JPH0971561A - ジシアノベンゼンの製造法 - Google Patents
ジシアノベンゼンの製造法Info
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- JPH0971561A JPH0971561A JP7250129A JP25012995A JPH0971561A JP H0971561 A JPH0971561 A JP H0971561A JP 7250129 A JP7250129 A JP 7250129A JP 25012995 A JP25012995 A JP 25012995A JP H0971561 A JPH0971561 A JP H0971561A
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- Japan
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- catalyst
- xylene
- oxide
- dicyanobenzene
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 合成樹脂、医農薬、顔料、染料などの原料と
して有用な化合物であるジシアノベンゼンを高収率で製
造する方法を提供することにある。 【解決手段】 キシレン、アンモニアおよび酸素を、触
媒として鉄・アンチモン・バナジウム・リン含有酸化物
組成物の存在下、気相で反応させることを特徴とするジ
シアノベンゼンの製造法。
して有用な化合物であるジシアノベンゼンを高収率で製
造する方法を提供することにある。 【解決手段】 キシレン、アンモニアおよび酸素を、触
媒として鉄・アンチモン・バナジウム・リン含有酸化物
組成物の存在下、気相で反応させることを特徴とするジ
シアノベンゼンの製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジシアノベンゼン
の製造法に関し、詳しくはキシレンを気相で接触アンモ
酸化して対応するジシアノベンゼンを製造する方法に関
するものである。ジシアノベンゼンは合成樹脂、医農
薬、顔料、染料の原料などに用いられる有用な化合物で
ある。
の製造法に関し、詳しくはキシレンを気相で接触アンモ
酸化して対応するジシアノベンゼンを製造する方法に関
するものである。ジシアノベンゼンは合成樹脂、医農
薬、顔料、染料の原料などに用いられる有用な化合物で
ある。
【０００２】
【従来技術】キシレンのアンモ酸化によるジシアノベン
ゼンを製造する方法は従来から知られており、これに使
用される触媒としては種々のものが提案されている。特
に、酸化バナジウムを主体とするもの、なかでもバナジ
ウム・アンチモン系の触媒がよく知られている。例え
ば、酸化アンチモンと酸化バナジウムおよび／またはバ
ナジン酸アンチモンからなる触媒（特公昭４７−４０１
号公報）、Ｓｂ、Ｖおよび１種以上のＦｅ，Ｃｕ，Ｔ
ｉ，Ｃｏ，ＭｎおよびＮｉからなる触媒（特公昭５７−
１９７０６号公報）、酸化バナジウム、酸化アンチモ
ン、酸化アルカリ金属および酸化アルミニウムを含有す
る触媒（特開昭６２−１２０３５１号公報）、バナジウ
ム、アンチモン、ウランおよびクロムの少なくとも１種
の酸化物を含有する触媒（特開昭５６−１３９４４４号
公報）、鉄・バナジウム・アンチモン含有触媒（特開昭
６３−１９０６４６号公報）などがある。しかし、従来
技術は、供給ガス中のキシレンに対する酸素やアンモニ
アのモル比が高いこと、キシレンの濃度が低いこと、目
的物の収率が低いこと、あるいは触媒の製法が煩雑であ
ることなど、工業的実施するためには、解決しなければ
ならない問題点を有していた。
ゼンを製造する方法は従来から知られており、これに使
用される触媒としては種々のものが提案されている。特
に、酸化バナジウムを主体とするもの、なかでもバナジ
ウム・アンチモン系の触媒がよく知られている。例え
ば、酸化アンチモンと酸化バナジウムおよび／またはバ
ナジン酸アンチモンからなる触媒（特公昭４７−４０１
号公報）、Ｓｂ、Ｖおよび１種以上のＦｅ，Ｃｕ，Ｔ
ｉ，Ｃｏ，ＭｎおよびＮｉからなる触媒（特公昭５７−
１９７０６号公報）、酸化バナジウム、酸化アンチモ
ン、酸化アルカリ金属および酸化アルミニウムを含有す
る触媒（特開昭６２−１２０３５１号公報）、バナジウ
ム、アンチモン、ウランおよびクロムの少なくとも１種
の酸化物を含有する触媒（特開昭５６−１３９４４４号
公報）、鉄・バナジウム・アンチモン含有触媒（特開昭
６３−１９０６４６号公報）などがある。しかし、従来
技術は、供給ガス中のキシレンに対する酸素やアンモニ
アのモル比が高いこと、キシレンの濃度が低いこと、目
的物の収率が低いこと、あるいは触媒の製法が煩雑であ
ることなど、工業的実施するためには、解決しなければ
ならない問題点を有していた。
【０００３】
【発明が解決しようとしている課題】本発明は、上記の
ような従来技術の問題点を克服すべくなされたもので、
そのの目的は、供給ガス中のキシレンの濃度が高くても
触媒活性は良好で、かつ選択性よくジシアノベンゼンを
製造することのできる触媒を開発することにある。
ような従来技術の問題点を克服すべくなされたもので、
そのの目的は、供給ガス中のキシレンの濃度が高くても
触媒活性は良好で、かつ選択性よくジシアノベンゼンを
製造することのできる触媒を開発することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するために鋭意検討した結果、特定のＦｅ・Ｓ
ｂ・Ｖ・Ｐ含有酸化物組成物がキシレンのアンモ酸化に
よりジシアノベンゼンを製造する反応に対して優れた触
媒作用を示すことを見いだした。本発明はこのような知
見に基づいてなされたものである。
的を達成するために鋭意検討した結果、特定のＦｅ・Ｓ
ｂ・Ｖ・Ｐ含有酸化物組成物がキシレンのアンモ酸化に
よりジシアノベンゼンを製造する反応に対して優れた触
媒作用を示すことを見いだした。本発明はこのような知
見に基づいてなされたものである。
【０００５】すなわち、本発明は、キシレンを下記の実
験式（１）で表される酸化物組成物の存在下に気相でア
ンモニアおよび酸素と反応させることを特徴とするジシ
アノベンゼンの製造法に関する。 Ｆｅ10Ｓｂa Ｖb Ｐc Ｃｒd Ｘe Ｙf Ｚg Ｏh （１） （式中、ＸはＭｏおよび／またはＷ、ＹはＬｉ、Ｎａ、
Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａか
らなる群より選ばれた少なくとも一種の元素、ＺはＣ
ｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、
ＢｉおよびＴｅからなる群より選ばれた少なくとも一種
の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈは
各元素の原子比率を表し、Ｆｅ＝１０のとき、ａ＝７〜
５０，ｂ＝２．５〜１５，ｃ＝０．１〜５，ｄ＝０〜
８，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ＝０〜５であり、ｈは
上記各成分が結合して生成する酸化物に対応する数を示
す。）
験式（１）で表される酸化物組成物の存在下に気相でア
ンモニアおよび酸素と反応させることを特徴とするジシ
アノベンゼンの製造法に関する。 Ｆｅ10Ｓｂa Ｖb Ｐc Ｃｒd Ｘe Ｙf Ｚg Ｏh （１） （式中、ＸはＭｏおよび／またはＷ、ＹはＬｉ、Ｎａ、
Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａか
らなる群より選ばれた少なくとも一種の元素、ＺはＣ
ｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、
ＢｉおよびＴｅからなる群より選ばれた少なくとも一種
の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈは
各元素の原子比率を表し、Ｆｅ＝１０のとき、ａ＝７〜
５０，ｂ＝２．５〜１５，ｃ＝０．１〜５，ｄ＝０〜
８，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ＝０〜５であり、ｈは
上記各成分が結合して生成する酸化物に対応する数を示
す。）
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。本発明のキシレン、アンモニア及び酸素の気相反応
において重要な点は使用する触媒にある。触媒としては
前記の実験式（１）で表される酸化物組成物が用いられ
る。これによりジシアノベンゼンを効果的に製造するこ
とができる。前記の酸化物組成物において、Ｘ成分は反
応速度に、Ｙ成分は反応速度、副生成物の抑制に、Ｚ成
分は触媒物性、副成生物の抑制にそれぞれ有効に寄与す
る。また、好ましい各成分の原子比率は、Ｆｅ＝１０の
とき、ａ＝１２〜３０，ｂ＝３〜１０，ｃ＝０．２〜
３，ｄ＝０．２〜５，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ＝０
〜５である。
る。本発明のキシレン、アンモニア及び酸素の気相反応
において重要な点は使用する触媒にある。触媒としては
前記の実験式（１）で表される酸化物組成物が用いられ
る。これによりジシアノベンゼンを効果的に製造するこ
とができる。前記の酸化物組成物において、Ｘ成分は反
応速度に、Ｙ成分は反応速度、副生成物の抑制に、Ｚ成
分は触媒物性、副成生物の抑制にそれぞれ有効に寄与す
る。また、好ましい各成分の原子比率は、Ｆｅ＝１０の
とき、ａ＝１２〜３０，ｂ＝３〜１０，ｃ＝０．２〜
３，ｄ＝０．２〜５，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ＝０
〜５である。
【０００７】本発明の触媒を構成するＦｅ、Ｓｂ、Ｖ、
Ｐ、Ｃｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｏの各成分が、構成触媒中でど
のような複合酸化物となって活性、選択性への効果発現
に寄与しているかは明らかではない。しかし、前記触媒
の成分や成分の原子比率が前記実験式の範囲から外れる
と目的のジシアノベンゼンの生成収率が低下したり、触
媒の物性が悪くなることがある。したがって、本触媒で
は、触媒中の各成分が効果的にその作用を発揮するため
に、相互に、密接に関連して構成されているものと推定
される。特に好ましい触媒組成物は、次の実験式（２）
で表されるものである。 Ｆｅ10Ｓｂa Ｖb Ｐc Ｃｒd Ｘe Ｙf Ｚg Ｏh （２） （式中、ＸはＭｏおよび／またはＷ、ＹはＮａ、Ｋ、Ｃ
ｓおよびＭｇからなる群より選ばれた少なくとも一種の
元素、ＺはＣｅ、Ｎｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚ
ｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｎ、ＢｉおよびＴｅからなる群より選
ばれた少なくとも一種の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，
ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈは各元素の原子比率を表し、Ｆｅ＝
１０のとき、ａ＝１２〜３０，ｂ＝３〜１０，ｃ＝０．
２〜３，ｄ＝０．２〜５，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ
＝０〜５であり、ｈは上記各成分が結合して生成する酸
化物に対応する数を示す。）
Ｐ、Ｃｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｏの各成分が、構成触媒中でど
のような複合酸化物となって活性、選択性への効果発現
に寄与しているかは明らかではない。しかし、前記触媒
の成分や成分の原子比率が前記実験式の範囲から外れる
と目的のジシアノベンゼンの生成収率が低下したり、触
媒の物性が悪くなることがある。したがって、本触媒で
は、触媒中の各成分が効果的にその作用を発揮するため
に、相互に、密接に関連して構成されているものと推定
される。特に好ましい触媒組成物は、次の実験式（２）
で表されるものである。 Ｆｅ10Ｓｂa Ｖb Ｐc Ｃｒd Ｘe Ｙf Ｚg Ｏh （２） （式中、ＸはＭｏおよび／またはＷ、ＹはＮａ、Ｋ、Ｃ
ｓおよびＭｇからなる群より選ばれた少なくとも一種の
元素、ＺはＣｅ、Ｎｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚ
ｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｎ、ＢｉおよびＴｅからなる群より選
ばれた少なくとも一種の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，
ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈは各元素の原子比率を表し、Ｆｅ＝
１０のとき、ａ＝１２〜３０，ｂ＝３〜１０，ｃ＝０．
２〜３，ｄ＝０．２〜５，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ
＝０〜５であり、ｈは上記各成分が結合して生成する酸
化物に対応する数を示す。）
【０００８】触媒調製法としては、この種の技術分野で
知られている混合法、沈澱法、含浸法など任意の方法が
用いられる。 触媒原料 触媒を構成している各成分の出発原料としては、それぞ
れの成分の金属、酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩な
ど多くの種類のものの中から選ぶことができる。また、
化学処理、焼成処理などを施すことにより酸化物となり
得るようなものも使用できる。鉄成分の原料としては、
例えば金属鉄、酸化第一鉄、酸化第二鉄、四三酸化鉄や
硝酸鉄、塩化鉄、酢酸鉄や蓚酸鉄のような有機酸鉄など
が用いられる。アンチモン成分の原料としては、例えば
三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、金属アンチモン
の硝酸酸化物、アンチモンの鉱酸、有機酸塩などが用い
られる。バナジウム成分の原料としては、例えば五酸化
バナジウム、メタバナジン酸アンモニウム、蓚酸バナジ
ル、ハロゲン化バナジウム類などが用いられる。リン成
分原料としては、オルトリン酸を用いるのが便利である
が、縮合リン酸、五酸化リン、各種リン酸アンモニウム
なども用いられる。クロム成分の原料としては、硝酸ク
ロム、蓚酸クロム、重クロム酸アンモニウム、クロム酸
化物、無水クロム酸などが用いられる。その他のＸ成
分、Ｙ成分およびＺ成分の原料としては、それぞれの元
素の酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩などが用いられ
る。
知られている混合法、沈澱法、含浸法など任意の方法が
用いられる。 触媒原料 触媒を構成している各成分の出発原料としては、それぞ
れの成分の金属、酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩な
ど多くの種類のものの中から選ぶことができる。また、
化学処理、焼成処理などを施すことにより酸化物となり
得るようなものも使用できる。鉄成分の原料としては、
例えば金属鉄、酸化第一鉄、酸化第二鉄、四三酸化鉄や
硝酸鉄、塩化鉄、酢酸鉄や蓚酸鉄のような有機酸鉄など
が用いられる。アンチモン成分の原料としては、例えば
三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、金属アンチモン
の硝酸酸化物、アンチモンの鉱酸、有機酸塩などが用い
られる。バナジウム成分の原料としては、例えば五酸化
バナジウム、メタバナジン酸アンモニウム、蓚酸バナジ
ル、ハロゲン化バナジウム類などが用いられる。リン成
分原料としては、オルトリン酸を用いるのが便利である
が、縮合リン酸、五酸化リン、各種リン酸アンモニウム
なども用いられる。クロム成分の原料としては、硝酸ク
ロム、蓚酸クロム、重クロム酸アンモニウム、クロム酸
化物、無水クロム酸などが用いられる。その他のＸ成
分、Ｙ成分およびＺ成分の原料としては、それぞれの元
素の酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩などが用いられ
る。
【０００９】触媒調製 これらの触媒原料を所望の組成比になるように混合、共
沈ないし含浸し、乾燥ついで焼成することにより触媒を
調製することができる。例えば、固定層用触媒を製造す
る場合には、各成分より調製したスラリ−を乾固し、捏
和し、円柱状または球状に成型し、これを２００℃〜９
００℃、好ましくは４００℃〜８５０℃の範囲で、０．
５時間〜５０時間焼成することによって製造することが
できる。また、流動層触媒を製造する場合には、各成分
より調製したスラリ−を適当な手段で噴霧乾燥して微粒
状に成型し、それを前記のような温度で焼成することに
よって製造することができる。特に、結晶性鉄アンチモ
ネ−トとバナジウムを成分として含む水性スラリ−を調
製し、ついでこのスラリ−を乾燥焼成する方法が好まし
い（特開平４−１２６５４８号公報参照）。
沈ないし含浸し、乾燥ついで焼成することにより触媒を
調製することができる。例えば、固定層用触媒を製造す
る場合には、各成分より調製したスラリ−を乾固し、捏
和し、円柱状または球状に成型し、これを２００℃〜９
００℃、好ましくは４００℃〜８５０℃の範囲で、０．
５時間〜５０時間焼成することによって製造することが
できる。また、流動層触媒を製造する場合には、各成分
より調製したスラリ−を適当な手段で噴霧乾燥して微粒
状に成型し、それを前記のような温度で焼成することに
よって製造することができる。特に、結晶性鉄アンチモ
ネ−トとバナジウムを成分として含む水性スラリ−を調
製し、ついでこのスラリ−を乾燥焼成する方法が好まし
い（特開平４−１２６５４８号公報参照）。
【００１０】触媒は担体なしでも使用できるが、シリ
カ、アルミナ、シリカアルミナ、シリカチタニア、チタ
ニア、ジルコニアなどの各種担体に担持してもよい。そ
の場合には触媒全体の５〜９５ｗｔ％の担体を用いるの
がよい。
カ、アルミナ、シリカアルミナ、シリカチタニア、チタ
ニア、ジルコニアなどの各種担体に担持してもよい。そ
の場合には触媒全体の５〜９５ｗｔ％の担体を用いるの
がよい。
【００１１】反応原料 本発明に用いられるキシレンとしては、オルトキシレ
ン、メタキシレンおよびパラキシレンが用いられる。反
応により対応するフタロニトリル、イソフタロニトリル
およびテレフタロニトリルが高収率で得られる。これら
のキシレンは混合物で使用することもできる。その場
合、反応により得られたそれぞれのジシアノベンゼンの
収率はそれぞれのキシレンを単独で反応させたときの収
率と遜色ない。特に、キシレンはメタキシレン、パラキ
シレン、あるいはそれらの混合物であることが好まし
い。
ン、メタキシレンおよびパラキシレンが用いられる。反
応により対応するフタロニトリル、イソフタロニトリル
およびテレフタロニトリルが高収率で得られる。これら
のキシレンは混合物で使用することもできる。その場
合、反応により得られたそれぞれのジシアノベンゼンの
収率はそれぞれのキシレンを単独で反応させたときの収
率と遜色ない。特に、キシレンはメタキシレン、パラキ
シレン、あるいはそれらの混合物であることが好まし
い。
【００１２】アンモニアは工業用のものを用いることが
できる。酸素源としては、通常、空気が好んで用いられ
るが、これを窒素、水蒸気、炭酸ガスなどで希釈して用
いても、あるいは酸素で富化して用いてもよい。
できる。酸素源としては、通常、空気が好んで用いられ
るが、これを窒素、水蒸気、炭酸ガスなどで希釈して用
いても、あるいは酸素で富化して用いてもよい。
【００１３】反応方法 反応は、上記のようにして製造した触媒を充填した反応
器へ、キシレン、アンモニア、酸素を供給することによ
って行う。反応方法としては固定層反応あるいは流動層
反応いずれでもよい。反応温度を厳密に制御する観点か
ら流動層反応で行うのが好ましい。
器へ、キシレン、アンモニア、酸素を供給することによ
って行う。反応方法としては固定層反応あるいは流動層
反応いずれでもよい。反応温度を厳密に制御する観点か
ら流動層反応で行うのが好ましい。
【００１４】反応器に供給するガス中のキシレンの濃度
は０．１ｖｏｌ％〜１０ｖｏｌ％、好ましくは０．３ｖ
ｏｌ％〜７ｖｏｌ％の範囲である。アンモニア／キシレ
ンのモル比は１〜２０，好ましくは１．５〜１０の範囲
とするのが好ましい。また、酸素／キシレンのモル比は
３〜３０の範囲であり、好ましくは３．５〜１０の範囲
である。
は０．１ｖｏｌ％〜１０ｖｏｌ％、好ましくは０．３ｖ
ｏｌ％〜７ｖｏｌ％の範囲である。アンモニア／キシレ
ンのモル比は１〜２０，好ましくは１．５〜１０の範囲
とするのが好ましい。また、酸素／キシレンのモル比は
３〜３０の範囲であり、好ましくは３．５〜１０の範囲
である。
【００１５】反応温度は３００℃〜５００℃の範囲、好
ましくは３４０℃〜４６０℃の範囲が好ましい。反応圧
力は常圧、加圧、減圧いずれでもよいが、常圧付近から
２ｋｇ／ｃｍ2 の範囲が適当である。接触時間は反応温
度および反応圧力におけるガス容積を基準として０．１
秒〜２０秒、特に０．５秒〜１０秒の範囲が好ましい。
ましくは３４０℃〜４６０℃の範囲が好ましい。反応圧
力は常圧、加圧、減圧いずれでもよいが、常圧付近から
２ｋｇ／ｃｍ2 の範囲が適当である。接触時間は反応温
度および反応圧力におけるガス容積を基準として０．１
秒〜２０秒、特に０．５秒〜１０秒の範囲が好ましい。
【００１６】
【実施例】以下、実施例によって本発明の実施態様およ
び効果を具体的に説明するが、本発明はこの実施例のみ
に限定されるものではない。
び効果を具体的に説明するが、本発明はこの実施例のみ
に限定されるものではない。
【００１７】触媒の活性試験方法 触媒流動部の内径が２．５ｃｍ、高さ４０ｃｍの流動層
反応器に、触媒を充填し、キシレン、アンモニアおよび
空気を下記の割合で反応器へ供給した。反応圧力は常圧
である。 供給ガス組成（モル比） 酸素（空気として供給）：アンモニア：キシレン＝４．
９：６：１
反応器に、触媒を充填し、キシレン、アンモニアおよび
空気を下記の割合で反応器へ供給した。反応圧力は常圧
である。 供給ガス組成（モル比） 酸素（空気として供給）：アンモニア：キシレン＝４．
９：６：１
【００１８】キシレン転化率、ジシアノベンゼン収率、
シアノトルエン収率は次の定義による。
シアノトルエン収率は次の定義による。
【００１９】実施例１ 実験式がＦｅ10Ｓｂ20Ｖ4 Ｐ0.5 Ｃｒ2 Ｏ69.25 （Ｓｉ
Ｏ2 ）50である流動層触媒を次のようにして調製した。 (I) 三酸化アンチモン粉末２３９．９ｇをとる。 （II) 硝酸（比重１．３８）３５５ｍｌと純水４４５ｍ
ｌとを混合して加温し、この中に電解鉄粉４５．８ｇを
少しずつ加えて溶解させる。 （III)シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２０ｗｔ％）１２３４ｇ
をとる。（II) に(III) 、(I) の順に、よく撹拌しなが
ら加え、１５％アンモニア水によりｐＨ２に調整する。
このスラリ−を撹拌しながら１００℃、３時間加熱処理
した。 (IV) リン酸（含量８５％）４．８ｇをとる。 (V)）硝酸クロム６５．４ｇを純水２００ｍｌに溶解す
る。 (VI) メタバナジン酸アンモニウム３８．４ｇを純水３
００ｍｌに加え、加熱し、蓚酸１００ｇを少しずつ加え
溶解させる。上に調製したスラリ−に (IV) 、(V) 、(V
I)を加え、よく撹拌する。このようなスラリ−を回転円
盤式の噴霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。得られた微
細な球状粒子を２００℃で２時間、４００℃で３時間焼
成した。最終焼成は７８０℃、２時間で行った。活性試
験は、キシレンとしてメタキシレンを選び実施した。
Ｏ2 ）50である流動層触媒を次のようにして調製した。 (I) 三酸化アンチモン粉末２３９．９ｇをとる。 （II) 硝酸（比重１．３８）３５５ｍｌと純水４４５ｍ
ｌとを混合して加温し、この中に電解鉄粉４５．８ｇを
少しずつ加えて溶解させる。 （III)シリカゾル（ＳｉＯ2 ：２０ｗｔ％）１２３４ｇ
をとる。（II) に(III) 、(I) の順に、よく撹拌しなが
ら加え、１５％アンモニア水によりｐＨ２に調整する。
このスラリ−を撹拌しながら１００℃、３時間加熱処理
した。 (IV) リン酸（含量８５％）４．８ｇをとる。 (V)）硝酸クロム６５．４ｇを純水２００ｍｌに溶解す
る。 (VI) メタバナジン酸アンモニウム３８．４ｇを純水３
００ｍｌに加え、加熱し、蓚酸１００ｇを少しずつ加え
溶解させる。上に調製したスラリ−に (IV) 、(V) 、(V
I)を加え、よく撹拌する。このようなスラリ−を回転円
盤式の噴霧乾燥装置を用いて噴霧乾燥した。得られた微
細な球状粒子を２００℃で２時間、４００℃で３時間焼
成した。最終焼成は７８０℃、２時間で行った。活性試
験は、キシレンとしてメタキシレンを選び実施した。
【００２０】実施例２ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ25Ｖ3.5 Ｐ0.4 Ｃｒ3 Ｃｕ2 Ｏ
81.25 （ＳｉＯ2 ）60である流動層触媒を実施例１と同
様にして調製した。ただし、Ｃｕは硝酸銅水溶液を用
い、加熱処理スラリ−中に(VI)に続いて加えた。最終焼
成は８００℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同
様に行った。
81.25 （ＳｉＯ2 ）60である流動層触媒を実施例１と同
様にして調製した。ただし、Ｃｕは硝酸銅水溶液を用
い、加熱処理スラリ−中に(VI)に続いて加えた。最終焼
成は８００℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同
様に行った。
【００２１】実施例３ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ15Ｖ7 Ｐ0.7 Ｃｒ1.5 Ｍｏ0.3 Ｓ
ｎ0.5 Ｃｅ0.5 Ｏ69.4（ＳｉＯ2 ）70である流動層触媒
を実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏはパラ
モリブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｃｅは硝酸セリウ
ム水溶液を、Ｓｎは金属を濃硝酸で酸化し、加熱処理ス
ラリ−中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は８３０
℃、４時間とした。活性試験は実施例１と同様に行っ
た。
ｎ0.5 Ｃｅ0.5 Ｏ69.4（ＳｉＯ2 ）70である流動層触媒
を実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏはパラ
モリブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｃｅは硝酸セリウ
ム水溶液を、Ｓｎは金属を濃硝酸で酸化し、加熱処理ス
ラリ−中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は８３０
℃、４時間とした。活性試験は実施例１と同様に行っ
た。
【００２２】実施例４ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ17Ｖ3.5 Ｐ0.3 Ｎｂ0.5 Ｏ
59.5（ＳｉＯ2 ）40である流動層触媒を実施例１と同様
にして調製した。ただし、Ｎｂは蓚酸ニオブ水溶液を用
い、加熱処理スラリ−中に(VI)に続いて加えた。最終焼
成は８２０℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同
様に行った。
59.5（ＳｉＯ2 ）40である流動層触媒を実施例１と同様
にして調製した。ただし、Ｎｂは蓚酸ニオブ水溶液を用
い、加熱処理スラリ−中に(VI)に続いて加えた。最終焼
成は８２０℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同
様に行った。
【００２３】実施例５ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ25Ｖ4.5 Ｐ1 Ｃｒ2 Ｍｏ0.5 Ｋ
0.2 Ｍｎ1 Ｏ85.35 （ＳｉＯ2 ）50である流動層触媒を
実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏはパラモ
リブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｋは硝酸カリウム水
溶液を、Ｍｎは硝酸マンガン水溶液を用い、加熱処理ス
ラリ−中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は７５０
℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同様に行っ
た。
0.2 Ｍｎ1 Ｏ85.35 （ＳｉＯ2 ）50である流動層触媒を
実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏはパラモ
リブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｋは硝酸カリウム水
溶液を、Ｍｎは硝酸マンガン水溶液を用い、加熱処理ス
ラリ−中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は７５０
℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同様に行っ
た。
【００２４】実施例６ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ15Ｖ4 Ｐ0.5 Ｃｒ0.5 Ｍｏ0.3 Ｍ
ｇ2 Ｚｎ1 Ｎｉ0.5 Ｏ61.4（ＳｉＯ2 ）50である流動層
触媒を実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏは
パラモリブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｍｇは硝酸マ
グネシウム水溶液を、Ｚｎは硝酸亜鉛水溶液を、Ｎｉは
硝酸ニッケル水溶液を用い、加熱処理スラリ−中に(VI)
に続いて順次加えた。最終焼成は８００℃、２時間とし
た。活性試験は実施例１と同様に行った。
ｇ2 Ｚｎ1 Ｎｉ0.5 Ｏ61.4（ＳｉＯ2 ）50である流動層
触媒を実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏは
パラモリブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｍｇは硝酸マ
グネシウム水溶液を、Ｚｎは硝酸亜鉛水溶液を、Ｎｉは
硝酸ニッケル水溶液を用い、加熱処理スラリ−中に(VI)
に続いて順次加えた。最終焼成は８００℃、２時間とし
た。活性試験は実施例１と同様に行った。
【００２５】実施例７ 実施例６の触媒を用い、実施例６と同様に活性試験し
た。ただし、キシレンとしてパラキシレンを用いた。
た。ただし、キシレンとしてパラキシレンを用いた。
【００２６】実施例８ 実施例６の触媒を用い、実施例６と同様に活性試験し
た。ただし、キシレンとしてメタキシレンを７０ｗｔ
％、パラキシレンを３０ｗｔ％含有する混合キシレンを
用いた。
た。ただし、キシレンとしてメタキシレンを７０ｗｔ
％、パラキシレンを３０ｗｔ％含有する混合キシレンを
用いた。
【００２７】実施例９ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ13Ｖ3 Ｐ2 Ｃｒ1 Ｌａ0.5 Ａｌ
0.5 Ｔｅ0.3 Ｏ57.1（ＳｉＯ2 ）55である流動層触媒を
実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｌa は硝酸ラ
ンタン水溶液を、Ａｌは硝酸アルミニウム水溶液を、Ｔ
ｅはテルル酸水溶液を用い、加熱処理スラリ−中に(VI)
に続いて順次加えた。最終焼成は８３０℃、２時間とし
た。活性試験は実施例１と同様に行った。
0.5 Ｔｅ0.3 Ｏ57.1（ＳｉＯ2 ）55である流動層触媒を
実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｌa は硝酸ラ
ンタン水溶液を、Ａｌは硝酸アルミニウム水溶液を、Ｔ
ｅはテルル酸水溶液を用い、加熱処理スラリ−中に(VI)
に続いて順次加えた。最終焼成は８３０℃、２時間とし
た。活性試験は実施例１と同様に行った。
【００２８】実施例１０ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ25Ｖ8.5 Ｐ1 Ｃｒ2.5 Ｍｏ0.3 Ｃ
ｓ0.2 Ｂｉ3 Ｏ98.1（ＳｉＯ2 ）90である流動層触媒を
実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏはパラモ
リブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｃｓは硝酸セシウム
水溶液を、Ｂｉは硝酸ビスマス水溶液を用い、加熱処理
スラリ−中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は７７
０℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同様に行っ
た。
ｓ0.2 Ｂｉ3 Ｏ98.1（ＳｉＯ2 ）90である流動層触媒を
実施例１と同様にして調製した。ただし、Ｍｏはパラモ
リブデン酸アンモニウム水溶液を、Ｃｓは硝酸セシウム
水溶液を、Ｂｉは硝酸ビスマス水溶液を用い、加熱処理
スラリ−中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は７７
０℃、２時間とした。活性試験は実施例１と同様に行っ
た。
【００２９】実施例１１ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ30Ｖ7 Ｐ0.5 Ｃｒ4.5 Ｗ0.2 Ｃａ
0.5 Ｂ1 Ｏ103.1 （ＳｉＯ2 ）80である流動層触媒を実
施例１と同様にして調製した。ただし、Ｗはパラタング
ステン酸アンモニウム水溶液を、Ｃａは硝酸カルシウム
水溶液を、Ｂはほう酸水溶液を用い、加熱処理スラリ−
中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は７５０℃、２
時間とした。活性試験は実施例１と同様に行った。
0.5 Ｂ1 Ｏ103.1 （ＳｉＯ2 ）80である流動層触媒を実
施例１と同様にして調製した。ただし、Ｗはパラタング
ステン酸アンモニウム水溶液を、Ｃａは硝酸カルシウム
水溶液を、Ｂはほう酸水溶液を用い、加熱処理スラリ−
中に(VI)に続いて順次加えた。最終焼成は７５０℃、２
時間とした。活性試験は実施例１と同様に行った。
【００３０】比較例１ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ15Ｖ4 Ｐ7 Ｃｒ0.5 Ｍｏ0.3 Ｍｇ
2 Ｚｎ1 Ｎｉ0.5 Ｏ77.65 （ＳｉＯ2 ）50である流動層
触媒を実施例６と同様にして調製した。活性試験は実施
例６と同様に行った。
2 Ｚｎ1 Ｎｉ0.5 Ｏ77.65 （ＳｉＯ2 ）50である流動層
触媒を実施例６と同様にして調製した。活性試験は実施
例６と同様に行った。
【００３１】比較例２ 実験式が、Ｆｅ10Ｓｂ15Ｖ4 Ｃｒ0.5 Ｍｏ0.3 Ｍｇ2 Ｚ
ｎ1 Ｎｉ0.5 Ｏ60.15（ＳｉＯ2 ）50である流動層触媒
を実施例６と同様にして調製した。活性試験は実施例６
と同様に行った。
ｎ1 Ｎｉ0.5 Ｏ60.15（ＳｉＯ2 ）50である流動層触媒
を実施例６と同様にして調製した。活性試験は実施例６
と同様に行った。
【００３２】上記の実施例１〜１１および比較例１〜２
の触媒組成を表１に、また活性試験結果を表２に示し
た。
の触媒組成を表１に、また活性試験結果を表２に示し
た。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】
【発明の効果】本発明は、キシレン、アンモニアおよび
酸素から気相で対応するジシアノベンゼンを製造する際
に、特定のＦｅ・Ｓｂ・Ｖ・Ｐ含有酸化物組成物を触媒
として用いることにより、原料キシレンの高い濃度での
使用が可能であり、かつジシアノベンゼンを高収率で製
造することができる。
酸素から気相で対応するジシアノベンゼンを製造する際
に、特定のＦｅ・Ｓｂ・Ｖ・Ｐ含有酸化物組成物を触媒
として用いることにより、原料キシレンの高い濃度での
使用が可能であり、かつジシアノベンゼンを高収率で製
造することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 キシレンを下記の実験式（１）で表され
る酸化物組成物の存在下に気相でアンモニアおよび酸素
と反応させることを特徴とするジシアノベンゼンの製造
法。 Ｆｅ10Ｓｂa Ｖb Ｐc Ｃｒd Ｘe Ｙf Ｚg Ｏh （１） （式中、ＸはＭｏおよび／またはＷ、ＹはＬｉ、Ｎａ、
Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｌａ、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａか
らなる群より選ばれた少なくとも一種の元素、ＺはＣ
ｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、
ＢｉおよびＴｅからなる群より選ばれた少なくとも一種
の元素を示し、添字ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈは
各元素の原子比率を表し、Ｆｅ＝１０のとき、ａ＝７〜
５０，ｂ＝２．５〜１５，ｃ＝０．１〜５，ｄ＝０〜
８，ｅ＝０〜３，ｆ＝０〜３，ｇ＝０〜５であり、ｈは
上記各成分が結合して生成する酸化物に対応する数を示
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7250129A JPH0971561A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | ジシアノベンゼンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7250129A JPH0971561A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | ジシアノベンゼンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0971561A true JPH0971561A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=17203266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7250129A Pending JPH0971561A (ja) | 1995-09-05 | 1995-09-05 | ジシアノベンゼンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0971561A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002088043A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ニトリル化合物の製造方法 |
| US6429330B1 (en) | 1999-07-15 | 2002-08-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing carbocyclic nitriles |
| US7626057B2 (en) | 2006-06-29 | 2009-12-01 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production of xylylenediamines |
| WO2010026920A1 (ja) | 2008-09-08 | 2010-03-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
| EP2202218A1 (en) | 2008-12-26 | 2010-06-30 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of xylylenediamine |
| JP2011240220A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Daiyanitorikkusu Kk | 複合酸化物触媒の製造方法 |
| WO2012105498A1 (ja) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
| JP2014073471A (ja) * | 2012-10-05 | 2014-04-24 | Cosmo Oil Co Ltd | 酸化脱水素触媒及びその製造方法、並びにアルカジエンの製造方法 |
| KR20160003887A (ko) | 2014-03-10 | 2016-01-11 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 디시아노벤젠의 제조방법 및 제조장치 |
| WO2021172499A1 (ja) | 2020-02-28 | 2021-09-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 精製フタロニトリル類の製造方法およびフタロニトリル類の精製方法 |
| WO2024143206A1 (ja) | 2022-12-27 | 2024-07-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フタロニトリル類の製造方法及びフタロニトリル類の精製方法 |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP7250129A patent/JPH0971561A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6429330B1 (en) | 1999-07-15 | 2002-08-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing carbocyclic nitriles |
| US6541632B2 (en) | 1999-07-15 | 2003-04-01 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing heterocyclic nitriles |
| JP2002088043A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ニトリル化合物の製造方法 |
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| WO2010026920A1 (ja) | 2008-09-08 | 2010-03-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
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| JP2011240220A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Daiyanitorikkusu Kk | 複合酸化物触媒の製造方法 |
| US9024070B2 (en) | 2011-01-31 | 2015-05-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing xylylenediamine |
| WO2012105498A1 (ja) | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
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| KR20160003887A (ko) | 2014-03-10 | 2016-01-11 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 디시아노벤젠의 제조방법 및 제조장치 |
| US9822062B2 (en) | 2014-03-10 | 2017-11-21 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method and apparatus for producing dicyanobenzene |
| WO2021172499A1 (ja) | 2020-02-28 | 2021-09-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 精製フタロニトリル類の製造方法およびフタロニトリル類の精製方法 |
| EP4491613A2 (en) | 2020-02-28 | 2025-01-15 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing purified phthalonitrile and method for purifying phthalonitrile |
| WO2024143206A1 (ja) | 2022-12-27 | 2024-07-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フタロニトリル類の製造方法及びフタロニトリル類の精製方法 |
| EP4644365A1 (en) | 2022-12-27 | 2025-11-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing phthalonitrile and method for purifying phthalonitrile |
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