
【0017】さらに本発明において上記の如き性状のフ
ィルムを得るためには、スチレン系重合体あるいはその
組成物中の残留スチレン単量体が7000ppm 以下であ
ることが好ましい。そのようなスチレン系重合体あるい
は組成物を得るためには以下の方法に依るとよい。 (1) 重合後あるいはさらに処理後のスチレン系重合体を
減圧乾燥する方法。ここで減圧乾燥するにあたっては、
乾燥温度を該重合体のガラス転移温度以上の温度にする
と効率が良い。 (2) さらに押出機により脱気し、同時に成形用材料(ペ
レット)とする。ここで押出機はベント付が好ましく、
一軸、二軸いずれの押出機を用いてもよい。ここで残留
モノマー揮発分が7000ppm を超えると、押出形成時
に発泡したり、延伸時に表面が粗くなったりして、ヘイ
ズが3%を超えることがあり、好ましくない。
ィルムを得るためには、スチレン系重合体あるいはその
組成物中の残留スチレン単量体が7000ppm 以下であ
ることが好ましい。そのようなスチレン系重合体あるい
は組成物を得るためには以下の方法に依るとよい。 (1) 重合後あるいはさらに処理後のスチレン系重合体を
減圧乾燥する方法。ここで減圧乾燥するにあたっては、
乾燥温度を該重合体のガラス転移温度以上の温度にする
と効率が良い。 (2) さらに押出機により脱気し、同時に成形用材料(ペ
レット)とする。ここで押出機はベント付が好ましく、
一軸、二軸いずれの押出機を用いてもよい。ここで残留
モノマー揮発分が7000ppm を超えると、押出形成時
に発泡したり、延伸時に表面が粗くなったりして、ヘイ
ズが3%を超えることがあり、好ましくない。
【0018】以上の如き本発明のスチレン系重合体ある
いは該重合体を含む組成物を素材として、フィルムを製
造する。フィルムの製造方法は上記の目的を達すること
ができる条件で行えばよく、特に制限はない。具体的に
は、加熱溶融して押出し、冷却、固化させて製造する。
ここで用いる押出形成機は、一軸押出形成機、二軸押出
形成機のいずれでもよく、またベント付き、ベント無し
のいずれでもよい。なお、押出機には二次凝集粒子を粉
砕、除去あるいはゴミ、異物除去のために適当なメッシ
ュフィルターを使用することが好ましい。またここで押
出条件は、特に制限はなく、様々な状況に応じて適宜選
定すればよいが、好ましくは温度形成素材の融点〜分解
温度より50℃高い温度の範囲で選定し、T−ダイ等を
用いて行なう。
いは該重合体を含む組成物を素材として、フィルムを製
造する。フィルムの製造方法は上記の目的を達すること
ができる条件で行えばよく、特に制限はない。具体的に
は、加熱溶融して押出し、冷却、固化させて製造する。
ここで用いる押出形成機は、一軸押出形成機、二軸押出
形成機のいずれでもよく、またベント付き、ベント無し
のいずれでもよい。なお、押出機には二次凝集粒子を粉
砕、除去あるいはゴミ、異物除去のために適当なメッシ
ュフィルターを使用することが好ましい。またここで押
出条件は、特に制限はなく、様々な状況に応じて適宜選
定すればよいが、好ましくは温度形成素材の融点〜分解
温度より50℃高い温度の範囲で選定し、T−ダイ等を
用いて行なう。
【0019】上記押出形成後、得られた予備成形体(原
反シート)を冷却固化する。この際の冷媒は、気体、液
体、金属ロール等各種のものを使用することができる。
金属ロール等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバ
ー、タッチロール、静電印荷等の方法によると厚みムラ
や波うち防止に効果的である。冷却固化の温度は、通常
は0℃〜原反シートのガラス転移温度より30℃高い温
度の範囲、好ましくはガラス転移温度より50℃低い温
度〜ガラス転移温度の範囲である。また冷却速度は20
0〜3℃/秒の範囲で適宜選択する。このようにして得
られる原反シートは厚さ100〜5,000μm の範囲
のものである。
反シート)を冷却固化する。この際の冷媒は、気体、液
体、金属ロール等各種のものを使用することができる。
金属ロール等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバ
ー、タッチロール、静電印荷等の方法によると厚みムラ
や波うち防止に効果的である。冷却固化の温度は、通常
は0℃〜原反シートのガラス転移温度より30℃高い温
度の範囲、好ましくはガラス転移温度より50℃低い温
度〜ガラス転移温度の範囲である。また冷却速度は20
0〜3℃/秒の範囲で適宜選択する。このようにして得
られる原反シートは厚さ100〜5,000μm の範囲
のものである。
【0020】次に冷却、固化した原反シートを一軸ある
いは二軸に延伸する。二軸延伸の場合は縦方向及び横方
向に同時に延伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸し
てもよい。また延伸は一段で行ってもよく、多段で行っ
てもよい。ここで延伸方法としては、テンターによる方
法、ロール間で延伸する方法、気体圧力を利用してバブ
リングによる方法、圧延による方法など様々であり、こ
れらを適当に選定あるいは組み合わせて適用すればよ
い。延伸温度は、一般には原反シートのガラス転移温度
と融点の間で設定すればよい。但し、逐次延伸あるいは
多段延伸する場合には、一段目にガラス転移温度と冷結
晶化温度の範囲で後段にガラス転移温度と融点の範囲で
行うことが好ましい。また延伸速度は、通常は1×10
〜1×107 %/分、好ましくは1×103 〜1×10
7 %/分である。ここで面積延伸倍率は8倍以上、好ま
しくは10倍以上であり、8倍未満では透明かつ平滑
性、吸温寸法安定性、熱寸法安定性、良好なフィルムを
得ることが困難である。
いは二軸に延伸する。二軸延伸の場合は縦方向及び横方
向に同時に延伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸し
てもよい。また延伸は一段で行ってもよく、多段で行っ
てもよい。ここで延伸方法としては、テンターによる方
法、ロール間で延伸する方法、気体圧力を利用してバブ
リングによる方法、圧延による方法など様々であり、こ
れらを適当に選定あるいは組み合わせて適用すればよ
い。延伸温度は、一般には原反シートのガラス転移温度
と融点の間で設定すればよい。但し、逐次延伸あるいは
多段延伸する場合には、一段目にガラス転移温度と冷結
晶化温度の範囲で後段にガラス転移温度と融点の範囲で
行うことが好ましい。また延伸速度は、通常は1×10
〜1×107 %/分、好ましくは1×103 〜1×10
7 %/分である。ここで面積延伸倍率は8倍以上、好ま
しくは10倍以上であり、8倍未満では透明かつ平滑
性、吸温寸法安定性、熱寸法安定性、良好なフィルムを
得ることが困難である。
【0021】上述の如き条件で延伸して得られた延伸フ
ィルムに、さらに高温時の寸法安定性、耐熱性、フィル
ム面内の強度バランス性の向上のために熱固定を行うこ
とが好ましい。熱固定は、通常行われている方法で行う
ことができるが、この延伸フィルムを緊張状態、弛緩状
態あるいは制限収縮状態の下で、該フィルムのガラス転
移温度〜融点、好ましくは使用環境上限温度〜融点の範
囲にて、0.5〜1880秒間保持することによって行
えばよい。なお、この熱固定は、上記範囲内で条件を変
えて二回以上行うことも可能である。また、この熱固定
はアルゴンガス、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で
行ってもい。ここで熱収縮の小さいフィルムを得る上
で、熱固定のいずれのか工程は制限収縮状態で行なうこ
とが好ましく、制限収縮の割合は、長手方向および/ま
たは20%以下、好ましくは15%以下である。さらに
延伸、熱固定の条件をフィルムの複屈折の絶対値|△n
|が40×10-3以下となるように調整することによ
り、透明性などの物性の優れたフィルムとなり好まし
い。
ィルムに、さらに高温時の寸法安定性、耐熱性、フィル
ム面内の強度バランス性の向上のために熱固定を行うこ
とが好ましい。熱固定は、通常行われている方法で行う
ことができるが、この延伸フィルムを緊張状態、弛緩状
態あるいは制限収縮状態の下で、該フィルムのガラス転
移温度〜融点、好ましくは使用環境上限温度〜融点の範
囲にて、0.5〜1880秒間保持することによって行
えばよい。なお、この熱固定は、上記範囲内で条件を変
えて二回以上行うことも可能である。また、この熱固定
はアルゴンガス、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で
行ってもい。ここで熱収縮の小さいフィルムを得る上
で、熱固定のいずれのか工程は制限収縮状態で行なうこ
とが好ましく、制限収縮の割合は、長手方向および/ま
たは20%以下、好ましくは15%以下である。さらに
延伸、熱固定の条件をフィルムの複屈折の絶対値|△n
|が40×10-3以下となるように調整することによ
り、透明性などの物性の優れたフィルムとなり好まし
い。
【0022】製造例1 (1) トリメチルアルミニウムと水との接触生成物の調製 アルゴン置換した内容積500mlのガラス製容器に、硫
酸銅5水塩(CuSO4 ・5H2 O)17.8g(71
ミリモル)、トルエン200ml及びトリメチルアルミニ
ウム24ml(250ミリモル)を入れ、40℃で8時間
反応させた。その後固体部分を除去して得られた溶液か
ら、更に、トルエンを室温下で減圧留去して接触生成物
6.7gを得た。この接触生成物の分子量を凝固点降下
法によって測定したところ610であった。
酸銅5水塩(CuSO4 ・5H2 O)17.8g(71
ミリモル)、トルエン200ml及びトリメチルアルミニ
ウム24ml(250ミリモル)を入れ、40℃で8時間
反応させた。その後固体部分を除去して得られた溶液か
ら、更に、トルエンを室温下で減圧留去して接触生成物
6.7gを得た。この接触生成物の分子量を凝固点降下
法によって測定したところ610であった。
【0023】(2) スチレン系重合体の製造 内容積2リットルの反応容器に、精製スチレン950ml
およびp−メチルスチレン50ml、上記(1) で得られた
接触生成物をアルミニウム原子として5ミリモル、トリ
イソブチルアルミニウムを5ミリモル、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルチタントリメトキシド0.025ミ
リモルを用いて90℃で5時間重合反応を行った。反応
終了後、生成物を水酸化ナトリウムのメタノール溶液で
触媒成分を分解後、メタノールで繰返し洗浄後、乾燥し
て重合体308gを得た。得られた共重合体は、共シン
ジオタクチック構造でp−メチルスチレン単位を9.5
モル%含むことが13C−NMRにより確認できた。また
重量平均分子量は438,000、重量平均分子量/数
平均分子量は2.51であった。
およびp−メチルスチレン50ml、上記(1) で得られた
接触生成物をアルミニウム原子として5ミリモル、トリ
イソブチルアルミニウムを5ミリモル、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルチタントリメトキシド0.025ミ
リモルを用いて90℃で5時間重合反応を行った。反応
終了後、生成物を水酸化ナトリウムのメタノール溶液で
触媒成分を分解後、メタノールで繰返し洗浄後、乾燥し
て重合体308gを得た。得られた共重合体は、共シン
ジオタクチック構造でp−メチルスチレン単位を9.5
モル%含むことが13C−NMRにより確認できた。また
重量平均分子量は438,000、重量平均分子量/数
平均分子量は2.51であった。
【0024】製造例2 スチレン系重合体の製造(特開平1−316246 参
考例2) 反応容器に、反応溶媒としてトルエン6リットルおよび
テトラエトキシチタン5ミリモルおよびメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として500ミリモル入れ、
50℃においてスチレン48.75モルとp−メチルス
チレン1.25モルとを加え、2時間重合反応を行っ
た。反応終了後、生成物を塩酸とメタノールとの混合液
で洗浄して、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥する
ことにより共重合体640gを得た。この共重合体の重
量平均分子量が440,000であり、数平均分子量が
240,000であり、融点は255℃であった。この
共重合体中のp−メチルスチレン単位の含有割合は5モ
ル%であった。また、この共重合体は13C−NMRによ
る分析から145.11ppm 、145.22ppm 、14
2.09ppm に吸収が認められ、そのピーク面積から算
出したスチレン単位のラセミペンタッドでのシンジオタ
クティシティーは72%であった。
考例2) 反応容器に、反応溶媒としてトルエン6リットルおよび
テトラエトキシチタン5ミリモルおよびメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として500ミリモル入れ、
50℃においてスチレン48.75モルとp−メチルス
チレン1.25モルとを加え、2時間重合反応を行っ
た。反応終了後、生成物を塩酸とメタノールとの混合液
で洗浄して、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥する
ことにより共重合体640gを得た。この共重合体の重
量平均分子量が440,000であり、数平均分子量が
240,000であり、融点は255℃であった。この
共重合体中のp−メチルスチレン単位の含有割合は5モ
ル%であった。また、この共重合体は13C−NMRによ
る分析から145.11ppm 、145.22ppm 、14
2.09ppm に吸収が認められ、そのピーク面積から算
出したスチレン単位のラセミペンタッドでのシンジオタ
クティシティーは72%であった。
【0025】本発明のSPSフィルム支持体上に、主た
るバインダーとして、ゼラチンを用いた親水性コロイド
層(例えば、ハロゲン化銀乳剤層、アンチハレーション
層、中間層、バッキング層等)を強固に接着させるに
は、従来から知られる下記の方法を用いておこなうこと
ができる。 (1) 薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処
理、などの表面活性化処理をしたのち、直接写真乳剤を
塗布して接着力を得る方法と、(2) 一旦これらの表面処
理をした後、あるいは表面処理なしで、下塗層を設けこ
の上に写真乳剤層を塗布する方法との二法がある。(例
えば米国特許第2,698,241号、同2,764,
520号、同2,864,755号、同3,462,3
35号、同3,475,193号、同3,143,42
1号、同3,501,301号、同3,460,944
号、同3,674,531号、英国特許第788,36
5号、同804,005号、同891,469号、特公
昭48−43122号、同51−446号等)。
るバインダーとして、ゼラチンを用いた親水性コロイド
層(例えば、ハロゲン化銀乳剤層、アンチハレーション
層、中間層、バッキング層等)を強固に接着させるに
は、従来から知られる下記の方法を用いておこなうこと
ができる。 (1) 薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処
理、などの表面活性化処理をしたのち、直接写真乳剤を
塗布して接着力を得る方法と、(2) 一旦これらの表面処
理をした後、あるいは表面処理なしで、下塗層を設けこ
の上に写真乳剤層を塗布する方法との二法がある。(例
えば米国特許第2,698,241号、同2,764,
520号、同2,864,755号、同3,462,3
35号、同3,475,193号、同3,143,42
1号、同3,501,301号、同3,460,944
号、同3,674,531号、英国特許第788,36
5号、同804,005号、同891,469号、特公
昭48−43122号、同51−446号等)。
【0026】これらの表面処理は、いずれも、本来は疎
水性であった支持体表面に多少共、極性基を作らせる
事、表面の架橋密度を増加させることなどによるものと
思われ、その結果として下塗液中に含有される成分の極
性基との親和力が増加すること、ないし接着表面の堅牢
度が増加すること等が考えられる。又、下塗層の構成と
しても種々の工夫が行なわれており、第1層として支持
体によく接着する層(以下、下塗第1層と略す)を設
け、その上に第2層として写真層とよく接着する親水性
の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布する所謂重
層法と、疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層
を一層のみ塗布する単層法とがある。
水性であった支持体表面に多少共、極性基を作らせる
事、表面の架橋密度を増加させることなどによるものと
思われ、その結果として下塗液中に含有される成分の極
性基との親和力が増加すること、ないし接着表面の堅牢
度が増加すること等が考えられる。又、下塗層の構成と
しても種々の工夫が行なわれており、第1層として支持
体によく接着する層(以下、下塗第1層と略す)を設
け、その上に第2層として写真層とよく接着する親水性
の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布する所謂重
層法と、疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層
を一層のみ塗布する単層法とがある。
【0027】(1) の表面処理のうち、コロナ放電処理
は、最もよく知られている方法であり、従来公知のいず
れの方法、例えば特公昭48−5043号、同47−5
1905号、特開昭47−28067号、同49−83
767号、同51−41770号、同51−13157
6号等に開示された方法により達成することができる。
放電周波数は50Hz〜5000KHz、好ましくは5
KHz〜数100KHzが適当である。放電周波数が小
さすぎると、安定な放電が得られずかつ被処理物にピン
ホールが生じ、好ましくない。又周波数が高すぎると、
インピーダンスマッチングのための特別な装置が必要と
なり、装置の価格が大となり、好ましくない。被処理物
の処理強度に関しては、通常のポリエステル、ポリオレ
フィン等のプラスチックフィルムの濡れ性改良の為に
は、0.001KV・A・分/m2〜5KV・A・分/
m2、好ましくは0.01KV・A・分/m2〜1KV・A
・分/m2が適当である。電極と誘導体ロールのギャップ
クリアランスは0.5〜2.5mm、好ましくは1.0〜
2.0mmが適当である。
は、最もよく知られている方法であり、従来公知のいず
れの方法、例えば特公昭48−5043号、同47−5
1905号、特開昭47−28067号、同49−83
767号、同51−41770号、同51−13157
6号等に開示された方法により達成することができる。
放電周波数は50Hz〜5000KHz、好ましくは5
KHz〜数100KHzが適当である。放電周波数が小
さすぎると、安定な放電が得られずかつ被処理物にピン
ホールが生じ、好ましくない。又周波数が高すぎると、
インピーダンスマッチングのための特別な装置が必要と
なり、装置の価格が大となり、好ましくない。被処理物
の処理強度に関しては、通常のポリエステル、ポリオレ
フィン等のプラスチックフィルムの濡れ性改良の為に
は、0.001KV・A・分/m2〜5KV・A・分/
m2、好ましくは0.01KV・A・分/m2〜1KV・A
・分/m2が適当である。電極と誘導体ロールのギャップ
クリアランスは0.5〜2.5mm、好ましくは1.0〜
2.0mmが適当である。
【0028】多くの場合、もっとも効果的な表面処理で
あるグロー放電処理は、従来知られているいずれの方
法、例えば特公昭35−7578号、同36−1033
6号、同45−22004号、同45−22005号、
同45−24040号、同46−43480号、米国特
許3,057,792号、同3,057,795号、同
3,179,482号、同3,288,638号、同
3,309,299号、同3,424,735号、同
3,462,335号、同3,475,307号、同
3,761,299号、英国特許997,093号、特
開昭53−129262号等を用いることができる。
あるグロー放電処理は、従来知られているいずれの方
法、例えば特公昭35−7578号、同36−1033
6号、同45−22004号、同45−22005号、
同45−24040号、同46−43480号、米国特
許3,057,792号、同3,057,795号、同
3,179,482号、同3,288,638号、同
3,309,299号、同3,424,735号、同
3,462,335号、同3,475,307号、同
3,761,299号、英国特許997,093号、特
開昭53−129262号等を用いることができる。
【0029】グロー放電処理条件は、一般に圧力は0.
005〜20Torr、好ましくは0.02〜2Torrが適当
である。圧力が低すぎると表面処理効果が低下し、また
圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパークがおこりや
すく、危険でもあるし、被処理物を破壊する恐れもあ
る。放電は、真空タンク中で1対以上の空間を置いて配
置された金属板或いは金属棒間に高電圧を印加すること
により生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力に
より色々な値をとり得るものであるが、通常上記圧力範
囲内では、500〜5000Vの間で安定な定常グロー
放電が起る。接着性を向上せしめるのに特に好適な電圧
範囲は、2000〜4000Vである。又、放電周波数
として、従来技術にみられるように、直流から数100
0MHz、好ましくは50Hz〜20MHzが適当であ
る。放電処理強度に関しては、所望の接着性能が得られ
ることから0.01KV・A・分/m2〜5KV・A・分
/m2、好ましくは0.15KV・A・分/m2〜1KV・
A・分/m2が適当である。
005〜20Torr、好ましくは0.02〜2Torrが適当
である。圧力が低すぎると表面処理効果が低下し、また
圧力が高すぎると過大電流が流れ、スパークがおこりや
すく、危険でもあるし、被処理物を破壊する恐れもあ
る。放電は、真空タンク中で1対以上の空間を置いて配
置された金属板或いは金属棒間に高電圧を印加すること
により生じる。この電圧は、雰囲気気体の組成、圧力に
より色々な値をとり得るものであるが、通常上記圧力範
囲内では、500〜5000Vの間で安定な定常グロー
放電が起る。接着性を向上せしめるのに特に好適な電圧
範囲は、2000〜4000Vである。又、放電周波数
として、従来技術にみられるように、直流から数100
0MHz、好ましくは50Hz〜20MHzが適当であ
る。放電処理強度に関しては、所望の接着性能が得られ
ることから0.01KV・A・分/m2〜5KV・A・分
/m2、好ましくは0.15KV・A・分/m2〜1KV・
A・分/m2が適当である。
【0030】次に(2) の下塗法について述べると、これ
らの方法はいずれもよく研究されており、重層法におけ
る下塗第1層では、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン
酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発
原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレンイミ
ン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロ
ース、など数多くのポリマーについて、下塗第2層では
主としてゼラチンについてその特性が検討されてきた。
らの方法はいずれもよく研究されており、重層法におけ
る下塗第1層では、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン
酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発
原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレンイミ
ン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロ
ース、など数多くのポリマーについて、下塗第2層では
主としてゼラチンについてその特性が検討されてきた。
【0031】単層法においては、多くの支持体を膨潤さ
せ、親水性下塗ポリマーと界面混合させることによって
良好な接着性を達成している場合が多い。本発明に使用
する親水性下塗ポリマーとしては、水溶性ポリマー、セ
ルロースエステル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエ
ステルなどが例示される。水溶性ポリマーとしては、ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸
ソーダ、でんぷん、ポリビニールアルコール、ポリアク
リル酸共重合体、無水マレイン酸共重合体などであり、
セルロースエステルとしてはカルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロースなどである。ラテック
スポリマーとしては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニ
リデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合
体、酢酸ビニル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体
などである。この中でも最も好ましいのはゼラチンであ
る。
せ、親水性下塗ポリマーと界面混合させることによって
良好な接着性を達成している場合が多い。本発明に使用
する親水性下塗ポリマーとしては、水溶性ポリマー、セ
ルロースエステル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエ
ステルなどが例示される。水溶性ポリマーとしては、ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸
ソーダ、でんぷん、ポリビニールアルコール、ポリアク
リル酸共重合体、無水マレイン酸共重合体などであり、
セルロースエステルとしてはカルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロースなどである。ラテック
スポリマーとしては塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニ
リデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合
体、酢酸ビニル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体
などである。この中でも最も好ましいのはゼラチンであ
る。
【0032】本発明に使用される支持体を膨潤させる化
合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、メチルレ
ゾルシン、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、フェノール、o−クロルフェノール、p−クロ
ルフェノール、ジクロルフェノール、トリクロルフェノ
ール、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢
酸、抱水クロラールなどがあげられる。本発明の下びき
層には種々のゼラチン硬化剤を用いることができる。ゼ
ラチン硬化剤としてはクロム塩(クロム明ばんなど)、
アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒ
ドなど)、イソシアネート類、活性ハロゲン化合物
(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン
など)、エピクロルヒドリン樹脂などを挙げることがで
きる。
合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、メチルレ
ゾルシン、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、フェノール、o−クロルフェノール、p−クロ
ルフェノール、ジクロルフェノール、トリクロルフェノ
ール、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢
酸、抱水クロラールなどがあげられる。本発明の下びき
層には種々のゼラチン硬化剤を用いることができる。ゼ
ラチン硬化剤としてはクロム塩(クロム明ばんなど)、
アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒ
ドなど)、イソシアネート類、活性ハロゲン化合物
(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン
など)、エピクロルヒドリン樹脂などを挙げることがで
きる。
【0033】本発明の下びき層にはSiO2 、Ti
O2 、マット剤の如き無機物微粒子又はポリメチルメタ
クリレート共重合体微粒子(1〜10μm)をマット剤
として含有することができる。これ以外にも、下塗液に
は、必要に応じて各種の添加剤を含有させることができ
る。例えば界面活性剤、帯電防止剤、アンチハレーショ
ン剤、着色用染料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤等で
ある。本発明において、下塗第1層用の下塗液を使用す
る場合には、レゾルシン、抱水クロラール、クロロフェ
ノールなどの如きエッチング剤を下塗液中に含有させる
必要は全くない。しかし所望により前記の如きエッチン
グ剤を下塗中に含有させることは差し支えない。
O2 、マット剤の如き無機物微粒子又はポリメチルメタ
クリレート共重合体微粒子(1〜10μm)をマット剤
として含有することができる。これ以外にも、下塗液に
は、必要に応じて各種の添加剤を含有させることができ
る。例えば界面活性剤、帯電防止剤、アンチハレーショ
ン剤、着色用染料、顔料、塗布助剤、カブリ防止剤等で
ある。本発明において、下塗第1層用の下塗液を使用す
る場合には、レゾルシン、抱水クロラール、クロロフェ
ノールなどの如きエッチング剤を下塗液中に含有させる
必要は全くない。しかし所望により前記の如きエッチン
グ剤を下塗中に含有させることは差し支えない。
【0034】本発明に係わる下塗液は、一般によく知ら
れた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフ
コート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイ
ヤーバーコート法、グラビアコート法、或いは米国特許
第2,681,294号明細書に記載のホッパーを使用
するエクストルージョンコート法により塗布することが
できる。所望により、米国特許第2,761,791
号、同3,508,947号、同2,941,898
号、及び同3,526,528号明細書、原崎勇次著、
「コーティング工学」253頁(1973年、朝倉書店
発行)などに記載された方法により2層以上の層を同時
に塗布することができる。
れた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフ
コート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイ
ヤーバーコート法、グラビアコート法、或いは米国特許
第2,681,294号明細書に記載のホッパーを使用
するエクストルージョンコート法により塗布することが
できる。所望により、米国特許第2,761,791
号、同3,508,947号、同2,941,898
号、及び同3,526,528号明細書、原崎勇次著、
「コーティング工学」253頁(1973年、朝倉書店
発行)などに記載された方法により2層以上の層を同時
に塗布することができる。
【0035】本発明のハロゲン化銀乳剤層及びその他の
親水性コロイド層のバインダーとしてはゼラチンを用い
るが、それ以外の親水性コロイドを併用することもでき
る。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子と
のグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白
質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロー
ス誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分
アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの
ほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分
解物、ゼラチン酵素分解物も用いることができる。本発
明において、バインダーとしてのゼラチン塗布量は、ハ
ロゲン化銀乳剤層を有する側の全親水性コロイド層及び
その反対側の面の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が
6g/m2以下であり、好ましくは2.0〜6.0g/m2
である。
親水性コロイド層のバインダーとしてはゼラチンを用い
るが、それ以外の親水性コロイドを併用することもでき
る。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子と
のグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白
質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロー
ス誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分
アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一ある
いは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用い
ることができる。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの
ほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分
解物、ゼラチン酵素分解物も用いることができる。本発
明において、バインダーとしてのゼラチン塗布量は、ハ
ロゲン化銀乳剤層を有する側の全親水性コロイド層及び
その反対側の面の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が
6g/m2以下であり、好ましくは2.0〜6.0g/m2
である。
【0036】本発明に用いられるポリマーラテックスと
しては、特開昭64−538号公報第5頁左上欄9行目
から同第12頁右上欄16行目に記載されたものが用い
ることができる。具体的な化合物例について、以下に例
示する。括弧内は共重合体における重量百分率を表わ
す。
しては、特開昭64−538号公報第5頁左上欄9行目
から同第12頁右上欄16行目に記載されたものが用い
ることができる。具体的な化合物例について、以下に例
示する。括弧内は共重合体における重量百分率を表わ
す。
【0037】
【化1】
【0038】
【化2】
【0039】
【化3】
【0040】特にウェット膜強度を損わない好ましいポ
リマーラテックスは下記一般式(1)で表されるポリマ
ーである。 一般式(1)
リマーラテックスは下記一般式(1)で表されるポリマ
ーである。 一般式(1)
【0041】
【化4】
【0042】式中、Cは活性メチレン基を含有するエチ
レン性不飽和モノマーより誘導される繰返し単位を表
し、Aは、C以外でかつ、その単独重合体のガラス転移
温度が、35℃以下である様なエチレン性不飽和モノマ
ーより誘導される繰返し単位を表し、BはC、A以外の
エチレン性不飽和モノマーより誘導される繰返し単位を
表す。
レン性不飽和モノマーより誘導される繰返し単位を表
し、Aは、C以外でかつ、その単独重合体のガラス転移
温度が、35℃以下である様なエチレン性不飽和モノマ
ーより誘導される繰返し単位を表し、BはC、A以外の
エチレン性不飽和モノマーより誘導される繰返し単位を
表す。
【0043】x、y、zは、各成分の重量百分率比を表
し、xは0.5ないし40、yは60ないし99.5、
zは0ないし50の値をとる。ここでx+y+z=10
0を表す。
し、xは0.5ないし40、yは60ないし99.5、
zは0ないし50の値をとる。ここでx+y+z=10
0を表す。
【0044】さらに詳細に説明すると、Cで表される活
性メチレン基を含有するエチレン性不飽和モノマーは下
記一般式(2)で表される。
性メチレン基を含有するエチレン性不飽和モノマーは下
記一般式(2)で表される。
【0045】
【化5】
【0046】式中、R1 は水素原子、炭素数1〜4(例
えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル)ま
たはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)を表
し、好ましくは水素原子、メチル基、塩素原子を表す。
Lは単結合もしくは二価の連結基を表し、具体的には下
式で表される。
えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル)ま
たはハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)を表
し、好ましくは水素原子、メチル基、塩素原子を表す。
Lは単結合もしくは二価の連結基を表し、具体的には下
式で表される。
【0047】
【化6】
【0048】L1 は−CON(R2) −(R2 は水素原子、炭
素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の置換ア
ルキル基を表わす)、-COO- 、-NHCO-、-OCO- 、
素数1〜4のアルキル基、または炭素数1〜6の置換ア
ルキル基を表わす)、-COO- 、-NHCO-、-OCO- 、
【0049】
【化7】
【0050】(R3 、R4 はそれぞれ独立に、水素、ヒ
ドロキシル、ハロゲン原子または置換もしくは無置換
の、アルキル、アルコキシ、アシルオキシもしくはアリ
ールオキシを表わす)、を表わし、L2 はL1 とXを結
ぶ連結基を表わし、mは0または1を表わしnは0また
は1を表わす。L2 で表される連結基は具体的には、下
記の一般式で表される。
ドロキシル、ハロゲン原子または置換もしくは無置換
の、アルキル、アルコキシ、アシルオキシもしくはアリ
ールオキシを表わす)、を表わし、L2 はL1 とXを結
ぶ連結基を表わし、mは0または1を表わしnは0また
は1を表わす。L2 で表される連結基は具体的には、下
記の一般式で表される。
【0051】
【化8】
【0052】J1 、J2 、J3 は同じでも異なっていて
もよく、-CO-、-SO2- 、-CON(R5)-(R5 水素原子、アル
キル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1〜
6)、-SO2N(R5)-(R5 は上記と同義)、-N(R5)-R6-
(R5 は上記と同義、R6 は炭素数1〜約4のアルキレ
ン基)、-N(R5)-R6-N(R7)-(R5 、R6 は上記と同義、
R7 は水素原子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換ア
ルキル基(炭素数1〜6)を表わす。)、-O- 、-S- 、
-N(R5)-CO-N(R7)-(R5 、R7 は上記と同義)、-N(R5)
-SO2-N(R7)- (R5 、R7 は上記と同義)、-COO- 、-O
CO- 、-N(R5)CO2-(R5 は上記と同義)、-N(R5)CO-(R
5 は上記と同義)等を挙げることができる。
もよく、-CO-、-SO2- 、-CON(R5)-(R5 水素原子、アル
キル基(炭素数1〜6)、置換アルキル基(炭素数1〜
6)、-SO2N(R5)-(R5 は上記と同義)、-N(R5)-R6-
(R5 は上記と同義、R6 は炭素数1〜約4のアルキレ
ン基)、-N(R5)-R6-N(R7)-(R5 、R6 は上記と同義、
R7 は水素原子、アルキル基(炭素数1〜6)、置換ア
ルキル基(炭素数1〜6)を表わす。)、-O- 、-S- 、
-N(R5)-CO-N(R7)-(R5 、R7 は上記と同義)、-N(R5)
-SO2-N(R7)- (R5 、R7 は上記と同義)、-COO- 、-O
CO- 、-N(R5)CO2-(R5 は上記と同義)、-N(R5)CO-(R
5 は上記と同義)等を挙げることができる。
【0053】p、q、r、sは0または1を表す。
X1 、X2 、X3 は互いに同じでも異なっていてもよ
く、炭素数1〜10個の無置換もしくは置換のアルキレ
ン基、アラルキレン基、またはフェニレン基を表わし、
アルキレン基は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基と
しては例えばメチレン、メチルメチレン、ジメチルメチ
レン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラ
ルキレン基としては例えばベンジリデン、フェニレン基
としては例えばp−フェニレン、m−フェニレン、メチ
ルフェニレンなどがある。
X1 、X2 、X3 は互いに同じでも異なっていてもよ
く、炭素数1〜10個の無置換もしくは置換のアルキレ
ン基、アラルキレン基、またはフェニレン基を表わし、
アルキレン基は直鎖でも分岐でもよい。アルキレン基と
しては例えばメチレン、メチルメチレン、ジメチルメチ
レン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン、デシルメチレン、アラ
ルキレン基としては例えばベンジリデン、フェニレン基
としては例えばp−フェニレン、m−フェニレン、メチ
ルフェニレンなどがある。
【0054】Xは、活性メチレン基を含む一価の基を表
し、好ましい具体例としては、R8-CO-CH2-COO-、NC-CH2
-COO- 、R8-CO-CH2-CO- 、R8-CO-CH2-CON(R5)-等を挙げ
ることができる。ここでR5は前記に同じであり、R8は炭
素数1〜12個の置換または無置換のアルキル基(例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブ
チル、n−ノニル、2−メトキシエチル、4−フェノキ
シブチル、ベンジル、2−メタンスルホンアミドエチル
等)、置換または無置換のアリール基(例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、p−メトキシフェニル、o−
クロロフェニル等)、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ、エトキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ等)、
し、好ましい具体例としては、R8-CO-CH2-COO-、NC-CH2
-COO- 、R8-CO-CH2-CO- 、R8-CO-CH2-CON(R5)-等を挙げ
ることができる。ここでR5は前記に同じであり、R8は炭
素数1〜12個の置換または無置換のアルキル基(例え
ばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブ
チル、n−ノニル、2−メトキシエチル、4−フェノキ
シブチル、ベンジル、2−メタンスルホンアミドエチル
等)、置換または無置換のアリール基(例えばフェニ
ル、p−メチルフェニル、p−メトキシフェニル、o−
クロロフェニル等)、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ、エトキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ等)、
【0055】シクロアルキルオキシ基、(例えばシクロ
ヘキシルオキシ)、アリロキシ(例えばフェノキシ、p
−メチルフェノキシ、o−クロロフェノキシ、p−シア
ノフェノキシ等)、アミノ基、置換アミノ基(例えばメ
チルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルア
ミノ等)を表わす。
ヘキシルオキシ)、アリロキシ(例えばフェノキシ、p
−メチルフェノキシ、o−クロロフェノキシ、p−シア
ノフェノキシ等)、アミノ基、置換アミノ基(例えばメ
チルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルア
ミノ等)を表わす。
【0056】以下に、本発明の一般式(1)で表される
ポリマーにおいて、Cで表される活性メチレン基を有す
るエチレン性不飽和モノマーを例示するがこれらに限定
されるものではない。
ポリマーにおいて、Cで表される活性メチレン基を有す
るエチレン性不飽和モノマーを例示するがこれらに限定
されるものではない。
【0057】 M−1 2−アセトアセトキシエチルメタクリレート M−2 2−アセトアセトキシエチルアクリレート M−3 2−アセトアセトキシプロピルメタクリレート M−4 2−アセトアセトキシプロピルアクリレート M−5 2−アセトアセトアミドエチルメタクリレート M−6 2−アセトアセトアミドエチルアクリレート
【0058】 M−7 2−シアノアセトキシエチルメタクリレート M−8 2−シアノアセトキシエチルアクリレート M−9 N−(2−シアノアセトキシエチル)アクリル
アミド M−10 2−プロピオニルアセトキシエチルアクリレー
ト M−11 N−(2−プロピオニルアセトキシエチル)メ
タクリルアミド M−12 N−4−(アセトアセトキシベンジル)フェニ
ルアクリルアミド
アミド M−10 2−プロピオニルアセトキシエチルアクリレー
ト M−11 N−(2−プロピオニルアセトキシエチル)メ
タクリルアミド M−12 N−4−(アセトアセトキシベンジル)フェニ
ルアクリルアミド
【0059】M−13 エチルアクリロイルアセテート M−14 アクリロイルメチルアセテート M−15 N−メタクリロイルオキシメチルアセトアセト
アミド M−16 エチルメタクリロイルアセトアセテート M−17 N−アリルシアノアセトアミド M−18 メチルアクリロイルアセトアセテート
アミド M−16 エチルメタクリロイルアセトアセテート M−17 N−アリルシアノアセトアミド M−18 メチルアクリロイルアセトアセテート
【0060】M−19 N−(2−メタクリロイルオキシ
メチル)シアノアセトアミド M−20 p−(2−アセトアセチル)エチルスチレン M−21 4−アセトアセチル−1−メタクリロイルピペ
ラジン M−22 エチル−α−アセトアセトキシメタクリレート M−23 N−ブチル−N−アクリロイルオキシエチルア
セトアセトアミド M−24 p−(2−アセトアセトキシ)エチルスチレン
メチル)シアノアセトアミド M−20 p−(2−アセトアセチル)エチルスチレン M−21 4−アセトアセチル−1−メタクリロイルピペ
ラジン M−22 エチル−α−アセトアセトキシメタクリレート M−23 N−ブチル−N−アクリロイルオキシエチルア
セトアセトアミド M−24 p−(2−アセトアセトキシ)エチルスチレン
【0061】Aで表される繰返し単位を与えるエチレン
性不飽和モノマーは、その単独重合体のガラス転移温度
が35℃以下となる様なモノマーであり、具体的には、
アルキルアクリレート(例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、n−ブチルアクリレート、n─ヘキ
シルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−エチル
ヘキシルアクリレート、n─ドデシルアクリレートな
ど)、アルキルメタクリレート(例えば、n−ブチルメ
タクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチ
ルヘキシルメタクリレート、n−ドデシルメタクリート
など)、ジエン類(例えばブタジエン、イソプレン
等)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル等)などを挙げることができる。
性不飽和モノマーは、その単独重合体のガラス転移温度
が35℃以下となる様なモノマーであり、具体的には、
アルキルアクリレート(例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、n−ブチルアクリレート、n─ヘキ
シルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−エチル
ヘキシルアクリレート、n─ドデシルアクリレートな
ど)、アルキルメタクリレート(例えば、n−ブチルメ
タクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチ
ルヘキシルメタクリレート、n−ドデシルメタクリート
など)、ジエン類(例えばブタジエン、イソプレン
等)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル等)などを挙げることができる。
【0062】更に好ましいモノマーとしては単独重合体
のガラス転移温度が10℃以下のモノマーであり、この
様なモノマーとしては炭素数2以上のアルキル側鎖を有
するアルキルアクリレート(例えば、エチルアクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート等)、炭素数6以上のアルキル側鎖を有するア
ルキルメタクリレート(例えば、n−ヘキシルメタクリ
レート、2−エチルヘキシルメタクリレート等)、ジエ
ン類(例えばブタジエン、イソプレン)を特に好ましい
例として挙げることができる。
のガラス転移温度が10℃以下のモノマーであり、この
様なモノマーとしては炭素数2以上のアルキル側鎖を有
するアルキルアクリレート(例えば、エチルアクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート等)、炭素数6以上のアルキル側鎖を有するア
ルキルメタクリレート(例えば、n−ヘキシルメタクリ
レート、2−エチルヘキシルメタクリレート等)、ジエ
ン類(例えばブタジエン、イソプレン)を特に好ましい
例として挙げることができる。
【0063】上記のポリマーのガラス転移温度の値につ
いては、J. Brandrup, E.H. Immergut共編「Polymer Ha
ndbook」第3版(John Wiley & Sons, 1989 年)VI/209
〜VI/277頁に記載されている。
いては、J. Brandrup, E.H. Immergut共編「Polymer Ha
ndbook」第3版(John Wiley & Sons, 1989 年)VI/209
〜VI/277頁に記載されている。
【0064】Bで表される繰返し単位は、A以外の繰返
し単位、すなわちその単独重合体のガラス転移温度が3
5℃を超える様なモノマーより誘導される繰返し単位を
表す。
し単位、すなわちその単独重合体のガラス転移温度が3
5℃を超える様なモノマーより誘導される繰返し単位を
表す。
【0065】具体的には、アクリル酸エステル類(例え
ば、t−ブチルアクリレート、フェニルアクリレート、
2−ナフチルアクリレート等)、メタクリル酸エステル
類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレー
ト、4−クロロベンジルメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート等)、
ば、t−ブチルアクリレート、フェニルアクリレート、
2−ナフチルアクリレート等)、メタクリル酸エステル
類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレー
ト、4−クロロベンジルメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート等)、
【0066】ビニルエステル類(例えば、安息香酸ビニ
ル、ピバロイルオキシエチレン等)アクリルアミド類
(例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エ
チルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチル
アクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロ
ヘキシルアクリアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒド
ロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリル
アミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニ
ルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチル
アクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミドなど)、
ル、ピバロイルオキシエチレン等)アクリルアミド類
(例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エ
チルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチル
アクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロ
ヘキシルアクリアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒド
ロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリル
アミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニ
ルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチル
アクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミドなど)、
【0067】メタクリルアミド類(例えば、メタクリル
アミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルア
ミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルア
ミド、tert−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシル
メタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロ
キシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フ
ェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、
ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリ
ルアミドなど)、
アミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルア
ミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルア
ミド、tert−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシル
メタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロ
キシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フ
ェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、
ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリ
ルアミドなど)、
【0068】スチレン類(例えば、スチレン、メチルス
チレン、ジメチルスチレン、トリメチレンスチレン、エ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロスチレ
ン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルス
チレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安
息香酸メチルエステルなど)、ジビニルベンゼン、
チレン、ジメチルスチレン、トリメチレンスチレン、エ
チルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロスチレ
ン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルス
チレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安
息香酸メチルエステルなど)、ジビニルベンゼン、
【0069】アクリロニトリル、メタアクリロニトリ
ル、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリド
ン、塩化ビニリデン、フェニルビニルケトン等を挙げる
ことができる。
ル、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリド
ン、塩化ビニリデン、フェニルビニルケトン等を挙げる
ことができる。
【0070】また、本発明の一般式(1)で表されるポ
リマーにおいては、特公昭60−15935号、同45
−3832号、同53−28086号、米国特許第3,
700,456号等に記載されている様なアニオン性官
能基(例えば、カルボキシル基、スルホン酸基)を有す
るモノマーをラテックスの安定性を向上させる等の目的
で共重合してもよい。
リマーにおいては、特公昭60−15935号、同45
−3832号、同53−28086号、米国特許第3,
700,456号等に記載されている様なアニオン性官
能基(例えば、カルボキシル基、スルホン酸基)を有す
るモノマーをラテックスの安定性を向上させる等の目的
で共重合してもよい。
【0071】このようなモノマーとしては、以下の化合
物を挙げることができる。アクリル酸;メタクリル酸;
イタコン酸;マレイン酸;イタコン酸モノアルキル、例
えば、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチルな
ど;マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン酸モノ
メチル、マレイン酸モノエチルなど;シトラコン酸;ス
チレンスルホン酸;ビニルベンジルスルホン酸;ビニル
スルホン酸;アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、
例えば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプ
ロピルスルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキル
スルホン酸、例えば、メタクリロイルオキシメチルスル
ホン酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタ
クリロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルア
ミドアルキルスルホン酸、例えば、2−アクリルアミド
−2−メチルエタンスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など;メタクリルアミドア
ルキルスルホン酸、例えば、2−メタクリルアミド−2
−メチルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など;これらの酸はアルカ
リ金属(例えば、Na、Kなど)またはアンモニウムイ
オンの塩であってもよい。
物を挙げることができる。アクリル酸;メタクリル酸;
イタコン酸;マレイン酸;イタコン酸モノアルキル、例
えば、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチルな
ど;マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン酸モノ
メチル、マレイン酸モノエチルなど;シトラコン酸;ス
チレンスルホン酸;ビニルベンジルスルホン酸;ビニル
スルホン酸;アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、
例えば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプ
ロピルスルホン酸など;メタクリロイルオキシアルキル
スルホン酸、例えば、メタクリロイルオキシメチルスル
ホン酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタ
クリロイルオキシプロピルスルホン酸など;アクリルア
ミドアルキルスルホン酸、例えば、2−アクリルアミド
−2−メチルエタンスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など;メタクリルアミドア
ルキルスルホン酸、例えば、2−メタクリルアミド−2
−メチルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2
−メチルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など;これらの酸はアルカ
リ金属(例えば、Na、Kなど)またはアンモニウムイ
オンの塩であってもよい。
【0072】x、y、zは重合体中の各モノマー成分の
重量百分率比を表し、xは0.5ないし40、好ましく
は0.5ないし30、特に好ましくは、1ないし20で
あり、yは60ないし99.5、好ましくは70ないし
99.5、特に好ましくは75ないし99であり、zは
0ないし50、好ましくは0ないし35、特に好ましく
は0ないし25である。
重量百分率比を表し、xは0.5ないし40、好ましく
は0.5ないし30、特に好ましくは、1ないし20で
あり、yは60ないし99.5、好ましくは70ないし
99.5、特に好ましくは75ないし99であり、zは
0ないし50、好ましくは0ないし35、特に好ましく
は0ないし25である。
【0073】また、上記のアニオン性官能基を有する単
量体は、その単独重合体のガラス転移温度の大小に依ら
ず、ラテックスの安定性付与等の必要に応じて用いるこ
とが可能であり、用いた場合の好ましい量は、ポリマー
の全重量に対し、0.5ないし20重量%、特に好まし
くは1ないし10重量%である。
量体は、その単独重合体のガラス転移温度の大小に依ら
ず、ラテックスの安定性付与等の必要に応じて用いるこ
とが可能であり、用いた場合の好ましい量は、ポリマー
の全重量に対し、0.5ないし20重量%、特に好まし
くは1ないし10重量%である。
【0074】本発明の一般式(1)のポリマーラテック
スの好ましい化合物について以下に例示する。括弧内は
共重合体における各成分の重量百分率を表す。
スの好ましい化合物について以下に例示する。括弧内は
共重合体における各成分の重量百分率を表す。
【0075】P−1 エチルアクリレート/M−1/ア
クリル酸共重合体(85/10/5) P−2 n−ブチルアクリレート/M−1/2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合
体(85/10/5) P−3 n−ブチルアクリレート/M−1/メタクリル
酸共重合体(85/5/10) P−4 2−エチルヘキシルアクリレート/M−2/2
−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソー
ダ共重合体(75/20/5) P−5〜9 n−ブチルアクリレート/M−1/アクリ
ル酸共重合体(x/y/z) P−5 x/y/z=95/2/3 P−6 x/y/z=92/5/3 P−7 x/y/z=89/8/3 P−8 x/y/z=81/16/3 P−9 x/y/z=72/25/3
クリル酸共重合体(85/10/5) P−2 n−ブチルアクリレート/M−1/2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合
体(85/10/5) P−3 n−ブチルアクリレート/M−1/メタクリル
酸共重合体(85/5/10) P−4 2−エチルヘキシルアクリレート/M−2/2
−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソー
ダ共重合体(75/20/5) P−5〜9 n−ブチルアクリレート/M−1/アクリ
ル酸共重合体(x/y/z) P−5 x/y/z=95/2/3 P−6 x/y/z=92/5/3 P−7 x/y/z=89/8/3 P−8 x/y/z=81/16/3 P−9 x/y/z=72/25/3
【0076】P−10 n−ブチルアクリレート/スチ
レン/M−1/メタクリル酸共重合体(65/20/5
/10) P−11 メチルアクリレート/M−4/メタクリル酸
共重合体(80/15/5) P−12 n−ブチルアクリレート/M−5/アクリル
酸共重合体(85/10/5) P−13 n−ブチルアクリレート/M−7/メタクリ
ル酸共重合体(85/10/5) P−14 2−エチルヘキシルアクリレート/M−9共
重合体(75/25) P−15 n−ブチルアクリレート/M−13/スチレ
ンスルホン酸ソーダ共重合体(85/10/5)
レン/M−1/メタクリル酸共重合体(65/20/5
/10) P−11 メチルアクリレート/M−4/メタクリル酸
共重合体(80/15/5) P−12 n−ブチルアクリレート/M−5/アクリル
酸共重合体(85/10/5) P−13 n−ブチルアクリレート/M−7/メタクリ
ル酸共重合体(85/10/5) P−14 2−エチルヘキシルアクリレート/M−9共
重合体(75/25) P−15 n−ブチルアクリレート/M−13/スチレ
ンスルホン酸ソーダ共重合体(85/10/5)
【0077】P−16 n−ブチルアクリレート/M−
14/スチレンスルフィン酸カリウム共重合体(75/
20/5) P−17 n−ヘキシルアクリレート/メトキシエチル
アクリレート/M−2共重合体(70/20/10) P−18 2−エチルヘキシルアクリレート/M−15
/メタクリル酸共重合体(90/5/5) P−19 n−ブチルアクリレート/M−1/M−17
/アクリル酸共重合体(75/5/15/5) P−20 オクチルメタクリレート/M−20/スチレ
ンスルホン酸ソーダ共重合体(80/15/5)
14/スチレンスルフィン酸カリウム共重合体(75/
20/5) P−17 n−ヘキシルアクリレート/メトキシエチル
アクリレート/M−2共重合体(70/20/10) P−18 2−エチルヘキシルアクリレート/M−15
/メタクリル酸共重合体(90/5/5) P−19 n−ブチルアクリレート/M−1/M−17
/アクリル酸共重合体(75/5/15/5) P−20 オクチルメタクリレート/M−20/スチレ
ンスルホン酸ソーダ共重合体(80/15/5)
【0078】本発明のポリマアラテックスは一般によく
知られている乳化重合法によって調製され、その粒子径
の好ましい範囲は0.01ないし1.0μmである。乳
化重合法は好ましくは少くとも一種の乳化剤を用いて水
あるいは水と水に混和しうる有機溶媒(たとえばメタノ
ール、エタノール、アセトン等)の混合溶媒中でモノ
知られている乳化重合法によって調製され、その粒子径
の好ましい範囲は0.01ないし1.0μmである。乳
化重合法は好ましくは少くとも一種の乳化剤を用いて水
あるいは水と水に混和しうる有機溶媒(たとえばメタノ
ール、エタノール、アセトン等)の混合溶媒中でモノ
【0079】マーをに乳化させラジカル重合開始剤を用
いて一般に30℃ないし約100℃、好ましくは40℃
ないし約90℃の温度で行なわれる。水に混和しうる有
機溶媒の量は水に対して体積比で0〜100%、好まし
くは0〜50%である。
いて一般に30℃ないし約100℃、好ましくは40℃
ないし約90℃の温度で行なわれる。水に混和しうる有
機溶媒の量は水に対して体積比で0〜100%、好まし
くは0〜50%である。
【0080】重合反応は、通常重合すべき単量体に対し
0.05〜5重量%のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て0.1〜10重量%の乳化剤を用いて行なわれる。重
合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、レドックス溶媒など、たとえ
ば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブ
0.05〜5重量%のラジカル重合開始剤と必要に応じ
て0.1〜10重量%の乳化剤を用いて行なわれる。重
合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、レドックス溶媒など、たとえ
ば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブ
【0081】チルパーオクトエート、ベンゾイルパーオ
キサイド、イソプロピル−カーボネート、2,4−ジク
ロロベンジルパーオキサイド、メチルエチルケトンパー
オキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド、2,2′−アゾビスイソブチレート、
2−2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロ
クロライドなどがある。
キサイド、イソプロピル−カーボネート、2,4−ジク
ロロベンジルパーオキサイド、メチルエチルケトンパー
オキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド、2,2′−アゾビスイソブチレート、
2−2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)ハイドロ
クロライドなどがある。
【0082】乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、
両性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーな
どがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナ
トリウム、1−オクトキシカルボニルメチル−1−オク
トキシカルボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモ
両性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーな
どがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナ
トリウム、1−オクトキシカルボニルメチル−1−オク
トキシカルボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セ
チルトリメチルアンモ
【0083】ニウムクロライド、ドデシルトリメチレン
アンモニウムクロライド、N−2−エチルヘキシルピリ
ジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラウリルエ
ステル、ポリビニルアルコール、特公昭53−6190
号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがある。
アンモニウムクロライド、N−2−エチルヘキシルピリ
ジニウムクロライド、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンラウリルエ
ステル、ポリビニルアルコール、特公昭53−6190
号に記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがある。
【0084】乳化重合においては、その目的に応じて、
重合開始剤、濃度、重合温度、反応時間などを幅広く、
かつ、容易に変更できることはいうまでもない。また、
乳化重合反応は、モノマー界面活性剤、媒体を予め容器
に全量入れておき、開始剤を投入して行ってもよいし、
必要に応じて各成分の一部あるいは全量を滴下しながら
重合を行ってもよい。
重合開始剤、濃度、重合温度、反応時間などを幅広く、
かつ、容易に変更できることはいうまでもない。また、
乳化重合反応は、モノマー界面活性剤、媒体を予め容器
に全量入れておき、開始剤を投入して行ってもよいし、
必要に応じて各成分の一部あるいは全量を滴下しながら
重合を行ってもよい。
【0085】本発明の一般式(1)で表されるポリマー
における、Cで表される活性メチレン基を有するモノマ
ーやポリマーラテックスの種類やその合成法については
上記の他米国特許第3,459,790号、同3,61
9,195号、同3,929,482号、同3,70
0,456号、西独特許2,442,165号、欧州特
許13,147号、特開昭50−73625号、同50
−146331号等の記載を参考に行うことができる。
における、Cで表される活性メチレン基を有するモノマ
ーやポリマーラテックスの種類やその合成法については
上記の他米国特許第3,459,790号、同3,61
9,195号、同3,929,482号、同3,70
0,456号、西独特許2,442,165号、欧州特
許13,147号、特開昭50−73625号、同50
−146331号等の記載を参考に行うことができる。
【0086】本発明におけるベック平滑度は、日本工業
規格(JIS)P8119「紙および板紙のベック試験
器による平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T4
79により容易に求めることができる。本発明の感光材
料の乳剤層を有する面およびその反対面の最外層表面の
少なくとも一方、好ましくは両方のベック平滑度は、4
000秒以下であり、より好ましくは10秒〜4000
秒である。
規格(JIS)P8119「紙および板紙のベック試験
器による平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T4
79により容易に求めることができる。本発明の感光材
料の乳剤層を有する面およびその反対面の最外層表面の
少なくとも一方、好ましくは両方のベック平滑度は、4
000秒以下であり、より好ましくは10秒〜4000
秒である。
【0087】感光材料の乳剤層を有する面の最外層表面
および乳剤層とは反対面の最外層表面のベック平滑度
は、前記両面の最外層に含有させるマット剤の平均粒径
および添加量を種々変化させることによってコントロー
ルすることができる。本発明において好ましいマット剤
の平均粒径は、20μm以下であり、特に0.4〜10
μmの範囲である。本発明において好ましいマット剤の
添加量は、5〜400mg/m2、特に10〜200mg/m2
の範囲である。
および乳剤層とは反対面の最外層表面のベック平滑度
は、前記両面の最外層に含有させるマット剤の平均粒径
および添加量を種々変化させることによってコントロー
ルすることができる。本発明において好ましいマット剤
の平均粒径は、20μm以下であり、特に0.4〜10
μmの範囲である。本発明において好ましいマット剤の
添加量は、5〜400mg/m2、特に10〜200mg/m2
の範囲である。
【0088】本発明に用いられるマット剤は、写真的諸
特性に悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよう
なものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化ケ
イ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛および
カルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸
塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、有
機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビニ
ルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合体
のマット剤が挙げられる。
特性に悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよう
なものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化ケ
イ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛および
カルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸
塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、有
機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビニ
ルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合体
のマット剤が挙げられる。
【0089】本発明では、特開平3−109542号公
報2頁左下欄8行目〜3頁右上欄4行目に記載された多
孔性のマット剤、特開平4−127142号公報3頁右
上欄7行目〜5頁右下欄4行に記載されたアルカリで表
面修飾したマット剤、特願平4−265962号明細書
の段落番号「0005」から「0026」に記載された
有機重合体のマット剤を用いることがより好ましい。
報2頁左下欄8行目〜3頁右上欄4行目に記載された多
孔性のマット剤、特開平4−127142号公報3頁右
上欄7行目〜5頁右下欄4行に記載されたアルカリで表
面修飾したマット剤、特願平4−265962号明細書
の段落番号「0005」から「0026」に記載された
有機重合体のマット剤を用いることがより好ましい。
【0090】また、これらのマット剤を2種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用(例えば特願平4−2659
62号に記載されている平均粒径が1.5μm以上のマ
ット剤と平均粒径が1μm以下のマット剤の併用)など
がある。
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用(例えば特願平4−2659
62号に記載されている平均粒径が1.5μm以上のマ
ット剤と平均粒径が1μm以下のマット剤の併用)など
がある。
【0091】本発明における、表面抵抗率が25℃30
%RHの雰囲気下で1012Ω以下の層(以下「導電層」
と記す)は、導電性物質として、導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物などを用いることによって得ら
れる。本発明に用いられる導電性金属酸化物として好ま
しいのは結晶性の金属酸化物粒子であるが、酸素欠陥を
含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形
成する異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電
性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳
剤にカブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の
例としては、ZnO、TiO2 、SnO2 、Al
2 O3 、In2 O3 、SiO2 、MgO、BaO、Mo
O3 、V2 O5 等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にZnO、TiO2 及びSnO2 が好ましい。異
種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはA
l、In等の添加、SnO2 に対してはSb、Nb、ハ
ロゲン元素等の添加、またTiO2 に対してはNb、T
a等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は
0.01mol %〜30mol %の範囲が好ましいが、0.
1mol %〜10mol %であれば特に好ましい。
%RHの雰囲気下で1012Ω以下の層(以下「導電層」
と記す)は、導電性物質として、導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物などを用いることによって得ら
れる。本発明に用いられる導電性金属酸化物として好ま
しいのは結晶性の金属酸化物粒子であるが、酸素欠陥を
含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形
成する異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電
性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳
剤にカブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の
例としては、ZnO、TiO2 、SnO2 、Al
2 O3 、In2 O3 、SiO2 、MgO、BaO、Mo
O3 、V2 O5 等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にZnO、TiO2 及びSnO2 が好ましい。異
種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはA
l、In等の添加、SnO2 に対してはSb、Nb、ハ
ロゲン元素等の添加、またTiO2 に対してはNb、T
a等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は
0.01mol %〜30mol %の範囲が好ましいが、0.
1mol %〜10mol %であれば特に好ましい。
【0092】本発明の金属酸化物微粒子は導電性を有し
ており、その体積抵抗率は107 Ω-cm 以下、特に10
5 Ω-cm 以下であることが好ましい。これらの酸化物に
ついては特開昭56−143431号、同56−120
519号、同58−62647号などに記載されてい
る。更に又、特公昭59−6235号に記載のごとく、
他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸
化チタン)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材
を使用してもよい。利用できる粒子サイズは10μ以下
が好ましいが、2μ以下であると分散後の安定性が良く
使用し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為
に、0.5μ以下の導電性粒子を利用すると透明感光材
料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電
性材料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは30μ
m以下で直径が2μ以下が好ましく、特に好ましいのは
長さが25μm以下で直径0.5μ以下であり長さ/直
径比が3以上である。
ており、その体積抵抗率は107 Ω-cm 以下、特に10
5 Ω-cm 以下であることが好ましい。これらの酸化物に
ついては特開昭56−143431号、同56−120
519号、同58−62647号などに記載されてい
る。更に又、特公昭59−6235号に記載のごとく、
他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸
化チタン)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材
を使用してもよい。利用できる粒子サイズは10μ以下
が好ましいが、2μ以下であると分散後の安定性が良く
使用し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為
に、0.5μ以下の導電性粒子を利用すると透明感光材
料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電
性材料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは30μ
m以下で直径が2μ以下が好ましく、特に好ましいのは
長さが25μm以下で直径0.5μ以下であり長さ/直
径比が3以上である。
【0093】本発明に用いられる導電性高分子化合物と
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第4,108,802号、同4,118,231
号、同4,126,467号、同4,137,217号
に記載の4級塩ポリマー類、米国特許第4,070,1
89号、OLS2,830,767号、特開昭61−2
96352号、同61−62033号等に記載のポリマ
ーラテックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分
子化合物の具体例を示すが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第4,108,802号、同4,118,231
号、同4,126,467号、同4,137,217号
に記載の4級塩ポリマー類、米国特許第4,070,1
89号、OLS2,830,767号、特開昭61−2
96352号、同61−62033号等に記載のポリマ
ーラテックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分
子化合物の具体例を示すが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。
【0094】
【化9】
【0095】
【化10】
【0096】本発明の導電性金属酸化物又は導電性高分
子化合物はバインダー中に分散又は溶解させて用いられ
る。バインダーとしては、フィルム形成能を有するもの
であれば特に限定されるものではないが、例えばゼラチ
ン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロー
ス、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等
のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸
ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、
ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、
ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化
ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げるこ
とができる。特に、ゼラチン(石灰処理ゼラチン、酸処
理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラチン、ア
セチル化ゼラチン等)、アセチルセルロース、ジアセチ
ルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ブチル、ポ
リアクリルアミド、デキストラン等が好ましい。
子化合物はバインダー中に分散又は溶解させて用いられ
る。バインダーとしては、フィルム形成能を有するもの
であれば特に限定されるものではないが、例えばゼラチ
ン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセルロー
ス、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等
のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アルギン酸
ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、
ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタク
リル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、
ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化
ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げるこ
とができる。特に、ゼラチン(石灰処理ゼラチン、酸処
理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラチン、ア
セチル化ゼラチン等)、アセチルセルロース、ジアセチ
ルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ブチル、ポ
リアクリルアミド、デキストラン等が好ましい。
【0097】本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性
高分子化合物をより効果的に使用して導電層の抵抗を下
げるために、導電層中における導電性物質の体積含有率
は高い方が好ましいが、層としての強度を十分に持たせ
るために最低5%程度のバインダーが必要であるので、
導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物の体積含
有率は5〜95%の範囲が望ましい。
高分子化合物をより効果的に使用して導電層の抵抗を下
げるために、導電層中における導電性物質の体積含有率
は高い方が好ましいが、層としての強度を十分に持たせ
るために最低5%程度のバインダーが必要であるので、
導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物の体積含
有率は5〜95%の範囲が望ましい。
【0098】本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性
高分子化合物の使用量は、写真感光材料一平方メートル
当たり0.05〜20gが好ましく、特に0.1〜10
gが好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は25℃3
0%RHの雰囲気下で1012Ω以下で、好ましくは10
11Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化
合物を含有する導電層は、本発明においては、写真感光
材料の構成層として少なくとも一層設ける。例えば、表
面保護層、バック層、中間層、下塗層などのいずれでも
よいが、必要に応じて2層以上設けることもできる。
高分子化合物の使用量は、写真感光材料一平方メートル
当たり0.05〜20gが好ましく、特に0.1〜10
gが好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は25℃3
0%RHの雰囲気下で1012Ω以下で、好ましくは10
11Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明の導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化
合物を含有する導電層は、本発明においては、写真感光
材料の構成層として少なくとも一層設ける。例えば、表
面保護層、バック層、中間層、下塗層などのいずれでも
よいが、必要に応じて2層以上設けることもできる。
【0099】本発明においては、上記導電性物質の他
に、更に含フッ素界面活性剤を併用することによって更
に良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に用い
られる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数4
以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリ
ール基を有し、イオン性基としてアニオン基(スルホン
酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸
(塩))、カチオン基(アミン塩、アンモニウム塩、芳
香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩)、ベ
タイン基(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウ
ム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホ
アンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置換のポリ
オキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタ
ン残基)を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含
フッ素界面活性剤は特開昭49−10722号、英国特
許第1,330,356号、米国特許第4,335,2
01号、同4,347,308号、英国特許第1,41
7,915号、特開昭55−149938号、同58−
196544号、英国特許第1,439,402号、な
どに記載されている。これらの具体例のいくつかを以下
に記す。
に、更に含フッ素界面活性剤を併用することによって更
に良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に用い
られる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数4
以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリ
ール基を有し、イオン性基としてアニオン基(スルホン
酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸
(塩))、カチオン基(アミン塩、アンモニウム塩、芳
香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩)、ベ
タイン基(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウ
ム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホ
アンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置換のポリ
オキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタ
ン残基)を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含
フッ素界面活性剤は特開昭49−10722号、英国特
許第1,330,356号、米国特許第4,335,2
01号、同4,347,308号、英国特許第1,41
7,915号、特開昭55−149938号、同58−
196544号、英国特許第1,439,402号、な
どに記載されている。これらの具体例のいくつかを以下
に記す。
【0100】
【化11】
【0101】本発明の含フッ素界面活性剤を添加する層
は写真感光材料の少なくとも1層であれば特に限定され
ず、例えば表面保護層、乳剤層、中間層、下塗層、バッ
ク層などを挙げることができる。その中でも好ましい添
加場所としては表面保護層であり、乳剤層側もしくはバ
ック層側のどちらか一方でもよいが、両方の表面保護層
に添加した場合は更に好ましい。表面保護層が2層以上
から成る場合はそのいずれの層でもよく、又表面保護層
の上にさらにオーバーコートして用いることもできる。
本発明の含フッ素界面活性剤の使用量は写真感光材料の
1平方メートルあたり0.0001〜1gであればよい
が、より好ましくは0.0002〜0.25g、特に好
ましいのは0.0003〜0.1gである。又、本発明
の含フッ素界面活性剤は、2種以上混合してもよい。
は写真感光材料の少なくとも1層であれば特に限定され
ず、例えば表面保護層、乳剤層、中間層、下塗層、バッ
ク層などを挙げることができる。その中でも好ましい添
加場所としては表面保護層であり、乳剤層側もしくはバ
ック層側のどちらか一方でもよいが、両方の表面保護層
に添加した場合は更に好ましい。表面保護層が2層以上
から成る場合はそのいずれの層でもよく、又表面保護層
の上にさらにオーバーコートして用いることもできる。
本発明の含フッ素界面活性剤の使用量は写真感光材料の
1平方メートルあたり0.0001〜1gであればよい
が、より好ましくは0.0002〜0.25g、特に好
ましいのは0.0003〜0.1gである。又、本発明
の含フッ素界面活性剤は、2種以上混合してもよい。
【0102】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行 その製法 目から同第21頁左下欄14行目及び特開平2−1 2236号公報第7頁右上欄19行目から同第8頁 左下欄12行目、特願平3−116573号、特願 平3−189532号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目か ら同第8頁右下欄8行目、同2−39042号公報 第7頁右下欄8行目から第13頁右下欄5行目。特 開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目か ら同右下欄4行目、同2−103536号公報第1 6頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、 さらに特開平1−112235号、同2−1245 60号、同3−7928号、特願平3−18953 2号及び同3−411064号。 3)ヒドラジン造核剤 特開平2−12236号公報第2頁右上欄19行目 から同第7頁右上欄3行目の記載、同3−1741 43号公報第20頁右下欄1行目から同第27頁右 上欄20行目の一般式(II)及び化合物例II−1な いしII−54。 4)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物例II−1ないしII− 22、特開平1−179939号公報に記載の化合 物。
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。 項 目 該 当 箇 所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行 その製法 目から同第21頁左下欄14行目及び特開平2−1 2236号公報第7頁右上欄19行目から同第8頁 左下欄12行目、特願平3−116573号、特願 平3−189532号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目か ら同第8頁右下欄8行目、同2−39042号公報 第7頁右下欄8行目から第13頁右下欄5行目。特 開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目か ら同右下欄4行目、同2−103536号公報第1 6頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、 さらに特開平1−112235号、同2−1245 60号、同3−7928号、特願平3−18953 2号及び同3−411064号。 3)ヒドラジン造核剤 特開平2−12236号公報第2頁右上欄19行目 から同第7頁右上欄3行目の記載、同3−1741 43号公報第20頁右下欄1行目から同第27頁右 上欄20行目の一般式(II)及び化合物例II−1な いしII−54。 4)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m )ないし(II−p)及び化合物例II−1ないしII− 22、特開平1−179939号公報に記載の化合 物。
【0103】 5)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目。 6)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目、及び同2−553 49号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁左 上欄8行目。 7)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行 目から5行目、さらに特開平1−237538号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 8)ポリヒドロキシ 特開平2−55349号公報第11頁左上欄9頁か ベンゼン類 ら同右下欄17行目。 9) 滑り剤、可塑剤 特開平2−103536号公報第19頁右上欄6行 目から同第19頁右上欄15行目。 10) 硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同17行目。
【0104】 11) 染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目、同2−39042号公報第4頁 右上欄1行目から第6頁右上欄5行目、同2−29 4638号公報及び特願平3−185773号に記 載の固体染料。 12) テトラゾリウム化合 特開平2−39143号公報第4頁左下欄8行目か 物 ら第6頁左下欄6行目、特開平3−123346号 公報第3頁右上欄19行目から第5頁左上欄20行 目。 13) 黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−118 832号公報に記載の化合物。 14) レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特願平3−69466 号、同3−15648号に記載の化合物。 15) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 16) コロイド状シリカ 特開平4−214551号段落記号「0005」記 載の化合物。 17) 現像液及び現像方法 特開平2−103536号公報第19頁右上欄16 行目から同第21頁左上欄8行目。 特開平2−55349号公報第13頁右下欄1行目 から同第16頁左上欄10行目。
【0105】
【実施例】以下に実施例をあげて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0106】実施例1 製造例1で製造されたスチレン系重合体を、150℃に
て減圧、乾燥後、ベント付単軸押出機にてペレット化
し、このペレットを130℃の熱風中攪拌しながら結晶
化させた。この結晶化ペレット中のスチレンモノマー含
有量は1,100ppm であった。次に、このペレットを
フィルターの内在する押出機の先端にT−ダイを取り付
けた装置で押出した。このときの溶融温度は300℃で
あった。この溶融状態のシートを静電密着法を用いて厚
さ1400μm の透明な結晶化度9%のシートに成形し
た。得られたシートを縦方向に110℃で3.5倍、1
20℃で横方向に4倍に延伸し、240℃で固定緊張状
態で10秒、5%制限収縮下で20秒熱処理した。得ら
れたフィルムの厚さは100μm 、ヘイズ1.0%であ
った。
て減圧、乾燥後、ベント付単軸押出機にてペレット化
し、このペレットを130℃の熱風中攪拌しながら結晶
化させた。この結晶化ペレット中のスチレンモノマー含
有量は1,100ppm であった。次に、このペレットを
フィルターの内在する押出機の先端にT−ダイを取り付
けた装置で押出した。このときの溶融温度は300℃で
あった。この溶融状態のシートを静電密着法を用いて厚
さ1400μm の透明な結晶化度9%のシートに成形し
た。得られたシートを縦方向に110℃で3.5倍、1
20℃で横方向に4倍に延伸し、240℃で固定緊張状
態で10秒、5%制限収縮下で20秒熱処理した。得ら
れたフィルムの厚さは100μm 、ヘイズ1.0%であ
った。
【0107】得られたSPS支持体の両面を、グロー放
電処理を下記条件で実施した。断面が直径2cm、長さ1
50cmの円柱状で冷媒流路となる中空部を持つ棒状電極
を、10cm間隔に4本絶縁板状に固定した。この電極板
を真空タンク内に固定し、この電極面から15cm離れ、
電極面に正対するように2軸延伸フィルムを走行させ、
2秒間の表面対処が行われるように速度をコントロール
した。フィルムが電極を通過する直前に、フィルムが直
径50cmの温度コントロール付き加熱ロールに3/4周
接触するように加熱ロールを配置し、さらに加熱ロール
と電極ゾーンの間のフィルム面に熱電対温度計を接触さ
せることによりフィルム面温度を115℃にコントロー
ルした。真空槽内の圧力は0.2Torr、雰囲気気体内の
H2 O分圧は75%で行った。放電周波数は30KHz 、
出力2500W、処理強度は0.5KV・A・分/m2で行
った。放電処理後の支持体が巻き取られる前に表面温度
が30℃になるように、直径50cmの温度コントローラ
ー付き冷却ロールに接触させ巻き取った。次いで、下記
組成の下塗層を両面に塗布した。 <下塗層> 脱イオンアルカリ処理ゼラチン(等電点5.0) 10.0重量部 水 24.0 〃 メタノール 961.0 〃 サリチル酸 3.0 〃 特開昭51−3619号記載 0.5 〃 合成例1 ポリアマイド−エピクロルヒドリン樹脂 特公平3−27099号記載 1.0 〃 ノニオン性界面活性剤 化合物I−13 この塗布液をワイヤーバーを用いて10ml/m2塗布し、
115℃で2分間乾燥後巻き取った。
電処理を下記条件で実施した。断面が直径2cm、長さ1
50cmの円柱状で冷媒流路となる中空部を持つ棒状電極
を、10cm間隔に4本絶縁板状に固定した。この電極板
を真空タンク内に固定し、この電極面から15cm離れ、
電極面に正対するように2軸延伸フィルムを走行させ、
2秒間の表面対処が行われるように速度をコントロール
した。フィルムが電極を通過する直前に、フィルムが直
径50cmの温度コントロール付き加熱ロールに3/4周
接触するように加熱ロールを配置し、さらに加熱ロール
と電極ゾーンの間のフィルム面に熱電対温度計を接触さ
せることによりフィルム面温度を115℃にコントロー
ルした。真空槽内の圧力は0.2Torr、雰囲気気体内の
H2 O分圧は75%で行った。放電周波数は30KHz 、
出力2500W、処理強度は0.5KV・A・分/m2で行
った。放電処理後の支持体が巻き取られる前に表面温度
が30℃になるように、直径50cmの温度コントローラ
ー付き冷却ロールに接触させ巻き取った。次いで、下記
組成の下塗層を両面に塗布した。 <下塗層> 脱イオンアルカリ処理ゼラチン(等電点5.0) 10.0重量部 水 24.0 〃 メタノール 961.0 〃 サリチル酸 3.0 〃 特開昭51−3619号記載 0.5 〃 合成例1 ポリアマイド−エピクロルヒドリン樹脂 特公平3−27099号記載 1.0 〃 ノニオン性界面活性剤 化合物I−13 この塗布液をワイヤーバーを用いて10ml/m2塗布し、
115℃で2分間乾燥後巻き取った。
【0108】この支持体の一方の側に下記組成のバック
層及びバック保護層を同時塗布した。 <バック層> ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 表−1 化合物−1 3mg/m2 化合物−2 40 〃 化合物−3 40 〃 化合物−4 80 〃 化合物−5 150 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 表−1 <バック保護層> ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 0.7g/m2 化合物−1 3mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 10 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃 化合物−6 5 〃 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径 2.5μm) 30 〃 硫酸ナトリウム 60 〃
層及びバック保護層を同時塗布した。 <バック層> ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 表−1 化合物−1 3mg/m2 化合物−2 40 〃 化合物−3 40 〃 化合物−4 80 〃 化合物−5 150 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 表−1 <バック保護層> ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 0.7g/m2 化合物−1 3mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 10 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃 化合物−6 5 〃 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径 2.5μm) 30 〃 硫酸ナトリウム 60 〃
【0109】
【化12】
【0110】
【化13】
【0111】ついで、支持体の反対側の面に下記組成の
乳剤第1層及び第2層、保護層下層及び上層を同時塗布
した。 <乳剤層第1層>40℃に保った4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン(銀1モ
ル当り5×10-3モル)を含有するゼラチン水溶液中に
硝酸銀水溶液と銀1モル当り2×10-5モルの(NH4)2Rh
(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に7分で添
加し、その間の電位を95mVにコントロールすること
により、芯部の粒子0.12μmを調製した。その後、
硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-4モルの(N
H4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に1
4分間で添加しその間の電位を95mVにコントロール
することによって平均粒子サイズ0.15μmの塩化銀
立方体粒子を調製した。この乳剤に下記のヒドラジン化
合物、をモル比で1:1に混合した溶液を各々2.
2×10-5 mol/m2、4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを30mg/m2、下
記の化合物−7、−8を各々40mg/m2、10mg/m2、
硬膜剤として、1,1−ビス(ビニルスルホニル)メタ
ンを表−1の様に加え、銀量2.0g/m2、ゼラチンを
表−1になる様に塗布した。
乳剤第1層及び第2層、保護層下層及び上層を同時塗布
した。 <乳剤層第1層>40℃に保った4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン(銀1モ
ル当り5×10-3モル)を含有するゼラチン水溶液中に
硝酸銀水溶液と銀1モル当り2×10-5モルの(NH4)2Rh
(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に7分で添
加し、その間の電位を95mVにコントロールすること
により、芯部の粒子0.12μmを調製した。その後、
硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-4モルの(N
H4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に1
4分間で添加しその間の電位を95mVにコントロール
することによって平均粒子サイズ0.15μmの塩化銀
立方体粒子を調製した。この乳剤に下記のヒドラジン化
合物、をモル比で1:1に混合した溶液を各々2.
2×10-5 mol/m2、4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを30mg/m2、下
記の化合物−7、−8を各々40mg/m2、10mg/m2、
硬膜剤として、1,1−ビス(ビニルスルホニル)メタ
ンを表−1の様に加え、銀量2.0g/m2、ゼラチンを
表−1になる様に塗布した。
【0112】
【化14】
【0113】<乳剤層第2層>40℃に保った5,6−
シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラザインデン(銀1モル当り5×10-3モル)を含
有するゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と銀1モル当り
4×10-5モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウ
ム水溶液を同時に3分半で添加し、その間の電位を95
mVにコントロールすることにより、芯部の粒子0.0
8μmを調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当
り1.2×10-4モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナ
トリウム水溶液を同時に7分間で添加しその間の電位を
95mVにコントロールすることによって平均粒子サイ
ズ0.10μmの塩化銀立方体粒子を調製した。この乳
剤を用いる以外は上記乳剤層第1層と同様の乳剤層を銀
量1.5g/m2ゼラチンを表−1になる様に塗布した。
シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラザインデン(銀1モル当り5×10-3モル)を含
有するゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と銀1モル当り
4×10-5モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウ
ム水溶液を同時に3分半で添加し、その間の電位を95
mVにコントロールすることにより、芯部の粒子0.0
8μmを調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当
り1.2×10-4モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナ
トリウム水溶液を同時に7分間で添加しその間の電位を
95mVにコントロールすることによって平均粒子サイ
ズ0.10μmの塩化銀立方体粒子を調製した。この乳
剤を用いる以外は上記乳剤層第1層と同様の乳剤層を銀
量1.5g/m2ゼラチンを表−1になる様に塗布した。
【0114】 <保護層下層> ゼラチン 表−1 1−ヒドロキシ−2−ベンズアルドオキシム 15mg/m2 化合物−9 80 〃 化合物−10 10 〃 <保護層上層> ゼラチン 表−1 不定形マット剤(SiO2 、平均粒径2.4μm) 30mg/m2 流動パラフィン(ゼラチン分散物) 50 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 *固体分散染料A 80 〃 *固体分散染料B 40 〃 *固体分散染料A、Bの微粒子分散物の調製方法 本発明での調製方法は特開昭63−197943号の方
法に準じた。すなわち、水(434ミリリットル)及び
Triton X−200R界面活性剤(TX−200R)
(53g)(Rohm & Haas社から販売)の6.7%溶液と
を、1.5リットルネジ蓋ビンに入れた。これに、染料
の20gと酸化ジルコニウム(ZrO2 )のビーズ(8
00ミリリットル)(2mm径)を添加し、このビンの蓋
をしっかりしめて、ミル内に置き、内容物を4日間粉砕
した。内容物を12.5%のゼラチン水溶液(160
g)に添加し、ロールミルに10分間置いて泡を減少さ
せた。得られた混合物をろ過して、ZrO2 ビーズを除
去した。このままだと平均粒径が約0.3μmである
が、まだ粗粒子を含んでいるので、この後遠心分離法に
よって分級し、最大粒子サイズが1μm以下になるよう
にした。
法に準じた。すなわち、水(434ミリリットル)及び
Triton X−200R界面活性剤(TX−200R)
(53g)(Rohm & Haas社から販売)の6.7%溶液と
を、1.5リットルネジ蓋ビンに入れた。これに、染料
の20gと酸化ジルコニウム(ZrO2 )のビーズ(8
00ミリリットル)(2mm径)を添加し、このビンの蓋
をしっかりしめて、ミル内に置き、内容物を4日間粉砕
した。内容物を12.5%のゼラチン水溶液(160
g)に添加し、ロールミルに10分間置いて泡を減少さ
せた。得られた混合物をろ過して、ZrO2 ビーズを除
去した。このままだと平均粒径が約0.3μmである
が、まだ粗粒子を含んでいるので、この後遠心分離法に
よって分級し、最大粒子サイズが1μm以下になるよう
にした。
【0115】
【化15】
【0116】得られた試料について、下記の方法による
「見当合わせ」の評価を行なった。 「見当合わせ」グリッド状パターンを焼込んだネガ原稿
フィルム(サイズ26cm×61cm)と試料をピンバーを
用いて乳剤面同志を密着させ、露光・現像処理し、ポジ
原稿フィルムを作製した。次に上記と同じネガ原稿フィ
ルムをスペーサー(ポリエチレンテレフタレートフィル
ム100μm 厚)を介して市販のコンタクトフィルム
〔フジリスコンタクトフィルムKU−H100フィルム
(富士写真フイルム(株))製〕と、上記と同じピンバ
ーを用いて密着させ露光した。さらに、この露光された
KU−H100フィルムとポジ原稿フィルムのバック面
を上記と同じピンバーを用いて密着して露光した。その
後KU−H100フィルムを現像処理し、グリッド状パ
ターンのズレ幅を測定した。ズレ幅が小さいほど見当合
わせが良いことを示す。なお、この評価は下記の条件の
もとに実施した。 プリンター:P−627FM(富士写真フイルム社製) 自動現像機:FG−680AG(富士写真フイルム社
製) 処理条件 :現像液 :下記現像液(I)、38℃2
0″ 定着液 :下記定着液(I) 乾燥温度:50℃ 環境条件 :25℃30%RH 原稿フィルム、試料フィルム及びKU−H100は25
℃30%RHで3時間以上シーズニングしてから用い
た。
「見当合わせ」の評価を行なった。 「見当合わせ」グリッド状パターンを焼込んだネガ原稿
フィルム(サイズ26cm×61cm)と試料をピンバーを
用いて乳剤面同志を密着させ、露光・現像処理し、ポジ
原稿フィルムを作製した。次に上記と同じネガ原稿フィ
ルムをスペーサー(ポリエチレンテレフタレートフィル
ム100μm 厚)を介して市販のコンタクトフィルム
〔フジリスコンタクトフィルムKU−H100フィルム
(富士写真フイルム(株))製〕と、上記と同じピンバ
ーを用いて密着させ露光した。さらに、この露光された
KU−H100フィルムとポジ原稿フィルムのバック面
を上記と同じピンバーを用いて密着して露光した。その
後KU−H100フィルムを現像処理し、グリッド状パ
ターンのズレ幅を測定した。ズレ幅が小さいほど見当合
わせが良いことを示す。なお、この評価は下記の条件の
もとに実施した。 プリンター:P−627FM(富士写真フイルム社製) 自動現像機:FG−680AG(富士写真フイルム社
製) 処理条件 :現像液 :下記現像液(I)、38℃2
0″ 定着液 :下記定着液(I) 乾燥温度:50℃ 環境条件 :25℃30%RH 原稿フィルム、試料フィルム及びKU−H100は25
℃30%RHで3時間以上シーズニングしてから用い
た。
【0117】次に現像液(I)及び定着液(I)の組成
を示す。 <現像液(I)> 水酸化カリウム 90.0g 水酸化ナトリウム 8.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0g ほう酸 24.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 65.0g 臭化カリウム 10.0g ハイドロキノン 55.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.40g N−メチル−p−アミノフェノール 0.50g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 0.30g 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 0.20g N−n−ブチル−ジエタノールアミン 14.0g N,N−ジメチルアミノ−6−ヘキサノール 0.20g トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0g 5−スルホサリチル酸 23.0g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし pHを11.9に合わせる。 1リットル 補充量は240ml/m2で行なった。
を示す。 <現像液(I)> 水酸化カリウム 90.0g 水酸化ナトリウム 8.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0g ほう酸 24.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 65.0g 臭化カリウム 10.0g ハイドロキノン 55.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.40g N−メチル−p−アミノフェノール 0.50g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 0.30g 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 0.20g N−n−ブチル−ジエタノールアミン 14.0g N,N−ジメチルアミノ−6−ヘキサノール 0.20g トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0g 5−スルホサリチル酸 23.0g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし pHを11.9に合わせる。 1リットル 補充量は240ml/m2で行なった。
【0118】 <硬膜定着液(I)> チオ硫酸アンモニウム 359.1g エチレンジアミン四酢酸2Na2水塩 2.26g チオ硫酸ナトリウム5水塩 32.8g 亜硫酸ナトリウム 64.8g NaOH(純分で) 37.2g 氷酢酸 87.3g 酒石酸 8.76g グルコン酸ナトリウム 6.6g 硫酸アルミニウム 25.3g pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.85g 水を加えて 1リットル
【0119】その結果を表−1に示す。表−1から明ら
かな如く、全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/
m2以下の本発明の試料は見当合わせが著しく良化してい
ることがわかる。
かな如く、全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/
m2以下の本発明の試料は見当合わせが著しく良化してい
ることがわかる。
【0120】
【表1】
【0121】実施例2 実施例1の試料番号−3〜5のバック層、乳剤層、第1
層及び第2層、保護層下層に表−2に示す様にポリマー
ラテックスを加える以外は実施例1と同様に試料を作成
した。得られた試料について、実施例1と同様に「見当
合わせ」の評価及び下記の方法による「ウェット引掻強
度」の評価を行なった。 「ウェット引掻強度」試料を38℃の現像液(I)中に
1分間浸漬後、半径0.4mmのサファイア針で、試料膜
面に圧着し、10mm/秒の速さで移動しながら、針の荷
重を連続的に変化させ、膜が破壊する時の荷重(g)を
測定した。その結果を表−2に示す。表−2から明らか
な如く、本発明の試料はポリマーラテックスを加えるこ
とにより、見当合わせがさらに良化し、さらに一般式
(I)のポリマーラテックスを加えた試料番号10〜1
8は見当合わせが良好で、さらにウェット膜強度が高い
ことがわかる。
層及び第2層、保護層下層に表−2に示す様にポリマー
ラテックスを加える以外は実施例1と同様に試料を作成
した。得られた試料について、実施例1と同様に「見当
合わせ」の評価及び下記の方法による「ウェット引掻強
度」の評価を行なった。 「ウェット引掻強度」試料を38℃の現像液(I)中に
1分間浸漬後、半径0.4mmのサファイア針で、試料膜
面に圧着し、10mm/秒の速さで移動しながら、針の荷
重を連続的に変化させ、膜が破壊する時の荷重(g)を
測定した。その結果を表−2に示す。表−2から明らか
な如く、本発明の試料はポリマーラテックスを加えるこ
とにより、見当合わせがさらに良化し、さらに一般式
(I)のポリマーラテックスを加えた試料番号10〜1
8は見当合わせが良好で、さらにウェット膜強度が高い
ことがわかる。
【0122】
【表2】
【0123】実施例3 実施例1の試料番号−2、−4及び実施例2の試料番号
−8、−17の保護層上層及びバック保護層のマット剤
を表−3のベック平滑度になる様に表−3の如く加え
て、実施例1と同様に試料を作成した。得られた試料に
ついて、実施例1と同様に「見当合わせ」の評価を行な
った。なお、ベック平滑度の測定は25℃50%RHの
雰囲気下で王研式平滑度試験器(旭精工株式会社製)を
用いて測定した。その結果を表−3に示す。表−3から
明らかな如く、本発明の試料21〜25は、ベック平滑
度を4000秒以下にすることにより「見当合わせ」が
さらに良化することがわかる。
−8、−17の保護層上層及びバック保護層のマット剤
を表−3のベック平滑度になる様に表−3の如く加え
て、実施例1と同様に試料を作成した。得られた試料に
ついて、実施例1と同様に「見当合わせ」の評価を行な
った。なお、ベック平滑度の測定は25℃50%RHの
雰囲気下で王研式平滑度試験器(旭精工株式会社製)を
用いて測定した。その結果を表−3に示す。表−3から
明らかな如く、本発明の試料21〜25は、ベック平滑
度を4000秒以下にすることにより「見当合わせ」が
さらに良化することがわかる。
【0124】
【表3】
【0125】実施例4 実施例1の試料番号−2〜6及び実施例3の試料番号−
24、−25のバック層と下塗層の間に下記組成の導電
層を加える以外は実施例1及び3と同様に試料を作成し
た。得られた試料について、実施例1と同様に「見当合
わせ」の評価を行なった。なお、導電層の表面抵抗率の
測定は試料を25℃30%RHで12時間放置後電極間
隔0.14cm、長さ10cmの真鍮製電極(試料と接する
部分はステンレス使用)に挟み、タケダ理研製エレクト
ロメーターTR8651を用いて1分後の値を測定し
た。その結果を表−4に示す。表−4から明らかな如
く、本発明の試料−27〜32は表面抵抗率が1012Ω
以下の導電層を有することによって、「見当合わせ」が
さらに良化することがわかる。
24、−25のバック層と下塗層の間に下記組成の導電
層を加える以外は実施例1及び3と同様に試料を作成し
た。得られた試料について、実施例1と同様に「見当合
わせ」の評価を行なった。なお、導電層の表面抵抗率の
測定は試料を25℃30%RHで12時間放置後電極間
隔0.14cm、長さ10cmの真鍮製電極(試料と接する
部分はステンレス使用)に挟み、タケダ理研製エレクト
ロメーターTR8651を用いて1分後の値を測定し
た。その結果を表−4に示す。表−4から明らかな如
く、本発明の試料−27〜32は表面抵抗率が1012Ω
以下の導電層を有することによって、「見当合わせ」が
さらに良化することがわかる。
【0126】 <導電層> SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm ) 77 〃 化合物−11 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【0127】
【化16】
【0128】
【表4】
【0129】実施例5 製造例2の重合体を用い、予備成形体であるシートの厚
みを1050μm に調整し、横延伸倍率を3倍とし、制
限収縮を5%としたことの他は実施例1と同様にした。
得られたフィルムの厚みは100μm 、ヘイズ0.8%
であった。得られたSPS支持体の両面に実施例1と同
様にグロー放電で表面処理した後、下塗層を塗布した。
みを1050μm に調整し、横延伸倍率を3倍とし、制
限収縮を5%としたことの他は実施例1と同様にした。
得られたフィルムの厚みは100μm 、ヘイズ0.8%
であった。得られたSPS支持体の両面に実施例1と同
様にグロー放電で表面処理した後、下塗層を塗布した。
【0130】この支持体の一方の側に下記組成の導電層
及びバック層を塗布した。 <導電層> SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm ) 77 〃 化合物−11 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
及びバック層を塗布した。 <導電層> SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca**含有量3000ppm ) 77 〃 化合物−11 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【0131】 <バック層> ゼラチン(Ca**含有量30ppm ) 2.82g/m2 化合物−11 3mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径 3.4μm) 50 〃 化合物−12 40 〃 化合物−13 40 〃 化合物−14 80 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 化合物−15 5 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 7 〃 硫酸ナトリウム 50 〃 酢酸ナトリウム 85 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 150 〃
【0132】
【化17】
【0133】
【化18】
【0134】次いで、支持体の反対側の面に、下記組成
の乳剤層、保護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 <乳剤層> 乳剤の調製 I液 水 1000ml ゼラチン 20g 塩化ナトリウム 20g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 6mg II液 水 400ml 硝酸銀 100g III 液 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g ヘキサクロロイリジウム (III)酸カリウム (0.001%水溶液) 15ml ヘキサブロモロジウム (III)酸アンモニウム (0.001%水溶液) 1.5ml 38℃、pH=4.5に保たれたI液にII液と III液を
攪拌しながら同時に10分間にわたって加え、0.16
μmの微粒子を形成した。続いて下記IV液、V液を10
分間にわたって加えた。さらにヨウ化カリウム0.15
gを加え粒子形成を終了した。
の乳剤層、保護層下層、保護層上層を同時に塗布した。 <乳剤層> 乳剤の調製 I液 水 1000ml ゼラチン 20g 塩化ナトリウム 20g 1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 6mg II液 水 400ml 硝酸銀 100g III 液 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g ヘキサクロロイリジウム (III)酸カリウム (0.001%水溶液) 15ml ヘキサブロモロジウム (III)酸アンモニウム (0.001%水溶液) 1.5ml 38℃、pH=4.5に保たれたI液にII液と III液を
攪拌しながら同時に10分間にわたって加え、0.16
μmの微粒子を形成した。続いて下記IV液、V液を10
分間にわたって加えた。さらにヨウ化カリウム0.15
gを加え粒子形成を終了した。
【0135】 IV液 水 400ml 硝酸銀 100g V液 水 400ml 塩化ナトリウム 30.5g 臭化カリウム 14g K4 Fe(CN)6 1×10-5モル/モルAg その後常法にしたがって、フロキュレーション法によっ
て、水洗し、ゼラチン40gを加えた。
て、水洗し、ゼラチン40gを加えた。
【0136】この乳剤を、pH=5.3、pAg=7.
5に調整し、チオ硫酸ナトリウム5.2mg、塩化金酸1
0.0mgとN,N−ジメチルセレノ尿素を2.0mg加
え、ベンゼンスルホン酸ナトリウム8mg、ベンゼンスル
フィン酸ナトリウム2.0mgを加え、55℃で最適感度
になるように化学増感し、最終的に塩化銀80モル%を
含む、平均粒子径0.20μmのヨウ塩臭化銀立方体粒
子乳剤を調製した。次いで増感色素を5×10-4モル
/モルAg加えて、オルソ増感した。さらにカブリ防止
剤として、ハイドロキノン、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールをAg1モル当りそれぞれ2.5g、
50mg、コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックス
C、平均粒径0.015μm)をゼラチンに対し、30
重量%加え、可塑剤としてポリマーラテックス化合物例
P−8(平均粒径0.1μm)をゼラチンに対し、40
重量%、硬膜剤として、1,1′−ビス(ビニルスルホ
ニル)メタンを100mg/m2加えた。この塗布液をAg
3.3g/m2、ゼラチン1.5g/m2になる様に塗布し
た。
5に調整し、チオ硫酸ナトリウム5.2mg、塩化金酸1
0.0mgとN,N−ジメチルセレノ尿素を2.0mg加
え、ベンゼンスルホン酸ナトリウム8mg、ベンゼンスル
フィン酸ナトリウム2.0mgを加え、55℃で最適感度
になるように化学増感し、最終的に塩化銀80モル%を
含む、平均粒子径0.20μmのヨウ塩臭化銀立方体粒
子乳剤を調製した。次いで増感色素を5×10-4モル
/モルAg加えて、オルソ増感した。さらにカブリ防止
剤として、ハイドロキノン、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールをAg1モル当りそれぞれ2.5g、
50mg、コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックス
C、平均粒径0.015μm)をゼラチンに対し、30
重量%加え、可塑剤としてポリマーラテックス化合物例
P−8(平均粒径0.1μm)をゼラチンに対し、40
重量%、硬膜剤として、1,1′−ビス(ビニルスルホ
ニル)メタンを100mg/m2加えた。この塗布液をAg
3.3g/m2、ゼラチン1.5g/m2になる様に塗布し
た。
【0137】
【化19】
【0138】 <保護層下層処方> m2当り ゼラチン 0.5g ベンゼンスルホン酸ナトリウム 4mg 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 25mg ポリマーラテックス化合物例P−8(平均粒径 0.1μm) 125mg <保護層上層処方> m2当り ゼラチン 0.25g ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径 2.7μm) 40mg 化合物−16(滑り剤のゼラチン分散物) 30mg コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックスC) 30mg 化合物−17 5mg ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 22mg この試料の動摩擦係数はすべて0.22±0.03(2
5℃60RH、サファイヤ針φ=1mm、荷重100g、
スピード60cm/min )であった。
5℃60RH、サファイヤ針φ=1mm、荷重100g、
スピード60cm/min )であった。
【0139】
【化20】
【0140】この様にして得られた試料を塗布後10日
経時した後25℃60%RH条件下で裁断・加工し、ダ
イレクトスキャナーグラフSG−757(大日本スクリ
ーン社製)を用いて、グリッド状パターンの露光を1版
から4版まで連続して行ない、その後、自動現像機FG
−680AS(富士写真フイルム社製)を用いて現像処
理を行ない、グリッド状パターンのズレ幅を測定した結
果、1版から4版のズレ幅が12μm /61cm基長以下
で、見当合わせが非常に良好であった。なお、露光・現
像時の環境条件は25℃40%RHであった。そして現
像液及び定着液は富士写真フイルム社製SR−D1及び
SR−F1を用いて、現像条件38℃11秒で行なっ
た。
経時した後25℃60%RH条件下で裁断・加工し、ダ
イレクトスキャナーグラフSG−757(大日本スクリ
ーン社製)を用いて、グリッド状パターンの露光を1版
から4版まで連続して行ない、その後、自動現像機FG
−680AS(富士写真フイルム社製)を用いて現像処
理を行ない、グリッド状パターンのズレ幅を測定した結
果、1版から4版のズレ幅が12μm /61cm基長以下
で、見当合わせが非常に良好であった。なお、露光・現
像時の環境条件は25℃40%RHであった。そして現
像液及び定着液は富士写真フイルム社製SR−D1及び
SR−F1を用いて、現像条件38℃11秒で行なっ
た。
【0141】実施例6 予備成形体であるシートの厚みを1900μm に調整
し、横延伸倍率を3倍、制限収縮率を3%としたことの
他は、実施例1と同様にした。得られたフィルムの厚み
は180μm 、ヘイズ1.5%であった。得られたSP
S支持体の両面に実施例1と同様にグロー放電で表面処
理した後、下塗層を塗布した。この支持体の一方の側に
下記組成の非感光性層、乳剤層、保護層を同時に塗布し
た。 〈非感光性層〉 ゼラチン 0.8g/m2 化合物−A 2mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 15 〃 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 7 〃 1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール−2 15 〃 ポリマーラテックス化合物例P−8(粒径0.08μm) 600 〃
し、横延伸倍率を3倍、制限収縮率を3%としたことの
他は、実施例1と同様にした。得られたフィルムの厚み
は180μm 、ヘイズ1.5%であった。得られたSP
S支持体の両面に実施例1と同様にグロー放電で表面処
理した後、下塗層を塗布した。この支持体の一方の側に
下記組成の非感光性層、乳剤層、保護層を同時に塗布し
た。 〈非感光性層〉 ゼラチン 0.8g/m2 化合物−A 2mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 15 〃 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 7 〃 1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール−2 15 〃 ポリマーラテックス化合物例P−8(粒径0.08μm) 600 〃
【0142】
【化21】
【0143】〈乳剤層〉Ag 1モル当り3.5×10
-7モルのロジウムを含む、臭化銀30モル%、塩化銀7
0モル%のハロゲン化銀乳剤を当業界でよく知られた常
法で調製し、可溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え
た。この乳剤にAg 1モル当りチオ硫酸ナトリウム6
mg、塩化金酸8.5mg加え、60℃50分間の化学増感
を行った。得られた乳剤の平均粒子サイズは0.25μ
の立方体粒子で乳剤1Kg当りのAgは125g、ゼラチ
ンは53gであった。この乳剤にオルソ増感色素とし
て、1−(2−ヒドロキシエトキシエチル)−3−(ピ
リジン−2−イル)−5−〔(3−スルホブチル−5−
クロロ−2−ベンゾオキサゾリニデン)エチリデン〕−
2−チオヒダントインカリウム塩11mg/m2を加え、さ
らにα−リボ酸7mg/m2、ハイドロキノン27mg/m2、
化合物−3mg/m2、1−フェニル−5−メルカプト−
テトラゾール1mg/m2、化合物−1mg/m2、化合物−
6mg/m2、化合物−4mg/m2、化合物−2mg/
m2、安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a,7−テトラザインデン8mg/m2、硬膜剤とし
て、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール
−2 40mg/m2を加え、さらにエチルアクリレートラ
テックス(平均粒子サイズ0.05μm)900mg/
m2、増粘剤としてポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩
40mg/m2を加えた。この塗布液を銀量3.5g/m2、
ゼラチン1.5g/m2になる様に塗布した。
-7モルのロジウムを含む、臭化銀30モル%、塩化銀7
0モル%のハロゲン化銀乳剤を当業界でよく知られた常
法で調製し、可溶性塩類を除去した後、ゼラチンを加え
た。この乳剤にAg 1モル当りチオ硫酸ナトリウム6
mg、塩化金酸8.5mg加え、60℃50分間の化学増感
を行った。得られた乳剤の平均粒子サイズは0.25μ
の立方体粒子で乳剤1Kg当りのAgは125g、ゼラチ
ンは53gであった。この乳剤にオルソ増感色素とし
て、1−(2−ヒドロキシエトキシエチル)−3−(ピ
リジン−2−イル)−5−〔(3−スルホブチル−5−
クロロ−2−ベンゾオキサゾリニデン)エチリデン〕−
2−チオヒダントインカリウム塩11mg/m2を加え、さ
らにα−リボ酸7mg/m2、ハイドロキノン27mg/m2、
化合物−3mg/m2、1−フェニル−5−メルカプト−
テトラゾール1mg/m2、化合物−1mg/m2、化合物−
6mg/m2、化合物−4mg/m2、化合物−2mg/
m2、安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a,7−テトラザインデン8mg/m2、硬膜剤とし
て、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール
−2 40mg/m2を加え、さらにエチルアクリレートラ
テックス(平均粒子サイズ0.05μm)900mg/
m2、増粘剤としてポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩
40mg/m2を加えた。この塗布液を銀量3.5g/m2、
ゼラチン1.5g/m2になる様に塗布した。
【0144】
【化22】
【0145】 〈保護層〉 ゼラチン 0.7g/m2 ポリメチルメタアクリレート微粒子(平均粒径2.5μm) 40mg/m2 化合物−B 50 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 8 〃 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 18 〃
【0146】
【化23】
【0147】次いで、その反対側に下記処方の導電層及
びバック層を同時に塗布した。 〈導電層〉 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 100mg/m2 化合物−A 1 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 11 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10 〃 SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm) 200 〃
びバック層を同時に塗布した。 〈導電層〉 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 100mg/m2 化合物−A 1 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 11 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10 〃 SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm) 200 〃
【0148】 〈バック層〉 ゼラチン(Ca++含有量30ppm ) 1.5g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μm) 20mg/m2 化合物−A 4 〃 染料− 60 〃 〃− 40 〃 〃− 32 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 80 〃 酢酸 7 〃 硫酸ナトリウム 200 〃 化合物−C 8 〃 化合物−D 9 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 16 〃 1,3−ビス(ビニルスルホニル)−プロパノール−2 45 〃
【0149】
【化24】
【0150】
【化25】
【0151】得られた試料を25℃60%RHの雰囲気
下で裁断・加工し、レーザーフォトプロッター:ラスタ
ーグラフRG−5000(大日本スクリーン社製)を用
いて、グリッド状パターンの露光を1版から4版まで連
続しておこない、その後、自動現像機FG−660(富
士写真フイルム社製)を用いて、現像処理を行ない、グ
リッド状パターンのズレ幅を測定した。その結果、1版
から4版のズレ幅が何れも10μm /61cm基長以下
で、見当合わせが良好であった。なお、露光・現像時の
環境条件は25℃40%RHであった。そして、現像液
及び定着液は富士写真フイルム社製HS−5及びGR−
F1を用いて、現像条件は32℃60秒、乾燥温度50
℃で現像処理を行なった。
下で裁断・加工し、レーザーフォトプロッター:ラスタ
ーグラフRG−5000(大日本スクリーン社製)を用
いて、グリッド状パターンの露光を1版から4版まで連
続しておこない、その後、自動現像機FG−660(富
士写真フイルム社製)を用いて、現像処理を行ない、グ
リッド状パターンのズレ幅を測定した。その結果、1版
から4版のズレ幅が何れも10μm /61cm基長以下
で、見当合わせが良好であった。なお、露光・現像時の
環境条件は25℃40%RHであった。そして、現像液
及び定着液は富士写真フイルム社製HS−5及びGR−
F1を用いて、現像条件は32℃60秒、乾燥温度50
℃で現像処理を行なった。
【0152】実施例7 両面に下塗層を施した実施例1のSPS支持体の一方の
側に下記組成のUL層、EM層、PC層、OC層を同時
塗布した。 <UL層> ゼラチン 0.5 g/m2 ポリマーラテックス化合物例P−8 0.15 〃
側に下記組成のUL層、EM層、PC層、OC層を同時
塗布した。 <UL層> ゼラチン 0.5 g/m2 ポリマーラテックス化合物例P−8 0.15 〃
【0153】<EM層> (乳剤の調製)硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナ
トリウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当す
るK3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2
Rh(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナ
トリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチ
オンを含有するゼラチン水溶液に攪拌しながら、ダブル
ジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm
、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製し
た。
トリウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当す
るK3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2
Rh(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナ
トリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチ
オンを含有するゼラチン水溶液に攪拌しながら、ダブル
ジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm
、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製し
た。
【0154】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、p
H6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり1mg
の下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウ
ムおよび4mgの塩化金酸を加えて60℃で最高感度にな
るように化学増感した。その後、安定剤として4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3,a,7−テトラザイ
ンデン150mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル
100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サ
イズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀
立方体粒子であった。(変動係数10%)
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、p
H6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり1mg
の下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウ
ムおよび4mgの塩化金酸を加えて60℃で最高感度にな
るように化学増感した。その後、安定剤として4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3,a,7−テトラザイ
ンデン150mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル
100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サ
イズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀
立方体粒子であった。(変動係数10%)
【0155】上記乳剤に、増感色素として下記化合物
(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モル、(S−
2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モルあたり3×
10-4モルの下記(a)で示されるメルカプト化合物、
4×10-4モルの(b)で示されるメルカプト化合物、
4×10-4モルの(c)で示されるトリアジン化合物、
2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリ
ン、界面活性化合物(W−1)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記化合物(A−1)を4×10-4モルを
添加した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレ
イル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2塗
布されるように添加した。次に、ヒドラジン誘導体(H
−1)を5×10-4モル、(d)で示されるラテックス
を200mg/m2、ポリマーラテックス化合物例P−8を
400mg/m2、平均粒径0.02μm のコロイダルシリ
カを200mg/m2、さらに硬膜剤として1,1′−ビス
(ヒニルスルホニル)メタンを240mg/m2を加えた。
溶液のpHは酢酸を用いて5.65に調製した。それら
を塗布銀量3.5g/m2、ゼラチン1.3g/m2になる
ように塗布した。
(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モル、(S−
2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モルあたり3×
10-4モルの下記(a)で示されるメルカプト化合物、
4×10-4モルの(b)で示されるメルカプト化合物、
4×10-4モルの(c)で示されるトリアジン化合物、
2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリ
ン、界面活性化合物(W−1)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記化合物(A−1)を4×10-4モルを
添加した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレ
イル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2塗
布されるように添加した。次に、ヒドラジン誘導体(H
−1)を5×10-4モル、(d)で示されるラテックス
を200mg/m2、ポリマーラテックス化合物例P−8を
400mg/m2、平均粒径0.02μm のコロイダルシリ
カを200mg/m2、さらに硬膜剤として1,1′−ビス
(ヒニルスルホニル)メタンを240mg/m2を加えた。
溶液のpHは酢酸を用いて5.65に調製した。それら
を塗布銀量3.5g/m2、ゼラチン1.3g/m2になる
ように塗布した。
【0156】
【化26】
【0157】
【化27】
【0158】(PC層)ゼラチン水溶液にゼラチンに対
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、エ
チルスルホン酸ナトリウムを5mg/m2、1,5−ジヒド
ロキシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布され
るように添加し、ゼラチン0.3g/m2になるように塗
布した。
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、エ
チルスルホン酸ナトリウムを5mg/m2、1,5−ジヒド
ロキシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布され
るように添加し、ゼラチン0.3g/m2になるように塗
布した。
【0159】(OC層)ゼラチン0.3g/m2、平均粒
子サイズ約3.5μm の不定形なSiO2 マット剤40
mg/m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリル
アミド100mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2およ
び塗布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界
面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布した。
子サイズ約3.5μm の不定形なSiO2 マット剤40
mg/m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリル
アミド100mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2およ
び塗布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界
面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布した。
【0160】
【化28】
【0161】次いで、支持体の反対側に下記組成の導電
層、バック層及びバック保護層を同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 プロキセル 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
層、バック層及びバック保護層を同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 プロキセル 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【0162】 〔バック層処方〕 ゼラチン 2.4g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 硬膜剤 1,2−ビス(ヒニルスルホニルアセトアミド)エタン 125 〃 染料 染料〔a〕、染料〔b〕、染料〔c〕の混合物 染料〔a〕 70mg/m2 染料〔b〕 70 〃 染料〔c〕 90 〃
【0163】
【化29】
【0164】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15 〃 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15 〃 酢酸ナトリウム 40 〃
【0165】得られた試料を実施例5と同様に裁断・加
工し、実施例5と同様に見当合わせの評価を行なった。
その結果、1版から4版のズレ幅は10μm /61cm基
長以下で、見当合わせが良好であった。なお、現像液は
下記組成の現像液(II)を、定着液は実施例1の定着液
(I)を用いて、自動現像機FG−680AS(富士写
真フイルム社製)を用いて、現像条件は35℃30″、
乾燥温度50℃で現像処理を行なった。
工し、実施例5と同様に見当合わせの評価を行なった。
その結果、1版から4版のズレ幅は10μm /61cm基
長以下で、見当合わせが良好であった。なお、現像液は
下記組成の現像液(II)を、定着液は実施例1の定着液
(I)を用いて、自動現像機FG−680AS(富士写
真フイルム社製)を用いて、現像条件は35℃30″、
乾燥温度50℃で現像処理を行なった。
【0166】 現像液(II) 水酸化カリウム 35.0g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g 炭酸カリウム 12.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 40.0g 臭化カリウム 3.0g ハイドロキノン 25.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3− ピラゾリドン 0.45g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ− 4−(1H)−キナゾリノン 0.04g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸 ナトリウム 0.15g エリソルビン酸ナトリウム 3.0g 水酸化カリウムを加えて、水を加えて1リットルとし pHを10.5に合わせる。
【0167】実施例8 両面に下塗層を塗布した実施例1のSPS支持体の一方
の側に下記組成の導電層、バック層及びバック保護層を
同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 プロキセル 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
の側に下記組成の導電層、バック層及びバック保護層を
同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 プロキセル 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【0168】 <バック層> ゼラチン 2.0g/m2 化合物−(1) 3mg/m2 染料−a 35 〃 染料−b 95 〃 染料−c 70 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 25 〃 ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム 35 〃 酢酸 10 〃 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 130 〃 <バック保護層> ゼラチン 0.8g/m2 化合物−(1) 1mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μm) 35 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 化合物−(2) 2 〃 酢酸ナトリウム 30 〃
【0169】
【化30】
【0170】次いで、支持体の反対側の面に下記組成の
乳剤層及び保護層を同時に塗布した。 <乳剤層>0.13Mの硝酸銀水溶液と0.04Mの臭
化カリウムと0.09Mの塩化ナトリウム、さらにヘキ
サクロロロジウム(III) 酸アンモニウムを含むハロゲン
塩水溶液を、塩化ナトリウムと1,8−ジヒドロキシ−
3,6−ジチアオクタンを含有するゼラチン水溶液に、
攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法により
添加し、平均粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率7
0モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を行な
った。続いて同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と0.2
6Mの臭化カリウムと0.65Mの塩化ナトリウムさら
にヘキサクロロイリジウム(III) 酸カリウムを含むハロ
ゲン塩水溶液をダブルジェット法により、20分間かけ
添加した。その後常法に従ってフロキュレーション法に
より水洗し、ゼラチンを加え、pH6.5、pAg7.
5に調整し、さらに銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム
5mg及び塩化金酸8mgを加え、60℃で75分間加熱
し、化学増感処理を施し、安定剤として、1,3,3
a,7−テトラザインデン150mgを加えた。得られた
粒子は銀1モルあたりRhを1.0×10-7モル、Ir
を6.0×10-7モル含有する。平均粒子サイズ0.2
8μm(変動係数10%)、塩化銀含量70モル%の塩
臭化銀立方体粒子を得た。
乳剤層及び保護層を同時に塗布した。 <乳剤層>0.13Mの硝酸銀水溶液と0.04Mの臭
化カリウムと0.09Mの塩化ナトリウム、さらにヘキ
サクロロロジウム(III) 酸アンモニウムを含むハロゲン
塩水溶液を、塩化ナトリウムと1,8−ジヒドロキシ−
3,6−ジチアオクタンを含有するゼラチン水溶液に、
攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法により
添加し、平均粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率7
0モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を行な
った。続いて同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と0.2
6Mの臭化カリウムと0.65Mの塩化ナトリウムさら
にヘキサクロロイリジウム(III) 酸カリウムを含むハロ
ゲン塩水溶液をダブルジェット法により、20分間かけ
添加した。その後常法に従ってフロキュレーション法に
より水洗し、ゼラチンを加え、pH6.5、pAg7.
5に調整し、さらに銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム
5mg及び塩化金酸8mgを加え、60℃で75分間加熱
し、化学増感処理を施し、安定剤として、1,3,3
a,7−テトラザインデン150mgを加えた。得られた
粒子は銀1モルあたりRhを1.0×10-7モル、Ir
を6.0×10-7モル含有する。平均粒子サイズ0.2
8μm(変動係数10%)、塩化銀含量70モル%の塩
臭化銀立方体粒子を得た。
【0171】この乳剤1kgに赤外増感色素の0.05
%溶液を60ml加え、強色増感剤及び安定化剤として、
4,4′−ビス−(4,6−ジナフトキシ−ピリミジン
−2−イルアミノ)−スチルベンジスルホン酸ジナトリ
ウム塩の0.5%メタノール溶液70mlと2,5−ジメ
チル−3−アリル−ベンゾチアゾールヨード塩の0.5
%メタノール溶液90mlを加えた。さらに、ハイドロキ
ノン100mg/m2、可塑剤として、ポリマーラテックス
化合物例P−8(粒径0.08μm)をゼラチンに対
し、25重量%、硬膜剤として1,1′−ビス(ビニル
スルホニル)メタンを78mg/m2添加し、銀3.7g/
m2、ゼラチン1.8g/m2になる様に塗布した。
%溶液を60ml加え、強色増感剤及び安定化剤として、
4,4′−ビス−(4,6−ジナフトキシ−ピリミジン
−2−イルアミノ)−スチルベンジスルホン酸ジナトリ
ウム塩の0.5%メタノール溶液70mlと2,5−ジメ
チル−3−アリル−ベンゾチアゾールヨード塩の0.5
%メタノール溶液90mlを加えた。さらに、ハイドロキ
ノン100mg/m2、可塑剤として、ポリマーラテックス
化合物例P−8(粒径0.08μm)をゼラチンに対
し、25重量%、硬膜剤として1,1′−ビス(ビニル
スルホニル)メタンを78mg/m2添加し、銀3.7g/
m2、ゼラチン1.8g/m2になる様に塗布した。
【0172】
【化31】
【0173】 <保護層> ゼラチン 0.7g/m2 化合物−(3) 2mg/m2 SiO2 マット剤(平均粒径3.6μ) 40 〃 化合物−(4) 30 〃 染料−C 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30 〃 コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックスC) 10 〃 化合物−(5) 2 〃 ハイドロキノン 45 〃 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 6 〃 ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 4 〃
【0174】
【化32】
【0175】得られた試料を実施例5と同様に裁断・加
工し、富士写真フイルム社製カラースキャナー「Lux Sc
an 4500 」を用いて、グリッド状パターンの露光を1版
から4版まで、連続しておこない、その後、自動現像機
FG−680AG(富士写真フイルム社製)を用いて、
現像処理を行ない、グリッド状パターンのズレ幅を測定
した。その結果、1版から4版のズレ幅は10μm /6
1cm基長以内で、見当合わせが良好であった。なお、露
光・現像時の環境条件は25℃30%RHであった。そ
して、現像液及び定着液は実施例7の現像液(II)及び
実施例1の定着液(I)を用いて、現像条件は38℃2
0秒、乾燥温度50℃でおこなった。
工し、富士写真フイルム社製カラースキャナー「Lux Sc
an 4500 」を用いて、グリッド状パターンの露光を1版
から4版まで、連続しておこない、その後、自動現像機
FG−680AG(富士写真フイルム社製)を用いて、
現像処理を行ない、グリッド状パターンのズレ幅を測定
した。その結果、1版から4版のズレ幅は10μm /6
1cm基長以内で、見当合わせが良好であった。なお、露
光・現像時の環境条件は25℃30%RHであった。そ
して、現像液及び定着液は実施例7の現像液(II)及び
実施例1の定着液(I)を用いて、現像条件は38℃2
0秒、乾燥温度50℃でおこなった。
【0176】実施例9 実施例5の乳剤の増感色素を増感色素に変えて、Ag
1モル当り100mg添加し、ついで、強色増感剤及び安
定剤として、4,4′−ビス(4,6−ジナフトキシ−
ピリミジン−2−イルアミノ)−スチルベンジスルホン
酸・ジナトリウムをAg1モル当り300mgを加え、パ
ンクロ増感した。さらに、カブリ防止剤、コロイダルシ
リカ、可塑剤、硬膜剤は実施例と同様に加えて、乳剤層
の塗布液を調製した。この液を実施例5の乳剤層に変え
て、Ag3.4g/m2、ゼラチン1.4g/m2になる様
に塗布し、試料を作成した。
1モル当り100mg添加し、ついで、強色増感剤及び安
定剤として、4,4′−ビス(4,6−ジナフトキシ−
ピリミジン−2−イルアミノ)−スチルベンジスルホン
酸・ジナトリウムをAg1モル当り300mgを加え、パ
ンクロ増感した。さらに、カブリ防止剤、コロイダルシ
リカ、可塑剤、硬膜剤は実施例と同様に加えて、乳剤層
の塗布液を調製した。この液を実施例5の乳剤層に変え
て、Ag3.4g/m2、ゼラチン1.4g/m2になる様
に塗布し、試料を作成した。
【0177】
【化33】
【0178】得られた試料を実施例5と同様に裁断・加
工し、実施例5のスキャナーをダイレクトスキャナーグ
ラフSG−737(大日本スクリーン社製)に変えて、
実施例5と同様に見当合わせの評価を行なった結果、1
版から4版のズレ幅が10μm /61cm基長以下で、見
当合わせが非常に良好であった。
工し、実施例5のスキャナーをダイレクトスキャナーグ
ラフSG−737(大日本スクリーン社製)に変えて、
実施例5と同様に見当合わせの評価を行なった結果、1
版から4版のズレ幅が10μm /61cm基長以下で、見
当合わせが非常に良好であった。
【0179】実施例10 実施例4の試料番号−32の導電層に変えて下記組成の
導電層を塗布した後、試料番号−32のバック層及びバ
ック保護層を塗布し、次いで支持体の反対側に乳剤層第
1層及び第2層、保護層下層及び上層を試料番号−32
と同様の組成で塗布した。 <導電層> 導電性高分子化合物例E−3 300mg/m2 化合物− 30 〃 化合物− 3 〃 導電層の表面抵抗率は25℃30%RHで1.4×10
11Ωであった。
導電層を塗布した後、試料番号−32のバック層及びバ
ック保護層を塗布し、次いで支持体の反対側に乳剤層第
1層及び第2層、保護層下層及び上層を試料番号−32
と同様の組成で塗布した。 <導電層> 導電性高分子化合物例E−3 300mg/m2 化合物− 30 〃 化合物− 3 〃 導電層の表面抵抗率は25℃30%RHで1.4×10
11Ωであった。
【0180】
【化34】
【0181】得られた試料について、実施例1と同様に
「見当合わせ」の評価を行なった。その結果、グリッド
状パターンのズレ幅は12μm /61cm基長で見当合わ
せが非常に良好であった。
「見当合わせ」の評価を行なった。その結果、グリッド
状パターンのズレ幅は12μm /61cm基長で見当合わ
せが非常に良好であった。
【0182】実施例11 両面に下塗層を施した実施例1のSPS支持体の一方の
側に下記組成の導電層、バック層及びバック保護層を塗
布した。 (導電層) SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 プロキセル 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
側に下記組成の導電層、バック層及びバック保護層を塗
布した。 (導電層) SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 プロキセル 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【0183】 (バック層) ゼラチン 2.0g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 40 〃 ゼラチン硬化剤 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセト アミド)エタン 200 〃 染料(A) 20mg/m2 染料(B) 50mg/m2 染料(C) 20mg/m2 染料(D) 30mg/m2 プロキセル 10mg/m2
【0184】
【化35】
【0185】 (バック保護層) ゼラチン 0.7g/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート平均粒径 2.5μm) 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 60mg/m2 プロキセル 1mg/m2
【0186】次いで、その反対側に下記処方の最下層、
乳剤層第1層、中間層、乳剤層第2層、保護層の順に同
時塗布した。 <最下層> ゼラチン 0.2g/m2 ポリマーラテックス化合物例P−8(粒径0.08μ) 0.2g/m2 ビスビニルスルホニルメタン 0.04g/m2 <乳剤層第1層> (ヒドラジン含有層乳剤および塗布液の調製)硝酸銀6
3gを溶解した硝酸銀水溶液250ccと、乳剤全体の銀
1モル当たり1×10-7モルに相当するK2 Rh(H2
O)Cl5 および1×10-7モルに相当するK3 IrC
l6 を含む臭化カリウム20gと塩化ナトリウム14g
を溶解したハロゲン塩水溶液250ccを、塩化ナトリウ
ム(0.5%)と1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ンチオン(0.002%)とクエン酸(0.05%)を
含有する2%ゼラチン水溶液に攪拌しながら38℃で1
2分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ
0.20μm、塩化銀含量55モル%の塩臭化銀粒子を
得ることにより核形成を行った。続いて、硝酸銀107
gを溶解した硝酸銀水溶液450ccと、臭化カリウム2
8gと塩化ナトリウム28gを溶解したハロゲン塩水溶
液450ccを、ダブルジェット法により20分間かけて
添加し、粒子形成を行った。
乳剤層第1層、中間層、乳剤層第2層、保護層の順に同
時塗布した。 <最下層> ゼラチン 0.2g/m2 ポリマーラテックス化合物例P−8(粒径0.08μ) 0.2g/m2 ビスビニルスルホニルメタン 0.04g/m2 <乳剤層第1層> (ヒドラジン含有層乳剤および塗布液の調製)硝酸銀6
3gを溶解した硝酸銀水溶液250ccと、乳剤全体の銀
1モル当たり1×10-7モルに相当するK2 Rh(H2
O)Cl5 および1×10-7モルに相当するK3 IrC
l6 を含む臭化カリウム20gと塩化ナトリウム14g
を溶解したハロゲン塩水溶液250ccを、塩化ナトリウ
ム(0.5%)と1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ンチオン(0.002%)とクエン酸(0.05%)を
含有する2%ゼラチン水溶液に攪拌しながら38℃で1
2分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ
0.20μm、塩化銀含量55モル%の塩臭化銀粒子を
得ることにより核形成を行った。続いて、硝酸銀107
gを溶解した硝酸銀水溶液450ccと、臭化カリウム2
8gと塩化ナトリウム28gを溶解したハロゲン塩水溶
液450ccを、ダブルジェット法により20分間かけて
添加し、粒子形成を行った。
【0187】その後、銀1モルあたり1×10-3モルの
KI溶液を加えてコンバージョンを行い、常法に従って
フロキュレーション法により水洗した。そして、銀1モ
ルあたりゼラチン40gを加え、pH6.0、pAg
7.5に調整した後、さらに銀1モルあたりベンゼンチ
オスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸ナ
トリウム2mg、チオ硫酸ナトリウム5mgおよび塩化金酸
8mgを加え、60℃で70分間加熱し化学増感を施した
後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデン150mgおよび防腐剤
としてプロキセル100mgを加えた。得られた粒子は平
均粒子サイズ0.27μm、塩化銀含有率60モル%の
沃塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10%)
KI溶液を加えてコンバージョンを行い、常法に従って
フロキュレーション法により水洗した。そして、銀1モ
ルあたりゼラチン40gを加え、pH6.0、pAg
7.5に調整した後、さらに銀1モルあたりベンゼンチ
オスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸ナ
トリウム2mg、チオ硫酸ナトリウム5mgおよび塩化金酸
8mgを加え、60℃で70分間加熱し化学増感を施した
後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデン150mgおよび防腐剤
としてプロキセル100mgを加えた。得られた粒子は平
均粒子サイズ0.27μm、塩化銀含有率60モル%の
沃塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10%)
【0188】この乳剤に、それぞれ増感色素として銀1
モルあたり3×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブ
チル)−5−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕
エチリデン−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2
−フェニル)−2−チオヒダントインカリウム塩、およ
び3×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブチル)−
2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデン−1−ヒド
ロキシエトキシエチル−3−(2−フェニル)−2−チ
オヒダントインカリウム塩を加え、さらに6×10-4モ
ルの下記構造式(E)で表される短波シアニン色素、3
×10-4モルの1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール、6×10-4モルの下記構造式(F)で表されるメ
ルカプト化合物、および下記構造式(G)で表されるメ
ルカプト化合物、3×10-4モルの下記構造式(H)で
表されるトリアジン化合物、3×10-4モルの下記構造
式(I)で表される化合物、6×10-4モルの5−クロ
ル−8−ヒドロキシキノリン、そしてヒドラジン化合物
として1×10-3モルの下記構造式(J)で表される化
合物および1×10-3モルの下記構造式(K)で表され
る化合物を添加し、さらに、N−オレイル−N−メチル
タウリンナトリウム塩を30mg/m2、コロイダルシリカ
(日産化学製スノーテックスC)を500mg/m2、ポリ
マーラテックス化合物例P−8を800mg/m2、塗布さ
れるように加えヒドラジン含有層塗布液を調製した。塗
布液のpHは6.0に調整した。この塗布液をAg3.
5g/m2、ゼラチン1.7g/m2になる様に塗布した。
モルあたり3×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブ
チル)−5−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕
エチリデン−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2
−フェニル)−2−チオヒダントインカリウム塩、およ
び3×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブチル)−
2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデン−1−ヒド
ロキシエトキシエチル−3−(2−フェニル)−2−チ
オヒダントインカリウム塩を加え、さらに6×10-4モ
ルの下記構造式(E)で表される短波シアニン色素、3
×10-4モルの1−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール、6×10-4モルの下記構造式(F)で表されるメ
ルカプト化合物、および下記構造式(G)で表されるメ
ルカプト化合物、3×10-4モルの下記構造式(H)で
表されるトリアジン化合物、3×10-4モルの下記構造
式(I)で表される化合物、6×10-4モルの5−クロ
ル−8−ヒドロキシキノリン、そしてヒドラジン化合物
として1×10-3モルの下記構造式(J)で表される化
合物および1×10-3モルの下記構造式(K)で表され
る化合物を添加し、さらに、N−オレイル−N−メチル
タウリンナトリウム塩を30mg/m2、コロイダルシリカ
(日産化学製スノーテックスC)を500mg/m2、ポリ
マーラテックス化合物例P−8を800mg/m2、塗布さ
れるように加えヒドラジン含有層塗布液を調製した。塗
布液のpHは6.0に調整した。この塗布液をAg3.
5g/m2、ゼラチン1.7g/m2になる様に塗布した。
【0189】
【化36】
【0190】
【化37】
【0191】 <中間層> ゼラチン 0.7g/m2 プロキセル 3mg/m2 エタンチオスルホン酸ナトリウム 5 〃 染料(L) 100 〃 ハイドロキノン 100 〃 ポリマーラテックス化合物例P−8(粒径0.08μ) 600 〃
【0192】
【化38】
【0193】<第2乳剤層> (レドックス化合物含有層乳剤および塗布液の調製)硝
酸銀170gを溶解した硝酸銀水溶液700ccと、銀1
モルあたり3×10-7モルに相当する(NH4 )3 Rh
Cl6 を含有し、臭化カリウム36gと塩化ナトリウム
47gを溶解したハロゲン塩水溶液700ccを、塩化ナ
トリウム(0.5%)と1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジンチオン(0.002%)を含有する2%ゼラチ
ン水溶液に攪拌しながら45℃で30分間ダブルジェッ
ト法により添加し、平均粒子サイズ0.30μm、塩化
銀含量70モル%の塩臭化銀粒子を得た。その後、銀1
モルあたり1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバー
ジョンを行い、常法に従ってフロキュレーション法によ
り水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加え、pH
6.0、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあたり
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスル
フィン酸ナトリウム2mg、塩化金酸8mgおよびチオ硫酸
ナトリウム5mgを加え、60℃で60分間加熱し化学増
感を施した後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデン350mgおよ
び防腐剤としてプロキセル100mgを加えた。得られた
粒子は平均粒子サイズ0.30μm、塩化銀含有率70
モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数9
%)
酸銀170gを溶解した硝酸銀水溶液700ccと、銀1
モルあたり3×10-7モルに相当する(NH4 )3 Rh
Cl6 を含有し、臭化カリウム36gと塩化ナトリウム
47gを溶解したハロゲン塩水溶液700ccを、塩化ナ
トリウム(0.5%)と1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジンチオン(0.002%)を含有する2%ゼラチ
ン水溶液に攪拌しながら45℃で30分間ダブルジェッ
ト法により添加し、平均粒子サイズ0.30μm、塩化
銀含量70モル%の塩臭化銀粒子を得た。その後、銀1
モルあたり1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバー
ジョンを行い、常法に従ってフロキュレーション法によ
り水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加え、pH
6.0、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあたり
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスル
フィン酸ナトリウム2mg、塩化金酸8mgおよびチオ硫酸
ナトリウム5mgを加え、60℃で60分間加熱し化学増
感を施した後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデン350mgおよ
び防腐剤としてプロキセル100mgを加えた。得られた
粒子は平均粒子サイズ0.30μm、塩化銀含有率70
モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数9
%)
【0194】こうして得られた乳剤に、それぞれ増感色
素としてレドックス化合物含有層乳剤の銀1モルあたり
5×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブチル)−5
−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデン
−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−フェニ
ル)−2−チオヒダントインカリウム塩、および6×1
0-4モルのヒドラジン含有層塗布液に添加した構造式
(F)で表されるメルカプト化合物、3×10-4モルの
構造式(H)で表されるトリアジン化合物、6×10-4
モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリン、さらに下
記構造式(M)で表される染料を10mg/m2、下記構造
式(N)で表されるレドックス化合物を60mg/m2、ポ
リマーラテックス化合物例P−8(300mg/m2)硬膜
剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミ
ド)エタン(30mg/m2)を添加した。この塗布液をA
g0.3g/m2、ゼラチン0.3g/m2になる様に塗布
した。
素としてレドックス化合物含有層乳剤の銀1モルあたり
5×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブチル)−5
−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデン
−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−フェニ
ル)−2−チオヒダントインカリウム塩、および6×1
0-4モルのヒドラジン含有層塗布液に添加した構造式
(F)で表されるメルカプト化合物、3×10-4モルの
構造式(H)で表されるトリアジン化合物、6×10-4
モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリン、さらに下
記構造式(M)で表される染料を10mg/m2、下記構造
式(N)で表されるレドックス化合物を60mg/m2、ポ
リマーラテックス化合物例P−8(300mg/m2)硬膜
剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミ
ド)エタン(30mg/m2)を添加した。この塗布液をA
g0.3g/m2、ゼラチン0.3g/m2になる様に塗布
した。
【0195】
【化39】
【0196】 <保護層> ゼラチン 0.15g/m2 マット剤(SiO2 平均粒径2.5μm ) 50mg/m2 コロイダルシリカ(日産化学社製スノーテックスC) 100 〃 流動パラフィン 50 〃 フッ素界面活性剤(O) 5 〃 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 20 〃
【0197】
【化40】
【0198】得られた試料を実施例1と同様にして、
「見当合わせ」の評価を行なった。但し、プリンターは
タングステン光源の大日本スクリーン社製P−6Dを用
いて露光し、現像条件は34℃30秒で現像処理した。
その結果、グリッド状パターンのズレ幅は14μm /6
1cm基長で見当合わせが非常に良好であった。
「見当合わせ」の評価を行なった。但し、プリンターは
タングステン光源の大日本スクリーン社製P−6Dを用
いて露光し、現像条件は34℃30秒で現像処理した。
その結果、グリッド状パターンのズレ幅は14μm /6
1cm基長で見当合わせが非常に良好であった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年5月13日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0116
【補正方法】変更
【補正内容】
【0116】得られた試料について、下記の方法による
「見当合わせ」の評価を行なった。 「見当合わせ」グリッド状パターンを焼込んだネガ原稿
フィルム(サイズ26cm×61cm)と試料をピンバーを
用いて乳剤面同志を密着させ、露光・現像処理し、ポジ
原稿フィルムを作製した。次に上記と同じネガ原稿フィ
ルムをスペーサー(ポリエチレンテレフタレートフィル
ム100μm 厚)を介して市販のコンタクトフィルム
〔フジリスコンタクトフィルムKU−H100フィルム
(富士写真フイルム(株))製〕と、上記と同じピンバ
ーを用いて密着させ露光した。さらに、この露光された
KU−H100フィルムとポジ原稿フィルムのバック面
を上記と同じピンバーを用いて密着して露光した。その
後KU−H100フィルムを現像処理し、グリッド状パ
ターンのズレ幅を測定した。ズレ幅が小さいほど見当合
わせが良いことを示す。なお、この評価は下記の条件の
もとに実施した。 プリンター:P−627FM(大日本スクリーン社製) 自動現像機:FG−680AG(富士写真フイルム社
製) 処理条件 :現像液 :下記現像液(I)、38℃2
0″ 定着液 :下記定着液(I) 乾燥温度:50℃ 環境条件 :25℃30%RH 原稿フィルム、試料フィルム及びKU−H100は25
℃30%RHで3時間以上シーズニングしてから用い
た。
「見当合わせ」の評価を行なった。 「見当合わせ」グリッド状パターンを焼込んだネガ原稿
フィルム(サイズ26cm×61cm)と試料をピンバーを
用いて乳剤面同志を密着させ、露光・現像処理し、ポジ
原稿フィルムを作製した。次に上記と同じネガ原稿フィ
ルムをスペーサー(ポリエチレンテレフタレートフィル
ム100μm 厚)を介して市販のコンタクトフィルム
〔フジリスコンタクトフィルムKU−H100フィルム
(富士写真フイルム(株))製〕と、上記と同じピンバ
ーを用いて密着させ露光した。さらに、この露光された
KU−H100フィルムとポジ原稿フィルムのバック面
を上記と同じピンバーを用いて密着して露光した。その
後KU−H100フィルムを現像処理し、グリッド状パ
ターンのズレ幅を測定した。ズレ幅が小さいほど見当合
わせが良いことを示す。なお、この評価は下記の条件の
もとに実施した。 プリンター:P−627FM(大日本スクリーン社製) 自動現像機:FG−680AG(富士写真フイルム社
製) 処理条件 :現像液 :下記現像液(I)、38℃2
0″ 定着液 :下記定着液(I) 乾燥温度:50℃ 環境条件 :25℃30%RH 原稿フィルム、試料フィルム及びKU−H100は25
℃30%RHで3時間以上シーズニングしてから用い
た。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0118
【補正方法】変更
【補正内容】
【0118】 <硬膜定着液(I)> チオ硫酸アンモニウム 359.1g エチレンジアミン四酢酸2Na2水塩 2.26g チオ硫酸ナトリウム5水塩 32.8g 亜硫酸ナトリウム 64.8g NaOH(純分で) 37.2g 氷酢酸 87.3g 酒石酸 8.76g グルコン酸ナトリウム 6.6g 硫酸アルミニウム 25.3g pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.85g 水を加えて 3リットル
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0154
【補正方法】変更
【補正内容】
【0154】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、p
H6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり1mg
の下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウ
ムおよび4mgの塩化金酸を加えて60℃で最高感度にな
るように化学増感した。その後、安定剤として4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3,a,7−テトラザイ
ンデン150mgを加え、さらに防腐剤として実施例−6
の化合物A100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ
平均粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%
の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10%)
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、p
H6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり1mg
の下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウ
ムおよび4mgの塩化金酸を加えて60℃で最高感度にな
るように化学増感した。その後、安定剤として4−ヒド
ロキシ−6−メチル−1,3,3,a,7−テトラザイ
ンデン150mgを加え、さらに防腐剤として実施例−6
の化合物A100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ
平均粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%
の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10%)
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0156
【補正方法】変更
【補正内容】
【0156】
【化26】
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0161
【補正方法】変更
【補正内容】
【0161】次いで、支持体の反対側に下記組成の導電
層、バック層及びバック保護層を同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 実施例−6の化合物A 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
層、バック層及びバック保護層を同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 実施例−6の化合物A 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0172
【補正方法】変更
【補正内容】
【0172】
【化31】
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0177
【補正方法】変更
【補正内容】
【0177】
【化33】
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0182
【補正方法】変更
【補正内容】
【0182】実施例11 両面に下塗層を施した実施例1のSPS支持体の一方の
側に下記組成の導電層、バック層及びバック保護層を塗
布した。 (導電層) SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 実施例−6の化合物A 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
側に下記組成の導電層、バック層及びバック保護層を塗
布した。 (導電層) SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 77 〃 実施例−6の化合物A 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0183
【補正方法】変更
【補正内容】
【0183】 (バック層) ゼラチン 2.0g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 40mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 40 〃 ゼラチン硬化剤 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセト アミド)エタン 200 〃 染料(A) 20mg/m2 染料(B) 50mg/m2 染料(C) 20mg/m2 染料(D) 30mg/m2 実施例−6の化合物A 10mg/m2
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0185
【補正方法】変更
【補正内容】
【0185】 (バック保護層) ゼラチン 0.7g/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート平均粒径 2.5μm) 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 60mg/m2 実施例−6の化合物A 1mg/m2
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 1/85 // C08L 25/00 LEJ
Claims (4)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、
前記乳剤層を有する側の全親水性コロイド層及びその反
対側の面の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g/
m2以下であり、かつ該支持体がシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体であることを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】 ハロゲン化銀乳剤層及びその他の親水性
コロイド層の少なくとも1層中にポリマーラテックスを
含有することを特徴とする請求項−1記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 - 【請求項3】 ハロゲン化銀乳剤層を有する側及びその
反対側の少なくとも一方の最外層表面のベック平滑度が
4000秒以下であることを特徴とする請求項−1記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項4】 ハロゲン化銀写真感光材料の構成層の少
なくとも1層の表面抵抗率が25℃30%RHの雰囲気
下で1012Ω以下であることを特徴とする請求項−1記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6046606A JPH07234478A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US08/392,329 US5558979A (en) | 1994-02-22 | 1995-02-22 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6046606A JPH07234478A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07234478A true JPH07234478A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12751972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6046606A Pending JPH07234478A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5558979A (ja) |
| JP (1) | JPH07234478A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705328A (en) * | 1995-08-30 | 1998-01-06 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
| JPH0990561A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US5853926A (en) * | 1997-07-23 | 1998-12-29 | Eastman Kodak Company | Pre-coated, fused plastic particles as a protective overcoat for color photographic prints |
| JP4155677B2 (ja) * | 1998-09-08 | 2008-09-24 | 株式会社リコー | 中間転写ベルト、その製造方法及び画像形成装置 |
| JP2002309019A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 成形品及び成形品の接着方法 |
| US7094525B2 (en) * | 2003-03-31 | 2006-08-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic light-sensitive material |
| WO2007119421A1 (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-25 | Konica Minolta Opto, Inc. | 表示装置用フィルム、偏光板及びその製造方法、液晶表示装置 |
| US8952124B2 (en) * | 2013-06-21 | 2015-02-10 | Prc-Desoto International, Inc. | Bis(sulfonyl)alkanol-containing polythioethers, methods of synthesis, and compositions thereof |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USH874H (en) * | 1986-06-04 | 1991-01-01 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Process for manufacturing a silver halide photographic material having a support and at least one hydrophilic colloid layer |
| US5188930A (en) * | 1989-10-18 | 1993-02-23 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Photographic film of syndiotactic styrene polymer |
| JPH03185442A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー画像形成方法 |
| JPH0466934A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JP2700712B2 (ja) * | 1990-07-10 | 1998-01-21 | 富士写真フイルム株式会社 | カラー画像形成方法 |
| JP2704456B2 (ja) * | 1990-08-28 | 1998-01-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀乳剤の製造方法 |
-
1994
- 1994-02-22 JP JP6046606A patent/JPH07234478A/ja active Pending
-
1995
- 1995-02-22 US US08/392,329 patent/US5558979A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5558979A (en) | 1996-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6027805A (en) | Fine polymer particles having heterogeneous phase structure | |
| JPH0772585A (ja) | ポリエステル支持体 | |
| JPH07234478A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US6066442A (en) | Plastic film having an improved anti-static property | |
| US5219718A (en) | Silver halide photographic material | |
| US5705329A (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| JPH08142210A (ja) | 写真用支持体の熱処理方法 | |
| JPH08201991A (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH11242310A (ja) | イメージング要素 | |
| US5582964A (en) | Photographic material having a syndiotactic styrenic polymer containing support | |
| US5705328A (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| US5393652A (en) | Silver halide photographic light-sensitive material | |
| JP3513282B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP3447843B2 (ja) | 写真用支持体の製造方法 | |
| JP3779340B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| US5554494A (en) | Silver halide photographic material comprising emulsion layer and hydrophobic backing layer provided on support | |
| JPH06332110A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP3441861B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH08220694A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法 | |
| JPH07239528A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH08201968A (ja) | 写真用支持体およびそれを用いたハロゲン化銀写真材料 | |
| JPH0728188A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JP3409225B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH08239497A (ja) | 塗布層を有するスチレンポリマーフイルム、その製造方法およびハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH08194286A (ja) | 写真感光材料用支持体の表面処理方法及びそれを用いた写真感光材料 |