JPH0963178A - 光記録媒体の検査装置、検査方法および製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光記録媒体の検査精度を高めるとともに、欠
陥発生状況を視覚的に認識できるようにする。 【解決手段】 光記録媒体に予め設定したパターンのデ
ータを記録し、再生したデータと記録したデータのパタ
ーンを比較してビットエラーを検出するビットエラー検
出手段と、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部位を
算出するビットエラー発生部位算出手段と、前記ビット
エラーの発生部位のひろがりまたは発生度数から欠陥サ
イズを算出する欠陥サイズ算出手段と、前記ビットエラ
ー発生部位算出手段と前記欠陥サイズ算出手段の算出結
果から光記録媒体の記録面に対応する表示画面にビット
エラーの発生部位と欠陥サイズをプロットする欠陥部位
・サイズ表示手段と、を有することを特徴とする光記録
媒体の検査装置、検査方法およびそれを用いた光記録媒
体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の検査
装置および検査方法に関し、とくに、光記録媒体の記
録、再生機能に対する欠陥を高精度に、かつ、極めて容
易に認識可能に、しかも、製造工程へ情報フィードバッ
クが可能に検査することのできる、光記録媒体の検査装
置および検査方法、さらにはそれらを用いた光記録媒体
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、ＣＣＤカメラ等の画像処理装
置を用いて光記録媒体の記録面上の欠陥を検出する欠陥
検査装置はあったが、画像入力装置の分解能に制限さ
れ、検出できる最小欠陥サイズが光記録媒体に発生する
実際の欠陥サイズと比較してかなり大きいものであっ
た。したがって、より高精度に欠陥検出を行うために
は、別途欠陥検出専用の装置を設ける必要がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、光記
録媒体の記録、再生機能に対する欠陥を従来にない高精
度で検査でき、かつ、欠陥の位置や大きさ、更には形状
を光記録媒体の記録面に対応する表示画面上に一目で容
易に認識できる程度に表示できるようにし、検査精度を
高めるとともに検査結果から欠陥発生の原因を推定する
ための情報を抽出することにより、製造工程にもフィー
ドバックできるようにすることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の検査装置は、光記録媒体に予
め設定したパターンのデータを記録し、再生したデータ
と記録したデータのパターンを比較してビットエラーを
検出するビットエラー検出手段と、該ビットエラーの光
記録媒体上の発生部位を算出するビットエラー発生部位
算出手段と、前記ビットエラーの発生部位のひろがりま
たは発生度数から欠陥サイズを算出する欠陥サイズ算出
手段と、前記ビットエラー発生部位算出手段と前記欠陥
サイズ算出手段の算出結果から光記録媒体の記録面に対
応する表示画面にビットエラーの発生部位と欠陥サイズ
をプロットする欠陥部位・サイズ表示手段と、を有する
ことを特徴とするものからなる。

【０００５】また、本発明に係る光記録媒体の検査方法
は、光記録媒体に予め設定したパターンのデータを記録
し、再生したデータと記録したデータのパターンを比較
してビットエラーを検出するビットエラー検出ステップ
と、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部位を算出す
るビットエラー発生部位算出ステップと、前記ビットエ
ラーの発生部位のひろがりまたは発生度数から欠陥サイ
ズを算出する欠陥サイズ算出ステップと、前記ビットエ
ラー発生部位算出ステップと前記欠陥サイズ算出ステッ
プの算出結果から光記録媒体の記録面に対応する表示画
面にビットエラーの発生部位と欠陥サイズをプロットす
る欠陥部位・サイズ表示ステップと、を有することを特
徴とする方法からなる。

【０００６】さらに、本発明に係る光記録媒体の製造方
法は、このような光記録媒体の検査方法に基づく検査工
程を有する方法からなる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態を、図面を参照して説明する。図１は、本発明の一
実施態様に係る光記録媒体の検査装置を示している。図
において、１は光記録媒体（たとえば、相変化型光記録
媒体）を示しており、２はその記録面を示している。こ
の検査対象としての光記録媒体１がドライブ装置３によ
って高速で回転される。回転する光記録媒体１の記録面
２に、ビットエラー検出手段４の光学ヘッド５からのレ
ーザ光６によって、予め設定したパターンのデータが記
録され、記録面２からの反射光によって再生（データ読
み出し）が行われる。再生したデータと記録したデータ
のパターンを比較し、光記録媒体１のビットエラーの発
生が検出される。たとえば、セクタ単位にビットエラー
の発生の有無や発生度数が検出されてもよく、単位面積
の微小領域内でのビットエラーの発生回数（「発生度
数」という）を算出してもよい。このビットエラーの検
出には、通常光ディスクの検査工程で使用されているビ
ットエラーレート検査装置を用いることができる。

【０００８】上記ビットエラー検出手段４からの信号
が、コンピュータコントローラ７のビットエラー発生部
位算出手段８と欠陥サイズ算出手段９に送られる。コン
ピュータコントローラ７は、たとえばマイクロコンピュ
ータからなり、該コンピュータ内に以下に説明するよう
な手段がプログラムとして組み込まれている。ビットエ
ラー発生部位算出手段８では、たとえばビットエラーが
発生した記録面２のセクタアドレスと、セクタ内のビッ
トエラー発生バイト位置から該ビットエラーが発生した
記録面上の半径位置および基準位置（たとえば角度０°
の位置）からの角度を演算する。つまり、検出されたビ
ットエラーの発生に関する情報を、セクタアドレスとセ
クタ内のエラー発生バイト情報によりビットエラー発生
部位を記録面２上の実際の物理的位置情報に変換する。

【０００９】上記欠陥サイズ算出手段９では、検出した
上記ビットエラー発生部位の空間的なひろがりや単位面
積あたりの発生回数から欠陥サイズを演算する。この欠
陥サイズは、実サイズとして演算してもよいが、欠陥の
重篤度としてもとらえてもよい。欠陥の表示に際して
は、多少増幅して誇張したサイズに演算しておく方が、
後述の視覚による欠陥の認識、検査が楽である。

【００１０】上記ビットエラー発生部位算出手段８と欠
陥サイズ算出手段９からの信号は、対応位置・サイズ算
出手段１０に送られる。対応位置・サイズ算出手段１０
では、後述のプロッタ１１にて描かせる、光記録媒体１
の記録面２に対応する平面図あるいはワイヤーフレーム
図、立体棒グラフ等の三次元図等の表示画面（図２、図
３）上へのプロットの実際の位置、サイズを決める。し
たがって、この信号に基づいて、プロッタ１１により図
２、図３に示すような、欠陥を表示した表示画面が作成
される。

【００１１】上記対応位置・サイズ算出手段１０の信号
を拡大手段１２で処理することにより、プロッタ１１で
描かせる表示画面を単に拡大したり、部分的に切り取っ
て拡大表示したりすることができる。これら対応位置・
サイズ算出手段１０、プロッタ１１および拡大手段１２
は、本発明でいう欠陥部位・サイズ表示手段１３を構成
している。但し、上記拡大手段１２は特に設けなくても
よい。また、表示手段１３はプロッタ等のハードコピー
装置であってもよく、ディスプレイ装置などのソフトコ
ピー装置であってもよい。

【００１２】さらに、本実施態様では、コンピュータコ
ントローラ７内に共通欠陥検出手段１４が設けられてい
る。この共通欠陥検出手段１４では、複数の光記録媒体
が検査工程を流れていく場合、前記ビットエラー発生部
位算出手段８による算出結果に基づき、複数の光記録媒
体に共通するビットエラー発生位置を割り出す。そして
この共通欠陥検出手段１４によるモードを選択すれば、
プロッタ１１によって上記複数の光記録媒体に共通する
ビットエラー発生位置が表示されるようになっている。

【００１３】上記のように構成された光記録媒体の検査
装置を用いた検査方法および光記録媒体の製造方法にお
いては、従来のＣＣＤカメラ等の画像処理装置を用いる
場合に比べ、格段に小さい単位で、つまりビットサイズ
での検査が可能になる。したがって、極めて高精度で正
確な欠陥検査が可能となる。

【００１４】また、この検査は、実際に記録、再生した
データの比較により行われるので、光記録媒体１の記録
層自身の欠陥や、基板成形時に発生するトラック溝の欠
陥などまで測定できる。つまり、反射率が一定の場合に
あっても、他のばらつき要因や欠陥による、記録、再生
上の欠陥まで測定できる。あるいは、基板の情報記録面
側に形成されたミクロンオーダーの微小なトラック溝形
状の転写不良等により引起される記録再生上の欠陥まで
測定できる。さらに、レーザ光のパワー（記録パワー）
を変えれば、反射率特性まで含めた特性を高精度で測定
することが可能である。

【００１５】また、上記高精度で検出される欠陥情報を
プロッタ１１によって、光記録媒体１の記録面２に対応
する表示画面上に描くので、欠陥分布を視覚的に（つま
り一目で）容易に確認できる。たとえば図２および図３
に欠陥情報をプロットした平面図の例２１、２２を示す
が、図２に示す例では、外周近傍の位置で、かつ、基準
位置（０°位置）から約９０°〜２４０°の位置に、欠
陥が断続的かつ集中的に発生している。図３に示す例で
は、欠陥の集中箇所が全くなく、ビットエラーレートと
しても均一で小さく、実用上問題なく優れた製品である
ことが判る。このように、欠陥の発生状況、分布が一目
で確認できる。

【００１６】また、拡大手段１２により、ある部分、た
とえば図２のプロットされた平面図２１の外周部分２３
を図４に示すように拡大して表示すれば、欠陥の分布が
局部的にもさらに明確になる。

【００１７】図２や図４に示されるような欠陥の発生情
報は、光記録媒体の製造工程にフィードバックできる。
たとえば、大きく広がった欠陥の分布や図３に示される
欠陥のポイントの分布数が異常に多くなったりした場合
には、製造プロセス中での膜の剥離や、成膜時、ハンド
リング時のゴミ付着等によるピンホール欠陥の増大など
が、推定可能となり、同一スタンパで複数のディスクの
同じ箇所に欠陥が発生する場合には、光記録媒体の基板
成形用のスタンパに欠陥がある等の推定が可能となる。
また、記録に悪影響を与える、例えばハードコート層、
オーバーコート層の塗布層に発生した欠陥、更には、ハ
ンドリング治具の不良により搬送ディスクに傷を付ける
場合なども検出できるため、適切なフィードバックにつ
なげることができる。

【００１８】また、欠陥の分布のみならずそのサイズも
表示させているので、たとえば湿熱テストを行いその前
後、あるいは途中の状態を表示させることにより、湿熱
条件下での欠陥の発生や成長の過程を把握することも可
能である。たとえば、記録層界面の接着剥がれによる欠
陥、ピンホールからの腐食の進行などを経時的に追うこ
とにより原因を絞り込み、適切な対策に結びつけること
ができる。

【００１９】さらに、共通欠陥検出手段１４のモードを
用いれば、複数の光記録媒体の共通欠陥データを抽出す
ることができ、その欠陥が製造のどの工程に起因して発
生しているかを、より正確に把握することが可能とな
る。たとえば、同一スタンパで一連に作られた光記録媒
体の複数ディスクの同一箇所に欠陥が発生する場合に
は、光記録媒体の基板成形用のスタンパに欠陥がある等
の推定が可能となる。

【００２０】したがって、上述のような高精度でかつ正
確な、しかも光記録媒体１の記録面と対応した欠陥情報
が判れば、光記録媒体の製造工程への迅速でかつ適切な
フィードバックか可能となる。その結果、高精度な検査
のみならず、不良品を発生させないための製造工程の適
切な処理が可能となり、より高品質の光記録媒体の製造
や収率の向上に寄与することができる。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の検査装置、検査方法および光記録媒体の製造方法に
よるときは、従来にない高精度で欠陥を検査することが
できるとともに、該欠陥の位置、サイズ、形状、分布を
視覚的に容易に認識することができ、欠陥の分析と光記
録媒体製造工程への早期のフィードバックを容易に行う
ことができる。その結果、より高い検査精度によるより
確実な品質保証、製造工程への的確なフィードバックに
よる生産性の向上をはかることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施態様に係る光記録媒体の検査装
置の概略構成図である。

【図２】図１の装置による検査結果の一例を示す光記録
媒体記録面の平面図である。

【図３】図１の装置による別の検査結果を示す光記録媒
体記録面の平面図である。

【図４】図２の平面図の一部を拡大した部分平面図であ
る。

【符号の説明】

１ 光記録媒体 ２ 記録面 ３ ドライブ装置 ４ ビットエラー検出手段 ５ 光学ヘッド ６ レーザ光 ７ コンピュータコントローラ ８ ビットエラー発生部位算出手段 ９ 欠陥サイズ算出手段 １０ 対応位置・サイズ算出手段 １１ プロッタ １２ 拡大手段 １３ 欠陥部位・サイズ表示手段 １４ 共通欠陥検出手段 ２１、２２ 表示画面としての記録面平面図

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 20/18 ５７２ 9558−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 20/18 ５７２Ｆ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光記録媒体に予め設定したパターンのデ
   ータを記録し、再生したデータと記録したデータのパタ
   ーンを比較してビットエラーを検出するビットエラー検
   出手段と、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部位を
   算出するビットエラー発生部位算出手段と、前記ビット
   エラーの発生部位のひろがりまたは発生度数から欠陥サ
   イズを算出する欠陥サイズ算出手段と、前記ビットエラ
   ー発生部位算出手段と前記欠陥サイズ算出手段の算出結
   果から光記録媒体の記録面に対応する表示画面にビット
   エラーの発生部位と欠陥サイズをプロットする欠陥部位
   ・サイズ表示手段と、を有することを特徴とする光記録
   媒体の検査装置。
2. 【請求項２】 複数の光記録媒体についての前記ビット
   エラー発生部位算出手段による算出結果に基づき、前記
   複数の光記録媒体に共通するビットエラー発生部位を割
   り出す共通欠陥検出手段を有する、請求項１の光記録媒
   体の検査装置。
3. 【請求項３】 前記欠陥部位・サイズ表示手段が、前記
   表示画面のプロット部位の一部を拡大表示する機能を有
   している、請求項１または２の光記録媒体の検査装置。
4. 【請求項４】 光記録媒体に予め設定したパターンのデ
   ータを記録し、再生したデータと記録したデータのパタ
   ーンを比較してビットエラーを検出するビットエラー検
   出ステップと、該ビットエラーの光記録媒体上の発生部
   位を算出するビットエラー発生部位算出ステップと、前
   記ビットエラーの発生部位のひろがりまたは発生度数か
   ら欠陥サイズを算出する欠陥サイズ算出ステップと、前
   記ビットエラー発生部位算出ステップと前記欠陥サイズ
   算出ステップの算出結果から光記録媒体の記録面に対応
   する表示画面にビットエラーの発生部位と欠陥サイズを
   プロットする欠陥部位・サイズ表示ステップと、を有す
   ることを特徴とする光記録媒体の検査方法。
5. 【請求項５】 請求項４の光記録媒体の検査方法に基づ
   く検査工程を有することを特徴とする光記録媒体の製造
   方法。