JPH0971405A - 過酸化水素の精製法 - Google Patents

過酸化水素の精製法

Info

Publication number
JPH0971405A
JPH0971405A JP7226676A JP22667695A JPH0971405A JP H0971405 A JPH0971405 A JP H0971405A JP 7226676 A JP7226676 A JP 7226676A JP 22667695 A JP22667695 A JP 22667695A JP H0971405 A JPH0971405 A JP H0971405A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrogen peroxide
light
ppm
purification
purifying hydrogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7226676A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3812597B2 (ja
Inventor
Hisashi Sakaitani
ひさし 堺谷
Kazunari Tanaka
一成 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co Inc filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority to JP22667695A priority Critical patent/JP3812597B2/ja
Publication of JPH0971405A publication Critical patent/JPH0971405A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3812597B2 publication Critical patent/JP3812597B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】過酸化水素を光を照射して精製を行う。 【効果】イオン交換樹脂等による精製では効率の低い不
純物が除去され高純度に精製された過酸化水素を得るこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は過酸化水素液中に含有す
る不純物を除去する過酸化水素の精製法に関する。本発
明を用いて高純度に精製された過酸化水素は、特にシリ
コンウエハ等の半導体基板の洗浄に好適に用いられる。
【0002】
【従来の技術】一般に過酸化水素は蒸留法やイオン交換
樹脂等によって有機及び無機不純物の除去を行い精製が
行われている。一般的には蒸留法または吸着樹脂等によ
って有機不純物が除去され、イオン交換樹脂によって無
機不純物(金属等)が除去されている。また、蒸留法に
よって得られた不純物含量の低い過酸化水素を吸着樹脂
やイオン交換樹脂等に通液することによって、更に高純
度の過酸化水素が得られている。このようにして精製さ
れた高純度の過酸化水素はシリコンウエハ等の洗浄にお
いて塩基性もしくは酸性の過酸化水素として広く使用さ
れており、最近の集積回路の高密度化に伴い、さらに高
い精製度が要求されつつある。
【0003】
【発明が解決しようとする問題点】しかし、現状の精製
技術では今後要求が予想されるより高純度の過酸化水素
を製造するのは難しく、例えば有機不純物やコロイダル
シリカ等についてはその除去が極めて困難である。これ
らの不純物がシリコンウエハに残留した場合の影響につ
いては現在のところまだ明確ではないが、半導体の高集
積化に伴いこれらの不純物を除去する従来以上の精製技
術が要望されている。
【0004】
【問題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
を解決すべく鋭意検討した結果、過酸化水素に光を照射
することが極めて有効であることを見いだし本発明を完
成するに至った。即ち光を過酸化水素に照射することに
よって過酸化水素液中の有機不純物が酸化分解され炭酸
ガスとなって空気中に放出されるため、過酸化水素中の
有機不純物の除去が可能となる。過酸化水素に光を照射
する方法に特に制限はないが、攪拌を行い効率的に液に
光を照射する方法が好ましい。また、光を照射すること
でオゾンが発生するが、このオゾンは自然に分解してし
まうのでその後の処理で問題とはならない。ここで光を
照射する過酸化水素に特に制限はなく、精製の最終段階
の過酸化水素でも良く、また製造で出来た不純物濃度の
高い過酸化水素でも良い。また、この時の過酸化水素の
濃度に特に制限はないが好ましくは1〜70重量%が良
い。
【0005】また、従来、蒸留法やイオン交換樹脂によ
る精製で除去出来なかった過酸化水素中の不純物は、光
照射することによって、その後の蒸留法やイオン交換樹
脂等の精製でより効率的に除去が可能となる。例えば、
通常蒸留法で除去出来なかった有機不純物は、まず光照
射による酸化で炭酸ガスとして空気中に放出され減少す
る。この時光照射での分解が不十分で炭酸ガスへとなら
なかった有機不純物は蟻酸、酢酸等の低分子脂肪酸とし
て過酸化水素中に存在する。これらの低分子脂肪酸はそ
の後蒸留法やイオン交換樹脂による精製によって容易に
除去することが可能となる。同様にコロイダルシリカな
どの通常イオン交換樹脂で除去が困難なコロイド状の金
属も光照射によってイオン状の形態に変化し、その後イ
オン交換樹脂等の精製で除去する事が可能となる。この
光照射を行った後の精製に関しては特に制限はなく過酸
化水素中の不純物を除去する精製法であれば良いが、特
に蒸留法、イオン交換樹脂、キレート樹脂、吸着樹脂、
逆浸透膜、限外濾過膜による精製が効果的である。
【0006】これらの精製法は組み合わせて使用するこ
とによってより高純度な過酸化水素を得ることができ
る。例えば、光照射を行った過酸化水素をまず蒸留法で
精製し、吸着樹脂、アニオン交換樹脂、カチオン交換樹
脂の順序でカラム法による通液を行うとかなり高純度の
過酸化水素を得る事が出来る。この組み合わせ方、組み
合わせの数に関してはより高純度の過酸化水素を得る方
法であれば特に制限はない。また、これら光照射に併せ
てオゾンを接触させることも有効である。このオゾンを
接触させることによって光照射と同様な作用、即ち有機
不純物の酸化が起こり、より効率的な精製が可能とな
る。ここで、過酸化水素にオゾンを接触させる方法に関
しては特に制限はないが、高濃度、高純度のオゾンガス
を吹き込み攪拌等を行うのが好ましい。攪拌に関しては
特に制限はないが、強攪拌によるオゾンガスとの効率的
接触がより好ましい。また、超純水等に溶解させた高濃
度のオゾン水を過酸化水素水の希釈に用いる方法も好ま
しい。これらの操作で過酸化水素中に溶解したオゾンは
自然に分解してしまうため、その後の処理で問題とはな
らない。
【0007】また、この光照射に際し、遷移金属触媒を
添加する方法もより好ましい。ここで遷移金属触媒とし
ては鉄、銅、クロムが好ましい。また、これらの金属に
関しては硫酸塩、硝酸塩、塩酸塩、過塩素酸塩、酸化
物、水和物等の水に可溶性のものが好ましい。ここで添
加する遷移金属触媒の量に関しても特に制限はないが、
あまりに多量であると触媒作用として過酸化水素の分解
が促進してしまい、またその後のイオン交換樹脂による
除去が困難となるため可能な限り低濃度が好ましい。例
えば、硝酸鉄としては0.01〜100ppmが好まし
く、更に好ましくは0.1〜10ppmが好ましい。本
発明の方法で用いられる光としては、紫外線が効果的で
ある。紫外線の光源としては、太陽光、蛍光灯、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ、低圧水銀ランプ高圧水銀ラ
ンプ等があり、好ましくはキセノンランプ、ハロゲンラ
ンプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプであり、更に好
ましくは高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプである。以下
にその実施例を示す。
【0008】
【実施例】
実施例1 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。処理後の
有機不純物濃度を測定したところ39ppmであった。
【0009】実施例2 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。得られた
過酸化水素を蒸留精製したところ、精製過酸化水素中の
有機不純物は29ppmであった。
【0010】実施例3 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。得られた
過酸化水素をカチオン交換樹脂であるアンバーライトI
R−120B(H型、オルガノ(株)製)20mlを充
填した内径15mm、長さ30cmのテフロン製カラム
に空間速度SV10hr-1に通液した。次いで、アニオ
ン交換樹脂であるアンバーライトIRA−400(重炭
酸型、オルガノ(株)製)20mlを充填した内径15
mm、長さ30cmのテフロン製カラムに空間速度SV
10hr-1に通液し、精製した。得られた精製過酸化水
素中の有機不純物は、26ppmであった。
【0011】実施例4 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。この時、
200mg/lのオゾンガスを0.8l/minで吹き
込んだ。得られた過酸化水素中の有機不純物は16pp
mであった。
【0012】実施例5 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。この時、
金属触媒として硝酸鉄1ppmを添加した。得られた過
酸化水素中の有機不純物は34ppmであった。
【0013】実施例6 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。この時、
金属触媒として塩化銅1ppmを添加した。得られた過
酸化水素中の有機不純物は35ppmであった。
【0014】実施例7 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31重量
%の過酸化水素800mlに高圧紫外線ランプ(500
W)を照射しながら10min攪拌を行った。この時、
金属触媒として硫酸クロム1ppmを添加した。得られ
た過酸化水素中の有機不純物は36ppmであった。
【0015】比較例1 有機不純物(TOC)として50ppmを含む31wt
%の過酸化水素800mlを蒸留精製行った。得られた
過酸化水素中の有機不純物は44ppmであった。
【0016】
【発明の効果】本発明によれば、不純物を高い効率で除
去することができ、特に吸着樹脂、イオン交換樹脂等で
精製効率の低い有機不純物を効率よく除去することがで
きる。本発明により得られた高純度の過酸化水素はシリ
コンウエハの洗浄に好適に使用し得るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // H01L 21/304 341 H01L 21/304 341L

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 過酸化水素に光を照射することを特徴と
    する過酸化水素の精製法。
  2. 【請求項2】 後処理として、蒸留をすることを特徴と
    する請求項1記載の過酸化水素の精製法。
  3. 【請求項3】 後処理として、イオン交換樹脂、吸着樹
    脂、キレート樹脂、逆浸透膜、限外濾過膜のいずれか一
    つ以上に接触させることを特徴とする請求項1記載の過
    酸化水素の精製法。
  4. 【請求項4】 同時にオゾンガスと接触させることを特
    徴とする請求項1記載の過酸化水素の精製法。
  5. 【請求項5】 触媒として、遷移金属化合物を過酸化水
    素と共存させることを特徴とする請求項1、4記載の過
    酸化水素の精製法。
  6. 【請求項6】 遷移金属化合物が鉄、銅、クロムの硫酸
    塩、硝酸塩、塩酸塩、過塩素酸塩、酸化物及び水酸化物
    からなる群から選ばれた少なくとも1種である請求項5
    記載の過酸化水素の精製法。
  7. 【請求項7】 照射する光が紫外線である請求項1、4
    記載の過酸化水素の精製法。
JP22667695A 1995-09-04 1995-09-04 過酸化水素の精製法 Expired - Fee Related JP3812597B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22667695A JP3812597B2 (ja) 1995-09-04 1995-09-04 過酸化水素の精製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22667695A JP3812597B2 (ja) 1995-09-04 1995-09-04 過酸化水素の精製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0971405A true JPH0971405A (ja) 1997-03-18
JP3812597B2 JP3812597B2 (ja) 2006-08-23

Family

ID=16848916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22667695A Expired - Fee Related JP3812597B2 (ja) 1995-09-04 1995-09-04 過酸化水素の精製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3812597B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1520839A1 (en) * 2003-10-02 2005-04-06 SOLVAY (Société Anonyme) Process for the purification of aqueous peroxygen solutions, solutions obtainable thereby and their use
JP2011206637A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Panasonic Corp 酸または塩基と過酸化水素とを含む廃液の処理方法および処理装置
CN115744832A (zh) * 2022-11-15 2023-03-07 湖南双阳高科化工有限公司 一种双氧水纯化装置及纯化方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1520839A1 (en) * 2003-10-02 2005-04-06 SOLVAY (Société Anonyme) Process for the purification of aqueous peroxygen solutions, solutions obtainable thereby and their use
WO2005033005A1 (en) * 2003-10-02 2005-04-14 Solvay (Société Anonyme) Process for the purification of aqueous peroxygen solutions, solutions obtainable thereby and their use
JP2007507411A (ja) * 2003-10-02 2007-03-29 ソルヴェイ 水性過酸化物溶液の精製方法、それによって得られる溶液及びそれらの使用
US7473412B2 (en) 2003-10-02 2009-01-06 Solvay (Société Anonyme) Process for the purification of aqueous peroxygen solutions, solutions obtainable thereby and their use
JP2011206637A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Panasonic Corp 酸または塩基と過酸化水素とを含む廃液の処理方法および処理装置
CN115744832A (zh) * 2022-11-15 2023-03-07 湖南双阳高科化工有限公司 一种双氧水纯化装置及纯化方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3812597B2 (ja) 2006-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5876685A (en) Separation and purification of fluoride from industrial wastes
JP2677468B2 (ja) 純水の製造方法及び装置
WO1998006483B1 (en) Method and apparatus for high efficiency reverse osmosis operation
WO2000064568A1 (en) Apparatus for producing water containing dissolved ozone
EP1670717B1 (en) Process for the purification of aqueous hydrogen peroxide solutions
JPH0938670A (ja) 超純水製造装置
JP3171058B2 (ja) 過酸化水素水の精製方法
JP3812597B2 (ja) 過酸化水素の精製法
JPH1199394A (ja) 水中の有機物除去方法
EP0427191A1 (en) Process for removing dissolved oxygen from water and system therefor
JPH05115B2 (ja)
JPH07241598A (ja) 水処理装置
JP3238745B2 (ja) フッ化アンモニウム含有水の処理方法
JP3794040B2 (ja) 過酸化水素の精製法
JP3266309B2 (ja) 酸性フッ素含有水の処理方法
JP2000308815A (ja) オゾン溶解水の製造装置
JPH09221305A (ja) 高純度過酸化水素水の製造方法
JPH0889976A (ja) 水中の有機物の除去方法
JPH1128482A (ja) 純水製造方法
JP2500968B2 (ja) 純水製造装置
JPH0920505A (ja) 過酸化水素水の精製方法
JPH09220560A (ja) 超純水製造装置
JPH0839059A (ja) 有機アルカリを含む半導体洗浄排水の回収方法
JPH1094785A (ja) 超純水製造方法および製造装置
JPH05317846A (ja) 水の放散処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050602

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060322

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060410

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060510

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060523

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140609

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees