JPH10135001A - チップ部品及びその製造方法 - Google Patents
チップ部品及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH10135001A JPH10135001A JP8290436A JP29043696A JPH10135001A JP H10135001 A JPH10135001 A JP H10135001A JP 8290436 A JP8290436 A JP 8290436A JP 29043696 A JP29043696 A JP 29043696A JP H10135001 A JPH10135001 A JP H10135001A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hourglass
- insulating layer
- grinding
- base material
- unit base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/006—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for manufacturing resistor chips
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Details Of Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Gyroscopes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
プ部品を提供する。 【解決手段】 中央から両端に向かって横断面形が相似
的に徐々に大きくなる鼓形部3aの両端それぞれに該鼓
形部3aの最大横断面形よりも大きな横断面形を有する
角柱形部3bを一体且つ対称に備えた磁器素子3と、磁
器素子3の表面に形成された抵抗膜4と、鼓形部3a上
の抵抗膜4表面に形成された外装用絶縁層5と、両角柱
形部3b上の抵抗膜4表面に形成された電極用導体膜6
とによりチップ抵抗器を構成しているので、両電極用導
体膜6の側面の1つを実装面として利用することで、部
品自体の転動を防止し、基板等への部品実装を安定に行
うことができる。また、外装用絶縁層5の周囲に凹みを
形成する場合でもその厚みを均一なものとすることがで
き、また厚みの急変を原因として生じ得る割れや剥離の
問題をも排除することができる。
Description
なチップ部品及びその製造方法に関するものである。
れを1個宛供給する、所謂、バルク供給に適応可能なチ
ップ部品として図11に示すような円柱型のチップ抵抗
器が知られている。
01と、磁器素子101の表面に形成された抵抗膜10
2と、抵抗膜102の中央部を覆う外装用絶縁層103
と、抵抗膜102の両端部を覆う電極用導体膜104と
から構成されており、抵抗膜102には抵抗値調整のた
めの溝102aがトリミング加工されている。
器は、電極用導体膜104及び外装用絶縁層103の外
形が共に円形であり転動し易いことから基板等への実装
を安定して行うことができない不具合がある。この不具
合は、同様の形状を有する抵抗器以外のチップ部品でも
同じように生じ得る。
で、その目的とするところは、基板等への実装を安定且
つ良好に行えるチップ部品と、該チップ部品に好適な製
造方法を提供することにある。
め、本発明のチップ部品は、中央から両端に向かって横
断面形が相似的に徐々に大きくなる鼓形部の両端それぞ
れに該鼓形部の最大横断面形よりも大きな横断面形を有
する角柱形部を一体且つ対称に備えた磁器素子と、磁器
素子の表面に形成され鼓形部位置で部品回路を構成する
回路用導体膜と、鼓形部上の回路用導体膜を覆う外装用
絶縁層と、両角柱部上の回路用導体膜を覆う電極用導体
膜とを具備した、ことをその主たる特徴としている。こ
のチップ部品によれば、両電極用導体膜の側面の1つを
実装面として利用することで、部品自体の転動を防止で
きる。
未焼成セラミック材料から成る単位基材を得る工程と、
単位基材を研削することにより、中央から両端に向かっ
て横断面形が相似的に徐々に大きくなる鼓形部の両端そ
れぞれに該鼓形部の最大横断面形よりも大きな横断面形
を有する角柱形部を一体且つ対称に備えた単位素子を得
る工程と、研削後の単位素子を焼成して磁器素子を得る
工程と、焼成後の磁器素子のエッジを研磨する工程と、
磁器素子の表面に回路用導体膜を形成する工程と、鼓形
部上の回路用導体膜を覆う外装用絶縁層を形成する工程
と、両角柱形部上の回路用導体膜を覆う電極用導体膜を
形成する工程とを具備した、ことをその主たる特徴とし
ている。このチップ部品の製造方法によれば、上記のチ
ップ部品を的確且つ安定して製造できる。
抵抗器に適用した実施形態を示してある。ちなみに、図
1はチップ抵抗器の製造手順を示す図、図2は単位基材
の研削に要する装置構成を示す図、図3は外装用絶縁層
の形成に要する装置構成を示す図である。
1(a)に示すような未焼成セラミック材料から成る横
断面正方形で所定長の単位基材1を用意する。この単位
基材1は、アルミナ粉(70w%以上)にバインダ及び
溶剤を混合して調製したセラミックスラリーを押出成形
して横断面正方形の棒状基材を得た後、これを所定寸法
に切断することで作成される。
温度100〜200℃,焼成時間1〜2時間の条件で仮
焼成する。
ルや偏心回転バレル等のバレル研磨機に投入し、単位基
材1の主にエッジを研磨して該エッジのバリ除去及び丸
み付けを行う。この段階で不良品が発生した場合には篩
いや目視によりこれを取り除いて選別を行う。
示す形状の単位素子2、詳しくは、中央から両端に向か
って横断面形が相似的に徐々に大きくなる鼓形部2aの
両端それぞれに、該鼓形部2aの最大横断面形よりも大
きな横断面形を有する角柱形部2bを一体且つ対称に備
えた単位素子2を作成する。図示例の単位素子2におけ
る鼓形部2aは円を基準横断面形としており、角柱部2
bは横断面形が正方形でその内接円が鼓形部2aの最大
外径と一致している。この単位素子2の作成には図2
(a)に示すチャック装置11と研削刃12が使用され
る。
装置本体11aに固着されたモータ11bと、装置本体
11aに回動自在に支持された伝導軸11cと、モータ
軸と伝導軸11cのプーリー11dに巻き付けられたベ
ルト11eと、互いのチャック11fが向き合うように
装置本体11aに回動自在に支持された一対のチャック
軸11gと、伝導軸11cの回転を各チャック軸11g
に伝えるギヤ11hとを備えており、両チャック11f
には対向面に円錐形凹部を有するものがそれぞれ用いら
れている。
動を可能としており、該チャック軸11gには2つの鍔
11iと11jが設けられている。この2つの鍔11
i,11jの間にはコイルスプリング11kと軸受11
lと操作リング11mが回動自在に介装されており、操
作リング11mには図示省略の駆動源によって駆動され
る駆動アーム11nが係合されている。
イヤモンド砥石から成り、図示省略の駆動源によって、
チャック軸11gと平行な回転軸を中心として所定方向
に回動すると共に、チャック11f間に挟持された単位
基材1の回転中心に向かって進退できるようになってい
る。ちなみに研削刃12の曲線刃先の曲率は単位素子2
の鼓形部2aが持つ曲面にほぼ一致している。
1nにより操作リング11mを介して可動側チャック軸
11gを図中右方向に動かすことで、同軸先端のチャッ
ク11fを他方のチャック11fから離反させて両チャ
ック11fを開くことができ、開放状態から可動側チャ
ック軸11gを図示位置に戻すことでチャック11f間
に、チャック軸11gと同軸上に単位基材1を挟持する
ことができる。また、モータ11bの回転をプーリー1
1d,ベルト11e,伝導軸11c及びギヤ11hを介
して両チャック軸11gに伝えることで、チャック11
f間に挟持された単位基材1を所定方向に回転させるこ
とができる。
がら、該単位基材1に向かって研削刃12を徐々に接近
させれば、角柱形の単位基材1の中央部分を研削刃12
の曲線刃先に応じた鼓形に研削して、図1(b)に示す
形状の単位素子2を作成することができる。また、図示
位置よりも操作リング11mを図中左方向に動かしコイ
ルスプリング11kを圧縮して単位部材1の挟持圧を高
めれば、研削時の抵抗で単位基材1がチャック11fに
対して滑ることをも防止できる。
削刃12で行うこともできるが、図2(b)に示すよう
に荒研削刃12aと精密研削刃12bを使用して、荒研
削刃12aによって荒削りしてから精密研削刃12bに
よって仕上げを行うようにしてもよく、このようにすれ
ば単位基材1の研削をより高精度に実施することができ
る。
温度1300〜1500℃,焼成時間2時間の条件で本
焼成する。
ルや偏心回転バレル等のバレル研磨機に投入し、単位素
子2の主にエッジを研磨して該エッジのバリ除去及び丸
み付けを行う。以上でチップ抵抗器のベースとなる磁器
素子3(図1(b)参照)が作成される。
3の表面全体に、スパッタリング等の手法によりNiC
r系の抵抗膜4を均一厚みで形成する。前工程のバレル
研磨によって磁器素子3のエッジに丸みが形成されてい
るので、同部分の膜厚が局部的に薄くなるようなことは
ない。
3の表面に形成された抵抗膜4に対し抵抗値調整のため
のトリミング加工を行う。詳しくは、図2同様のチャッ
ク装置11を用いて抵抗膜形成後の磁器素子3を挟持
し、該磁器素子3を回転させながらトリミング刃(図示
省略)によって所定幅及び長さの溝4aを抵抗膜4の中
央部分に形成する。勿論、レーザ光照射による溶融,消
失によって抵抗膜4に溝4aを形成して同様のトリミン
グ加工を行うようにしてもよい。
a上の抵抗膜4の表面に外装用絶縁層5を形成する。こ
の外装用絶縁層5の形成には図2(a)同様のチャック
装置11と図3(a)に示す塗布装置21と修正ローラ
22が使用される。
キシ樹脂等の絶縁塗料Fを収容した容器21aと、容器
21a内の絶縁塗料Fに一部を浸漬した塗布ローラ21
bと、塗布ローラ21bに付着した余分な絶縁塗料Fを
掻き落とすためのブレード21cと、塗布ローラ21a
を所定方向に回動させる図示省略の駆動源と、装置全体
をチャッキングされた磁器素子3に向かって進退させる
図示省略の駆動源とを備えている。
抵抗膜4に付着した余分な絶縁塗料Fを取り除いて付着
形状を修正するためのもので、図示省略の駆動源よって
所定方向に回動すると共に、チャッキングされた磁器素
子3に向かって進退できるようになっている。
を所定方向に回転しながら、該磁器素子3に向かって塗
布ローラ21bを接近させれば、鼓形部3a上の抵抗膜
4の表面に絶縁塗料Fを塗布することができる。ここで
は必要量以上の絶縁塗料Fが塗布されて付着塗料は中央
が膨らんだものとなるため(図3(b)参照)、付着塗
料Fが乾燥する前に修正ローラ22を接近させて、該修
正ローラ22によって付着塗料Fの不要部分を掻き取っ
て中央が凹んだ形状に修正する(図3(c)参照)。
他、付着塗料Fが乾燥,硬化した後に図3(d)に示す
ような研削刃23を接近させて、該研削刃23によって
付着塗料Fの不要部分を削り取るようにしてもよい。
装用絶縁層5、詳しくは、中央から両端に向かって外形
が徐々に大きくなり、厚みがほぼ均一な外装用絶縁層5
が形成される。また、外装用絶縁層5の端縁の厚みは零
に近く、同部分の外形は鼓形部3a上に抵抗膜4の外形
とほぼ一致しており、外装用絶縁層5の外形は鼓形部3
aと類似の鼓形となりその周囲には凹みが存在する。
部3bの表面(4側面及び端面)に、バレルメッキ等の
手法によりNi,Sn−Pb等の電極用導体膜6を均一
厚みで形成する。この電極用導体膜6の端縁は先に形成
した外装用絶縁層5の端縁と接触または僅かな隙間を介
して近接している。また、前工程のバレル研磨によって
磁器素子3のエッジに丸みが形成され抵抗膜4のエッジ
にも丸みが形成されているので、同部分の膜厚が局部的
に薄くなるようなことはない。以上で図1(g)に示す
ようなチップ抵抗器が製造される。
器によれば、両電極用導体膜6の側面の1つを実装面と
して利用することで、部品自体の転動を防止し、基板等
への部品実装を安定に行うことができる。
装用絶縁層5を形成しているので、外装用絶縁層5の周
囲に凹みを形成する場合でもその厚みを均一なものとす
ることができ、また厚みの急変を原因として生じ得る割
れや剥離の問題をも排除することができる。
両端に向かって徐々に大きくしてその周囲に凹みを形成
してあるので、半田リフロー法によって部品実装を行う
際に生じる半田ボールを上記凹みで受容してセルフアラ
イメント効果を促進させることができる。
用絶縁層5の端縁とを接触または僅かな隙間を介して近
接させてあるので、電極用導体膜6の端縁が外装用絶縁
層5の端縁に重なったときに生じる得る電極用導体膜6
の局部的な剥離や割れの問題を未然に防止することがで
きる。
造方法によれば、上記のチップ抵抗器を的確且つ安定し
て製造できる。
状に研削しているので、未焼成の単位基材を研削する場
合に比べて研削が容易に行えると共に、研削不良を生じ
難い利点がある。
がら該単位基材1に向かって研削刃12を徐々に接近さ
せることにより、角柱形の単位基材1の中央部分を研削
刃12の曲線刃先に応じた鼓形に研削して図1(b)に
示す形状の単位素子2を作成しているので、単位基材1
の長手寸法が小さい場合でも研削を高精度で且つ良好に
行うことができる。
精密研削に分けて実施することにより、寸法精度のより
高い単位素子2を得ることができる。
面に絶縁塗料Fを塗布してから不要部分を取り除くこと
により、外装用絶縁層5の厚み寸法及び外装用絶縁層5
の周囲に形成された凹み寸法を高い精度で安定して得る
ことができる。
の外形を磁器素子3の鼓形部3aと類似の鼓形となるよ
うにしたが、部品が小型になると外装用絶縁層5の周面
(曲面)を吸着ノズルで等吸着することが難しくなる。
このような場合には、図4に示すように、電極用導体膜
6の側面と平行な少なくとも1つの平坦面5aを絶縁材
5に形成し、該平坦面5aを利用して部品吸着を行うと
よい。
外装用絶縁層5を形成した後に研削刃等によって該絶縁
層5を部分的に削り取る方法の他、図5(a),(b)
に示すように、絶縁塗料Fを塗布した後にこれが硬化す
る前に、一対のL字形型板31を絶縁塗料Fに押し付け
て平坦面を形成するようにしてもよい。また、図6
(a)〜(d)に示すように、絶縁塗料Fを塗布した後
にこれが硬化する前に、磁器素子3を90度宛所定の停
止時間をもって段階的に回転させることにより、塗布材
料の自重変位を利用しながら平坦面を形成するようにし
てもよく、この場合には絶縁塗料Fとして比重の高いも
のと使用すると平坦面を形成し易い。
の単位基材1を研削して所定形状の単位素子2を得るよ
うにしたが、図7(a)〜(c)に示すように、横断面
円形の単位基材41を用意し、全体を鼓形に研削した
後、両端部を90度角で削り取って角柱形に仕上げて、
鼓形部42aの両端それぞれに角柱形部42bを一体且
つ対称に有する単位素子42を得るようにしてもよい。
また、図8(a),(b)に示すように、横断面円形の
単位基材41の中央部を研削して鼓形部43aを形成し
た後、両端部を90度角で削り取って角柱形部43aを
形成して単位素子43を得るようにしてもよい。
を構成する鼓形部2aの中心線と角柱形部2bの中心線
とを一致させたが、図9に示すように、単位素子51を
構成する鼓形部51aの中心線と角柱形部51bの中心
線とをずらせて偏心関係とするようにしてもよく、こう
すれば外装用絶縁層の周囲一面により大きな凹み寸法
(図中の符号h寸法)を確保して、マンハッタン防止効
果及び放熱作用を高めることができる。また、図10に
示すように、単位素子61を構成する鼓形部61aの基
準断面形を楕円形としても同様の効果を得ることができ
る。
プ抵抗器に適用した例を示したが、本発明はチップ抵抗
器に限らず、一対の電極用導体膜の間に導体膜によって
部品回路を構成可能なチップ部品、例えばチップジャン
パやチップコンデンサやチップインダクタ等にも広く適
用でき同様の効果を得ることができる。
プ部品によれば、両電極用導体膜の側面の1つを実装面
として利用することで、部品自体の転動を防止し、基板
等への部品実装を安定に行うことができる。また、外装
用絶縁層の周囲に凹みを形成する場合でもその厚みを均
一なものとすることができ、また厚みの急変を原因とし
て生じ得る割れや剥離の問題をも排除することができ
る。
に向かって徐々に大きくしてその周囲に凹みが形成して
あるので、半田リフロー法によって部品実装を行う際に
生じる半田ボールを上記凹みで受容してセルフアライメ
ント効果を促進させることができる。
層の端縁とを接触または僅かな隙間を介して近接させて
あるので、電極用導体膜の端縁が外装用絶縁層の端縁に
重なったときに生じる得る電極用導体膜の局部的な剥離
や割れの問題を未然に防止することができる。
と平行な平坦面を外装用絶縁層の表面に形成してあるの
で、部品が小型になって外装用絶縁層の周面(曲面)を
吸着ノズル等で吸着することが難しい場合でも、外装用
絶縁層に形成した平坦面を利用して部品吸着を良好に行
うことができる。
両角柱形部とを偏心関係とすることにより、また単位素
子を構成する鼓形部の基準断面形を楕円形とすることに
より、外装用絶縁層の周囲により大きな凹み寸法を確保
して、マンハッタン防止効果及び放熱作用を高めること
ができる。
によれば、上記のチップ抵抗器を的確且つ安定して製造
できる。
に研削しているので、未焼成の単位基材を研削する場合
に比べて研削が容易に行えると共に、研削不良を生じ難
い利点がある。
央部分を鼓形に研削して単位素子を作成しているので、
単位基材の長手寸法が小さい場合でも研削を高精度で且
つ良好に行うことができる。
密研削に分けて実施することにより、寸法精度のより高
い単位素子を得ることができる。
塗料を塗布してから不要部分を取り除くことにより、外
装用絶縁層の厚み寸法及び外装用絶縁層の周囲に形成さ
れた凹み寸法を高い精度で安定して得ることができる。
す図
図
構造例を示す図
た構造例を示す図
a…鼓形部、2b,3b…角柱形部、4…抵抗膜、4a
…溝、5…外装用絶縁層、5a…平坦面、6…電極用導
体膜、11…チャック装置、12,12a,12b…研
削刃、21…塗布装置、F…絶縁塗料、22…修正ロー
ラ、23…研削刃、31…型板、41…単位基材、42
…単位素子、42a…鼓形部、42b…角柱形部、43
…単位素子、43a…鼓形部、43b…角柱形部、51
…磁器素子、51a…鼓形部、51b…角柱形部、61
…磁器素子、61a…鼓形部。
Claims (14)
- 【請求項1】 中央から両端に向かって横断面形が相似
的に徐々に大きくなる鼓形部の両端それぞれに該鼓形部
の最大横断面形よりも大きな横断面形を有する角柱形部
を一体且つ対称に備えた磁器素子と、 磁器素子の表面に形成され鼓形部位置で部品回路を構成
する回路用導体膜と、 鼓形部上の回路用導体膜を覆う外装用絶縁層と、 両角柱部上の回路用導体膜を覆う電極用導体膜とを具備
した、 ことを特徴とするチップ部品。 - 【請求項2】 外装用絶縁層の外形が中央から両端に向
かって徐々に大きくなる、 ことを特徴とする請求項1に記載のチップ部品。 - 【請求項3】 外装用絶縁層の端縁と電極用導体膜の端
縁とが接触または僅かな隙間を介して近接している、 ことを特徴とする請求項1または2に記載のチップ部
品。 - 【請求項4】 角柱形部の少なくとも一側面と平行な平
坦面を外装用絶縁層の表面に形成した、 ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の
チップ部品。 - 【請求項5】 磁器素子を構成する鼓形部と両角柱形部
とが偏心関係にある、 ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の
チップ部品。 - 【請求項6】 磁器素子の鼓形部の基準横断面形が円で
ある、 ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の
チップ部品。 - 【請求項7】 磁器素子の鼓形部の基準横断面形が楕円
である、 ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の
チップ部品。 - 【請求項8】 未焼成セラミック材料から成る単位基材
を得る工程と、 単位基材を研削することにより、中央から両端に向かっ
て横断面形が相似的に徐々に大きくなる鼓形部の両端そ
れぞれに該鼓形部の最大横断面形よりも大きな横断面形
を有する角柱形部を一体且つ対称に備えた単位素子を得
る工程と、 研削後の単位素子を焼成して磁器素子を得る工程と、 焼成後の磁器素子のエッジを研磨する工程と、 磁器素子の表面に回路用導体膜を形成する工程と、 鼓形部上の回路用導体膜を覆う外装用絶縁層を形成する
工程と、 両角柱形部上の回路用導体膜を覆う電極用導体膜を形成
する工程とを具備した、 ことを特徴とするチップ部品の製造方法。 - 【請求項9】 単位基材を得る工程と単位素子を得る工
程との間に、単位基材を仮焼成する工程と、仮焼成後の
単位基材のエッジを研磨する工程を具備した、 ことを特徴とするチップ部品の製造方法。 - 【請求項10】 単位素子を得る工程が、角柱形単位基
材を回転させながらその中央部分を鼓形に研削すること
により実施される、 ことを特徴とする請求項8または9に記載のチップ部品
の製造方法。 - 【請求項11】 単位素子を得る工程が、円柱形単位基
材を回転させながらその中央部分を鼓形に研削するステ
ップと、両端部分を角柱形に研削するステップにより実
施される、 ことを特徴とする請求項8または9に記載のチップ部品
の製造方法。 - 【請求項12】 単位基材の研削が、荒研削と精密研削
に分けて実施される、 ことを特徴とする請求項10または11に記載のチップ
部品の製造方法。 - 【請求項13】 外装用絶縁層を形成する工程が、磁器
素子の鼓形部の表面に絶縁塗料を塗布するステップと、
余分な塗料を硬化前に取り除くステップにより実施され
る、 ことを特徴とする請求項8乃至12の何れか1項に記載
のチップ部品の製造方法。 - 【請求項14】 外装用絶縁層を形成する工程が、磁器
素子の鼓形部の表面に絶縁塗料を塗布するステップと、
余分な塗料を硬化後に取り除くステップにより実施され
る、 ことを特徴とする請求項8乃至12の何れか1項に記載
のチップ部品の製造方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29043696A JP3466394B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | チップ部品及びその製造方法 |
| TW086116100A TW391015B (en) | 1996-10-31 | 1997-10-28 | Method of manufacturing chip components and apparatus for manufacturing unit elements for chip components |
| KR1019970055782A KR100269037B1 (ko) | 1996-10-31 | 1997-10-29 | 칩부품의제조방법및칩부품용단위소자의제조장치 |
| EP97118837A EP0840332B1 (en) | 1996-10-31 | 1997-10-29 | Method of manufacturing chip components and apparatus for manufacturing unit elements for chip components |
| DE69737224T DE69737224T2 (de) | 1996-10-31 | 1997-10-29 | Herstellungsverfahren für Chipkomponenten und Gerät zum Herstellen von Einheitselementen für Chipkomponenten |
| CN97122409A CN1089938C (zh) | 1996-10-31 | 1997-10-29 | 芯片元件的制造方法及芯片元件用单体的制造装置 |
| US08/960,368 US6070787A (en) | 1996-10-31 | 1997-10-29 | Method of manufacturing chip components |
| US09/567,325 US6409069B1 (en) | 1996-10-31 | 2000-05-09 | Apparatus for manufacturing unit elements for chip components, and chip components mounting structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29043696A JP3466394B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | チップ部品及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10135001A true JPH10135001A (ja) | 1998-05-22 |
| JP3466394B2 JP3466394B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=17756015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29043696A Expired - Fee Related JP3466394B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | チップ部品及びその製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6070787A (ja) |
| EP (1) | EP0840332B1 (ja) |
| JP (1) | JP3466394B2 (ja) |
| KR (1) | KR100269037B1 (ja) |
| CN (1) | CN1089938C (ja) |
| DE (1) | DE69737224T2 (ja) |
| TW (1) | TW391015B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2015194353A1 (ja) * | 2014-06-18 | 2017-04-20 | 株式会社村田製作所 | セラミックコアのバリ取り方法、バリ取り装置、及びセラミックコアの製造方法 |
| WO2020203269A1 (ja) * | 2019-04-01 | 2020-10-08 | Koa株式会社 | 抵抗器 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6731012B1 (en) * | 1999-12-23 | 2004-05-04 | International Business Machines Corporation | Non-planar surface for semiconductor chips |
| US6918173B2 (en) * | 2000-07-31 | 2005-07-19 | Ceratech Corporation | Method for fabricating surface mountable chip inductor |
| JP4790439B2 (ja) * | 2006-02-09 | 2011-10-12 | 富士通株式会社 | 電極、電子部品及び基板 |
| TWM450811U (zh) * | 2012-12-13 | 2013-04-11 | Viking Tech Corp | 電阻元件 |
| US9922770B2 (en) * | 2014-12-26 | 2018-03-20 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Through-type multilayer ceramic capacitor |
| CN107731792A (zh) * | 2016-08-10 | 2018-02-23 | 华新科技股份有限公司 | 晶圆电阻装置及其制造方法 |
| CN107508455A (zh) * | 2017-08-25 | 2017-12-22 | 惠科股份有限公司 | 缓冲电路及其显示装置 |
| CN114765086A (zh) * | 2021-01-12 | 2022-07-19 | 国巨电子(中国)有限公司 | 电阻器的制造方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3676911A (en) * | 1970-11-12 | 1972-07-18 | Frank C Austin | Holding tool |
| FR2365209A1 (fr) * | 1976-09-20 | 1978-04-14 | Cii Honeywell Bull | Procede pour le montage de micro-plaquettes de circuits integres sur un substrat et installation pour sa mise en oeuvre |
| US4313262A (en) * | 1979-12-17 | 1982-02-02 | General Electric Company | Molybdenum substrate thick film circuit |
| JPS62251081A (ja) * | 1986-04-23 | 1987-10-31 | Hitachi Ltd | 研削装置および研削砥石 |
| KR930010116B1 (ko) | 1990-10-22 | 1993-10-14 | 한국전기통신공사 | BiCMOS 소자의 제조방법 |
| US5149662A (en) * | 1991-03-27 | 1992-09-22 | Integrated System Assemblies Corporation | Methods for testing and burn-in of integrated circuit chips |
| US5233327A (en) * | 1991-07-01 | 1993-08-03 | International Business Machines Corporation | Active resistor trimming by differential annealing |
| FR2688629A1 (fr) * | 1992-03-10 | 1993-09-17 | Thomson Csf | Procede et dispositif d'encapsulation en trois dimensions de pastilles semi-conductrices. |
| JPH06290906A (ja) * | 1993-03-30 | 1994-10-18 | Taiyo Yuden Co Ltd | チップ抵抗器およびその製造方法 |
| JP3329964B2 (ja) * | 1994-03-18 | 2002-09-30 | 太陽誘電株式会社 | チップ部品及びその製造方法 |
| US5634268A (en) * | 1995-06-07 | 1997-06-03 | International Business Machines Corporation | Method for making direct chip attach circuit card |
| US6118290A (en) * | 1997-06-07 | 2000-09-12 | Tokyo Electron Limited | Prober and method for cleaning probes provided therein |
| JPH1167880A (ja) * | 1997-08-18 | 1999-03-09 | Toshiba Mach Co Ltd | ウエハ回転チャック |
| US6066546A (en) * | 1999-01-08 | 2000-05-23 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method to minimize particulate induced clamping failures |
| JP3504543B2 (ja) * | 1999-03-03 | 2004-03-08 | 株式会社日立製作所 | 半導体素子の分離方法およびその装置並びに半導体素子の搭載方法 |
-
1996
- 1996-10-31 JP JP29043696A patent/JP3466394B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-10-28 TW TW086116100A patent/TW391015B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-10-29 EP EP97118837A patent/EP0840332B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-29 US US08/960,368 patent/US6070787A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-29 CN CN97122409A patent/CN1089938C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-29 KR KR1019970055782A patent/KR100269037B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-29 DE DE69737224T patent/DE69737224T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-05-09 US US09/567,325 patent/US6409069B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2015194353A1 (ja) * | 2014-06-18 | 2017-04-20 | 株式会社村田製作所 | セラミックコアのバリ取り方法、バリ取り装置、及びセラミックコアの製造方法 |
| WO2020203269A1 (ja) * | 2019-04-01 | 2020-10-08 | Koa株式会社 | 抵抗器 |
| JP2020170742A (ja) * | 2019-04-01 | 2020-10-15 | Koa株式会社 | 抵抗器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3466394B2 (ja) | 2003-11-10 |
| CN1186309A (zh) | 1998-07-01 |
| CN1089938C (zh) | 2002-08-28 |
| US6070787A (en) | 2000-06-06 |
| KR19980033246A (ko) | 1998-07-25 |
| TW391015B (en) | 2000-05-21 |
| EP0840332B1 (en) | 2007-01-10 |
| DE69737224T2 (de) | 2007-10-25 |
| DE69737224D1 (de) | 2007-02-22 |
| EP0840332A2 (en) | 1998-05-06 |
| KR100269037B1 (ko) | 2000-10-16 |
| EP0840332A3 (en) | 2000-04-19 |
| US6409069B1 (en) | 2002-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3466394B2 (ja) | チップ部品及びその製造方法 | |
| CN115070549A (zh) | 半导体装置的制造方法以及半导体装置的制造装置 | |
| JP3921946B2 (ja) | セラミック電子部品の製造方法 | |
| JP2000295822A (ja) | 回転電機のコイル導体及びその製造方法 | |
| JP4640353B2 (ja) | 砥石の製造方法 | |
| JP2003305652A (ja) | 砥 石 | |
| US6916229B2 (en) | Machine-implemented method for forming a release surface of a mold | |
| JP2666259B2 (ja) | ゴルフボールの製造方法 | |
| JPH10335123A (ja) | チップ部品用磁器素子の製造方法及び製造装置 | |
| JP2767052B2 (ja) | 圧電片の自動研磨装置 | |
| JPH06114732A (ja) | 機上放電ツルーイング法による砥石側面整形法 | |
| JP3663279B2 (ja) | 小径超砥粒砥石の製造方法 | |
| JP2002200546A (ja) | 凹凸形状材の製造方法及び研削加工方法 | |
| JPH11225414A (ja) | 外部半導電層用切削刃 | |
| JPS5915305A (ja) | 同軸共振器の共振周波数自動調整機 | |
| US7325292B2 (en) | Method for refinishing a test electrode | |
| JP2000101315A (ja) | 電極形成方法 | |
| JPH1127016A (ja) | 誘電体円筒共振器の製造方法 | |
| JPH04336491A (ja) | 多層セラミックプリント基板の加工方法 | |
| JPH03254909A (ja) | 碍管の切断方法 | |
| JPH10146760A (ja) | 砥石ツルーイング方法 | |
| JP2003165040A (ja) | 研削用ブレード、研削装置及び研削方法 | |
| JP2004207631A (ja) | 板状被加工物の切断装置 | |
| JPH10113818A (ja) | ねじれ溝付き内径仕上げ工具及びその製造方法 | |
| JPS59110544A (ja) | 面取り加工装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030729 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070829 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100829 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100829 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120829 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |