JPH0968791A - レチクル洗浄方法 - Google Patents
レチクル洗浄方法Info
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- JPH0968791A JPH0968791A JP22206895A JP22206895A JPH0968791A JP H0968791 A JPH0968791 A JP H0968791A JP 22206895 A JP22206895 A JP 22206895A JP 22206895 A JP22206895 A JP 22206895A JP H0968791 A JPH0968791 A JP H0968791A
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Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】レチクルに付着した異物の洗浄効率を向上させ
る。 【解決手段】レチクル両面に接するように位置するガラ
ス面ブラシ２とクロム面ブラシ３を摺動させるかレチク
ル１を摺動させるかして、当該レチクル面の洗浄を行っ
た後に、θ回転テーブルを介してレチクル１の向きを変
更した後に、前述したようにガラス面ブラシ２とクロム
面ブラシ３あるいはレチクル１を摺動させて当該レチク
ル面の洗浄を行うものである。
る。 【解決手段】レチクル両面に接するように位置するガラ
ス面ブラシ２とクロム面ブラシ３を摺動させるかレチク
ル１を摺動させるかして、当該レチクル面の洗浄を行っ
た後に、θ回転テーブルを介してレチクル１の向きを変
更した後に、前述したようにガラス面ブラシ２とクロム
面ブラシ３あるいはレチクル１を摺動させて当該レチク
ル面の洗浄を行うものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルに付着し
た塵埃等の異物を除去するための洗浄技術に関する。
た塵埃等の異物を除去するための洗浄技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】このような洗浄技術は、半導体ウエハへ
のリソグラフィ技術の正否に関わる重要な問題である。
従って、リソグラフイ工程に入る前に予め、レチクルに
付着した異物を洗浄しておく必要がある。従来の洗浄方
法について図４乃至図６を基に説明する。
のリソグラフィ技術の正否に関わる重要な問題である。
従って、リソグラフイ工程に入る前に予め、レチクルに
付着した異物を洗浄しておく必要がある。従来の洗浄方
法について図４乃至図６を基に説明する。
【０００３】図４に示すように、レチクル１１の両面に
接するように設けられているガラス面ブラシ１２とクロ
ム面ブラシ１３を回転させた状態で、図示しないレチク
ル位置決め部に固定された前記レチクル１１を上下動す
ることにより、レチクル１１に付着している塵埃等の異
物を除去していた。しかし、レチクル１１のクローム面
側には抜きパターンが形成されており、例えば図５に示
すように抜きパターン１５が前記回転ブラシ１３の回転
方向に相対するように形成されている場合には、当該回
転ブラシ１３により異物１６が抜きパターン１５内から
掻き出されるが、図６に示すように抜きパターン１５が
前記回転ブラシ１３の回転方向と直交する方向に長く形
成されている場合に、異物１６が該抜きパターン１５の
角部に引掛かって除去できないことがあった。尚、一般
に前記抜きパターン１５は奥側（ガラス面側）が広くな
って、断面形状をみてみると楔形状をしているため、異
物１６の除去を更に難しくしている。
接するように設けられているガラス面ブラシ１２とクロ
ム面ブラシ１３を回転させた状態で、図示しないレチク
ル位置決め部に固定された前記レチクル１１を上下動す
ることにより、レチクル１１に付着している塵埃等の異
物を除去していた。しかし、レチクル１１のクローム面
側には抜きパターンが形成されており、例えば図５に示
すように抜きパターン１５が前記回転ブラシ１３の回転
方向に相対するように形成されている場合には、当該回
転ブラシ１３により異物１６が抜きパターン１５内から
掻き出されるが、図６に示すように抜きパターン１５が
前記回転ブラシ１３の回転方向と直交する方向に長く形
成されている場合に、異物１６が該抜きパターン１５の
角部に引掛かって除去できないことがあった。尚、一般
に前記抜きパターン１５は奥側（ガラス面側）が広くな
って、断面形状をみてみると楔形状をしているため、異
物１６の除去を更に難しくしている。
【０００４】このように異物の除去が不完全であると、
後工程でのリソグラフィ工程での作業に支障を来し、更
には異常の発見までに時間がかかるために、その間に多
数の不良品を作ってしまうことになる。
後工程でのリソグラフィ工程での作業に支障を来し、更
には異常の発見までに時間がかかるために、その間に多
数の不良品を作ってしまうことになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明はレチ
クルに付着した異物の洗浄効率を向上させることを目的
とする。
クルに付着した異物の洗浄効率を向上させることを目的
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明はレチク
ル両面に接するように位置する一対の回転ブラシを摺動
させるかレチクルを摺動させるかして、当該レチクル面
の洗浄を行った後に、θ回転テーブルを介してレチクル
の向きを変更した後に、前述したように回転ブラシある
いはレチクルを摺動させて当該レチクル面の洗浄を行う
ものである。
ル両面に接するように位置する一対の回転ブラシを摺動
させるかレチクルを摺動させるかして、当該レチクル面
の洗浄を行った後に、θ回転テーブルを介してレチクル
の向きを変更した後に、前述したように回転ブラシある
いはレチクルを摺動させて当該レチクル面の洗浄を行う
ものである。
【０００７】また、本発明はレチクル両面に接するよう
に位置する一対の回転ブラシを摺動させるかレチクルを
摺動させるかして、当該レチクル面の洗浄を行った後
に、前記一対の回転ブラシと直交する一対の回転ブラシ
を回転させた状態で、前述したように回転ブラシあるい
はレチクルを摺動させて当該レチクル面の洗浄を行うも
のである。
に位置する一対の回転ブラシを摺動させるかレチクルを
摺動させるかして、当該レチクル面の洗浄を行った後
に、前記一対の回転ブラシと直交する一対の回転ブラシ
を回転させた状態で、前述したように回転ブラシあるい
はレチクルを摺動させて当該レチクル面の洗浄を行うも
のである。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例について
図１乃至図３を基に説明する。本発明のレチクル洗浄方
法によりレチクルを洗浄する際、先ず作業者は、該レチ
クルを１枚ずつあるいは複数枚ずつ図示しないレチクル
洗浄装置の図示しないレチクル位置決め部に固定する。
これにより、図１に示すようにレチクル１の両面に接す
るように例えばナイロン製のガラス面ブラシ２とクロム
面ブラシ３が位置される。
図１乃至図３を基に説明する。本発明のレチクル洗浄方
法によりレチクルを洗浄する際、先ず作業者は、該レチ
クルを１枚ずつあるいは複数枚ずつ図示しないレチクル
洗浄装置の図示しないレチクル位置決め部に固定する。
これにより、図１に示すようにレチクル１の両面に接す
るように例えばナイロン製のガラス面ブラシ２とクロム
面ブラシ３が位置される。
【０００９】次に、前記回転ブラシ２、３を回転させた
後、前記レチクル位置決め部を上下動させて、該回転ブ
ラス２、３により該レチクル１の洗浄を行い、ガラス面
及びクロム面、そしてクロム面側に形成されている抜き
パターン５内に入り込んでいる異物６の除去を試みる。
このとき、例えば前記抜きパターン５が図１の紙面に対
して前後に形成されている、即ち、図２に示すように抜
きパターン５が回転ブラシ３の回転方向と直交する方向
に長く形成されている場合には、抜きパターン５内の異
物６を回転ブラシ３で掻き出そうとしても、異物６が抜
きパターン５の凹部内から出ないことがある。即ち、一
般に前記抜きパターン５は奥側（ガラス面側）が広くな
って、断面形状をみてみると楔形状をしているため、異
物６の除去を更に難しくしている。
後、前記レチクル位置決め部を上下動させて、該回転ブ
ラス２、３により該レチクル１の洗浄を行い、ガラス面
及びクロム面、そしてクロム面側に形成されている抜き
パターン５内に入り込んでいる異物６の除去を試みる。
このとき、例えば前記抜きパターン５が図１の紙面に対
して前後に形成されている、即ち、図２に示すように抜
きパターン５が回転ブラシ３の回転方向と直交する方向
に長く形成されている場合には、抜きパターン５内の異
物６を回転ブラシ３で掻き出そうとしても、異物６が抜
きパターン５の凹部内から出ないことがある。即ち、一
般に前記抜きパターン５は奥側（ガラス面側）が広くな
って、断面形状をみてみると楔形状をしているため、異
物６の除去を更に難しくしている。
【００１０】そこで、回転ブラシ２、３の回転を停止さ
せた後に、レチクル位置決め部を保持した図示しないθ
回転テーブルを作動させて、該レチクル位置決め部に固
定されたレチクル１を９０度回転させる。これにより、
図３に示すように前記回転ブラシ３の回転方向と抜きパ
ターン５の長手方向とが相対するように位置される。そ
して、前述したように再び回転ブラシ２、３を回転させ
ながら、レチクル１を上下動させて、前記洗浄方向と直
交する方向に対しても洗浄を行うことにより、前記抜き
パターン５の凹部に沿って回転ブラシ３が回転されて、
抜きパターン５内の異物６を掻き出すことができる。
せた後に、レチクル位置決め部を保持した図示しないθ
回転テーブルを作動させて、該レチクル位置決め部に固
定されたレチクル１を９０度回転させる。これにより、
図３に示すように前記回転ブラシ３の回転方向と抜きパ
ターン５の長手方向とが相対するように位置される。そ
して、前述したように再び回転ブラシ２、３を回転させ
ながら、レチクル１を上下動させて、前記洗浄方向と直
交する方向に対しても洗浄を行うことにより、前記抜き
パターン５の凹部に沿って回転ブラシ３が回転されて、
抜きパターン５内の異物６を掻き出すことができる。
【００１１】これにより、レチクル１の直交する二方向
に沿った回転ブラシ２、３による洗浄が行え、例えば形
成された抜きパターン５の向きにより、一回目の洗浄で
は従来のように抜きパターン５内に入り込んだ異物６が
該抜きパターン５の角部に引っ掛かって除去できなかっ
たとしても、レチクル１の向きをかえて再び洗浄を行う
ことにより、図３に示すように前記抜きパターン５の長
手方向が回転ブラシ３の回転方向と相対するようになる
ため、回転ブラシ３による異物の除去が容易となり、従
って、レチクル１に付着した異物６の洗浄効率が向上す
る。尚、本実施例では洗浄する際に、その位置が固定さ
れた回転ブラシに対し、レチクル側を上下動させている
が、これに限らず、例えば回転ブラシ側をその回転方向
に沿って摺動させるようにしても良い。
に沿った回転ブラシ２、３による洗浄が行え、例えば形
成された抜きパターン５の向きにより、一回目の洗浄で
は従来のように抜きパターン５内に入り込んだ異物６が
該抜きパターン５の角部に引っ掛かって除去できなかっ
たとしても、レチクル１の向きをかえて再び洗浄を行う
ことにより、図３に示すように前記抜きパターン５の長
手方向が回転ブラシ３の回転方向と相対するようになる
ため、回転ブラシ３による異物の除去が容易となり、従
って、レチクル１に付着した異物６の洗浄効率が向上す
る。尚、本実施例では洗浄する際に、その位置が固定さ
れた回転ブラシに対し、レチクル側を上下動させている
が、これに限らず、例えば回転ブラシ側をその回転方向
に沿って摺動させるようにしても良い。
【００１２】また、前記第１の実施例ではレチクルをθ
回転（９０度）させることにより、回転ブラシによる洗
浄方向がレチクルの直交する二方向に沿うようにしてい
るが、これに限らず、例えばレチクルの各面に対応して
直交する二方向の回転ブラシを用意しておき、一方の回
転ブラシによる洗浄後、他方の回転ブラシによる洗浄を
行うようにして、レチクルの二方向の洗浄を行うように
しても良い。この場合、その位置が固定された回転ブラ
シに対し、レチクル位置決め部を介してレチクル側を回
転ブラシの回転方向に沿って摺動させるようにしても良
く、回転ブラシ側をその回転方向に沿って摺動させるよ
うにしても良い。
回転（９０度）させることにより、回転ブラシによる洗
浄方向がレチクルの直交する二方向に沿うようにしてい
るが、これに限らず、例えばレチクルの各面に対応して
直交する二方向の回転ブラシを用意しておき、一方の回
転ブラシによる洗浄後、他方の回転ブラシによる洗浄を
行うようにして、レチクルの二方向の洗浄を行うように
しても良い。この場合、その位置が固定された回転ブラ
シに対し、レチクル位置決め部を介してレチクル側を回
転ブラシの回転方向に沿って摺動させるようにしても良
く、回転ブラシ側をその回転方向に沿って摺動させるよ
うにしても良い。
【００１３】本実施例の場合、前記第１の実施例のよう
なθ回転テーブルを用意する必要はないので、構造がシ
ンプルとなり、装置のコストアップを抑制することがで
きるという特徴がある。
なθ回転テーブルを用意する必要はないので、構造がシ
ンプルとなり、装置のコストアップを抑制することがで
きるという特徴がある。
【００１４】
【発明の効果】以上、本発明のレチクル洗浄方法によれ
ば、レチクルの一方向の洗浄が終わった後に、θ回転テ
ーブルを介してレチクルを９０度回転させ、前記方向と
直交する方向への洗浄を行うことにより、レチクルに付
着した、特にクロム面側に形成されている抜きパターン
内に入り込んでいる塵埃等の異物の除去が容易となり、
洗浄効率が向上する。これにより、後工程でのリソグラ
フィ工程での作業が確実に行えるようになると共に、不
良品を多数製造してしまうことが無くなる。
ば、レチクルの一方向の洗浄が終わった後に、θ回転テ
ーブルを介してレチクルを９０度回転させ、前記方向と
直交する方向への洗浄を行うことにより、レチクルに付
着した、特にクロム面側に形成されている抜きパターン
内に入り込んでいる塵埃等の異物の除去が容易となり、
洗浄効率が向上する。これにより、後工程でのリソグラ
フィ工程での作業が確実に行えるようになると共に、不
良品を多数製造してしまうことが無くなる。
【００１５】また、レチクルの各面に対応する二方向に
移動する回転ブラシをそれぞれ設けるようにすれば、前
記実施例のようにテーブルにθ回転機能を持たせる必要
が無く、構造がシンプルとなり、装置のコストアップを
抑制することができる。
移動する回転ブラシをそれぞれ設けるようにすれば、前
記実施例のようにテーブルにθ回転機能を持たせる必要
が無く、構造がシンプルとなり、装置のコストアップを
抑制することができる。
【図１】本発明のレチクル洗浄方法を示す図である。
【図２】図１のレチクルとクロム面回転ブラシとの位置
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図３】図１のレチクルを９０度回転させた状態を示す
図である。
図である。
【図４】従来のレチクル洗浄方法を示す図である。
【図５】レチクルのクロム面に形成された抜きパターン
の方向を示す図である。
の方向を示す図である。
【図６】同じくレチクルのクロム面に形成された抜きパ
ターンの方向を示す図である。
ターンの方向を示す図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 レチクル位置決め部に固定したレチクル
の両面に接するように位置した一対の回転ブラシを回転
させた状態で、該レチクル位置決め部を介して該レチク
ルを摺動させて当該レチクル面の洗浄を行った後に、前
記レチクル位置決め部を保持したθ回転テーブルを介し
て前記レチクルを所定角度回転させて該レチクルの向き
を変更した後に、前記レチクル位置決め部を介して前記
レチクルを摺動させてレチクル面の洗浄を行うことを特
徴とするレチクル洗浄方法。 - 【請求項２】 レチクル位置決め部に固定したレチクル
の両面に接するように位置した一対の回転ブラシを回転
させた状態でレチクル面に沿って摺動させて当該レチク
ル面の洗浄を行った後に、前記レチクル位置決め部を保
持したθ回転テーブルを介して前記レチクルを所定角度
回転させて該レチクルの向きを変更した後に、前記回転
テーブルをレチクル面に沿って摺動させてレチクル面の
洗浄を行うことを特徴とするレチクル洗浄方法。 - 【請求項３】 レチクル位置決め部に固定したレチクル
の両面に接するように位置した一対の回転ブラシを回転
させた状態で、該レチクル位置決め部を介して該レチク
ルを当該回転ブラシの回転方向に沿って摺動させて当該
レチクル面の洗浄を行った後に、前記一対の回転ブラシ
と直交する一対の回転ブラシを回転させた状態で、前記
レチクル位置決め部を介して前記レチクルを当該回転ブ
ラシの回転方向に沿って摺動させてレチクル面の洗浄を
行うことを特徴とするレチクル洗浄方法。 - 【請求項４】 レチクル位置決め部に固定したレチクル
の両面に接するように位置した一対の回転ブラシを回転
させた状態で当該回転ブラシの回転方向に沿って摺動さ
せて当該レチクル面の洗浄を行った後に、前記一対の回
転ブラシと直交する一対の回転ブラシを回転させた状態
で当該回転ブラシの回転方向に沿って摺動させてレチク
ル面の洗浄を行うことを特徴とするレチクル洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22206895A JPH0968791A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | レチクル洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22206895A JPH0968791A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | レチクル洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0968791A true JPH0968791A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16776616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22206895A Pending JPH0968791A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | レチクル洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0968791A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008026671A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | 微小異物除去方法及び微小異物除去装置 |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP22206895A patent/JPH0968791A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008026671A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | 微小異物除去方法及び微小異物除去装置 |
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