JPH10165822A - 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれを用いた排ガス浄化方法 - Google Patents
排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれを用いた排ガス浄化方法Info
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- JPH10165822A JPH10165822A JP8346775A JP34677596A JPH10165822A JP H10165822 A JPH10165822 A JP H10165822A JP 8346775 A JP8346775 A JP 8346775A JP 34677596 A JP34677596 A JP 34677596A JP H10165822 A JPH10165822 A JP H10165822A
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- exhaust gas
- gas purifying
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 希薄燃焼排ガス中のNOxを効率よく除去す
ることができる触媒と、排ガス浄化方法を提供する。 【解決手段】 シリカまたはシリカと酸性陰イオンと、
カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムおよびバリ
ウムからなる群より選択された少なくとも1種からなる
触媒Aと、窒素ガス吸着法により測定された細孔半径と
細孔容積の関係が、細孔半径300オングストローム以
下の細孔の占める細孔容積の合計値をXとし、細孔半径
25オングストローム以上で100オングストローム未
満の細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、細孔半径
100オングストローム以上で300オングストローム
以下の細孔の占める細孔容積の合計値をZとしたとき、
YがXの70%以上であり、ZがXの20%以下である
ような細孔構造を有するアルミナと銀と、シリカまたは
チタニアからなる触媒Bとから構成される排ガス浄化用
触媒層。
ることができる触媒と、排ガス浄化方法を提供する。 【解決手段】 シリカまたはシリカと酸性陰イオンと、
カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムおよびバリ
ウムからなる群より選択された少なくとも1種からなる
触媒Aと、窒素ガス吸着法により測定された細孔半径と
細孔容積の関係が、細孔半径300オングストローム以
下の細孔の占める細孔容積の合計値をXとし、細孔半径
25オングストローム以上で100オングストローム未
満の細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、細孔半径
100オングストローム以上で300オングストローム
以下の細孔の占める細孔容積の合計値をZとしたとき、
YがXの70%以上であり、ZがXの20%以下である
ような細孔構造を有するアルミナと銀と、シリカまたは
チタニアからなる触媒Bとから構成される排ガス浄化用
触媒層。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は燃焼排ガス、特に自
動車、ボイラー、ガスエンジン、ガスタービン、船舶な
どの移動式および固定式内燃機関の燃焼排ガス中に含ま
れる窒素酸化物の浄化に用いられる排ガス浄化用触媒層
に関し、さらに詳細には希薄燃焼領域で運転される内燃
機関から排出された排ガス中の窒素酸化物を高い空間速
度で、かつ高効率で浄化可能な排ガス浄化用触媒層およ
び排ガス浄化用被覆構造体と、これらを使用しての排ガ
ス浄化方法に関するものである。
動車、ボイラー、ガスエンジン、ガスタービン、船舶な
どの移動式および固定式内燃機関の燃焼排ガス中に含ま
れる窒素酸化物の浄化に用いられる排ガス浄化用触媒層
に関し、さらに詳細には希薄燃焼領域で運転される内燃
機関から排出された排ガス中の窒素酸化物を高い空間速
度で、かつ高効率で浄化可能な排ガス浄化用触媒層およ
び排ガス浄化用被覆構造体と、これらを使用しての排ガ
ス浄化方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】自動車をはじめとする内燃機関から排出
される各種の燃焼排ガス中には、燃焼生成物である水や
二酸化炭素とともに一酸化窒素や二酸化窒素などの窒素
酸化物(NOx)が含まれている。NOxは人体、特に
呼吸器系に悪影響を及ぼすばかりでなく、地球環境保全
の上からも問題視される酸性雨の原因の1つとなってい
る。そのため、これら各種の排ガスから効率よく窒素酸
化物を除去する脱硝技術の開発が望まれている。
される各種の燃焼排ガス中には、燃焼生成物である水や
二酸化炭素とともに一酸化窒素や二酸化窒素などの窒素
酸化物(NOx)が含まれている。NOxは人体、特に
呼吸器系に悪影響を及ぼすばかりでなく、地球環境保全
の上からも問題視される酸性雨の原因の1つとなってい
る。そのため、これら各種の排ガスから効率よく窒素酸
化物を除去する脱硝技術の開発が望まれている。
【0003】他方において、地球温暖化防止の観点から
近年希薄燃焼方式の内燃機関が注目されている。従来の
自動車用ガソリンエンジンは、空燃比(A/F)=1
4.7付近で制御された化学量論比での燃焼であり、そ
の排ガス処理に対しては排ガス中の一酸化炭素、炭化水
素とNOxとを、主として白金、ロジウム、パラジウム
およびセリアを含むアルミナ触媒に接触させて有害三成
分を同時に除去する三元触媒方式が採用されてきた。
近年希薄燃焼方式の内燃機関が注目されている。従来の
自動車用ガソリンエンジンは、空燃比(A/F)=1
4.7付近で制御された化学量論比での燃焼であり、そ
の排ガス処理に対しては排ガス中の一酸化炭素、炭化水
素とNOxとを、主として白金、ロジウム、パラジウム
およびセリアを含むアルミナ触媒に接触させて有害三成
分を同時に除去する三元触媒方式が採用されてきた。
【0004】しかしながらこの三元触媒方式は、エンジ
ンが化学量論比で運転されることが絶対条件であるた
め、希薄空燃比で運転される希薄燃焼ガソリンエンジン
の排ガス浄化には適用することができない。また、ディ
ーゼルエンジンは本来希薄燃焼エンジンであるが、その
排ガスに対しては浮遊粒子状物質とNOxの両方に厳し
い規制がかけられようとしている。
ンが化学量論比で運転されることが絶対条件であるた
め、希薄空燃比で運転される希薄燃焼ガソリンエンジン
の排ガス浄化には適用することができない。また、ディ
ーゼルエンジンは本来希薄燃焼エンジンであるが、その
排ガスに対しては浮遊粒子状物質とNOxの両方に厳し
い規制がかけられようとしている。
【0005】従来、酸素過剰雰囲気下でΝOxを還元除
去する方法としては、還元ガスとして僅かな量でも選択
的に触媒に吸着するNH3を使用する技術が既に確立さ
れている。この技術は、いわゆる固定発生源であるボイ
ラーやディーゼルエンジンからの排ガス脱硝方法として
工業化されているが、しかし、この方法においては未反
応の還元剤を回収処理するための特別な装置を必要と
し、また臭気が強く有害なアンモニアを用いるので、特
に自動車などの移動発生源からの排ガス脱硝技術として
は危険性があり適用できない。
去する方法としては、還元ガスとして僅かな量でも選択
的に触媒に吸着するNH3を使用する技術が既に確立さ
れている。この技術は、いわゆる固定発生源であるボイ
ラーやディーゼルエンジンからの排ガス脱硝方法として
工業化されているが、しかし、この方法においては未反
応の還元剤を回収処理するための特別な装置を必要と
し、また臭気が強く有害なアンモニアを用いるので、特
に自動車などの移動発生源からの排ガス脱硝技術として
は危険性があり適用できない。
【0006】近年、酸素過剰雰囲気の希薄燃焼排ガス中
に残存する未燃の炭化水素を還元剤として用いることに
より、NOx還元反応を促進させることができるという
報告がなされて以来、この反応を促進するための触媒が
種々開発され報告されている。例えば、アルミナやアル
ミナに遷移金属を担持した触媒が、炭化水素を還元剤と
して用いるNOx還元反応に有効であるとする数多くの
報告がある。また、特開平4−284848号公報には
0.1〜4重量%のCu,Fe,Cr,Zn,Ni,V
を含有するアルミナあるいはシリカ−アルミナをΝOx
還元触媒として使用した例が報告されている。
に残存する未燃の炭化水素を還元剤として用いることに
より、NOx還元反応を促進させることができるという
報告がなされて以来、この反応を促進するための触媒が
種々開発され報告されている。例えば、アルミナやアル
ミナに遷移金属を担持した触媒が、炭化水素を還元剤と
して用いるNOx還元反応に有効であるとする数多くの
報告がある。また、特開平4−284848号公報には
0.1〜4重量%のCu,Fe,Cr,Zn,Ni,V
を含有するアルミナあるいはシリカ−アルミナをΝOx
還元触媒として使用した例が報告されている。
【0007】さらに、Ρtをアルミナに担持した触媒を
用いると、NOx還元反応が200〜300℃程度の低
温領域で進行することが特開平4−267946号公
報、特開平5−68855号公報や特開平5−1039
49号公報などに報告されている。しかしながら、これ
らの担持貴金属触媒を用いた場合、還元剤である炭化水
素の燃焼反応が過度に促進されたり、地球温暖化の原因
物質の1つと言われているN2Oが多量に副生し、無害
なΝ2への還元反応を選択的に進行させることが困難で
あるといった欠点を有していた。
用いると、NOx還元反応が200〜300℃程度の低
温領域で進行することが特開平4−267946号公
報、特開平5−68855号公報や特開平5−1039
49号公報などに報告されている。しかしながら、これ
らの担持貴金属触媒を用いた場合、還元剤である炭化水
素の燃焼反応が過度に促進されたり、地球温暖化の原因
物質の1つと言われているN2Oが多量に副生し、無害
なΝ2への還元反応を選択的に進行させることが困難で
あるといった欠点を有していた。
【0008】本出願人の一方は、先に酸素過剰雰囲気下
で炭化水素を還元剤として銀を含有する触媒を用いると
NOx還元反応が選択的に進行することを見出し、この
技術を特開平4−281844号公報に開示した。この
開示の後においてさえも、銀を含有する触媒を用いる類
似のΝOx還元除去技術が特開平4−354536号公
報、特開平5−92124号公報、特開平5−9212
5号公報および特開平6−277454号公報などに開
示されている。
で炭化水素を還元剤として銀を含有する触媒を用いると
NOx還元反応が選択的に進行することを見出し、この
技術を特開平4−281844号公報に開示した。この
開示の後においてさえも、銀を含有する触媒を用いる類
似のΝOx還元除去技術が特開平4−354536号公
報、特開平5−92124号公報、特開平5−9212
5号公報および特開平6−277454号公報などに開
示されている。
【0009】
【発明の解決しようとする課題】しかし、これら従来の
公報に記載されたアルミナ担持銀触媒は、水蒸気および
SOx共存下での脱硝性能が実用的にまだ不十分であっ
た。
公報に記載されたアルミナ担持銀触媒は、水蒸気および
SOx共存下での脱硝性能が実用的にまだ不十分であっ
た。
【0010】本発明は上記従来技術の欠点を解決すべく
なされたものであり、その目的とするところは、希薄燃
焼排ガス中のNOxを効率よく除去することができる触
媒と、該触媒を使用して希薄燃焼排ガス中のNOxを高
効率、高信頼性をもって浄化する排ガス浄化方法を提供
することにある。
なされたものであり、その目的とするところは、希薄燃
焼排ガス中のNOxを効率よく除去することができる触
媒と、該触媒を使用して希薄燃焼排ガス中のNOxを高
効率、高信頼性をもって浄化する排ガス浄化方法を提供
することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、水蒸気と
SOxが共存する希薄燃焼領域において高い脱硝性能を
有する排ガス浄化用触媒層および排ガス浄化用触媒被覆
構造体と、これらを使用しての排ガス浄化方法について
鋭意研究を重ねた結果、排ガスの流通方向に対してシリ
カまたはシリカと酸性陰イオンと、カルシウム、マグネ
シウム、ストロンチウムおよびバリウムからなる群より
選択された少なくとも1種からなる触媒Aを前段に、特
定の細孔構造を有するアルミナと銀と微量のシリカまた
はチタニアからなる触媒Bを後段になるように区分して
配置させることにより上記した問題点を解決できること
を見出し本発明を完成するに至った。
SOxが共存する希薄燃焼領域において高い脱硝性能を
有する排ガス浄化用触媒層および排ガス浄化用触媒被覆
構造体と、これらを使用しての排ガス浄化方法について
鋭意研究を重ねた結果、排ガスの流通方向に対してシリ
カまたはシリカと酸性陰イオンと、カルシウム、マグネ
シウム、ストロンチウムおよびバリウムからなる群より
選択された少なくとも1種からなる触媒Aを前段に、特
定の細孔構造を有するアルミナと銀と微量のシリカまた
はチタニアからなる触媒Bを後段になるように区分して
配置させることにより上記した問題点を解決できること
を見出し本発明を完成するに至った。
【0012】すなわち、上記課題を解決するための本発
明の第1の実施態様は、シリカまたはシリカと酸性陰イ
オンと、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムお
よびバリウムからなる群より選択された少なくとも1種
からなる触媒Aと、窒素ガス吸着法により測定された細
孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径300オングスト
ローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をXとし、
細孔半径25オングストローム以上で100オングスト
ローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、
細孔半径100オングストローム以上で300オングス
トローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をZとし
たとき、YがXの70%以上であり、ZがXの20%以
下であるような細孔構造を有するアルミナ担体と銀と、
シリカまたはチタニアからなる触媒Bとより構成する排
ガス浄化用触媒層であることを特徴とし、さらに前記触
媒Aにおいて酸性陰イオンはSO4 2−であることが好
ましい。該触媒層において、シリカまたはチタニア含有
量は触媒Bの全体に対して酸化物換算で0.05〜1.
5重量%であることが好ましく、また前記触媒層は粉体
または成型した状態で排ガスの流通空間に配置するのが
好ましい。
明の第1の実施態様は、シリカまたはシリカと酸性陰イ
オンと、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムお
よびバリウムからなる群より選択された少なくとも1種
からなる触媒Aと、窒素ガス吸着法により測定された細
孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径300オングスト
ローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をXとし、
細孔半径25オングストローム以上で100オングスト
ローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、
細孔半径100オングストローム以上で300オングス
トローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をZとし
たとき、YがXの70%以上であり、ZがXの20%以
下であるような細孔構造を有するアルミナ担体と銀と、
シリカまたはチタニアからなる触媒Bとより構成する排
ガス浄化用触媒層であることを特徴とし、さらに前記触
媒Aにおいて酸性陰イオンはSO4 2−であることが好
ましい。該触媒層において、シリカまたはチタニア含有
量は触媒Bの全体に対して酸化物換算で0.05〜1.
5重量%であることが好ましく、また前記触媒層は粉体
または成型した状態で排ガスの流通空間に配置するのが
好ましい。
【0013】また、本発明の第2の実施態様は、多数の
貫通孔を有する耐火性材料からなる支持基質と、該支持
基質における少なくとも該貫通孔の内表面に上記の触媒
を区分して被覆した排ガス浄化用触媒被覆構造体である
ことを特徴としたものである。
貫通孔を有する耐火性材料からなる支持基質と、該支持
基質における少なくとも該貫通孔の内表面に上記の触媒
を区分して被覆した排ガス浄化用触媒被覆構造体である
ことを特徴としたものである。
【0014】またさらに、本発明の第3の実施態様は希
薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼排ガスを触媒含有
層と接触させて排ガス中のNOxを除去する方法におい
て、該触媒含有層に含まれる触媒は前記第1の実施態様
における触媒層または第2の実施態様における触媒被覆
構造体であり、排ガスの流通方向に対して触媒Aが前段
に、触媒Bが後段に区分して配置させた排ガス浄化方法
を特徴とするものである。
薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼排ガスを触媒含有
層と接触させて排ガス中のNOxを除去する方法におい
て、該触媒含有層に含まれる触媒は前記第1の実施態様
における触媒層または第2の実施態様における触媒被覆
構造体であり、排ガスの流通方向に対して触媒Aが前段
に、触媒Bが後段に区分して配置させた排ガス浄化方法
を特徴とするものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細およびその作
用についてさらに具体的に説明する。 (触媒の構造およびその製法)本発明の排ガス浄化用触
媒層における触媒Bの主成分の1つであるアルミナは、
例えば鉱物学上ベーマイト、擬ベーマイト、バイアライ
ト、あるいはノルストランダイトに分類される水酸化ア
ルミニウムの粉体やゲルを、空気中あるいは真空中30
0〜800℃、好ましくは400〜900℃で加熱脱水
することによって、結晶学的にγ一型、η−型、δ−
型、χ−型あるいはその混合型に分類されるアルミナに
相転移させたものが脱硝性能上好ましい。他の結晶構造
をとるアルミナ、例えばα−型のアルミナは極端に比表
面積が小さく固体酸性にも乏しいので本発明の触媒成分
としては不適当である。
用についてさらに具体的に説明する。 (触媒の構造およびその製法)本発明の排ガス浄化用触
媒層における触媒Bの主成分の1つであるアルミナは、
例えば鉱物学上ベーマイト、擬ベーマイト、バイアライ
ト、あるいはノルストランダイトに分類される水酸化ア
ルミニウムの粉体やゲルを、空気中あるいは真空中30
0〜800℃、好ましくは400〜900℃で加熱脱水
することによって、結晶学的にγ一型、η−型、δ−
型、χ−型あるいはその混合型に分類されるアルミナに
相転移させたものが脱硝性能上好ましい。他の結晶構造
をとるアルミナ、例えばα−型のアルミナは極端に比表
面積が小さく固体酸性にも乏しいので本発明の触媒成分
としては不適当である。
【0016】また、窒素ガス吸着法により測定された細
孔半径が300オングストローム以下の細孔の占める細
孔容積の合計値をXとし、細孔半径が25オングストロ
ーム以上で100オングストローム未満の細孔の占める
細孔容積の合計値をYとし、細孔半径が100オングス
トローム以上で300オングストローム以下の細孔の占
める細孔容積の合計値をZとしたとき、YがΧの70%
以上であり、ZがXの20%以下であるような細孔構造
を有するアルミナであることが必要である。細孔構造
が、上記した条件を満たさないアルミナを本発明の触媒
担体として用いた場合には、これにより構成される排ガ
ス浄化用触媒の水蒸気共存下での排ガスの脱硝性能が不
十分であった。従って、本発明の触媒Bの成分として有
効なアルミナは、上記した結晶構造および細孔特性を有
するものが適切であるといえる。
孔半径が300オングストローム以下の細孔の占める細
孔容積の合計値をXとし、細孔半径が25オングストロ
ーム以上で100オングストローム未満の細孔の占める
細孔容積の合計値をYとし、細孔半径が100オングス
トローム以上で300オングストローム以下の細孔の占
める細孔容積の合計値をZとしたとき、YがΧの70%
以上であり、ZがXの20%以下であるような細孔構造
を有するアルミナであることが必要である。細孔構造
が、上記した条件を満たさないアルミナを本発明の触媒
担体として用いた場合には、これにより構成される排ガ
ス浄化用触媒の水蒸気共存下での排ガスの脱硝性能が不
十分であった。従って、本発明の触媒Bの成分として有
効なアルミナは、上記した結晶構造および細孔特性を有
するものが適切であるといえる。
【0017】本発明の排ガス浄化用触媒層は、以下のよ
うな触媒である。本発明の触媒層はシリカまたはシリカ
と酸性陰イオンと、カルシウム、マグネシウム、ストロ
ンチウムおよびバリウムからなる群より選択された少な
くとも1種からなる触媒Aと、上記した結晶構造および
細孔特性を有するアルミナと銀と、微量のシリカまたは
チタニアからなる触媒Bとから構成されるものである。
触媒Aの一構成成分であるカルシウム、マグネシウム、
ストロンチウムおよびバリウムからなる群より選択され
た少なくとも1種の状態は、特に限定されない。また、
触媒Bのアルミナに含有する銀の状態も特に限定され
ず、例えば金属状態、酸化物状態およびこれらの混合状
態などが挙げられる。シリカまたはチタニアの状態も特
に限定されるものではない。特に、自動車などの内燃機
関の燃焼排ガス組成は運転状態によってその都度変化す
るため、触媒は還元雰囲気および酸化雰囲気に曝され
る。従って、触媒を構成する活性金属の状態は雰囲気に
より変化することが想定される。触媒Aの一構成成分で
ある酸性陰イオンと、カルシウム、マグネシウム、スト
ロンチウムおよびバリウムからなる群より選択された少
なくとも1種からなる触媒Bにおける銀とシリカまたは
チタニアの出発原料は特に限定されない。
うな触媒である。本発明の触媒層はシリカまたはシリカ
と酸性陰イオンと、カルシウム、マグネシウム、ストロ
ンチウムおよびバリウムからなる群より選択された少な
くとも1種からなる触媒Aと、上記した結晶構造および
細孔特性を有するアルミナと銀と、微量のシリカまたは
チタニアからなる触媒Bとから構成されるものである。
触媒Aの一構成成分であるカルシウム、マグネシウム、
ストロンチウムおよびバリウムからなる群より選択され
た少なくとも1種の状態は、特に限定されない。また、
触媒Bのアルミナに含有する銀の状態も特に限定され
ず、例えば金属状態、酸化物状態およびこれらの混合状
態などが挙げられる。シリカまたはチタニアの状態も特
に限定されるものではない。特に、自動車などの内燃機
関の燃焼排ガス組成は運転状態によってその都度変化す
るため、触媒は還元雰囲気および酸化雰囲気に曝され
る。従って、触媒を構成する活性金属の状態は雰囲気に
より変化することが想定される。触媒Aの一構成成分で
ある酸性陰イオンと、カルシウム、マグネシウム、スト
ロンチウムおよびバリウムからなる群より選択された少
なくとも1種からなる触媒Bにおける銀とシリカまたは
チタニアの出発原料は特に限定されない。
【0018】そして、本触媒Aにおけるシリカと酸性陰
イオンと、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム
およびバリウムからなる群より選択された少なくとも1
種からなる触媒の製造方法や触媒Bにおけるアルミナと
銀と、シリカまたはチタニアからなる触媒の製造方法は
特に限定されず従来から行われている手法、例えば吸着
法、ポアフィリング法、インシピエントウェットネス
法、蒸発乾固法、スプレー法などの含浸法、混練法、物
理混合法およびこれらの組み合わせ法など通常採用され
ている公知の方法を任意に採用することができる。
イオンと、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム
およびバリウムからなる群より選択された少なくとも1
種からなる触媒の製造方法や触媒Bにおけるアルミナと
銀と、シリカまたはチタニアからなる触媒の製造方法は
特に限定されず従来から行われている手法、例えば吸着
法、ポアフィリング法、インシピエントウェットネス
法、蒸発乾固法、スプレー法などの含浸法、混練法、物
理混合法およびこれらの組み合わせ法など通常採用され
ている公知の方法を任意に採用することができる。
【0019】例えば触媒Aの場合、シリカとカルシウム
源、マグネシウム源、ストロンチウム源およびバリウム
源からなる群より選択された少なくとも1種を混合した
後、乾燥、焼成する。また、シリカ担体の製造時にカル
シウム源、マグネシウム源、ストロンチウム源およびバ
リウム源からなる群より選択された少なくとも1種を含
有させる触媒製造法、例えば、シリコンアルコキシドの
アルコール溶液とカルシウム源、マグネシウム源、スト
ロンチウム源およびバリウム源からなる群より選択され
た少なくとも1種を含有するアルコール溶液を混合後、
加熱し加水分解させるアルコキシド法や、シリカ源と、
カルシウム源、マグネシウム源、ストロンチウム源およ
びバリウム源からなる群より選択された少なくとも1種
の混合水溶液にアルカリを添加して沈殿させる共沈法も
適用できる。またこのときの酸性陰イオンの含有方法は
特に限定されず、各元素の硫酸塩や硫酸などによる処理
が挙げられる。
源、マグネシウム源、ストロンチウム源およびバリウム
源からなる群より選択された少なくとも1種を混合した
後、乾燥、焼成する。また、シリカ担体の製造時にカル
シウム源、マグネシウム源、ストロンチウム源およびバ
リウム源からなる群より選択された少なくとも1種を含
有させる触媒製造法、例えば、シリコンアルコキシドの
アルコール溶液とカルシウム源、マグネシウム源、スト
ロンチウム源およびバリウム源からなる群より選択され
た少なくとも1種を含有するアルコール溶液を混合後、
加熱し加水分解させるアルコキシド法や、シリカ源と、
カルシウム源、マグネシウム源、ストロンチウム源およ
びバリウム源からなる群より選択された少なくとも1種
の混合水溶液にアルカリを添加して沈殿させる共沈法も
適用できる。またこのときの酸性陰イオンの含有方法は
特に限定されず、各元素の硫酸塩や硫酸などによる処理
が挙げられる。
【0020】また触媒Bの場合、アルミナあるいはアル
ミナ前躯体物質に銀源とシリカ源またはチタニア源を同
時に担持させた後、乾燥・焼成してもよいし、銀源とシ
リカ源またはチタニア源を逐次的に担持させた後、乾燥
・焼成してもよい。また、前記のような特定の細孔構造
をとるアルミナまたはアルミナ担体の製造時に活性金属
種を含有させる触媒製造法、例えば、アルミニウムアル
コキシドのアルコール溶液と、銀源とシリカ源またはチ
タニア源のアルコール溶液を混合後、加熱し加水分解さ
せるアルコキシド法や、アルミニウム源と銀源と、シリ
カ源またはチタニア源の混合水溶液にアルカリを添加し
て沈殿させる共沈法も適用できる。
ミナ前躯体物質に銀源とシリカ源またはチタニア源を同
時に担持させた後、乾燥・焼成してもよいし、銀源とシ
リカ源またはチタニア源を逐次的に担持させた後、乾燥
・焼成してもよい。また、前記のような特定の細孔構造
をとるアルミナまたはアルミナ担体の製造時に活性金属
種を含有させる触媒製造法、例えば、アルミニウムアル
コキシドのアルコール溶液と、銀源とシリカ源またはチ
タニア源のアルコール溶液を混合後、加熱し加水分解さ
せるアルコキシド法や、アルミニウム源と銀源と、シリ
カ源またはチタニア源の混合水溶液にアルカリを添加し
て沈殿させる共沈法も適用できる。
【0021】触媒Aの構成成分であるシリカまたはシリ
カと酸性陰イオンと、カルシウム、マグネシウム、スト
ロンチウムおよびバリウムからなる群より選択された少
なくとも1種の含有量は特に限定されず、要求性能に応
じて適宜選択できるが、特にカルシウム、マグネシウ
ム、ストロンチウムおよびバリウムからなる群より選択
された少なくとも1種の含有量は、SOx吸収性能上1
0〜80重量%であることが好ましい。また触媒Bにお
けるアルミナに対する金属換算での銀の含有量は特に限
定されないが、脱硝性能上0.1〜10重量%の範囲が
好ましく、2〜8重量%の範囲が特に好ましい。また触
媒B全体に対する酸化物換算でのシリカまたはチタニア
の含有量は、0.05〜1.5重量%の範囲が好まし
い。シリカまたはチタニアの含有量が1.5重量%を超
えると銀の性能が発揮されず脱硝性能が低下する。ま
た、0.05重量%未満の場合、シリカまたはチタニア
の添加による相乗効果が十分に発揮されないので上記範
囲とするのが好ましい。
カと酸性陰イオンと、カルシウム、マグネシウム、スト
ロンチウムおよびバリウムからなる群より選択された少
なくとも1種の含有量は特に限定されず、要求性能に応
じて適宜選択できるが、特にカルシウム、マグネシウ
ム、ストロンチウムおよびバリウムからなる群より選択
された少なくとも1種の含有量は、SOx吸収性能上1
0〜80重量%であることが好ましい。また触媒Bにお
けるアルミナに対する金属換算での銀の含有量は特に限
定されないが、脱硝性能上0.1〜10重量%の範囲が
好ましく、2〜8重量%の範囲が特に好ましい。また触
媒B全体に対する酸化物換算でのシリカまたはチタニア
の含有量は、0.05〜1.5重量%の範囲が好まし
い。シリカまたはチタニアの含有量が1.5重量%を超
えると銀の性能が発揮されず脱硝性能が低下する。ま
た、0.05重量%未満の場合、シリカまたはチタニア
の添加による相乗効果が十分に発揮されないので上記範
囲とするのが好ましい。
【0022】触媒Aの乾燥温度は特に限定されるもので
はなく、通常80〜120℃程度で乾燥する。また、焼
成温度は200〜800℃、好ましくは400〜600
℃程度である。焼成温度が800℃を超えると、シリカ
の比表面積の減少とともにカルシウム、マグネシウム、
ストロンチウムおよびバリウムからなる群より選択され
た少なくとも1種の分散性も低下するため好ましくな
い。
はなく、通常80〜120℃程度で乾燥する。また、焼
成温度は200〜800℃、好ましくは400〜600
℃程度である。焼成温度が800℃を超えると、シリカ
の比表面積の減少とともにカルシウム、マグネシウム、
ストロンチウムおよびバリウムからなる群より選択され
た少なくとも1種の分散性も低下するため好ましくな
い。
【0023】一方、触媒Bの乾燥温度は、特に限定され
るものではなく通常80〜120℃程度で乾燥する。ま
た、焼成温度は300〜1000℃、好ましくは400
〜900℃程度である。焼成温度が1000℃を超える
と、α−型アルミナへの相変態が起こるので好ましくな
い。このときの雰囲気は特に限定されないが、触媒組成
に応じて空気中、不活性ガス中、酸素中などの各雰囲気
を適宜選択すればよい。また、各雰囲気を一定時間毎に
交互に代えてもよい。
るものではなく通常80〜120℃程度で乾燥する。ま
た、焼成温度は300〜1000℃、好ましくは400
〜900℃程度である。焼成温度が1000℃を超える
と、α−型アルミナへの相変態が起こるので好ましくな
い。このときの雰囲気は特に限定されないが、触媒組成
に応じて空気中、不活性ガス中、酸素中などの各雰囲気
を適宜選択すればよい。また、各雰囲気を一定時間毎に
交互に代えてもよい。
【0024】本発明の第1の実施態様において、排ガス
浄化用の触媒層を形成するに際し、該触媒層は上記した
触媒を所定の形状に成型または粉末状態のまま目的とす
る排ガスが流通する一定の空間内に充填する。触媒層を
成型体とするに際して、その形状は特に制限されず、例
えば球状、円筒状、ハニカム状、螺旋状、粒状、ペレッ
ト状、リング状など種々の形状を採用することができ
る。これらの形状、大きさなどは使用条件に応じて任意
に選択すればよい。
浄化用の触媒層を形成するに際し、該触媒層は上記した
触媒を所定の形状に成型または粉末状態のまま目的とす
る排ガスが流通する一定の空間内に充填する。触媒層を
成型体とするに際して、その形状は特に制限されず、例
えば球状、円筒状、ハニカム状、螺旋状、粒状、ペレッ
ト状、リング状など種々の形状を採用することができ
る。これらの形状、大きさなどは使用条件に応じて任意
に選択すればよい。
【0025】次に、本発明の第2の実施態様の排ガス浄
化用触媒被覆構造体について説明する。ここでいう触媒
被覆構造体とは、多数の貫通孔を有する耐火性材料で構
成された一体構造の支持基質の少なくとも貫通孔の内表
面に上記した触媒を区分して被覆した構造を有するもの
である。
化用触媒被覆構造体について説明する。ここでいう触媒
被覆構造体とは、多数の貫通孔を有する耐火性材料で構
成された一体構造の支持基質の少なくとも貫通孔の内表
面に上記した触媒を区分して被覆した構造を有するもの
である。
【0026】該支持基質には、多数の貫通孔が排ガスの
流通方向に沿って設けられるが、その流通方向に垂直な
断面において、通常、開孔率60〜90%、好ましくは
70〜90%であって、その数は1平方インチ(5.0
6cm2)当り30〜700個、好ましくは200〜6
00個である。触媒は、少なくとも該貫通孔の内表面上
に被覆されるが、その支持基質の端面や側面に区分して
被覆されていてもよい。
流通方向に沿って設けられるが、その流通方向に垂直な
断面において、通常、開孔率60〜90%、好ましくは
70〜90%であって、その数は1平方インチ(5.0
6cm2)当り30〜700個、好ましくは200〜6
00個である。触媒は、少なくとも該貫通孔の内表面上
に被覆されるが、その支持基質の端面や側面に区分して
被覆されていてもよい。
【0027】該耐火性支持基質の材質としては、α−型
アルミナ、ムライト、コージェライト、シリコンカーバ
イトなどのセラミックスやオーステナイト系、フェライ
ト系のステンレス鋼などの金属などが使用される。形状
もハニカムやフォームなどの慣用のものが使用できる
が、好ましいものは、コージェライト製やステンレス鋼
製のハニカム状の支持基質である。
アルミナ、ムライト、コージェライト、シリコンカーバ
イトなどのセラミックスやオーステナイト系、フェライ
ト系のステンレス鋼などの金属などが使用される。形状
もハニカムやフォームなどの慣用のものが使用できる
が、好ましいものは、コージェライト製やステンレス鋼
製のハニカム状の支持基質である。
【0028】該支持基質への触媒の被覆方法としては、
一定の粒度に整粒した本発明の触媒をバインダーと共
に、またはバインダーを用いないで前記支持基質の内表
面に被覆する、いわゆる通常のウォッシュコート法やゾ
ル−ゲル法が適用できる。また、上記の支持基質に予め
アルミナを被覆しておいて、これに本発明の触媒活性物
質の担持処理を行って触媒被覆層を形成してもよい。支
持基質への触媒層の被覆量は限定されないが、支持基質
単位体積当り50〜250g/l程度が好ましく、10
0〜200g/l程度とすることがより好ましい。
一定の粒度に整粒した本発明の触媒をバインダーと共
に、またはバインダーを用いないで前記支持基質の内表
面に被覆する、いわゆる通常のウォッシュコート法やゾ
ル−ゲル法が適用できる。また、上記の支持基質に予め
アルミナを被覆しておいて、これに本発明の触媒活性物
質の担持処理を行って触媒被覆層を形成してもよい。支
持基質への触媒層の被覆量は限定されないが、支持基質
単位体積当り50〜250g/l程度が好ましく、10
0〜200g/l程度とすることがより好ましい。
【0029】次に、本発明の第3の実施態様の排ガス浄
化方法について説明する。本発明の第3の実施態様は、
第1の実施態様の触媒層や第2の実施態様の触媒被覆構
造体を使用して、これと排ガス中のCO、HCおよびH
2といった還元性成分をΝOxおよびO2といった酸化
性成分で完全酸化するに要する化学量論量近傍から過剰
の酸素を含有する排ガスとを接触させることによって、
ΝOxはN2とΗ2Oにまで還元分解されると同時にH
Cなどの還元剤もCO2とH2Oに酸化させるものであ
る。
化方法について説明する。本発明の第3の実施態様は、
第1の実施態様の触媒層や第2の実施態様の触媒被覆構
造体を使用して、これと排ガス中のCO、HCおよびH
2といった還元性成分をΝOxおよびO2といった酸化
性成分で完全酸化するに要する化学量論量近傍から過剰
の酸素を含有する排ガスとを接触させることによって、
ΝOxはN2とΗ2Oにまで還元分解されると同時にH
Cなどの還元剤もCO2とH2Oに酸化させるものであ
る。
【0030】本発明において触媒Aを前段に、触媒Bを
後段に配置させる理由は、前段の触媒AでSOxを吸着
除去することにより、トータル触媒システムでのSOx
耐久性を向上させるためである。触媒Aと触媒Bの割合
は、要求性能に応じて適宜選択できる。
後段に配置させる理由は、前段の触媒AでSOxを吸着
除去することにより、トータル触媒システムでのSOx
耐久性を向上させるためである。触媒Aと触媒Bの割合
は、要求性能に応じて適宜選択できる。
【0031】ディーゼルエンジンの排ガスのように、排
ガスそのもののHC/NOx比が低い場合には、排ガス
中にメタン換算濃度で数百〜数千ppm程度の燃料ΗC
を追加添加した後、本発明の触媒と接触させるシステム
を採用すれば充分に高いNOx除去率を達成できる。な
お、ここでいうHCとは、パラフィン系炭化水素、オレ
フィン系炭化水素および芳香族系炭化水素、アルコー
ル、アルデヒド、ケトン、エーテルなどの含酸素有機化
合物、ガソリン、灯油、軽油、A重油などを含んだもの
を意味する。
ガスそのもののHC/NOx比が低い場合には、排ガス
中にメタン換算濃度で数百〜数千ppm程度の燃料ΗC
を追加添加した後、本発明の触媒と接触させるシステム
を採用すれば充分に高いNOx除去率を達成できる。な
お、ここでいうHCとは、パラフィン系炭化水素、オレ
フィン系炭化水素および芳香族系炭化水素、アルコー
ル、アルデヒド、ケトン、エーテルなどの含酸素有機化
合物、ガソリン、灯油、軽油、A重油などを含んだもの
を意味する。
【0032】本発明による触媒層を用いて、希薄空燃比
の領域で運転される内燃機関の燃焼排ガスを浄化する際
のガス空間速度(SV)は特に限定されるものではない
が、SV5,000h−1以上で200,000h−1
以下とすることが好ましい。
の領域で運転される内燃機関の燃焼排ガスを浄化する際
のガス空間速度(SV)は特に限定されるものではない
が、SV5,000h−1以上で200,000h−1
以下とすることが好ましい。
【0033】そして、ガス組成を一定とした場合の脱硝
率は触媒の種類とHCの種類に依存するが、本発明の触
媒層を用いた場合は、例えばC2〜C6のパラフィン、
オレフィンおよびC6〜C9の芳香族HCに対しては4
50〜600℃、C6〜C9のパラフィンおよびオレフ
ィンに対しては350〜550℃、C10〜C25のパ
ラフィンおよびオレフィンに対しては250〜500℃
で高い脱硝率を示すため触媒層入口温度を100℃以上
で700℃以下、好ましくは200℃以上で600℃以
下にすることが必要である。
率は触媒の種類とHCの種類に依存するが、本発明の触
媒層を用いた場合は、例えばC2〜C6のパラフィン、
オレフィンおよびC6〜C9の芳香族HCに対しては4
50〜600℃、C6〜C9のパラフィンおよびオレフ
ィンに対しては350〜550℃、C10〜C25のパ
ラフィンおよびオレフィンに対しては250〜500℃
で高い脱硝率を示すため触媒層入口温度を100℃以上
で700℃以下、好ましくは200℃以上で600℃以
下にすることが必要である。
【0034】
【実施例】以下に実施例および比較例により、本発明を
さらに詳細に説明する。但し、本発明は下記実施例に限
定されるものでない。 (1)触媒Bのアルミナの選定 触媒Bの使用アルミナ担体の選定のために、表1に示す
ような比表面積と細孔分布を有する種々のγ一型アルミ
ナにおいて、a〜cが本発明の範囲に入るアルミナであ
り、d〜gが本発明の範囲外のアルミナである。なお、
a〜gのアルミナの細孔分布は、カルロエルバ社製のソ
ープトマチックにより測定した。
さらに詳細に説明する。但し、本発明は下記実施例に限
定されるものでない。 (1)触媒Bのアルミナの選定 触媒Bの使用アルミナ担体の選定のために、表1に示す
ような比表面積と細孔分布を有する種々のγ一型アルミ
ナにおいて、a〜cが本発明の範囲に入るアルミナであ
り、d〜gが本発明の範囲外のアルミナである。なお、
a〜gのアルミナの細孔分布は、カルロエルバ社製のソ
ープトマチックにより測定した。
【0035】
【表1】 ───────────────────────────────── アルミナ 比表面積 細 孔 分 布 (m2/g) Y/Χ(%) Z/Χ(%) ───────────────────────────────── a 241 83.2 2.4 b 219 87.0 3.9 c 174 88.4 4.4 d 199 47.0 0.7 e 177 68.5 4.9 f 241 51.0 45.9 g 266 71.1 22.7 ─────────────────────────────────
【0036】(2)触媒層の調製 以下に、本発明の触媒層を構成するための各触媒の調製
についての調製例を参考例として示す。 (イ)触媒Bの製造: [参考例1]表1のγ一型アルミナaの前駆体物質であ
るアルミナ水和物300gを硝酸銀16.1gおよびシ
リカゾル(SiO2:20重量%)8.9gを含む90
0mlの水溶液に浸漬した後、撹拌しながら加熱し水分
を蒸発させた。これを110℃で通風乾燥後、空気中6
00℃で3時間焼成して触媒1を得た。なお、触媒1に
おける金属換算でのAgの含有量は、触媒全体に対して
4.5重量%、酸化物換算でのSiO2の含有量は0.
8重量%である。
についての調製例を参考例として示す。 (イ)触媒Bの製造: [参考例1]表1のγ一型アルミナaの前駆体物質であ
るアルミナ水和物300gを硝酸銀16.1gおよびシ
リカゾル(SiO2:20重量%)8.9gを含む90
0mlの水溶液に浸漬した後、撹拌しながら加熱し水分
を蒸発させた。これを110℃で通風乾燥後、空気中6
00℃で3時間焼成して触媒1を得た。なお、触媒1に
おける金属換算でのAgの含有量は、触媒全体に対して
4.5重量%、酸化物換算でのSiO2の含有量は0.
8重量%である。
【0037】[参考例2〜参考例11]同様に、表1に
示すγ一型アルミナb〜gが得られる前駆体物質である
アルミナ水和物を用いた以外は、参考例1と同様にして
それぞれ触媒2(参考例2)、触媒3(参考例3)、触
媒4(参考例4)、触媒5(参考例5)、触媒6(参考
例6)、触媒7(参考例7)を得た。また、参考例1の
触媒1の調製に際し、銀の含有量を0重量%、1重量
%、3重量%、8重量%とした以外は参考例1と同様に
して触媒8(参考例8)、触媒9(参考例9)、触媒1
0(参考例10)、触媒11(参考例11)を、シリカ
の含有量を0重量%、0.02重量%、0.1重量%、
1.2重量%、1.6重量%とした以外は参考例1と同
様にして触媒12(参考例12)、触媒13(参考例1
3)、触媒14(参考例14)、触媒15(参考例1
5)、触媒16(参考例16)を、シリカの代わりにチ
タニアを用いた以外は参考例1と同様にして触媒17
(参考例17)得た。
示すγ一型アルミナb〜gが得られる前駆体物質である
アルミナ水和物を用いた以外は、参考例1と同様にして
それぞれ触媒2(参考例2)、触媒3(参考例3)、触
媒4(参考例4)、触媒5(参考例5)、触媒6(参考
例6)、触媒7(参考例7)を得た。また、参考例1の
触媒1の調製に際し、銀の含有量を0重量%、1重量
%、3重量%、8重量%とした以外は参考例1と同様に
して触媒8(参考例8)、触媒9(参考例9)、触媒1
0(参考例10)、触媒11(参考例11)を、シリカ
の含有量を0重量%、0.02重量%、0.1重量%、
1.2重量%、1.6重量%とした以外は参考例1と同
様にして触媒12(参考例12)、触媒13(参考例1
3)、触媒14(参考例14)、触媒15(参考例1
5)、触媒16(参考例16)を、シリカの代わりにチ
タニアを用いた以外は参考例1と同様にして触媒17
(参考例17)得た。
【0038】(ロ)触媒Aの製造: [参考例18]市販のシリカ40gと水酸化カルシウム
80gおよび硫酸カルシウム(半水石膏)60gをイオ
ン交換水600mlに添加し、室温で30分攪拌した
後、加熱し水分を蒸発させた。これを110℃で通風乾
燥後、空気中550℃で3時間焼成して触媒18(参考
例18)を得た。なお、触媒18のSiO2、Ca(O
H)2およびCaSO4の重量比は2:4:3である。
80gおよび硫酸カルシウム(半水石膏)60gをイオ
ン交換水600mlに添加し、室温で30分攪拌した
後、加熱し水分を蒸発させた。これを110℃で通風乾
燥後、空気中550℃で3時間焼成して触媒18(参考
例18)を得た。なお、触媒18のSiO2、Ca(O
H)2およびCaSO4の重量比は2:4:3である。
【0039】[参考例19〜参考例25]参考例18の
触媒18の調製に際し、カルシウムに代えてマグネシウ
ム、ストロンチウム、バリウムを用いた以外は参考例1
8と同様にして、それぞれ触媒19(参考例19)、触
媒20(参考例20)、触媒21(参考例21)を、S
iO2、Ca(OH)2およびCaSO4の重量比を
1:4:3とした以外は参考例18と同様にして、触媒
22(参考例22)を、硫酸カルシウムを用いなかった
以外は参考例18と同様にして、触媒23(参考例2
3)を得た。
触媒18の調製に際し、カルシウムに代えてマグネシウ
ム、ストロンチウム、バリウムを用いた以外は参考例1
8と同様にして、それぞれ触媒19(参考例19)、触
媒20(参考例20)、触媒21(参考例21)を、S
iO2、Ca(OH)2およびCaSO4の重量比を
1:4:3とした以外は参考例18と同様にして、触媒
22(参考例22)を、硫酸カルシウムを用いなかった
以外は参考例18と同様にして、触媒23(参考例2
3)を得た。
【0040】(ハ)ハニカム触媒の製造: [参考例24および参考例25]上記の粉末触媒1の6
0gを、アルミナゾル(Αl2O3固形分10重量%)
8gおよび水120mlと共にボールミルポットに仕込
み、湿式粉砕してスラリーを得た。このスラリーの中
に、市販の400cpsi(セル/inch2)コージ
ェライトハニカム基質からくり貫かれた直径1インチ、
長さ2.5インチの円筒状コアを浸漬し、引き上げた後
余分のスラリーをエアーブローで除去し乾燥した。その
後、500℃で30分焼成し、ハニカム1L当たりドラ
イ換算で150gの固形分を被覆して参考例24のハニ
カム触媒24を得た。また、触媒1の代わりに触媒18
を用いた以外は、前記と同様の調製法にて参考例25の
ハニカム触媒25を得た。
0gを、アルミナゾル(Αl2O3固形分10重量%)
8gおよび水120mlと共にボールミルポットに仕込
み、湿式粉砕してスラリーを得た。このスラリーの中
に、市販の400cpsi(セル/inch2)コージ
ェライトハニカム基質からくり貫かれた直径1インチ、
長さ2.5インチの円筒状コアを浸漬し、引き上げた後
余分のスラリーをエアーブローで除去し乾燥した。その
後、500℃で30分焼成し、ハニカム1L当たりドラ
イ換算で150gの固形分を被覆して参考例24のハニ
カム触媒24を得た。また、触媒1の代わりに触媒18
を用いた以外は、前記と同様の調製法にて参考例25の
ハニカム触媒25を得た。
【0041】以下に上記した参考例1〜23の触媒を用
いて形成した排ガス浄化用触媒層について、種々の条件
下において脱硝性能を評価した結果について述べる。 [実施例1]参考例18の触媒18と参考例1の触媒1
をそれぞれ加圧成型した後、粉砕して粒度を350〜5
00μmに整粒し、排ガスの流通方向に対して触媒18
が前段に、触媒1が後段になるように内径21mmのス
テンレス製反応管に充填して触媒層を形成し、これを常
圧固定床流通反応装置に装着した。なお、触媒18と触
媒1の重量比は1:1である。
いて形成した排ガス浄化用触媒層について、種々の条件
下において脱硝性能を評価した結果について述べる。 [実施例1]参考例18の触媒18と参考例1の触媒1
をそれぞれ加圧成型した後、粉砕して粒度を350〜5
00μmに整粒し、排ガスの流通方向に対して触媒18
が前段に、触媒1が後段になるように内径21mmのス
テンレス製反応管に充填して触媒層を形成し、これを常
圧固定床流通反応装置に装着した。なお、触媒18と触
媒1の重量比は1:1である。
【0042】[性能評価例1]この触媒層に、モデル排
ガスとしてNO:750ppm、灯油(C1):450
0ppm、O2:10%、H2O:10%、残部:N2
からなる混合ガスを空間速度78,000h−1で通過
させた。反応管出口ガス組成の分析において、NOとN
O2の濃度については化学発光式NOx計で測定し、N
2O濃度はΡorapack Qカラムを装着したガス
クロマトグラフ・熱伝導度検出器を用いて測定した。触
媒層入口温度を100〜700℃の範囲の所定温度に設
定し、各所定温度毎に反応管出口ガス組成が安定した時
点の値を用い、脱硝率は以下の式で定義した。本発明の
いずれの触媒でもN2OおよびNO2は殆ど生成しなか
った。
ガスとしてNO:750ppm、灯油(C1):450
0ppm、O2:10%、H2O:10%、残部:N2
からなる混合ガスを空間速度78,000h−1で通過
させた。反応管出口ガス組成の分析において、NOとN
O2の濃度については化学発光式NOx計で測定し、N
2O濃度はΡorapack Qカラムを装着したガス
クロマトグラフ・熱伝導度検出器を用いて測定した。触
媒層入口温度を100〜700℃の範囲の所定温度に設
定し、各所定温度毎に反応管出口ガス組成が安定した時
点の値を用い、脱硝率は以下の式で定義した。本発明の
いずれの触媒でもN2OおよびNO2は殆ど生成しなか
った。
【0043】
【式1】
【0044】[実施例2〜14および比較例1〜8]参
考例2、3、9〜11、14、15、17の触媒2、
3、9〜11、14、15、17および参考例4〜8、
12、13、16の触媒4〜8、12、13、16をそ
れぞれ実施例1の触媒1の代わりに用いて、上記と同様
の触媒層を形成し、同様にしてモデルガスによる評価試
験を行った。触媒2、3、9〜11、14、15、17
を用いた触媒層を、それぞれ実施例2〜9とし、触媒4
〜8、12、13、16を用いた触媒層を、それぞれ比
較例1〜8とした。また、参考例19〜23の触媒19
〜23をそれぞれ実施例1の触媒18の代わりに用い
て、上記と同様の触媒層を形成し同様にしてモデルガス
による評価試験を行った。触媒19〜23を用いた触媒
層を、それぞれ実施例10〜14とした。表2に、上記
実施例および比較例の触媒層について触媒層温度425
℃のときの脱硝率C425(%)を示す。本発明の実施
例1〜14および比較例6、7の触媒層は、比較例1〜
5、8の触媒層に比べて70%の高い脱硝性能を示し
た。
考例2、3、9〜11、14、15、17の触媒2、
3、9〜11、14、15、17および参考例4〜8、
12、13、16の触媒4〜8、12、13、16をそ
れぞれ実施例1の触媒1の代わりに用いて、上記と同様
の触媒層を形成し、同様にしてモデルガスによる評価試
験を行った。触媒2、3、9〜11、14、15、17
を用いた触媒層を、それぞれ実施例2〜9とし、触媒4
〜8、12、13、16を用いた触媒層を、それぞれ比
較例1〜8とした。また、参考例19〜23の触媒19
〜23をそれぞれ実施例1の触媒18の代わりに用い
て、上記と同様の触媒層を形成し同様にしてモデルガス
による評価試験を行った。触媒19〜23を用いた触媒
層を、それぞれ実施例10〜14とした。表2に、上記
実施例および比較例の触媒層について触媒層温度425
℃のときの脱硝率C425(%)を示す。本発明の実施
例1〜14および比較例6、7の触媒層は、比較例1〜
5、8の触媒層に比べて70%の高い脱硝性能を示し
た。
【0045】[性能評価例2]性能評価例1において、
参考例24のハニカム触媒24と参考例25のハニカム
触媒25を、それぞれ直径1.5cm、長さ3.2cm
の円筒状に加工し、排ガスの流通方向に対してハニカム
触媒25が前段に、ハニカム触媒24が後段になるよう
に内径15mmのステンレス製反応管に充填した(実施
例15)。該後段の触媒層に対して、フィードするガス
の空間速度を13,000h−1とした以外は性能評価
例1と同様のモデルガスによる評価試験を行い、その結
果を表2に併せて示す。表2からハニカム触媒層でも7
0%以上の高い脱硝性能を示すことがわかる。
参考例24のハニカム触媒24と参考例25のハニカム
触媒25を、それぞれ直径1.5cm、長さ3.2cm
の円筒状に加工し、排ガスの流通方向に対してハニカム
触媒25が前段に、ハニカム触媒24が後段になるよう
に内径15mmのステンレス製反応管に充填した(実施
例15)。該後段の触媒層に対して、フィードするガス
の空間速度を13,000h−1とした以外は性能評価
例1と同様のモデルガスによる評価試験を行い、その結
果を表2に併せて示す。表2からハニカム触媒層でも7
0%以上の高い脱硝性能を示すことがわかる。
【0046】
【表2】 ────────────────────────────── 前 段 後 段 脱硝率(%) ────────────────────────────── 実施例1 触媒18 触媒1 84.9 実施例2 触媒18 触媒2 82.8 実施例3 触媒18 触媒3 81.5 比較例1 触媒18 触媒4 20.3 比較例2 触媒18 触媒5 4.6 比較例3 触媒18 触媒6 31.8 比較例4 触媒18 触媒7 28.9 比較例5 触媒18 触媒8 37.3 実施例4 触媒18 触媒9 86.5 実施例5 触媒18 触媒10 88.3 実施例6 触媒18 触媒11 80.3 比較例6 触媒18 触媒12 77.9 比較例7 触媒18 触媒13 77.5 実施例7 触媒18 触媒14 76.0 実施例8 触媒18 触媒15 82.6 比較例8 触媒18 触媒16 60.2 実施例9 触媒18 触媒17 74.0 実施例10 触媒19 触媒1 81.8 実施例11 触媒20 触媒1 86.0 実施例12 触媒21 触媒1 84.0 実施例13 触媒22 触媒1 86.2 実施例14 触媒23 触媒1 81.7 実施例15 触媒27 触媒26 77.8 ───────────────────────────────
【0047】実施例1、8、14および比較例6、7の
触媒層について、性能評価例1のガス組成にさらにSO
2を50ppm共存させて耐久試験を行った。表3に各
触媒の活性値が安定した時点での触媒層温度425℃で
の脱硝率C425(%)を示す。本発明の実施例1、
8、14の触媒の活性値は、いずれも55%以上で安定
したのに対して比較例6、7の触媒は50%未満であっ
た。
触媒層について、性能評価例1のガス組成にさらにSO
2を50ppm共存させて耐久試験を行った。表3に各
触媒の活性値が安定した時点での触媒層温度425℃で
の脱硝率C425(%)を示す。本発明の実施例1、
8、14の触媒の活性値は、いずれも55%以上で安定
したのに対して比較例6、7の触媒は50%未満であっ
た。
【0048】
【表3】 ──────────────── 触 媒 脱硝率(%) ──────────────── 実施例1 57.0 実施例8 61.0 実施例14 57.7 比較例6 46.3 比較例7 45.7 ────────────────
【0049】
【発明の効果】以上のように、本発明による排ガス浄化
用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを
用いた排ガス浄化方法によれば、水蒸気が共存する希薄
燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を高い脱硝率で還元
浄化できること、また優れたSOx耐久性を有すること
から内燃機関の燃焼排ガス中の窒素酸化物の浄化に有用
である。
用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを
用いた排ガス浄化方法によれば、水蒸気が共存する希薄
燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を高い脱硝率で還元
浄化できること、また優れたSOx耐久性を有すること
から内燃機関の燃焼排ガス中の窒素酸化物の浄化に有用
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B01J 27/053 ZAB B01D 53/36 102B (72)発明者 加岳井 敦 千葉県市川市中国分3−18−5 住友金属 鉱山株式会社中央研究所内 (72)発明者 茅野 邦秀 静岡県沼津市一本松678 エヌ・イーケム キャット株式会社沼津工場内
Claims (7)
- 【請求項1】 シリカまたはシリカと酸性陰イオンと、
カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムおよびバリ
ウムからなる群より選択された少なくとも1種からなる
触媒Aと、窒素ガス吸着法により測定された細孔半径と
細孔容積の関係が、細孔半径300オングストローム以
下の細孔の占める細孔容積の合計値をXとし、細孔半径
25オングストローム以上で100オングストローム未
満の細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、細孔半径
100オングストローム以上で300オングストローム
以下の細孔の占める細孔容積の合計値をZとしたとき、
YがXの70%以上であり、ZがXの20%以下である
ような細孔構造を有するアルミナと銀と、シリカまたは
チタニアからなる触媒Bとから構成されることを特徴と
する排ガス浄化用触媒層。 - 【請求項2】 触媒Bのシリカまたはチタニアの含有量
は、触媒Bの全体に対して酸化物換算で0.05〜1.
5重量%であることを特徴とする請求項1記載の排ガス
浄化用触媒層。 - 【請求項3】 触媒Aの酸性陰イオンが、SO4 2−で
あることを特徴とする請求項1記載の排ガス浄化用触媒
層。 - 【請求項4】 多数の貫通孔を有する耐火性材料からな
る一体構造の支持基質における少なくとも貫通孔の内表
面に請求項1〜3のいずれか1項記載の触媒を区分して
被覆してなることを特徴とする排ガス浄化用触媒被覆構
造体。 - 【請求項5】 希薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼
排ガスを、触媒含有層と接触させることからなる炭化水
素を還元剤とする排ガス浄化方法において、前記触媒含
有層に含まれる触媒は請求項1〜3のいずれか1項記載
の排ガス浄化用触媒層であることを特徴とする排ガス浄
化方法。 - 【請求項6】 希薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼
排ガスを、触媒含有層と接触させることからなる炭化水
素を還元剤とする排ガス浄化方法において、前記触媒含
有層に含まれる触媒は請求項4記載の排ガス浄化用触媒
被覆構造体で構成することを特徴とする排ガス浄化方
法。 - 【請求項7】 排ガス流通方向に対して前記排ガス浄化
用触媒層に含まれる触媒Aが前段に、触媒Bが後段に区
分されて配置されていることを特徴とする請求項5また
は6記載の排ガス浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8346775A JPH10165822A (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれを用いた排ガス浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8346775A JPH10165822A (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれを用いた排ガス浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10165822A true JPH10165822A (ja) | 1998-06-23 |
Family
ID=18385742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8346775A Pending JPH10165822A (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれを用いた排ガス浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10165822A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN120479317A (zh) * | 2025-05-14 | 2025-08-15 | 青岛理工大学 | 双腔室动态耦合的二次有机气溶胶生成催化协同模拟系统 |
-
1996
- 1996-12-10 JP JP8346775A patent/JPH10165822A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN120479317A (zh) * | 2025-05-14 | 2025-08-15 | 青岛理工大学 | 双腔室动态耦合的二次有机气溶胶生成催化协同模拟系统 |
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