JPH10128658A - 研磨装置及び研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被研磨面が研磨パッドの表面にならう表面基
準研磨とし、均一性の良い研磨が可能な研磨装置及び研
磨方法を提供する。 【解決手段】 定盤１０３の上面に研磨パッド１０２を
取り付け、この定盤１０３の上方に被研磨ウェーハ１０
１を保持するための非回転ホルダー１１０を設け、この
非回転ホルダー１１０に、被研磨ウェーハ１０１の表面
を研磨パッド１０２に気体によって加圧するための加圧
室１１４、及び、気体を注入する注入経路１１０ｃを設
け、さらに非回転ホルダーに、被研磨ウェーハ１０１を
強制的に回転させるための強制回転ギヤーガイド１０
６、回転駆動ギヤ１０７および駆動モーター１０８を設
けている。従って、均一性の良い研磨が可能な研磨装置
及び研磨方法を提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、研磨装置及び研
磨方法に係わり、特に、被研磨面が研磨パッドの表面に
ならう表面基準研磨とすることが可能な研磨装置及び研
磨方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図２（ａ）は、従来の研磨装置を示す断
面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す研磨装置
におけるウェーハホルダーであって、このウェーハホル
ダーに保持された被研磨ウェーハを研磨面（表面）側か
ら視た平面図である。

【０００３】図２（ａ）に示すように、定盤２０３は、
その上面が円形とされており、この円の中心を通る軸を
回転軸２０７として図示せぬモーターにより矢印２０４
のように回転する構成としている。この定盤２０３の上
面には研磨パッド２０２が貼りつけられており、この研
磨パッド２０２の上方且つ上記回転軸２０７の近傍には
研磨液２０５を流し出すためのノズル２０９が設けられ
ている。

【０００４】定盤２０３の上方にはウェーハ２０１を保
持するためのウェーハホルダー２２０が設けられてお
り、このウェーハホルダー２２０の下面には被研磨ウェ
ーハを水吸着するための円形のバッキングパッド２２１
が貼りつけられている。ウェーハホルダー２２０の下面
においてバッキングパッド２２１の外周を囲むようにガ
イドリング２２２が設けられており、このガイドリング
２２２は研磨中のウェーハ２０１の飛び出しを防止する
ためのものである。

【０００５】上記ウェーハホルダー２２０は、自在継手
２２４を介して図示せぬモーター及び図示せぬ加圧手段
に連結されており、このモーターによりホルダー２２０
全体を矢印２２５の方向に回転させる構成としている。

【０００６】次に、上述の従来の研磨装置によりウェー
ハを研磨する研磨方法について説明する。まず、図２
（ａ）、（ｂ）に示すように、バッキングパッド２２１
に被研磨ウェーハ２０１を水吸着することにより、該被
研磨ウェーハ２０１をウェーハホルダー２２０に保持す
る。次に、ノズル２０９から研磨液２０５を研磨パッド
２０２の表面上に流しながら、定盤２０３を矢印２０４
のように回転させる。そして、ウェーハホルダー２２０
を矢印２２５のように回転させることにより、被研磨ウ
ェーハ２０１も回転する。これとともに、被研磨ウェー
ハ２０１の研磨面である表面を研磨パッド２０２の表面
に押圧し、さらに被研磨ウェーハ２０１を矢印２２６の
方向に所定の圧力で加圧する。この状態を所定の時間維
持することにより、被研磨ウェーハ２０１の表面が研磨
される。この際、ガイドリング２２２により研磨中のウ
ェーハ２０１がウェーハホルダー２２０の外に飛び出す
のを防止している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
研磨方法では、バッキングパッド２２１を被研磨ウェー
ハ２０１の裏面に直接接触させ、このバッキングパッド
２２１を介して上記加圧手段により被研磨ウェーハ２０
１を研磨パッド２０２に加圧している。このため、バッ
キングパッド２２１の厚みが一定でなく厚みむらがある
場合に、この厚みむらがウェーハ２０１の裏面に伝えら
れる研磨圧力のむらとなり、この結果、ウェーハ２０１
の表面が均一に研磨されないという問題がある。これと
同様に、被研磨ウェーハ２０１に反り、うねり、厚さむ
らがある場合も、これらがウェーハ２０１の裏面に伝え
られる研磨圧力のむら（即ち、ウェーハ２０１の厚さが
厚い部分は研磨圧力が大きくなるが、厚さが薄い部分は
研磨圧力が小さくなるという研磨圧力のむら）となり、
ウェーハ２０１の表面が均一に研磨されないという問題
がある。

【０００８】すなわち、本来は、被研磨ウェーハを表面
基準で研磨する必要があるのであるが、従来の研磨装置
及び研磨方法では、バッキングパッド２２１の厚みむら
やウェーハ２０１の厚みむら等に依存する裏面基準研磨
になってしまうという問題がある。

【０００９】尚、裏面基準研磨とは、上述のように被研
磨ウェーハの裏面の状態でウェーハ表面の研磨のされか
たが変わってくること、つまり被研磨ウェーハの裏面の
状態に依存して研磨されることをいう。表面基準研磨と
は、被研磨ウェーハの裏面の状態に依存することなく、
研磨パッドの表面にならい被研磨面を均一に研磨できる
ことをいう。

【００１０】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、被研磨面が研磨パッド
の表面にならう表面基準研磨とし、均一性の良い研磨が
可能な研磨装置及び研磨方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この発明に係る研磨装置
は、上記課題を解決するため、上面に研磨パッドを取り
付けることが可能な定盤と、上記定盤の上方に設けられ
た、被研磨基板を保持するためのホルダーと、上記ホル
ダーに設けられた、上記被研磨基板の表面を上記研磨パ
ッドに流体によって押し当てる手段と、上記ホルダーに
設けられた、上記被研磨基板を強制的に回転させる回転
手段と、を具備することを特徴とする。

【００１２】また、この発明に係る研磨方法は、回転し
ている研磨パッドの表面に被研磨基板の表面を押圧して
研磨する研磨方法において、上記研磨する際に、上記被
研磨基板を強制的に回転させながら該被研磨基板の裏面
を該研磨パッドに気体によって加圧し圧接することを特
徴とする。

【００１３】上記研磨装置及び研磨方法では、ホルダー
に押し当てる手段を設けることにより、被研磨基板を研
磨する際、基板の表面を研磨パッドに気体によって加圧
し押しつけている。このため、被研磨基板に反りやうね
り等があっても、基板の研磨面全体を研磨パッド表面に
均一に押しつけることができる。したがって、被研磨基
板の裏面の状態に依存することなく表面全体に均一に研
磨圧力がかかるから、被研磨面が研磨パッドの表面にな
らう表面基準研磨とすることができる。さらに、ホルダ
ーに回転手段を設けることにより、研磨パッド上で基板
を強制的に回転させている。したがって、被研磨基板の
表面をより面内均一性良く研磨できる。

【００１４】また、この発明に係る研磨装置は、上面に
研磨パッドを取り付けることが可能な定盤と、上記定盤
の上方に設けられた非回転ホルダーと、上記非回転ホル
ダーに設けられた被研磨基板の外周を保持するガイド
と、上記ガイドを強制的に回転させるモーターと、上記
非回転ホルダーと上記被研磨基板の裏面とで形成される
加圧室と、上記被研磨基板の表面を上記研磨パッドに押
し当てるために、上記加圧室を気体により加圧する加圧
手段と、を具備することを特徴とする。

【００１５】さらに、上記研磨装置は、上記モーターに
流れる電流の変化を測定することによって研磨の終点を
検出する研磨終点検出器を含むことが好ましい。被研磨
基板の表面で研磨されている層の種類によって研磨時の
研磨抵抗が異なるから、これによりモーターに流れる電
流値も異なるものとなるのを利用して、研磨されている
層の変化時のモーターの電流値の変化を測定することに
より研磨終点時を検出することができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
一実施の形態について説明する。図１（ａ）は、この発
明の実施の形態による研磨装置を示す断面図であり、図
１（ｂ）は、図１（ａ）に示す研磨装置における非回転
ホルダーと、このホルダーに保持された被研磨ウェーハ
を研磨面（表面）側から視た平面図である。

【００１７】図１（ａ）、（ｂ）に示すように、定盤１
０３は、その上面が円形とされており、この円の中心を
通る軸を回転軸１１７として図示せぬモーターにより矢
印１０４のように回転する構成にしている。この定盤１
０３の上面には研磨パッド１０２が貼りつけられてお
り、この研磨パッド１０２の上方且つ上記回転軸１１７
の近傍には研磨液１０５を流し出すためのノズル１０９
が設けられている。

【００１８】定盤１０３の上方にはウェーハ（被研磨基
板）１０１を保持するためのステンレス製の非回転ホル
ダー１１０が設けられている。この非回転ホルダー１１
０は、その底部に形成された下端部のフランジ状の部分
１１０ａと、この部分１１０ａの上面中央部上に形成さ
れた円柱形状の凸部分１１０ｂと、から構成している。
非回転ホルダー１１０は、それ自身は回転することがな
く、上下方向１１１にスライド自在の構成としている。

【００１９】非回転ホルダー１１０の下端部のフランジ
状の部分１１０ａの下面には被研磨ウェーハ１０１を直
接保持するリング形状の強制回転ギヤーガイド１０６が
設けられている。このギヤーガイド１０６は、その内側
の形状が被研磨ウェーハ１０１の平面形状（この実施例
ではオリエンテーションフラットのあるウェーハ形状）
に合わせて作られている。つまり、強制回転ギヤーガイ
ド１０６は、その内側に被研磨ウェーハ１０１をぴった
りと嵌め込むことができるように作られている。ギヤー
ガイド１０６の外周には図示せぬギヤーが刻まれてい
る。

【００２０】非回転ホルダー１１０の下端部のフランジ
状の部分１１０ａの下面には、強制回転ギヤーガイド１
０６のギヤーと噛み合う位置に回転駆動ギヤ１０７が設
けられている。この回転駆動ギヤ１０７はギヤーガイド
１０６に比べて十分に小さい形状としている。非回転ホ
ルダー１１０の下端部のフランジ状の部分１１０ａの下
面には、この面にギヤーガイド１０６及び回転駆動ギヤ
１０７を押えるリング形状の押さえ板１１５が設けられ
ている。尚、この押さえ板１１５の材質はステンレスで
あり、強制回転ギヤーガイド１０６及び回転駆動ギヤ１
０７の材質はデルリンやエポキシ樹脂等である。

【００２１】非回転ホルダー１１０の下端部のフランジ
状の部分１１０ａの上面には回転駆動ギヤ１０７の上方
に位置する駆動モーター１０８が取り付けられており、
この駆動モーター１０８は駆動軸１０８ａによって回転
駆動ギヤ１０７に連結されている。駆動モーター１０８
は、これに流れる電流の変化を測定することによって研
磨の終点を検出する図示せぬ研磨終点検出器に接続され
ている。

【００２２】上記強制回転ギヤーガイド１０６は、それ
に被研磨ウェーハ１０１を保持すると、このウェーハ１
０１の裏面と非回転ホルダー１１０の下端部のフランジ
状の部分１１０ａの下面との間に加圧室（隙間）１１４
ができる構成としている。非回転ホルダー１１０には上
記加圧室１１４につながるように気体（例えば、エア
ー）を矢印１１２の方向に注入する注入経路１１０ｃが
設けられており、この注入経路１１０ｃは研磨時にエア
ーを注入する図示せぬ気体注入手段に繋げられている。
この気体注入手段によりエアーを注入経路１１０ｃを通
して加圧室１１４に注入したときに、このエアーが加圧
室１１４から排気される排気孔（排気部）１１３が非回
転ホルダー１１０の下端部のフランジ状の部分１１０ａ
に設けられている。

【００２３】次に、上述の研磨装置によりウェーハを研
磨する研磨方法について図１（ａ）、（ｂ）を参照しな
がら説明する。まず、図１（ａ）に示す非回転ホルダー
１１０を上方にスライドさせ、強制回転ギヤーガイド１
０６に被研磨ウェーハ１０１を装着し、加圧室１１４を
減圧する（この状態は図示していない）ことにより、該
被研磨ウェーハ１０１を非回転ホルダー１１０に保持す
る。

【００２４】この後、ノズル１０９から研磨液１０５を
研磨パッド１０２の表面上に流しながら、定盤１０３を
図示せぬモーターにより矢印１０４の方向に回転させ
る。

【００２５】次に、非回転ホルダー１１０を下方にスラ
イドさせることにより、被研磨ウェーハ１０１の研磨面
である表面を研磨パッド１０２の表面に軽く接触させ
る。そして、この高さに非回転ホルダー１１０を固定す
る。

【００２６】次に、駆動モーター１０８により駆動軸１
０８ａを介して回転駆動ギヤ１０７を回転させ、この回
転が強制回転ギヤーガイド１０６のギヤに伝わることに
よりギヤーガイド１０６が矢印１２５の方向に回転し、
この回転に同期して被研磨ウェーハ１０１を強制的に回
転させ、ウェーハ１０１に必要な回転数を与える。これ
と同時に、上記気体注入手段により注入経路１１０ｃに
気体（例えば、エアー）を矢印１１２の方向に注入し、
このエアーが加圧室１１４に入り、加圧室１１４に圧力
が加えられる。そして、加圧室１１４に注入された空気
の一部を排気孔１１３から逃がしながら、被研磨ウェー
ハ１０１の裏面が必要な研磨圧まで加圧される。このよ
うに被研磨ウェーハ１０１を所定の圧力で研磨パッド１
０２の表面に押しつけ、ウェーハ１０１の表面の研磨を
開始する。この際、上記駆動モーター１０８に流れる電
流の変化を上記研磨終点検出器により測定する。そし
て、研磨の終点時に到達したら、被研磨ウェーハ１０１
の加圧を止め、非回転ホルダー１１０を上方にスライド
させることにより、ウェーハ１０１の研磨を終了する。

【００２７】尚、上記の研磨中において強制回転ギヤー
ガイド１０６に装着されている被研磨ウェーハ１０１に
ずれが生じても、研磨パッド１０２の表面とギヤーガイ
ド１０６との間にはウェーハ１０１の厚さより薄い隙間
しかないか、又は互いに接触しているため、ウェーハ１
０１の飛び出しを防止できる。

【００２８】また、被研磨ウェーハ１０１の裏面を加圧
した空気により押えているため、ウェーハ１０１の裏面
に傷が入ることがない。

【００２９】また、被研磨ウェーハ１０１の表面を研磨
パッド１０２に圧接する際の研磨圧力の制御は、気体の
圧力によって制御するものとする。

【００３０】上記実施の形態によれば、図１に示す研磨
装置により被研磨ウェーハ１０１の表面を研磨する際、
加圧室１１４を気体（エアー）によって加圧することに
よりウェーハ１０１の表面を研磨パッド１０２に押しつ
けるという方法で被研磨ウェーハ１０１に研磨圧力を加
えている。このように加圧したエアーによりウェーハ１
０１の裏面から研磨圧力を加えているため、ウェーハ１
０１に反りやうねり等があっても、ウェーハ１０１の研
磨面全体を研磨パッド１０２表面に均一に押しつけるこ
とができる。したがって、従来の研磨装置のように被研
磨ウェーハの反り、厚さむら等やバッキングパッドの厚
みむらに依存する裏面基準研磨となることがなく表面基
準研磨とすることができる。即ち、被研磨ウェーハ１０
１の裏面の状態に依存することなく表面全体に均一に研
磨圧力がかかるから、被研磨ウェーハ１０１の表面を面
内均一性良く研磨できる。よって、上記の研磨方法は、
微細ＭＯＳＩＣを製造する場合において、層間膜を堆積
した後に生じる段差の平坦化など、パターン段差を面内
均一性良く除去する目的に適している。

【００３１】また、上述のように表面基準研磨とするこ
とができ、ウェーハ１０１表面を面内均一性良く研磨で
きるため、研磨パッド１０２として硬質研磨パッドを用
いることができる。したがって、被研磨ウェーハ１０１
表面の段差を容易に平坦化できる。すなわち、一般に、
研磨装置においては、研磨パッド１０２に軟質のものを
用いると表面基準研磨になり易いという性質があり、従
って、柔らかい研磨パッドを用いれば、従来の研磨装置
でも表面基準研磨になる傾向があるが、軟質の研磨パッ
ドでは、ウェーハ表面の段差を平坦化することができな
い。このような理由から段差の平坦化には硬質研磨パッ
ドを用いる必要があるが、従来の研磨装置では、硬質研
磨パッドを用いると、裏面基準研磨となってしまう。こ
れに対して、上記の研磨装置では、硬質の研磨パッドを
用いても表面基準研磨とすることができる。したがっ
て、特に、ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing ）
等の表面段差の平坦化研磨に対しても面内均一性が十分
な表面基準研磨とすることができる。

【００３２】また、強制回転ギヤーガイド１０６の内側
の形状を被研磨ウェーハ１０１の平段差の平坦化研磨に
対しても面内均一性が十分な表面基準研磨とすることが
できる。

【００３３】また、強制回転ギヤーガイド１０６の内側
の形状を被研磨ウェーハ１０１の平面形状に合わせてい
るため、ギヤーガイド１０６にウェーハ１０１をしっか
りと固定できる。これにより、研磨の際にウェーハ１０
１自身をギヤーガイド１０６により強制的に回転させる
ことができる。したがって、上記の研磨装置によりウェ
ーハ１０１を研磨した場合は従来の装置による場合より
面内均一性良く研磨することができる。つまり、ウェー
ハ自身を回転させながら研磨すると、ウェーハを回転さ
せずに研磨した場合に比べて面内均一性をよくすること
ができるのであるが、従来の研磨装置におけるガイドリ
ングは、研磨時のウェーハの飛び出しを防止しているだ
けで、ウェーハを強制的に回転させる機能を有していな
いので、研磨中にウェーハの回転が止まることもある。
これに対して、上記の研磨装置の場合は、そのようなこ
とがないので、ウェーハをより面内均一性良く研磨する
ことができる。

【００３４】また、被研磨ウェーハ１０１を装着した強
制回転ギヤーガイド１０６のみを回転駆動ギヤ１０７を
介して駆動モーター１０８により回転させる構成として
いるため、研磨の終点を精度良く検出できる研磨終点検
出器を取り付けることが可能となる。この研磨終点検出
器の原理は、ウェーハ１０１表面において研磨されてい
る層の種類によって研磨時におけるウェーハ１０１表面
と研磨パッド１０２との間の抵抗が異なるから、この抵
抗値に応じて駆動モーター１０８にかかる抵抗（トル
ク）も異なり、これにより駆動モーター１０８に流れる
電流値も異なるものとなるのを利用して、研磨されてい
る層が変わった時の駆動モーター１０８の電流値の変化
を測定することにより、研磨の終点時を検出するという
ものである。したがって、従来の研磨装置に上記の原理
による研磨終点検出器を取り付けた場合、上記の強制回
転ギヤーガイド１０６に比べて大変重いウェーハホルダ
ー全体をモーターにより回転させているため、研磨層の
変化によるモーターの電流値の変化が上記の研磨装置の
場合より小さくなるので、研磨の終点を検出する精度が
悪かった。これに対して、上記の研磨装置に取り付けら
れた研磨終点検出器の場合は、比較的軽い強制回転ギヤ
ーガイド１０６のみを駆動モーター１０８により回転さ
せているので、研磨の終点を精度良く検出できる。

【００３５】また、従来の研磨装置のように研磨時にウ
ェーハホルダー自身を回転させるのではなく、駆動モー
ター１０８によりギヤー比の十分大きな回転駆動ギヤー
１０７を介して強制回転ギヤーガイド１０６のみを回転
させ、非回転ホルダー１１０を全く回転させない構成と
している。したがって、駆動モーター１０８は従来の研
磨装置におけるウェーハホルダーを回転させるモーター
ほどの大きな力を必要としないため、駆動モーター１０
８を従来の装置に比べて小型のものとすることができ
る。これと共に、研磨装置の構造を簡単で且つコンパク
トなものとすることができ、その結果、研磨装置を安価
に作ることができる。

【００３６】また、従来の研磨装置における自在継手
は、回転している定盤が上下に揺れた場合でも、被研磨
ウェーハの表面と研磨パッドの表面とを隙間なく接触さ
せるためのものであるが、この自在継手は研磨時におけ
る定盤の回転方向の力によって僅かな隙間を生じ、これ
がウェーハ表面の均一な研磨を妨げる原因となることが
ある。これに対して、上記の研磨装置では、定盤１０３
の上下の揺れはほとんどないこともあって自在継手を使
用していないため、被研磨ウェーハ１０１をしっかり固
定でき、剛性（定盤の回転による力に対応する性質）の
アップ及び装置の精度（例えば、研磨時に非回転ホルダ
ー１１０を定盤にセットした場合の誤差）アップを図る
ことができる。

【００３７】尚、上記実施の形態では、非回転ホルダー
１１０の下端部のフランジ状の部分１１０ａに排気孔１
１３を設け、この排気孔１１３により加圧室１１４を加
圧する際のエアーの排気をとっているが、加圧室１１４
を加圧する際の排気をウェーハ１０１の外周部と強制回
転ギヤーガイド１０６との隙間からのエアー漏れにより
とることも可能であり、この場合は非回転ホルダー１１
０に排気孔１１３を設ける必要がない。つまり、加圧室
１１４に注入したエアーの一部を被研磨ウェーハ１０１
の外周付近で外部に放出させ、それによってウェーハ１
０１の裏面の圧力を安定させる構成とできれば、非回転
ホルダー１１０に排気孔１１３を設ける構成としなくて
も良いということである。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
非回転ホルダーに圧接する手段を設けることにより、ウ
ェーハを研磨する際、被研磨ウェーハの表面を研磨パッ
ドに気体によって加圧し押しつける。これとともに、非
回転ホルダーに回転手段を設けることにより、研磨パッ
ド上でウェーハを強制的に回転させている。したがっ
て、被研磨面が研磨パッドの表面にならう表面基準研磨
とすることができ、均一性の良い研磨が可能な研磨装置
及び研磨方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は、この発明の実施の形態による研
磨装置を示す断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）
に示す研磨装置における非回転ホルダーと、このホルダ
ーに保持された被研磨ウェーハを研磨面側から視た平面
図である。

【図２】図２（ａ）は、従来の研磨装置を示す断面図で
あり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す研磨装置におけ
るウェーハホルダーであって、このウェーハホルダーに
保持された被研磨ウェーハを研磨面側から視た平面図で
ある。

【符号の説明】

１０１…被研磨ウェーハ（被研磨基板）、１０２…研磨
パッド、１０３…定盤、１０４…矢印、１０５…研磨
液、１０６…強制回転ギヤーガイド、１０７…回転駆動
ギヤ、１０８…駆動モーター、１０８ａ…駆動軸、１０
９…ノズル、１１０…非回転ホルダー、１１０ａ…下端
部のフランジ状の部分、１１０ｂ…円柱形状の凸部分、
１１０ｃ…注入経路、１１１…上下方向、１１２…矢
印、１１３…排気孔（排気部）、１１４…加圧室、１１
５…押さえ板、１１７…回転軸、１２５…矢印、２０１
…ウェーハ、２０２…研磨パッド、２０３…定盤、２０
４…矢印、２０５…研磨液、２０７…回転軸、２０９…
ノズル、２２０…ウェーハホルダー、２２１…バッキン
グパッド、２２２…ガイドリング、２２４…自在継手、
２２５…矢印、２２６…矢印。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上面に研磨パッドを取り付けることが可
   能な定盤と、 上記定盤の上方に設けられた、被研磨基板を保持するた
   めのホルダーと、 上記ホルダーに設けられた、上記被研磨基板の表面を上
   記研磨パッドに流体によって押し当てる手段と、 上記ホルダーに設けられた、上記被研磨基板を強制的に
   回転させる回転手段と、 を具備することを特徴とする研磨装置。
2. 【請求項２】 上記回転手段は、上記被研磨基板の外周
   を保持するガイドと、このガイドを回転させるモーター
   と、から構成されていることを特徴とする請求項１記載
   の研磨装置。
3. 【請求項３】 上面に研磨パッドを取り付けることが可
   能な定盤と、 上記定盤の上方に設けられた非回転ホルダーと、 上記非回転ホルダーに設けられた被研磨基板の外周を保
   持するガイドと、 上記ガイドを強制的に回転させるモーターと、 上記非回転ホルダーと上記被研磨基板の裏面とで形成さ
   れる加圧室と、 上記被研磨基板の表面を上記研磨パッドに押し当てるた
   めに、上記加圧室を気体により加圧する加圧手段と、 を具備することを特徴とする研磨装置。
4. 【請求項４】 上記モーターに流れる電流の変化を測定
   することによって研磨の終点を検出する研磨終点検出器
   をさらに含むことを特徴とする請求項３記載の研磨装
   置。
5. 【請求項５】 上記加圧室には、上記気体が注入される
   注入経路が形成されるとともにこの気体の一部が上記被
   研磨基板の外周付近から排出される排気部が形成されて
   いることを特徴とする請求項３記載の研磨装置。
6. 【請求項６】 回転している研磨パッドの表面に被研磨
   基板の表面を押圧して研磨する研磨方法において、 上記研磨する際に、上記被研磨基板を強制的に回転させ
   ながら該被研磨基板の裏面を該研磨パッドに気体によっ
   て加圧し圧接することを特徴とする研磨方法。
7. 【請求項７】 上記被研磨基板の表面を上記研磨パッド
   に圧接する際の研磨圧力の制御は、上記気体の圧力によ
   って制御することを特徴とする請求項６記載の研磨方
   法。