JPH0987258A - オキサゾリン類、その製造方法およびそれを用いる不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ニトリル誘導体から容易に導かれる２−メチ
ルオキサゾリン類を原料として１工程で収率よく製造し
得、安定であり、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エス
テル類とを銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類を製造する際の不斉配位子として用いる
ことのできる新たな化合物を提供する。 【解決手段】一般式（１）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、オキサゾリン類、
その製造方法、およびそれを用いる不斉シクロプロパン
カルボン酸類の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】不斉シクロプロパンカルボン酸類は、医
薬や農薬などの中間体として有用であり、オレフィン類
とジアゾ酢酸エステル類とを、銅塩と不斉配位子との存
在下に反応させて製造されることが知られている。従来
よりかかる不斉配位子として、光学活性メチレンビスオ
キサゾリン類が提案されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．５０，ｐｐ
７３７３−７３７６，１９９１）。しかしながら、メチ
レンビスオキサゾリン類は、不安定で重合し易いばかり
か、マロノニトリルを原料とする数工程を経て低収率で
製造されるため（Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ
Ａｃｔａ，Ｖｏｌ．７４，ｐ２，１９９１）、不斉配
位子としてかかるメチレンビスオキサゾリン類を用いる
不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法は、工業的
に有利であるとは言えなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、ニ
トリル誘導体から容易に導かれる２−メチルオキサゾリ
ン類を原料として１工程で収率よく製造し得、安定であ
り、しかもオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅
塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン酸
類を製造する際の不斉配位子として用いることのできる
新たな化合物を開発すべく鋭意検討した結果、本発明に
至った。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式（１） （式中、Ｘは１−ヒドロキシ−１−シクロアルキル基、
１−ヒドロキシ−１−シクロアラルキル基または１−ヒ
ドロキシ−１−シクロアリール基を、Ｒ¹ は水素原子、
または置換基を有していてもよいアリール基を、Ｒ² 、
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵は水素原子、置換基を有していてもよ
いアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基
または置換基を有していてもよいアリール基をそれぞれ
示す。ただし、Ｒ² とＲ³ が同一であることはない。）
で示されるオキサゾリン類を提供するものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明のオキサゾリン類におい
て、Ｒ¹ は水素原子、または置換基を有していてもよい
アリール基を、置換基Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は水素原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアラルキル基、または置換基を有してい
てもよいアリール基を、それぞれ示すものであるが、か
かるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２，３，４−
トリメチル−３−ペンチル基、２，４−ジメチル−３−
ペンチル基などが、アラルキル基としては、例えばベン
ジル基、２−フェニルエチル基、２−ナフチルエチル
基、ジフェニルメチル基などが、アリール基としては、
例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フリル
基、チオフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ト
リル基などがそれぞれ例示され、これらの置換基がさら
に置換基で置換されている場合の置換基としては、クロ
ル、ブロムなどのハロゲン原子、メチル基、エチル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ア
ミル基、ｎ−ヘキシル基などの低級アルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基
などの低級アルコキシル基、フェノキシ基などのアリー
ルオキシ基、ｎ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチオ基な
どの低級アルキルチオ基、フェニルチオ基などのアリー
ルチオ基、ニトロ基、水酸基などが例示される。

【０００６】また、置換基Ｘは、１−ヒドロキシ−１−
シクロアルキル基、１−ヒドロキシ−１−シクロアラル
キル基または１−ヒドロキシ−１−シクロアリール基を
示すが、かかる１−ヒドロキシ−１−シクロアルキル基
としては、例えば１−ヒドロキシ−１−シクロプロピル
基、１−ヒドロキシ−１−シクロヘキシル基、１−ヒド
ロキシ−１−シクロヘプチル基などが、１−ヒドロキシ
−１−シクロアラルキル基としては、例えば９−ヒドロ
キシ−９−アントロニル基、９−ヒドロキシ−９−フェ
ナントリル基などが、１−ヒドロキシ−１−シクロアリ
ール基としては、例えば１−ヒドロキシ−１−インデニ
ル基、９−ヒドロキシ−９−フルオレニル基、１−ヒド
ロキシ−１−シクロペンタシクロオクテニル基などがそ
れぞれ挙げられる。

【０００７】かかるオキサゾリン類は文献未記載の化合
物であって、環状ケトン類と一般式（２） （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ はそれぞれ前記
と同じ意味を示す。）で示される２−メチルオキサゾリ
ン類とを強塩基類の存在下に反応させることによって製
造することができる。

【０００８】環状ケトン類としては、シクロヘキサノ
ン、シクロオクタノンなどの環状アルキルケトン類、９
−フルオレノンなどの環状アリールケトン類、またはＤ
−カンファー、Ｌ−カンファー、（−）−メントン、
（＋）−メントン、（−）−ノルカンファー、（＋）−
ノルカンファー、（−）−チュジョン、（＋）−チュジ
ョンなどの光学活性環状ケトン類などが例示される。

【０００９】２−メチルオキサゾリン類としては、例え
ば（４Ｒ）−２−メチル−４−フェニルオキサゾリン、
（４Ｒ）−２−メチル−４−フェニルメチルオキサゾリ
ン、（４Ｒ）−２−メチル−４−イソプロピルオキサゾ
リン、（４Ｒ）−２−フェニルメチル−４−フェニルオ
キサゾリン、（４Ｒ）−２−フェニルメチル−４−フェ
ニルメチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−フェニルメチ
ル−４−イソプロピルオキサゾリン、および上記各化合
物における（４Ｒ）が（４Ｓ）に相当する化合物などが
挙げられ、その使用量は環状ケトン類に対して通常は
０．５〜１０モル倍、好ましくは０．９〜３モル倍の範
囲である。

【００１０】かかる２−メチルオキサゾリン類はいずれ
も公知であって、例えば、アセトニトリル、フェニルア
セトニトリルなどのニトリル誘導体と、（Ｒ）−（−）
−フェニルグリシノール、Ｌ−フェニルアラニノール、
Ｌ−ノルエフェドリンなどの光学活性２−アミノエタノ
ールとを、塩化亜鉛などのルイス酸の存在下に反応させ
ることによって容易に製造し得る。

【００１１】強塩基類としては、例えばｔ−ブチルリチ
ウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｎ−ブチルリチウムな
どのアルキルリチウム化合物、リチウムジイソプロピル
アミド、リチウムアミド、ナトリウムアミドなどのアル
カリ金属アミド化合物、ナトリウムメトキシド、カリウ
ム−ｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドな
どが挙げられ、その使用量は２−メチルオキサゾリン類
に対して通常は０．８〜１０モル倍、好ましくは１〜
１．５モル倍の範囲である。

【００１２】反応に際しては、通常は溶媒が用いられ、
かかる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエト
キシメタンなどのエーテル系溶媒、ヘキサンなどの炭化
水素系溶媒など、反応に不活性な溶媒が挙げられる。こ
れらの溶媒はそれぞれ単独、あるいは混合して用いら
れ、その使用量は、通常は環状ケトン類に対して２〜２
００重量倍の範囲である。

【００１３】反応に際しては、例えば溶媒中で環状ケト
ン類と２−メチルオキサゾリン類と強塩基類とを混合す
ればよく、反応温度は、通常は−１００〜１０℃、好ま
しくは−９０〜０℃の範囲である。

【００１４】反応後、反応混合物から通常の方法、例え
ば反応混合物を塩化アンモニウム水溶液と混合したの
ち、例えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、
ジクロロメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて抽出
処理し、得られた有機層を濃縮すれば、目的のオキサゾ
リン類を得る。さらに、得られたオキサゾリン類を、カ
ラムクロマトグラフィーや、蒸留操作によって精製して
もよい。

【００１５】かくして得られるオキサゾリン類として
は、例えば、（４Ｒ）−２−（（１Ｒ，２Ｓ，５Ｒ）−
メントール−１−メチレニル）−４−フェニルオキサゾ
リン、（４Ｒ，５Ｓ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファ
ノール２−メチレニル）４−メチル−５−フェニルオキ
サゾリン、（４Ｒ）−２−（９−ヒドロキシ−９−メチ
レニル）−４−ベンジルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
（（１Ｒ，２Ｓ，５Ｒ）−メントール−１−メチレニ
ル）−４−フェニルオキサゾリン、（４Ｓ）−２−
（（２Ｓ）−２−カンファノール−２−メチレニル）−
４−ｔ−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−（（２
Ｒ）−２−カンファノール−２−メチレニル）−４−ｔ
−ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−〔（（１Ｒ，２
Ｓ，５Ｒ）−メントール−１−イル）−（フェニル−
（Ｒ）−メチル）〕−４−オキサゾリン、（４Ｒ，５
Ｓ）−２−〔（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−イ
ル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−メチル−５−
フェニルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−〔（９−ヒドロ
キシ−９−フルオレニル）−フェニル−（Ｒ）−メチ
ル〕−４−ベンジルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−
〔（（１Ｒ，Ｓ，５Ｒ）−メントール−１−イル）−フ
ェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−フェニルオキサゾリ
ン、（４Ｓ）−２−〔（（２Ｓ）−２−カンファノール
−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−ｔ−
ブチルオキサゾリン、（４Ｒ）−２−〔（（２Ｒ）−２
−カンファノール−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メ
チル〕−４−ｔ−ブチルオキサゾリンなどが挙げられ
る。

【００１６】かかるオキサゾリン類は、いずれも安定で
あって、不斉配位子として使用でき、例えば、かかるオ
キサゾリン類と銅塩との存在下に、一般式（３） （式中、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有して
いてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよ
いアリール基を示す。ただし、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹
が同時に同一であることはない。）で示されるオレフィ
ン類と一般式（４） Ｎ₂ ＣＨＣＯＯＲ¹⁰ （４） （式中、Ｒ¹⁰は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを反応させることによって、一般式
（５） （式中、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰はそれぞれ前期
と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類を製造することができる。

【００１７】かかるオレフィン類およびジアゾ酢酸エス
テル類における置換基Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰に
おいて、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアラルキル基または置換基を有して
いてもよいアリール基としては、前記の置換基Ｒ² 、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ として示したものと同様の置換基がそれ
ぞれ例示される。

【００１８】ジアゾ酢酸エステル類としては、例えばジ
アゾ酢酸のエチルエステル、イソプロピルエステル、ｎ
−プロピルエステル、ｔ−ブチルエステル、イソブチル
エステル、ｎ−ブチルエステル、ベンジルエステル、シ
クロヘキシルエステル、ｌ−メンチルエステル、ｎ−ペ
ンチルエステル、ネオペンチルエステル、ｎ−ヘキシル
エステル、ｎ−ヘプチルエステルなどが挙げられる。

【００１９】オレフィン類としては、例えばイソブチレ
ン、２−メチル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテ
ン、３，３−ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４
−メチル−１−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、
１−ヘキセン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレ
ン、２，５−ジメチル−２，４−ヘキサジエン、１−メ
チル−１−シクロヘキセン、ビニルシクロペンタン、ス
チレン、４−フェニル−１−ブテンなどが挙げられ、そ
の使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．５
〜３０モル倍の範囲である。

【００２０】オキサゾリン類の使用量は、ジアゾ酢酸エ
ステル類に対して通常は０．００１〜２モル倍、好まし
くは０．０１〜１モル倍の範囲である。

【００２１】銅塩としては、例えばトリフルオロメタン
スルホン酸銅（Ｉ）、酢酸銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、塩
化銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）などの１価の銅塩
や、上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に相当
する２価の銅塩などが挙げられ、その使用量はオキサゾ
リン類に対して通常は０．０１〜２モル倍、好ましくは
０．１〜１モル倍の範囲である。

【００２２】反応は、オレフィン類の種類によっては無
溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行われ、か
かる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジエトキ
シメタン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサンなどの炭化水
素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒
など、反応に不活性な溶媒が挙げらる。かかる溶媒の使
用量は、ジアゾ酢酸エステル類に対して通常は２〜２０
０重量倍の範囲である。

【００２３】反応に際しては、例えば溶媒中でオレフィ
ン類とオキサゾリン類と銅塩とを混合させたのち、ジア
ゾ酢酸エステル類を加えればよい。反応温度は、通常は
−５０〜２００℃、好ましくは０〜５０℃の範囲であ
る。

【００２４】なお、銅塩として２価の銅塩を用いる場
合、ジアゾ酢酸エステル類を加える前にヒドラジン化合
物を加えておけば、オレフィン類とジアゾ酢酸エステル
類との反応速度が速くなるため、好ましい。かかるヒド
ラジン化合物としては、例えばフェニルヒドラジンなど
が挙げられ、その使用量は銅塩に対して通常は０．８〜
１．２モル倍の範囲である。

【００２５】反応終了後、反応混合物から通常の方法、
例えば該混合物と塩化アンモニウム水溶液とを混合した
のち、例えばトルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテ
ル、ジクロロメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて
抽出処理し、得られた有機層を濃縮することによって、
目的の不斉シクロプロパンカルボン酸類を得ることがで
きる。

【００２６】かくして得られる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類としては、例えば１−Ｓ−エトキシカルボニル
−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン、１−Ｒ−エトキシ
カルボニル−２，２−ジメチルシクロプロパン、１−Ｒ
−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロプロパ
ン、１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチ
ル−１−プロペニル）シクロプロパン、１−Ｓ−エトキ
シカルボニル−２−Ｓ−ｔ−ブチルシクロプロパン等が
挙げられる。

【００２７】

【発明の効果】本発明のオキサゾリン類は、２−メチル
オキサゾリン類から１工程で収率よく製造し得、安定で
あり、加えて、オレフィン類とジアゾ酢酸エステル類と
を銅塩の存在下に反応させる不斉シクロプロパンカルボ
ン酸類の製造において、不斉配位子として使用できる。

【００２８】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明がこれによって限定されるものではな
い。

【００２９】実施例１ （Ｒ）−（−）−フェニルグリシノール１０ｇ（７２．
９ｍｍｏｌ）をアセトニトリル３００ｇに溶解し、この
溶液にビーズ状モレキュラーシーブ４Ａ（２０ｇ）を加
え、３０分間窒素気流下で攪拌しのち、塩化亜鉛１０ｇ
（７３．４ｍｍｏｌ）を加えて加熱還流下、さらに７時
間攪拌した。反応後の反応混合物を濾過してモレキュラ
ーシーブを除去し、モレキュラーシーブをアセトニトリ
ル（５０ｇ×２）で洗浄した洗液と濾液とを合わせ、飽
和炭酸カルシウム水溶液４００ｇを加えて３０分間攪拌
した。攪拌後の濾液を濾過して、析出した固形物を除去
したのち、濃縮し、残渣を得た。この残渣を水４００ｇ
に溶解したのち、酢酸エチル３００ｇで２回抽出処理し
て、得られた有機層を合わせ、水１００ｇで水洗後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥したのち濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフ（クロロホルム：アセトン
＝２０：１）処理して精製し、（４Ｒ）−２−メチル−
４−フェニルオキサゾリン９．２１ｇ（５７．２ｍｍｏ
ｌ）を得た（収率７８．５％）。

【００３０】ジイソプロピルアミン０．５ｇ（４．９４
ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、−
７８℃にて攪拌しながらｎ−ブチルリチウム０．５ｇ
（４．９４ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（３．１ｍｌ）を
滴下したのち、さらに−７８℃で５分間攪拌した。その
後−１５℃まで昇温し、１５分間攪拌したのち、−７８
℃に冷却して、先に得た（４Ｒ）−２−メチル−４−フ
ェニルオキサゾリン０．７９５ｇ（４，９４ｍｍｏｌ）
のテトラヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を滴下した。その
後、−７８℃のまま３０分間攪拌したのち、Ｌ−カンフ
ァー０．７５２ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロ
フラン溶液（５ｍｌ）を滴下し、−７８℃で１５分間攪
拌したのち、さらに−１０℃で３０分間攪拌した。反応
後の反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液２ｍｌを
加え、５分間攪拌後、水２００ｍｌを加えたのち、クロ
ロホルム１５０ｇで２回抽出操作した。得られた有機層
を合わせ、水５０ｇで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥したのち、濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマ
ト処理（クロロホルム：アセトン＝５０：１）して精製
し、（４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファノール−
２−メチレニル）−４−フェニルオキサゾリン １．２
９ｇ（４．１２ｍｍｏｌ）を得た（（４Ｒ）−２−メチ
ル−４−フェニルオキサゾリンからの収率８３．５
％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ＴＭＳ） δ０．８５（Ｓ，３Ｈ），０．８６（Ｓ，３Ｈ），１．
１７（Ｓ，３Ｈ），１．３８−１．５７（ｍ，４Ｈ），
１．６０−１．７９（ｍ，２Ｈ）２．１０−２．２４
（ｍ，１Ｈ），２．５０（ｄ，１Ｈ），２．６７（ｄ，
１Ｈ），４．０４（ｔ，１Ｈ），４．５４（Ｓ，１
Ｈ），４．５６（ｔ，１Ｈ），５．１７（ｔ，１Ｈ），
７．１８−７．３６（ｍ，５Ｈ）

【００３１】実施例２ Ｌ−カンファー０．７５２ｇに代えて（−）−メントン
０．７２６ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実
施例１と同様に操作して、（４Ｒ）−２−（（１Ｒ，２
Ｓ，５Ｒ）−メントール−１−メチレニル）−４−フェ
ニルオキサゾリン１．３２ｇ（４．１８ｍｍｏｌ）を得
た（（４Ｒ）−２−メチル−４−フェニルオキサゾリン
からの収率８４．７％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ＴＭＳ） δ０．８０−１．００（ｍ，９Ｈ），１．００−１．１
５（ｍ，３Ｈ），１．４２＝１．６０（ｍ，２Ｈ），
１．６５−１．９０（ｍ，３Ｈ），２．００−２．２２
（ｍ，１Ｈ），２．３１（ｄ，１Ｈ），２．９５（ｄ，
１Ｈ），３．４５（Ｓ，１Ｈ），４．０６（ｔ，１
Ｈ），４．６２（ｔ，１Ｈ），５．２２（ｔ，１Ｈ），
７．２０−７．４０（ｍ，５Ｈ）

【００３２】実施例３ Ｌ−カンファー０．７５２ｇに代えてＤ−カンファー
０．７５２ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実
施例１と同様に操作して、（４Ｒ）−２−（（２Ｓ）−
２−カンファノール−２−メチレニル）−４−フェニル
オキサゾリン１．３４ｇ（４．２８ｍｍｏｌ）を得た
（（４Ｒ）−２−メチル−４−フェニルオキサゾリンか
らの収率８６．６％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ＴＭＳ） δ０．９０（Ｓ，３Ｈ），０．９２（Ｓ，３Ｈ），１．
１５（Ｓ，３Ｈ），１．２８−１．４１（ｍ，４Ｈ），
１．６２−１．８０（ｍ，２Ｈ），２．１５−２．２５
（ｍ，１Ｈ），２．５７（ｑ，２Ｈ），４．０５（ｔ，
１Ｈ），４．６０（ｔ，１Ｈ），４．８５（Ｓ，１
Ｈ），５．２０（ｔ，１Ｈ），７，１７−７．４０
（ｍ，５Ｈ）

【００３３】実施例４ Ｌ−カンファー０．７５２ｇに代えて９−フルオレノン
０．８９０ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実
施例１と同様に操作して、（４Ｒ）−２−（９−ヒドロ
キシ−９−フルオレニルメチル）−４−フェニルオキサ
ゾリン１．３７ｇ（４．０２ｍｍｏｌ）を得た（（４
Ｒ）−２−メチル−４−フェニルオキサゾリンからの収
率８１．３％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ＴＭＳ） δ２．１５（Ｓ，２Ｈ），３．００（ｑ，２Ｈ），４．
０５（ｔ，１Ｈ），４．６０（ｔ，１Ｈ），５．３０
（ｔ，１Ｈ），５．６４（Ｓ，１Ｈ），７．２０−７．
４０（ｍ，９Ｈ），７．６０−７．７０（ｍ，４Ｈ）

【００３４】実施例５ （Ｒ）−（−）−フェニルグリシノール１０ｇ（７２．
９ｍｍｏｌ）とフェニルアセトニトリル８．５４ｇ（７
２．９ｍｍｏｌ）とをモノクロルベンゼン３００ｇに溶
解し、この溶液にビーズ状モレキュラーシーブ４Ａ（２
０ｇ）を加え、３０分間窒素気流下で攪拌しのち、塩化
亜鉛１０ｇ（７３．４ｍｍｏｌ）を加えて加熱還流下、
さらに７時間攪拌した。反応後の反応混合物を濾過して
モレキュラーシーブを除去し、モレキュラーシーブをア
セトニトリル（５０ｇ×２）で洗浄した洗液と濾液とを
合わせ、この濾液に飽和炭酸カルシウム水溶液４００ｇ
を加えて３０分間攪拌した。攪拌後の濾液を濾過して、
析出した固形物を除去したのち、濃縮し、残渣を得た。
この残渣を水４００ｇに溶解したのち、酢酸エチル３０
０ｇで２回抽出処理して、得られた有機層を合わせ、水
１００ｇで水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（ク
ロロホルム：アセトン＝２０：１）処理して精製し、
（４Ｒ）−２−フェニルメチル−４−フェニルオキサゾ
リン１２．６６ｇ（５３．４ｍｍｏｌ）を得た（収率７
３．３％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，ＴＭＳ） δ３．７３（Ｓ，２Ｈ），４．０８（ｔ，１Ｈ），４．
５９（ｔ，１Ｈ），５．１７（ｔ，１Ｈ），７．２０−
７．４０（ｍ，１０Ｈ）

【００３５】ジイソプロピルアミン０．５ｇ（４．９４
ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、−
７８℃にて攪拌しながらｎ−ブチルリチウム０．５ｇ
（４．９４ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液（３．１ｍｌ）を
滴下したのち、さらに−７８℃で５分間攪拌した。その
後−１５℃まで昇温し、１５分間攪拌したのち、−７８
℃に冷却して、先に得た（４Ｒ）−２−フェニルメチル
−４−フェニルオキサゾリン１．１７ｇ（４，９４ｍｍ
ｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を滴下し
た。その後、−７８℃のまま３０分間攪拌したのち、Ｌ
−カンファー０．７５２ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン溶液（５ｍｌ）を滴下し、−７８℃で１
５分間攪拌したのち、さらに−１０℃で３０分間攪拌し
た。反応後の反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液
２ｍｌを加え、５分間攪拌後、水２００ｍｌを加えたの
ち、クロロホルム１５０ｇで２回抽出操作した。得られ
た有機層を合わせ、水５０ｇで洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥したのち、濃縮し、得られた残渣をシリカゲ
ルクロマト処理（クロロホルム：アセトン＝５０：１）
して精製し、（４Ｒ）−２−〔（（２Ｒ）−２−カンフ
ァノール−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−
４−フェニルオキサゾリン １．２５ｇ（３．２１ｍｍ
ｏｌ）を得た（（４Ｒ）−２−フェニルメチル−４−フ
ェニルオキサゾリンからの収率８３．５％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，ＴＭＳ） δ０．６１（Ｓ，３Ｈ），０．７２（Ｓ，３Ｈ），０．
７５（Ｓ，３Ｈ），１．００−１．３０（ｍ，２Ｈ），
１．４０−１．６０（ｍ，２Ｈ），１．６５−１．７５
（ｍ，１Ｈ），１．８５−１．９０（ｍ，１Ｈ），２．
０５−２．２０（ｍ，１Ｈ），３．５２（Ｓ，１Ｈ），
３．６５（ｔ，１Ｈ），４．３６（ｔ，１Ｈ），５．５
０（ｔ，１Ｈ），５．７３（Ｓ，１Ｈ），６．９０−
６．９５（ｍ，２Ｈ），７．００−７．２０（ｍ，６
Ｈ），７．３５−７．４６（ｍ，２Ｈ）

【００３６】実施例６ Ｌ−カンファーに代えてＤ−カンファーを用いて実施例
５と同様に操作して、（４Ｒ）−２−〔（（２Ｓ）−２
−カンファノール−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メ
チル〕−４−フェニルオキサゾリン １．４６ｇ（３．
７４ｍｍｏｌ）を得た（（４Ｒ）−２−フェニルメチル
−４−フェニルオキサゾリンからの収率７５．８％）。 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，ＴＭＳ） δ０．８１（Ｓ，３Ｈ），０．８８（Ｓ，３Ｈ），１．
０６（Ｓ，３Ｈ），１．０８−１．１８（ｍ，１Ｈ），
１．２５−１．４５（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．９０
（ｍ，４Ｈ），３．８６（ｔ，１Ｈ），３．９０（Ｓ，
１Ｈ），４．６０（ｔ，１Ｈ），５．２０（ｔ，１
Ｈ），５．２５（Ｓ，１Ｈ），７．１０−７．１５
（ｍ，２Ｈ），７．２０−７．３８（ｍ，６Ｈ），７．
５７−７．６５（ｍ，２Ｈ）

【００３７】実施例７ トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）１８．０ｍｇ
（０．０５ｍｍｏｌ）と（４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２
−カンファノール−２−メチレニル）−４−フェニルオ
キサゾリン７８．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）とをジク
ロロメタン３ｇに溶解し、２５℃で１５分間攪拌し、次
いで、この溶液にフェニルヒドラジン５μｌ（０．０５
ｍｍｏｌ）加えてさらに２５℃で５分間攪拌したのち、
２，５−ジメジル−２，４−ヘキサジエン１．１０ｇ
（１０ｍｍｏｌ）を加えて２５℃で１０分間攪拌した。
次いで２５℃、攪拌下、ジアゾ酢酸エチルエステル０．
１１４ｇ（１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２ｍ
ｌ）を２時間かけて滴下し、２５℃でさらに３時間攪拌
した。攪拌後、反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲル
クロマトグラフ処理（ヘキサン：酢酸エチル＝３０：
１）して、トランス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２
−Ｒ−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパン
１２８．６ｍｇ（０．６５６ｍｍｏｌ）（収率６５．５
％、４６．５％ｅｅ）とシス−１−Ｒ−エトキシカルボ
ニル−２−Ｓ−（２−メチル−１−プロペニル）シクロ
プロパン５５．３ｍｇ（０．２８２ｍｍｏｌ）（収率２
８．２％、３７．９％ｅｅ）とを得た。

【００３８】実施例８ （４Ｒ）−２（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−メ
チレニル）−４−フェニルオキサゾリン７８．３ｍｇに
代えて、（４Ｒ）−２−（（１Ｒ，２Ｓ，５Ｒ）−メン
トール−１−メチレニル）−４−フェニルオキサゾリン
７８．８ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を用いて、実施例７
と同様に操作して、トランス−１−Ｓ−エトキシカルボ
ニル−２−Ｓ−（２−メチル−１−プロペニル）シクロ
プロパン１２６．８ｍｇ（０．６４７ｍｍｏｌ）（収率
６４．７％、４０．２％ｅｅ）と、シス−１−Ｓ−エト
キシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチル−１−プロペニ
ル）シクロプロパン５４．３ｍｇ（０．２７７ｍｍｏ
ｌ）（収率２７．７％、２８．２％ｅｅ）とを得た。

【００３９】実施例９ （４Ｒ）−２（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−メ
チレニル）−４−フェニルオキサゾリンに代えて、（４
Ｒ）−２（（２Ｓ）−２−カンファノール−１−メチレ
ニル）−４−フェニルオキサゾリンを用いて、実施例７
と同様に操作して、トランス−１−Ｓ−エトキシカルボ
ニル−２−Ｓ−（２−メチル−１−プロペニル）シクロ
プロパン１１３．２ｍｇ（０．５７８ｍｍｏｌ）（収率
５７．８％、２７．１％ｅｅ）と、シス−１−Ｓ−エト
キシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチル−１−プロペニ
ル）シクロプロパン６５．３ｍｇ（０．３３３ｍｍｏ
ｌ）（収率３３．３％、２６．７％ｅｅ）とを得た。

【００４０】実施例１０ （４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−
メチレニル）−４−フェニルオキサゾリン７８．３ｍｇ
に代えて（４Ｒ）−２−（９−ヒドロキシ−９−フルオ
レニルメチル）−４−フェニルオキサゾリン８５．３ｍ
ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を、２，５−ジメチル−２，４
−ヘキサジエン１．１０２ｇに代えてスチレン１．０４
ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、それぞれ用いて実施例７と同様
に操作して、トランス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−
２−Ｓ−フェニルシクロプロパン９０．４ｍｇ（０．４
７６ｍｍｏｌ）（収率４７．６％、４８．３％ｅｅ）
と、シス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−フェ
ニルシクロプロパン４７．７ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）
（収率２５．１％、２９．６％ｅｅ）とを得た。

【００４１】実施例１１ （４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−
メチレニル）−４−フェニルオキサゾリン７８．３ｍｇ
に代えて（４Ｒ）−２−〔（（２Ｒ）−２−カンファノ
ール−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−
フェニルオキサゾリン９７．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏ
ｌ）を用いて、実施例７と同様に操作して、トランス−
１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチル−
１−プロペニル）シクロプロパン１１５．４ｍｇ（０．
５８９ｍｍｏｌ）（収率５８．９％、４８．９％ｅｅ）
と、シス−１−Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｓ−（２
−メチル−１−プロペニル）シクロプロパン５６．４ｍ
ｇ（０．２８０ｍｍｏｌ）（収率２８．０％、５１．５
％ｅｅ）とを得た。

【００４２】実施例１２ （４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−
メチレニル）−４−フェニルオキサゾリンに代えて、
（４Ｒ）−２−〔（（２Ｓ）−２−カンファノール−２
−イル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−フェニル
オキサゾリン９７．３ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を用い
て実施例７と同様に操作して、トランス−１−Ｒ−エト
キシカルボニル−２−Ｒ−（２−メチル１−プロペニ
ル）シクロプロパン１０８．２ｍｇ（０．５５２ｍｍｏ
ｌ）（収率５５．２％、３７．２％ｅｅ）とシス−１−
Ｒ−エトキシカルボニル−２−Ｓ−（２−メチル−１−
プロペニル）シクロプロパン４８．６ｍｇ（０．２４８
ｍｍｏｌ）（収率２４．８％、３９．５％ｅｅ）とを得
た。

【００４３】実施例１３ （４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−
メチレニル）−４−フェニルオキサゾリン７８．３ｍｇ
に代えて（４Ｒ）−２−〔（（２Ｒ）−２−カンファノ
ール−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−
フェニルオキサゾリン９７．３ｍｇを、２，５−ジメチ
ル−２，４−ヘキサジエン１．１０２ｇに代えてスチレ
ン１．０４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、それぞれ用いて実施
例７と同様に操作して、トランス−１−Ｓ−エトキシカ
ルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン１０６．８
ｍｇ（０．５６２ｍｍｏｌ）（収率５６．２％、４９．
６％ｅｅ）とシス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−２−
Ｒ−フェニルシクロプロパン５４．９ｍｇ（０．２８９
ｍｍｏｌ）（収率２８．９％、５６．７％ｅｅ）とを得
た。

【００４４】実施例１４ （４Ｒ）−２−（（２Ｒ）−２−カンファノール−２−
メチレニル）−４−フェニルオキサゾリン７８．３ｍｇ
に代えて（４Ｒ）−２−〔（（２Ｓ）−２−カンファノ
ール−２−イル）−フェニル−（Ｒ）−メチル〕−４−
フェニルオキサゾリン９７．３ｍｇを、２，５−ジメチ
ル−２，４−ヘキサジエン１．１０２ｇに代えてスチレ
ン１．０４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、それぞれ用いて実施
例７と同様に操作して、トランス−１−Ｓ−エトキシカ
ルボニル−２−Ｓ−フェニルシクロプロパン９７．５ｍ
ｇ（０．５１３ｍｍｏｌ）（収率５１．３％、５３．９
％ｅｅ）と、シス−１−Ｓ−エトキシカルボニル−２−
Ｒ−フェニルシクロプロパン４０．５ｍｇ（０．２１３
ｍｍｏｌ）（収率２１．３％、５７．２％ｅｅ）とを得
た。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｘは１−ヒドロキシ−１−シクロアルキル基、
   １−ヒドロキシ−１−シクロアラルキル基または１−ヒ
   ドロキシ−１−シクロアリール基を、Ｒ¹ は水素原子、
   または置換基を有していてもよいアリール基を、Ｒ² 、
   Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵は水素原子、置換基を有していてもよ
   いアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基
   または置換基を有していてもよいアリール基をそれぞれ
   示す。ただし、Ｒ² とＲ³ が同一であることはない。）
   で示されるオキサゾリン類。
2. 【請求項２】環状ケトン類と一般式（２） （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ はそれぞれ前記
   と同じ意味を示す。）で示される２−メチルオキサゾリ
   ン類とを強塩基類の存在下に反応させることを特徴とす
   る請求項１に記載の一般式（１）で示されるオキサゾリ
   ン類の製造方法。
3. 【請求項３】強塩基類がアルキルリチウム化合物である
   ことを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
4. 【請求項４】一般式（３） （式中、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ はそれぞれ水素原子、
   置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有して
   いてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよ
   いアリール基を示す。ただし、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹
   が同時に同一であることはない。）で示されるオレフィ
   ン類と一般式（４） Ｎ₂ ＣＨＣＯＯＲ¹⁰ （４） （式中、Ｒ¹⁰は置換基を有していてもよいアルキル基、
   置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有
   していてもよいアリール基を示す。）で示されるジアゾ
   酢酸エステル類とを、一般式（１）で示されるオキサゾ
   リン類と銅塩との存在下に反応させることを特徴とする
   一般式（５） （式中、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰はそれぞれ前記
   と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパンカ
   ルボン酸類の製造方法。
5. 【請求項５】銅塩が２価の銅塩であることを特徴とする
   請求項４に記載の製造方法。
6. 【請求項６】２価の銅塩が、トリフルオロメタンスルホ
   ン酸銅（ＩＩ）であることを特徴とする請求項５に記載
   の製造方法。