JPH10101619A - ジアリールカーボネートの製造法 - Google Patents
ジアリールカーボネートの製造法Info
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- JPH10101619A JPH10101619A JP8256959A JP25695996A JPH10101619A JP H10101619 A JPH10101619 A JP H10101619A JP 8256959 A JP8256959 A JP 8256959A JP 25695996 A JP25695996 A JP 25695996A JP H10101619 A JPH10101619 A JP H10101619A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、ジアリールオキサレートを脱カル
ボニル反応させてジアリールカーボネートを製造する方
法において、ジアリールカーボネートを收率よく製造で
きる方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明の課題は、ジアリールオキサレー
トに８族金属の化合物又は鉄族金属を添加して、ジアリ
ールオキサレートを脱カルボニル反応させることを特徴
とするジアリールカーボネートの製造法によって達成さ
れる。
ボニル反応させてジアリールカーボネートを製造する方
法において、ジアリールカーボネートを收率よく製造で
きる方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明の課題は、ジアリールオキサレー
トに８族金属の化合物又は鉄族金属を添加して、ジアリ
ールオキサレートを脱カルボニル反応させることを特徴
とするジアリールカーボネートの製造法によって達成さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリカーボネート
の製造原料として有用なジアリールカーボネートを製造
する方法に関する。
の製造原料として有用なジアリールカーボネートを製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジアリールカーボネートを製造する方法
として、ジアリールオキサレートを脱カルボニル反応さ
せてジアリールカーボネートを生成させる方法が知られ
ているが、この方法は目的のジアリールカーボネートの
收率が著しく低いという問題を有している。例えば、シ
ュウ酸ジフェニル（ジフェニルオキサレート）を蒸留フ
ラスコ中で煮沸して炭酸ジフェニル（ジフェニルカーボ
ネート）を製造する方法〔有機合成協会誌，５，報４７
（１９４８），７０〕では、この文献記載の反応式にも
示され、また副生物として単離されているようにフェノ
ールが副生し、更に二酸化炭素も副生して、目的の炭酸
ジフェニルの收率が著しく低くなる。
として、ジアリールオキサレートを脱カルボニル反応さ
せてジアリールカーボネートを生成させる方法が知られ
ているが、この方法は目的のジアリールカーボネートの
收率が著しく低いという問題を有している。例えば、シ
ュウ酸ジフェニル（ジフェニルオキサレート）を蒸留フ
ラスコ中で煮沸して炭酸ジフェニル（ジフェニルカーボ
ネート）を製造する方法〔有機合成協会誌，５，報４７
（１９４８），７０〕では、この文献記載の反応式にも
示され、また副生物として単離されているようにフェノ
ールが副生し、更に二酸化炭素も副生して、目的の炭酸
ジフェニルの收率が著しく低くなる。
【０００３】また、オキサレートジエステルをアルコラ
ート触媒の存在下に５０〜１５０℃で液相で加熱してカ
ーボネートジエステルを製造する方法も提案されている
（ＵＳＰ４５４４５０７号公報）。しかし、この方法で
は、記載されている実施例に示されるように、カリウム
フェノラート触媒の存在下でジフェニルオキサレートを
加熱しても、主生成物として得られるものは目的のジフ
ェニルカーボネートではなく原料のジフェニルオキサレ
ートである。このように、ジアリールオキサレートの脱
カルボニル反応によってジアリールカーボネートを收率
よく製造できる方法は知られていなかった。
ート触媒の存在下に５０〜１５０℃で液相で加熱してカ
ーボネートジエステルを製造する方法も提案されている
（ＵＳＰ４５４４５０７号公報）。しかし、この方法で
は、記載されている実施例に示されるように、カリウム
フェノラート触媒の存在下でジフェニルオキサレートを
加熱しても、主生成物として得られるものは目的のジフ
ェニルカーボネートではなく原料のジフェニルオキサレ
ートである。このように、ジアリールオキサレートの脱
カルボニル反応によってジアリールカーボネートを收率
よく製造できる方法は知られていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ジアリール
オキサレートを脱カルボニル反応させてジアリールカー
ボネートを製造する方法において、ジアリールカーボネ
ートを收率よく製造できる方法を提供することを課題と
する。
オキサレートを脱カルボニル反応させてジアリールカー
ボネートを製造する方法において、ジアリールカーボネ
ートを收率よく製造できる方法を提供することを課題と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、ジアリ
ールオキサレートに８族金属の化合物又は鉄族金属を添
加して、ジアリールオキサレートを脱カルボニル反応さ
せることを特徴とするジアリールカーボネートの製造法
によって達成される。
ールオキサレートに８族金属の化合物又は鉄族金属を添
加して、ジアリールオキサレートを脱カルボニル反応さ
せることを特徴とするジアリールカーボネートの製造法
によって達成される。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明では、ジアリールカーボネ
ートは次式で示されるジアリールオキサレートの脱カル
ボニル反応によって生成する。
ートは次式で示されるジアリールオキサレートの脱カル
ボニル反応によって生成する。
【０００７】
【化１】 （式中、Ａｒはアリール基を示す）
【０００８】前記のアリール基としては、 （１）フェニル基、 （２）置換基として、（ａ）メチル基、エチル基等の炭
素数１〜１２のアルキル基、（ｂ）メトキシ基、エトキ
シ基等の炭素数１〜１２のアルコキシ基、（ｃ）ニトロ
基、又は（ｄ）フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子
などを有する置換フェニル基、及び（３）ナフチル基な
どが挙げられる。これらのアリール基の中ではフェニル
基が特に好ましい。
素数１〜１２のアルキル基、（ｂ）メトキシ基、エトキ
シ基等の炭素数１〜１２のアルコキシ基、（ｃ）ニトロ
基、又は（ｄ）フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子
などを有する置換フェニル基、及び（３）ナフチル基な
どが挙げられる。これらのアリール基の中ではフェニル
基が特に好ましい。
【０００９】前記置換フェニル基は各種異性体を含む。
これら異性体としては、例えば、（ａ）２−（又は３
−、４−）メチルフェニル基、２−（又は３−、４−）
エチルフェニル基等の炭素数１〜１２のアルキル基を有
する２−（又は３−、４−）アルキルフェニル基、
（ｂ）２−（又は３−、４−）メトキシフェニル基、２
−（又は３−、４−）エトキシフェニル基等の炭素数１
〜１２のアルコキシ基を有する２−（又は３−、４−）
アルコキシフェニル基、（ｃ）２−（又は３−、４−）
ニトロフェニル基、（ｄ）２−（又は３−、４−）フル
オロフェニル基、２−（又は３−、４−）クロロフェニ
ル基等のハロゲン原子を有する２−（又は３−、４−）
ハロフェニル基が挙げられる。
これら異性体としては、例えば、（ａ）２−（又は３
−、４−）メチルフェニル基、２−（又は３−、４−）
エチルフェニル基等の炭素数１〜１２のアルキル基を有
する２−（又は３−、４−）アルキルフェニル基、
（ｂ）２−（又は３−、４−）メトキシフェニル基、２
−（又は３−、４−）エトキシフェニル基等の炭素数１
〜１２のアルコキシ基を有する２−（又は３−、４−）
アルコキシフェニル基、（ｃ）２−（又は３−、４−）
ニトロフェニル基、（ｄ）２−（又は３−、４−）フル
オロフェニル基、２−（又は３−、４−）クロロフェニ
ル基等のハロゲン原子を有する２−（又は３−、４−）
ハロフェニル基が挙げられる。
【００１０】本発明では、前記の脱カルボニル反応にお
いて、８族金属の化合物又は鉄族金属が触媒として添加
される。８族金属（鉄族金属、白金族金属）の化合物と
しては、これら８族金属の有機酸塩、錯体（ホスフィン
錯体等）、ハロゲン化物（錯体を除く）、無機酸塩（硫
酸塩、硝酸塩、リン酸塩等）などが使用される。鉄族金
属（コバルト、鉄、ニッケル）の化合物としては、これ
ら鉄族金属の有機酸塩、錯体（ホスフィン錯体等）、ハ
ロゲン化物（錯体を除く）、無機酸塩（硫酸塩、硝酸
塩、リン酸塩等）などが挙げられ、白金族金属（白金、
パラジウム、ロジウム、ルテニウム等）の化合物として
は、これら白金族金属の有機酸塩、錯体（ホスフィン錯
体等）、ハロゲン化物（錯体を除く）、無機酸塩（硫酸
塩、硝酸塩、リン酸塩等）などが挙げられる。
いて、８族金属の化合物又は鉄族金属が触媒として添加
される。８族金属（鉄族金属、白金族金属）の化合物と
しては、これら８族金属の有機酸塩、錯体（ホスフィン
錯体等）、ハロゲン化物（錯体を除く）、無機酸塩（硫
酸塩、硝酸塩、リン酸塩等）などが使用される。鉄族金
属（コバルト、鉄、ニッケル）の化合物としては、これ
ら鉄族金属の有機酸塩、錯体（ホスフィン錯体等）、ハ
ロゲン化物（錯体を除く）、無機酸塩（硫酸塩、硝酸
塩、リン酸塩等）などが挙げられ、白金族金属（白金、
パラジウム、ロジウム、ルテニウム等）の化合物として
は、これら白金族金属の有機酸塩、錯体（ホスフィン錯
体等）、ハロゲン化物（錯体を除く）、無機酸塩（硫酸
塩、硝酸塩、リン酸塩等）などが挙げられる。
【００１１】鉄族金属の有機酸塩としては、例えば、酢
酸コバルト、酢酸鉄、酢酸ニッケル、シュウ酸コバル
ト、シュウ酸鉄、シュウ酸ニッケル等の炭素数１〜１５
の脂肪族カルボン酸と鉄族金属との塩（鉄族金属の脂肪
族カルボン酸塩）、安息香酸コバルト等の炭素数７〜１
５の芳香族カルボン酸と鉄族金属との塩（鉄族金属の芳
香族カルボン酸塩）が挙げられる。鉄族金属の錯体とし
ては、例えば、ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 等の鉄族金属の
ホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯体）が
挙げられる。鉄族金属のハロゲン化物（錯体を除く）と
しては、例えば、塩化鉄、臭化鉄、塩化コバルト、臭化
コバルトが挙げられる。
酸コバルト、酢酸鉄、酢酸ニッケル、シュウ酸コバル
ト、シュウ酸鉄、シュウ酸ニッケル等の炭素数１〜１５
の脂肪族カルボン酸と鉄族金属との塩（鉄族金属の脂肪
族カルボン酸塩）、安息香酸コバルト等の炭素数７〜１
５の芳香族カルボン酸と鉄族金属との塩（鉄族金属の芳
香族カルボン酸塩）が挙げられる。鉄族金属の錯体とし
ては、例えば、ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 等の鉄族金属の
ホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯体）が
挙げられる。鉄族金属のハロゲン化物（錯体を除く）と
しては、例えば、塩化鉄、臭化鉄、塩化コバルト、臭化
コバルトが挙げられる。
【００１２】白金族金属の有機酸塩としては、例えば、
酢酸白金、酢酸パラジウム、酢酸ロジウム、酢酸ルテニ
ウム、シュウ酸白金、シュウ酸パラジウム、シュウ酸ロ
ジウム、シュウ酸ルテニウム等の炭素数１〜１５の脂肪
族カルボン酸と白金族金属との塩（白金族金属の脂肪族
カルボン酸塩）、安息香酸パラジウム、安息香酸ルテニ
ウム等の炭素数７〜１５の芳香族カルボン酸と白金族金
属との塩（白金族金属の芳香族カルボン酸塩）が挙げら
れる。白金族金属の錯体としては、例えば、ＰｔＣｌ2
（ＰＰｈ3 ）2 、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3 ）2 、ＲｈＣｌ
（ＰＰｈ3 ）3 、ＲｕＣｌ3 （ＰＰｈ3 ）3 等の白金族
金属のホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯
体）が挙げられる。
酢酸白金、酢酸パラジウム、酢酸ロジウム、酢酸ルテニ
ウム、シュウ酸白金、シュウ酸パラジウム、シュウ酸ロ
ジウム、シュウ酸ルテニウム等の炭素数１〜１５の脂肪
族カルボン酸と白金族金属との塩（白金族金属の脂肪族
カルボン酸塩）、安息香酸パラジウム、安息香酸ルテニ
ウム等の炭素数７〜１５の芳香族カルボン酸と白金族金
属との塩（白金族金属の芳香族カルボン酸塩）が挙げら
れる。白金族金属の錯体としては、例えば、ＰｔＣｌ2
（ＰＰｈ3 ）2 、ＰｄＣｌ2（ＰＰｈ3 ）2 、ＲｈＣｌ
（ＰＰｈ3 ）3 、ＲｕＣｌ3 （ＰＰｈ3 ）3 等の白金族
金属のホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯
体）が挙げられる。
【００１３】８族金属（鉄族金属、白金族金属）の化合
物の中では、これら８族金属の有機酸塩、ホスフィン錯
体（特にトリフェニルホスフィン錯体）、ハロゲン化物
（錯体を除く）が好ましい。鉄族金属（コバルト、鉄、
ニッケル）の化合物の中では、これら鉄族金属の有機酸
塩、ホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯
体）、ハロゲン化物（錯体を除く）が好ましく、特にコ
バルトの有機酸塩、コバルトのホスフィン錯体（特にト
リフェニルホスフィン錯体）、鉄の有機酸塩、鉄のハロ
ゲン化物（錯体を除く）が好ましい。また、白金族金属
（白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム等）の化合
物の中では、これら白金族金属のホスフィン錯体（特に
トリフェニルホスフィン錯体）が好ましい。これらの化
合物の中では、コバルトの有機酸塩、ルテニウムのホス
フィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯体）、白金
のホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯体）
が特に好ましい。
物の中では、これら８族金属の有機酸塩、ホスフィン錯
体（特にトリフェニルホスフィン錯体）、ハロゲン化物
（錯体を除く）が好ましい。鉄族金属（コバルト、鉄、
ニッケル）の化合物の中では、これら鉄族金属の有機酸
塩、ホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯
体）、ハロゲン化物（錯体を除く）が好ましく、特にコ
バルトの有機酸塩、コバルトのホスフィン錯体（特にト
リフェニルホスフィン錯体）、鉄の有機酸塩、鉄のハロ
ゲン化物（錯体を除く）が好ましい。また、白金族金属
（白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム等）の化合
物の中では、これら白金族金属のホスフィン錯体（特に
トリフェニルホスフィン錯体）が好ましい。これらの化
合物の中では、コバルトの有機酸塩、ルテニウムのホス
フィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯体）、白金
のホスフィン錯体（特にトリフェニルホスフィン錯体）
が特に好ましい。
【００１４】鉄族金属金属としては、鉄（金属鉄）が好
適に挙げられる。金属鉄としては、通常、鉄粉が使用さ
れる。
適に挙げられる。金属鉄としては、通常、鉄粉が使用さ
れる。
【００１５】８族金属の化合物はそのままで用いること
もできるが、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、ゼオ
ライト、ケイソウ土、軽石、活性炭等の担体に担持させ
て用いることもできる。このとき、８族金属の化合物の
担持量は、担体に対して、８族金属として通常０．１〜
５０重量％、好ましくは０．５〜３０重量％である。
もできるが、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ、ゼオ
ライト、ケイソウ土、軽石、活性炭等の担体に担持させ
て用いることもできる。このとき、８族金属の化合物の
担持量は、担体に対して、８族金属として通常０．１〜
５０重量％、好ましくは０．５〜３０重量％である。
【００１６】前記の担持触媒を調製する方法は特別なも
のである必要はなく、例えば含浸法、混練法、沈着法、
共沈法、蒸発乾固法、イオン交換法等の通常実施される
方法により、８族金属の化合物を担体に担持させた後、
乾燥、焼成する方法によって調製することができる。乾
燥は空気中、５０〜１００℃で、焼成は空気中、１５０
〜５００℃で通常行われる。
のである必要はなく、例えば含浸法、混練法、沈着法、
共沈法、蒸発乾固法、イオン交換法等の通常実施される
方法により、８族金属の化合物を担体に担持させた後、
乾燥、焼成する方法によって調製することができる。乾
燥は空気中、５０〜１００℃で、焼成は空気中、１５０
〜５００℃で通常行われる。
【００１７】前記の担持触媒は、粉末、粒状もしくは成
型体で使用される。そのサイズは特に限定されるもので
はないが、通常、粉末では２０〜１００μｍφのもの、
粒状では４〜２００メッシュのもの、成型体では長さ
０．５〜１０ｍｍのものが好適に使用される。
型体で使用される。そのサイズは特に限定されるもので
はないが、通常、粉末では２０〜１００μｍφのもの、
粒状では４〜２００メッシュのもの、成型体では長さ
０．５〜１０ｍｍのものが好適に使用される。
【００１８】ジアリールオキサレートの脱カルボニル反
応は、触媒として８族金属の化合物又は鉄族金属を添加
して、該ジアリールオキサレートを、１００〜４５０
℃、特に１６０〜４００℃、更には１８０〜３５０℃で
液相で加熱することによって行うことが好ましい。この
とき、前記反応式に従って、ジアリールオキサレートか
らジアリールカーボネートが生成すると共に一酸化炭素
が発生する。なお、反応圧は通常は常圧とされるが、特
に制限されるものではない。触媒は単独でもまた２種以
上混合して使用しても差し支えなく、その使用量はジア
リールオキサレートに対して８族金属として通常０．０
０１〜５０モル％、好ましくは０．０１〜２０モル％で
ある。また、触媒は通常は反応液に溶解させて使用され
るが、懸濁させて使用しても差し支えない。
応は、触媒として８族金属の化合物又は鉄族金属を添加
して、該ジアリールオキサレートを、１００〜４５０
℃、特に１６０〜４００℃、更には１８０〜３５０℃で
液相で加熱することによって行うことが好ましい。この
とき、前記反応式に従って、ジアリールオキサレートか
らジアリールカーボネートが生成すると共に一酸化炭素
が発生する。なお、反応圧は通常は常圧とされるが、特
に制限されるものではない。触媒は単独でもまた２種以
上混合して使用しても差し支えなく、その使用量はジア
リールオキサレートに対して８族金属として通常０．０
０１〜５０モル％、好ましくは０．０１〜２０モル％で
ある。また、触媒は通常は反応液に溶解させて使用され
るが、懸濁させて使用しても差し支えない。
【００１９】脱カルボニル反応において溶媒は特に必要
とされないが、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジ
メチルイミダゾリドン等の非プロトン性極性溶媒を適宜
使用することもできる。反応器の材質は特に制限される
ものではなく、例えば、ガラス製、ステンレス（ＳＵ
Ｓ）製の反応器を使用することができる。反応後、生成
したジアリールカーボネートは蒸留等により分離精製さ
れる。
とされないが、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジ
メチルイミダゾリドン等の非プロトン性極性溶媒を適宜
使用することもできる。反応器の材質は特に制限される
ものではなく、例えば、ガラス製、ステンレス（ＳＵ
Ｓ）製の反応器を使用することができる。反応後、生成
したジアリールカーボネートは蒸留等により分離精製さ
れる。
【００２０】
【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具
体的に説明する。なお、ジフェニルカーボネートの收率
（モル％）はジフェニルオキサレートに対して求めた。 実施例１ 温度計及び還流冷却管を備えた１００ｍｌ容のガラス製
フラスコに、ジフェニルオキサレート（２４．８ｍｍｏ
ｌ）と酢酸（II）コバルト４水和物〔Ｃｏ（ＣＨ3 ＣＯ
Ｏ）2 ・４Ｈ2 Ｏ〕（１．２４ｍｍｏｌ）を入れて、攪
拌下で２３０℃まで昇温した後、常圧下、この温度で３
時間液相で加熱して脱カルボニル反応を行った。反応終
了後、反応液を室温まで冷却してガスクロマトグラフィ
ー（カラム温度：１３０〜１７０℃、注入口温度：１８
０℃）により分析したところ、ジフェニルカーボネート
の收率は５２．３％であった。なお、分析操作によるジ
フェニルオキサレートからのジフェニルカーボネートの
生成は認められなかった。
体的に説明する。なお、ジフェニルカーボネートの收率
（モル％）はジフェニルオキサレートに対して求めた。 実施例１ 温度計及び還流冷却管を備えた１００ｍｌ容のガラス製
フラスコに、ジフェニルオキサレート（２４．８ｍｍｏ
ｌ）と酢酸（II）コバルト４水和物〔Ｃｏ（ＣＨ3 ＣＯ
Ｏ）2 ・４Ｈ2 Ｏ〕（１．２４ｍｍｏｌ）を入れて、攪
拌下で２３０℃まで昇温した後、常圧下、この温度で３
時間液相で加熱して脱カルボニル反応を行った。反応終
了後、反応液を室温まで冷却してガスクロマトグラフィ
ー（カラム温度：１３０〜１７０℃、注入口温度：１８
０℃）により分析したところ、ジフェニルカーボネート
の收率は５２．３％であった。なお、分析操作によるジ
フェニルオキサレートからのジフェニルカーボネートの
生成は認められなかった。
【００２１】実施例２ 温度計及び還流冷却管を備えた５０ｍｌ容のガラス製フ
ラスコに、ジフェニルオキサレート（１０．０ｍｍｏ
ｌ）とＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 （１．０ｍｍｏｌ）を入
れて、攪拌下で２５５℃まで昇温した後、常圧下、この
温度で３時間液相で加熱して脱カルボニル反応を行っ
た。反応終了後、実施例１と同様に分析を行ったとこ
ろ、ジフェニルカーボネートの收率は１３．０％であっ
た。
ラスコに、ジフェニルオキサレート（１０．０ｍｍｏ
ｌ）とＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 （１．０ｍｍｏｌ）を入
れて、攪拌下で２５５℃まで昇温した後、常圧下、この
温度で３時間液相で加熱して脱カルボニル反応を行っ
た。反応終了後、実施例１と同様に分析を行ったとこ
ろ、ジフェニルカーボネートの收率は１３．０％であっ
た。
【００２２】実施例３ ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 をＰｔＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）
2 （０．５ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２３０℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は３７．２％であった。
2 （０．５ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２３０℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は３７．２％であった。
【００２３】実施例４ ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 をＲｕＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）
3 （１．０ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は４６．８％であった。
3 （１．０ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は４６．８％であった。
【００２４】実施例５ ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 をＰｄＣｌ2 （ＰＰｈ3 ）
2 （０．３ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２３０℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は８．５％であった。
2 （０．３ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２３０℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は８．５％であった。
【００２５】実施例５ ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 をＲｈＣｌ（ＰＰｈ3 ）
3 （２．０ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は９．０％であった。
3 （２．０ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は９．０％であった。
【００２６】実施例７ ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 をＦｅＣｌ3 （１．０ｍｍｏ
ｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変えたほかは、実施
例２と同様に反応を行った。反応終了後、実施例１と同
様に分析を行ったところ、ジフェニルカーボネートの收
率は８．４％であった。
ｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変えたほかは、実施
例２と同様に反応を行った。反応終了後、実施例１と同
様に分析を行ったところ、ジフェニルカーボネートの收
率は８．４％であった。
【００２７】実施例８ ＣｏＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 をＦｅ（ＣＨ3 ＣＯＯ）
2 （１．０ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は９．７％であった。
2 （１．０ｍｍｏｌ）に代え、反応温度を２５５℃に変
えたほかは、実施例２と同様に反応を行った。反応終了
後、実施例１と同様に分析を行ったところ、ジフェニル
カーボネートの收率は９．７％であった。
【００２８】実施例９ Ｃｏ（ＣＨ3 ＣＯＯ）2 ・４Ｈ2 ＯをＦｅ粉末（１．２
４ｍｍｏｌ）に代え、ジフェニルオキサレート量を２
０．６ｍｍｏｌに変え、反応温度を２３０℃に変えたほ
かは、実施例１と同様に反応と分析を行った。その結
果、ジフェニルカーボネートの收率は１５．３％であっ
た。
４ｍｍｏｌ）に代え、ジフェニルオキサレート量を２
０．６ｍｍｏｌに変え、反応温度を２３０℃に変えたほ
かは、実施例１と同様に反応と分析を行った。その結
果、ジフェニルカーボネートの收率は１５．３％であっ
た。
【００２９】比較例１ 反応温度を２５０℃に変え、酢酸（II）コバルト４水和
物を加えなかったほかは、実施例１と同様に反応と分析
を行った。その結果、ジフェニルカーボネートの生成は
認められなかった。
物を加えなかったほかは、実施例１と同様に反応と分析
を行った。その結果、ジフェニルカーボネートの生成は
認められなかった。
【００３０】比較例２ 実施例１と同様の反応器にジフェニルオキサレート（２
０．７ｍｍｏｌ）を入れ容器の空間部をアルゴンガスで
置換して、攪拌下で３３０℃まで昇温した後、常圧下、
この温度で３時間液相で加熱（煮沸）して脱カルボニル
反応を行った。反応終了後、実施例１と同様に分析を行
ったところ、ジフェニルカーボネートの收率は４．１％
であった。
０．７ｍｍｏｌ）を入れ容器の空間部をアルゴンガスで
置換して、攪拌下で３３０℃まで昇温した後、常圧下、
この温度で３時間液相で加熱（煮沸）して脱カルボニル
反応を行った。反応終了後、実施例１と同様に分析を行
ったところ、ジフェニルカーボネートの收率は４．１％
であった。
【００３１】比較例３ 温度計を備えた内容積９０ｍｌのステンレス鋼製密閉反
応器に、ジフェニルオキサレート（２０．７ｍｍｏ
ｌ）、カリウムフェノラート〔ＰｈＯＫ〕（３．８ｍｍ
ｏｌ）及びテトラヒドロフラン（５．０ｇ）を入れ、容
器の空間部をアルゴンガスで置換した後、攪拌下で１０
０℃まで昇温した。そして、この温度で３時間液相で加
熱して脱カルボニル反応を行った。反応終了後、実施例
１と同様に分析を行ったが、ジフェニルカーボネートの
生成は認められなかった。実施例及び比較例の結果を表
１に示す。
応器に、ジフェニルオキサレート（２０．７ｍｍｏ
ｌ）、カリウムフェノラート〔ＰｈＯＫ〕（３．８ｍｍ
ｏｌ）及びテトラヒドロフラン（５．０ｇ）を入れ、容
器の空間部をアルゴンガスで置換した後、攪拌下で１０
０℃まで昇温した。そして、この温度で３時間液相で加
熱して脱カルボニル反応を行った。反応終了後、実施例
１と同様に分析を行ったが、ジフェニルカーボネートの
生成は認められなかった。実施例及び比較例の結果を表
１に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【発明の効果】本発明により、ジアリールオキサレート
からジアリールカーボネートを收率よく製造することが
できる。
からジアリールカーボネートを收率よく製造することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 新居田 貞夫 山口県宇部市大字小串1978番地の５ 宇部 興産株式会社宇部研究所内 (72)発明者 住田 俊彦 山口県宇部市大字小串1978番地の５ 宇部 興産株式会社宇部研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 ジアリールオキサレートに８族金属の化
合物を添加して、ジアリールオキサレートを脱カルボニ
ル反応させることを特徴とするジアリールカーボネート
の製造法。 - 【請求項２】 ８族金属の化合物が、８族金属の有機酸
塩、ホスフィン錯体又はハロゲン化物であることを特徴
とする請求項１記載のジアリールカーボネートの製造
法。 - 【請求項３】 ８族金属の化合物が、鉄族金属の有機酸
塩、ホスフィン錯体又はハロゲン化物であることを特徴
とする請求項１記載のジアリールカーボネートの製造
法。 - 【請求項４】 ８族金属の化合物が白金族金属のホスフ
ィン錯体であることを特徴とする請求項１記載のジアリ
ールカーボネートの製造法。 - 【請求項５】 ジアリールオキサレートに鉄族金属を添
加して、ジアリールオキサレートを脱カルボニル反応さ
せることを特徴とするジアリールカーボネートの製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25695996A JP3206452B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | ジアリールカーボネートの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25695996A JP3206452B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | ジアリールカーボネートの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10101619A true JPH10101619A (ja) | 1998-04-21 |
| JP3206452B2 JP3206452B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=17299753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25695996A Expired - Lifetime JP3206452B2 (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | ジアリールカーボネートの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3206452B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115724743A (zh) * | 2021-08-30 | 2023-03-03 | 上海浦景化工技术股份有限公司 | 一种催化剂在草酸酯脱羰制碳酸酯的应用及其工艺 |
| CN118179550A (zh) * | 2022-12-13 | 2024-06-14 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种负载碱金属的催化剂及其制备方法和应用 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3509415B2 (ja) | 1996-10-01 | 2004-03-22 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製造方法 |
| JP3482786B2 (ja) | 1996-10-01 | 2004-01-06 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製法 |
| JP3509416B2 (ja) | 1996-10-01 | 2004-03-22 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製造法 |
| JP3509419B2 (ja) | 1996-10-04 | 2004-03-22 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製法 |
| JP3509420B2 (ja) | 1996-10-08 | 2004-03-22 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製造法 |
| JP3509421B2 (ja) | 1996-10-08 | 2004-03-22 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製造方法 |
| JP3509422B2 (ja) | 1996-10-15 | 2004-03-22 | 宇部興産株式会社 | ジアリールカーボネートの製造方法 |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP25695996A patent/JP3206452B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115724743A (zh) * | 2021-08-30 | 2023-03-03 | 上海浦景化工技术股份有限公司 | 一种催化剂在草酸酯脱羰制碳酸酯的应用及其工艺 |
| CN118179550A (zh) * | 2022-12-13 | 2024-06-14 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种负载碱金属的催化剂及其制备方法和应用 |
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| JP3206452B2 (ja) | 2001-09-10 |
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