JPH097153A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH097153A JPH097153A JP15631595A JP15631595A JPH097153A JP H097153 A JPH097153 A JP H097153A JP 15631595 A JP15631595 A JP 15631595A JP 15631595 A JP15631595 A JP 15631595A JP H097153 A JPH097153 A JP H097153A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ベースフィルム1上に、コラム構造がベース
フィルム1表面に対して垂直に成長する第一磁性層2
と、コラム構造が前記第一磁性層2のコラム構造の成長
方向に対して斜めに成長する第二磁性層3とが形成され
ている蒸着型の磁気記録媒体。 【効果】 耐久性と飽和磁束密度(Bs)が向上する。
フィルム1表面に対して垂直に成長する第一磁性層2
と、コラム構造が前記第一磁性層2のコラム構造の成長
方向に対して斜めに成長する第二磁性層3とが形成され
ている蒸着型の磁気記録媒体。 【効果】 耐久性と飽和磁束密度(Bs)が向上する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は蒸着型の磁気記録媒体及
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気記録媒体として、ベースフィルム上
に真空中で磁性金属を蒸着する真空蒸着法により、バイ
ンダーを全く含まない金属薄膜からなる磁性層を非磁性
のベースフィルム上に付着させる蒸着型の磁気記録媒体
が知られている。そして、近年の磁気記録は高密度記録
化の方向にあり、蒸着型の磁気記録媒体は、磁性層にバ
インダーを含まないことから磁性材料の密度を高められ
るため、高密度記録に有望であるとされている。
に真空中で磁性金属を蒸着する真空蒸着法により、バイ
ンダーを全く含まない金属薄膜からなる磁性層を非磁性
のベースフィルム上に付着させる蒸着型の磁気記録媒体
が知られている。そして、近年の磁気記録は高密度記録
化の方向にあり、蒸着型の磁気記録媒体は、磁性層にバ
インダーを含まないことから磁性材料の密度を高められ
るため、高密度記録に有望であるとされている。
【0003】真空蒸着法による磁気記録媒体の製造は、
真空雰囲気中を連続走行するベースフィルムに、Fe、
Co、Ni等の磁性金属やCo−Ni系やCo−Cr系
の磁性合金を蒸着により付着させて磁性層を形成するも
のであるが、蒸着方法としては特公昭41−19389
号公報等に開示されている、いわゆる斜め蒸着が今日の
主流を占めている。斜め蒸着法はベースフィルム表面に
対して斜め方向から磁性金属の蒸気を付着させるもので
あり、その結果得られた磁気記録媒体は、図2に示すよ
うにベースフィルム21上に斜めに成長したコラム22を有
する。
真空雰囲気中を連続走行するベースフィルムに、Fe、
Co、Ni等の磁性金属やCo−Ni系やCo−Cr系
の磁性合金を蒸着により付着させて磁性層を形成するも
のであるが、蒸着方法としては特公昭41−19389
号公報等に開示されている、いわゆる斜め蒸着が今日の
主流を占めている。斜め蒸着法はベースフィルム表面に
対して斜め方向から磁性金属の蒸気を付着させるもので
あり、その結果得られた磁気記録媒体は、図2に示すよ
うにベースフィルム21上に斜めに成長したコラム22を有
する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】斜め蒸着により形成さ
れた磁性層を有する磁気記録媒体は、一般に保磁力(H
c)に優れたものとなるが、通常の斜め蒸着法では、ベ
ースフィルムと磁性層の界面は金属蒸気量が少ない領域
(蒸着初期)で成膜されるため金属付着量が少なく、ベ
ースフィルムとコラムの結着力及び結晶性がコラム上層
部よりも劣ったものとなる。このため、耐久性や走行安
定性が不充分となる傾向があった。また、コラム同士の
パッキング性が充分でないため、飽和磁束密度(Bs)
も不充分であった。
れた磁性層を有する磁気記録媒体は、一般に保磁力(H
c)に優れたものとなるが、通常の斜め蒸着法では、ベ
ースフィルムと磁性層の界面は金属蒸気量が少ない領域
(蒸着初期)で成膜されるため金属付着量が少なく、ベ
ースフィルムとコラムの結着力及び結晶性がコラム上層
部よりも劣ったものとなる。このため、耐久性や走行安
定性が不充分となる傾向があった。また、コラム同士の
パッキング性が充分でないため、飽和磁束密度(Bs)
も不充分であった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の目的
を達成するために鋭意研究した結果、ベースフィルム上
に垂直方向にコラムが成長した第一の磁性層を形成し、
当該第一の磁性層上に斜め方向にコラムが成長した第二
の磁性層を形成することにより、磁性層とフィルムの結
着性が向上し耐久性に優れ、且つコラム同士のパッキン
グ性が改良されるためBsにも優れた磁気記録媒体が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
を達成するために鋭意研究した結果、ベースフィルム上
に垂直方向にコラムが成長した第一の磁性層を形成し、
当該第一の磁性層上に斜め方向にコラムが成長した第二
の磁性層を形成することにより、磁性層とフィルムの結
着性が向上し耐久性に優れ、且つコラム同士のパッキン
グ性が改良されるためBsにも優れた磁気記録媒体が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0006】すなわち本発明は、ベースフィルムと、当
該ベースフィルム上に蒸着により形成された第一磁性層
と、当該第一磁性層上に蒸着により形成された第二磁性
層を有し、前記第一磁性層のコラム構造が前記ベースフ
ィルム表面に対して垂直に成長しており、且つ前記第二
のコラム構造が前記第一磁性層のコラム構造の成長方向
に対して斜めに成長していることを特徴とする磁気記録
媒体を提供するものである。
該ベースフィルム上に蒸着により形成された第一磁性層
と、当該第一磁性層上に蒸着により形成された第二磁性
層を有し、前記第一磁性層のコラム構造が前記ベースフ
ィルム表面に対して垂直に成長しており、且つ前記第二
のコラム構造が前記第一磁性層のコラム構造の成長方向
に対して斜めに成長していることを特徴とする磁気記録
媒体を提供するものである。
【0007】かかる本発明の磁気記録媒体は、真空中
で、ベースフィルム表面に対して垂直方向から磁性金属
を蒸着してベースフィルム上に第一の磁性層を形成し、
次いで、ベースフィルム表面に対して斜め方向から磁性
金属を蒸着して前記第一の磁性層上に第二の磁性層を形
成する工程を含む製造方法により製造される。
で、ベースフィルム表面に対して垂直方向から磁性金属
を蒸着してベースフィルム上に第一の磁性層を形成し、
次いで、ベースフィルム表面に対して斜め方向から磁性
金属を蒸着して前記第一の磁性層上に第二の磁性層を形
成する工程を含む製造方法により製造される。
【0008】本発明の磁気記録媒体は、図1に示される
ように、ベースフィルム1上に、当該ベースフィルム表
面に対して垂直に成長したコラム構造を有する第一磁性
層2が形成され、当該第一磁性層2上に、当該第一磁性
層のコラム構造の成長方向に対して斜めに成長したコラ
ム構造を有する第二磁性層3が形成されている。
ように、ベースフィルム1上に、当該ベースフィルム表
面に対して垂直に成長したコラム構造を有する第一磁性
層2が形成され、当該第一磁性層2上に、当該第一磁性
層のコラム構造の成長方向に対して斜めに成長したコラ
ム構造を有する第二磁性層3が形成されている。
【0009】かかる磁気記録媒体は、図3のような方法
で製造される。図3は、本発明の磁気記録媒体を製造す
る装置の要部を示す略示図である。図3において、冷却
キャンロール31,31’、ルツボ32,32’は所望の真空度
に保たれた真空容器(図示せず)内に収容されている。
フィルム33は、先ず冷却キャンロール31上を走行する。
冷却キャンロール31の下方には、ルツボ(例えばMgO
製)32が置かれ、この中に磁性金属34が収容されてい
る。このルツボ32内の磁性金属34に対して電子ビーム銃
35から電子ビームを照射する。これにより、磁性金属34
を加熱気化させるようになっている。
で製造される。図3は、本発明の磁気記録媒体を製造す
る装置の要部を示す略示図である。図3において、冷却
キャンロール31,31’、ルツボ32,32’は所望の真空度
に保たれた真空容器(図示せず)内に収容されている。
フィルム33は、先ず冷却キャンロール31上を走行する。
冷却キャンロール31の下方には、ルツボ(例えばMgO
製)32が置かれ、この中に磁性金属34が収容されてい
る。このルツボ32内の磁性金属34に対して電子ビーム銃
35から電子ビームを照射する。これにより、磁性金属34
を加熱気化させるようになっている。
【0010】冷却キャンロール31を走行するフィルム33
上には第一の磁性層が形成されるが、前記したような第
一磁性層のコラム構造を形成するためには、磁性金属34
の蒸気量が多い領域で且つベースフィルム表面に対して
垂直方向から蒸着させる必要があり、冷却キャンロール
31を走行するベースフィルム33と蒸着領域との位置関係
を適宜調節して蒸着を行なう。
上には第一の磁性層が形成されるが、前記したような第
一磁性層のコラム構造を形成するためには、磁性金属34
の蒸気量が多い領域で且つベースフィルム表面に対して
垂直方向から蒸着させる必要があり、冷却キャンロール
31を走行するベースフィルム33と蒸着領域との位置関係
を適宜調節して蒸着を行なう。
【0011】次いでベースフィルム33は冷却キャンロー
ル31’上を走行し、前記と同様にルツボ32’内の磁性金
属34’に対して電子ビーム銃35’から電子ビームを照射
して第一磁性層上に第二磁性層が形成される。この際、
前記したような第二磁性層のコラム構造を形成するため
には、ベースフィルム表面に対して斜め方向から磁性金
属を蒸着(いわゆる斜め蒸着)する必要があり、冷却キ
ャンロール31’を走行するベースフィルム33と蒸着領域
との位置関係を適宜調節して斜め蒸着を行なう。このよ
うにして、ベースフィルム33上に第一磁性層と第二磁性
層が形成された本発明の磁気記録媒体が得られる。
ル31’上を走行し、前記と同様にルツボ32’内の磁性金
属34’に対して電子ビーム銃35’から電子ビームを照射
して第一磁性層上に第二磁性層が形成される。この際、
前記したような第二磁性層のコラム構造を形成するため
には、ベースフィルム表面に対して斜め方向から磁性金
属を蒸着(いわゆる斜め蒸着)する必要があり、冷却キ
ャンロール31’を走行するベースフィルム33と蒸着領域
との位置関係を適宜調節して斜め蒸着を行なう。このよ
うにして、ベースフィルム33上に第一磁性層と第二磁性
層が形成された本発明の磁気記録媒体が得られる。
【0012】前記したように、本発明の磁気記録媒体は
図1のような構成からなるが、ベースフィルム上に、エ
ネルギーが高く結晶性、結着性の大きな蒸着領域によ
り、第一の磁性層を垂直(図中において)に形成するこ
とにより、先ずフィルムとの結着性の高い薄膜が形成さ
れ、次いで、この膜上に第二の磁性層を斜め蒸着するこ
とにより、磁性層がベースフィルム上に直接形成される
場合よりも磁性層全体の結着性が向上する。第二磁性層
は蒸気濃度の小さい蒸着開始(初期蒸着)部分で第一磁
性層の金属結晶の配向の影響を受け、初期蒸着の金属粒
子が結晶化しやすくなる。つまり第一磁性層が結晶化し
ているので、第二磁性層の下部(初期蒸着粒子)が結晶
化しやすくなり、第二磁性層の金属結晶のパッキング性
が改良される。このため、耐久性とBsが向上する。な
お、前記のように第一磁性層は蒸気密度の高い部分で蒸
着されるため、フィルムの走行速度が一定であっても第
一磁性層が速く形成される。
図1のような構成からなるが、ベースフィルム上に、エ
ネルギーが高く結晶性、結着性の大きな蒸着領域によ
り、第一の磁性層を垂直(図中において)に形成するこ
とにより、先ずフィルムとの結着性の高い薄膜が形成さ
れ、次いで、この膜上に第二の磁性層を斜め蒸着するこ
とにより、磁性層がベースフィルム上に直接形成される
場合よりも磁性層全体の結着性が向上する。第二磁性層
は蒸気濃度の小さい蒸着開始(初期蒸着)部分で第一磁
性層の金属結晶の配向の影響を受け、初期蒸着の金属粒
子が結晶化しやすくなる。つまり第一磁性層が結晶化し
ているので、第二磁性層の下部(初期蒸着粒子)が結晶
化しやすくなり、第二磁性層の金属結晶のパッキング性
が改良される。このため、耐久性とBsが向上する。な
お、前記のように第一磁性層は蒸気密度の高い部分で蒸
着されるため、フィルムの走行速度が一定であっても第
一磁性層が速く形成される。
【0013】本発明において、磁性層を形成する磁性材
料としては、通常の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に
用いられる強磁性金属材料が挙げられ、例えばCo,Ni,
Fe等の強磁性金属、また、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe
−Co−Ni、Fe−Fh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn
−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−
Co−Cr、Ni−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性
層としては鉄の薄膜或いは鉄を主体とする強磁性合金の
薄膜が好ましく、特に、鉄、コバルト、ニッケルを主体
とする強磁性合金及びこれらの窒化物もしくは炭化物か
ら選ばれる少なくとも1種が好ましい。磁性層の厚さ
は、第二磁性層の厚さが前記第一磁性層の厚さよりも大
きいことが望ましく、具体的には、第一磁性層の厚さは
100〜1500Å、第二磁性層の厚さは500〜2500Å程度が
好ましいが、特に第一磁性層が 300〜1000Å、第二磁性
層が800〜2000Åであるのが好ましい。第二磁性層が薄
すぎると結晶性、パッキング性の向上効果がなく、反対
に厚すぎると磁性層側への反りが大きくなり、ヘッドタ
ッチが悪化する。
料としては、通常の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に
用いられる強磁性金属材料が挙げられ、例えばCo,Ni,
Fe等の強磁性金属、また、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe
−Co−Ni、Fe−Fh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、
Co−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn
−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−
Co−Cr、Ni−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性
層としては鉄の薄膜或いは鉄を主体とする強磁性合金の
薄膜が好ましく、特に、鉄、コバルト、ニッケルを主体
とする強磁性合金及びこれらの窒化物もしくは炭化物か
ら選ばれる少なくとも1種が好ましい。磁性層の厚さ
は、第二磁性層の厚さが前記第一磁性層の厚さよりも大
きいことが望ましく、具体的には、第一磁性層の厚さは
100〜1500Å、第二磁性層の厚さは500〜2500Å程度が
好ましいが、特に第一磁性層が 300〜1000Å、第二磁性
層が800〜2000Åであるのが好ましい。第二磁性層が薄
すぎると結晶性、パッキング性の向上効果がなく、反対
に厚すぎると磁性層側への反りが大きくなり、ヘッドタ
ッチが悪化する。
【0014】本発明において第一磁性層を形成するため
の蒸着法、および第二磁性層を形成するための斜め蒸着
法は何れも従来公知の方法に準して行なえばよい。蒸着
の際の真空度は10-4〜10-7Torr程度である。また第
二磁性層を形成する際に酸化性ガスを導入して第二磁性
層表面に酸化物を形成することにより、耐久性の向上を
図ることができる。
の蒸着法、および第二磁性層を形成するための斜め蒸着
法は何れも従来公知の方法に準して行なえばよい。蒸着
の際の真空度は10-4〜10-7Torr程度である。また第
二磁性層を形成する際に酸化性ガスを導入して第二磁性
層表面に酸化物を形成することにより、耐久性の向上を
図ることができる。
【0015】また、本発明においては、第二磁性層上に
保護層を設けてもよい。保護層は、炭素或いは炭化物、
窒化物、酸化物、特にダイヤモンドライクカーボン、ダ
イヤモンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒
化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等を磁性層上
に付着して成膜することにより形成されるのが好まし
く、中でもダイヤモンドライクカーボンからなる保護層
を形成するのが最も望ましい。これらの保護層は、マイ
クロ波を用いたECR 法や、高周波 (RF) を用いた方法に
より真空中で形成するのがよい。保護層の厚さは特に限
定しないが、10〜300 Å、好ましくは30〜150 Å程度が
適当である。
保護層を設けてもよい。保護層は、炭素或いは炭化物、
窒化物、酸化物、特にダイヤモンドライクカーボン、ダ
イヤモンド、炭化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒
化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等を磁性層上
に付着して成膜することにより形成されるのが好まし
く、中でもダイヤモンドライクカーボンからなる保護層
を形成するのが最も望ましい。これらの保護層は、マイ
クロ波を用いたECR 法や、高周波 (RF) を用いた方法に
より真空中で形成するのがよい。保護層の厚さは特に限
定しないが、10〜300 Å、好ましくは30〜150 Å程度が
適当である。
【0016】更に本発明においては、第二磁性層或いは
保護層の上に潤滑剤層を形成してもよい。潤滑剤層は常
法により適当な潤滑剤を溶剤に溶かして大気中で塗布し
ても良いし、真空中で潤滑剤を噴霧してもよい。また、
ベースフィルムの磁性層が形成される面と反対の面にバ
ックコート層を形成してもよい。バックコート層は、カ
ーボンブラック等を適当な溶剤に分散させた液を塗布し
てもよいし、金属又は半金属を物理的蒸着法(PVD) 、特
に熱蒸発法、スパッタリング法により蒸着させて形成さ
せてもよい。これらの潤滑剤層、バックコート層の厚さ
は限定されない。
保護層の上に潤滑剤層を形成してもよい。潤滑剤層は常
法により適当な潤滑剤を溶剤に溶かして大気中で塗布し
ても良いし、真空中で潤滑剤を噴霧してもよい。また、
ベースフィルムの磁性層が形成される面と反対の面にバ
ックコート層を形成してもよい。バックコート層は、カ
ーボンブラック等を適当な溶剤に分散させた液を塗布し
てもよいし、金属又は半金属を物理的蒸着法(PVD) 、特
に熱蒸発法、スパッタリング法により蒸着させて形成さ
せてもよい。これらの潤滑剤層、バックコート層の厚さ
は限定されない。
【0017】本発明の磁気記録媒体を構成するベースフ
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートのようなポリエステル;ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルロースト
リアセテート、セルロースジアセテート等のセルロース
誘導体;ポリカーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミ
ド;芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用され
る。これらのベースフィルムの厚さは3〜50μm程度で
ある。
ィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレートのようなポリエステル;ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルロースト
リアセテート、セルロースジアセテート等のセルロース
誘導体;ポリカーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミ
ド;芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用され
る。これらのベースフィルムの厚さは3〜50μm程度で
ある。
【0018】
【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0019】実施例1 図3に示す装置を用い、第一磁性層と第二磁性層を有す
る磁気記録媒体を製造した。即ち、厚さ10μm、幅15c
mのPET フィルム33をセットし、冷却キャンロール31上
を走行速度10m/分で走行させた。ルツボ32内に収容さ
れたコバルト34に電子銃35から電子ビームを照射してフ
ィルム33表面に向けてコバルト34を蒸着させて厚さ200
Åの第一磁性層を形成した。なお、該装置は図示しない
真空手段により真空度が2×10-5Torrに保たれてい
る。
る磁気記録媒体を製造した。即ち、厚さ10μm、幅15c
mのPET フィルム33をセットし、冷却キャンロール31上
を走行速度10m/分で走行させた。ルツボ32内に収容さ
れたコバルト34に電子銃35から電子ビームを照射してフ
ィルム33表面に向けてコバルト34を蒸着させて厚さ200
Åの第一磁性層を形成した。なお、該装置は図示しない
真空手段により真空度が2×10-5Torrに保たれてい
る。
【0020】次いで、第一磁性層が形成されたベースフ
ィルム33を冷却キャンロール31’上を走行させ、ルツボ
32’内に収容されたコバルト34’を蒸着させて第一磁性
層上に厚さ1000Åの第二磁性層を形成した。
ィルム33を冷却キャンロール31’上を走行させ、ルツボ
32’内に収容されたコバルト34’を蒸着させて第一磁性
層上に厚さ1000Åの第二磁性層を形成した。
【0021】第一、第二磁性層を形成した後、常法によ
り厚さ5000Åのカーボンブラック及び塩化ビニル系樹脂
とウレタンプレポリマーとからなるバインダ樹脂からな
るバックコート層をベースフィルムの磁性層と反対の面
に形成し、更に磁性層及びバックコート層上に常法によ
りそれぞれ厚さ20Åのパーフルオロポリエーテルからな
る潤滑剤層を形成した。
り厚さ5000Åのカーボンブラック及び塩化ビニル系樹脂
とウレタンプレポリマーとからなるバインダ樹脂からな
るバックコート層をベースフィルムの磁性層と反対の面
に形成し、更に磁性層及びバックコート層上に常法によ
りそれぞれ厚さ20Åのパーフルオロポリエーテルからな
る潤滑剤層を形成した。
【0022】得られたフィルムを8mm巾に裁断し、カ
セットケースにローディングし8mmカセットテープを
得た。この8mmカセットテープについて静磁気特性、
スチル耐久特性を測定した。その結果を表1に示す。な
お、各評価は以下のようにして行なった。
セットケースにローディングし8mmカセットテープを
得た。この8mmカセットテープについて静磁気特性、
スチル耐久特性を測定した。その結果を表1に示す。な
お、各評価は以下のようにして行なった。
【0023】(1) 静磁気特性 保磁力(Hc) VSM(振動試料型磁力計)で測定した。 飽和磁束密度(Bs) VSM(振動試料型磁力計)で測定した。 (2) スチル耐久特性 8mmカセットテープを市販の8mmVTRにセット
し、20℃/50%(温度/湿度)の条件下で出力が3dB
低下するまでのスチルモード時間を測定した。
し、20℃/50%(温度/湿度)の条件下で出力が3dB
低下するまでのスチルモード時間を測定した。
【0024】実施例2 実施例1と同様の方法により8mmカセットテープを製
造した。ただし、第一磁性層の厚さは400 Å、第二磁性
層の厚さは800 Åとした。その他は実施例1同様にし、
実施例1同様の評価を行なった。その結果を表1に示
す。
造した。ただし、第一磁性層の厚さは400 Å、第二磁性
層の厚さは800 Åとした。その他は実施例1同様にし、
実施例1同様の評価を行なった。その結果を表1に示
す。
【0025】比較例1 実施例1と同様の方法により8mmカセットテープを製
造した。ただし、通常の斜め蒸着により厚さ1200Åの単
層からなる磁性層のみを形成した。その他は実施例1同
様にし、実施例1同様の評価を行なった。その結果を表
1に示す。
造した。ただし、通常の斜め蒸着により厚さ1200Åの単
層からなる磁性層のみを形成した。その他は実施例1同
様にし、実施例1同様の評価を行なった。その結果を表
1に示す。
【0026】
【表1】
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、耐久性と飽和磁束密度
(Bs)が向上した蒸着型の磁気記録媒体が得られる。
(Bs)が向上した蒸着型の磁気記録媒体が得られる。
【図1】本発明の磁気記録媒体の構成を示す概略図
【図2】従来の蒸着型の磁気記録媒体の構成を示す概略
図
図
【図3】本発明の磁気記録媒体を製造する装置の要部の
概略図
概略図
1 ベースフィルム 2 第一磁性層 3 第二磁性層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 佐々木 克己 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 松尾 祐三 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 ベースフィルムと、当該ベースフィルム
上に蒸着により形成された第一磁性層と、当該第一磁性
層上に蒸着により形成された第二磁性層を有し、前記第
一磁性層のコラム構造が前記ベースフィルム表面に対し
て垂直に成長しており、且つ前記第二のコラム構造が前
記第一磁性層のコラム構造の成長方向に対して斜めに成
長していることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 真空中で、ベースフィルム表面に対して
垂直方向から磁性金属を蒸着してベースフィルム上に第
一の磁性層を形成し、次いで、ベースフィルム表面に対
して斜め方向から磁性金属を蒸着して前記第一の磁性層
上に第二の磁性層を形成する工程を含む磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15631595A JPH097153A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15631595A JPH097153A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH097153A true JPH097153A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15625122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15631595A Pending JPH097153A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH097153A (ja) |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP15631595A patent/JPH097153A/ja active Pending
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