JPH08283203A - 不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 - Google Patents
不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法Info
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- JPH08283203A JPH08283203A JP8015226A JP1522696A JPH08283203A JP H08283203 A JPH08283203 A JP H08283203A JP 8015226 A JP8015226 A JP 8015226A JP 1522696 A JP1522696 A JP 1522696A JP H08283203 A JPH08283203 A JP H08283203A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的短い工程で製造でき、しかも安定な不
斉配位子を用いて、オレフィン類とジアゾ酢酸エステル
類とを銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類を製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（２） で示されるオレフィン類と一般式（３） Ｎ2 ＣＨＣＯＯＲ9 （３） で示されるジアゾ酢酸エステル類とを、一般式（４） で示される光学活性オキサゾリン類、３級アミンおよび
銅塩の存在下に反応させることを特徴とする一般式
（１）
斉配位子を用いて、オレフィン類とジアゾ酢酸エステル
類とを銅塩の存在下に反応させて不斉シクロプロパンカ
ルボン酸類を製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（２） で示されるオレフィン類と一般式（３） Ｎ2 ＣＨＣＯＯＲ9 （３） で示されるジアゾ酢酸エステル類とを、一般式（４） で示される光学活性オキサゾリン類、３級アミンおよび
銅塩の存在下に反応させることを特徴とする一般式
（１）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類の製造方法に関する。
ンカルボン酸類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】不斉シクロプロパンカルボン酸類は医
薬、農薬などの中間体として有用であり、その製造方法
としてはオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを不斉
配位子の存在下に反応させる方法が知られている（Tetr
ahedron Letters,Vol.32,No.50,pp.7373-7376,1991）。
しかしながら、かかる方法において不斉配位子として用
いられる光学活性メチレンビスオキサゾリン類は、不安
定で重合しやすいばかりか、例えばマロノニトリルを原
料として複数工程を経て製造されるように（Helvetica
Chimica Acta,Vol.74,p.2,1991）、必ずしも工業的に有
利に製造できるものではなく、不斉配位子としてかかる
メチレンビスオキサゾリン類を用いる不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類の製造方法は工業的に有利なものである
とは言えなかった。
薬、農薬などの中間体として有用であり、その製造方法
としてはオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを不斉
配位子の存在下に反応させる方法が知られている（Tetr
ahedron Letters,Vol.32,No.50,pp.7373-7376,1991）。
しかしながら、かかる方法において不斉配位子として用
いられる光学活性メチレンビスオキサゾリン類は、不安
定で重合しやすいばかりか、例えばマロノニトリルを原
料として複数工程を経て製造されるように（Helvetica
Chimica Acta,Vol.74,p.2,1991）、必ずしも工業的に有
利に製造できるものではなく、不斉配位子としてかかる
メチレンビスオキサゾリン類を用いる不斉シクロプロパ
ンカルボン酸類の製造方法は工業的に有利なものである
とは言えなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
比較的短い工程で製造でき、しかも安定な不斉配位子を
用いてオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩の
存在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン酸類を
製造する方法を開発するべく鋭意検討した結果、本発明
に至った。
比較的短い工程で製造でき、しかも安定な不斉配位子を
用いてオレフィン類とジアゾ酢酸エステル類とを銅塩の
存在下に反応させて不斉シクロプロパンカルボン酸類を
製造する方法を開発するべく鋭意検討した結果、本発明
に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式（２） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
ラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基
を示し、Ｒ5 とＲ 7 とが結合して環を形成していてもよ
い。ただし、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8が同時に同一
であることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（３） Ｎ2 ＣＨＣＯＯＲ9 （３） （式中、Ｒ9 は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを、一般式（４） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基、置換基を有していてもよいア
ルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル
基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基を示
し、ｎは２または３を示し、＊は不斉炭素原子を示す。
ただし、Ｒ2 とＲ4 とが同一であることはない。）で示
される光学活性オキサゾリン類、３級アミンおよび銅塩
の存在下に反応させることを特徴とする一般式（１） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸の製造方法を提供するものである。
式（２） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
ラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基
を示し、Ｒ5 とＲ 7 とが結合して環を形成していてもよ
い。ただし、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8が同時に同一
であることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（３） Ｎ2 ＣＨＣＯＯＲ9 （３） （式中、Ｒ9 は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを、一般式（４） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基、置換基を有していてもよいア
ルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル
基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基を示
し、ｎは２または３を示し、＊は不斉炭素原子を示す。
ただし、Ｒ2 とＲ4 とが同一であることはない。）で示
される光学活性オキサゾリン類、３級アミンおよび銅塩
の存在下に反応させることを特徴とする一般式（１） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸の製造方法を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】ここで一般式（２）で示されるオ
レフィン類において、置換基Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ 7 、Ｒ8 に
おけるアルケニル基としては２−メチル−１−プロペニ
ル基、２−ブテニル基、トランス−β−スチリル基、３
−フェニル−１−プロペニル基、１−シクロヘキセニル
基などが、アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル
基、メンチル基、２，３，４−トリメチル−３−ペンチ
ル基、２，４−ジメチル−３−ペンチル基などが、アラ
ルキル基としてはベンジル基、２−フェニルエチル基、
２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基などが、ア
リール基としてはフェニル基、ナフチル基、ビフェニル
基、フリル基、チオフェニル基などがそれぞれ例示さ
れ、Ｒ5 とＲ7 とが結合して環を形成している場合の環
としては、例えばシクロヘキセニル環などが挙げられ
る。これらの置換基および環はそれぞれ、例えば塩素原
子、臭素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低
級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキ
シ基、ｔ−ブトキシ基などの低級アルコキシル基、フェ
ノキシ基などのアリールオキシ基、ｎ−プロピルチオ
基、ｔ−ブチルチオ基などの低級アルキルチオ基、フェ
ニールチオ基などのアリールチオ基、ニトロ基、水酸基
などの置換基で置換されていてもよい。
レフィン類において、置換基Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ 7 、Ｒ8 に
おけるアルケニル基としては２−メチル−１−プロペニ
ル基、２−ブテニル基、トランス−β−スチリル基、３
−フェニル−１−プロペニル基、１−シクロヘキセニル
基などが、アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ｎ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル
基、メンチル基、２，３，４−トリメチル−３−ペンチ
ル基、２，４−ジメチル−３−ペンチル基などが、アラ
ルキル基としてはベンジル基、２−フェニルエチル基、
２−ナフチルエチル基、ジフェニルメチル基などが、ア
リール基としてはフェニル基、ナフチル基、ビフェニル
基、フリル基、チオフェニル基などがそれぞれ例示さ
れ、Ｒ5 とＲ7 とが結合して環を形成している場合の環
としては、例えばシクロヘキセニル環などが挙げられ
る。これらの置換基および環はそれぞれ、例えば塩素原
子、臭素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基などの低
級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキ
シ基、ｔ−ブトキシ基などの低級アルコキシル基、フェ
ノキシ基などのアリールオキシ基、ｎ−プロピルチオ
基、ｔ−ブチルチオ基などの低級アルキルチオ基、フェ
ニールチオ基などのアリールチオ基、ニトロ基、水酸基
などの置換基で置換されていてもよい。
【０００６】また一般式（３）で示されるジアゾ酢酸エ
ステル類における置換基Ｒ9 としては上記の置換基
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 におけると同様のアルキル基、
アラルキル基、アリール基が挙げられる。
ステル類における置換基Ｒ9 としては上記の置換基
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 におけると同様のアルキル基、
アラルキル基、アリール基が挙げられる。
【０００７】かかるジアソ酢酸エステル類としては、例
えばジアゾ酢酸のメチルエステル、エチルエステル、ｎ
−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステ
ル、ベンジルエステル、シクロヘキシルエステル、ｌ−
メンチルエステル、ｎ−ペンチルエステル、ネオペンチ
ルエステル、ｎ−ヘキシルエステル、ｎ−ヘプチルエス
テルなどが挙げられる。
えばジアゾ酢酸のメチルエステル、エチルエステル、ｎ
−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステ
ル、ベンジルエステル、シクロヘキシルエステル、ｌ−
メンチルエステル、ｎ−ペンチルエステル、ネオペンチ
ルエステル、ｎ−ヘキシルエステル、ｎ−ヘプチルエス
テルなどが挙げられる。
【０００８】オレフィン類としては、例えば２，５−ジ
メチル−２，４−ヘキサジエン、イソブチレン、２−メ
チル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテン、３，３−
ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４−メチル−１
−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレン、１−メ
チル−１−シクロヘキセン、ビニルシクロペンタン、ス
チレン、４−フェニル−１−ブテンなどが挙げられ、そ
の使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．５
〜３０モル倍の範囲である。
メチル−２，４−ヘキサジエン、イソブチレン、２−メ
チル−２−ブテン、３−メチル−１−ブテン、３，３−
ジメチル−１−ブテン、２−ペンテン、４−メチル−１
−ペンテン、２−メチル−２−ペンテン、１−ヘキセ
ン、２−ヘキセン、２−ヘプテン、イソプレン、１−メ
チル−１−シクロヘキセン、ビニルシクロペンタン、ス
チレン、４−フェニル−１−ブテンなどが挙げられ、そ
の使用量はジアゾ酢酸エステル類に対して通常は０．５
〜３０モル倍の範囲である。
【０００９】本発明の方法は、このような一般式（２）
で示されるオレフィン類と一般式（３）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを、一般式（４）で示される光学活
性オキサゾリン類、３級アミンおよび銅塩の存在下に反
応させるものであるが、ここで光学活性オキサゾリン類
における置換基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 において、アル
キル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基とし
ては前記したと同様のものが、ハロゲン原子としては塩
素原子、臭素原子などが、アルコキシル基としてはメト
キシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ
基などが、アリールオキシ基としてはフェノキシ基など
がそれぞれ例示される。これらのアルコキシル基、アリ
ールオキシ基は前記の置換基Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 に
おけると同様にさらに置換基を有していてもよい。
で示されるオレフィン類と一般式（３）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを、一般式（４）で示される光学活
性オキサゾリン類、３級アミンおよび銅塩の存在下に反
応させるものであるが、ここで光学活性オキサゾリン類
における置換基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 において、アル
キル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基とし
ては前記したと同様のものが、ハロゲン原子としては塩
素原子、臭素原子などが、アルコキシル基としてはメト
キシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ
基などが、アリールオキシ基としてはフェノキシ基など
がそれぞれ例示される。これらのアルコキシル基、アリ
ールオキシ基は前記の置換基Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 に
おけると同様にさらに置換基を有していてもよい。
【００１０】このような光学活性オキサゾリン類として
は、例えば１，２−ジ−（４−Ｒ−フェニルオキサゾリ
ン−２−イル）エタン、１，２−ジ−（４−Ｓ−ｔ−ブ
チルオキサゾリン−２−イル）エタン、１，２−ジ−
（４−Ｒ−ベンジルオキサゾリン−２−イル）エタン、
１，２−（４−Ｒ−メチル−５−Ｒ−フェニルオキサゾ
リン−２−イル）エタン、１，３−ジ−（４−Ｒ−フェ
ニルオキサゾリン−２−イル）プロパン、１，３−ジ−
（４−Ｒ−ベンジルオキサゾリン−２−イル）プロパ
ン、１，３−ジ−（４−Ｓ−ｔ−ブチルオキサゾリン−
２−イル）プロパン、１，３−ジ−（４−Ｓ−メチル−
５−Ｒ−フェニルオキサゾリン−２−イル）プロパンな
どが挙げられ、その使用量はジアゾ酢酸エステル類に対
して通常は０．００１〜０．５モル倍の範囲である。
は、例えば１，２−ジ−（４−Ｒ−フェニルオキサゾリ
ン−２−イル）エタン、１，２−ジ−（４−Ｓ−ｔ−ブ
チルオキサゾリン−２−イル）エタン、１，２−ジ−
（４−Ｒ−ベンジルオキサゾリン−２−イル）エタン、
１，２−（４−Ｒ−メチル−５−Ｒ−フェニルオキサゾ
リン−２−イル）エタン、１，３−ジ−（４−Ｒ−フェ
ニルオキサゾリン−２−イル）プロパン、１，３−ジ−
（４−Ｒ−ベンジルオキサゾリン−２−イル）プロパ
ン、１，３−ジ−（４−Ｓ−ｔ−ブチルオキサゾリン−
２−イル）プロパン、１，３−ジ−（４−Ｓ−メチル−
５−Ｒ−フェニルオキサゾリン−２−イル）プロパンな
どが挙げられ、その使用量はジアゾ酢酸エステル類に対
して通常は０．００１〜０．５モル倍の範囲である。
【００１１】これらの光学活性オキサゾリン類はいずれ
も公知であって、例えば光学活性２−アミノエタノール
類とスクシノニトリルもしくはグルタトニトリルとをク
ロルベンゼンなどの不活性な溶媒中で塩化亜鉛などのル
イス酸の存在下に反応させることによって１工程で容易
に製造することができる。
も公知であって、例えば光学活性２−アミノエタノール
類とスクシノニトリルもしくはグルタトニトリルとをク
ロルベンゼンなどの不活性な溶媒中で塩化亜鉛などのル
イス酸の存在下に反応させることによって１工程で容易
に製造することができる。
【００１２】３級アミンとしては、例えばトリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジ
ンなどが挙げられ、その使用量は銅塩に対して通常は
０．０１モル倍以上、好ましくは１〜２モル倍の範囲で
ある。
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、４−ジメチルアミノピリジ
ンなどが挙げられ、その使用量は銅塩に対して通常は
０．０１モル倍以上、好ましくは１〜２モル倍の範囲で
ある。
【００１３】銅塩としては、例えばトリフルオロメタン
スルホン酸銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅
（Ｉ）などの銅（Ｉ）の有機酸塩、臭化銅（Ｉ）、塩化
銅（Ｉ）などの銅（Ｉ）のハロゲン化物などの１価の銅
塩および上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に
相当する銅（ＩＩ）の有機酸塩、銅（ＩＩ）のハロゲン
化物などの２価の銅塩が挙げられる。これらの銅塩はそ
れぞれ単独または２種以上を混合して用いられ、その使
用量は光学活性オキサゾリン類に対して通常は０．０１
〜２モル倍、好ましくは０．１〜１モル倍の範囲であ
る。
スルホン酸銅（Ｉ）、三フッ化酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅
（Ｉ）などの銅（Ｉ）の有機酸塩、臭化銅（Ｉ）、塩化
銅（Ｉ）などの銅（Ｉ）のハロゲン化物などの１価の銅
塩および上記各化合物における銅（Ｉ）が銅（ＩＩ）に
相当する銅（ＩＩ）の有機酸塩、銅（ＩＩ）のハロゲン
化物などの２価の銅塩が挙げられる。これらの銅塩はそ
れぞれ単独または２種以上を混合して用いられ、その使
用量は光学活性オキサゾリン類に対して通常は０．０１
〜２モル倍、好ましくは０．１〜１モル倍の範囲であ
る。
【００１４】反応は、用いるオレフィン類の種類によっ
ては無溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行わ
れ、かかる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなど
のエーテル系溶媒、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ク
ロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化炭化水素
系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒などが挙げら
れる。
ては無溶媒で行うこともできるが、通常は溶媒中で行わ
れ、かかる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなど
のエーテル系溶媒、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ク
ロロホルム、ジクロルメタンなどのハロゲン化炭化水素
系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒などが挙げら
れる。
【００１５】反応に際しては、例えば溶媒中でオレフィ
ン類、光学活性オキサゾリン類、３級アミン類および銅
塩を混合し、次いでジアゾ酢酸エステル類を加えればよ
く、反応温度は通常−５０〜２００℃、好ましくは０〜
５０℃の範囲である。
ン類、光学活性オキサゾリン類、３級アミン類および銅
塩を混合し、次いでジアゾ酢酸エステル類を加えればよ
く、反応温度は通常−５０〜２００℃、好ましくは０〜
５０℃の範囲である。
【００１６】反応後、得られた反応混合物をそのまま濃
縮するか、または該反応混合物と塩化アンモニウム水溶
液とを混合し、トルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテ
ル、ジクロルメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて
抽出処理し、得られた有機層を濃縮することによって、
目的とする一般式（１）で示される不斉シクロプロパン
カルボン酸類を得ることができる。かくして得られる不
斉シクロプロパンカルボン酸類はさらに通常の方法、例
えばカラムクロマトグラフ処理、蒸留操作などによって
精製されてもよい。
縮するか、または該反応混合物と塩化アンモニウム水溶
液とを混合し、トルエン、酢酸エチル、ジエチルエーテ
ル、ジクロルメタンなどの水に不溶の有機溶媒を用いて
抽出処理し、得られた有機層を濃縮することによって、
目的とする一般式（１）で示される不斉シクロプロパン
カルボン酸類を得ることができる。かくして得られる不
斉シクロプロパンカルボン酸類はさらに通常の方法、例
えばカラムクロマトグラフ処理、蒸留操作などによって
精製されてもよい。
【００１７】かくして得られる不斉シクロプロパンカル
ボン酸類としては、例えば１−（Ｓ）−エトキシカルボ
ニル−２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン、１−
（Ｒ）−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロ
プロパン、１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン、１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−ｔ
−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。
ボン酸類としては、例えば１−（Ｓ）−エトキシカルボ
ニル−２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン、１−
（Ｒ）−エトキシカルボニル−２，２−ジメチルシクロ
プロパン、１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパ
ン、１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−（Ｓ）−ｔ
−ブチルシクロプロパンなどが挙げられる。
【００１８】
【発明の効果】本発明の方法は、比較的短い工程で容易
に製造でき、しかも安定な光学活性オキサゾリン類を用
いて、不斉シクロプロパンカルボン酸類を製造すること
ができる。
に製造でき、しかも安定な光学活性オキサゾリン類を用
いて、不斉シクロプロパンカルボン酸類を製造すること
ができる。
【００１９】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【００２０】参考例１ スクシノニトリル３．２ｇ（４０ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−
２−フェニルグリシノール３３ｇ（２４０ｍｍｏｌ）お
よび塩化亜鉛３．３ｇ（２４．２ｍｍｏｌ）をクロロベ
ンゼン１５０ｇと混合し、加熱還流させながら８時間攪
拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液４００
ｇを加え、３０分攪拌し、次いで析出した固体を濾別し
た。濾液を各３００ｇの酢酸エチルで２回抽出処理し、
有機層を合わせ、１００ｇの水で洗浄したのち無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をクロロ
ホルム−アセトン（１０：１）にてカラムクロマトグラ
ム処理して、１，２−ジ−（４−Ｒ−フェニルオキサゾ
リン−２−イル）エタン８．８４ｇ（２７．６ｍｍｏ
ｌ）を得た（スクシノニトリルからの収率６９％）。
２−フェニルグリシノール３３ｇ（２４０ｍｍｏｌ）お
よび塩化亜鉛３．３ｇ（２４．２ｍｍｏｌ）をクロロベ
ンゼン１５０ｇと混合し、加熱還流させながら８時間攪
拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液４００
ｇを加え、３０分攪拌し、次いで析出した固体を濾別し
た。濾液を各３００ｇの酢酸エチルで２回抽出処理し、
有機層を合わせ、１００ｇの水で洗浄したのち無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をクロロ
ホルム−アセトン（１０：１）にてカラムクロマトグラ
ム処理して、１，２−ジ−（４−Ｒ−フェニルオキサゾ
リン−２−イル）エタン８．８４ｇ（２７．６ｍｍｏ
ｌ）を得た（スクシノニトリルからの収率６９％）。
【００２１】参考例２ グルタロニトリル９．４５ｇ（１００ｍｍｏｌ）、
（Ｒ）−２−フェニルグリシノール８２ｇ（５９８ｍｍ
ｏｌ）および塩化亜鉛８．２ｇ（６０．２ｍｍｏｌ）を
クロロベンゼン３００ｇと混合し、加熱還流させながら
８時間攪拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液８００ｇを加え３０分攪拌したのち、析出した固体を
濾別した。濾液を各４００ｇの酢酸エチルで２回抽出処
理し、有機層を合わせ、２００ｇの水で洗浄したのち無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣を
クロロホルム−アセトン（１０：１）にてカラムクロマ
トグラフ処理して、１，３−ジ−（４−（Ｒ）−フェニ
ルオキサゾリン−２−イル）プロパン１７．５ｇ（５１
ｍｍｏｌ）を得た（グルタロニトリルからの収率５１
％）。
（Ｒ）−２−フェニルグリシノール８２ｇ（５９８ｍｍ
ｏｌ）および塩化亜鉛８．２ｇ（６０．２ｍｍｏｌ）を
クロロベンゼン３００ｇと混合し、加熱還流させながら
８時間攪拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液８００ｇを加え３０分攪拌したのち、析出した固体を
濾別した。濾液を各４００ｇの酢酸エチルで２回抽出処
理し、有機層を合わせ、２００ｇの水で洗浄したのち無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣を
クロロホルム−アセトン（１０：１）にてカラムクロマ
トグラフ処理して、１，３−ジ−（４−（Ｒ）−フェニ
ルオキサゾリン−２−イル）プロパン１７．５ｇ（５１
ｍｍｏｌ）を得た（グルタロニトリルからの収率５１
％）。
【００２２】実施例１ トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）１８ｍｇ
（０．０５ｍｍｏｌ）および１，２−ジ−（４−（Ｒ）
−フェニルオキサゾリン−２−イル）エタン８０．１ｍ
ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）をジクロルメタン３ｇに溶解
し、２５℃で１５分間攪拌し、次いでジイソプロピルエ
チルアミン１７μｌ（０．１ｍｍｏｌ）を加え同温度
下、さらに１５分間攪拌し、次いでフェニルヒドラジン
５μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）を加え、５分間攪拌した。
その後、スチレン１．０４ｍｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え
１０分間攪拌したのち、ジアゾ酢酸エチルエステル０．
１１４ｇ（１ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（１ｇ）
を滴下し、その後さらに同温度で３時間攪拌した。その
後、反応混合物を濃縮し、得られた残渣をヘキサン−酢
酸エチル（３０：１）にてカラムクロマトグラフ処理し
て、シス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−フェニルシクロプロパン９５．６ｍｇ（０．３
４５ｍｍｏｌ、光学純度９４％ｅｅ、収率３４．５％）
とトランス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｓ）−フェニルシクロプロパン１１１ｍｇ（０．５８
２ｍｍｏｌ、光学純度５９．２％ｅｅ、収率５８．２
％）とを得た。
（０．０５ｍｍｏｌ）および１，２−ジ−（４−（Ｒ）
−フェニルオキサゾリン−２−イル）エタン８０．１ｍ
ｇ（０．２５ｍｍｏｌ）をジクロルメタン３ｇに溶解
し、２５℃で１５分間攪拌し、次いでジイソプロピルエ
チルアミン１７μｌ（０．１ｍｍｏｌ）を加え同温度
下、さらに１５分間攪拌し、次いでフェニルヒドラジン
５μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）を加え、５分間攪拌した。
その後、スチレン１．０４ｍｇ（１０ｍｍｏｌ）を加え
１０分間攪拌したのち、ジアゾ酢酸エチルエステル０．
１１４ｇ（１ｍｍｏｌ）のジクロルメタン溶液（１ｇ）
を滴下し、その後さらに同温度で３時間攪拌した。その
後、反応混合物を濃縮し、得られた残渣をヘキサン−酢
酸エチル（３０：１）にてカラムクロマトグラフ処理し
て、シス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｒ）−フェニルシクロプロパン９５．６ｍｇ（０．３
４５ｍｍｏｌ、光学純度９４％ｅｅ、収率３４．５％）
とトランス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２−
（Ｓ）−フェニルシクロプロパン１１１ｍｇ（０．５８
２ｍｍｏｌ、光学純度５９．２％ｅｅ、収率５８．２
％）とを得た。
【００２３】実施例２ １，２−ジ−（４−（Ｒ）−フェニルオキサゾリン−２
−イル）エタンに代えて１，２−ジ−（４−（Ｒ）−ベ
ンジルオキサゾリン−２−イル）エタン８７．１ｍｇ
（０．２５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様に
操作して、シス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン６９．５ｍｇ（０．
３６６ｍｍｏｌ、光学純度５７．９％ｅｅ、収率３６．
６％）とトランス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−
２−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン１０３ｍｇ（０．
５４２ｍｍｏｌ、光学純度６３．６％ｅｅ、収率５４．
２％）とを得た。
−イル）エタンに代えて１，２−ジ−（４−（Ｒ）−ベ
ンジルオキサゾリン−２−イル）エタン８７．１ｍｇ
（０．２５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様に
操作して、シス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン６９．５ｍｇ（０．
３６６ｍｍｏｌ、光学純度５７．９％ｅｅ、収率３６．
６％）とトランス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−
２−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン１０３ｍｇ（０．
５４２ｍｍｏｌ、光学純度６３．６％ｅｅ、収率５４．
２％）とを得た。
【００２４】実施例３ １，２−ジ−（４−（Ｒ）−フェニルオキサゾリン−２
−イル）エタンに代えて１，３−ジ−（４−（Ｒ）−フ
ェニルオキサゾリン−２−イル）プロパン８３．６ｍｇ
（０．２５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様に
操作して、シス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン６１ｍｇ（０．３２
１ｍｍｏｌ、光学純度４４．８％ｅｅ、収率３２．１
％）とトランス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン１０３．６ｍｇ
（０．５４５ｍｍｏｌ、光学純度５８．７％ｅｅ、収率
５４．５％）とを得た。
−イル）エタンに代えて１，３−ジ−（４−（Ｒ）−フ
ェニルオキサゾリン−２−イル）プロパン８３．６ｍｇ
（０．２５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様に
操作して、シス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｒ）−フェニルシクロプロパン６１ｍｇ（０．３２
１ｍｍｏｌ、光学純度４４．８％ｅｅ、収率３２．１
％）とトランス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン１０３．６ｍｇ
（０．５４５ｍｍｏｌ、光学純度５８．７％ｅｅ、収率
５４．５％）とを得た。
【００２５】実施例４ １，２−ジ−（４−（Ｒ）−フェニルオキサゾリン−２
−イル）エタンに代えて１，３−ジ−（４−（Ｒ）−ベ
ンジルオキサゾリン−２−イル）プロパン９０．６ｍｇ
（０．２５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様に
操作して、シス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン６７．５ｍｇ（０．
３５５ｍｍｏｌ、光学純度６７．７％ｅｅ、収率３５．
５％）とトランス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−
２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン８４．７ｍｇ
（０．４４６ｍｍｏｌ、光学純度６５．３％ｅｅ、収率
４４．６％）とを得た。
−イル）エタンに代えて１，３−ジ−（４−（Ｒ）−ベ
ンジルオキサゾリン−２−イル）プロパン９０．６ｍｇ
（０．２５ｍｍｏｌ）を用いる以外は実施例１と同様に
操作して、シス−１−（Ｒ）−エトキシカルボニル−２
−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン６７．５ｍｇ（０．
３５５ｍｍｏｌ、光学純度６７．７％ｅｅ、収率３５．
５％）とトランス−１−（Ｓ）−エトキシカルボニル−
２−（Ｓ）−フェニルシクロプロパン８４．７ｍｇ
（０．４４６ｍｍｏｌ、光学純度６５．３％ｅｅ、収率
４４．６％）とを得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/74 9546−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 69/74 Ａ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｄ 263/10 Ｃ０７Ｄ 263/10 Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（２） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 はそれぞれ水素原子、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
ラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基
を示し、Ｒ5 とＲ 7 とが結合して環を形成していてもよ
い。ただし、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8が同時に同一
であることはない。）で示されるオレフィン類と一般式
（３） Ｎ2 ＣＨＣＯＯＲ9 （３） （式中、Ｒ9 は置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を
有していてもよいアリール基を示す。）で示されるジア
ゾ酢酸エステル類とを、一般式（４） （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基、置換基を有していてもよいア
ルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル
基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基を示
し、ｎは２または３を示し、＊は不斉炭素原子を示す。
ただし、Ｒ2 とＲ4 とが同一であることはない。）で示
される光学活性オキサゾリン類、３級アミンおよび銅塩
の存在下に反応させることを特徴とする一般式（１） （式中、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、＊はそれぞれ
前記と同じ意味を示す。）で示される不斉シクロプロパ
ンカルボン酸の製造方法。 - 【請求項２】銅塩が２価の銅塩であることを特徴とする
請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】２価の銅塩が銅（ＩＩ）の有機酸塩もしく
はハロゲン化物であることを特徴とする請求項２に記載
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8015226A JPH08283203A (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | 不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-26987 | 1995-02-15 | ||
| JP2698795 | 1995-02-15 | ||
| JP8015226A JPH08283203A (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | 不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08283203A true JPH08283203A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=26351349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8015226A Pending JPH08283203A (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | 不斉シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08283203A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0891965A1 (en) * | 1997-07-14 | 1999-01-20 | Sumitomo Chemical Company Limited | Process for producing optically active cyclopropanecarboxylic acid esters |
| JPH11279111A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-10-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な菊酸の製造方法 |
-
1996
- 1996-01-31 JP JP8015226A patent/JPH08283203A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0891965A1 (en) * | 1997-07-14 | 1999-01-20 | Sumitomo Chemical Company Limited | Process for producing optically active cyclopropanecarboxylic acid esters |
| JPH11279111A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-10-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な菊酸の製造方法 |
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