JPH0980708A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀カラー写真感光材料

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JPH0980708A
JPH0980708A JP25833495A JP25833495A JPH0980708A JP H0980708 A JPH0980708 A JP H0980708A JP 25833495 A JP25833495 A JP 25833495A JP 25833495 A JP25833495 A JP 25833495A JP H0980708 A JPH0980708 A JP H0980708A
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JP
Japan
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carbon atoms
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coupler
less carbon
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Application number
JP25833495A
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English (en)
Inventor
Takayuki Ito
孝之 伊藤
Naoto Matsuda
直人 松田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】色相が良好でかつ高画質化が可能なシアンカプ
ラーを含有するハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供
する。 【解決手段】支持体上の少なくとも一層に下記一般式
(1)で表されるカプラーを含有することを特徴とす
る。一般式(1)中、Cp1 は発色現像薬の酸化体と反
応して処理中に写真感光材料から流出する色素を形成す
ることのできるカプラー残基を表す。TはCp1 と発色
現像薬酸化体とがカップリングすることによりCp1
ら放出され、引き続きCp2 部分を放出することのでき
る連結基を表し、nは0または1を表す。Cp2 はカプ
ラー残基を表す。一般式(1) 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀カラー
写真感光材料に関するものである。さらに詳しくは色相
が良好でかつ高画質化が達成できるシアンカプラーを含
有するハロゲン化銀カラー写真感光材料に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀カラー感光材料において、
露光されたハロゲン化銀を酸化剤として、酸化された芳
香族第一級アミン系カラー現像主薬とカプラーが反応し
てインドフェノール、インドアニリン、インダミン、ア
ゾメチン、フェノキサジン、フェナジン及びそれに関す
る色素ができ、色画像が形成されることは良く知られて
いる。その様な写真方式においては、減色法が用いられ
ており、イエロー、マゼンタ、及びシアン色素によって
色画像が形成される。これらのうち、シアン色画像を形
成するためには従来フェノールまたはナフトール系カプ
ラーが一般に使用されてきた。しかしながら、これらの
カプラーは、緑色の領域において好ましくない吸収を持
っているために、色再現性を著しく低下させるという大
きな問題を有していた。
【0003】この問題を解決するカプラーとして、欧州
特許公開第491197A1、同488248号、同545300号に記載
のピロロトリアゾール類が提案されている。これらのカ
プラーの特徴としては、発色現像薬の酸化体とのカップ
リング反応によって生成する色素の色相が優れているこ
とは言うまでもないが、その他の特徴として、カップリ
ング活性が高いこと及び生成する色素のεが高い(フェ
ノールおよびナフトール系カプラーから得られる色素の
2〜3倍程度)ことが挙げられる。しかしながら、これ
ら特許記載のピロロトリアゾール類を使用した場合、粒
状性、鮮鋭性が悪化するという問題があった。特に白黒
現像の後に発色現像させるカラーリバーサルの処理にお
いては感度が低下するという問題があり、これらの解決
が望まれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色相
が良好でかつ高画質化が可能なシアンカプラーを含有す
るハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上の少なくとも一層に下記一般式(1)で表されるカプ
ラーを含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー感
光材料によって達成された。
【0006】
【化3】
【0007】一般式(1)中、Cp1 は発色現像薬の酸
化体と反応して処理中に写真感光材料から流出する色素
を形成することのできるカプラー残基を表す。TはCp
1 と発色現像薬の酸化体とがカップリングすることによ
りCp1 部分から放出され、引き続きCp2 部分を放出
することのできる連結基を表し、nは0または1を表
す。Cp2 は下記一般式で表されるカプラー残基を表
す。
【0008】
【化4】
【0009】一般式(2−1)〜(2−5)においてR
1 およびR2 は、それぞれハメットの置換基定数σp
が0.2 以上1.00以下の電子吸引性基を表し、R3 は置換
基を表す。一般式(2−1)、(2−2)、(2−4)
においてXは水素原子または発色現像薬酸化体とのカッ
プリングにより離脱し得る基を表す。一般式(2−
3)、(2−5)においてGは水素原子または写真処理
時の加水分解もしくは分子内求核置換反応により離脱し
得るブッロキング基を表す。
【0010】
【発明の実施の形態】以下に本発明の化合物について詳
しく述べる。一般式(1)においてCp1 は、発色現像
薬の酸化体と反応して処理中に写真感光材料から流出す
る色素を形成することのできるカプラー残基を表す。こ
のようなカプラー残基としては、通常ハロゲン化銀写真
感光材料に用いられるイエロー(例えばベンゾイルアセ
トアニリド系イエローカプラー、ピバロイルアセトアニ
リド系イエローカプラー、マロンジアミド系イエローカ
プラー)、マゼンタ(例えばピラゾロン系マゼンタカプ
ラー、ピラゾロアゾール系マゼンタカプラー)、シアン
(フェノール系シアンカプラー、ナフトール系シアンカ
プラー、ピロロアゾール系シアンカプラー)の各カプラ
ー残基のうち、バラスト基(耐拡散性基)を有していな
いものの中から選ぶことができる。好ましいCp1 とし
ては下記一般式(1−1)または一般式(1−2)が挙
げられる。
【0011】
【化5】
【0012】以下、一般式(1−1)について詳しく説
明する。G1 は水素原子または写真処理時の加水分解も
しくは分子内求核置換反応により離脱し得るブッロキン
グ基を表す。加水分解により離脱し得るブッロキング基
の代表例としては例えば、米国特許第2575182 号、同第
2706685 号、同第2865748 号、同第4123281 号等に記載
されたものが挙げられる。また、分子内求核置換反応に
よって離脱し得るブッロキング基の代表例としては、例
えば特開昭55-53330号に記載されたものが挙げられる。
1 は好ましくは水素原子である。
【0013】R4 はナフタレンに置換可能な基を表し、
1 は0〜4の整数を表す。R4 は例えば、ハロゲン原
子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子)、アルキ
ル基(好ましくは炭素数6以下の、直鎖もしくは分岐鎖
のアルキル基で、例えばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、t−ブチル)、シクロアルキル基
(好ましくは炭素数6以下のシクロアルキル基で、例え
ば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル)、アルケニル基(好ましくは炭素数6以下のアルケ
ニル基で、例えばビニル、アリル、3−ブテン-1- イ
ル)、アリール基(好ましくは炭素数10以下のアリー
ル基で、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチ
ル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数6以下の、5から
8員環のヘテロ環基で、例えば2-チエニル、4-ピリジ
ル、2-フリル、2−ピリミジニル、1-ピリジル、2-ベン
ゾチアゾリル、1-イミダゾリル、1-ピラゾリル、ベンゾ
トリアゾール−2−イル)、シアノ基、ヒドロキシル
基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(好まし
くは炭素数6以下のアルコキシ基で、例えば、メトキ
シ、エトキシ、1-ブトキシ、2-ブトキシ、イソプロポキ
シ、t- ブトキシ)、
【0014】シクロアルキルオキシ基(好ましくは炭素
数6以下のシクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロ
ペンチルオキシ、シクロプロピルオキシ、シクロヘキシ
ルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数10
以下のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、2-ナ
フトキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数6以
下のヘテロ環オキシ基で、例えば、1-フェニルテトラゾ
ール-5-オキシ、2-テトラヒドロピラニルオキシ、2-フ
リルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数6以
下のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキ
シ、t-ブチルジメチルシリルオキシ)、アシルオキシ
基(好ましくは炭素数10以下のアシルオキシ基で、例
えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキ
シ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素
数10以下のアルコキシカルボニルオキシ基で、例え
ば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニ
ルオキシ)、シクロアルコキシカルボニルオキシ基(好
ましくは炭素数10以下のシクロアルコキシカルボニル
オキシ基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニル
オキシ)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好まし
くは炭素数10以下のアリールオキシカルボニルオキシ
基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、カルバ
モイルオキシ基(好ましくは炭素数10以下のカルバモ
イルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイ
ルオキシ、N−ブチルカルバモイルオキシ)、スルファ
モイルオキシ基(好ましくは炭素数10以下のスルファ
モイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルファ
モイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキシ)、
アルカンスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数6以下
のアルカンスルホニルオキシ基で、例えば、メタンスル
ホニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ)、アレーンス
ルホニルオキシ基(好ましくは炭素数10以下のアレー
ンスルホニルオキシ基で、例えば、ベンゼンスルホニル
オキシ)、アシル基(好ましくは炭素数10以下のアシ
ル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベ
ンゾイル)、
【0015】アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素
数10以下のアルコキシカルボニル基で、例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル)、シクロアルキ
ルオキシカルボニル基(好ましくは炭素数10以下のシ
クロアルキルオキシカルボニル基で、例えば、シクロヘ
キシルオキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニ
ル基(好ましくは炭素数10以下のアリールオキシカル
ボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル)、カルバ
モイル基(炭素数10以下のカルバモイル基で、例え
ば、カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N
−プロピルカルバモイル)、スルファモイル基(好まし
くは炭素数10以下のスルファモイル基で、例えば、ス
ルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−
エチルスルファモイル、N−フェニルスルファモイ
ル)、アミノ基(好ましくは炭素数6以下のアミノ基
で、例えば、アミノ、メチルアミノ、N、N−ジエチル
アミノ)、アニリノ基(好ましくは炭素数10以下のア
ニリノ基で、例えば、アニリノ、N−メチルアニリ
ノ)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数10以下の
ヘテロ環アミノ基で、例えば、4-ピリジルアミノ基)、
アシルアミノ基(好ましくは炭素数10以下のアシルア
ミノ基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド)、ウ
レイド基(好ましくは炭素数10以下のウレイド基で、
例えば、N−Nジメチルウレイド、N−フェニルウレイ
ド)、イミド基(好ましくは炭素数10以下のイミド基
で、例えば、N−スクシンイミド基、N-フタルイミ
ド)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素
数10以下のアルコキシカルボニルアミノ基で、例え
ば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルア
ミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ)、
【0016】アリールオキシカルボニルアミノ基(好ま
しくは炭素数10以下のアリールオキシカルボニルアミ
ノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基)、ス
ルホンアミド基(好ましくは炭素数10以下のスルホン
アミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、エタンス
ルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド)、スルファモ
イルアミノ基(好ましくは炭素数10以下のスルファモ
イルアミノ基で、例えば、N、N−ジプロピルスルファ
モイルアミノ、N−エチルスルファモイルアミノ)、ア
ゾ基(好ましくは炭素数10以下のアゾ基で、例えば、
フェニルアゾ)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数6
以下のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチル
チオ)、アリールチオ基(好ましくは炭素数10以下の
アリールチオ基で、例えば、フェニルチオ)、ヘテロ環
チオ基(好ましくは炭素数10以下のヘテロ環チオ基
で、例えば、2-ベンゾチアゾリルチオ、2-ピリジルチ
オ、1-フェニルテトラゾリルチオ)、アルキルスルフィ
ニル基(好ましくは炭素数10以下のアルキルスルフィ
ニル基で、例えば、ブタンスルフィニル)、アレーンス
ルフィニル基(好ましくは炭素数10以下のアレーンス
ルフィニル基で、例えば、ベンゼンスルフィニル)、ア
ルカンスルホニル基(好ましくは炭素数6以下のアルカ
ンスルホニル基で、例えば、メタンスルホニル、エタン
スルホニル)、アレーンスルホニル基(好ましくは炭素
数10以下のアレーンスルホニル基で、例えば、ベンゼ
ンスルホニル、1-ナフタレンスルホニル)、スルホ基、
ホスホニル基(好ましくは炭素数10以下のホスホニル
基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシ
ホスホニル、フェニルホスホニル)を表す。
【0017】R4 で表される置換基はさらに置換基を有
していてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、
ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオ
キシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ
基、シクロアルコキシカルボニルオキシ基、アリールオ
キシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スル
ファモイルオキシ基、アルカンスルホニルオキシ基、ア
レーンスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリ
ノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、アルコキ
シカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイル
アミノ基、イミド基、アゾ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルフィニ
ル基、スルホ基、アルカンスルホニル基、アレーンスル
ホニル基、スルファモイル基、ホスホニル基を挙げるこ
とができる。
【0018】R5 は水素原子、−SO2 51、−CO2
52、−CN、−CONHR53、−NHCOR54または
下記一般式(1−1−1)で表される基を表す。
【0019】
【化6】
【0020】R51はヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、アニリ
ノ基、ヘテロ環アミノ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基を表し、R52は水素原子、アルキル基、アリール
基、またはヘテロ環基を表す。R51およびR52で表され
る基の好ましい具体例はR4 で表される基の説明で述べ
たものと同じである。R53およびR54は水素原子、アル
キル基(炭素数4以下)、フェニル基、ヘテロ環基(炭
素数6以下)または下記一般式(1−1−2)で表され
る基を表す。
【0021】
【化7】
【0022】R53およびR54で表される炭素数4以下の
アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、2-ブチル、イソブチルが挙げられる。
53およびR54で表される炭素数6以下のヘテロ環基と
しては例えば、2-チエニル、4-ピリジル、2-フリル、2
−ピリジル、3-ピリジルが挙げられる。R53およびR54
で表されるアルキル基(炭素数4以下)、フェニル基お
よびヘテロ環基(炭素数6以下)はさらに置換基を有し
ていてもよく、好ましい置換基としてハロゲン原子(例
えばフッ素原子、塩素原子)、シアノ基、ヒドロキシル
基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ
基(炭素数1〜3のアルコキシ基で例えばメトキシ、エ
トキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(炭素数6以
下のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、メトキ
シカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(炭素数
6以下の基で例えば、N、N- ジメチルカルバモイルオ
キシ)、スルファモイルオキシ基(炭素数6以下の基で
例えば、N、N-ジメチルスルファモイルオキシ)、ス
ルホニルオキシ基(炭素数6以下の基で例えば、メタン
スルホニルオキシ)、アシル基(炭素数6以下の基で例
えば、アセチル)、アルコキシカルボニル基(炭素数6
以下の基で例えば、メトキシカルボニル)、アリールオ
キシカルボニル基(炭素数10以下の基で例えば、フェ
ノキシカルボニル)、カルバモイル基(炭素数6以下の
基で例えば、カルバモイル、N−メチルカルバモイ
ル)、アミノ基(炭素数6以下の基で例えば、アミノ、
N−メチルアミノ)、アミド基(炭素数10以下の基で
例えば、アセトアミド)、アルコキシカルボニルアミノ
基(炭素数6以下の基で例えば、メトキシカルボニルア
ミノ)、ウレイド基、スルホンアミド基(炭素数10以
下の基で例えば、メタンスルホンアミド)、スルファモ
イルアミノ基(炭素数6以下の基で例えば、N、N-ジ
メチルスルファモイルアミノ)、スルホニル基(炭素数
10以下の基で例えば、メタンスルホニル)が挙げられ
る。
【0023】R51がアルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環ア
ミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるとき、
51はさらに置換基を有していてもよく、好ましい置換
基としてはR53およびR54で表される基の好ましい置換
基として挙げたものと同じである。R52がアルキル基、
アリール基、ヘテロ環基を表すとき、R52はさらに置換
基を有していてもよく、好ましい置換基としてはR53
よびR54で表される基の好ましい置換基として挙げたも
のと同じである。
【0024】R51はヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
ミノ基およびアニリノ基が好ましく、特に好ましくは、
アミノ基およびアニリノ基である。R52は水素原子およ
びアルキル基が好ましい。R53およびR54は水素原子お
よびアルキル基が好ましく、特に好ましいものはメチル
基およびエチル基である。R53およびR54で表されるア
ルキル基、フェニル基、ヘテロ環基の置換基として特に
好ましいものは、シアノ基、アミド基、スルホンアミド
基、スルホ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル
基、スルホニル基である。
【0025】一般式(1−1−1)において、R55は水
素原子または炭素数4以下のアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル)を
表す。R57は炭素数1〜10の有機基を表し、好ましく
はアルキル基(炭素数6以下のアルキル基で例えばメチ
ル、エチル)、アリール基(炭素数10以下のアリール
基で、例えば、フェニル、p−トリル)、ヒドロキシル
基、アルコキシ基(炭素数6以下のアルコキシ基で、例
えば、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(炭素
数10以下のアリールオキシ基で、例えば、フェノキ
シ、4-メトキシフェノキシ、4-ニトロフェノキシ)、ヘ
テロ環オキシ基(炭素数6以下のヘテロ環オキシ基で、
例えば、2-フリルオキシ)、アミノ基(炭素数6以下の
アミノ基で、例えば、アミノ、N−メチルアミノ、N、
N−ジメチルアミノ)、アニリノ基(炭素数10以下の
アニリノ基で、例えば、N-メチルアニリノ)、ヘテロ
環アミノ(炭素数6以下のヘテロ環アミノ基で、例え
ば、4-ピリジルアミノ、アルキルチオ基(炭素数6以下
のアルキルチオ基で、例えば、エチルチオ)または、ア
リールチオ(炭素数10以下のアリールチオ基で、例え
ば、フェニルチオ)を表す。A1 およびA2 はそれぞれ
COまたはSO2 を表す。n2 は0、1、または2を表
し、好ましくは0または1を表す。R56は1,2-フェニ
レン、1,3-フェニレン、1,4-フェニレン基または−
{C(R58)R59}n3-を表す。R56が1,2-フェニレ
ン、1,3-フェニレンまたは1,4-フェニレン基のと
き、これらフェニレン基は−N(R55)−、およびA1
以外に置換基を有していてもよく、好ましい置換基はR
4 で表される基として挙げたものと同じである。
【0026】R58およびR59はそれぞれ水素原子または
炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メチル、エチル)
を表し、これらのアルキル基はヒドロキシル基、アルコ
キシ基(例えば、メトキシ、エトキシ)、アルキルチオ
基(例えば、メチルチオ)、アルコキシカルボニル基
(例えば、メトキシカルボニル)などの置換基を有して
いてもよく、n3 は1〜3の整数を表す。一般式(1−
1−1)においてR55は好ましくは水素原子またはメチ
ル基である。R56として好ましいものは、メチレン基、
エチレン基、1,2-フェニレン、1,3-フェニレンおよ
び1,4-フェニレン基である。R57として特に好ましい
基は、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、アニリノ基である。
【0027】一般式(1−1−2)においてW2は−C
ON(R45)−または−CO2-を表す。R41、R42、R
43およびR44はR4 で表される基と同じ意味の基を表
し、R45は水素原子またはアルキル基(例えば、メチ
ル、エチル、プロピル)を表し、これらの基はさらに置
換基を有していてもよく、好ましい置換基はR53で表さ
れる基の好ましい置換基として挙げたものと同じであ
る。R41、R42、R43、R44およびR45は好ましくは水
素原子または炭素数3以下のアルキル基であり、さらに
好ましくは水素原子もしくはメチル基である。R46は炭
素数3以下のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリ
フルオロエチル)を表し、好ましくはメチル基またはエ
チル基である。n4 、n5 はそれぞれ、1、2または3
を表し、好ましくは1もしくは2である。
【0028】以下、一般式(1−2)について詳しく説
明する。R6は−COR61、−CO2 62、−CONH
63、ニトロ基、シアノ基、および一般式(1−2−
1)で表されるヘテロ環基を表す。
【0029】
【化8】
【0030】R61、R62およびR63は水素原子、アルキ
ル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。R61、R62
およびR63で表されるアルキル基、アリール基およびヘ
テロ環基の好ましい具体例はR3 で表される基の説明で
述べたものと同じであり、これらの基はさらに置換基を
有していてもよい。好ましい置換基としては上記R53
よびR54で表される基で述べた好ましい置換基と同じで
ある。
【0031】一般式(1−2−1)においてQ1 は窒素
原子またはC(R64)を表し、R64は上記R4 で表され
る基と同じ意味の基を表す。Q2 は酸素原子、硫黄原子
またはN(R65)を表し、R65は窒素原子上に置換可能
な基であり、例えば上記R53およびR54で表される基、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基
(炭素数6以下の基で例えば、アセチル)、アルコキシ
カルボニル基(炭素数6以下の基で例えば、メトキシカ
ルボニル)、アリールオキシカルボニル基(炭素数10
以下の基で例えば、フェノキシカルボニル)、カルバモ
イル基(炭素数6以下の基で例えば、カルバモイル、N
-メチルカルバモイル)、スルホニル基(炭素数10以
下の基で例えば、メタンスルホニル)が挙げられる。Z
1 は5または6員環を形成するのに必要な非金属原子群
を表す。非金属原子として好ましくは、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子または炭素原子であり、さらに好ましく
は炭素原子である。一般式(1−2−1)で表されるヘ
テロ環は他の環と縮合していてもよいし、置換基を有し
ていてもよい。好ましい置換基としては上記R53および
54で表される基で述べた好ましい置換基と同じであ
る。
【0032】R7 は水素原子、ハロゲン原子(例えばフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子)、アルキル基(好まし
くは炭素数6以下の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基
で、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、t−ブチル)、シクロアルキル基(好ましくは
炭素数6以下のシクロアルキル基で、例えば、シクロプ
ロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル)、アルケニ
ル基(好ましくは炭素数6以下のアルケニル基で、例え
ばビニル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール
基(好ましくは炭素数10以下のアリール基で、例え
ば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル)、アルコキシ
基(好ましくは炭素数6以下のアルコキシ基で、例え
ば、メトキシ、エトキシ、1-ブトキシ、2-ブトキシ、イ
ソプロポキシ、t−ブトキシ)、シクロアルキルオキシ
基(好ましくは炭素数6以下のシクロアルキルオキシ基
で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロプロピルオ
キシ、シクロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好
ましくは炭素数10以下のアリールオキシ基で、例え
ば、フェノキシ、2-ナフトキシ)、アシルオキシ基(好
ましくは炭素数10以下のアシルオキシ基で、例えば、
アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ)お
よびR6 で述べた置換基を表す。
【0033】次に−(T)m −について詳しく説明す
る。TはCp1 と発色現像薬酸化体とがカップリングす
ることによりCp1 から放出され、引き続きCp2 部分
を放出することのできる連結基を表し、詳しくは下記一
般式(3)で表すことができる。mは0または1を表
す。
【0034】
【化9】
【0035】T1 およびT3 は下記一般式(3−1)〜
(3−3)で表される連結基である。
【0036】
【化10】
【0037】R81およびR82はそれぞれ水素原子、アル
キル基(炭素数20以下のアルキル基で、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブ
チル、t−オクチル、オクタデシル)またはアリール基
(炭素数24以下のアリール基で例えば、フェニル、1
−ナフチル、2−ナフチル)を表す。R81およびR82
表されるアルキル基およびアリール基は後述するR3
表されるような置換基で置換されていてもよい。R81
よびR82は好ましくは水素原子である。
【0038】R83およびR84は上記R81およびR82で表
される基と同じ意味の基を表す。R85は上記R81および
82で表される基と同じ意味の基を表すが、好ましくは
少なくとも1つの電子吸引性基(例えば、後述するR1
およびR2 で表されるような電子吸引性基)で置換され
たメチル基(例えば、シアノメチル、メトキシカルボニ
ルメチル、エトキシカルボニルメチル)である。T2
米国特許第4248962 号、同4861701 号、同4857440 号、
および特開昭57-56837号等に記載されているようなな分
子内求核置換反応を利用したタイミング基または特開昭
56-114946 号、同57-154234 号および同57-188035 号に
記載されているような共役鎖に沿った電子移動反応を利
用したタイミング基を表す。m1 、m2 、m3 はそれぞ
れ独立して0または1を表す。mが0の時、Cp1 とC
2 とは、Cp1 と現像薬酸化体とがカップリングして
はじめてCp2 が放出されるように連結されている。
【0039】次にCp2 について詳しく説明する。Cp
2 は一般式(2−1)〜(2−5)で表されるカプラー
残基である。Cp 2 は好ましくは一般式(2−1)およ
び(2−3)で表されるカプラー残基であり、特に好ま
しくは一般式(2−1)で表されるカプラー残基であ
る。
【0040】一般式(2−1)〜(2−5)においてR
1 およびR2 はいずれもハメットの置換基定数σp 値が
0.2 以上1.00以下の電子吸引性基であるが、R1 とR2
との和が0.65以上であることが好ましい。本発明のカプ
ラーはこのような強い電子吸引性基の導入によりシアン
カプラーとして優れた性能を有するものである。R1
2 とのσp 値の和は好ましくは0.7 以上であり、上限
としては1.8 程度である。
【0041】本発明において、R1 及びR2 はハメット
の置換基定数σp 値(以下、単にσp 値という)が0.2
以上1.00以下の電子吸引性基である。好ましくは、σp
値が0.3 以上0.80以下の電子吸引性基である。ハメット
則はベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の
影響を定量的に論ずるために1935年にL.P.Hamm
ettにより提唱された経験則であるが、これは今日広
く妥当性が認められている。ハメット則によりもとめら
れた置換基定数にはσp 値とσm 値とがあり、これらの
値は多くの一般的な成書に記載があるが、例えばJ.
A.Dean編「Lange's Handbook of Chemistry 」第
12版、1979年(McGraw-Hill )や「化学の領域増
刊」、122 号、96〜103 頁、1979年(南江堂)、Chemic
al Reviews、91 巻、165 〜195 頁、1991年に詳しい。
本発明においてR1 およびR2 はσp値により規定され
るが、これらの成書に記載の文献既知の値がある置換基
にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未
知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその
範囲内に含まれる限り包含されることは勿論である。
【0042】σp 値が0.2 以上1.00以下の電子吸引性基
であるR1 及びR2 の具体例としては、アシル基、アシ
ルオキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ
基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジ
アリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、ア
リールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、
スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル
基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたア
ルキル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換さ
れたアルコキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子
で置換されたアリールオキシ基、少なくとも2つ以上の
ハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくと
も2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ
基、σp 値0.2 以上の他の電子吸引性基で置換されたア
リール基、複素環基、塩素原子、臭素原子、アゾ基、ま
たはセレノシアネート基が挙げられる。これらの置換基
のうちさらに置換を有することが可能な基は、後述する
3 で挙げるような置環基をさらに有しても良い。
【0043】尚、脂肪族オキシカルボニル基は、その脂
肪族部位が直鎖状、分岐鎖状または環状でもよく、飽和
でも不飽和結合を含んでいてもよい脂肪族部位であり、
脂肪族オキシカルボニル基は、アルコキシカルボニル、
シクロアルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボ
ニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルケニル
オキシカルボニル等を含むものである。以下上記と同義
で脂肪族という言葉を用いる。
【0044】代表的なσp 値が0.2 以上1.0 以下の電子
吸引性基のσp 値を挙げると、臭素原子(0.23)、塩素
原子(0.23)、シアノ基(0.66)、ニトロ基(0.78)、
トリフルオロメチル基(0.54)、トリブロモメチル基
(0.29)、トリクロロメチル基(0.33)カルボキシル基
(0.45)、アセチル基(0.50)、ベンゾイル基(0.4
3)、アセチルオキシ基(0.31)、トリフルオロメタン
スルホニル基(0.92)、メタンスルホニル基(0.72)、
ベンゼンスルホニル基(0.70)、メタンスルフィニル基
(0.49)、カルバモイル基(0.36)、メトキシカルボニ
ル基(0.45)、エトキシカルボニル基(0.45)、フェノ
キシカルボニル基(0.44)、ピラゾリル基(0.37)、メ
タンスルホニルオキシ基(0.36)、ジメトキシホスホリ
ル基(0.60)、スルファモイル基(0.57)などである。
【0045】R1 の置換基の例として好ましくはシアノ
基、脂肪族オキシカルボニル基(炭素数36以下の脂肪
族オキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニ
ル、オクタデシルオキシカルボニル、2−エチルヘキシ
ロキシカルボニル、sec−ブチルオキシカルボニル、
オレイルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、プロパギルオキシカルボニル、シクロペンチルオキ
シカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、2,
6-ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシルオキシカ
ルボニル)、ジアルキルホスホノ基(炭素数36以下の
ジアルキルホスホノ基であり、例えば、ジメチルホスホ
ノ、ジエチルホスホノ、、アルキルもしくはアリールス
ルホニル基(炭素数36以下のアルキルまたはアリール
スルホニル基であり例えば、メタンスルホニル基、ブタ
ンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、p−トルエン
スルホニル基)、フッ素化アルキル基(炭素数36以下
ののフッ素化アルキル基であり、例えばトリフロロメチ
ル)を表す。R1 の置換基として特に好ましくは、シア
ノ基、脂肪族オキシカルボニル基、フッ素化アルキル基
であり、最も好ましくはシアノ基である。
【0046】R2 の置換基の例として好ましくは、R1
で挙げたような脂肪族オキシカルボニル基、カルバモイ
ル基(炭素数36以下のカルバモイル基であり、例えば
ジエチルカルバモイル、ジオクチルカルバモイル)、ス
ルファモイル基(炭素数36以下のスルファモイル基で
あり、例えばジメチルスルファモイル、ジブチルスルフ
ァモイル)、R1 で挙げたようなジアルキルホスホノ
基、ジアリールホスホノ基(炭素数48以下のジアリー
ルホスホノ基であり、例えばジフェニルホスホノ、ジ
(p−トルイルホスホノ)を表す。R2 の置換基として
特に好ましくは、下記一般式(4)で表される脂肪族オ
キシカルボニル基である。
【0047】
【化11】
【0048】式中R1 ’、R2 ’は炭素数36以下の脂
肪族基を表し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、
トリデシル、シクロペンチル、シクロヘキシルを表す。
3 ’、R4 ’、R5 ’は水素原子または脂肪族基を表
す。脂肪族基としては、先にR1 ’R2 ’で挙げた基が
挙げられる。R3 ’、R4 ’、R5 ’は好ましくは水素
原子である。
【0049】Zは5〜8員環を形成するのに必要な非金
属原子群を表し、この環は置換されていてもよいし、飽
和環であっても不飽和結合を有していても良い。非金属
原子として好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子
または炭素原子であり、さらに好ましくは炭素原子であ
る。Zで形成される環としては、例えばシクロペンタン
環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオク
タン環、シクロヘキセン環、ピペラジン環、オキサン
環、チアン環等が挙げられ、これらの環は後述するR3
で表されるような置換基で置換されていてもよい。Zで
形成される環として好ましくは置換されてもよいシクロ
ヘキサン環であり、特に好ましくは、4位が炭素数24
以下のアルキル基(後述するR3 で表されるような置換
基で置換されていてもよい)で置換されたシクロヘキサ
ン環である。
【0050】一般式(2−1)〜(2−5)においてR
3 は置換基を表し、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子)、脂肪族基(好ましくは炭
素数36以下の脂肪族基で、例えば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、t−ブチル、t−アミル、t
−オクチル、トリデシル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル)、アリール基(好ましくは炭素数36以下のアリ
ール基で、例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフ
チル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数36以下の、5
から8員環のヘテロ環基で、例えば2-チエニル、4-ピリ
ジル、2-フリル、2−ピリミジニル、1-ピリジル、2-ベ
ンゾチアゾリル、1-イミダゾリル、1-ピラゾリル、ベン
ゾトリアゾール−2−イル)、シアノ基、ヒドロキシル
基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、脂肪族オキ
シ基(好ましくは炭素数36以下の脂肪族オキシ基で、
例えば、メトキシ、エトキシ、1-ブトキシ、2-ブトキ
シ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、シクロプロピルオ
キシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキ
シ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数36以下の
アリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、2-ナフトキ
シ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数36以下の
ヘテロ環オキシ基で、例えば、1-フェニルテトラゾール
-5−オキシ、2-テトラヒドロピラニルオキシ、2-フリル
オキシ)、
【0051】アシルアミノ基(好ましくは炭素数36以
下のアシルアミノ基で、例えば、アセトアミド、ベンズ
アミド)、アミノ基(好ましくは炭素数36以下のアミ
ノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、N,N−ジエ
チルアミノ、N,N-ジオクタデシルアミノ)、アニリ
ノ基(好ましくは炭素数36以下のアニリノ基で、例え
ば、アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ
基(好ましくは炭素数36以下のヘテロ環アミノ基で、
例えば、4-ピリジルアミノ基)、ウレイド基(好ましく
は炭素数36以下のウレイド基で、例えば、N-Nジメ
チルウレイド、N−フェニルウレイド)、スルファモイ
ルアミノ基(好ましくは炭素数10以下のスルファモイ
ルアミノ基で、例えば、N、N-ジプロピルスルファモ
イルアミノ、N−エチルスルファモイルアミノ)、脂肪
族チオ基(好ましくは炭素数36以下の脂肪族チオ基
で、例えば、メチルチオ、エチルチオ)、アリールチオ
基(好ましくは炭素数36以下のアリールチオ基で、例
えば、フェニルチオ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭
素数36以下のヘテロ環チオ基で、例えば、2-ベンゾチ
アゾリルチオ、2-ピリジルチオ、1-フェニルテトラゾリ
ルチオ)、
【0052】脂肪族オキシカルボニルアミノ基(好まし
くは炭素数36以下の脂肪族オキシカルボニルアミノ基
で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカル
ボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ)、アリ
ールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数36
以下のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、
フェノキシカルボニルアミノ基)、スルホンアミド基
(好ましくは炭素数36以下のスルホンアミド基で、例
えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、
ベンゼンスルホンアミド)、カルバモイル基(炭素数3
6以下のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、
N,N−ジメチルカルバモイル、N−プロピルカルバモ
イル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数36以下
のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、N,
N−ジメチルスルファモイル、N−エチルスルファモイ
ル、N−フェニルスルファモイル)、スルホニル基(好
ましくは炭素数36以下のアルキルまたはアリールスル
ホニル基で、例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホ
ニル)、脂肪族オキシカルボニル基(好ましくは炭素数
36以下のアルコキシカルボニル基で、例えば、エトキ
シカルボニル、t−ブトキシカルボニル、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基
(好ましくは炭素数36以下のアリールオキシカルボニ
ル基で、例えば、フェノキシカルボニル)、アゾ基(好
ましくは炭素数36以下のアゾ基で、例えば、フェニル
アゾ)、
【0053】アシルオキシ基(好ましくは炭素数36以
下のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイ
ルオキシ、ベンゾイルオキシ)、カルバモイルオキシ基
(好ましくは炭素数36以下のカルバモイルオキシ基
で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N
−ブチルカルバモイルオキシ)、スルファモイルオキシ
基(好ましくは炭素数36以下のスルファモイルオキシ
基で、例えば、N,N−ジエチルスルファモイルオキ
シ、N−プロピルスルファモイルオキシ)、シリルオキ
シ基(好ましくは炭素数36以下のシリルオキシ基で、
例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチル
シリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ)、イミド基
(好ましくは炭素数36以下のイミド基で、例えば、N
−スクシンイミド基、N−フタルイミド)、スルフィニ
ル基(好ましくは炭素数36以下のアルキルスルフィニ
ル基またはアリールスルフィニル基で、例えば、ブタン
スルフィニル、ベンゼンスルフィニル)、ホスホニル基
(好ましくは炭素数36以下のホスホニル基で、例え
ば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニ
ル、フェニルホスホニル)、アシル基(好ましくは炭素
数36以下のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチ
ル、ピバロイル、ベンゾイル)を表す。
【0054】これらの置換基はさらに置換基を有してい
てもよく、好ましい置換基としてはハロゲン原子、脂肪
族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ
ル基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、脂肪族オ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル
アミノ基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、
ウレイド基、スルファモイルアミノ基、脂肪族チオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、脂肪族オキシカルボ
ニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ス
ルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、
スルホニル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモ
イルオキシ基、スルファモイルオキシ基、シリルオキシ
基、イミド基、スルフィニル基、ホスホニル基、アシル
基、アゾリル基が挙げられる。
【0055】一般式(2−1)、(2−2)、(2−
4)においてXは水素原子または発色現像薬の酸化体と
のカップリングにより離脱し得る基(以下、単に離脱基
と呼ぶ)を表す。Xが離脱基を表すとき、該離脱基はハ
ロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、メ
トキシエトキシ)、アリールオキシ(例えば、フェノキ
シ、4-クロロフェノキシ、4−カルボキシフェノキ
シ、ナフチルオキシ)、複素環オキシ基(例えば、5−
フェニルテトラゾリルオキシ、2−ベンゾチアゾリルオ
キシ)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、テトラ
デカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ)、アルキル、ア
リール、若しくは複素環スルホニルオキシ基(例えば、
メタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキ
シ)、ジアルキル若しくはジアリールホスホスホノオキ
シ基(例えば、ジメチルホスホノオキシ、ジフェニルホ
スホノオキシ)、ジアルキル若しくはジアリールホスフ
ィノオキシ基(例えば、ジメチルホスフィノオキシ)、
【0056】アルキル、アリール、若しくは複素環スル
ホニル基(例えば、メタンスルホニル、トルエンスルホ
ニル、テトラゾリルスルホニル)、アルキル、アリー
ル、若しくは複素環スルフィニル基(例えば、フェニル
するフィニル、エチルスルフィニル、テトラゾリルスル
フィニル)、アシルアミノ基(例えば、ジクロロアセチ
ルアミノ、ヘプタフルオロブチルアミノ)、アルキル、
アリール、若しくは複素環スルホンアミド(例えば、メ
タンスルホンアミド、トリフルオロメタンスルホンアミ
ド、ベンゼンスルホンアミド)、アルコキシカルボニル
オキシ基(例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキ
シカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオキ
シ基(例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、カルバ
モイルオキシ基(ジエチルカルバモイオキシ、モルホノ
カルボニルオキシ)、アルキル、アリール、若しくは複
素環チオ基(例えば、エチルチオ、フェニルチオ、テト
ラゾリルチオ)、カルバモイルアミノ基(例えば、N−
メチルカルバモイルアミノ、N−フェニルカルバモイル
アミノ)、窒素原子でカップリング位と結合する5員若
しくは6員の含窒素複素環基(例えば、イミダゾリル、
ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル)、イミド基
(例えば、スクシンイミド、フタルイミド)、アリール
アゾ基(例えば、フェニルアゾ)などである。Xは好ま
しくは水素原子である。
【0057】一般式(2−3)および(2−5)におい
てGは水素原子または写真処理時の加水分解もしくは分
子内求核置換反応により離脱し得るブッロキング基を表
す。加水分解により離脱しうるブッロキング基の代表例
としては米国特許第2575182 号、同第2706685 号、同第
2865748 号、同第4123281 号等に記載されたものが挙げ
られる。また、分子内求核置換反応によって離脱しうる
ブッロキング基の代表例としては、特開昭55-53330号に
記載されたものが挙げられる。Gは好ましくは水素原子
である。
【0058】本発明のカプラーの好ましい態様は、下記
一般式(5)および(6)で表すことができる。(より
好ましくはR1 =シアノ基、R2 =脂肪族基、R3 =ア
リール基または脂肪族基)。特に好ましくは一般式
(5)で表されるカプラーである。
【0059】
【化12】
【0060】一般式(5)および(6)においてR1
7 および、n1 は上記と同じ意味を表す。次に本発明
の具体的化合物例を挙げるが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
【0061】
【化13】
【0062】
【化14】
【0063】
【化15】
【0064】
【化16】
【0065】
【化17】
【0066】
【化18】
【0067】
【化19】
【0068】
【化20】
【0069】次に本発明の化合物の具体的合成例を述べ
る。以下のスキームにしたがって化合物例12を合成し
た。
【0070】
【化21】
【0071】化合物bの合成 特開平5-202004号記載の方法によって得られたピロロト
リアゾールカプラーa(50g)、メトキシエトキシメチ
ルクロリド(14.8g)、および炭酸カリウム(16.4g)
をジメチルアセトアミド(300 ml)中、50℃にて30分
攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル/
希塩酸水に注加した。有機層を水および食塩水で洗浄し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧にて濃縮
後、残さを酢酸エチル/ヘキサンから再結晶することに
より化合物b(46g)を得た。
【0072】化合物cの合成 化合物b(46g)のジクロロメタン(460 ml)溶液に
0℃にて三臭化ホウ素(15.6ml)を滴下し、さらに20
分攪拌した。反応液を酢酸エチル/希塩酸水に注加し
た。有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。減圧にて濃縮後、残さを酢酸エチ
ル/ヘキサンから再結晶することにより化合物c(34
g)を得た。
【0073】例示化合物12の合成 ナフトール誘導体d(9g)のジメチルアセトアミド
(250 ml)溶液に、窒素気流下0℃にて60%水素化ナ
トリウム(3.24g)を添加し、15分攪拌した。この溶液
に0℃にて化合物c(24.3g)をゆっくり添加し、さら
に15分攪拌した。反応液を酢酸エチル/希塩酸水に注加
した。有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。減圧にて濃縮後、残さを酢酸エ
チル/ヘキサンから再結晶することにより例示化合物1
2を(22g)得た。
【0074】本発明の感光材料は、本発明のカプラーを
含有する層を支持体上に少なくとも1層有すればよく、
本発明のカプラーを含有する層としては、支持体上の親
水性コロイド層であればよい。一般的な感光材料は、支
持体上に青感性ハロゲン化銀乳剤層、緑感性ハロゲン化
銀乳剤層および赤感性ハロゲン化銀乳剤層を少なくとも
一層ずつこの順で塗設して構成することができるが、こ
れと異なる順序であっても良い。また、赤外感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を前記の感光性乳剤層の少なくとも一つ
の替りに用いることもできる。これらの感光性乳剤層に
は、それぞれの波長域に感度を有するハロゲン化銀乳剤
と、感光する光と補色の関係にある色素を形成するカラ
ーカプラーを含有させることで減色法の色再現を行うこ
とができる。但し、感光性乳剤層とカラーカプラーの発
色色相とは、上記のような対応を持たない構成としても
良い。本発明においては特に赤感性ハロゲン化銀乳剤層
にシアンカプラーとして使用することが好ましい。本発
明のカプラーの感光材料中の含有量は、同一層中のハロ
ゲン化銀1モル当り1×10-3モル〜1モルが適当であ
り、好ましくは、2×10-3モル〜3×10-1モルであ
る。
【0075】本発明のカプラーは、種々の公知分散方法
により感光材料に導入でき、高沸点有機溶媒(必要に応
じて低沸点有機溶媒を併用)に溶解し、ゼラチン水溶液
に乳化分散してハロゲン化銀乳剤に添加する水中油滴分
散法が好ましい。水中油滴分散法に用いられる高沸点溶
媒の例は米国特許第2,322,027号などに記載さ
れている。また、ポリマー分散法の1つとしてのラテッ
クス分散法の工程、効果、含浸用のラテックスの具体例
は、米国特許第4,199,363号、西独特許出願第
(OLS)2,541,274号、同2,541,23
0号、特公昭53−41091号及び欧州特許公開第0
29104号等に記載されており、また有機溶媒可溶性
ポリマーによる分散についてPCT国際公開第WO88
/00723号明細書に記載されている。
【0076】前述の水中油滴分散法に用いることのでき
る高沸点有機溶媒としては、フタール酸エステル類(例
えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジ
シクロヘキシルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフ
タレート、デシルフタレート、ビス(2,4−ジ−tert
−アミルフェニル)イソフタレート、ビス(1,1−ジ
−エチルプロピル)フタレート)、リン酸又はホスホン
酸のエステル類(例えば、ジフェニルホスフェート、ト
リフェニルホスフェート、トリクレシルホスフェート、
2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、ジオクチ
ルブチルホスフェート、トリシクロヘキシルホスフェー
ト、トリ−2−エチルヘキシルホスフェート、トリドデ
シルホスフェート、ジ−2−エチルヘキシルフェニルホ
スフェート)、安息香酸エステル類(例えば、2−エチ
ルヘキシルベンゾエート、2,4−ジクロロベンゾエー
ト、ドデシルベンゾエート、2−エチルヘキシル−p−
ヒドロキシベンゾエート)、アミド類(例えば、N,N
−ジエチルドデカンアミド、N,N−ジエチルラウリル
アミド)、アルコール類又はフェノール類(イソス1ア
リルアルコール、2,4−ジ−tert−アミルフェノール
など)、脂肪族エステル類(例えば、コハク酸ジブトキ
シエチル、コハク酸ジ−2−エチルヘキシル、テトラデ
カン酸2−ヘキシルデシル、クエン酸トリブチル、ジエ
チルアゼレート、イソステアリルラクテート、トリオク
チルシトレート)、アニリン誘導体(N,N−ジブチル
−2−ブトキシ−5−tert−オクチルアニリンなど)、
塩素化パラフィン類(塩素含有量10%〜80%のパラ
フィン類)、トリメシン酸エステル類(例えば、トリメ
シン酸トリブチル)、ドデシルベンゼン、ジイソプロピ
ルナフタレン、フェノール類(例えば、2,4−ジ−te
rt−アミルフェノール、4−ドデシルオキシフェノー
ル、4−ドデシルオキシカルボニルフェノール、4−
(4−ドデシルオキシフェニルスルホニル)フェノー
ル)、カルボン酸類(例えば、2−(2,4−ジ−tert
−アミルフェノキシ酪酸、2−エトキシオクタンデカン
酸)、アルキルリン酸類(例えば、ジ−2(エチルヘキ
シル)リン酸、ジフェニルリン酸)、特開平6−258
803号や欧州特許EP606659Aに記載されてい
るスルホンアミド系化合物などが挙げられる。これらの
高沸点有機溶媒は単独で用いてもよいし、また2種以上
を混合して用いてもよい。また補助溶媒として沸点が3
0℃以上約160℃以下の有機溶剤(例えば、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、2−エトキシエチルアセテー
ト、ジメチルホルムアミド)を併用してもよい。
【0077】高沸点有機溶媒はカプラーに対して重量比
で0〜10.0倍量、好ましくは0〜5.0倍量、更に
好ましくは0.5〜4.5倍量で使用できる。
【0078】本発明において適用されるハロゲン化銀乳
剤やその他の素材(添加剤など)および写真構成層(層
配置など)、並びにこの感光材料を処理するために適用
される処理法や処理用添加剤としては、欧州特許EP
0,355,660A2号、特開平5−34889号、
同4−359249号、同4−313753号、同4−
270344号、同5−66527号、同4−3454
8号、同4−145433号、同2−854号、同1−
158431号、同2−90145号、同3−1945
39号、同2−93641号、同6−43611号、同
6−3779号、同6−208196号、同6−118
546号、欧州特許EP0520457A2号、Resear
ch Disclosure No.37038(1995 年) 等に記載のハロゲン
化銀カラー写真感光材料やその処理方法も好ましい。
【0079】これに加えて、より具体的には、例えば、
本発明のハロゲン化銀写真乳剤が適用できるカラー写真
感光材料に用いることができる技術および無機・有機素
材については、欧州特許第436,938A2号の下記
の箇所及び下記に引用の特許に記載されている。
【0080】 項 目 該 当 箇 所 1)層 構 成 第146頁34行目〜第147頁25行目 2)ハロゲン化銀乳剤 第147頁26行目〜第148頁12行目 3)イエローカプラー 第137頁35行目〜第146頁33行目、第14 9頁21行目〜23行目 4)マゼンタカプラー 第149頁24行目〜第28行目;欧州特許第42 1,453A1号の第3頁5行目〜第25頁55行 目 5)併用し得るシアン 第149頁29行目〜33行目;欧州特許第432 カプラー ,804A2号の第3頁28行目〜第40頁2行目 6)ポリマーカプラー 第149頁34行目〜38行目;欧州特許第435 ,334A2号の第113頁39行目〜第123頁 37行目 7)カラードカプラー 第53頁42行目〜第137頁34行目、第149 頁39行目〜45行目 8)その他の機能性 第7頁1行目〜第53頁41行目、第149頁46 カプラー 行目〜第150頁3行目;欧州特許第435,33 4A2号の第3頁1行目〜第29頁50行目 9)防腐・防黴剤 第150頁25行目〜28行目 10) ホルマリンスカベ 第149頁15行目〜17行目 ンジャー 11) その他の添加剤 第153頁38行目〜47行目;欧州特許第421 ,453A1号の第75頁21行目〜第84頁56 行目、第27頁40行目〜第37頁40行目 12) 分 散 方 法 第150頁4行目〜24行目 13) 支 持 体 第150頁32行目〜34行目 14) 膜厚・膜物性 第150頁35行目〜49行目 15) 発色現像・黒白現像 第150頁50行目〜第151頁47行目;欧州特 ・かぶらせ工程 許第442,323A2号の第34頁11行目〜5 4行目、第35頁14行目〜22行目 16) 脱 銀 工 程 第151頁48行目〜第152頁53行目 17) 自動現像機 第152頁54行目〜第153頁2行目 18) 水洗・安定工程 第153頁3行目〜37行目
【0081】
【実施例】
(実施例−1)以下、本発明を実施例によって具体的に
説明するがこれに限定されるものではない。 試料101の作製 下塗りを施した厚み 127μの三酢酸セルロースフィルム
支持体上に、下記の組成の各層より成る多層カラー感光
材料を作製し、試料101とした。数字はm2当りの添加
量を表わす。なお添加した化合物の効果は記載した用途
に限らない。
【0082】第1層:ハレーション防止層 黒色コロイド銀 0.10g ゼラチン 1.90g 紫外線吸収剤U−1 0.10g 紫外線吸収剤U−3 0.040g 紫外線吸収剤U−4 0.10g 高沸点有機溶媒Oil−1 0.10g 染料E−1の微結晶固体分散物 0.10g
【0083】第2層:中間層 ゼラチン 0.40g 化合物Cpd−C 5.0mg 化合物Cpd−J 5.0mg 化合物Cpd−K 3.0mg 高沸点有機溶媒Oil−3 0.10g 染料D−4 0.80mg
【0084】 第3層:中間層 表面及び内部をかぶらせた微粒子沃臭化銀乳剤(平均粒径0.06μm、 変動係数18%、AgI含量 1モル%) 銀量 0.050g 黄色コロイド銀 銀量 0.030g ゼラチン 0.40g
【0085】第4層:低感度赤感性乳剤層 乳剤A 銀量 0.40g 乳剤B 銀量 0.25g ゼラチン 0.80g カプラーC−1 0.15g カプラーC−2 0.10g カプラーC−9 0.010g 化合物Cpd−C 5.0mg 化合物Cpd−J 5.0mg 高沸点有機溶媒Oil−2 0.05g 高沸点有機溶媒Oil−1 0.05g 添加物P−1 0.10g
【0086】第5層:中感度赤感性乳剤層 乳剤B 銀量 0.25g 乳剤C 銀量 0.35g ゼラチン 0.80g カプラーC−1 0.05g カプラーC−2 0.05g カプラーC−3 0.05g 高沸点有機溶媒Oil−2 0.05g 高沸点有機溶媒Oil−1 0.05g 添加物P−1 0.10g
【0087】第6層:高感度赤感性乳剤層 乳剤D 銀量 0.40g ゼラチン 1.10g カプラーC−1 0.10g カプラーC−2 0.10g カプラーC−3 0.50g 添加物P−1 0.10g
【0088】第7層:中間層 ゼラチン 0.70g 添加物M−1 0.30g 化合物Cpd−I 2.6mg 染料D−5 0.020g 染料D−6 0.010g 化合物Cpd−J 10.0mg 高沸点有機溶媒Oil−1 0.020g
【0089】 第8層:中間層 表面及び内部をかぶらせた沃臭化銀乳剤(平均粒径0.06μm、 変動係数16%、AgI含量 0.3モル%) 銀量 0.020g 黄色コロイド銀 銀量 0.020g ゼラチン 1.00g 添加物P−1 0.05g 混色防止剤Cpd−A 0.10g 高沸点有機溶媒Oil−3 0.10g
【0090】第9層:低感度緑感性乳剤層 乳剤E 銀量 0.20g 乳剤F 銀量 0.20g 乳剤G 銀量 0.10g ゼラチン 0.50g カプラーC−4 0.10g カプラーC−7 0.050g カプラーC−8 0.10g 化合物Cpd−B 0.030g 化合物Cpd−D 0.020g 化合物Cpd−E 0.020g 化合物Cpd−F 0.040g 化合物Cpd−J 10mg 化合物Cpd−L 0.02g 高沸点有機溶媒Oil−1 0.10g 高沸点有機溶媒Oil−2 0.10g
【0091】第10層:中感度緑感性乳剤層 乳剤G 銀量 0.25g 乳剤H 銀量 0.10g ゼラチン 0.60g カプラーC−4 0.070g カプラーC−7 0.050g カプラーC−8 0.070g 化合物Cpd−B 0.030g 化合物Cpd−D 0.020g 化合物Cpd−E 0.020g 化合物Cpd−F 0.050g 高沸点有機溶媒Oil−2 0.050g
【0092】第11層:高感度緑感性乳剤層 乳剤I 銀量 0.35g ゼラチン 1.00g カプラーC−4 0.20g カプラーC−7 0.10g カプラーC−8 0.050g 化合物Cpd−B 0.080g 化合物Cpd−E 0.020g 化合物Cpd−F 0.040g 化合物Cpd−K 5.0mg 高沸点有機溶媒Oil−1 0.050g 高沸点有機溶媒Oil−2 0.020g
【0093】第12層:中間層 ゼラチン 0.60g 化合物Cpd−L 0.05g 高沸点有機溶媒Oil−1 0.05g
【0094】第13層:イエローフィルター層 黄色コロイド銀 銀量 0.010g ゼラチン 1.10g 混色防止剤Cpd−A 0.10g 高沸点有機溶媒Oil−3 0.05g 染料E−2の微結晶固体分散物 0.030g 染料E−3の微結晶固体分散物 0.020g
【0095】第14層:中間層 ゼラチン 0.60g 第15層:低感度青感性乳剤層 乳剤J 銀量 0.20g 乳剤K 銀量 0.30g ゼラチン 0.80g カプラーC−5 0.20g カプラーC−6 0.10g カプラーC−10 0.40g 化合物Cpd−I 0.02g
【0096】第16層:中感度青感性乳剤層 乳剤L 銀量 0.30g 乳剤M 銀量 0.30g ゼラチン 0.90g カプラーC−5 0.10g カプラーC−6 0.10g カプラーC−10 0.60g
【0097】第17層:高感度青感性乳剤層 乳剤N 銀量 0.20g 乳剤O 銀量 0.20g ゼラチン 1.20g カプラーC−5 0.10g カプラーC−6 0.10g カプラーC−10 0.60g 高沸点有機溶媒Oil−2 0.10g
【0098】
【0099】 第19層:第2保護層 コロイド銀 銀量 0.10mg 微粒子沃臭化銀乳剤(平均粒径0.06μm、AgI含量 1モル%) 銀量 0.10g ゼラチン 0.40g
【0100】 第20層:第3保護層 ゼラチン 0.40g ポリメチルメタクリレート(平均粒径1.5 μ) 0.10g メチルメタクリレートとアクリル酸の4:6の共重合体 (平均粒径1.5 μ) 0.10g シリコーンオイル 0.030g 界面活性剤W−1 3.0mg 界面活性剤W−2 0.030g
【0101】また、すべての乳剤層には上記組成物の他
に添加剤F−1〜F−8を添加した。さらに各層には上
記組成物の他にゼラチン硬化剤H−1及び塗布用、乳化
用界面活性剤W−3、W−4、W−5、W−6を添加し
た。更に防腐、防黴剤としてフェノール、1,2−ベン
ズイソチアゾリン−3−オン、2−フェノキシエタノー
ル、フェネチルアルコール、p−安息香酸ブチルエステ
ルを添加した。
【0102】
【表1】
【0103】
【表2】
【0104】
【表3】
【0105】
【化22】
【0106】
【化23】
【0107】
【化24】
【0108】
【化25】
【0109】
【化26】
【0110】
【化27】
【0111】
【化28】
【0112】
【化29】
【0113】
【化30】
【0114】
【化31】
【0115】
【化32】
【0116】
【化33】
【0117】
【化34】
【0118】
【化35】
【0119】有機固体分散染料の分散物の調製 染料E−1を以下の方法で分散した。即ち、メタノール
を30%含む染料のウェットケーキ1430gに水及び
BASF社製Pluronic F88(エチレンオキシド−プロピ
レンオキシド ブロック共重合体)200gを加えて攪
拌し、染料濃度6%のスラリーとした。次に、アイメッ
クス(株)製ウルトラビスコミル(UVM−2)に平均
粒径0.5mmのジルコニアビースを1700ml充填し、
スラリーを通して周速約10m/sec 、吐出量0.51
/min で8時間粉砕した。ビーズを濾過して除き、水を
加えて染料濃度3%に希釈した後、安定化のために90
℃で10時間加熱した。得られた染料微粒子の平均粒径
は0.60μm であり、粒径の分布の広さ(粒径標準偏
差×100/平均粒径)は18%であった。
【0120】同様にして、染料E−2、E−3の固体分
散物を得た。平均粒径は0.54μm および0.56μ
m であった。
【0121】試料101の第4〜第6層に添加されたC
−1、2、3を第4表に示したように変更した以外は同
様にして試料102から110を作成した。なお、各層
のピロロアゾールカプラーの添加量は試料101の各層
のC−1、2、3を合計したカプラー量の45モル%に
統一した。中間層Aは第4層と第5層の間に、中間層B
は第5層と第6層の間に塗設したもので、構成は中間層
A、Bともに下記の通りである。
【0122】中間層AまたはB ゼラチン 0.40g 高沸点有機溶媒Oil−1 0.10g 化合物Cpd−A 0.05g (ただし、その他の層と同様に界面活性剤を使用した)
【0123】
【表4】
【0124】
【化36】
【0125】(色再現性の評価)試料101〜110を
用いてマクベス社製カラーチェッカーチャートを撮影し
色再現性を評価した。撮影に当たっては試料ごとにカラ
ーフィルターを用いてカラーバランスを調整し、評価は
富士写真フイルム株式会社足柄研究所にて画像評価に携
わっているもの5人で行い一人あたり5点を上限にグリ
ーン、ブルーイッシュグリーンの濁りが少なく彩度が高
い方を高得点として採点し合計点で評価した。 (感度の測定)試料101〜110を連続的に濃度が変
化しているウェッジを介して色温度4800度の白色光
で露光したのち下記に示す現像処理を施し、シアン濃度
1.0を与える点の感度SR1.0を測定した。比較試料1
01のSR1.0と他の試料を比較してより高感度である方
向を正の値として表5に示す。 (鮮鋭度の評価)試料101〜110について白色光で
MTFパターンを通して露光を与え、下記に示す処理を
行ってからシアン画像のMTF値(10サイクル/m
m)を測定し、鮮鋭度を比較した。評価は試料101の
MTF値を1.0としたときの比率(MTF比)で行っ
た。以上の結果をまとめて第5表に示す。
【0126】
【表5】
【0127】第5表に示したとおり、フェノールシアン
カプラーを使用した試料101に対してピロロアゾール
カプラーを使用した試料102〜110ではグリーン、
ブルーイッシュグリーンの再現性が向上している。試料
102、103では試料101に比較して感度が低下し
ているが、本発明のカプラーを含有した試料では感度低
下をせず、鮮鋭度に優れている。また試料102、10
3に対して中間層A、Bを設置して感度が向上している
試料107、108に比較しても本発明のカプラーを使
用した試料は鮮鋭度に優れる。
【0128】本実施例では全て下記の現像処理を施し
た。処理に当たっては試料101の50%を白色光で完
全に露光したものを補充量がタンク容量の3倍になるま
で通した後に使用した。 処理工程 時間 温度 タンク容量 補充量 第一現像 6分 38℃ 12リットル 2200ミリリットル/m2 第二水洗 2分 38℃ 4リットル 7500ミリリットル/m2 反 転 2分 38℃ 4リットル 1100ミリリットル/m2 発色現像 6分 38℃ 12リットル 2200ミリリットル/m2 前漂白 2分 38℃ 4リットル 1100ミリリットル/m2 漂 白 6分 38℃ 12リットル 220ミリリットル/m2 定 着 4分 38℃ 8リットル 1100ミリリットル/m2 第二水洗 4分 38℃ 8リットル 7500ミリリットル/m2 最終リンス 1分 25℃ 2リットル 1100ミリリットル/m2
【0129】各処理液の組成は以下の通りであった。 〔第一現像液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 ニトリロ−N,N,N−トリメチレンホスホン酸 ・5ナトリウム塩 1.5 g 1.5 g ジエチレントリアミン五酢酸・5ナトリウム塩 2.0 g 2.0 g 亜硫酸ナトリウム 30 g 30 g ハイドロキノン・モノスルホン酸カリウム 20 g 20 g 炭酸カリウム 15 g 20 g 重炭酸カリウム 12 g 15 g 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル −3−ピラゾリドン 1.5 g 2.0 g 臭化カリウム 2.5 g 1.4 g チオシアン酸カリウム 1.2 g 1.2 g ヨウ化カリウム 2.0 mg − ジエチレングリコール 13 g 15 g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル pH 9.60 9.60 pHは硫酸又は水酸化カリウムで調整した。
【0130】 〔反転液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 ニトリロ−N,N,N−トリメチレンホスホン酸 タンク液 ・5ナトリウム塩 3.0 g に同じ 塩化第一スズ・2水塩 1.0 g p−アミノフェノール 0.1 g 水酸化ナトリウム 8 g 氷酢酸 15ミリリットル 水を加えて 1000ミリリットル pH 6.00 pHは酢酸又は水酸化ナトリウムで調整した。
【0131】 〔発色現像液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 ニトリロ−N,N,N−トリメチレンホスホン酸 ・5ナトリウム塩 2.0 g 2.0 g 亜硫酸ナトリウム 7.0 g 7.0 g リン酸3ナトリウム・12水塩 36 g 36 g 臭化カリウム 1.0 g − ヨウ化カリウム 90 mg − 水酸化ナトリウム 3.0 g 3.0 g シトラジン酸 1.5 g 1.5 g N−エチル−N−(β−メタンスルホンアミドエチル) −3−メチル−4−アミノアニリン・3/2硫酸・ 1水塩 11 g 11 g 3,6−ジチアオクタン−1,8−ジオール 1.0 g 1.0 g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル pH 11.80 12.00 pHは硫酸又は水酸化カリウムで調整した。
【0132】 〔前漂白〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 エチレンジアミン4酢酸・2ナトリウム塩・2水塩 8.0 g 8.0 g 亜硫酸ナトリウム 6.0 g 8.0 g 1−チオグリセロール 0.4 g 0.4 g ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム付加物 30 g 35 g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル pH 6.30 6.10 pHは酢酸又は水酸化ナトリウムで調整した。
【0133】 〔漂白液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 エチレンジアミン4酢酸・2ナトリウム塩・2水塩 2.0 g 4.0 g エチレンジアミン4酢酸・Fe(III) ・アンモニウム ・2水塩 120 g 240 g 臭化カリウム 100 g 200 g 硝酸アンモニウム 10 g 20 g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル pH 5.70 5.50 pHは硝酸又は水酸化ナトリウムで調整した。
【0134】 〔定着液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 チオ硫酸アンモニウム 80 g タンク液に同じ 亜硫酸ナトリウム 5.0 g 〃 重亜硫酸ナトリウム 5.0 g 〃 水を加えて 1000ミリリットル 〃 pH 6.60 pHは酢酸又はアンモニア水で調整した。
【0135】 〔安定液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン 0.02g 0.03g ポリオキシエチレン−p−モノノニルフェニルエーテル (平均重合度10) 0.3 g 0.3 g ポリマレイン酸(平均分子量 2,000) 0.1 g 0.15g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル pH 7.0 7.0
【0136】(実施例−2) 1)支持体 本実施例で用いた支持体は、下記の方法により作製し
た。市販のポリエチレン−2,6−ナフタレートポリマ
ー100重量部と紫外線吸収剤としてTinuvin P.326(チ
バ・ガイギーCiba-Geigy社製)2重量部とを常法により
乾燥した後、300℃にて溶融後、T型ダイから押し出
し140℃で3.0倍の縦延伸を行い、続いて130℃
で3.0倍の横延伸を行い、さらに250℃で6秒間熱
固定して厚さ90μm のPENフィルムを得た。さら
に、その一部を直径20cmのステンレス巻き芯に巻き付
けて、110℃、48時間の熱履歴を与えた。 2)下塗層の塗設 上記支持体は、その両面にコロナ放電処理、UV放電処
理、さらにグロー放電処理、および火焔処理をした後、
それぞれの面に下記組成の下塗液を塗布して、下塗層を
延伸時高温面側に設けた。コロナ放電処理はピラーPill
ar社製ソリッドステートコロナ処理機6KVA モデルを用
い、30cm幅支持体を20m/分で処理する。このとき、
電流・電圧の読み取り値より、被処理物は0.375KV
・A・分/m2の処理がなされた。処理時の放電周波数
は、9.6KHz 、電極と誘電体ロールのギャップクリア
ランスは、1.6mmであった。又UV放電処理は、75
℃で加熱しながら放電処理した。さらにグロー放電処理
は、円柱電極で3000Wで30秒間照射した。 ゼラチン 3g 蒸留水 25ml ソジウム α−スルホ−ジ−2−エチルヘキシルサクシネート 0.05g ホルムアルデヒド 0.02g サリチル酸 0.1 g ジアセチルセルロース 0.5 g p−クロロフェノール 0.5 g レゾルシン 0.5 g クレゾール 0.5 g (CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH2 0.2 g トリメチロールプロパンのアジリジン3倍モル付加物 0.2 g トリメチロールプロパン−トルエンジイソシアナートの3倍モル付加物 0.2 g メタノール 15ml アセトン 85ml ホルムアルデヒド 0.01g 酢酸 0.01g 濃塩酸 0.01g
【0137】3)バック層の塗設 下塗後の上記支持体の片方の面に、バック層として下記
組成の帯電防止層、磁気記録層、および滑り層を塗設し
た。 3−1)帯電防止層の塗設 3−1−1)導電性微粒子分散液(酸化スズ−酸化アン
チモン複合物分散液)の調製 塩化第二スズ水和物230重量部と三塩化アンチモン2
3重量部をエタノール3000重量部に溶解し、均一溶
液を得た。この溶液に、1Nの水酸化ナトリウム水溶液
を前記溶液のpHが3になるまで滴下し、コロイド状酸
化第二スズと酸化アンチモンの共沈澱を得た。得られた
共沈澱を50℃に24時間放置し、赤褐色のコロイド状
沈澱を得た。
【0138】赤褐色コロイド状沈澱を遠心分離により分
離した。過剰なイオンを除くため、沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を3回繰り返し、過剰
イオンを除去した。過剰イオンを除去したコロイド状沈
澱200重量部を水1500重量部に再分散し、650
℃に加熱した焼成炉に噴霧し、青味ががった平均粒径
0.005μm の酸化スズ−酸化アンチモン複合物の微
粒子粉末を得た。この微粒子粉末の比抵抗は5Ω・cmで
あった。上記の微粒子粉末40重量部と水60重量部の
混合液をpH7.0に調製し、攪拌機で粗分散の後、横
型サンドミル(商品名ダイノミル;WILLYA.BA
CHOFENAG製)で滞留時間が30分になるまで分
散して調製した。この時の二次凝集体の平均粒径は約
0.04μm であった。
【0139】3−1−2)導電性層の塗設 下記の処方による導電性層を乾燥膜厚が0.2μm にな
るように塗布し、115℃で60秒間乾燥した。 3−1−1)で作製の導電性微粒子分散液 20重量部 ゼラチン 2重量部 水 27重量部 メタノール 60重量部 p−クロロフェノール 0.5重量部 レゾルシン 2重量部 ポリオキシエチレン ノニルフェニルエーテル 0.01重量部 得られた導電性膜の抵抗は、108.0(100V) であり、優
れた帯電防止性能を有するものであった。 3−2)磁気記録層の塗設 磁性体Co- 被着γ-Fe2O3(長軸0.14μm 、単軸0.
03μm の針状、比表面積41m2/g、飽和磁化89em
u/g、表面は酸化アルミと酸化珪素でそれぞれFe2O3
2重量%で表面処理されている、保磁力930Oe、Fe+2
/Fe+3比は6/94)1100gを水220g及びポリ
(重合度16)オキシエチレンプロピルトリメトキシシ
ランのシランカップリング剤を150g添加して、オー
プンニーダーで3時間良く混練した。この粗分散した粘
性のある液を70℃で一昼夜乾燥し、水を除去した後、
110℃、1時間加熱して表面処理をした磁気粒子を作
製した。さらに以下の処方で、再びオープンニーダーに
て混練した。
【0140】 上記表面処理済み磁気粒子 1000g ジアセチルセルロース 17g メチルエチルケトン 100g シクロヘキサノン 100g さらに、以下の処方でサンドミル(1/4G)で200
rpm 、4時間微細分散した。 上記混練品 100g ジアセチルセルロース 60g メチルエチルケトン 300g シクロヘキサノン 300g さらにジアセチルセルロースと、硬化剤としてトリメチ
ロールプロパン−トルエンジイソシアナートの3倍モル
付加物をバインダーに対して20wt%添加した。得られ
た液の粘度が約80CPとなるように、等量のメチルエチ
ルケトンとシクロヘキサノンで希釈した。又、塗布は、
上記の導電性層の上にバーコーターで膜厚が1.2μm
となるように行った。磁性体の量は62mg/m2となるよ
うに塗布した。またマット剤としてシリカ粒子(0.3
μm )と研磨剤の酸化アルミ(0.5μm )をそれぞれ
10mg/m2となるように添加した。乾燥は115℃、6
分実施した(乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて
115℃となっている)。X−ライトのステータスMで
ブルーフィルターを用いた時の、磁気記録層のDB の色
濃度の増加分は約0.1であった。また、磁気記録層の
飽和磁化モーメントは4.2emu/m2、保磁力923Oe、
角形比は65%であった。
【0141】3−3)滑り層の調製 下記処方液を化合物の固形分塗布量が下記のようになる
ように塗布し、110℃で5分乾燥させて滑り層を得
た。 ジアセチルセルロース 25mg/m2 C6H13CH(OH)C10H20COOC40H81 (化合物a) 6mg/m2 C50H101O(CH2CH2O)16H (化合物b) 9mg/m2 なお、化合物a/化合物b(6:9)は、キシレンとプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル(容量比1:
1)溶媒中で105℃に加熱、溶解し、この液を10倍
量のプロピレングリコールモノメチルエーテル(25
℃)に注加して微細分散液とした。さらに5倍量のアセ
トン中で希釈した後、高圧ホモジナイザー(200気
圧)で再分散し、分散物(平均粒径0.01μm )にし
てから添加して用いた。得られた滑り層の性能は、動摩
擦係数0.06(5mmφのステンレス硬球、荷重100
g、スピード6cm/minute) 、静摩擦係数0.07(ク
リップ法)であり、優れた特性を有する。また後述する
乳剤面との滑り特性も動摩擦係数0.12であった。
【0142】4)感材層の塗設 次に、前記で得られたバック層の反対側に、実施例−1
の試料101〜110と同一の各層を重層塗布し、それ
ぞれ試料201〜210とした。
【0143】試料201〜210を実施例−1と同様に
露光・現像処理したところ、実施例−1同様、良好な結
果が得られた。
【0144】(実施例−3)下塗りを施した三酢酸セル
ロースフィルム支持体上に、下記に示すような組成の各
層を重層塗布し、多層カラー感光材料である試料301
を作製した。 (感光層組成)使用する素材の主なものは下記のように
分類されている; ExC:シアンカプラー UV :紫外線吸収剤 ExM:マゼンタカプラー HBS:高沸点有機溶剤 ExY:イエローカプラー H :ゼラチン硬化剤 ExS:増感色素 各成分に対応する数字は、g/m2単位で表した塗布量を
示し、ハロゲン化銀については、銀換算の塗布量を示
す。ただし増感色素については、同一層のハロゲン化銀
1モルに対する塗布量をモル単位で示す。
【0145】(試料301) 第1層(ハレーション防止層) 黒色コロイド銀 銀 0.09 ゼラチン 1.60 ExM−1 0.12 ExF−1 2.0×10-3 固体分散染料ExF−2 0.030 固体分散染料ExF−3 0.040 HBS−1 0.15 HBS−2 0.02
【0146】 第2層(中間層) 沃臭化銀乳剤M 銀 0.065 ExC−2 0.04 ポリエチルアクリレートラテックス 0.20 ゼラチン 1.04
【0147】第3層(低感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−1 銀 0.30 沃臭化銀乳剤Em−2 銀 0.20 ExS−1 6.9×10-5 ExS−2 1.8×10-5 ExS−3 3.1×10-4 ExC−1 0.17 ExC−3 0.030 ExC−4 0.10 ExC−5 0.020 ExC−6 0.010 Comp−2 0.025 HBS−1 0.10 ゼラチン 0.87
【0148】第4層(中感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−3 銀 0.80 ExS−1 3.5×10-4 ExS−2 1.6×10-5 ExS−3 5.1×10-4 ExC−1 0.13 ExC−2 0.060 ExC−3 0.0070 ExC−4 0.090 ExC−5 0.015 ExC−6 0.0070 Comp−2 0.023 HBS−1 0.10 ゼラチン 0.75
【0149】第5層(高感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−4 銀 1.60 ExS−1 2.4×10-4 ExS−2 1.0×10-4 ExS−3 3.4×10-4 ExC−1 0.10 ExC−3 0.045 ExC−6 0.020 ExC−7 0.010 Comp−2 0.050 HBS−1 0.22 HBS−2 0.050 ゼラチン 1.10
【0150】第6層(中間層) Comp−1 0.090 固体分散染料ExF−4 0.030 HBS−1 0.050 ポリエチルアクリレートラテックス 0.15 ゼラチン 1.10
【0151】第7層(低感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−5 銀 0.15 沃臭化銀乳剤Em−6 銀 0.10 沃臭化銀乳剤Em−7 銀 0.10 ExS−4 3.0×10-5 ExS−5 2.1×10-4 ExS−6 8.0×10-4 ExM−2 0.33 ExM−3 0.086 ExY−1 0.015 HBS−1 0.30 HBS−3 0.010 ゼラチン 0.73
【0152】第8層(中感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−8 銀 0.80 ExS−4 3.2×10-5 ExS−5 2.2×10-4 ExS−6 8.4×10-4 ExC−8 0.010 ExM−2 0.10 ExM−3 0.025 ExY−1 0.018 ExY−4 0.010 ExY−5 0.040 HBS−1 0.13 HBS−3 4.0×10-3 ゼラチン 0.80
【0153】第9層(高感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−9 銀 1.30 ExS−4 3.7×10-5 ExS−5 8.1×10-5 ExS−6 3.2×10-4 ExC−1 0.010 ExM−1 0.020 ExM−4 0.025 ExM−5 0.040 Comp−3 0.040 HBS−1 0.25 ポリエチルアクリレートラテックス 0.15 ゼラチン 1.33
【0154】第10層(イエローフィルター層) 黄色コロイド銀 銀 0.015 Comp−1 0.16 固体分散染料ExF−5 0.060 固体分散染料ExF−6 0.060 油溶性染料ExF−7 0.010 HBS−1 0.60 ゼラチン 0.60
【0155】第11層(低感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−9 銀 0.10 沃臭化銀乳剤Em−10 銀 0.05 ExS−7 8.6×10-4 ExC−8 7.0×10-3 ExY−1 0.050 ExY−2 0.22 ExY−3 0.50 ExY−4 0.020 Comp−2 0.10 Comp−3 4.0×10-3 HBS−1 0.28 ゼラチン 1.20
【0156】第12層(高感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤Em−11 銀 1.00 ExS−7 4.0×10-4 ExY−2 0.10 ExY−3 0.10 ExY−4 0.010 Comp−2 0.10 Comp−3 1.0×10-3 HBS−1 0.070 ゼラチン 0.70
【0157】第13層(第1保護層) UV−1 0.19 UV−2 0.075 UV−3 0.065 HBS−1 5.0×10-2 HBS−4 5.0×10-2 ゼラチン 1.8
【0158】第14層(第2保護層) 沃臭化銀乳剤Em−13 銀 0.10 H−1 0.40 B−1(直径 1.7 μm) 5.0×10-2 B−2(直径 1.7 μm) 0.15 B−3 0.05 Compー4 0.20 ゼラチン 0.70
【0159】更に、各層に適宜、保存性、処理性、圧力
耐性、防黴・防菌性、帯電防止性及び塗布性をよくする
ために WS−1ないしWS−6、B−3ないしB−
6、FS−1ないしFS−17及び、鉄塩、鉛塩、金
塩、白金塩、パラジウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩
が含有されている。
【0160】
【表6】
【0161】表6において、 (1)乳剤Em−10〜Em−12は特開平2-191938号
の実施例に従い、二酸化チオ尿素とチオスルフォン酸を
用いて粒子調製時に還元増感されている。 (2)乳剤Em−1〜Em−9は特開平3-237450号の実
施例に従い、各感光層に記載の分光増感色素とチオシア
ン酸ナトリウムの存在下に金増感、硫黄増感とセレン増
感が施されている。 (3)平板状粒子の調製には特開平1-158426号の実施例
に従い、低分子量ゼラチンを使用している。 (4)平板状粒子には特開平3-237450号に記載されてい
るような転位線が高圧電子顕微鏡を用いて観察されてい
る。 (5)乳剤Em−12は特開昭60-143331 号に記載され
ている内部高ヨードコアーを含有する二重構造粒子であ
る。
【0162】有機固体分散染料の分散物の調製 下記、ExF−2を次の方法で分散した。即ち、水21.7
ミリリットル及び5%水溶液のp−オクチルフェノキシエトキ
シエトキシエタンスルホン酸ソーダ3ミリリットル並びに5%
水溶液のp−オクチルフェノキシポリオキシエチレンエ
−テル(重合度10) 0.5gとを 700ミリリットルのポットミル
に入れ、染料ExF−2を 5.0gと酸化ジルコニウムビ
−ズ(直径1mm) 500ミリリットルを添加して内容物を2時間
分散した。この分散には中央工機製のBO型振動ボール
ミルを用いた。分散後、内容物を取り出し、12.5%ゼラ
チン水溶液8gに添加し、ビーズを濾過して除き、染料
のゼラチン分散物を得た。染料微粒子の平均粒径は0.44
μmであった。
【0163】同様にして、ExF−3、ExF−4及び
ExF−6の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径
はそれぞれ、0.24μm、0.45μm、0.52μmであった。
ExF−5は欧州特許出願公開(EP)第549,489A号明細
書の実施例1に記載の微小析出(Microprecipitation)
分散方法により分散した。平均粒径は0.06μmであっ
た。
【0164】
【化37】
【0165】
【化38】
【0166】
【化39】
【0167】
【化40】
【0168】
【化41】
【0169】
【化42】
【0170】
【化43】
【0171】
【化44】
【0172】
【化45】
【0173】
【化46】
【0174】
【化47】
【0175】
【化48】
【0176】
【化49】
【0177】
【化50】
【0178】
【化51】
【0179】
【化52】
【0180】以上の様に作成した試料101の第3、
4、5層のシアンカプラーExC−1、4を表−7に示
すとおりに変更した以外は同様に試料302〜307を
作成した。なお各層のピロロアゾールカプラーの添加量
は変更前のExC−1、4を合計したモル数の50%に
統一した。
【0181】
【表7】
【0182】試料301〜307について白色光でMT
Fパターンを通して露光を与え、特開平2−90151
号に記載の現像処理を行ってからシアン画像のMTF値
(10サイクル/mm)を測定し、鮮鋭度を比較した。
評価は試料301のMTF値を1.0としたときの比率
(MTF比)で行った結果、本発明の試料は鮮鋭度に優
れていた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上の少なくとも一層に下記一般式
    (1)で表されるカプラーを含有することを特徴とする
    ハロゲン化銀カラー感光材料。一般式(1) 【化1】 一般式(1)中、Cp1 は発色現像薬の酸化体と反応し
    て処理中に写真感光材料から流出する色素を形成するこ
    とのできるカプラー残基を表す。TはCp1 と発色現像
    薬酸化体とがカップリングすることによりCp1 から放
    出され、引き続きCp2 部分を放出することのできる連
    結基を表し、nは0または1を表す。Cp2 は下記一般
    式で表されるカプラー残基を表す。 【化2】 一般式(2−1)〜(2−5)においてR1 およびR2
    は、それぞれハメットの置換基定数σp 値が0.2 以上1.
    0 以下の電子吸引性基を表し、R3 は置換基を表す。一
    般式(2−1)、(2−2)、(2−4)においてXは
    水素原子または発色現像薬の酸化体とのカップリングに
    より離脱し得る基を表す。一般式(2−3)、(2−
    5)においてGは水素原子または写真処理時の加水分解
    もしくは分子内求核置換反応により離脱し得るブッロキ
    ング基を表す。
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