JPH1025283A - ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 - Google Patents
２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法Info
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- JPH1025283A JPH1025283A JP8183752A JP18375296A JPH1025283A JP H1025283 A JPH1025283 A JP H1025283A JP 8183752 A JP8183752 A JP 8183752A JP 18375296 A JP18375296 A JP 18375296A JP H1025283 A JPH1025283 A JP H1025283A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】温和な条件下で、２−（２−アルコキシカルボ
ニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸の如き、２−ア
ミノチアゾール酢酸誘導体を簡便に得る。 【解決手段】２−（２−アルコキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸エステルの如きチアゾール誘
導体を水に相溶しない有機溶媒に溶解させ、これと塩基
性水溶液を接触させ、該水溶液を酸によって中和する。
ニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸の如き、２−ア
ミノチアゾール酢酸誘導体を簡便に得る。 【解決手段】２−（２−アルコキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸エステルの如きチアゾール誘
導体を水に相溶しない有機溶媒に溶解させ、これと塩基
性水溶液を接触させ、該水溶液を酸によって中和する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の２−アミノ
チアゾール酢酸誘導体エステルを単離する事なくその加
水分解物である、２−アミノチアゾール酢酸誘導体を工
業的に製造する方法に関する。
チアゾール酢酸誘導体エステルを単離する事なくその加
水分解物である、２−アミノチアゾール酢酸誘導体を工
業的に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】下記式（II）で示されるチアゾール誘導
体は、医薬品製造の中間体として有用な化合物であり、
例えば、セフェム系等の抗生物質の側鎖として用いられ
る重要な化合物である。
体は、医薬品製造の中間体として有用な化合物であり、
例えば、セフェム系等の抗生物質の側鎖として用いられ
る重要な化合物である。
【０００３】
【化４】
【０００４】（但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基で
あり、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水素原子、
アルキル基、水酸基の保護基である。）であり、Ｒ3は
アミノ基の保護基である。） 上記化合物は、β−ラクタム系化合物、例えば７−アミ
ノセファロスポラン酸誘導体等とアミド化反応によって
結合され、抗生物質の基本骨格を形成する。
あり、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水素原子、
アルキル基、水酸基の保護基である。）であり、Ｒ3は
アミノ基の保護基である。） 上記化合物は、β−ラクタム系化合物、例えば７−アミ
ノセファロスポラン酸誘導体等とアミド化反応によって
結合され、抗生物質の基本骨格を形成する。
【０００５】その際、上記式（II）で示されたチアゾー
ル誘導体は、７−アミノセファロスポラン酸誘導体との
反応を容易にするため、カルボキシル基の保護基を脱離
させた、下記式（III）
ル誘導体は、７−アミノセファロスポラン酸誘導体との
反応を容易にするため、カルボキシル基の保護基を脱離
させた、下記式（III）
【０００６】
【化５】
【０００７】（但し、Ｒ2はアミノ基の保護基であり、
Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ3（但し、
Ｒ3は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基であ
る。）である。）で示される２−アミノチアゾール酢酸
誘導体に変換して用いられる。
Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ3（但し、
Ｒ3は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基であ
る。）である。）で示される２−アミノチアゾール酢酸
誘導体に変換して用いられる。
【０００８】従来、上記式（II）で示されるチアゾール
酢酸誘導体を合成する方法としては、下記式（Ｉ）
酢酸誘導体を合成する方法としては、下記式（Ｉ）
【０００９】
【化６】
【００１０】（但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基で
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、である。）であ
る。）で示される複素環化合物のアミノ基を保護して、
上記式（II）で示されるチアゾール誘導体に変換した
後、これを一度単離或いは溶媒を濃縮して別の溶媒と交
換した後、加水分解等の操作を行うことによってカルボ
キシル基の保護基を脱離させるのが最も一般的な方法で
あった（特開昭５１−１４９２９６号公報、特開平５−
５９０６６号公報）。
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、である。）であ
る。）で示される複素環化合物のアミノ基を保護して、
上記式（II）で示されるチアゾール誘導体に変換した
後、これを一度単離或いは溶媒を濃縮して別の溶媒と交
換した後、加水分解等の操作を行うことによってカルボ
キシル基の保護基を脱離させるのが最も一般的な方法で
あった（特開昭５１−１４９２９６号公報、特開平５−
５９０６６号公報）。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
方法では、上記式（II）で示されるチアゾール誘導体を
合成した後、単離或いは溶媒の交換のため、アミノ基の
保護反応に用いた有機溶媒を留去する等の操作を行わな
ければならない。このため、製造工程が煩雑になる上
に、製造時間も長時間を要してしまうという問題があっ
た。
方法では、上記式（II）で示されるチアゾール誘導体を
合成した後、単離或いは溶媒の交換のため、アミノ基の
保護反応に用いた有機溶媒を留去する等の操作を行わな
ければならない。このため、製造工程が煩雑になる上
に、製造時間も長時間を要してしまうという問題があっ
た。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる実
状に鑑み、課題を解決するため鋭意検討してきた。
状に鑑み、課題を解決するため鋭意検討してきた。
【００１３】その結果、上記式（II）で示されるチアゾ
ール誘導体を水と相溶しない有機溶中で製造した後、該
有機溶媒溶液をアルカリ性水溶液と接触させることによ
って上記式（II）で示されるチアゾール誘導体は、上記
式（III）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体
のアルカリ塩に変換され水溶液に溶解することを見い出
した。
ール誘導体を水と相溶しない有機溶中で製造した後、該
有機溶媒溶液をアルカリ性水溶液と接触させることによ
って上記式（II）で示されるチアゾール誘導体は、上記
式（III）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体
のアルカリ塩に変換され水溶液に溶解することを見い出
した。
【００１４】しかも、かかる水溶液は有機溶媒と容易に
分離でき、得られた水溶液を酸によって中和するだけで
２−アミノチアゾール酢酸誘導体が単離できるため、有
機溶媒の留去操作が必要なく、工程の煩雑さから解消さ
せれることを見い出し本発明を完成させるに至った。
分離でき、得られた水溶液を酸によって中和するだけで
２−アミノチアゾール酢酸誘導体が単離できるため、有
機溶媒の留去操作が必要なく、工程の煩雑さから解消さ
せれることを見い出し本発明を完成させるに至った。
【００１５】即ち、本発明は、下記式（Ｉ）
【００１６】
【化７】
【００１７】（但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基で
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）である複素環化合物を水と相溶しない有機溶
媒中で、アミノ基の保護剤と反応さて下記式（II）
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）である複素環化合物を水と相溶しない有機溶
媒中で、アミノ基の保護剤と反応さて下記式（II）
【００１８】
【化８】
【００１９】（但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基で
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示されるチアゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘
導体を含む有機溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて
該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかるけん化
により生成するチアゾール誘導体のアルカリ塩を塩基性
水溶液に溶解せしめ、次いで、該チアゾール誘導体のア
ルカリ塩を含む塩基性水溶液を酸で中和することによっ
て、下記式（III）
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示されるチアゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘
導体を含む有機溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて
該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかるけん化
により生成するチアゾール誘導体のアルカリ塩を塩基性
水溶液に溶解せしめ、次いで、該チアゾール誘導体のア
ルカリ塩を含む塩基性水溶液を酸で中和することによっ
て、下記式（III）
【００２０】
【化９】
【００２１】（但し、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又
はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸
基の保護基である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基
である。）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体
を単離することを特徴とする２−アミノチアゾール酢酸
誘導体の製造方法である。
はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸
基の保護基である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基
である。）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体
を単離することを特徴とする２−アミノチアゾール酢酸
誘導体の製造方法である。
【００２２】
【発明の実施の形態】上記式（Ｉ）においてＲ1は、カ
ルボキシル基の保護基である。これらカルボキシル基の
保護基は、エステル、活性エステル等の容易に加水分解
することのできるカルボン酸誘導体を形成する基であれ
ば何等差し支えない。例えば、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基、置換されていてもよいアリール基等
を挙げることができる。これらの基を具体的に例示する
と、アルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基等の炭素数が１〜４の低級アルキル
基が好適であり、アルケニル基はアリル基、プロペニル
基、ｉｓｏ−プロペニル基等の炭素数が３〜６の基が好
適であり、アラルキル基はベンジル基、ｐ−メトキシベ
ンジル基、トリチル基等の炭素数７〜１９の基が好適で
あり、置換されていてもよいアリール基は、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ｐ−ニトロフェニル基等の
炭素数６〜８の基が好適である。中でも、入手及び取り
扱いの容易さを考慮すると、アルキル基を好適に採用す
ることができる。
ルボキシル基の保護基である。これらカルボキシル基の
保護基は、エステル、活性エステル等の容易に加水分解
することのできるカルボン酸誘導体を形成する基であれ
ば何等差し支えない。例えば、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基、置換されていてもよいアリール基等
を挙げることができる。これらの基を具体的に例示する
と、アルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基等の炭素数が１〜４の低級アルキル
基が好適であり、アルケニル基はアリル基、プロペニル
基、ｉｓｏ−プロペニル基等の炭素数が３〜６の基が好
適であり、アラルキル基はベンジル基、ｐ−メトキシベ
ンジル基、トリチル基等の炭素数７〜１９の基が好適で
あり、置換されていてもよいアリール基は、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ｐ−ニトロフェニル基等の
炭素数６〜８の基が好適である。中でも、入手及び取り
扱いの容易さを考慮すると、アルキル基を好適に採用す
ることができる。
【００２３】上記式（Ｉ）において、Ｒ2で示される水
酸基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な水
酸基の保護基を何等制限なく採用することができる。例
えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置換ア
ラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリール
スルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキ
ルカルボニル基等を挙げることができる。
酸基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な水
酸基の保護基を何等制限なく採用することができる。例
えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置換ア
ラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリール
スルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキ
ルカルボニル基等を挙げることができる。
【００２４】これらの基を具体的に説明すると、アルキ
ルカルボニル基は、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ−バ
レリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数２〜
５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基は、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等
の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキシアルキル
カルボニル基は、メトキシアセチル基、メトキシプロピ
オニル基が好適であり、置換アルコキシカルボニル基
は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適であり、ア
ラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキシカルボ
ニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−ビフェニ
ル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、イソニコチルオキシ
カルボニル基等の炭素数８〜１５の基が好適であり、置
換アラルキルオキシカルボニル基は、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基等の炭素数８〜９の基が好適であり、アルキ
ルスルホニル基は、メタンスルホニル基、プロパンスル
ホニル基、ｉｓｏ−プロパンスルホニル基、ブタンスル
ホニル基等の炭素数１〜４の基が好適であり、アルキル
スルホニルアルコキシカルボニル基は、メタンスルホニ
ルエチルオキシカルボニル基が好適であり、アリールス
ルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンス
ルホニル基等の炭素数６〜７の基が好適であり、アリー
ルオキシカルボニル基は、ベンゾイル基、トルオイル
基、ナフトイル基、フタロイル基等の炭素数７〜１１の
基が好適であり、アラルキルカルボニル基は、フェニル
アセチル基、フェニルプロピオニル基等の炭素数８〜９
の基を好適に挙げることができ、アルキルシリル基とし
ては、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル
基、トリ−ｉｓｏ−プロピルシリル基等の炭素数３〜９
の基を好適に挙げることができる。
ルカルボニル基は、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ−バ
レリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数２〜
５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基は、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等
の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキシアルキル
カルボニル基は、メトキシアセチル基、メトキシプロピ
オニル基が好適であり、置換アルコキシカルボニル基
は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適であり、ア
ラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキシカルボ
ニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−ビフェニ
ル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、イソニコチルオキシ
カルボニル基等の炭素数８〜１５の基が好適であり、置
換アラルキルオキシカルボニル基は、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基等の炭素数８〜９の基が好適であり、アルキ
ルスルホニル基は、メタンスルホニル基、プロパンスル
ホニル基、ｉｓｏ−プロパンスルホニル基、ブタンスル
ホニル基等の炭素数１〜４の基が好適であり、アルキル
スルホニルアルコキシカルボニル基は、メタンスルホニ
ルエチルオキシカルボニル基が好適であり、アリールス
ルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンス
ルホニル基等の炭素数６〜７の基が好適であり、アリー
ルオキシカルボニル基は、ベンゾイル基、トルオイル
基、ナフトイル基、フタロイル基等の炭素数７〜１１の
基が好適であり、アラルキルカルボニル基は、フェニル
アセチル基、フェニルプロピオニル基等の炭素数８〜９
の基を好適に挙げることができ、アルキルシリル基とし
ては、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル
基、トリ−ｉｓｏ−プロピルシリル基等の炭素数３〜９
の基を好適に挙げることができる。
【００２５】上記式（Ｉ）において示されるアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉｓｏ−
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、
ヘキシル基等の炭素数１〜７の基を好適に挙げることが
できる。
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉｓｏ−
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、
ヘキシル基等の炭素数１〜７の基を好適に挙げることが
できる。
【００２６】上記式（II）において、Ｒ2で示されるア
ミノ基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な
アミノ基の保護基を何等制限なく採用することができ
る。例えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置
換アラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリ
ールスルホニル基、アリールスルフェニル基、アリール
オキシカルボニル基、アラルキルカルボニル基等を挙げ
ることができる。
ミノ基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な
アミノ基の保護基を何等制限なく採用することができ
る。例えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置
換アラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリ
ールスルホニル基、アリールスルフェニル基、アリール
オキシカルボニル基、アラルキルカルボニル基等を挙げ
ることができる。
【００２７】これらの基を具体的に説明すると、アルキ
ルカルボニル基は、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ−バ
レリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数２〜
５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基は、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等
の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキシアルキル
カルボニル基は、メトキシアセチル基、メトキシプロピ
オニル基が好適であり、置換アルコキシカルボニル基
は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適であり、ア
ラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキシカルボ
ニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−ビフェニ
ル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、イソニコチルオキシ
カルボニル基等の炭素数８〜１５の基が好適であり、置
換アラルキルオキシカルボニル基は、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基等の炭素数８〜９の基が好適であり、アルキ
ルスルホニル基は、メタンスルホニル基、プロパンスル
ホニル基、ｉｓｏ−プロパンスルホニル基、ブタンスル
ホニル基等の炭素数１〜４の基が好適であり、アルキル
スルホニルアルコキシカルボニル基は、メタンスルホニ
ルエチルオキシカルボニル基が好適であり、アリールス
ルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンス
ルホニル基等の炭素数６〜７の基が好適であり、アリー
ルオキシカルボニル基は、ベンゾイル基、トルオイル
基、ナフトイル基、フタロイル基等の炭素数７〜１１の
基が好適であり、アラルキルカルボニル基は、フェニル
アセチル基、フェニルプロピオニル基等の炭素数８〜９
の基を好適に挙げることができる。
ルカルボニル基は、アセチル基、プロピオニル基、ブチ
リル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ−バ
レリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数２〜
５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基は、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等
の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキシアルキル
カルボニル基は、メトキシアセチル基、メトキシプロピ
オニル基が好適であり、置換アルコキシカルボニル基
は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適であり、ア
ラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキシカルボ
ニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−ビフェニ
ル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、イソニコチルオキシ
カルボニル基等の炭素数８〜１５の基が好適であり、置
換アラルキルオキシカルボニル基は、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基等の炭素数８〜９の基が好適であり、アルキ
ルスルホニル基は、メタンスルホニル基、プロパンスル
ホニル基、ｉｓｏ−プロパンスルホニル基、ブタンスル
ホニル基等の炭素数１〜４の基が好適であり、アルキル
スルホニルアルコキシカルボニル基は、メタンスルホニ
ルエチルオキシカルボニル基が好適であり、アリールス
ルホニル基は、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンス
ルホニル基等の炭素数６〜７の基が好適であり、アリー
ルオキシカルボニル基は、ベンゾイル基、トルオイル
基、ナフトイル基、フタロイル基等の炭素数７〜１１の
基が好適であり、アラルキルカルボニル基は、フェニル
アセチル基、フェニルプロピオニル基等の炭素数８〜９
の基を好適に挙げることができる。
【００２８】これらのアミノ基の保護基は下記式（IV）
【００２９】
【化１０】
【００３０】（但し、Ｒ3はアミノ基の保護基であり、
Ｙはハロゲン原子である。）で示される酸ハライド或い
は下記式（V）
Ｙはハロゲン原子である。）で示される酸ハライド或い
は下記式（V）
【００３１】
【化１１】
【００３２】（但し、Ｒ3はアミノ基の保護基であ
る。）で示される酸無水物等の構造を有するアミノ基保
護剤として、上記式（Ｉ）で示されるような複素環化合
物と反応させる。
る。）で示される酸無水物等の構造を有するアミノ基保
護剤として、上記式（Ｉ）で示されるような複素環化合
物と反応させる。
【００３３】アミノ基保護剤の使用量としては、特に制
限はないが、あまり量が多いと複素環上の窒素原子との
副反応を助長し、あまり量が少ないと原料が残存するた
め、一般的には、上記式（Ｉ）で示される複素環化合物
１モルに対して１．０〜３．０モル、さらに好ましくは
１．０〜２．０モルの範囲であればよい。
限はないが、あまり量が多いと複素環上の窒素原子との
副反応を助長し、あまり量が少ないと原料が残存するた
め、一般的には、上記式（Ｉ）で示される複素環化合物
１モルに対して１．０〜３．０モル、さらに好ましくは
１．０〜２．０モルの範囲であればよい。
【００３４】また、アミノ基保護剤を使用する際には、
反応を円滑に進行させるため、塩基を使用しても一向に
差し支えない。使用する塩基の種類としては、炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機
塩基類；ピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジ
ン、４−ピペリジノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジ
ルアミン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、
３，５−ジメチルピラゾール、ピラジン、２，３−ジメ
チルピラジン等の有機芳香族アミン類；トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロパンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルプロパンジアミン、
Ｎ−メチルモルフォリン、ジメチルピペラジン、１，８
−ジアザビシクロ［４．３．０］−７−ウンデセン、
１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有
機脂肪族アミン類等を挙げることができる。
反応を円滑に進行させるため、塩基を使用しても一向に
差し支えない。使用する塩基の種類としては、炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機
塩基類；ピリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジ
ン、４−ピペリジノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジ
ルアミン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、
３，５−ジメチルピラゾール、ピラジン、２，３−ジメ
チルピラジン等の有機芳香族アミン類；トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロパンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルプロパンジアミン、
Ｎ−メチルモルフォリン、ジメチルピペラジン、１，８
−ジアザビシクロ［４．３．０］−７−ウンデセン、
１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有
機脂肪族アミン類等を挙げることができる。
【００３５】これらの塩基の使用量としては、アミノ基
の保護剤の種類によっては触媒量で充分機能するため特
に制限はないが、あまり量が多いと後処理操作が煩雑と
なるため、一般的には上記式（Ｉ）で示される複素環化
合物１モルに対して０．００１〜５モルの範囲、さらに
好ましくは０．００５〜３モルの範囲から適宜選択され
ればよい。
の保護剤の種類によっては触媒量で充分機能するため特
に制限はないが、あまり量が多いと後処理操作が煩雑と
なるため、一般的には上記式（Ｉ）で示される複素環化
合物１モルに対して０．００１〜５モルの範囲、さらに
好ましくは０．００５〜３モルの範囲から適宜選択され
ればよい。
【００３６】反応温度としては、特に制限されないが、
あまり温度が高いと副反応を助長しあまり温度が低いと
反応速度が著しく落ちるため、通常、０〜１００℃、好
ましくは１０〜８０℃の範囲から選択するのがよい。
あまり温度が高いと副反応を助長しあまり温度が低いと
反応速度が著しく落ちるため、通常、０〜１００℃、好
ましくは１０〜８０℃の範囲から選択するのがよい。
【００３７】本発明に用いられる水に相溶しない有機溶
媒としては、水と混合して２相を形成する有機溶媒であ
れば何等制限はない。これらの溶媒を具体的に例示する
と、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素
類；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類；
メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；ヘキサン、ヘ
プタン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロ
フォルム、四塩化炭素等のハロゲン化脂肪族炭化水素類
等を挙げることができる。これらの溶媒の中でも特に、
アルカリ性水溶液に対して安定な、トルエン、キシレ
ン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類；ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチル
メチルエーテル等のエーテル類；ジクロロメタン等の脂
肪族炭化水素類を挙げることができる。これらの溶媒
は、単独で使用しても２種類以上混合して使用してもま
ったく差し支えない。
媒としては、水と混合して２相を形成する有機溶媒であ
れば何等制限はない。これらの溶媒を具体的に例示する
と、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素
類；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類；
メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；ヘキサン、ヘ
プタン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロ
フォルム、四塩化炭素等のハロゲン化脂肪族炭化水素類
等を挙げることができる。これらの溶媒の中でも特に、
アルカリ性水溶液に対して安定な、トルエン、キシレ
ン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類；ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチル
メチルエーテル等のエーテル類；ジクロロメタン等の脂
肪族炭化水素類を挙げることができる。これらの溶媒
は、単独で使用しても２種類以上混合して使用してもま
ったく差し支えない。
【００３８】これらの有機溶媒中の、上記式（Ｉ）で示
される複素環化合物の濃度としては、特に限定するもの
ではないが、あまり濃度が低いと１回の反応当たりの収
量が少なくなるため経済的ではなく、あまり濃度が高い
と攪拌等の操作に支障を及ぼすため、好ましくは０．１
〜８０重量％、さらに好ましくは１〜６０重量％の範囲
から選択するのがよい。
される複素環化合物の濃度としては、特に限定するもの
ではないが、あまり濃度が低いと１回の反応当たりの収
量が少なくなるため経済的ではなく、あまり濃度が高い
と攪拌等の操作に支障を及ぼすため、好ましくは０．１
〜８０重量％、さらに好ましくは１〜６０重量％の範囲
から選択するのがよい。
【００３９】このようにして製造された上記式（II）で
示されるチアゾール誘導体を具体的に例示すると、例え
ば、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エチル、２
−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４
−イル）酢酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）酢酸メチル、２−（２−
メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル、２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）酢酸ベンジル、２−（２−アセチルアミ
ノチアゾール−４−イル）酢酸メチル、２−（２−アセ
チルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エチル、２−
（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸ベン
ジル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４
−イル）酢酸メチル、２−（２−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−イル）酢酸エチル、２−（２−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−４−イル）酢酸ベンジル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）酢酸メチル、２−（２−トリクロロアセチルアミ
ノチアゾール−４−イル）酢酸エチル、２−（２−トリ
クロロアセチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸ベン
ジル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸メチル、２−（２−メトキシ
アセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−メトキシイミノ酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノ酢酸エチル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
酢酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸メチ
ル、２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−アセチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ酢
酸メチル、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ア
セチルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸ベンジル、２−（２−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸メチ
ル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−
イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）−２−メト
キシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−トリクロロアセチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
酢酸メチル、２−（２−トリクロロアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−
メトキシアセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル、２−（２−メト
キシアセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−メトキシ
アセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−メトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−ブトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エ
チル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ
イミノ酢酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシカルボニル
オキシイミノ酢酸メチル、２−（２−メトキシカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシカルボ
ニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−メトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−メトキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ア
セチルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセトキシ
イミノ酢酸メチル、２−（２−アセチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸エチル、２
−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）−２−
アセトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−４−イル）−２−ベンジルオキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）−２−ベンジ
ルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）−２−
ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリクロロアセトキシイミノ酢酸メチル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリクロロアセトキシイミノ酢酸エチル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリクロロアセトキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセトキシイミノ酢
酸メチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−メトキシアセトキシイ
ミノ酢酸エチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシアセト
キシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸メ
チル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）グリオキシル酸エチル、２−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）グ
リオキシル酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸メチル、
２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−
イル）グリオキシル酸エチル、２−（２−メトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸ベ
ンジル、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸メチル、２−（２−アセチルアミノ
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル、２−
（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）グリオキ
シル酸ベンジル、２−（２−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−４−イル）グリオキシル酸メチル、２−（２−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）グリオキ
シル酸エチル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−４−イル）グリオキシル酸ベンジル、２−（２−
トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシル酸メチル、２−（２−トリクロロアセチルアミ
ノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル、２−
（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸ベンジル、２−（２−メトキシアセ
チルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）グリオキ
シル酸メチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル、
２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）グリオキシル酸ベンジル等を挙げること
ができる。
示されるチアゾール誘導体を具体的に例示すると、例え
ば、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エチル、２
−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４
−イル）酢酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）酢酸メチル、２−（２−
メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル、２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）酢酸ベンジル、２−（２−アセチルアミ
ノチアゾール−４−イル）酢酸メチル、２−（２−アセ
チルアミノチアゾール−４−イル）酢酸エチル、２−
（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸ベン
ジル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４
−イル）酢酸メチル、２−（２−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−イル）酢酸エチル、２−（２−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−４−イル）酢酸ベンジル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）酢酸メチル、２−（２−トリクロロアセチルアミ
ノチアゾール−４−イル）酢酸エチル、２−（２−トリ
クロロアセチルアミノチアゾール−４−イル）酢酸ベン
ジル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸メチル、２−（２−メトキシ
アセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−メトキシイミノ酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノ酢酸エチル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
酢酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸メチ
ル、２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−アセチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ酢
酸メチル、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ア
セチルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸ベンジル、２−（２−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸メチ
ル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−
イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）−２−メト
キシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−トリクロロアセチ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ
酢酸メチル、２−（２−トリクロロアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−
メトキシアセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル、２−（２−メト
キシアセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−メトキシ
アセチルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−メトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−ブトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エ
チル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ
イミノ酢酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシカルボニル
オキシイミノ酢酸メチル、２−（２−メトキシカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシカルボ
ニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−メトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−メトキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ア
セチルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセトキシ
イミノ酢酸メチル、２−（２−アセチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸エチル、２
−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）−２−
アセトキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−４−イル）−２−ベンジルオキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）−２−ベンジ
ルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）−２−
ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリクロロアセトキシイミノ酢酸メチル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリクロロアセトキシイミノ酢酸エチル、
２−（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリクロロアセトキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセトキシイミノ酢
酸メチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−メトキシアセトキシイ
ミノ酢酸エチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシアセト
キシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸メ
チル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）グリオキシル酸エチル、２−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）グ
リオキシル酸ベンジル、２−（２−メトキシカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸メチル、
２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−
イル）グリオキシル酸エチル、２−（２−メトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸ベ
ンジル、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸メチル、２−（２−アセチルアミノ
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル、２−
（２−アセチルアミノチアゾール−４−イル）グリオキ
シル酸ベンジル、２−（２−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−４−イル）グリオキシル酸メチル、２−（２−
ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−イル）グリオキ
シル酸エチル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−４−イル）グリオキシル酸ベンジル、２−（２−
トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−イル）グリ
オキシル酸メチル、２−（２−トリクロロアセチルアミ
ノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル、２−
（２−トリクロロアセチルアミノチアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸ベンジル、２−（２−メトキシアセ
チルカルボニルアミノチアゾール−４−イル）グリオキ
シル酸メチル、２−（２−メトキシアセチルカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル、
２−（２−メトキシアセチルカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）グリオキシル酸ベンジル等を挙げること
ができる。
【００４０】なお、上記式（II）で示される化合物の
内、オキシイミノ基を有する化合物に関しては理論的に
シン（Ｚ）及びアンチ（Ｅ）の両異性体が存在し得る
が、本発明においては両者とも同様に用いることができ
る。本発明の方法は、これらのチアゾール誘導体が溶解
した水に相溶しない有機溶媒溶液と塩基性水溶液を接触
させ、該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかる
けん化により生成するチアゾール化合物のアルカリ塩を
上記塩基性水溶液に溶解せしめる点に最大の特徴を有す
る。
内、オキシイミノ基を有する化合物に関しては理論的に
シン（Ｚ）及びアンチ（Ｅ）の両異性体が存在し得る
が、本発明においては両者とも同様に用いることができ
る。本発明の方法は、これらのチアゾール誘導体が溶解
した水に相溶しない有機溶媒溶液と塩基性水溶液を接触
させ、該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかる
けん化により生成するチアゾール化合物のアルカリ塩を
上記塩基性水溶液に溶解せしめる点に最大の特徴を有す
る。
【００４１】本発明に於いて用いられる塩基の種類とし
ては特に制限はないが、水に溶解する塩基、即ち、無機
塩基が特に好ましい。これらを具体的に例示すると、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の
アルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸水素リチウム等のアルカリ金属炭酸塩等を好
適に用いることができる。
ては特に制限はないが、水に溶解する塩基、即ち、無機
塩基が特に好ましい。これらを具体的に例示すると、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の
アルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸水素リチウム等のアルカリ金属炭酸塩等を好
適に用いることができる。
【００４２】これらの無機塩基の中でも特に、反応速度
等を考慮すると水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物等が好適であ
る。
等を考慮すると水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物等が好適であ
る。
【００４３】塩基の使用量としては、加水分解（けん
化）であるため、上記式（II）で示されるチアゾール誘
導体に対して等モル以上であれば特に制限はないが、あ
まり使用量が多いと、後処理の中和工程での酸の使用量
が多くなり経済的ではないため、通常上記式（II）で示
されるチアゾール誘導体１モルに対して１．０〜２０モ
ル、さらに好ましくは１．０〜１０モルの範囲から選択
すればよい。
化）であるため、上記式（II）で示されるチアゾール誘
導体に対して等モル以上であれば特に制限はないが、あ
まり使用量が多いと、後処理の中和工程での酸の使用量
が多くなり経済的ではないため、通常上記式（II）で示
されるチアゾール誘導体１モルに対して１．０〜２０モ
ル、さらに好ましくは１．０〜１０モルの範囲から選択
すればよい。
【００４４】塩基性水溶液の濃度としては特に制限はな
いが、あまり濃度が低いと反応速度が著しく小さくな
り、あまり濃度が高いと上記式（III）で示される２−
アミノチアゾール酢酸誘導体のアルカリ塩が塩基性水溶
液に溶解しないため、０．１〜５０重量％、さらに好ま
しくは１．０〜４０重量％の範囲の水溶液を用いればよ
い。
いが、あまり濃度が低いと反応速度が著しく小さくな
り、あまり濃度が高いと上記式（III）で示される２−
アミノチアゾール酢酸誘導体のアルカリ塩が塩基性水溶
液に溶解しないため、０．１〜５０重量％、さらに好ま
しくは１．０〜４０重量％の範囲の水溶液を用いればよ
い。
【００４５】有機溶媒との接触温度としては特に制限は
ないが、あまり温度が低いと加水分解速度が落ち、あま
り温度が高いと着色等の副反応を助長するため、通常０
〜１００℃、さらに好ましくは１０〜８０℃の範囲から
選択するのがよい。
ないが、あまり温度が低いと加水分解速度が落ち、あま
り温度が高いと着色等の副反応を助長するため、通常０
〜１００℃、さらに好ましくは１０〜８０℃の範囲から
選択するのがよい。
【００４６】接触時間としては、チアゾール誘導体によ
って加水分解速度が異なるため、一概には言えないが、
通常０．１〜５０時間の範囲で接触させれば充分であ
る。
って加水分解速度が異なるため、一概には言えないが、
通常０．１〜５０時間の範囲で接触させれば充分であ
る。
【００４７】有機溶媒と塩基性水溶液の接触方法して
は、特に制限はないが有機溶媒に塩基性水溶液を加えて
もよいし、塩基性水溶液の中に有機溶媒を加えても一向
に差し支えない。また、接触させる間は、有機溶媒と塩
基性水溶液は充分に混ざるよう攪拌等の操作を行うこと
が好ましい。
は、特に制限はないが有機溶媒に塩基性水溶液を加えて
もよいし、塩基性水溶液の中に有機溶媒を加えても一向
に差し支えない。また、接触させる間は、有機溶媒と塩
基性水溶液は充分に混ざるよう攪拌等の操作を行うこと
が好ましい。
【００４８】上記の操作を施した後、有機溶媒と塩基性
水溶液とを公知の方法によって分離し、次いで、該塩基
性水溶液を酸で中和することによって、上記式（III）
で示される２−アミノチアゾール酢酸を得ることができ
る。
水溶液とを公知の方法によって分離し、次いで、該塩基
性水溶液を酸で中和することによって、上記式（III）
で示される２−アミノチアゾール酢酸を得ることができ
る。
【００４９】チアゾール誘導体のアルカリ塩を含有する
塩基性水溶液を中和する酸の種類としては特に制限はな
いが、塩酸、硫酸、燐酸、硝酸等の鉱酸類；酢酸、クエ
ン酸等の脂肪族カルボン酸類等が好適に用いられる。
塩基性水溶液を中和する酸の種類としては特に制限はな
いが、塩酸、硫酸、燐酸、硝酸等の鉱酸類；酢酸、クエ
ン酸等の脂肪族カルボン酸類等が好適に用いられる。
【００５０】使用量については、加水分解に使用した塩
基の量できまるため一概には言えないが、あまり酸性側
に片寄るとアミノ基の保護基が脱離するため、中和後の
水溶液のｐＨが０．５〜４の範囲で終わるように酸を使
用することが好ましい。
基の量できまるため一概には言えないが、あまり酸性側
に片寄るとアミノ基の保護基が脱離するため、中和後の
水溶液のｐＨが０．５〜４の範囲で終わるように酸を使
用することが好ましい。
【００５１】中和の際の温度については特に制限はない
が、中和反応は発熱反応のため、容器の周りを水或いは
氷水で冷却しながら中和操作を行うことが好ましい。
が、中和反応は発熱反応のため、容器の周りを水或いは
氷水で冷却しながら中和操作を行うことが好ましい。
【００５２】こうして得られた上記式（III）で示され
る２−アミノチアゾール酢酸誘導体と水溶液との分離方
法は、特に制限されない。
る２−アミノチアゾール酢酸誘導体と水溶液との分離方
法は、特に制限されない。
【００５３】例えば、析出している固体をそのまま遠心
分離等の固液分離操作によって分離してもよいし、有機
溶媒を加えて固体を溶解させた後、有機溶媒から再結晶
或いは再沈等の晶析操作を用いて単離してもよい。
分離等の固液分離操作によって分離してもよいし、有機
溶媒を加えて固体を溶解させた後、有機溶媒から再結晶
或いは再沈等の晶析操作を用いて単離してもよい。
【００５４】このようにして、前記式（III）で示され
る２−アミノチアゾール酢酸誘導体を工業的に有利に製
造することができる。
る２−アミノチアゾール酢酸誘導体を工業的に有利に製
造することができる。
【００５５】
【発明の効果】本発明によれば、温和な条件下で前記一
般式（II）で示されるチアゾール誘導体から一般式（II
I）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を得る
ことができる。
般式（II）で示されるチアゾール誘導体から一般式（II
I）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を得る
ことができる。
【００５６】
【実施例】以下、実施例を掲げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に制限されるものではない。
本発明はこれら実施例に制限されるものではない。
【００５７】実施例１ ２Ｌの四つ口フラスコに、温度計、冷却管、攪拌翼を取
り付け、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル１８６．２ｇ（１ｍｏｌ）、４−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン２．４４ｇ（２０ｍｍｏｌ）、トルエ
ン４００ｍｌを加え、内温が５０℃になるまで攪拌しな
がら昇温する。昇温後、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート
２２９．２ｇ（１．０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下
し、７時間反応させた。
り付け、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル１８６．２ｇ（１ｍｏｌ）、４−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン２．４４ｇ（２０ｍｍｏｌ）、トルエ
ン４００ｍｌを加え、内温が５０℃になるまで攪拌しな
がら昇温する。昇温後、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート
２２９．２ｇ（１．０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下
し、７時間反応させた。
【００５８】反応溶液を室温まで冷却した後、１Ｎの塩
酸水２００ｍｌで１回洗浄して未反応の原料を除去した
後、トルエン層に水酸化ナトリウム８０．０ｇ（２ｍｏ
ｌ）を水４００ｍｌに溶解した水溶液を添加し、２０℃
で１時間攪拌した。
酸水２００ｍｌで１回洗浄して未反応の原料を除去した
後、トルエン層に水酸化ナトリウム８０．０ｇ（２ｍｏ
ｌ）を水４００ｍｌに溶解した水溶液を添加し、２０℃
で１時間攪拌した。
【００５９】反応後、トルエン相と水相を分離し、得ら
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水２１０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水２１０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
【００６０】析出した固体を遠心分離で固液分離した
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸を２１２．９ｇ（収率８２．
５％）で得ることができた。
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸を２１２．９ｇ（収率８２．
５％）で得ることができた。
【００６１】この結晶を、ＨＰＬＣでその組成を分析す
ると、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）酢酸の純度は９８．８％であった。
ると、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）酢酸の純度は９８．８％であった。
【００６２】実施例２〜５ 有機溶媒をトルエンに代えて表１に示した有機溶媒を使
用し、表１に示した反応温度で実施した以外は実施例１
と同様の操作を行った。その結果を表１に示した。
用し、表１に示した反応温度で実施した以外は実施例１
と同様の操作を行った。その結果を表１に示した。
【００６３】
【表１】
【００６４】実施例６〜９ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸エチルに
代えて表２に示した複素環化合物を使用し、表２に示し
た反応条件で行った以外は実施例１と同様の操作を行っ
た。その結果を、表２に示した。
代えて表２に示した複素環化合物を使用し、表２に示し
た反応条件で行った以外は実施例１と同様の操作を行っ
た。その結果を、表２に示した。
【００６５】
【表２】
【００６６】実施例１０ ２Ｌの四つ口フラスコに、温度計、冷却管、攪拌翼を取
り付け、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル１８６．２ｇ（１ｍｏｌ）、トリエチルアミン１
２１．４３ｇ（１．２ｍｏｌ）、トルエン４００ｍｌを
加え、アイスバスを用いて内温が５℃になるまで攪拌し
ながら冷却する。冷却後、内温が２０℃を越えないよう
にクロロ炭酸メチル１０３．９５ｇ（１．１ｍｏｌ）を
添加し、さらにアイスバスを取り除いて２０℃で７時間
反応させた。
り付け、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル１８６．２ｇ（１ｍｏｌ）、トリエチルアミン１
２１．４３ｇ（１．２ｍｏｌ）、トルエン４００ｍｌを
加え、アイスバスを用いて内温が５℃になるまで攪拌し
ながら冷却する。冷却後、内温が２０℃を越えないよう
にクロロ炭酸メチル１０３．９５ｇ（１．１ｍｏｌ）を
添加し、さらにアイスバスを取り除いて２０℃で７時間
反応させた。
【００６７】反応後、１Ｎの塩酸水２００ｍｌで２回洗
浄して未反応の原料及びトリエチルアミンを除去した
後、トルエン層に水酸化ナトリウム８０．０ｇ（２ｍｏ
ｌ）を水４００ｍｌに溶解した水溶液を添加し、２０℃
で１時間攪拌した。
浄して未反応の原料及びトリエチルアミンを除去した
後、トルエン層に水酸化ナトリウム８０．０ｇ（２ｍｏ
ｌ）を水４００ｍｌに溶解した水溶液を添加し、２０℃
で１時間攪拌した。
【００６８】反応後、トルエン相と水相を分離し、得ら
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水２１０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水２１０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
【００６９】析出した固体を遠心分離で固液分離した
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、２−（２−メトキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸を２３８．３ｇ（収率９２．
３％）で得ることができた。
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、２−（２−メトキシカルボニルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸を２３８．３ｇ（収率９２．
３％）で得ることができた。
【００７０】この結晶を、ＨＰＬＣでその組成を分析す
ると、２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸の純度は９９．３％であった。
ると、２−（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸の純度は９９．３％であった。
【００７１】実施例１１〜１４ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸エチルに
代えて表３に示した複素環化合物を使用し、表３に示し
た反応条件で行った以外は実施例１０と同様の操作を行
った。その結果を、表３に示した。
代えて表３に示した複素環化合物を使用し、表３に示し
た反応条件で行った以外は実施例１０と同様の操作を行
った。その結果を、表３に示した。
【００７２】
【表３】
【００７３】実施例１５ ２Ｌの四つ口フラスコに、温度計、冷却管、攪拌翼を取
り付け、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル１８６．２ｇ（１ｍｏｌ）、トリエチルアミン１
２１．４３ｇ（１．２ｍｏｌ）、トルエン４００ｍｌを
加え、アイスバスを用いて内温が５℃になるまで攪拌し
ながら冷却する。冷却後、内温が２０℃を越えないよう
に無水酢酸１１２．３０ｇ（１．１ｍｏｌ）を添加し、
さらにアイスバスを取り除いて室温下１０時間反応させ
た。
り付け、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸
エチル１８６．２ｇ（１ｍｏｌ）、トリエチルアミン１
２１．４３ｇ（１．２ｍｏｌ）、トルエン４００ｍｌを
加え、アイスバスを用いて内温が５℃になるまで攪拌し
ながら冷却する。冷却後、内温が２０℃を越えないよう
に無水酢酸１１２．３０ｇ（１．１ｍｏｌ）を添加し、
さらにアイスバスを取り除いて室温下１０時間反応させ
た。
【００７４】反応後、２００ｍｌの水で２回洗浄してト
リエチルアミンを除去した後、トルエン層に水酸化ナト
リウム１００．０ｇ（２．５ｍｏｌ）を水４００ｍｌに
溶解した水溶液を添加し、２０℃で１時間攪拌した。
リエチルアミンを除去した後、トルエン層に水酸化ナト
リウム１００．０ｇ（２．５ｍｏｌ）を水４００ｍｌに
溶解した水溶液を添加し、２０℃で１時間攪拌した。
【００７５】反応後、トルエン相と水相を分離し、得ら
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水２６０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水２６０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
【００７６】析出した固体を遠心分離で固液分離した
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、２−（２−アセチルアミノチアゾール−
４−イル）酢酸を２１８．９ｇ（収率８４．８％）で得
ることができた。
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、２−（２−アセチルアミノチアゾール−
４−イル）酢酸を２１８．９ｇ（収率８４．８％）で得
ることができた。
【００７７】この結晶を、ＨＰＬＣでその組成を分析す
ると、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イ
ル）酢酸の純度は９９．０％であった。
ると、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４−イ
ル）酢酸の純度は９９．０％であった。
【００７８】実施例１６〜１９ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）酢酸エチルに
代えて表４に示した複素環化合物を使用し、表４に示し
た反応条件で行った以外は実施例１５と同様の操作を行
った。その結果を、表４に示した。
代えて表４に示した複素環化合物を使用し、表４に示し
た反応条件で行った以外は実施例１５と同様の操作を行
った。その結果を、表４に示した。
【００７９】
【表４】
【００８０】実施例２０ ２Ｌの四つ口フラスコに、温度計、冷却管、攪拌翼を取
り付け、（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチル２１５．２３ｇ
（１ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチ
レンジアミン１．１６ｇ（１０ｍｍｏｌ）、トルエン４
００ｍｌを加え、そこに、ジ−ｔ−ブチルジカーボネー
ト４５８．３ｇ（２．１ｍｏｌ）を１時間かけて滴下
し、２０℃で１０時間反応させた。
り付け、（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチル２１５．２３ｇ
（１ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチ
レンジアミン１．１６ｇ（１０ｍｍｏｌ）、トルエン４
００ｍｌを加え、そこに、ジ−ｔ−ブチルジカーボネー
ト４５８．３ｇ（２．１ｍｏｌ）を１時間かけて滴下
し、２０℃で１０時間反応させた。
【００８１】反応後後、１Ｎの塩酸水２００ｍｌで１回
洗浄して未反応の原料を除去した後、トルエン層に水酸
化ナトリウム１２０．０ｇ（３ｍｏｌ）を水４００ｍｌ
に溶解した水溶液を添加し、室温で１時間攪拌した。
洗浄して未反応の原料を除去した後、トルエン層に水酸
化ナトリウム１２０．０ｇ（３ｍｏｌ）を水４００ｍｌ
に溶解した水溶液を添加し、室温で１時間攪拌した。
【００８２】反応後、トルエン相と水相を分離し、得ら
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水３１０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
れた水溶液に水６００ｍｌを加え、水溶液の温度が２０
℃以下になるように冷却しながら、３５％塩酸水３１０
ｍｌを水２００ｍｌに希釈した水溶液を添加した。
【００８３】析出した固体を遠心分離で固液分離した
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、（Ｚ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ
酢酸を２７０．１ｇ（収率９４．０％）で得ることがで
きた。
後、固体を１００ｍｌの水で４回洗浄した後、真空乾燥
をしたところ、（Ｚ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニル
アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ
酢酸を２７０．１ｇ（収率９４．０％）で得ることがで
きた。
【００８４】この結晶を、ＨＰＬＣでその組成を分析す
ると、（Ｚ）−２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸
の純度は９９．４％であった。
ると、（Ｚ）−２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸
の純度は９９．４％であった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年７月２５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【化１】 （但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基であり、Ｘは２
個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水
素原子、アルキル基、水酸基の保護基である。）であ
る。）で示される複素環化合物を水と相溶しない有機溶
媒中で、アミノ基の保護剤と反応させて下記式（II）
個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水
素原子、アルキル基、水酸基の保護基である。）であ
る。）で示される複素環化合物を水と相溶しない有機溶
媒中で、アミノ基の保護剤と反応させて下記式（II）
【化２】 （但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基であり、Ｘは２
個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水
素原子、アルキル基、水酸基の保護基である。）であ
り、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）で示されるチア
ゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘導体を含む有機
溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて該チアゾール誘
導体をけん化すると共に、かかるけん化により生成する
チアゾール誘導体のアルカリ金属塩を塩基性水溶液に溶
解せしめ、次いで、該チアゾール誘導体のアルカリ金属
塩を含む塩基性水溶液を酸で中和することによって、下
記式（III）
個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水
素原子、アルキル基、水酸基の保護基である。）であ
り、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）で示されるチア
ゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘導体を含む有機
溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて該チアゾール誘
導体をけん化すると共に、かかるけん化により生成する
チアゾール誘導体のアルカリ金属塩を塩基性水溶液に溶
解せしめ、次いで、該チアゾール誘導体のアルカリ金属
塩を含む塩基性水溶液を酸で中和することによって、下
記式（III）
【化３】 （但し、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2
（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を単離する
ことを特徴とする２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製
造方法。
（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を単離する
ことを特徴とする２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製
造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】（但し、Ｒ 3 はアミノ基の保護基であり、
Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ 2 （但し、
Ｒ 2 は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基であ
る。）である。）で示される２−アミノチアゾール酢酸
誘導体に変換して用いられる。
Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ 2 （但し、
Ｒ 2 は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基であ
る。）である。）で示される２−アミノチアゾール酢酸
誘導体に変換して用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】その結果、上記式（II）で示されるチアゾ
ール誘導体を水と相溶しない有機溶中で製造した後、該
有機溶媒溶液を塩基性水溶液と接触させることによって
上記式（II）で示されるチアゾール誘導体は、上記式
（III）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体の
アルカリ金属塩に変換され水溶液に溶解することを見い
出した。
ール誘導体を水と相溶しない有機溶中で製造した後、該
有機溶媒溶液を塩基性水溶液と接触させることによって
上記式（II）で示されるチアゾール誘導体は、上記式
（III）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体の
アルカリ金属塩に変換され水溶液に溶解することを見い
出した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】（但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基で
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）である。）で示される複素環化合物を水と相
溶しない有機溶媒中で、アミノ基の保護剤と反応させて
下記式（II）
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）である。）で示される複素環化合物を水と相
溶しない有機溶媒中で、アミノ基の保護剤と反応させて
下記式（II）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１９】（但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基で
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示されるチアゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘
導体を含む有機溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて
該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかるけん化
により生成するチアゾール誘導体のアルカリ金属塩を塩
基性水溶液に溶解せしめ、次いで、該チアゾール誘導体
のアルカリ金属塩を含む塩基性水溶液を酸で中和するこ
とによって、下記式（III）
あり、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ
2（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示されるチアゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘
導体を含む有機溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて
該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかるけん化
により生成するチアゾール誘導体のアルカリ金属塩を塩
基性水溶液に溶解せしめ、次いで、該チアゾール誘導体
のアルカリ金属塩を含む塩基性水溶液を酸で中和するこ
とによって、下記式（III）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２６】上記式（II）において、Ｒ 3 で示されるア
ミノ基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な
アミノ基の保護基を何等制限なく採用することができ
る。例えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置
換アラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリ
ールスルホニル基、アリールスルフェニル基、アリール
オキシカルボニル基、アラルキルカルボニル基等を挙げ
ることができる。
ミノ基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な
アミノ基の保護基を何等制限なく採用することができ
る。例えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置
換アラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリ
ールスルホニル基、アリールスルフェニル基、アリール
オキシカルボニル基、アラルキルカルボニル基等を挙げ
ることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３７】本発明に用いられる水に相溶しない有機溶
媒としては、水と混合して２相を形成する有機溶媒であ
れば何等制限はない。これらの溶媒を具体的に例示する
と、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素
類；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類；
メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；ヘキサン、ヘ
プタン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロ
フォルム、四塩化炭素等のハロゲン化脂肪族炭化水素類
等を挙げることができる。これらの溶媒の中でも特に、
塩基性水溶液に対して安定な、トルエン、キシレン、ベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類；ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチル
エーテル等のエーテル類；ジクロロメタン等の脂肪族炭
化水素類を挙げることができる。これらの溶媒は、単独
で使用しても２種類以上混合して使用してもまったく差
し支えない。
媒としては、水と混合して２相を形成する有機溶媒であ
れば何等制限はない。これらの溶媒を具体的に例示する
と、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素
類；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類；
メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；ヘキサン、ヘ
プタン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロ
フォルム、四塩化炭素等のハロゲン化脂肪族炭化水素類
等を挙げることができる。これらの溶媒の中でも特に、
塩基性水溶液に対して安定な、トルエン、キシレン、ベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類；ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチル
エーテル等のエーテル類；ジクロロメタン等の脂肪族炭
化水素類を挙げることができる。これらの溶媒は、単独
で使用しても２種類以上混合して使用してもまったく差
し支えない。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】なお、上記式（II）で示される化合物の
内、オキシイミノ基を有する化合物に関しては理論的に
シン（Ｚ）及びアンチ（Ｅ）の両異性体が存在し得る
が、本発明においては両者とも同様に用いることができ
る。本発明の方法は、これらのチアゾール誘導体が溶解
した水に相溶しない有機溶媒溶液と塩基性水溶液を接触
させ、該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかる
けん化により生成するチアゾール化合物のアルカリ金属
塩を上記塩基性水溶液に溶解せしめる点に最大の特徴を
有する。
内、オキシイミノ基を有する化合物に関しては理論的に
シン（Ｚ）及びアンチ（Ｅ）の両異性体が存在し得る
が、本発明においては両者とも同様に用いることができ
る。本発明の方法は、これらのチアゾール誘導体が溶解
した水に相溶しない有機溶媒溶液と塩基性水溶液を接触
させ、該チアゾール誘導体をけん化すると共に、かかる
けん化により生成するチアゾール化合物のアルカリ金属
塩を上記塩基性水溶液に溶解せしめる点に最大の特徴を
有する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４４】塩基性水溶液の濃度としては特に制限はな
いが、あまり濃度が低いと反応速度が著しく小さくな
り、あまり濃度が高いと上記式（III）で示される２−
アミノチアゾール酢酸誘導体のアルカリ金属塩が塩基性
水溶液に溶解しないため、０．１〜５０重量％、さらに
好ましくは１．０〜４０重量％の範囲の水溶液を用いれ
ばよい。
いが、あまり濃度が低いと反応速度が著しく小さくな
り、あまり濃度が高いと上記式（III）で示される２−
アミノチアゾール酢酸誘導体のアルカリ金属塩が塩基性
水溶液に溶解しないため、０．１〜５０重量％、さらに
好ましくは１．０〜４０重量％の範囲の水溶液を用いれ
ばよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４９】チアゾール誘導体のアルカリ金属塩を含有
する塩基性水溶液を中和する酸の種類としては特に制限
はないが、塩酸、硫酸、燐酸、硝酸等の鉱酸類；酢酸、
クエン酸等の脂肪族カルボン酸類等が好適に用いられ
る。
する塩基性水溶液を中和する酸の種類としては特に制限
はないが、塩酸、硫酸、燐酸、硝酸等の鉱酸類；酢酸、
クエン酸等の脂肪族カルボン酸類等が好適に用いられ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】下記式（Ｉ） 【化１】 （但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基であり、Ｘは２
個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水
素原子、アルキル基、水酸基の保護基である。）である
複素環化合物を水と相溶しない有機溶媒中で、アミノ基
の保護剤と反応さて下記式（II） 【化２】 （但し、Ｒ1はカルボキシル基の保護基であり、Ｘは２
個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2（但し、Ｒ2は水
素原子、アルキル基、水酸基の保護基である。）であ
り、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）で示されるチア
ゾール誘導体を得た後、該チアゾール誘導体を含む有機
溶媒溶液と塩基性水溶液とを接触させて該チアゾール誘
導体をけん化すると共に、かかるけん化により生成する
チアゾール誘導体のアルカリ塩を塩基性水溶液に溶解せ
しめ、次いで、該チアゾール誘導体のアルカリ塩を含む
塩基性水溶液を酸で中和することによって、下記式（II
I） 【化３】 （但し、Ｘは２個の水素原子、酸素原子又はＮ−ＯＲ2
（但し、Ｒ2は水素原子、アルキル基、水酸基の保護基
である。）であり、Ｒ3はアミノ基の保護基である。）
で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を単離する
ことを特徴とする２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製
造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8183752A JPH1025283A (ja) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
| AU95239/01A AU767649B2 (en) | 1996-07-12 | 2001-11-30 | A liquid discharging method and a liquid jet head, and a head cartridge using such jet head, and a liquid jet apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8183752A JPH1025283A (ja) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1025283A true JPH1025283A (ja) | 1998-01-27 |
Family
ID=16141363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8183752A Pending JPH1025283A (ja) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1025283A (ja) |
-
1996
- 1996-07-12 JP JP8183752A patent/JPH1025283A/ja active Pending
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