JPH0956549A - 防曇性鏡 - Google Patents
防曇性鏡Info
- Publication number
- JPH0956549A JPH0956549A JP8156404A JP15640496A JPH0956549A JP H0956549 A JPH0956549 A JP H0956549A JP 8156404 A JP8156404 A JP 8156404A JP 15640496 A JP15640496 A JP 15640496A JP H0956549 A JPH0956549 A JP H0956549A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- optical semiconductor
- refractive index
- less
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y02T30/34—
Landscapes
- Mirrors, Picture Frames, Photograph Stands, And Related Fastening Devices (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Road Signs Or Road Markings (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 親水性光半導体層による曇り止め処置の施さ
れた防曇性鏡において、この光半導体層の存在に起因す
る二重像や鏡面の暗化といった鏡像の劣化を防止する。 【解決手段】 本発明は以下の４つの解決手段を、個々
に、あるいは組み合わせて用いる。 （１）光反射面上に直接（実質的な介在層を設けること
なく）光半導体層を形成する（表面鏡）。 （２）裏面鏡の場合は、透明基材（ガラス等）の厚さを
０．５mm以下と薄くする。 （３）光半導体を含む表面層の屈折率を下げる。例え
ば、低屈折率のシリカ（ＳｉＯ2 、屈折率１．５０）を
酸化チタンに混ぜて光半導体層の屈折率を下げる。 （４）表面層に含まれる光半導体や低屈折率物質の粒子
径を０．１μm 以下と小さくする。
れた防曇性鏡において、この光半導体層の存在に起因す
る二重像や鏡面の暗化といった鏡像の劣化を防止する。 【解決手段】 本発明は以下の４つの解決手段を、個々
に、あるいは組み合わせて用いる。 （１）光反射面上に直接（実質的な介在層を設けること
なく）光半導体層を形成する（表面鏡）。 （２）裏面鏡の場合は、透明基材（ガラス等）の厚さを
０．５mm以下と薄くする。 （３）光半導体を含む表面層の屈折率を下げる。例え
ば、低屈折率のシリカ（ＳｉＯ2 、屈折率１．５０）を
酸化チタンに混ぜて光半導体層の屈折率を下げる。 （４）表面層に含まれる光半導体や低屈折率物質の粒子
径を０．１μm 以下と小さくする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は曇り止め処置の施さ
れた防曇性鏡に関する。特には、表面に光半導体層を有
し、かつこの光半導体層の存在に起因する二重像や鏡面
の暗化といった鏡像の劣化を防止するような配慮のなさ
れた防曇性鏡に関する。
れた防曇性鏡に関する。特には、表面に光半導体層を有
し、かつこの光半導体層の存在に起因する二重像や鏡面
の暗化といった鏡像の劣化を防止するような配慮のなさ
れた防曇性鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者は、特願平７−１８２０２０号
において、光半導体を含む表面層を鏡上に形成して鏡表
面を超親水化し、同面に結露する水滴を水膜とすること
により曇りを無くすことを要旨とする防曇方法を提案し
た。
において、光半導体を含む表面層を鏡上に形成して鏡表
面を超親水化し、同面に結露する水滴を水膜とすること
により曇りを無くすことを要旨とする防曇方法を提案し
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の技術に
は、次のような問題点があることが判明した。すなわ
ち、光半導体のＴｉＯ2 を鏡表面に形成すると、高い屈
折率のために表面の反射が大きく、銀鏡面からの反射像
と、二重の像を見ることになる。通常の鏡の二重像は、
ガラスを斜めから覗いた場合に、表面の反射による像と
銀鏡面で反射した像にずれが生じるために起こるもの
で、通常のガラスの場合は４％程度である。しかし高屈
折率のＴｉＯ2 の場合は数十％になるため、像のずれが
目立ってしまう。なお、二重像とは、鏡を斜めから見た
場合、酸化チタン膜表面で反射する光の像と、銀鏡面で
反射する光の像がずれて目に二重像となるものである。
は、次のような問題点があることが判明した。すなわ
ち、光半導体のＴｉＯ2 を鏡表面に形成すると、高い屈
折率のために表面の反射が大きく、銀鏡面からの反射像
と、二重の像を見ることになる。通常の鏡の二重像は、
ガラスを斜めから覗いた場合に、表面の反射による像と
銀鏡面で反射した像にずれが生じるために起こるもの
で、通常のガラスの場合は４％程度である。しかし高屈
折率のＴｉＯ2 の場合は数十％になるため、像のずれが
目立ってしまう。なお、二重像とは、鏡を斜めから見た
場合、酸化チタン膜表面で反射する光の像と、銀鏡面で
反射する光の像がずれて目に二重像となるものである。
【０００４】屈折率ｎ1 の物質Ａから屈折率ｎ2 の物質
Ｂに光が入るときに両物質の界面で反射される光の割合
である反射率Ｒは、 Ｒ＝（（ｎ1 −ｎ2 ）／（ｎ1 ＋ｎ2 ））2 である。通常の鏡の場合は、空気（ｎ1 ＝１．００）か
らガラス（ｎ2 ＝１．５２）に入射するので、その界面
の反射率は４％に過ぎない。一方、酸化チタン（ＴｉＯ
2 ）膜を有する防曇性鏡の場合、空気（ｎ1 ＝１．０
０）からＴｉＯ2 （ｎ2 ＝２．５１）に入射する界面の
反射率は１８．５％にも達する。したがって、通常の鏡
の場合は気にならない二重像が、酸化チタン膜を有する
防曇性鏡では目立ってしまうのである。
Ｂに光が入るときに両物質の界面で反射される光の割合
である反射率Ｒは、 Ｒ＝（（ｎ1 −ｎ2 ）／（ｎ1 ＋ｎ2 ））2 である。通常の鏡の場合は、空気（ｎ1 ＝１．００）か
らガラス（ｎ2 ＝１．５２）に入射するので、その界面
の反射率は４％に過ぎない。一方、酸化チタン（ＴｉＯ
2 ）膜を有する防曇性鏡の場合、空気（ｎ1 ＝１．０
０）からＴｉＯ2 （ｎ2 ＝２．５１）に入射する界面の
反射率は１８．５％にも達する。したがって、通常の鏡
の場合は気にならない二重像が、酸化チタン膜を有する
防曇性鏡では目立ってしまうのである。
【０００５】本発明は、親水性光半導体層による曇り止
め処置の施された防曇性鏡において、この光半導体層の
存在に起因する二重像や鏡面の暗化といった鏡像の劣化
を防止するような配慮のなされた防曇性鏡を提供するこ
とを目的とする。
め処置の施された防曇性鏡において、この光半導体層の
存在に起因する二重像や鏡面の暗化といった鏡像の劣化
を防止するような配慮のなされた防曇性鏡を提供するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下の４つの解決手段を、個々に、あるい
は組み合わせて用いる。 （１）光反射面上に直接（実質的な介在層を設けること
なく）光半導体層を形成する（表面鏡）。これは、二重
像の原因となる二つの反射面の間の距離を短くするもの
である。通常の鏡ではガラスの厚さ（標準５mm）だけ、
鏡の表面とその反射面（銀鏡面）とは離れており、これ
に光の斜進角度θのサインを掛け、さらに２倍したもの
が二重像のずれとなる（５×ｓｉｎθ×２）。ところ
が、光反射面上に直接光半導体層を形成すれば、二つの
反射面の間の距離は光反射面の厚さのみ（μm オーダー
以下）にできるので、人間の目で分るような二重像は生
じない。
め、本発明は以下の４つの解決手段を、個々に、あるい
は組み合わせて用いる。 （１）光反射面上に直接（実質的な介在層を設けること
なく）光半導体層を形成する（表面鏡）。これは、二重
像の原因となる二つの反射面の間の距離を短くするもの
である。通常の鏡ではガラスの厚さ（標準５mm）だけ、
鏡の表面とその反射面（銀鏡面）とは離れており、これ
に光の斜進角度θのサインを掛け、さらに２倍したもの
が二重像のずれとなる（５×ｓｉｎθ×２）。ところ
が、光反射面上に直接光半導体層を形成すれば、二つの
反射面の間の距離は光反射面の厚さのみ（μm オーダー
以下）にできるので、人間の目で分るような二重像は生
じない。
【０００７】（２）裏面鏡の場合は、透明基材（ガラス
等）の厚さを０．５mm以下と薄くする。（１）と同じ理
由により、二重像のずれをできるだけ小さくしてやれ
ば、見る人の違和感をできるだけ無くすことができる。
透明基材の厚さを０．５mm以下とすれば、像のずれは現
状標準の約１／１０となる。
等）の厚さを０．５mm以下と薄くする。（１）と同じ理
由により、二重像のずれをできるだけ小さくしてやれ
ば、見る人の違和感をできるだけ無くすことができる。
透明基材の厚さを０．５mm以下とすれば、像のずれは現
状標準の約１／１０となる。
【０００８】（３）光半導体を含む表面層の屈折率を下
げる。例えば、低屈折率のシリカ（ＳｉＯ2 、屈折率
１．４８）やフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 、屈折率
１．３７８）、酸化スズ（１．９０）、アルミナ（１．
６３）を酸化チタンに混ぜて光半導体層の屈折率を下げ
てやれば、上述の理屈で光半導体層表面での光の反射率
が下がり、二重像の一方が弱くなる。このような観点か
ら、酸化チタンとしても屈折率の高いルチル型（２．
７）よりも屈折率の低いアナターゼ型（２．５）を用い
ることが好ましい。シリカ、シリコーンは屈折率が１．
５程度と小さく、かつシリカ及びシリコン原子に結合し
た有機基の少なくとも一部を水酸基に置換したシリコー
ンを添加すると、暗所での親水維持性能も向上するの
で、防曇性にも好影響をもたらす。
げる。例えば、低屈折率のシリカ（ＳｉＯ2 、屈折率
１．４８）やフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2 、屈折率
１．３７８）、酸化スズ（１．９０）、アルミナ（１．
６３）を酸化チタンに混ぜて光半導体層の屈折率を下げ
てやれば、上述の理屈で光半導体層表面での光の反射率
が下がり、二重像の一方が弱くなる。このような観点か
ら、酸化チタンとしても屈折率の高いルチル型（２．
７）よりも屈折率の低いアナターゼ型（２．５）を用い
ることが好ましい。シリカ、シリコーンは屈折率が１．
５程度と小さく、かつシリカ及びシリコン原子に結合し
た有機基の少なくとも一部を水酸基に置換したシリコー
ンを添加すると、暗所での親水維持性能も向上するの
で、防曇性にも好影響をもたらす。
【０００９】（４）表面層に含まれる光半導体や低屈折
率物質の粒子径を０．１μm 以下と小さくする。そうす
れば、粒子による光の散乱が生じにくくなるので、鏡像
が暗くなりにくい。
率物質の粒子径を０．１μm 以下と小さくする。そうす
れば、粒子による光の散乱が生じにくくなるので、鏡像
が暗くなりにくい。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 実施例１：シロキサン法による表面鏡 ５mm厚のポリカーボネート板（基板）の表面にアルミ蒸
着によって光反射面を形成した。次に、基板の表面を平
滑化するため、予めシリコーン層で被覆した。このた
め、日本合成ゴム（東京）の塗料用組成物“グラスカ”
のＡ液（シリカゾル）とＢ液（トリメトキシメチルシラ
ン）を、重量の比が３になるように混合し、この混合液
を基板に塗布し、１５０℃の温度で硬化させ、膜厚３μ
m のシリコーンのベースコートで被覆された複数の基板
を得た。
着によって光反射面を形成した。次に、基板の表面を平
滑化するため、予めシリコーン層で被覆した。このた
め、日本合成ゴム（東京）の塗料用組成物“グラスカ”
のＡ液（シリカゾル）とＢ液（トリメトキシメチルシラ
ン）を、重量の比が３になるように混合し、この混合液
を基板に塗布し、１５０℃の温度で硬化させ、膜厚３μ
m のシリコーンのベースコートで被覆された複数の基板
を得た。
【００１１】次に、光触媒を含有する高分子塗料により
基板を被覆した。塗料の塗膜形成要素が光触媒の光酸化
作用によって劣化するのを防止するため、塗膜形成要素
としてシリコーンを選んだ。より詳しくは、アナターゼ
型チタニアゾル（日産化学、ＴＡ−１５）５６重量部と
上記“グラスカ”のＡ液（シリカゾル）３３重量部を混
合し、エタノールで希釈後、さらに“グラスカ”の上記
Ｂ液１１重量部を添加し、チタニア含有塗料用組成物を
調整した。この塗料用組成物を基板の表面に塗布し、１
５０℃の温度で硬化させ、アナターゼ型チタニア粒子が
シリコーン塗膜中に分散されたトップコートを形成し
た。
基板を被覆した。塗料の塗膜形成要素が光触媒の光酸化
作用によって劣化するのを防止するため、塗膜形成要素
としてシリコーンを選んだ。より詳しくは、アナターゼ
型チタニアゾル（日産化学、ＴＡ−１５）５６重量部と
上記“グラスカ”のＡ液（シリカゾル）３３重量部を混
合し、エタノールで希釈後、さらに“グラスカ”の上記
Ｂ液１１重量部を添加し、チタニア含有塗料用組成物を
調整した。この塗料用組成物を基板の表面に塗布し、１
５０℃の温度で硬化させ、アナターゼ型チタニア粒子が
シリコーン塗膜中に分散されたトップコートを形成し
た。
【００１２】実施例２：アルコキシド法による裏面鏡 ０．５mm厚のソーダライムガラス板（基板）を準備し
た。次に、エタノールの溶媒８６重量部に、テトラエト
キシシランＳｉ（ＯＣ2 Ｈ5)4 （和光純薬、大阪）６重
量部と純水６重量部とテトラエトキシシランの加水分解
抑制剤として３６％塩酸２重量部を加えて混合し、シリ
カコーティング溶液を調整した。混合により溶液は発熱
するので、混合液を約１時間放置冷却した。この溶液を
フローコーティング法により基板の表面に塗布し、８０
℃の温度で乾燥させた。乾燥に伴い、テトラエトキシシ
ランは加水分解を受けてまずシラノールＳｉ（ＯＨ)4に
なり、続いてシラノールの脱水縮重合により無定形シリ
カの薄膜が基板の表面に形成された。
た。次に、エタノールの溶媒８６重量部に、テトラエト
キシシランＳｉ（ＯＣ2 Ｈ5)4 （和光純薬、大阪）６重
量部と純水６重量部とテトラエトキシシランの加水分解
抑制剤として３６％塩酸２重量部を加えて混合し、シリ
カコーティング溶液を調整した。混合により溶液は発熱
するので、混合液を約１時間放置冷却した。この溶液を
フローコーティング法により基板の表面に塗布し、８０
℃の温度で乾燥させた。乾燥に伴い、テトラエトキシシ
ランは加水分解を受けてまずシラノールＳｉ（ＯＨ)4に
なり、続いてシラノールの脱水縮重合により無定形シリ
カの薄膜が基板の表面に形成された。
【００１３】次に、テトラエトキシチタンＴｉ（ＯＣ2
Ｈ5)4 (Merck) １重量部とエタノール９重量部との混合
物に加水分解抑制剤として３６％塩酸を０．１重量部添
加してチタニアコーティング溶液を調整し、この溶液を
基板の表面に乾燥空気中でフローコーティング法により
塗布した。塗布量はチタニアに換算して４５μg/cm2と
した。テトラエトキシチタンの加水分解速度は極めて早
いので、塗布の段階でテトラエトキシチタンの一部は加
水分解され、水酸化チタンＴｉ（ＯＨ)4が生成し始め
た。
Ｈ5)4 (Merck) １重量部とエタノール９重量部との混合
物に加水分解抑制剤として３６％塩酸を０．１重量部添
加してチタニアコーティング溶液を調整し、この溶液を
基板の表面に乾燥空気中でフローコーティング法により
塗布した。塗布量はチタニアに換算して４５μg/cm2と
した。テトラエトキシチタンの加水分解速度は極めて早
いので、塗布の段階でテトラエトキシチタンの一部は加
水分解され、水酸化チタンＴｉ（ＯＨ)4が生成し始め
た。
【００１４】次に、この基板を１〜１０分間約１５０℃
の温度に保持することにより、テトラエトキシチタンの
加水分解を完了させるとともに、生成した水酸化チタン
を脱水縮重合に付し、無定形チタニアを生成させた。こ
うして、無定形シリカの上に無定形チタニアがコーティ
ングされたガラス板を得た。
の温度に保持することにより、テトラエトキシチタンの
加水分解を完了させるとともに、生成した水酸化チタン
を脱水縮重合に付し、無定形チタニアを生成させた。こ
うして、無定形シリカの上に無定形チタニアがコーティ
ングされたガラス板を得た。
【００１５】この試料を５００℃の温度で焼成して、無
定形チタニアをアナターゼ型チタニアに変換させた。無
定形チタニアコーティングの下層には無定形シリカのコ
ーティングが施されているので、焼成の最中にガラス板
中のナトリウムのようなアルカリ網目修飾イオンがガラ
ス基材からチタニアコーティング中に拡散していないと
考えられる。次に、このガラス板の裏面に銀鏡反応によ
り銀の反射コーティングを形成して鏡を製作した。
定形チタニアをアナターゼ型チタニアに変換させた。無
定形チタニアコーティングの下層には無定形シリカのコ
ーティングが施されているので、焼成の最中にガラス板
中のナトリウムのようなアルカリ網目修飾イオンがガラ
ス基材からチタニアコーティング中に拡散していないと
考えられる。次に、このガラス板の裏面に銀鏡反応によ
り銀の反射コーティングを形成して鏡を製作した。
【００１６】実施例３：ＴＥＯＳ法による裏面鏡 日本板硝子製の鏡（ＭＦＬ３）（ガラス厚５mm）の表面
に実施例２と同様の方法で無定形シリカの薄膜を形成し
た。
に実施例２と同様の方法で無定形シリカの薄膜を形成し
た。
【００１７】次に、テトラエトキシシラン０．６９ｇ
（和光純薬）とアナターゼ型チタニアゾル１．０７ｇ
（日産化学、ＴＡ−１５、平均粒径０．０１μm 、Ｔｉ
Ｏ2 濃度１５％）とがＴｉＯ2 ：ＳｉＯ2 ＝２０：８０
（重量比）となるように混合した。そして、エタノール
２９．８８ｇと純水０．３６ｇを混合し、コーティング
溶液を調整した。このコーティング溶液をフローコーテ
ィング法により鏡の表面に塗布した。この鏡を約２０分
間約１５０℃の温度に保持することにより、テトラエト
キシシランを加水分解と脱水縮重合に付し、アナターゼ
型チタニア粒子が無定形シリカのバインダーで結着され
たコーティングを鏡の表面に形成した。
（和光純薬）とアナターゼ型チタニアゾル１．０７ｇ
（日産化学、ＴＡ−１５、平均粒径０．０１μm 、Ｔｉ
Ｏ2 濃度１５％）とがＴｉＯ2 ：ＳｉＯ2 ＝２０：８０
（重量比）となるように混合した。そして、エタノール
２９．８８ｇと純水０．３６ｇを混合し、コーティング
溶液を調整した。このコーティング溶液をフローコーテ
ィング法により鏡の表面に塗布した。この鏡を約２０分
間約１５０℃の温度に保持することにより、テトラエト
キシシランを加水分解と脱水縮重合に付し、アナターゼ
型チタニア粒子が無定形シリカのバインダーで結着され
たコーティングを鏡の表面に形成した。
【００１８】この鏡を数日間暗所に放置した後、ＢＬＢ
蛍光灯を用いて０．５mW/cm2の照度で約１時間紫外線を
照射した。この鏡の表面の水との接触角を接触角測定器
で測定したところ、接触角の読みは０°であった。光半
導体層の屈折率は１．６９であった。
蛍光灯を用いて０．５mW/cm2の照度で約１時間紫外線を
照射した。この鏡の表面の水との接触角を接触角測定器
で測定したところ、接触角の読みは０°であった。光半
導体層の屈折率は１．６９であった。
【００１９】実施例４：実施例２と同じ方法で、無定形
シリカ薄膜を形成する。次にテトラエトキシチタン１重
量部とエタノール９重量部との混合液に加水分解抑制剤
として３６％ＨＣｌを０．１重量部添加し、チタニア溶
液とした。さらにシリカ溶液としては、日産化学製メタ
ノールシリカゾル（ＳｉＯ2 濃度３０％）を１６．７重
量部とエタノール８３．３重量部を混合し、ＳｉＯ2 濃
度５wt％とするシリカ溶液を調整した。これらチタニア
溶液５ｇとシリカ溶液０．２１ｇをエタノール２３ｇに
混合し、コーティング溶液を調整した後、フローコート
法により塗布した。次に実施例２と同様に１５０℃、５
００℃の熱処理と銀鏡反応を経て、アナターゼ型ＴｉＯ
2 にシリカ粒子が分散されたコーティングの施された鏡
を得た。
シリカ薄膜を形成する。次にテトラエトキシチタン１重
量部とエタノール９重量部との混合液に加水分解抑制剤
として３６％ＨＣｌを０．１重量部添加し、チタニア溶
液とした。さらにシリカ溶液としては、日産化学製メタ
ノールシリカゾル（ＳｉＯ2 濃度３０％）を１６．７重
量部とエタノール８３．３重量部を混合し、ＳｉＯ2 濃
度５wt％とするシリカ溶液を調整した。これらチタニア
溶液５ｇとシリカ溶液０．２１ｇをエタノール２３ｇに
混合し、コーティング溶液を調整した後、フローコート
法により塗布した。次に実施例２と同様に１５０℃、５
００℃の熱処理と銀鏡反応を経て、アナターゼ型ＴｉＯ
2 にシリカ粒子が分散されたコーティングの施された鏡
を得た。
【００２０】この鏡を数日間暗所に放置した後、ＢＬＢ
蛍光灯を用いて０．５mW/cm2の照度で約１時間紫外線を
照射した。この鏡の表面の水との接触角を接触角測定器
で測定したところ、接触角の読みは０°であった。光半
導体層の屈折率は１．６９であった。
蛍光灯を用いて０．５mW/cm2の照度で約１時間紫外線を
照射した。この鏡の表面の水との接触角を接触角測定器
で測定したところ、接触角の読みは０°であった。光半
導体層の屈折率は１．６９であった。
【００２１】実施例５：実施例２と同じ方法で０．５mm
厚のガラス基板上に無定形シリカ薄膜を形成した。次い
で、その上にＴｉＯ2 ターゲットを用い、酸素雰囲気中
でスパッタリング法により無定形ＴｉＯ2 からなる膜厚
５０μm の薄膜を形成した。この段階で水との接触角を
測定すると４７°であった。その後紫外線照度０．１５
mW/cm2のＢＬＢランプを２日照射したが依然４２°であ
った。また、この段階で呼気法による曇りの有無を調べ
ると明らかに曇りが生じた。次にこの試料を４００℃、
４５０℃、５００℃で熱処理し、無定形ＴｉＯ2 を結晶
化させアナターゼ型とした。これらの試料について１日
暗所に放置後、紫外線照度０．１５mW/cm2のＢＬＢラン
プを２日照射した。その後水との接触角を測定したとこ
ろ、それぞれ４００℃焼成品では４．６°、４５０℃焼
成品では４．５°、５００℃の焼成品では４．１°とな
った。また呼気法による曇りの有無の測定の結果、曇り
は速やかにかき消え残留しなかった。さらに、ガラスの
厚さの影響により二重像も認められなかった。
厚のガラス基板上に無定形シリカ薄膜を形成した。次い
で、その上にＴｉＯ2 ターゲットを用い、酸素雰囲気中
でスパッタリング法により無定形ＴｉＯ2 からなる膜厚
５０μm の薄膜を形成した。この段階で水との接触角を
測定すると４７°であった。その後紫外線照度０．１５
mW/cm2のＢＬＢランプを２日照射したが依然４２°であ
った。また、この段階で呼気法による曇りの有無を調べ
ると明らかに曇りが生じた。次にこの試料を４００℃、
４５０℃、５００℃で熱処理し、無定形ＴｉＯ2 を結晶
化させアナターゼ型とした。これらの試料について１日
暗所に放置後、紫外線照度０．１５mW/cm2のＢＬＢラン
プを２日照射した。その後水との接触角を測定したとこ
ろ、それぞれ４００℃焼成品では４．６°、４５０℃焼
成品では４．５°、５００℃の焼成品では４．１°とな
った。また呼気法による曇りの有無の測定の結果、曇り
は速やかにかき消え残留しなかった。さらに、ガラスの
厚さの影響により二重像も認められなかった。
【００２２】比較例：５mm厚のソーダライムガラス板の
ガラス表面と裏面に、実施例２と同じ方法でそれぞれ光
半導体層及び銀の反射コーティングを形成した。
ガラス表面と裏面に、実施例２と同じ方法でそれぞれ光
半導体層及び銀の反射コーティングを形成した。
【００２３】性能試験：防曇性については、上記実施例
１、２、３、４、５及び比較例ともに優れていた。二重
像については、比較例は非常に目立った。実施例２につ
いては、二重像があったが、あまり目立たなかった。実
施例１、３、４及び５については、二重像がほとんど観
察されず、きわめて良好な鏡像が得られた。
１、２、３、４、５及び比較例ともに優れていた。二重
像については、比較例は非常に目立った。実施例２につ
いては、二重像があったが、あまり目立たなかった。実
施例１、３、４及び５については、二重像がほとんど観
察されず、きわめて良好な鏡像が得られた。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の防曇性鏡は、表面に光半導体層を有するが、この光半
導体層の存在に起因する二重像や鏡面の暗化といった鏡
像の劣化なく、良好な鏡像が得られる。
の防曇性鏡は、表面に光半導体層を有するが、この光半
導体層の存在に起因する二重像や鏡面の暗化といった鏡
像の劣化なく、良好な鏡像が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 27/18 Ｂ３２Ｂ 27/18 Ｚ Ｃ０３Ｃ 17/30 Ｃ０３Ｃ 17/30 Ｚ Ｅ０１Ｆ 9/00 Ｅ０１Ｆ 9/00 Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｆ // Ｂ６０Ｓ 1/60 Ｂ６０Ｓ 1/60 Ｅ (72)発明者 早川 信 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 渡部 俊也 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 北村 厚 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 光反射面を有する基材と、この基材の光
反射面に形成された光半導体を含む表面層と、を備え；
該光半導体の光励起に対応して表面が親水性を示すこと
を特徴とする防曇性鏡。 - 【請求項２】 裏面に反射コート層を有する透明基材
と、この透明基材の表面に形成された光半導体を含む表
面層と、を備え、 該光半導体の光励起に対応して表面が親水性を示す防曇
性鏡であって；上記透明基材の厚さが０．５mm以下であ
ることを特徴とする防曇性鏡。 - 【請求項３】 裏面に反射コート層を有する透明基材
と、この透明基材の表面に形成された光半導体を含む表
面層と、を備え、 該光半導体の光励起に対応して表面が親水性を示す防曇
性鏡であって；上記表面層の屈折率が２以下であること
を特徴とする防曇性鏡。 - 【請求項４】 上記表面層が、酸化チタン粒子及び該層
の屈折率を２以下とするための他の物質（低屈折率物
質）を含む請求項３記載の防曇性鏡。 - 【請求項５】 上記低屈折率物質が、シリカ、シリコー
ン又はこれらの混合物である請求項４記載の防曇性鏡。 - 【請求項６】 上記酸化チタン粒子がアナターゼ型であ
る請求項４又は５記載の防曇性鏡。 - 【請求項７】 上記表面層が光半導体粒子を含み、その
光半導体粒子の粒子径が０．１μm 以下である請求項１
〜６いずれか１項記載の防曇性鏡。 - 【請求項８】 上記酸化チタン粒子及び低屈折率物質の
粒子の粒径が０．１μm 以下である請求項４又は５記載
の防曇性鏡。 - 【請求項９】 上記鏡が化粧鏡、浴室用鏡、車両用鏡、
反射鏡又は道路鏡のいずれかである請求項１〜８いずれ
か１項記載の防曇性鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8156404A JPH0956549A (ja) | 1995-06-14 | 1996-05-29 | 防曇性鏡 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18202095 | 1995-06-14 | ||
| JP7-182020 | 1995-06-14 | ||
| JP8156404A JPH0956549A (ja) | 1995-06-14 | 1996-05-29 | 防曇性鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0956549A true JPH0956549A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=26484172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8156404A Pending JPH0956549A (ja) | 1995-06-14 | 1996-05-29 | 防曇性鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0956549A (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09230105A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-05 | Toto Ltd | 防曇方法及びそれを施した設備 |
| JPH1068091A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-10 | Central Glass Co Ltd | 親水性被膜およびその製造方法 |
| JPH1168134A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-03-09 | Bridgestone Corp | 太陽電池モジュール |
| EP1396478A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-10 | The Procter & Gamble Company | Fluid dispenser with anti-fogging mirror |
| EP1396479A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-10 | The Procter & Gamble Company | Fluid dispenser with anti-fogging mirror |
| CN107584750A (zh) * | 2017-08-16 | 2018-01-16 | 柳州申通汽车科技有限公司 | 一种汽车隔音膜片的热压工艺 |
| CN109005317A (zh) * | 2017-06-06 | 2018-12-14 | 罗伯特·博世有限公司 | 用于摄像机的壳体及制造方法 |
| CN109020046A (zh) * | 2018-06-05 | 2018-12-18 | 广东南豆科技有限公司 | 一种带有废水处理装置的智能洗碗盆 |
| CN110269304A (zh) * | 2018-03-15 | 2019-09-24 | 杭州海康威视数字技术股份有限公司 | 安全帽、佩戴状态检测方法及装置、计算机可读存储介质 |
| CN110658405A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-01-07 | 广东美的制冷设备有限公司 | 空调器线损的检测方法、装置、空调器以及存储介质 |
| CN110935047A (zh) * | 2018-09-21 | 2020-03-31 | 宁波方太厨具有限公司 | 一种提高紫外线利用率的消毒方法 |
| CN111021284A (zh) * | 2019-12-16 | 2020-04-17 | 荆门欧曼凯机电设备有限公司 | 利用气流发电的堵车预警护栏 |
| CN111060997A (zh) * | 2020-01-19 | 2020-04-24 | 西安交通大学 | 一种多级复眼透镜的制造方法 |
| CN111306923A (zh) * | 2020-04-07 | 2020-06-19 | 李宁 | 一种干果循环热风风干设备 |
| CN111632195A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-08 | 北京航空航天大学 | 一种改善细胞成骨性能的医疗植入物及其制备方法 |
| CN111889472A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-06 | 安徽荣程玻璃制品有限公司 | 一种真空钢化玻璃及其制备方法 |
| JP2020536996A (ja) * | 2017-10-04 | 2020-12-17 | エムシーエス・インダストリーズ・インコーポレイテッド | 防曇コーティングと塗布方法 |
| CN112126348A (zh) * | 2020-09-29 | 2020-12-25 | 广东思泉新材料股份有限公司 | 一种改性纳米防水涂料、防水膜、以及制备方法 |
| CN113554618A (zh) * | 2021-07-22 | 2021-10-26 | 上海工程技术大学 | 一种基于红外图像的铁路轨道状态监测方法及装置 |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP8156404A patent/JPH0956549A/ja active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09230105A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-05 | Toto Ltd | 防曇方法及びそれを施した設備 |
| JPH1068091A (ja) * | 1996-08-26 | 1998-03-10 | Central Glass Co Ltd | 親水性被膜およびその製造方法 |
| JPH1168134A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-03-09 | Bridgestone Corp | 太陽電池モジュール |
| EP1396479A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-10 | The Procter & Gamble Company | Fluid dispenser with anti-fogging mirror |
| EP1396478A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-10 | The Procter & Gamble Company | Fluid dispenser with anti-fogging mirror |
| WO2004022498A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-18 | The Procter & Gamble Company | Fluid dispenser with anti-fogging mirror |
| CN109005317A (zh) * | 2017-06-06 | 2018-12-14 | 罗伯特·博世有限公司 | 用于摄像机的壳体及制造方法 |
| CN109005317B (zh) * | 2017-06-06 | 2021-05-04 | 罗伯特·博世有限公司 | 用于摄像机的壳体及制造方法 |
| CN107584750A (zh) * | 2017-08-16 | 2018-01-16 | 柳州申通汽车科技有限公司 | 一种汽车隔音膜片的热压工艺 |
| US11673827B2 (en) | 2017-10-04 | 2023-06-13 | Mcs Industries, Inc. | Anti-fogging coating and application process |
| JP2020536996A (ja) * | 2017-10-04 | 2020-12-17 | エムシーエス・インダストリーズ・インコーポレイテッド | 防曇コーティングと塗布方法 |
| CN110269304A (zh) * | 2018-03-15 | 2019-09-24 | 杭州海康威视数字技术股份有限公司 | 安全帽、佩戴状态检测方法及装置、计算机可读存储介质 |
| CN110269304B (zh) * | 2018-03-15 | 2022-03-08 | 杭州海康威视数字技术股份有限公司 | 安全帽、佩戴状态检测方法及装置、计算机可读存储介质 |
| CN109020046A (zh) * | 2018-06-05 | 2018-12-18 | 广东南豆科技有限公司 | 一种带有废水处理装置的智能洗碗盆 |
| CN110935047A (zh) * | 2018-09-21 | 2020-03-31 | 宁波方太厨具有限公司 | 一种提高紫外线利用率的消毒方法 |
| CN110658405A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-01-07 | 广东美的制冷设备有限公司 | 空调器线损的检测方法、装置、空调器以及存储介质 |
| CN110658405B (zh) * | 2019-10-09 | 2021-09-28 | 广东美的制冷设备有限公司 | 空调器线损的检测方法、装置、空调器以及存储介质 |
| CN111021284A (zh) * | 2019-12-16 | 2020-04-17 | 荆门欧曼凯机电设备有限公司 | 利用气流发电的堵车预警护栏 |
| CN111060997B (zh) * | 2020-01-19 | 2021-05-07 | 西安交通大学 | 一种多级复眼透镜的制造方法 |
| CN111060997A (zh) * | 2020-01-19 | 2020-04-24 | 西安交通大学 | 一种多级复眼透镜的制造方法 |
| CN111306923A (zh) * | 2020-04-07 | 2020-06-19 | 李宁 | 一种干果循环热风风干设备 |
| CN111632195A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-08 | 北京航空航天大学 | 一种改善细胞成骨性能的医疗植入物及其制备方法 |
| CN111889472A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-06 | 安徽荣程玻璃制品有限公司 | 一种真空钢化玻璃及其制备方法 |
| CN111889472B (zh) * | 2020-08-19 | 2022-08-16 | 安徽荣程玻璃制品有限公司 | 一种真空钢化玻璃的制备方法 |
| CN112126348A (zh) * | 2020-09-29 | 2020-12-25 | 广东思泉新材料股份有限公司 | 一种改性纳米防水涂料、防水膜、以及制备方法 |
| CN113554618A (zh) * | 2021-07-22 | 2021-10-26 | 上海工程技术大学 | 一种基于红外图像的铁路轨道状态监测方法及装置 |
| CN113554618B (zh) * | 2021-07-22 | 2022-03-01 | 上海工程技术大学 | 一种基于红外图像的铁路轨道状态监测方法及装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0956549A (ja) | 防曇性鏡 | |
| EP1304366B1 (en) | Use of a photocatalytically rendered superhydrophilic surface with antifogging properties | |
| US6921578B2 (en) | Low-reflection glass article | |
| CN103260870B (zh) | 具有低反射膜的物品 | |
| JP4527272B2 (ja) | 低反射ガラス物品 | |
| JP4107050B2 (ja) | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 | |
| US20010036547A1 (en) | Article with antifogging film and process for producing same | |
| EP0869156A1 (en) | Photocatalytic process for making surface hydrophilic and composite material having photocatalytically hydrophilic surface | |
| US7771103B2 (en) | Optical diffuser with IR and/or UV blocking coating | |
| JP2000508439A (ja) | 光学素子、前記光学素子を備えたディスプレイ装置及び該光学素子の製造方法 | |
| GB2334263A (en) | Hydrophilic article | |
| JP7117165B2 (ja) | 防眩膜付基材、画像表示装置、及びデジタルサイネージ | |
| CN1761912B (zh) | 背投影屏和/或投影屏 | |
| CA2628751C (en) | Optical diffuser with uv blocking coating | |
| US20170291392A1 (en) | Article having low reflection film | |
| JP2000239047A (ja) | 親水性光触媒部材 | |
| JP2000192021A (ja) | 親水性・防曇防汚基材およびその製造方法 | |
| JP2000177381A (ja) | 車両の低反射前窓 | |
| JPH10140046A (ja) | 表面を光触媒的に親水性にする方法、および、光触媒性親水性表面を備えた複合材、および、基材の表面に親水性被膜を形成するコーティング組成物 | |
| JPH0959042A (ja) | 防曇性コーティングを備えた透明基材 | |
| WO2007081484A1 (en) | Optical diffuser having frit based coating with inorganic light diffusing pigments with variable particle size therein | |
| WO2011090156A1 (ja) | 防曇性物品 | |
| JP6736049B2 (ja) | ガラス複合体、それを備えた透明スクリーン、およびそれを備えた映像投影システム | |
| JPH09227157A (ja) | 防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法 | |
| JPH0959041A (ja) | 光触媒を含有する防曇性コーティング組成物 |