JPH10116749A

JPH10116749A - 金属薄膜型磁気記録媒体用磁性材料の製造方法と金属薄膜型磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10116749A
Application number: JP8267402A
Authority: JP
Inventors: Kazunobu Chiba; 一信千葉; Tsutomu Takeda; 勉武田; Hiroyuki Yamada; 博之山田; Hideo Katagiri; 英雄片桐; Hiroshi Osumi; 廣大隅
Original assignee: Daido Steel Co Ltd; Sony Corp
Current assignee: Daido Steel Co Ltd; Sony Corp
Priority date: 1996-10-08
Filing date: 1996-10-08
Publication date: 1998-05-06
Also published as: US5925404A; CA2217253A1

Abstract

(57)【要約】【課題】磁性材料中の不純物量を減らし、質のよい磁
性材料を得、また、脱硫により磁性材料のコストの低減
化を図る。【解決手段】硫黄の含有量が、２０ｐｐｍより多い金
属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を脱硫して、２０ｐ
ｐｍ以下とした金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性材料を
得、この磁性材料により磁性層を蒸着した金属薄膜型磁
気記録媒体を作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属薄膜型磁気記
録媒体用磁性材料の製造方法と金属薄膜型磁気記録媒体
に係わる。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末当の
粉末磁性材料を、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、
ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等
の有機バインダー中に分散させた磁性塗料を塗布、乾燥
することにより作製される塗布型の磁気記録媒体が広く
知られている。

【０００３】これに対して、高密度磁気記録への要求の
高まりと共に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ
−Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空蒸着法やスパッ
タリング法、あるいはイオンプレーティング法等の真空
薄膜形成手段によりポリエステルフィルム等の非磁性支
持体上に直接被着した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気
記録媒体が提案され、注目を集めている。

【０００４】これらの金属磁性薄膜型磁気記録媒体は、
保磁力や角形比等に優れており、短波長での電磁変換特
性に優れているばかりでなく、磁性層の厚さを極めて薄
くできるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小
さいこと、磁性層中に非磁性材料であるバインダーを混
入させる必要がないため、磁性材料の充填密度を高める
ことができる等、多くの利点を有している。

【０００５】更に、この種の金属磁性薄膜型磁気記録媒
体の電磁変換特性を向上させ、より大きな出力を得るこ
とができるようにするため、磁性層を形成する場合、磁
性層を斜めに蒸着するいわゆる斜方蒸着が実用化されて
いる。

【０００６】この斜方蒸着は、蒸着蒸気をシャッターや
マスク等により遮って斜め入射の蒸着成分のみを使用す
ることにより、優れた磁気特性、および電磁変換特性を
実現している。

【０００７】しかしながら、この斜方蒸着では、蒸着時
の磁性材料の蒸気は１０〜２０％程度しか非磁性支持体
上に被着せず、磁性材料の利用効率はかなり悪い状態で
ある。したがって、この場合磁性材料のコストの低減を
図ることが要求されている。

【０００８】また、特開昭６３−１９５２３４号公報、
特開平７−５４０６９号公報に示されるように、一般的
に蒸着する磁性材料は、その中に含まれるカーボン、Ａ
ｌ、Ｍｎ、酸素等の不純物の量により、薄膜成膜後の磁
気特性、電磁変換特性等に影響が出るためにその純度に
はかなり厳しい要求がなされている。

【０００９】例えば、磁性材料としてＣｏ合金を用い
て、蒸着テープを作製した場合については、Ｃｏ合金に
含まれる酸素の含有量が、蒸着時の磁気特性の安定性
や、ドロップアウト等のテープ特性に影響を与えること
が知られており、Ｃｏ合金中の酸素含有量を極力低く抑
えることがテープ特性を確保するために必要であった。

【００１０】このため、Ｃｏ合金の溶解時に酸素を強制
的に取り除く手法として、真空溶解や、溶解時の脱酸剤
添加等、種々の手法がとられてきている。この中でも特
に有効な手段として脱酸剤の添加が挙げられるが、脱酸
剤の残存量が大きいことでテープの特性に悪影響を及ぼ
すこともあり、Ｃｏ合金中の酸素の除去手段の選定が重
要な位置を占めていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの純度
を向上させる手段を採用することは基本的には工程を増
やすことになり、コストが上がる。また、従来から行わ
れてきた高純度な材料をはじめから使用すると、原料の
コスト高となり、結果的には工程の増加と同様に原材料
のコストが上がり、テープコストの上昇につながる。

【００１２】さらにＣｏ合金のコストを低く抑える手段
として、原料となるコバルトの純度の低いものを使用す
ることが考えられている。しかし、低純度コバルトに含
まれている不純物の中でも特に硫黄が多いため、溶解時
の加工時にひび割れが発生し、加工性を大きく低下させ
る結果となり使用できなかった状態であった。

【００１３】そこで、本発明は、従来の実情の鑑みて提
案されたものであり、非磁性支持体上の真空蒸着により
磁性薄膜を形成する金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原
料を脱硫することにより、金属薄膜型磁気記録媒体用の
磁性材料を作製し、これを用いて金属薄膜型磁気記録媒
体を作製するものとする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の金属薄膜型磁気
記録媒体用の磁性材料の製造方法は、硫黄の含有量が２
０ｐｐｍより多い金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料
を脱硫して、２０ｐｐｍ以下とした金属薄膜型磁気記録
媒体用の磁性材料を得るものである。

【００１５】また、硫黄の含有量が、２０ｐｐｍより多
い金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を脱硫して、２
０ｐｐｍ以下とした金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性材
料を使用して磁性層を作製した金属薄膜型磁気記録媒体
を得る。

【００１６】本発明によれば、蒸着時のスプラッシュ等
に起因する磁性層の欠落や、ドロップアウト等を抑える
ことができ、かつ、金属薄膜型磁気記録媒体の製造コス
トの低減化を図ることができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施例に
ついて説明するが、本発明は、以下に示す例に限定され
るものではない。

【００１８】〔実施例１〜４〕および〔比較例１〜４〕
において使用した、非磁性支持体上に蒸着する磁性材料
は、下記（表１）および（表２）に示す磁性原料を、
０．１Ｐａの真空中に設置された高周波誘導加熱により
溶解精錬して作製する。

【００１９】ここで、〔実施例１、２〕および〔比較例
２、４〕においては、下記（表１）に示す磁性原料Ｂを
使用し、〔比較例１〕においては、（表１）に示す磁性
原料Ａを使用するものとする。

【００２０】磁性原料ＡおよびＢに含まれている不純物
の濃度について、下記（表１）に示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】また、〔実施例３、４〕および〔比較例
３〕において使用した磁性原料の不純物の濃度につい
て、下記（表２）に示す。

【００２３】

【表２】

【００２４】また、〔実施例１〜４〕および〔比較例１
〜４〕においては、磁性原料の合金中の酸素を除去する
ために脱酸剤を投入するが、この脱酸剤として使用した
材料が、極力残存しないように、溶解時間の長さを設定
するとともに、投入を少量ずつ繰り返しながら、磁性材
料中の脱酸剤の量を調整する。

【００２５】この脱酸剤としては、カーボンを使用す
る。この場合、カーボンは、磁性原料の合金中の酸素や
不純物として存在する酸化物の酸素の反応して一酸化炭
素または二酸化炭素となり、磁性原料中の酸素を除去す
るが、このカーボンの残存量が多いと、蒸着時にスプラ
ッシュが多くなる傾向があり、磁性層の微小な欠陥を生
じ、ドロップアウトの増加やエラーレートの劣化の原因
となる。このため、残存するカーボンの量が極力少なく
なるように、カーボンの投入量、および溶解時間を調整
する。

【００２６】次に、磁性原料の脱硫工程について説明す
る。〔実施例１〕においては、（表１）の磁性原料Ｂの
９９％Ｃｏを使用し、その真空溶解時に溶解された合金
原料中にカーボンを用いて脱酸後、表面に浮遊したスケ
ールを除去し、ＣａＦ₂とＣａＯの等量混合物を適宜投
入して脱硫を行う。

【００２７】〔実施例２〕においては、（表１）の磁性
原料Ｂの９９％Ｃｏを使用し、その真空溶解時に溶解さ
れた合金原料中にカーボンを用いて脱酸後、一度冷却固
化し、磁性原料の表面に付着しているスケールを機械加
工にて切断除去し、再度真空溶解を行い、ＣａＦ₂とＣ
ａＯの等量混合物を適宜投入して脱硫を行う。すなわち
この工程をとることにより、真空溶解は２回行う。

【００２８】〔実施例３〕においては、（表２）の磁性
原料を使用し、０．１Ｐａの真空中で高周波誘導加熱に
より溶解精錬を行う。このようにして得られたものを２
つに分け、一方については脱硫は行わず磁性材料とし、
これを〔比較例３〕とした。また、他方をエレクトロス
ラグ炉法、いわゆるＥＳＲ（Electro Slag Remelting）
法により再度溶解し、この際、ＣａＦ₂−ＣａＯ系スラ
グを用いて溶融磁性材料の脱硫を行って作製する。この
とき、ＣａＦ₂−ＣａＯ系スラグの投入量、溶融時間を
変えて脱硫を行い、〔実施例４〕の磁性材料を作製す
る。このＥＳＲ法においては、溶融したＣａＦ₂−Ｃａ
Ｏ系スラグが溶融磁性材料を大気から保護しつつ硫黄を
スラグ中に吸収除去させることができる。

【００２９】〔比較例１〕においては、（表１）の磁性
原料Ａの９９．９％Ｃｏを使用し、高周波誘導加熱型の
真空溶解炉で真空溶解を行って磁性材料を作製した。こ
のとき、脱硫は行わないものとした。

【００３０】〔比較例２、４〕においては、（表１）の
磁性原料Ｂの９９％Ｃｏを使用し、高周波誘導加熱型の
真空溶解炉で真空溶解を行って磁性材料を作製した。こ
のとき、脱硫は行わないものとした。

【００３１】上述のようにして、（表１）および（表
２）に示した磁性原料から作製した〔実施例１〜４〕お
よび〔比較例１〜４〕の各磁性材料の不純物含有量につ
いて、〔実施例１、２〕および〔比較例１、２、４〕に
ついては（表３）に示し、〔実施例３、４〕および〔比
較例３〕については（表４）に示す。ここで、これらの
磁性材料のＣｏの組成比率はＣｏ以外の不純物の組成比
率を除いた残量（残部）とする。

【００３２】

【表３】

【００３３】

【表４】

【００３４】なお、磁性原料および磁性材料の組成値
は、島津製作所製のＩＰＣ発光分光式測定器、および燃
焼赤外線吸収法等を用いて測定した。

【００３５】上述のようにして磁性原料から作製した磁
性材料を、それぞれ熱間圧延により１０．５ｍｍの円筒
状に成形する。この後、磁性材料の表層にできた酸化物
の層を除去するために切削加工を施し、シャーリングに
より直径１０ｍｍで長さ１２ｍｍ、あるいは直径１０ｍ
ｍで長さ２６ｍｍの円筒状に加工する。

【００３６】上述のように円筒状に加工する際には、切
削油を使用したため、これを除去する手段として、中性
洗剤による洗浄を行い、さらに純水により洗浄を行う。
その後乾燥したものを蒸着用磁性材料とする。

【００３７】非磁性支持体上に金属薄膜を成膜する蒸着
装置の一例を説明する。図１に示すように、この装置に
おいては、頭部および底部にそれぞれ設けられた排気口
１５および１６から排気されて内部が真空状態となされ
た真空室１内に、図１においては反時計回り方向に回転
する送りロール３と、時計回り方向に回転する巻き取り
ロール４とが設けられ、これら送りロール３から巻き取
りロール４にテープ状の非磁性支持体２が順次走行する
ようになされている。

【００３８】これら送りロール３から巻き取りロール４
に非磁性支持体２が走行する途中には、冷却キャン５が
設けられている。この冷却キャン５は、上記非磁性支持
体２を図１において下方に引き出すように設けられ、時
計回りに回転する構成とされる。なお、送りロール３、
巻き取りロール４、および冷却キャン５は、それぞれ非
磁性支持体２の幅とほぼ同じ幅からなる円筒状をなすも
のであり、また、この冷却キャン５には冷却装置（図示
せず）が設けられていて、非磁性支持体２の温度上昇に
よる変形等を抑制している。

【００３９】非磁性支持体２は、送りロール３から順次
送り出され、冷却キャン５周面を通過し、巻き取りロー
ル４に巻き取られていくようになされている。なお、送
りロール３と冷却キャン５との間、および冷却キャン５
と巻き取りロール４との間には、それぞれガイドロール
６および７が配置され、送りロール３から冷却キャン５
および冷却キャン５から巻き取りロール４にわたって走
行する非磁性支持体２に所定にテンションをかけ、非磁
性支持体２が円滑に走行するようになされている。

【００４０】また、真空室１内には、冷却キャン５の下
方にルツボ８が設けられ、このルツボ８内には、金属磁
性薄膜を形成る金属磁性材料９が充填された蒸着源が配
置されている。このルツボ８には、蒸着に伴う金属磁性
材料９の減少を補給する磁性材料供給機構２１から、ペ
レット状磁性材料が供給されている。

【００４１】一方、真空室１の側壁部には、蒸着源、す
なわちルツボ８内に充填された金属磁性材料９を加熱蒸
発させるための電子銃１０が取り付けられている。電子
銃１０は、これにより放出される電子線Ｂがルツボ８内
の金属磁性材料９に照射されるような位置に配置され
る。そして、電子線Ｂを照射されたことによって蒸発し
た金属磁性材料９が冷却キャン５の周面を定速で走行す
る非磁性支持体２上に蒸着し、磁性層として被着形成さ
れる。

【００４２】また、冷却キャン５の近傍には、シャッタ
ー１３が配置されている。このシャッター１３は、冷却
キャン５の周面を定速で走行する非磁性支持体２の所定
領域を覆う形で形成され、このシャッター１３により金
属磁性材料９の蒸気が、非磁性支持体２に対して所定の
角度範囲で斜めに蒸着されるようになっている。

【００４３】さらにこのような蒸着に際し、真空室１に
側壁部を貫通して設けられている酸素ガス導入口１４を
介して非磁性支持体２の表面に酸素ガスが供給され、磁
気特性、耐久性および耐候性の向上が図られている。

【００４４】〔実施例１〜４〕および〔比較例１〜４〕
では、上述したような構成を有する蒸着装置を用いて、
（表５）に示す条件で非磁性支持体上に酸素雰囲気中で
斜め蒸着を行う。

【００４５】

【表５】

【００４６】磁性層形成後、通常の金属薄膜型磁気記録
媒体と同様に、バックコート層、トップコート層を形成
して、（表５）に示す所定のテープ幅に裁断してサンプ
ルテープを作製する。

【００４７】上述のようにして作製したそれぞれのサン
プルテープの、ドロップアウト、磁気特性劣化、エラー
レート、および電磁変換特性を測定した。

【００４８】なお、ドロップアウトはソニー製ＤＣＲ−
ＶＸ１０００改造機を用い、再生出力レベルから−１６
ｄＢ２０μｓｅｃ以上の出力落ちをドロップアウトとし
て、１０分間測定を行い、１分間当たりのドロップアウ
ト数を求めた。

【００４９】エラーレートについても、ソニー製ＤＣＲ
−ＶＸ１０００改造機を用いて測定した。エラーレート
は一般的に、電磁変換特性の大小等に依存するランダム
エラーと呼ばれる１バイト（１バイト＝８ビット）以下
の信号の欠落で発生するものがある。上述した各実施例
および比較例では、使用した非磁性支持体は同一のもの
であり、磁性原料、すなわち磁性材料以外の電磁変換特
性に影響を与えるものは同じものを使用しているため、
ランダムエラーレートは各実施例および比較例では同じ
レベルであると判断できる。しかし、磁性層の欠落や、
付着物によるような、比較的大きなものによる場合に
は、バーストエラーと呼ばれるエラーが発生する。この
バーストエラーは、数バイト長以上のデータの欠落によ
り発生するものと定義されるが、上記各実施例および比
較例では、ランダムエラーレートと、バーストエラーレ
ートとのトータルのエラーレートを測定した。

【００５０】電磁変換特性についても、ソニー製ＤＣＲ
−ＶＸ１０００改造機を用いて測定した。電磁変換特性
の値は、〔比較例１〕での再生出力（１／２Ｔ：λ（波
長）＝０．５μｍ）を０ｄＢとして比較した。

【００５１】また、磁気特性の劣化の測定は、ガス腐食
試験機を用い、ＳＯ₂ガス０．６ｐｐｍを含む、３５℃
９０％ＲＨ（相対湿度）雰囲気中で、２４時間保存後の
飽和磁化（φｓ）を測定し、その劣化量（Δφｓ）を次
式により求めた。 Δφｓ＝〔（φｓ₁−φｓ₂）／φｓ₁〕×１００
（％）但し、φｓ₁は保存前の測定値を示し、φｓ₂は保存後
の測定値を示す。

【００５２】（表６）に〔実施例１〜４〕および〔比較
例１〜４〕のドロップアウト、磁気特性劣化、エラーレ
ート、および電磁変換特性のそれぞれの測定結果およ
び、テープコストと、蒸着時のスプラッシュの状態につ
いての評価結果を示す。なお、（表６）中のテープコス
トについては、従来技術において、９９．９％Ｃｏの磁
性原料を使用して蒸着テープを作成した場合のコストと
比較して、安価であったものを○、高価であったものを
×で示す。また、（表６）中の蒸着時のスプラッシュの
状態については、スプラッシュが生じなかったものを
◎、１分間に１個以下であったものを○、１分間に１〜
２個であったものを△、１分間に１０個程度であったも
のを□で示す。また、〔比較例２〕の評価である−につ
いては、〔比較例２〕は、ペレット作製工程において、
割れや切断が発生し、加工が不可能であったため測定が
できなかったことを示している。

【００５３】

【表６】

【００５４】（表３）、（表４）および（表６）に示す
ように、〔実施例１〜４〕の磁性材料は、いずれも硫黄
の含有量が２０ｐｐｍ以下となっており、〔比較例２〜
４〕においては、いずれも硫黄の含有量が２０ｐｐｍよ
り多くなっている。〔実施例１〜４〕と、〔比較例２〜
４〕を比較すると、脱硫を行い、硫黄の含有量を２０ｐ
ｐｍ以下とした金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性材料を
使用して磁性層を作製した金属薄膜型磁気記録媒体は、
保存特性、電磁変換特性に優れ、エラーレートの小さい
金属薄膜型磁気記録媒体を得ることができ、また、蒸着
時のスプラッシュ等に起因する磁性層の欠落や、ドロッ
プアウト等を抑えることができたことがわかる。

【００５５】また、〔比較例１〕は、（表１）において
示した磁性原料Ａ、すなわち９９．９％Ｃｏを使用して
磁性材料を作製し、これを用いて磁性層の蒸着を行った
ものである。これは、不純物の含有量が予め少ないもの
であったため、磁性材料の硫黄の含有量も（表３）に示
すように１０ｐｐｍ未満であるが、磁性原料Ａ、すなわ
ち９９．９％Ｃｏは価格が高く、蒸着時に使用する磁性
材料に加工しても高価であり、磁気記録媒体としての特
性については良好であるが、結局、製品コストを上げて
しまうという欠点がある。

【００５６】なお、〔比較例２〕は、上述した方法によ
り磁性材料を作製した場合、ペレット作製工程におい
て、直径１０．５ｍｍの線材への引き延ばし工程におい
て、割れや切断が発生し、蒸着時に使用するペレットの
形状には加工することができなかった。このため、（表
３）中の〔比較例２〕は、直径１０．５ｍｍの線材への
引き延ばし工程中での不純物含有量を測定したものであ
る。

【００５７】〔実施例３〕と〔比較例３〕とを比較する
と、磁性原料を０．１Ｐａの真空中で高周波誘導加熱に
より溶解精錬を行ったあと、ＥＳＲ法により再度溶解
し、この際、ＣａＦ₂−ＣａＯ系スラグを用いて溶融磁
性材料の脱硫を行った〔実施例３〕の方が磁気特性、エ
ラーレート、電磁変換特性ともに優れていることがわか
る。また、蒸着時のスプラッシュの低減も図ることがで
きることがわかる。

【００５８】また、〔実施例３〕においては、ＥＳＲ法
により脱硫を行ったが、この方法は、〔実施例１〕のよ
うに真空溶解時に脱硫を行う方法により磁性材料を作製
した場合よりも、磁性材料中の脱硫材の残存量を少なく
することができる。これは、ＥＳＲ法による場合には、
脱硫材が溶解時に浮遊してくるので、除去しやすいから
である。

【００５９】上述した実施例および比較例については、
高周波誘導加熱により溶解精錬を行ったが、この例に限
定されることなく、アーク溶解やＥＢ（電子ビーム衝
撃）溶解等の方法も使用することができる。

【００６０】上述した非磁性支持体上には、強磁性金属
材料を直接被着することにより金属磁性薄膜を磁性層と
して形成しているが、この金属磁性材料は、通常の蒸着
磁気記録媒体に使用されるものであれば、いかなるもの
であってもよい。

【００６１】例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金
属、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ
−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｆｅ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合
金が挙げられる。これらの単層膜であってもよいし、多
層膜であってもよい。

【００６２】また、非磁性支持体としては、従来公知の
ものがいずれも使用することができるが、例えばポリエ
チレンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル
等のビニル系樹脂が挙げられる。

【００６３】さらには、非磁性支持体と、金属磁性薄膜
間、あるいは多層膜の場合には、各層間の付着力向上、
並びに保磁力の制御等のため、下地層、または中間層を
設けてもよい。また、例えば磁性層表面近傍が耐蝕性改
善等のために酸化物となっていてもよい。

【００６４】金属磁性薄膜形成の手段としては、真空下
で強磁性材料を加熱蒸発させ、非磁性支持体上に沈着さ
せる真空蒸発法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行
うイオンプレーティング法、いわゆるＰＶＤ技術によれ
ばよい。

【００６５】また、上記非磁性支持体上に形成された強
磁性金属材料上には、保護膜層が形成されていてもよ
い。この材料としては、通常の金属磁性薄膜用保護膜と
して一般に使用されているものであれば、いかなるもの
であってもよい。例えばカーボン、ＣｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ
₃、ＢＮ、Ｃｏ酸化物、ＭｇＯ、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｏ₄、
SiN_X、ＳｉＣ、ＳｉＮ_X−ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔｉ
Ｏ₂、ＴｉＣ等が挙げられる。これらの単層膜であって
も良いし、多層膜や、金属との複合膜であってもよい。

【００６６】本発明にかかる磁気記録媒体、主に磁気テ
ープの構成は、上述した例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲での変更が可能である。
例えば、必要に応じてバックコート層を形成したり、非
磁性支持体上に下塗層を形成したり、潤滑剤、防錆剤等
の層を形成することは何ら差し支えない。この場合、バ
ックコート層に含まれる非磁性顔料、樹脂結合剤、ある
いは潤滑剤、防錆剤等に含まれる材料としては、従来公
知のものがいずれも使用することができる。

【００６７】本発明は、硫黄の含有量が、２０ｐｐｍよ
り多い金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を、真空溶
解時に、脱硫材を添加することにより、あるいはエレク
トロスラグ炉法、いわゆるＥＳＲ法によって溶解した際
に、脱硫材のスラグを使用することにより、脱硫して、
硫黄の含有量を、２０ｐｐｍ以下の磁性材料を作製し、
この磁性材料を使用して金属薄膜型磁気記録媒体を作製
するものである。

【００６８】本発明によれば、磁性層の蒸着を行う磁性
材料中の硫黄の含有量の低減下を図ることができたた
め、蒸着時のスプラッシュ等に起因する磁性層の欠落
や、ドロップアウト等を抑えることができた。また、予
めＣｏの純度の比較的低い磁性原料、例えば、Ｃｏ９９
％の原料を使用した場合においても、Ｃｏの純度の高い
材料、例えば、Ｃｏ９９．９％の原料を使用した場合と
同等の特性を有する金属薄膜型磁気記録媒体を作製する
ことができた。このため、金属薄膜型磁気記録媒体用に
磁性材料および金属薄膜型磁気記録媒体の製造コストの
大幅な低減化を図ることができた。

【００６９】

【発明の効果】本発明によれば、磁性層の蒸着を行う磁
性材料中の硫黄の含有量の低減下を図ることができたた
め、蒸着時のスプラッシュ等に起因する磁性層の欠落
や、ドロップアウト等を抑えることができた。また、Ｃ
ｏの純度の比較的低い磁性原料、例えば、Ｃｏ９９％の
磁性原料を使用した場合においても、Ｃｏの純度の高い
材料を使用した場合と同等の磁気特性を有する金属薄膜
型磁気記録媒体を作製することができた。このため、金
属薄膜型磁気記録媒体用に磁性材料および金属薄膜型磁
気記録媒体の製造コストの大幅な低減化を図ることがで
きた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の金属磁性薄膜型磁気記録媒体を作製す
る蒸着装置の一例の概略図を示す。

【符号の説明】

１真空室、２非磁性支持体、３送りロール、４
巻き取りロール、５冷却キャン、６，７ガイドロー
ル、８ルツボ、９金属磁性材料、１０電子銃、１
３シャッター、１４酸素ガス導入管、１５，１６
排気口、２１磁性材料供給機構

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山田博之愛知県名古屋市中区錦１−11−18 大同特殊鋼株式会社内 (72)発明者片桐英雄愛知県名古屋市中区錦１−11−18 大同特殊鋼株式会社内 (72)発明者大隅廣愛知県名古屋市中区錦１−11−18 大同特殊鋼株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】硫黄の含有量が、２０ｐｐｍより多い金
属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を脱硫して、硫黄の含有量を、２０ｐｐｍ以下とすることを特徴とす
る金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性材料の製造方法。
【請求項２】硫黄の含有量が、２０ｐｐｍより多い金
属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を、エレクトロスラ
グ炉法によって脱硫することを特徴とする請求項１に記
載の金属薄膜型磁気記録媒体用の磁性材料の製造方法。
【請求項３】硫黄の含有量が、２０ｐｐｍより多い金
属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を脱硫して、硫黄の含有量を、２０ｐｐｍ以下とした金属薄膜型磁気
記録媒体用の磁性材料を蒸着したことを特徴とする金属
薄膜型磁気記録媒体。
【請求項４】硫黄の含有量が、２０ｐｐｍより多い金
属薄膜型磁気記録媒体用の磁性原料を、エレクトロスラ
グ炉法によって脱硫して作製した金属薄膜型磁気記録媒
体用の磁性材料を蒸着したことを特徴とする請求項３に
記載の金属薄膜型磁気記録媒体。