JPH0967353A - 保護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法 - Google Patents
保護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法Info
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- JPH0967353A JPH0967353A JP7221266A JP22126695A JPH0967353A JP H0967353 A JPH0967353 A JP H0967353A JP 7221266 A JP7221266 A JP 7221266A JP 22126695 A JP22126695 A JP 22126695A JP H0967353 A JPH0967353 A JP H0967353A
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- chloride
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- acid
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Abstract
(57)【要約】
【課題】穏和な条件下で、アミノ基及び水酸基を同一分
子内に有する化合物を原料として、アミノ基はそのまま
残し、水酸基のみが選択的に保護されたチアゾール酢酸
誘導体を高収率で得る。 【解決手段】アミノ基及び水酸基を有する特定の一般式
で示される化合物、例えば2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルとハロゲン
化アラルキルまたは酸ハロゲン化物、例えば塩化トリフ
ェニルメチルとを混合し、これにさらに強塩基を混合す
る。
子内に有する化合物を原料として、アミノ基はそのまま
残し、水酸基のみが選択的に保護されたチアゾール酢酸
誘導体を高収率で得る。 【解決手段】アミノ基及び水酸基を有する特定の一般式
で示される化合物、例えば2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルとハロゲン
化アラルキルまたは酸ハロゲン化物、例えば塩化トリフ
ェニルメチルとを混合し、これにさらに強塩基を混合す
る。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、水酸基を有するチ
アゾール化合物を、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロ
ゲン化物と反応させて、水酸基が保護されたチアゾール
酢酸誘導体を工業的に有利に製造する方法に関する。
アゾール化合物を、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロ
ゲン化物と反応させて、水酸基が保護されたチアゾール
酢酸誘導体を工業的に有利に製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−ヒドロキシイミノ酢酸エステルは、医薬品製造の原
料として有用であり、例えば、このもののアミノ基また
は水酸基を保護基で保護した後、セフェム系等の抗生物
質を製造する際の原料として使用される。
2−ヒドロキシイミノ酢酸エステルは、医薬品製造の原
料として有用であり、例えば、このもののアミノ基また
は水酸基を保護基で保護した後、セフェム系等の抗生物
質を製造する際の原料として使用される。
【0003】しかして、このような水酸基を有するチア
ゾール化合物における、その水酸基を保護する方法とし
ては、本発明者らの出願である特開平7−97368号
公報における方法が既に知られている。即ち、2−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢
酸エチル等に1.1倍当量の強塩基つまり水素化ナトリ
ウム等を加え、次いで同じく1.1倍当量のハロゲン化
アラルキルまたは酸ハロゲン化物つまり塩化トリフェニ
ルメチル等を加えて反応させる方法である。ここで、該
公報では、上記各製造原料は、かかる配合順序で混合す
る態様しか具体的に開示されていない。
ゾール化合物における、その水酸基を保護する方法とし
ては、本発明者らの出願である特開平7−97368号
公報における方法が既に知られている。即ち、2−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢
酸エチル等に1.1倍当量の強塩基つまり水素化ナトリ
ウム等を加え、次いで同じく1.1倍当量のハロゲン化
アラルキルまたは酸ハロゲン化物つまり塩化トリフェニ
ルメチル等を加えて反応させる方法である。ここで、該
公報では、上記各製造原料は、かかる配合順序で混合す
る態様しか具体的に開示されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような反応におい
ては、目的化合物の他に水酸基及びアミノ基の両方が保
護された下記一般式(III)
ては、目的化合物の他に水酸基及びアミノ基の両方が保
護された下記一般式(III)
【0005】
【化3】
【0006】(但し、R1及びR2は上記式(I)と同じ
である。)で示されるような化合物が副生するため、こ
れを如何にして抑え、目的物の選択率を上げるかが大き
な課題である。
である。)で示されるような化合物が副生するため、こ
れを如何にして抑え、目的物の選択率を上げるかが大き
な課題である。
【0007】その点、本発明者らの上記の技術は、選択
的に水酸基を保護する方法として有用であるが、更に選
択率を上げることが望まれていた。
的に水酸基を保護する方法として有用であるが、更に選
択率を上げることが望まれていた。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは改良を重ね
た結果、上記のような反応を行う際、上記式(I)で示
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物の反応において、これらを先に混合して、その後に
強塩基を混合すれば、更に選択性良く水酸基のみを保護
できることを見いだし、本発明を完成するに至った。
た結果、上記のような反応を行う際、上記式(I)で示
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物の反応において、これらを先に混合して、その後に
強塩基を混合すれば、更に選択性良く水酸基のみを保護
できることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0009】即ち、本発明は、一般式(I)
【0010】
【化4】
【0011】(但し、R1はカルボキシル基の保護基で
ある。)で示される化合物とハロゲン化アラルキルまた
は酸ハロゲン化物とを混合後、さらに強塩基を混合する
ことを特徴とする一般式(II)
ある。)で示される化合物とハロゲン化アラルキルまた
は酸ハロゲン化物とを混合後、さらに強塩基を混合する
ことを特徴とする一般式(II)
【0012】
【化5】
【0013】(但し、R1は上記式(I)と同じであ
り、R2はハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物
からハロゲン原子を除いた残基である。)で示される保
護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法である。
り、R2はハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物
からハロゲン原子を除いた残基である。)で示される保
護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法である。
【0014】上記式(I)において、R1で示されるカ
ルボキシル基の保護基は、エステル、活性エステル等の
カルボン酸誘導体を形成し、脱離可能な基であれば何等
差し支えない。例えば、アルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、置換されていても良いアリール基またはN
−置換スクシンイミド基等を挙げることができる。これ
らの基をより具体的に説明すると、例えば、アルキル基
はメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基等の炭
素数が1〜4の低級アルキル基が好適であり、アルケニ
ル基はプロペニル基、アリル基、ヘキセニル基等の炭素
数が3〜6の基が好適であり、アラルキル基はベンジル
基、p−メトキシベンジル基、トリフェニルメチル基等
の炭素数が7〜19の基が好適であり、置換されていて
もよいアリール基はフェニル基、トリル基、キシリル
基、p−ニトロフェニル基等の炭素数が6〜8の基が好
適であり、N−置換スクシンイミド基はN−ヒドロキシ
スクシンイミド基が好適である。中でも脱離の容易さ、
及び取扱いの容易さを考慮すると、アルキル基を好適に
採用することができる。
ルボキシル基の保護基は、エステル、活性エステル等の
カルボン酸誘導体を形成し、脱離可能な基であれば何等
差し支えない。例えば、アルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、置換されていても良いアリール基またはN
−置換スクシンイミド基等を挙げることができる。これ
らの基をより具体的に説明すると、例えば、アルキル基
はメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基等の炭
素数が1〜4の低級アルキル基が好適であり、アルケニ
ル基はプロペニル基、アリル基、ヘキセニル基等の炭素
数が3〜6の基が好適であり、アラルキル基はベンジル
基、p−メトキシベンジル基、トリフェニルメチル基等
の炭素数が7〜19の基が好適であり、置換されていて
もよいアリール基はフェニル基、トリル基、キシリル
基、p−ニトロフェニル基等の炭素数が6〜8の基が好
適であり、N−置換スクシンイミド基はN−ヒドロキシ
スクシンイミド基が好適である。中でも脱離の容易さ、
及び取扱いの容易さを考慮すると、アルキル基を好適に
採用することができる。
【0015】本発明に用い得る上記一般式(I)で示さ
れる化合物を具体的に例示すると、例えば、2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸
メチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒ
ドロキシイミノ酢酸エチル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸t−ブチル、2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイ
ミノ酢酸アリル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−2−ヒドロキシイミノ酢酸ベンジル、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸−N
−ヒドロキシンイミドエステル等を挙げることができ
る。
れる化合物を具体的に例示すると、例えば、2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸
メチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒ
ドロキシイミノ酢酸エチル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸t−ブチル、2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイ
ミノ酢酸アリル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−2−ヒドロキシイミノ酢酸ベンジル、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸−N
−ヒドロキシンイミドエステル等を挙げることができ
る。
【0016】なお、上記一般式(I)で示される化合物
において、オキシイミノ基に関して理論的にシン及びア
ンチの両異性体が存在し得るが、本発明においては両者
とも同様に用いることができる。
において、オキシイミノ基に関して理論的にシン及びア
ンチの両異性体が存在し得るが、本発明においては両者
とも同様に用いることができる。
【0017】本発明では、まず、上記一般式(I)で示
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物とを混合する。ここで、ハロゲン化アラルキルまた
は酸ハロゲン化物は公知の化合物を何等制限なく採用で
きる。これらの化合物におけるハロゲン原子としてはフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子が好適である。ハロゲン
化アラルキルは、アラルキル基に上記ハロゲン原子が結
合した化合物であり、酸ハロゲン化物は、カルボン酸及
びスルホン酸の水酸基を上記ハロゲン原子で置換した化
合物である。
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物とを混合する。ここで、ハロゲン化アラルキルまた
は酸ハロゲン化物は公知の化合物を何等制限なく採用で
きる。これらの化合物におけるハロゲン原子としてはフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子が好適である。ハロゲン
化アラルキルは、アラルキル基に上記ハロゲン原子が結
合した化合物であり、酸ハロゲン化物は、カルボン酸及
びスルホン酸の水酸基を上記ハロゲン原子で置換した化
合物である。
【0018】これらの化合物を具体的に例示すると、ハ
ロゲン化アラルキルは、例えば塩化ベンジル、臭化ベン
ジル、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル等を挙げることができ、酸ハロゲン化物は、例えばフ
ッ化アセチル、塩化アセチル、臭化アセチル、塩化クロ
ロアセチル、塩化ジクロロアセチル、塩化トリクロロア
セチル、塩化ピバロイル、塩化メトキシカルボニル、塩
化トリクロロエトキシカルボニル、塩化メトキシアセチ
ル、塩化ベンジロキシカルボニル、塩化p−ニトロベン
ジロキシカルボニル、塩化4−エトキシ−1−ナフトキ
シカルボニル、塩化フェニルアセチル、塩化9−フルオ
レニルメトキシカルボニル、塩化ビニロキシカルボニ
ル、塩化アリロキシカルボニル、塩化フェニルスルホニ
ルエトキシカルボニル、塩化トリフェニルホスフィノエ
トキシカルボニル、フッ化ベンゾイル、塩化ベンゾイ
ル、臭化ベンゾイル、塩化p−フェニルベンゾイル、塩
化トリメチルベンゾイル、塩化ナフトイル、フッ化メタ
ンスルホニル、塩化メタンスルホニル、塩化エタンスル
ホニル、フッ化ベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスル
ホニル、フッ化p−トルエンスルホニル、塩化p−トル
エンスルホニル、フッ化ニトロベンゼンスルホニル、塩
化ニトロベンゼンスルホニル等を挙げることができる。
ロゲン化アラルキルは、例えば塩化ベンジル、臭化ベン
ジル、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル等を挙げることができ、酸ハロゲン化物は、例えばフ
ッ化アセチル、塩化アセチル、臭化アセチル、塩化クロ
ロアセチル、塩化ジクロロアセチル、塩化トリクロロア
セチル、塩化ピバロイル、塩化メトキシカルボニル、塩
化トリクロロエトキシカルボニル、塩化メトキシアセチ
ル、塩化ベンジロキシカルボニル、塩化p−ニトロベン
ジロキシカルボニル、塩化4−エトキシ−1−ナフトキ
シカルボニル、塩化フェニルアセチル、塩化9−フルオ
レニルメトキシカルボニル、塩化ビニロキシカルボニ
ル、塩化アリロキシカルボニル、塩化フェニルスルホニ
ルエトキシカルボニル、塩化トリフェニルホスフィノエ
トキシカルボニル、フッ化ベンゾイル、塩化ベンゾイ
ル、臭化ベンゾイル、塩化p−フェニルベンゾイル、塩
化トリメチルベンゾイル、塩化ナフトイル、フッ化メタ
ンスルホニル、塩化メタンスルホニル、塩化エタンスル
ホニル、フッ化ベンゼンスルホニル、塩化ベンゼンスル
ホニル、フッ化p−トルエンスルホニル、塩化p−トル
エンスルホニル、フッ化ニトロベンゼンスルホニル、塩
化ニトロベンゼンスルホニル等を挙げることができる。
【0019】上記の中でも、塩化トリフェニルメチルを
好適に採用することができる。
好適に採用することができる。
【0020】上記のハロゲン化アラルキルまたは酸ハロ
ゲン化物の使用量は、原料である一般式(I)で示され
る化合物に対して当量以上用いれば特に制限されるもの
ではない。ただ、あまり過剰に使用すると経済的に有利
でなく、反応後のこれらの化合物または処理行程におい
てこれらが変化した化合物の除去等の手間を考えると、
原料に対して3倍モル当量までの範囲であることが好ま
しく、更には2倍モル当量までの範囲であることが好ま
しい。
ゲン化物の使用量は、原料である一般式(I)で示され
る化合物に対して当量以上用いれば特に制限されるもの
ではない。ただ、あまり過剰に使用すると経済的に有利
でなく、反応後のこれらの化合物または処理行程におい
てこれらが変化した化合物の除去等の手間を考えると、
原料に対して3倍モル当量までの範囲であることが好ま
しく、更には2倍モル当量までの範囲であることが好ま
しい。
【0021】次に、本発明では、前記一般式(I)で示
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物とを混合後に、これにさらに強塩基を混合する。即
ち、本発明における最大の特徴は、このような順序で、
一般式(I)で示される化合物、ハロゲン化アラルキル
または酸ハロゲン化物及び強塩基を混合して、前記式
(II)で示されるチアゾール酢酸誘導体を製造する点に
ある。通常、このような反応を行う際には、前記公知技
術の如く、強塩基は、生成するハロゲン化水素を中和す
るために、ハロゲン化アラルキルや酸ハロゲン化物より
も先に反応系に配合しておくのが普通である。しかし、
本発明の場合、上記一般式(I)で示される化合物とハ
ロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物を混合しても
反応はほとんど進行せず、従ってハロゲン化水素も発生
せず、これに強塩基を混合することによって初めて反応
が進行する。よって、本発明の場合、上記の如く強塩基
を後に混合する手法が可能になる。そうして、このよう
に強塩基を後に混合した場合、目的物の選択率が大きく
向上する。
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物とを混合後に、これにさらに強塩基を混合する。即
ち、本発明における最大の特徴は、このような順序で、
一般式(I)で示される化合物、ハロゲン化アラルキル
または酸ハロゲン化物及び強塩基を混合して、前記式
(II)で示されるチアゾール酢酸誘導体を製造する点に
ある。通常、このような反応を行う際には、前記公知技
術の如く、強塩基は、生成するハロゲン化水素を中和す
るために、ハロゲン化アラルキルや酸ハロゲン化物より
も先に反応系に配合しておくのが普通である。しかし、
本発明の場合、上記一般式(I)で示される化合物とハ
ロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物を混合しても
反応はほとんど進行せず、従ってハロゲン化水素も発生
せず、これに強塩基を混合することによって初めて反応
が進行する。よって、本発明の場合、上記の如く強塩基
を後に混合する手法が可能になる。そうして、このよう
に強塩基を後に混合した場合、目的物の選択率が大きく
向上する。
【0022】なお、本発明において、目的物である一般
式(II)のR2は、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロ
ゲン化物からハロゲン原子を除いた残基を示す。
式(II)のR2は、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロ
ゲン化物からハロゲン原子を除いた残基を示す。
【0023】本発明において好適に使用することができ
る強塩基としては無機、有機を問わず電離定数の大きい
公知の塩基を何等制限なく採用することができる。例え
ば、該強塩基を共役塩基とする酸のpKaが15以上の
塩基が好適である。具体的には、有機強塩基としては、
例えばアルキル金属、金属アルコキシド、アセチリド、
有機金属アミド等を挙げることができ、無機強塩基とし
ては、例えば金属水素化物、金属水酸化物、無機金属ア
ミド等を挙げることができる。
る強塩基としては無機、有機を問わず電離定数の大きい
公知の塩基を何等制限なく採用することができる。例え
ば、該強塩基を共役塩基とする酸のpKaが15以上の
塩基が好適である。具体的には、有機強塩基としては、
例えばアルキル金属、金属アルコキシド、アセチリド、
有機金属アミド等を挙げることができ、無機強塩基とし
ては、例えば金属水素化物、金属水酸化物、無機金属ア
ミド等を挙げることができる。
【0024】本発明において好適に採用し得る強塩基を
より具体的に例示すると、有機強塩基としては、メチル
リチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム等の
アルキル金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブト
キシド、ナトリウムフェノキシド等の金属アルコキシ
ド;リチウムアセチリド、ナトリウムアセチリド等のア
セチリド;リチウムジ−i−プロピルアミド等の有機金
属アミドが好適である。また、無機強塩基としては、水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の
金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
金属水酸化物;ナトリウムアミド等の無機金属アミドが
好適である。
より具体的に例示すると、有機強塩基としては、メチル
リチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム等の
アルキル金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブト
キシド、ナトリウムフェノキシド等の金属アルコキシ
ド;リチウムアセチリド、ナトリウムアセチリド等のア
セチリド;リチウムジ−i−プロピルアミド等の有機金
属アミドが好適である。また、無機強塩基としては、水
素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の
金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
金属水酸化物;ナトリウムアミド等の無機金属アミドが
好適である。
【0025】上記強塩基の中でも、金属アルコキシド、
特にカリウムt−ブトキシドを用いた場合は、目的物の
選択率が高く、本発明において好適に採用することがで
きる。
特にカリウムt−ブトキシドを用いた場合は、目的物の
選択率が高く、本発明において好適に採用することがで
きる。
【0026】本発明において、上記の強塩基の使用量
は、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物に対し
て、等モル量より多く3倍モル当量以下の範囲で用いる
と、目的物の選択率が高いために好適である。
は、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物に対し
て、等モル量より多く3倍モル当量以下の範囲で用いる
と、目的物の選択率が高いために好適である。
【0027】本発明において、弱塩基、例えば該強塩基
を共役塩基とする酸のpKaが15より低い塩基である
炭酸カリウム(pKa10.3)、トリエチルアミン
(pKa10.9)、及びピリジン(pKa5.2)等
を使用すると、上記したように目的物は得られずにアミ
ノ基の方に反応が起こるため好ましくない。
を共役塩基とする酸のpKaが15より低い塩基である
炭酸カリウム(pKa10.3)、トリエチルアミン
(pKa10.9)、及びピリジン(pKa5.2)等
を使用すると、上記したように目的物は得られずにアミ
ノ基の方に反応が起こるため好ましくない。
【0028】本発明における反応は、有機溶媒中でも或
いは無溶媒でも進行するが、反応混合物を均一に撹拌す
るためには、有機溶媒中で反応を行うことが好ましい。
用い得る溶媒としては特に制限されず、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素類;アセトニトリル等のニトリ
ル類;1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル等の
エステル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン等のアミド類;クロロホルム、ジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;あ
るいはジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等
のカーボネート類等を使用することができる。また、メ
タノール、エタノール、2−プロパノール、2−メチル
−2−プロパノール等のアルコール類も本反応の溶媒と
して同様に用いることができるが、アルコールはプロト
ン性溶媒であるので、好適には3級アルコールを使用す
ることが好ましく、強塩基として、特に金属アルコキシ
ドを用いる場合には、溶媒としてアルコキシドに対応す
るアルコールを使用することが好ましい。
いは無溶媒でも進行するが、反応混合物を均一に撹拌す
るためには、有機溶媒中で反応を行うことが好ましい。
用い得る溶媒としては特に制限されず、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプ
タン等の脂肪族炭化水素類;アセトニトリル等のニトリ
ル類;1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル等の
エステル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリ
ドン等のアミド類;クロロホルム、ジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;あ
るいはジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等
のカーボネート類等を使用することができる。また、メ
タノール、エタノール、2−プロパノール、2−メチル
−2−プロパノール等のアルコール類も本反応の溶媒と
して同様に用いることができるが、アルコールはプロト
ン性溶媒であるので、好適には3級アルコールを使用す
ることが好ましく、強塩基として、特に金属アルコキシ
ドを用いる場合には、溶媒としてアルコキシドに対応す
るアルコールを使用することが好ましい。
【0029】上記有機溶媒の中でも、1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類を使用した場合
は目的物の収率及び選択率が高く、特に好適に採用する
ことができる。
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類を使用した場合
は目的物の収率及び選択率が高く、特に好適に採用する
ことができる。
【0030】これらの有機溶媒は、単一で使用してもよ
く、また2種類以上の混合溶媒で使用しても全く差し支
えない。また、水と相溶する有機溶媒は、水と混合した
状態で使用してもよい。使用する有機溶媒の量としては
特に制限されないが、あまり少ないと撹拌に影響を及ぼ
し、あまり多いと生産効率が下がるため、一般有機溶媒
中での一般式(I)で示される化合物の濃度が0.1〜
50重量%、好ましくは0.5〜40重量%、更に好ま
しくは1〜30重量%の範囲になるように有機溶媒を使
用するのが好ましい。
く、また2種類以上の混合溶媒で使用しても全く差し支
えない。また、水と相溶する有機溶媒は、水と混合した
状態で使用してもよい。使用する有機溶媒の量としては
特に制限されないが、あまり少ないと撹拌に影響を及ぼ
し、あまり多いと生産効率が下がるため、一般有機溶媒
中での一般式(I)で示される化合物の濃度が0.1〜
50重量%、好ましくは0.5〜40重量%、更に好ま
しくは1〜30重量%の範囲になるように有機溶媒を使
用するのが好ましい。
【0031】本反応における反応温度は特に制限されな
いが、あまり温度が低いと系全体が凝固したり、反応速
度が小さくなり、逆に温度が高いと副生物の生成または
生成物の着色等が起こるため、通常、系の凝固点〜80
℃の範囲、好ましくは0〜50℃の範囲で行うのがよ
い。
いが、あまり温度が低いと系全体が凝固したり、反応速
度が小さくなり、逆に温度が高いと副生物の生成または
生成物の着色等が起こるため、通常、系の凝固点〜80
℃の範囲、好ましくは0〜50℃の範囲で行うのがよ
い。
【0032】反応は常圧、加圧、減圧のいずれの場合も
実行可能であり、反応に要する時間は反応温度、溶媒、
用いる酸の種類によっても異なるが、通常は、0.1〜
30時間の反応で十分である。
実行可能であり、反応に要する時間は反応温度、溶媒、
用いる酸の種類によっても異なるが、通常は、0.1〜
30時間の反応で十分である。
【0033】このようにして、上記一般式(I)で示さ
れる化合物を、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物と反応させて、上記式(II)で示される水酸基のみ
が保護されたチアゾール酢酸誘導体を工業的に有利に製
造することができる。
れる化合物を、ハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物と反応させて、上記式(II)で示される水酸基のみ
が保護されたチアゾール酢酸誘導体を工業的に有利に製
造することができる。
【0034】
【発明の効果】本発明によれば、上記一般式(I)で示
される化合物、即ち、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エステルを、穏和な条
件下、良好な反応速度で且つ高収率、高選択率で、その
水酸基のみを保護基で保護することができる。本発明で
得られる保護された水酸基を有するチアゾール酢酸誘導
体は、セフェム系抗生物質等の医薬品製造の中間体とし
て有用であり、本発明は工業的に極めて有用である。
される化合物、即ち、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エステルを、穏和な条
件下、良好な反応速度で且つ高収率、高選択率で、その
水酸基のみを保護基で保護することができる。本発明で
得られる保護された水酸基を有するチアゾール酢酸誘導
体は、セフェム系抗生物質等の医薬品製造の中間体とし
て有用であり、本発明は工業的に極めて有用である。
【0035】
【実施例】以下、実施例及び比較例を掲げて本発明を説
明するが、本発明はこれら実施例に制限されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に制限されるものでは
ない。
【0036】実施例1 温度計を供えた500mlの四つ口コルベンに、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミ
ノ酢酸エチル21.52g(0.10mmol)及びジ
クロロメタン250ml及び塩化トリフェニルメチル3
0.67g(0.11mol)を加えた。次いで、これ
に、氷冷下フェニルリチウム(シクロヘキサン−エーテ
ル溶液)61ml(0.11mol)を加え、氷浴を取
り除いた後、撹拌を続けた。室温で12時間撹拌した
後、高速液体クロマトグラフィー(以後HPLCと略称
する)で定量したところ、93.1%の収率で2−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−2−トリフェニルメトキ
シイミノ酢酸エチルが得られた。この時、副生物である
2−(2−トリフェニルメチルアミノ−4−チアゾリ
ル)−2−トリフェニルメトキシイミノ酢酸エチルは
5.8%生成していた。
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミ
ノ酢酸エチル21.52g(0.10mmol)及びジ
クロロメタン250ml及び塩化トリフェニルメチル3
0.67g(0.11mol)を加えた。次いで、これ
に、氷冷下フェニルリチウム(シクロヘキサン−エーテ
ル溶液)61ml(0.11mol)を加え、氷浴を取
り除いた後、撹拌を続けた。室温で12時間撹拌した
後、高速液体クロマトグラフィー(以後HPLCと略称
する)で定量したところ、93.1%の収率で2−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−2−トリフェニルメトキ
シイミノ酢酸エチルが得られた。この時、副生物である
2−(2−トリフェニルメチルアミノ−4−チアゾリ
ル)−2−トリフェニルメトキシイミノ酢酸エチルは
5.8%生成していた。
【0037】比較例1 実施例1において、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルのジクロロメタ
ン溶液に、先に、氷冷下フェニルリチウムを加え撹拌し
た後、次いで、塩化トリフェニルメチルを加えた以外は
実施例1と同様にして反応を行った。反応後の反応液を
HPLCで分析、定量したところ、89.0%の収率で
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−トリフェニ
ルメトキシイミノ酢酸エチルが生成していた。この時、
副生物である2−(2−トリフェニルメチルアミノ−4
−チアゾリル)−2−トリフェニルメトキシイミノ酢酸
エチルは10.3%生成していた。
ル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルのジクロロメタ
ン溶液に、先に、氷冷下フェニルリチウムを加え撹拌し
た後、次いで、塩化トリフェニルメチルを加えた以外は
実施例1と同様にして反応を行った。反応後の反応液を
HPLCで分析、定量したところ、89.0%の収率で
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−トリフェニ
ルメトキシイミノ酢酸エチルが生成していた。この時、
副生物である2−(2−トリフェニルメチルアミノ−4
−チアゾリル)−2−トリフェニルメトキシイミノ酢酸
エチルは10.3%生成していた。
【0038】実施例2 温度計を供えた500mlの四つ口コルベンに、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミ
ノ酢酸エチル21.52g(0.10mmol)、テト
ラヒドロフラン250ml及び塩化トリフェニルメチル
30.67g(0.11mol)を加えた。次いで、こ
れに、氷冷下カリウムt−ブトキシド12.34g
(0.11mol)を加え、氷浴を取り除いた後、撹拌
を続けた。室温で2時間撹拌した後、HPLCで定量し
たところ、96.2%の収率で2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−トリフェニルメトキシイミノ酢酸エ
チルが生成していた。この時、副生物である2−(2−
トリフェニルメチルアミノ−4−チアゾリル)−2−ト
リフェニルメトキシイミノ酢酸エチルは3.5%生成し
ていた。
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミ
ノ酢酸エチル21.52g(0.10mmol)、テト
ラヒドロフラン250ml及び塩化トリフェニルメチル
30.67g(0.11mol)を加えた。次いで、こ
れに、氷冷下カリウムt−ブトキシド12.34g
(0.11mol)を加え、氷浴を取り除いた後、撹拌
を続けた。室温で2時間撹拌した後、HPLCで定量し
たところ、96.2%の収率で2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−トリフェニルメトキシイミノ酢酸エ
チルが生成していた。この時、副生物である2−(2−
トリフェニルメチルアミノ−4−チアゾリル)−2−ト
リフェニルメトキシイミノ酢酸エチルは3.5%生成し
ていた。
【0039】比較例2 実施例2において、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルのテトラヒドロ
フラン溶液に、先に、氷冷下カリウムt−ブトキシドを
加え撹拌した後、次いで、塩化トリフェニルメチルを加
えた以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応後
の反応液をHPLCで分析、定量したところ、80.3
%の収率で2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
トリフェニルメトキシイミノ酢酸エチルが生成してい
た。この時、副生物である2−(2−トリフェニルメチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−トリフェニルメトキ
シイミノ酢酸エチルは13.4%生成していた。
ル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸エチルのテトラヒドロ
フラン溶液に、先に、氷冷下カリウムt−ブトキシドを
加え撹拌した後、次いで、塩化トリフェニルメチルを加
えた以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応後
の反応液をHPLCで分析、定量したところ、80.3
%の収率で2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
トリフェニルメトキシイミノ酢酸エチルが生成してい
た。この時、副生物である2−(2−トリフェニルメチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−トリフェニルメトキ
シイミノ酢酸エチルは13.4%生成していた。
【0040】実施例2〜6 表1に示す強塩基を用い、基質となる化合物に対して
1.1倍モルの塩化トリフェニルメチルを使用し、実施
例2と同様に反応を行った結果を表1に示した。
1.1倍モルの塩化トリフェニルメチルを使用し、実施
例2と同様に反応を行った結果を表1に示した。
【0041】
【表1】
【0042】実施例7〜11 表2に示すハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物
を使用して実施例2と同様に操作し、その結果を表2に
示した。
を使用して実施例2と同様に操作し、その結果を表2に
示した。
【0043】
【表2】
【0044】実施例12〜15 表3に示すチアゾール化合物を基質として実施例2と同
様に操作し、その結果を表3に示した。
様に操作し、その結果を表3に示した。
【0045】
【表3】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年9月6日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】上記のハロゲン化アラルキルまたは酸ハロ
ゲン化物の使用量は、原料である一般式(I)で示され
る化合物に対して当量以上用いれば特に制限されるもの
ではない。ただ、あまり過剰に使用すると経済的に有利
でなく、反応後のこれらの化合物または処理工程におい
てこれらが変化した化合物の除去等の手間を考えると、
原料に対して3倍モル当量までの範囲であることが好ま
しく、更には2倍モル当量までの範囲であることが好ま
しい。
ゲン化物の使用量は、原料である一般式(I)で示され
る化合物に対して当量以上用いれば特に制限されるもの
ではない。ただ、あまり過剰に使用すると経済的に有利
でなく、反応後のこれらの化合物または処理工程におい
てこれらが変化した化合物の除去等の手間を考えると、
原料に対して3倍モル当量までの範囲であることが好ま
しく、更には2倍モル当量までの範囲であることが好ま
しい。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (但し、R1はカルボキシル基の保護基である。)で示
される化合物とハロゲン化アラルキルまたは酸ハロゲン
化物とを混合後、さらに強塩基を混合することを特徴と
する一般式(II) 【化2】 (但し、R1は上記式(I)と同じであり、R2はハロゲ
ン化アラルキルまたは酸ハロゲン化物からハロゲン原子
を除いた残基である。)で示される保護水酸基含有チア
ゾール酢酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7221266A JPH0967353A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 保護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7221266A JPH0967353A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 保護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967353A true JPH0967353A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16764088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7221266A Pending JPH0967353A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 保護水酸基含有チアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0967353A (ja) |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP7221266A patent/JPH0967353A/ja active Pending
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