JPH0975818A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH0975818A JPH0975818A JP7241125A JP24112595A JPH0975818A JP H0975818 A JPH0975818 A JP H0975818A JP 7241125 A JP7241125 A JP 7241125A JP 24112595 A JP24112595 A JP 24112595A JP H0975818 A JPH0975818 A JP H0975818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- suction
- coating
- suction block
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ディスペンサーを使用した塗布装置に関し、
特に微量塗布においてもバラツキを小さくできる塗布装
置を提供することを目的とする。 【構成】 吐出用ノズル５を持つ貯蔵部、ノズル５を保
持し昇降自在なノズルホルダー６、ノズル５の先端部が
挿通する孔１７と連通し終端を真空源に接続した吸引孔
１８を持つノズルホルダー６が摺動自在にはめ込まれた
ガイド部の下端に結合された吸引ブロック４および、塗
布されるワーク１の規制用ガイド３と保持のテーブル２
から成る構成とすることにより、塗布前後のノズル５の
先端部をクリーニングして、液体材料の残留、液たれ、
糸引きなどを取り除き、バラツキの小さい微量の吐出塗
布が可能となる。
特に微量塗布においてもバラツキを小さくできる塗布装
置を提供することを目的とする。 【構成】 吐出用ノズル５を持つ貯蔵部、ノズル５を保
持し昇降自在なノズルホルダー６、ノズル５の先端部が
挿通する孔１７と連通し終端を真空源に接続した吸引孔
１８を持つノズルホルダー６が摺動自在にはめ込まれた
ガイド部の下端に結合された吸引ブロック４および、塗
布されるワーク１の規制用ガイド３と保持のテーブル２
から成る構成とすることにより、塗布前後のノズル５の
先端部をクリーニングして、液体材料の残留、液たれ、
糸引きなどを取り除き、バラツキの小さい微量の吐出塗
布が可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は接着剤、各種液体、ある
いはペースト状材料の微量吐出や同塗布を行う際に使用
されるディスペンサーなどを使用した塗布装置に関する
ものである。
いはペースト状材料の微量吐出や同塗布を行う際に使用
されるディスペンサーなどを使用した塗布装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、接着剤等の各種液体、あるいはペ
ースト状の塗布材料を微量吐出塗布するには、例えば使
用される液体などの塗布材料の性質や吐出条件を配慮し
たディスペンサーを選定し、このディスペンサーを用い
て最適な雰囲気、吐出圧力、吐出時間、ノズル形状など
を設定あるいは調整して作業を行うようにしていた。
ースト状の塗布材料を微量吐出塗布するには、例えば使
用される液体などの塗布材料の性質や吐出条件を配慮し
たディスペンサーを選定し、このディスペンサーを用い
て最適な雰囲気、吐出圧力、吐出時間、ノズル形状など
を設定あるいは調整して作業を行うようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の塗布装置では、吐出塗布後のノズル先端部への塗布材
料の残留、液たれ、糸引きなどの発生により、特に微量
塗布（例えば０．３ｍｇ〜０．５ｍｇ）時においては塗
布された量のバラツキが大きく、かつ、前記のノズル先
端部に発生する塗布材料の残留などによる影響が大きく
て支障があるため、作業を止めて、随時拭き取りしなが
ら作業を進める必要があり、このために時間の無駄によ
る作業性の低下、塗布後の品質の悪化などの課題を有し
ていた。
の塗布装置では、吐出塗布後のノズル先端部への塗布材
料の残留、液たれ、糸引きなどの発生により、特に微量
塗布（例えば０．３ｍｇ〜０．５ｍｇ）時においては塗
布された量のバラツキが大きく、かつ、前記のノズル先
端部に発生する塗布材料の残留などによる影響が大きく
て支障があるため、作業を止めて、随時拭き取りしなが
ら作業を進める必要があり、このために時間の無駄によ
る作業性の低下、塗布後の品質の悪化などの課題を有し
ていた。
【０００４】本発明は従来のこのような課題を解決しよ
うとするもので、バラツキの小さい高精度な微量塗布が
可能な塗布装置を提供することを目的とするものであ
る。
うとするもので、バラツキの小さい高精度な微量塗布が
可能な塗布装置を提供することを目的とするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明による塗布装置は、吐出用ノズルを持つ液体な
どの塗布材料の貯蔵部、ノズルを保持し昇降自在なノズ
ルホルダー、ノズル先端部が挿通する孔と連通して終端
を真空源に接続した吸引孔を持つ、前記ノズルホルダー
が摺動自在にはめ込まれたガイド部の下端に結合された
吸引ブロック、および塗布されるワーク保持のテーブル
部からなる構成としたものである。
に本発明による塗布装置は、吐出用ノズルを持つ液体な
どの塗布材料の貯蔵部、ノズルを保持し昇降自在なノズ
ルホルダー、ノズル先端部が挿通する孔と連通して終端
を真空源に接続した吸引孔を持つ、前記ノズルホルダー
が摺動自在にはめ込まれたガイド部の下端に結合された
吸引ブロック、および塗布されるワーク保持のテーブル
部からなる構成としたものである。
【０００６】
【作用】このような構成の装置とすることにより、ノズ
ル先端部に設けた吸引ブロックで、ノズル先端部の接着
剤などの各種液体、あるいはペースト状の塗布材料の吐
出塗布後の残留、液たれ、糸引きなどを吸引クリーニン
グして取り除き、またノズルが吐出塗布のために下降す
る際は、吸引ブロックも共に下降し途中で吸引ブロック
だけ下降制限部材にて下降を阻止して停止させ、ノズル
のみを吐出塗布位置まで下降させて、クリーニングされ
たノズル先端部から定量吐出塗布するため、吐出塗布量
のバラツキが小さく、拭き取り作業による時間の無駄も
なく、また真空吸引経路の途中に設けた液溜りに吸引さ
れた液体などの塗布材料を、回収して再利用することも
可能となる。
ル先端部に設けた吸引ブロックで、ノズル先端部の接着
剤などの各種液体、あるいはペースト状の塗布材料の吐
出塗布後の残留、液たれ、糸引きなどを吸引クリーニン
グして取り除き、またノズルが吐出塗布のために下降す
る際は、吸引ブロックも共に下降し途中で吸引ブロック
だけ下降制限部材にて下降を阻止して停止させ、ノズル
のみを吐出塗布位置まで下降させて、クリーニングされ
たノズル先端部から定量吐出塗布するため、吐出塗布量
のバラツキが小さく、拭き取り作業による時間の無駄も
なく、また真空吸引経路の途中に設けた液溜りに吸引さ
れた液体などの塗布材料を、回収して再利用することも
可能となる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
【０００８】図１（ａ），（ｂ）は同実施例におけるデ
ィスペンサーを使用して液体などの塗布材料を微量塗布
する塗布装置の主要部の平面図および正面図であり、同
図において、１はテーブル２の上にガイド３で位置決め
されて塗布材料が吐出塗布されるワーク、５は前記ワー
ク１の垂直線上に、吐出塗布する接着剤などの各種液体
あるいはペースト状の塗布材料を貯蔵したシリンジ７を
上部に設置したノズルホルダー６に固定され、ディスペ
ンサーでのエアー圧送（図示せず）で塗布材料が中を通
りワークに吐出塗布するノズル、４はノズル５の先端に
ノズル５と相互に稼働可能に設けたノズルホルダー６の
所定個所に挿通する、ガイドシャフト１９とスライドシ
ャフト１１で上下の昇降が可能に、また圧縮バネ８と上
ストッパー１０により稼働時の上限位置が規制されるよ
うに取付けられ、さらに下部位置規制用と緩衝材とする
ためにゴム材等で成る下ストッパー９を下面に取付け、
そして内部に残留した液体などの塗布材料を吸引する吸
引部を構成する、吸引チューブ１３に連結した吸引孔１
８が連通した孔１７を設けた吸引ブロックである。
ィスペンサーを使用して液体などの塗布材料を微量塗布
する塗布装置の主要部の平面図および正面図であり、同
図において、１はテーブル２の上にガイド３で位置決め
されて塗布材料が吐出塗布されるワーク、５は前記ワー
ク１の垂直線上に、吐出塗布する接着剤などの各種液体
あるいはペースト状の塗布材料を貯蔵したシリンジ７を
上部に設置したノズルホルダー６に固定され、ディスペ
ンサーでのエアー圧送（図示せず）で塗布材料が中を通
りワークに吐出塗布するノズル、４はノズル５の先端に
ノズル５と相互に稼働可能に設けたノズルホルダー６の
所定個所に挿通する、ガイドシャフト１９とスライドシ
ャフト１１で上下の昇降が可能に、また圧縮バネ８と上
ストッパー１０により稼働時の上限位置が規制されるよ
うに取付けられ、さらに下部位置規制用と緩衝材とする
ためにゴム材等で成る下ストッパー９を下面に取付け、
そして内部に残留した液体などの塗布材料を吸引する吸
引部を構成する、吸引チューブ１３に連結した吸引孔１
８が連通した孔１７を設けた吸引ブロックである。
【０００９】なお、上ストッパー１０の位置をスライド
シャフト１１に対して上下方向に調整可能としており、
それによりノズル５の先端に対し吸引ブロック４の位置
が上下に設定かつ可変可能となり、ノズル５の先端部に
付着した吐出塗布後の残留、液たれ、糸引きなどの液体
などの塗布材料の吸引が最適と成る位置に設定できるよ
うになっている。
シャフト１１に対して上下方向に調整可能としており、
それによりノズル５の先端に対し吸引ブロック４の位置
が上下に設定かつ可変可能となり、ノズル５の先端部に
付着した吐出塗布後の残留、液たれ、糸引きなどの液体
などの塗布材料の吸引が最適と成る位置に設定できるよ
うになっている。
【００１０】次に動作について説明すると、図１の状態
は圧縮バネ８と上ストッパー１０により規制されたノズ
ル５と吸引ブロック４の位置で、吐出塗布完了あるいは
動作待機状態を示しており、液体などの塗布材料をワー
ク１への吐出塗布のためにノズルホルダー６を下降（駆
動装置は図示せず）させると、吸引ブロック４も共に前
記ノズル５との位置関係のまま下降し、下ストッパー９
がガイド３の上面に当接すると吸引ブロック４は下降が
阻止されることになり、吸引ブロック４はその位置で停
止するが、ノズルホルダー６は圧縮バネ８を圧縮させて
さらに下降して、ノズル５の先端部はワーク１の所定位
置まで下降した後、エアー圧送によりシリンジ７内の液
体などの塗布材料がノズル５の中を通り、ノズル５の先
端部からワーク１へ吐出塗布されるが、吸引ブロック４
は前記の位置で停止しているため、吐出塗布を妨害しな
いのである。
は圧縮バネ８と上ストッパー１０により規制されたノズ
ル５と吸引ブロック４の位置で、吐出塗布完了あるいは
動作待機状態を示しており、液体などの塗布材料をワー
ク１への吐出塗布のためにノズルホルダー６を下降（駆
動装置は図示せず）させると、吸引ブロック４も共に前
記ノズル５との位置関係のまま下降し、下ストッパー９
がガイド３の上面に当接すると吸引ブロック４は下降が
阻止されることになり、吸引ブロック４はその位置で停
止するが、ノズルホルダー６は圧縮バネ８を圧縮させて
さらに下降して、ノズル５の先端部はワーク１の所定位
置まで下降した後、エアー圧送によりシリンジ７内の液
体などの塗布材料がノズル５の中を通り、ノズル５の先
端部からワーク１へ吐出塗布されるが、吸引ブロック４
は前記の位置で停止しているため、吐出塗布を妨害しな
いのである。
【００１１】そしてワーク１への吐出塗布が完了すると
ノズルホルダー６は上昇し、前記のノズルホルダー６を
下降させて下ストッパー９がガイド３の上面に当接した
位置にまでもどって来ると上ストッパー１０により吸引
ブロック４も共に前記ノズル５の位置関係のまま上昇し
て、最初の待機位置に戻り一動作が完了するものであ
る。
ノズルホルダー６は上昇し、前記のノズルホルダー６を
下降させて下ストッパー９がガイド３の上面に当接した
位置にまでもどって来ると上ストッパー１０により吸引
ブロック４も共に前記ノズル５の位置関係のまま上昇し
て、最初の待機位置に戻り一動作が完了するものであ
る。
【００１２】次にノズル５の先端部に付着した吐出塗布
後の残留、液たれ、糸引きなどの液体などの塗布材料の
吸引、すなわちクリーニングに関して説明すると、図２
は本実施例の吸引構成・動作の概念図、そして図３は吸
引動作時の吸引部である吸引ブロック近傍の拡大要部断
面図であり、吸引ブロック４内に設けた吸引孔１８に連
結された吸引チューブ１３が、途中に液溜り１４を経由
して真空吸引装置１５に接続されており、ノズルホルダ
ー６に取付けられたノズル５の先端部は、側面の一端に
前記の吸引孔１８を連通し、上部にノズル５を貫通させ
た吸引時の真空度を維持かつ高めるために、吸引ブロッ
ク４にカシメて固定されたフタ１２を持つ孔１７と、孔
１７の下部にある吸引口１６を出入りするように構成さ
れている。
後の残留、液たれ、糸引きなどの液体などの塗布材料の
吸引、すなわちクリーニングに関して説明すると、図２
は本実施例の吸引構成・動作の概念図、そして図３は吸
引動作時の吸引部である吸引ブロック近傍の拡大要部断
面図であり、吸引ブロック４内に設けた吸引孔１８に連
結された吸引チューブ１３が、途中に液溜り１４を経由
して真空吸引装置１５に接続されており、ノズルホルダ
ー６に取付けられたノズル５の先端部は、側面の一端に
前記の吸引孔１８を連通し、上部にノズル５を貫通させ
た吸引時の真空度を維持かつ高めるために、吸引ブロッ
ク４にカシメて固定されたフタ１２を持つ孔１７と、孔
１７の下部にある吸引口１６を出入りするように構成さ
れている。
【００１３】そして、真空吸引装置１５の作動により、
ノズル５の先端部の吐出塗布後の残留、液たれ、糸引き
などの液体などの塗布材料を吸引口１６・孔１７・吸引
孔１８・吸引チューブ１３を経由して液溜り１４に吸引
回収されて、ノズル５の先端部が吸引ブロック４とノズ
ル５とが規定の位置関係にあって、吸引ブロック４とノ
ズル５が共に稼働中においても常にノズル５の先端部が
クリーニングされるのである。
ノズル５の先端部の吐出塗布後の残留、液たれ、糸引き
などの液体などの塗布材料を吸引口１６・孔１７・吸引
孔１８・吸引チューブ１３を経由して液溜り１４に吸引
回収されて、ノズル５の先端部が吸引ブロック４とノズ
ル５とが規定の位置関係にあって、吸引ブロック４とノ
ズル５が共に稼働中においても常にノズル５の先端部が
クリーニングされるのである。
【００１４】すなわち、停止時・稼働時も吸引ブロック
４とノズル５の位置関係が残留液体などの塗布材料の吸
引・クリーニングに最適な状態が保たれてクリーニング
されることになり、別にクリーニングのための時間を設
定する必要がなく一動作の時間を短くすることが可能と
なる。
４とノズル５の位置関係が残留液体などの塗布材料の吸
引・クリーニングに最適な状態が保たれてクリーニング
されることになり、別にクリーニングのための時間を設
定する必要がなく一動作の時間を短くすることが可能と
なる。
【００１５】
【発明の効果】以上のように本発明によるディスペンサ
ーを使用した液体材料微量の塗布装置は、ノズル先端部
の残留、液たれ、糸引きなどを取り除く吸引口とノズル
先端との吸引に最適な位置関係が長い間保たれる吸引ブ
ロックを設ける構成とすることにより、ノズル先端部を
常に一定かつ最適に保ち、バラツキの小さい液状あるい
はペースト状塗布材料の微量塗布が可能となり、しかも
極小の場所の凹部の底面にもノズル先端外形が入り少し
でも間隙があれば側壁を汚すことなく塗布することがで
き、品質向上を図ることができ、かつ回収した液体材料
も再利用できる優れた微量の塗布装置を実現することが
可能となるものである。
ーを使用した液体材料微量の塗布装置は、ノズル先端部
の残留、液たれ、糸引きなどを取り除く吸引口とノズル
先端との吸引に最適な位置関係が長い間保たれる吸引ブ
ロックを設ける構成とすることにより、ノズル先端部を
常に一定かつ最適に保ち、バラツキの小さい液状あるい
はペースト状塗布材料の微量塗布が可能となり、しかも
極小の場所の凹部の底面にもノズル先端外形が入り少し
でも間隙があれば側壁を汚すことなく塗布することがで
き、品質向上を図ることができ、かつ回収した液体材料
も再利用できる優れた微量の塗布装置を実現することが
可能となるものである。
【図１】（ａ）本発明の一実施例における塗布装置の主
要部の平面図 （ｂ）同正面図
要部の平面図 （ｂ）同正面図
【図２】同吸引動作を説明する概念図
【図３】同吸引ブロック近傍を拡大した要部断面図
１ ワーク ２ テーブル ３ ガイド ４ 吸引ブロック ５ ノズル ６ ノズルホルダー ７ シリンジ ８ 圧縮バネ ９ 下ストッパー １０ 上ストッパー １１ スライドシャフト １２ フタ １３ 吸引チューブ １４ 液溜り １５ 真空吸引装置 １６ 吸引口 １７ 孔 １８ 吸引孔
Claims (3)
- 【請求項１】 下端に吐出用のノズルを備えた被塗布材
料を貯蔵する貯蔵部と、この貯蔵部のノズルを保持した
昇降自在なノズルホルダーと、上記ノズルの先端部が挿
通する孔と、この孔と連通して終端が真空源に接続され
た吸引孔を備え、上記ノズルホルダーが摺動自在にはめ
込まれたガイド部の下端に結合された吸引ブロックと、
上記ノズルの下方に配設された被塗布物を保持するテー
ブル部からなる塗布装置。 - 【請求項２】 ノズルホルダーと吸引ブロックとの間に
バネを配設すると共に、ノズルホルダーが上限停止位置
にある時、このノズルホルダーから吸引ブロックまでの
寸法を自在に可変する位置決め用のストッパーをガイド
部に設けた請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項３】 吸引ブロックの下面に弾性材料からなる
緩衝用のストッパーを設けた請求項１もしくは２記載の
塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7241125A JPH0975818A (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7241125A JPH0975818A (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0975818A true JPH0975818A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=17069664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7241125A Pending JPH0975818A (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0975818A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11179265A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-07-06 | Sez Semiconductor Equip Zubehoer Fuer Die Halbleiterfertigung Gmbh | 滴下防止装置 |
| JP2014188448A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Nec Corp | 付着物除去機構付きノズル、及び、該ノズルを備えた液体供給装置 |
-
1995
- 1995-09-20 JP JP7241125A patent/JPH0975818A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11179265A (ja) * | 1997-09-18 | 1999-07-06 | Sez Semiconductor Equip Zubehoer Fuer Die Halbleiterfertigung Gmbh | 滴下防止装置 |
| JP2014188448A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Nec Corp | 付着物除去機構付きノズル、及び、該ノズルを備えた液体供給装置 |
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