JPH1176839A - 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを使用しての排ガス浄化方法 - Google Patents
排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを使用しての排ガス浄化方法Info
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- JPH1176839A JPH1176839A JP9282696A JP28269697A JPH1176839A JP H1176839 A JPH1176839 A JP H1176839A JP 9282696 A JP9282696 A JP 9282696A JP 28269697 A JP28269697 A JP 28269697A JP H1176839 A JPH1176839 A JP H1176839A
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- exhaust gas
- pore
- gas purifying
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 希薄燃焼排ガス中のNOxを効率よく除去す
る方法を提供する。 【解決手段】 細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径
が300オングストローム以下の細孔の占める細孔容積
の合計値をX、25オングストローム以上100オング
ストローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値をY、
および100オングストローム以上300オングストロ
ーム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をΖとしたと
き、YがXの70%以上、ZがXの20%以下である細
孔構造を有するアルミナに、銀、さらに所望に応じ錫、
シリカあるいはチタニアを含有させた触媒からなり、触
媒の細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径が50オン
グストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をV
としたとき、VがXの20%以上である排ガス浄化用触
媒層を多数の貫通孔を有する耐火性材料からなる支持基
質貫通孔の内表面に被覆した排ガス浄化触媒より成る。
る方法を提供する。 【解決手段】 細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径
が300オングストローム以下の細孔の占める細孔容積
の合計値をX、25オングストローム以上100オング
ストローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値をY、
および100オングストローム以上300オングストロ
ーム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をΖとしたと
き、YがXの70%以上、ZがXの20%以下である細
孔構造を有するアルミナに、銀、さらに所望に応じ錫、
シリカあるいはチタニアを含有させた触媒からなり、触
媒の細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径が50オン
グストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をV
としたとき、VがXの20%以上である排ガス浄化用触
媒層を多数の貫通孔を有する耐火性材料からなる支持基
質貫通孔の内表面に被覆した排ガス浄化触媒より成る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は燃焼排ガス、特に自
動車、ボイラー、ガスエンジン、ガスタービン、船舶な
どの移動式および固定式内燃機関の燃焼排ガス中に含ま
れる窒素酸化物の浄化に用いられる排ガス浄化用触媒層
および排ガス浄化用触媒被覆構造体に関し、さらに詳細
には希薄燃焼領域で運転される内燃機関から排出される
排ガス中の窒素酸化物を高い空間速度で、かつ高効率で
浄化可能な排ガス浄化用触媒層および排ガス浄化用触媒
被覆構造体と、これらを使用しての排ガス浄化方法に関
するものである。
動車、ボイラー、ガスエンジン、ガスタービン、船舶な
どの移動式および固定式内燃機関の燃焼排ガス中に含ま
れる窒素酸化物の浄化に用いられる排ガス浄化用触媒層
および排ガス浄化用触媒被覆構造体に関し、さらに詳細
には希薄燃焼領域で運転される内燃機関から排出される
排ガス中の窒素酸化物を高い空間速度で、かつ高効率で
浄化可能な排ガス浄化用触媒層および排ガス浄化用触媒
被覆構造体と、これらを使用しての排ガス浄化方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】自動車をはじめとする内燃機関から排出
される各種の燃焼排ガス中には、燃焼生成物である水や
二酸化炭素と共に、一酸化窒素や二酸化窒素などの窒素
酸化物(NOx)が含まれている。ΝOxは人体、特に
呼吸器系に悪影響を及ぼすばかりでなく、地球環境保全
の上からも問題視される酸性雨の原因の1つとなってい
る。そのため、これら各種の排ガスから効率よく窒素酸
化物を除去する脱硝技術の開発が望まれている。
される各種の燃焼排ガス中には、燃焼生成物である水や
二酸化炭素と共に、一酸化窒素や二酸化窒素などの窒素
酸化物(NOx)が含まれている。ΝOxは人体、特に
呼吸器系に悪影響を及ぼすばかりでなく、地球環境保全
の上からも問題視される酸性雨の原因の1つとなってい
る。そのため、これら各種の排ガスから効率よく窒素酸
化物を除去する脱硝技術の開発が望まれている。
【0003】他方において、地球温暖化防止の観点から
近年希薄燃焼方式の内燃機関が注目されている。従来の
自動車用ガソリンエンジンは、空燃比(A/F)=1
4.7付近で制御された化学量論比での燃焼であり、そ
の排ガス処理に対しては排ガス中の一酸化炭素、炭化水
素とNOxとを、主として白金、ロジウム、パラジウム
およびセリアを含むアルミナ触媒に接触させて有害三成
分を同時に除去する三元触媒方式が採用されてきた。
近年希薄燃焼方式の内燃機関が注目されている。従来の
自動車用ガソリンエンジンは、空燃比(A/F)=1
4.7付近で制御された化学量論比での燃焼であり、そ
の排ガス処理に対しては排ガス中の一酸化炭素、炭化水
素とNOxとを、主として白金、ロジウム、パラジウム
およびセリアを含むアルミナ触媒に接触させて有害三成
分を同時に除去する三元触媒方式が採用されてきた。
【0004】しかしながら、この三元触媒方式は、エン
ジンが化学量論比で運転されることが絶対条件であるた
め、希薄空燃比で運転される希薄燃焼ガソリンエンジン
の排ガス浄化には適用することができない。また、ディ
ーゼルエンジンは本来希薄燃焼エンジンであるが、その
排ガスに対しては浮遊粒子状物質とNOxの両方に厳し
い規制がかけられようとしている。
ジンが化学量論比で運転されることが絶対条件であるた
め、希薄空燃比で運転される希薄燃焼ガソリンエンジン
の排ガス浄化には適用することができない。また、ディ
ーゼルエンジンは本来希薄燃焼エンジンであるが、その
排ガスに対しては浮遊粒子状物質とNOxの両方に厳し
い規制がかけられようとしている。
【0005】従来、酸素過剰雰囲気下でNOxを還元除
去する方法としては、還元ガスとして僅かな量でも選択
的に触媒に吸着するNH3を使用する技術が既に確立さ
れている。この技術は、いわゆる固定発生源であるボイ
ラーやディーゼルエンジンからの排ガス脱硝方法として
工業化されている。しかしながら、この方法においては
未反応の還元剤の回収処理のための特別な装置を必要と
し、さらに臭気が強く有害なアンモニアを用いるので、
特に自動車などの移動発生源からの排ガス脱硝技術とし
ては危険性があり、適用できない。
去する方法としては、還元ガスとして僅かな量でも選択
的に触媒に吸着するNH3を使用する技術が既に確立さ
れている。この技術は、いわゆる固定発生源であるボイ
ラーやディーゼルエンジンからの排ガス脱硝方法として
工業化されている。しかしながら、この方法においては
未反応の還元剤の回収処理のための特別な装置を必要と
し、さらに臭気が強く有害なアンモニアを用いるので、
特に自動車などの移動発生源からの排ガス脱硝技術とし
ては危険性があり、適用できない。
【0006】近年、酸素過剰雰囲気の希薄燃焼排ガス中
に残存する未燃の炭化水素を還元剤として用いることに
より、NOx還元反応を促進させることができるという
報告がなされて以来、この還元反応を促進するための触
媒が種々開発され報告されている。例えば、アルミナや
アルミナに遷移金属を担持した触媒が、炭化水素を還元
剤として用いるNOx還元反応に有効であるとする数多
くの報告がある。また、特開平4−284848号公報
には0.1〜4重量%のCu、Fe、Cr、Zn、N
i、Vを含有するアルミナあるいはシリカ−アルミナを
ΝOx還元触媒として使用した例が報告されている。
に残存する未燃の炭化水素を還元剤として用いることに
より、NOx還元反応を促進させることができるという
報告がなされて以来、この還元反応を促進するための触
媒が種々開発され報告されている。例えば、アルミナや
アルミナに遷移金属を担持した触媒が、炭化水素を還元
剤として用いるNOx還元反応に有効であるとする数多
くの報告がある。また、特開平4−284848号公報
には0.1〜4重量%のCu、Fe、Cr、Zn、N
i、Vを含有するアルミナあるいはシリカ−アルミナを
ΝOx還元触媒として使用した例が報告されている。
【0007】さらに、Ptをアルミナに担持した触媒を
用いると、NOx還元反応が200〜300℃程度の低
温領域で進行することが、特開平4−267946号公
報、特開平5−68855号公報や特開平5−1039
49号公報などに報告されている。しかし、これらの担
持貴金属触媒を用いた場合、還元剤である炭化水素の燃
焼反応が過度に促進されたり、地球温暖化の原因物質の
1つといわれているΝ2Oが多量に副生し、無害なN2
への還元反応を選択的に進行させることが困難であると
いった欠点を有していた。
用いると、NOx還元反応が200〜300℃程度の低
温領域で進行することが、特開平4−267946号公
報、特開平5−68855号公報や特開平5−1039
49号公報などに報告されている。しかし、これらの担
持貴金属触媒を用いた場合、還元剤である炭化水素の燃
焼反応が過度に促進されたり、地球温暖化の原因物質の
1つといわれているΝ2Oが多量に副生し、無害なN2
への還元反応を選択的に進行させることが困難であると
いった欠点を有していた。
【0008】本出願人の一方は、先に酸素過剰雰囲気下
で炭化水素を還元剤として銀を含有する触媒を用いると
NOx還元反応が選択的に進行することを見出し、この
技術を特開平4−281844号公報に開示した。この
開示の後においてさえも、銀を含有する触媒を用いる類
似のΝOx還元除去技術が特開平4−354536号公
報、特開平5−92124号公報、特開平5−9212
5号公報および特開平6−277454号公報などに開
示されている。
で炭化水素を還元剤として銀を含有する触媒を用いると
NOx還元反応が選択的に進行することを見出し、この
技術を特開平4−281844号公報に開示した。この
開示の後においてさえも、銀を含有する触媒を用いる類
似のΝOx還元除去技術が特開平4−354536号公
報、特開平5−92124号公報、特開平5−9212
5号公報および特開平6−277454号公報などに開
示されている。
【0009】
【発明の解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の公報に記載されたアルミナ担持銀触媒は、SOx
および水蒸気共存下での脱硝性能が実用的に未だ不十分
であり、また経時変化が大きいといった問題があった。
従来の公報に記載されたアルミナ担持銀触媒は、SOx
および水蒸気共存下での脱硝性能が実用的に未だ不十分
であり、また経時変化が大きいといった問題があった。
【0010】本発明は、上記従来技術の欠点を解決すべ
くなされたものであり、その目的とするところは、希薄
燃焼排ガス中のNOxを効率よく除去することができる
とともに、経時変化の小さい排ガス浄化用触媒層および
排ガス浄化用触媒被覆構造体と、これらを使用して希薄
燃焼排ガス中のNOxを高効率、高信頼性をもって浄化
する排ガス浄化方法を提供することにある。
くなされたものであり、その目的とするところは、希薄
燃焼排ガス中のNOxを効率よく除去することができる
とともに、経時変化の小さい排ガス浄化用触媒層および
排ガス浄化用触媒被覆構造体と、これらを使用して希薄
燃焼排ガス中のNOxを高効率、高信頼性をもって浄化
する排ガス浄化方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、SOxお
よび水蒸気が共存する希薄燃焼領域において高い脱硝性
能を有し、かつ経時変化の小さい排ガス浄化用触媒層お
よび触媒被覆構造体と、これらを使用しての排ガス浄化
方法について鋭意研究を重ねた結果、特定の細孔構造を
有するアルミナに、銀、または銀と錫、シリカあるいは
チタニアを含有する触媒であり、かつ該触媒が特定の細
孔構造を有する触媒層を使用することにより上記した問
題点を解決できることを見出し本発明を完成するに至っ
た。
よび水蒸気が共存する希薄燃焼領域において高い脱硝性
能を有し、かつ経時変化の小さい排ガス浄化用触媒層お
よび触媒被覆構造体と、これらを使用しての排ガス浄化
方法について鋭意研究を重ねた結果、特定の細孔構造を
有するアルミナに、銀、または銀と錫、シリカあるいは
チタニアを含有する触媒であり、かつ該触媒が特定の細
孔構造を有する触媒層を使用することにより上記した問
題点を解決できることを見出し本発明を完成するに至っ
た。
【0012】すなわち、上記課題を解決するための本発
明の第1の実施態様は、窒素ガス吸着法により測定され
た細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径が300オン
グストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をX
とし、細孔半径が25オングストローム以上で100オ
ングストローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値を
Yとし、細孔半径が100オングストローム以上で30
0オングストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計
値をΖとしたとき、YがXの70%以上であり、ZがX
の20%以下であるような細孔構造を有するアルミナ
に、銀、さらに必要に応じ錫、シリカあるいはチタニア
を含有させた触媒からなり、かつ該触媒の窒素ガス吸着
法により測定された細孔半径と細孔容積の関係が、細孔
半径が50オングストローム以下の細孔の占める細孔容
積の合計値をVとしたとき、Vが前記Xの20%以上で
あるような細孔構造を有する排ガス浄化用触媒層を特徴
とするものである。該触媒層は、粉体または成型した状
態で排ガスの流通空間に配置するのが好ましい。
明の第1の実施態様は、窒素ガス吸着法により測定され
た細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径が300オン
グストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をX
とし、細孔半径が25オングストローム以上で100オ
ングストローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値を
Yとし、細孔半径が100オングストローム以上で30
0オングストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計
値をΖとしたとき、YがXの70%以上であり、ZがX
の20%以下であるような細孔構造を有するアルミナ
に、銀、さらに必要に応じ錫、シリカあるいはチタニア
を含有させた触媒からなり、かつ該触媒の窒素ガス吸着
法により測定された細孔半径と細孔容積の関係が、細孔
半径が50オングストローム以下の細孔の占める細孔容
積の合計値をVとしたとき、Vが前記Xの20%以上で
あるような細孔構造を有する排ガス浄化用触媒層を特徴
とするものである。該触媒層は、粉体または成型した状
態で排ガスの流通空間に配置するのが好ましい。
【0013】また、本発明の第2の実施態様は、多数の
貫通孔を有する耐火性材料からなる一体構造の支持基質
と、該支持基質における少なくとも該貫通孔の内表面に
上記した触媒を被覆した排ガス浄化用触媒被覆構造体を
特徴とするものである。
貫通孔を有する耐火性材料からなる一体構造の支持基質
と、該支持基質における少なくとも該貫通孔の内表面に
上記した触媒を被覆した排ガス浄化用触媒被覆構造体を
特徴とするものである。
【0014】またさらに、本発明の第3の実施態様は希
薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼排ガスを触媒含有
層と接触させることからなる炭化水素を還元剤とする排
ガス中のNOxを除去する方法において、該触媒含有層
に含まれる触媒は前記第1の実施態様における排ガス浄
化用触媒層または第2の実施態様における排ガス浄化用
触媒被覆構造体である排ガス浄化方法を特徴とするもの
である。
薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼排ガスを触媒含有
層と接触させることからなる炭化水素を還元剤とする排
ガス中のNOxを除去する方法において、該触媒含有層
に含まれる触媒は前記第1の実施態様における排ガス浄
化用触媒層または第2の実施態様における排ガス浄化用
触媒被覆構造体である排ガス浄化方法を特徴とするもの
である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細およびその作
用についてさらに具体的に説明する。 (触媒の構造およびその製法)本発明の排ガス浄化用触
媒層における触媒主成分の1つであるアルミナは、例え
ば鉱物学上べーマイト、擬ベーマイト、バイアライト、
あるいはノルストランダイトに分類される水酸化アルミ
ニウムの粉体やゲルを、空気中あるいは真空中300〜
800℃、好ましくは400〜900℃で加熱脱水する
ことによって、結晶学的にγ−型、η−型、δ−型、χ
−型あるいはその混合型に分類されるアルミナに相転移
させたものが脱硝性能上好ましい。他の結晶構造をとる
アルミナ、例えばα−型のアルミナは極端に比表面積が
小さく固体酸性にも乏しいので本発明の触媒成分として
は不適当である。
用についてさらに具体的に説明する。 (触媒の構造およびその製法)本発明の排ガス浄化用触
媒層における触媒主成分の1つであるアルミナは、例え
ば鉱物学上べーマイト、擬ベーマイト、バイアライト、
あるいはノルストランダイトに分類される水酸化アルミ
ニウムの粉体やゲルを、空気中あるいは真空中300〜
800℃、好ましくは400〜900℃で加熱脱水する
ことによって、結晶学的にγ−型、η−型、δ−型、χ
−型あるいはその混合型に分類されるアルミナに相転移
させたものが脱硝性能上好ましい。他の結晶構造をとる
アルミナ、例えばα−型のアルミナは極端に比表面積が
小さく固体酸性にも乏しいので本発明の触媒成分として
は不適当である。
【0016】また、該アルミナは窒素ガス吸着法により
測定された細孔半径が300オングストローム以下の細
孔の占める細孔容積の合計値をΧとし、細孔半径が25
オングストローム以上で100オングストローム未満の
細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、細孔半径が1
00オングストローム以上で300オングストローム以
下の細孔の占める細孔容積の合計値をΖとしたとき、Y
がΧの70%以上であり、ΖがΧの20%以下であるよ
うな細孔構造を有するアルミナであることが必要であ
る。このアルミナの細孔構造が、上記した条件を満たさ
ないアルミナを本発明の触媒における担体として用いた
場合には、これにより構成される排ガス浄化用触媒層は
SOxおよび水蒸気共存下での排ガスの脱硝性能が不十
分であった。したがって、本発明の触媒成分として有効
なアルミナは、上記した結晶構造および細孔特性を有す
るものが適切であるといえる。
測定された細孔半径が300オングストローム以下の細
孔の占める細孔容積の合計値をΧとし、細孔半径が25
オングストローム以上で100オングストローム未満の
細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、細孔半径が1
00オングストローム以上で300オングストローム以
下の細孔の占める細孔容積の合計値をΖとしたとき、Y
がΧの70%以上であり、ΖがΧの20%以下であるよ
うな細孔構造を有するアルミナであることが必要であ
る。このアルミナの細孔構造が、上記した条件を満たさ
ないアルミナを本発明の触媒における担体として用いた
場合には、これにより構成される排ガス浄化用触媒層は
SOxおよび水蒸気共存下での排ガスの脱硝性能が不十
分であった。したがって、本発明の触媒成分として有効
なアルミナは、上記した結晶構造および細孔特性を有す
るものが適切であるといえる。
【0017】本発明の排ガス浄化用触媒層は、以下のよ
うな触媒である。本発明にかかる触媒層は、上記した結
晶構造および細孔特性を有するアルミナに、銀、または
銀と錫、シリカあるいはチタニアを含有させた触媒から
なり、かつ該触媒の窒素ガス吸着法により測定された細
孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径が50オングスト
ローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をVとした
とき、Vが前記X(すなわち窒素ガス吸着法により測定
された前記アルミナの細孔半径が300オングストロー
ム以下の細孔の占める細孔容積の合計値)の20%以上
であるような細孔構造を有するものである。この触媒の
細孔構造が前記した条件を満たさない場合には、実用的
に満足する脱硝性能が得られず、したがって本発明の触
媒は前記した細孔特性を有する必要があるといえる。
うな触媒である。本発明にかかる触媒層は、上記した結
晶構造および細孔特性を有するアルミナに、銀、または
銀と錫、シリカあるいはチタニアを含有させた触媒から
なり、かつ該触媒の窒素ガス吸着法により測定された細
孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径が50オングスト
ローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をVとした
とき、Vが前記X(すなわち窒素ガス吸着法により測定
された前記アルミナの細孔半径が300オングストロー
ム以下の細孔の占める細孔容積の合計値)の20%以上
であるような細孔構造を有するものである。この触媒の
細孔構造が前記した条件を満たさない場合には、実用的
に満足する脱硝性能が得られず、したがって本発明の触
媒は前記した細孔特性を有する必要があるといえる。
【0018】一方アルミナに含有される銀の状態は特に
限定されず、例えば金属状態、酸化物状態およびこれら
の混合状態などが、また錫の場合には酸化物状態、銀と
の合金状態、銀との複合酸化物状態およびこれらの混合
状態などが、さらにシリカまたはチタニアの場合には酸
化物状態、局所的な複合酸化物状態およびこれらの混合
状態などが挙げられる。特に、希薄燃焼ガソリン自動車
などの内燃機関の燃焼排ガス組成は運転状態によってそ
の都度変化するため、触媒は還元雰囲気および酸化雰囲
気に曝される。したがって触媒を構成する活性金属の状
態は雰囲気により変化することが想定される。銀(およ
び錫、シリカ、チタニア)の出発原料は特に限定されな
い。
限定されず、例えば金属状態、酸化物状態およびこれら
の混合状態などが、また錫の場合には酸化物状態、銀と
の合金状態、銀との複合酸化物状態およびこれらの混合
状態などが、さらにシリカまたはチタニアの場合には酸
化物状態、局所的な複合酸化物状態およびこれらの混合
状態などが挙げられる。特に、希薄燃焼ガソリン自動車
などの内燃機関の燃焼排ガス組成は運転状態によってそ
の都度変化するため、触媒は還元雰囲気および酸化雰囲
気に曝される。したがって触媒を構成する活性金属の状
態は雰囲気により変化することが想定される。銀(およ
び錫、シリカ、チタニア)の出発原料は特に限定されな
い。
【0019】そして、本発明にかかる触媒層におけるア
ルミナに、銀(および錫、シリカ、チタニア)を含有さ
せる方法は特に限定されず従来から行われている手法、
例えば吸着法、ポアフィリング法、インシピエントウェ
ットネス法、蒸発乾固法、スプレー法などの含浸法や混
練法および物理混合法およびこれらの組合わせ法など通
常採用されている公知の方法を任意に採用することがで
きる。この場合、アルミナあるいはアルミナ前駆体物質
に銀源を担持させた後、乾燥、焼成する。また錫源を共
存させる場合には、銀と錫の塩を同時に担持させた後、
乾燥、焼成してもよいし、銀と錫の塩を逐次的に担持さ
せた後、乾燥、焼成してもよいが、脱硝性能の点でアル
ミナあるいはアルミナ前駆体物質に予め銀塩を担持させ
て乾燥した後、錫塩を担持させて乾燥、焼成するか、あ
るいは銀塩を担持させて乾燥、焼成した後、錫塩を担持
させて乾燥、焼成した方が好ましい。また、前記のよう
な特定の細孔構造をとるアルミナまたはアルミナ担体の
製造時に活性金属種を含有させる触媒製造法、例えばア
ルミニウムアルコキシドのアルコール溶液を、銀源(お
よび錫源)のアルコール溶液と混合した後、加熱し加水
分解させるアルコキシド法や、アルミニウム源と銀源
(および錫源)の混合水溶液にアルカリを添加して沈殿
させる共沈法も適用できる。またシリカまたはチタニア
を含有させる場合にも、前記と同様の方法を適用でき
る。
ルミナに、銀(および錫、シリカ、チタニア)を含有さ
せる方法は特に限定されず従来から行われている手法、
例えば吸着法、ポアフィリング法、インシピエントウェ
ットネス法、蒸発乾固法、スプレー法などの含浸法や混
練法および物理混合法およびこれらの組合わせ法など通
常採用されている公知の方法を任意に採用することがで
きる。この場合、アルミナあるいはアルミナ前駆体物質
に銀源を担持させた後、乾燥、焼成する。また錫源を共
存させる場合には、銀と錫の塩を同時に担持させた後、
乾燥、焼成してもよいし、銀と錫の塩を逐次的に担持さ
せた後、乾燥、焼成してもよいが、脱硝性能の点でアル
ミナあるいはアルミナ前駆体物質に予め銀塩を担持させ
て乾燥した後、錫塩を担持させて乾燥、焼成するか、あ
るいは銀塩を担持させて乾燥、焼成した後、錫塩を担持
させて乾燥、焼成した方が好ましい。また、前記のよう
な特定の細孔構造をとるアルミナまたはアルミナ担体の
製造時に活性金属種を含有させる触媒製造法、例えばア
ルミニウムアルコキシドのアルコール溶液を、銀源(お
よび錫源)のアルコール溶液と混合した後、加熱し加水
分解させるアルコキシド法や、アルミニウム源と銀源
(および錫源)の混合水溶液にアルカリを添加して沈殿
させる共沈法も適用できる。またシリカまたはチタニア
を含有させる場合にも、前記と同様の方法を適用でき
る。
【0020】触媒全体に対する金属換算での銀の含有量
は特に限定されないが、0.l〜10重量%であること
が好ましい。また、触媒全体に対する金属換算での錫の
含有量は特に限定されないが、0.001〜5重量%と
することが好ましい。さらに触媒全体に対する酸化物換
算でのシリカまたはチタニアの含有量は特に限定されな
いが、脱硝性能上0.05重量%以上で5重量%未満で
あることが好ましい。
は特に限定されないが、0.l〜10重量%であること
が好ましい。また、触媒全体に対する金属換算での錫の
含有量は特に限定されないが、0.001〜5重量%と
することが好ましい。さらに触媒全体に対する酸化物換
算でのシリカまたはチタニアの含有量は特に限定されな
いが、脱硝性能上0.05重量%以上で5重量%未満で
あることが好ましい。
【0021】乾燥温度は、特に限定されるものではなく
通常80〜120℃程度で乾燥する。また、焼成温度は
300℃以上で900℃未満とすることが好ましい。焼
成温度が900℃以上となると、α−型のアルミナへの
相変態が起こるので好ましくない。このときの雰囲気は
特に限定されないが、触媒組成に応じて空気中、不活性
ガス中、酸素中などの各雰囲気を適宜選択すればよい。
また、各雰囲気を一定時間毎に交互に代えてもよい。
通常80〜120℃程度で乾燥する。また、焼成温度は
300℃以上で900℃未満とすることが好ましい。焼
成温度が900℃以上となると、α−型のアルミナへの
相変態が起こるので好ましくない。このときの雰囲気は
特に限定されないが、触媒組成に応じて空気中、不活性
ガス中、酸素中などの各雰囲気を適宜選択すればよい。
また、各雰囲気を一定時間毎に交互に代えてもよい。
【0022】本発明の第1の実施態様において、排ガス
浄化用の触媒層を形成するに際し、該触媒層は上記した
触媒を所定の形状に成型または粉末状態のまま目的とす
る排ガスが流通する一定の空間内に充填する。触媒層を
成型体とするに際して、その形状は特に制限されず、例
えば球状、円筒状、ハニカム状、螺旋状、粒状、ペレッ
ト状、リング状など種々の形状を採用することができ
る。これらの形状、大きさなどは使用条件に応じて任意
に選択すればよい。
浄化用の触媒層を形成するに際し、該触媒層は上記した
触媒を所定の形状に成型または粉末状態のまま目的とす
る排ガスが流通する一定の空間内に充填する。触媒層を
成型体とするに際して、その形状は特に制限されず、例
えば球状、円筒状、ハニカム状、螺旋状、粒状、ペレッ
ト状、リング状など種々の形状を採用することができ
る。これらの形状、大きさなどは使用条件に応じて任意
に選択すればよい。
【0023】つぎに、本発明の第2の実施態様の排ガス
浄化用触媒被覆構造体について説明する。ここでいう触
媒被覆構造体とは、多数の貫通孔を有する耐火性材料で
構成された一体構造の支持基質の少なくとも貫通孔の内
表面に上記した触媒を被覆した構造を有するものであ
る。
浄化用触媒被覆構造体について説明する。ここでいう触
媒被覆構造体とは、多数の貫通孔を有する耐火性材料で
構成された一体構造の支持基質の少なくとも貫通孔の内
表面に上記した触媒を被覆した構造を有するものであ
る。
【0024】該支持基質には、多数の貫通孔が排ガスの
流通方向に沿って設けられるが、その流通方向に垂直な
断面において、通常、開孔率60〜90%、好ましくは
70〜90%であって、その数は1平方インチ(5.0
6cm2)当り30〜700個、好ましくは200〜6
00個である。触媒は、少なくとも該貫通孔の内表面に
被覆されるが、その支持基質の端面や側面に被覆されて
いてもよい。
流通方向に沿って設けられるが、その流通方向に垂直な
断面において、通常、開孔率60〜90%、好ましくは
70〜90%であって、その数は1平方インチ(5.0
6cm2)当り30〜700個、好ましくは200〜6
00個である。触媒は、少なくとも該貫通孔の内表面に
被覆されるが、その支持基質の端面や側面に被覆されて
いてもよい。
【0025】該耐火性支持基質の材質としては、α−型
のアルミナ、ムライト、コージェライト、シリコンカー
バイトなどのセラミックスやオーステナイト系、フェラ
イト系のステンレス鋼などの金属などが使用される。形
状もハニカムやフォームなどの慣用のものが使用できる
が、好ましいものは、コージェライト製やステンレス鋼
製のハニカム状の支持基質である。
のアルミナ、ムライト、コージェライト、シリコンカー
バイトなどのセラミックスやオーステナイト系、フェラ
イト系のステンレス鋼などの金属などが使用される。形
状もハニカムやフォームなどの慣用のものが使用できる
が、好ましいものは、コージェライト製やステンレス鋼
製のハニカム状の支持基質である。
【0026】該支持基質への触媒の被覆方法としては、
−定の粒度に整粒した本発明の触媒をバインダーと共
に、またはバインダーを用いないで前記支持基質の少な
くとも貫通孔の内表面に被覆する、いわゆる通常のウォ
ッシュコート法やゾル−ゲル法が適用できる。また、上
記の支持基質に予めアルミナを被覆しておいて、これに
本発明の触媒活性物質の担持処理を行って触媒被覆層を
形成してもよい。支持基質への触媒層の被覆量は特に限
定されないが、支持基質単位体積当り50〜250g/
リットル程度が好ましく、100〜200g/リットル
程度とすることがより好ましい。
−定の粒度に整粒した本発明の触媒をバインダーと共
に、またはバインダーを用いないで前記支持基質の少な
くとも貫通孔の内表面に被覆する、いわゆる通常のウォ
ッシュコート法やゾル−ゲル法が適用できる。また、上
記の支持基質に予めアルミナを被覆しておいて、これに
本発明の触媒活性物質の担持処理を行って触媒被覆層を
形成してもよい。支持基質への触媒層の被覆量は特に限
定されないが、支持基質単位体積当り50〜250g/
リットル程度が好ましく、100〜200g/リットル
程度とすることがより好ましい。
【0027】つぎに、本発明の第3の実施態様の排ガス
浄化方法について説明する。本発明の第3の実施態様
は、前記した第1の実施態様の触媒層や第2の実施態様
の触媒被覆構造体を使用して、これと排ガス中のCO、
ΗCおよびΗ2といった還元性成分をNOxおよびO2
といった酸化性成分で完全酸化するに要する化学量論量
近傍から過剰の酸素を含有する排ガスとを接触させるこ
とによって、NOxはN2とΗ2Oにまで還元分解され
ると同時にΗCなどの還元剤もCΟ2とΗ2Oに酸化さ
れる。
浄化方法について説明する。本発明の第3の実施態様
は、前記した第1の実施態様の触媒層や第2の実施態様
の触媒被覆構造体を使用して、これと排ガス中のCO、
ΗCおよびΗ2といった還元性成分をNOxおよびO2
といった酸化性成分で完全酸化するに要する化学量論量
近傍から過剰の酸素を含有する排ガスとを接触させるこ
とによって、NOxはN2とΗ2Oにまで還元分解され
ると同時にΗCなどの還元剤もCΟ2とΗ2Oに酸化さ
れる。
【0028】ディーゼルエンジンの排ガスのように、排
ガスそのもののΗC/NOx比が低い場合には、排ガス
中にメタン換算濃度で数百〜数千ppm程度の燃料ΗC
を追加添加した後、本発明の触媒層と接触させるシステ
ムを採用すれば充分に高いNOx除去率を達成できる。
なお、ここでいうΗCとは、パラフィン系炭化水素、オ
レフィン系炭化水素および芳香族系炭化水素、アルコー
ル、アルデヒド、ケトン、エーテルなどの含酸素有機化
合物、ガソリン、灯油、軽油、A重油などを含んだもの
を意味する。
ガスそのもののΗC/NOx比が低い場合には、排ガス
中にメタン換算濃度で数百〜数千ppm程度の燃料ΗC
を追加添加した後、本発明の触媒層と接触させるシステ
ムを採用すれば充分に高いNOx除去率を達成できる。
なお、ここでいうΗCとは、パラフィン系炭化水素、オ
レフィン系炭化水素および芳香族系炭化水素、アルコー
ル、アルデヒド、ケトン、エーテルなどの含酸素有機化
合物、ガソリン、灯油、軽油、A重油などを含んだもの
を意味する。
【0029】本発明による触媒層を用いて希薄空燃比の
領域で運転される内燃機関の燃焼排ガスを浄化する際の
ガス空間速度(SV)は特に限定されるものではない
が、SV5,000h−1以上で200,000h−1
以下とすることが好ましい。
領域で運転される内燃機関の燃焼排ガスを浄化する際の
ガス空間速度(SV)は特に限定されるものではない
が、SV5,000h−1以上で200,000h−1
以下とすることが好ましい。
【0030】そして、ガス組成を一定とした場合の脱硝
率は触媒の種類とΗCの種類に依存するが、本発明の触
媒層を用いた場合は、例えばC2〜C6のパラフィン、
オレフィンおよびC6〜C9の芳香族ΗCに対しては4
50〜600℃、C6〜C9のパラフインおよびオレフ
ィンに対しては350〜550℃、C10〜C25のパ
ラフィンおよびオレフィンに対しては250〜500℃
で高い脱硝率を示すため触媒層入口温度を100℃以上
で700℃以下、好ましくは200℃以上で600℃以
下にすることが必要である。
率は触媒の種類とΗCの種類に依存するが、本発明の触
媒層を用いた場合は、例えばC2〜C6のパラフィン、
オレフィンおよびC6〜C9の芳香族ΗCに対しては4
50〜600℃、C6〜C9のパラフインおよびオレフ
ィンに対しては350〜550℃、C10〜C25のパ
ラフィンおよびオレフィンに対しては250〜500℃
で高い脱硝率を示すため触媒層入口温度を100℃以上
で700℃以下、好ましくは200℃以上で600℃以
下にすることが必要である。
【0031】
【実施例】以下に実施例および比較例により、本発明を
さらに詳細に説明する。ただし、本発明は下記実施例に
限定されるものでない。 [アルミナの選定]使用するアルミナの選定のために、
表1に示すような比表面積と細孔分布を有する種々のγ
−型のアルミナにおいて、a〜cが本発明の範囲に入る
アルミナであり、d〜gが本発明の範囲外のアルミナで
ある。なお、a〜gのアルミナの細孔分布は、カルロエ
ルバ社製のソープトマチックにより測定した。
さらに詳細に説明する。ただし、本発明は下記実施例に
限定されるものでない。 [アルミナの選定]使用するアルミナの選定のために、
表1に示すような比表面積と細孔分布を有する種々のγ
−型のアルミナにおいて、a〜cが本発明の範囲に入る
アルミナであり、d〜gが本発明の範囲外のアルミナで
ある。なお、a〜gのアルミナの細孔分布は、カルロエ
ルバ社製のソープトマチックにより測定した。
【0032】
【表1】 ─────────────────────────────── アルミナ 比表面積 細 孔 分 布 (m2/g) Y/Χ(%) Ζ/Χ(%) ─────────────────────────────── a 241 83.2 2.4 b 219 87.0 3.9 c 174 88.4 4.4 d 199 47.0 0.7 e 177 68.5 4.9 f 241 51.0 45.9 g 266 71.1 22.7 ───────────────────────────────
【0033】[実施例1]表1のγ−型のアルミナaの
前駆体物質であるアルミナ水和物300gを、硝酸銀1
6.1gを含む500ミリリットルの水溶液に浸漬した
後、撹拌しながら加熱し水分を蒸発させた。これを11
0℃で通風乾燥後、空気中750℃で3時間焼成して触
媒Aを得た。なお、触媒Aにおける金属換算でのAgの
含有量は、4.5重量%であり、またカルロエルバ社製
のソープトマチックにより測定した細孔分布V/X
(%)は40.4%であった。
前駆体物質であるアルミナ水和物300gを、硝酸銀1
6.1gを含む500ミリリットルの水溶液に浸漬した
後、撹拌しながら加熱し水分を蒸発させた。これを11
0℃で通風乾燥後、空気中750℃で3時間焼成して触
媒Aを得た。なお、触媒Aにおける金属換算でのAgの
含有量は、4.5重量%であり、またカルロエルバ社製
のソープトマチックにより測定した細孔分布V/X
(%)は40.4%であった。
【0034】[実施例2〜実施例10および比較例1〜
比較例7]同様に、表1に示すγ−型のアルミナb〜g
が得られる前駆体物質であるアルミナ水和物を用いた以
外は、実施例1と同様にしてそれぞれ触媒B(実施例
2)、触媒C(実施例3)、触媒D(比較例1)、触媒
E(比較例2)、触媒F(比較例3)、触媒G(比較例
4)を得た。
比較例7]同様に、表1に示すγ−型のアルミナb〜g
が得られる前駆体物質であるアルミナ水和物を用いた以
外は、実施例1と同様にしてそれぞれ触媒B(実施例
2)、触媒C(実施例3)、触媒D(比較例1)、触媒
E(比較例2)、触媒F(比較例3)、触媒G(比較例
4)を得た。
【0035】また、実施例1の触媒Aの調製に際し、銀
の含有量を0重量%、3重量%、6重量%とした以外は
実施例1と同様にしてそれぞれ触媒H(比較例5)、触
媒I(実施例4)、触媒J(実施例5)を、触媒焼成温
度を800℃、900℃とした以外は実施例1と同様に
して触媒K(実施例6)、触媒L(比較例6)を、実施
例1の触媒A100gを塩化第二錫5水和物0.3gを
含む500ミリリットルの水溶液に浸漬した後、乾燥後
の焼成温度を700℃とした以外は実施例1と同様にし
て触媒M(実施例7)を、実施例1の触媒Aの調製に際
し、シリカゾル(SiO2:20重量%)12.5g添
加した以外は実施例1と同様にして、触媒N(実施例
8)を、また実施例1の触媒Aの調製に際してチタニア
ゾル(TiO2:30重量%)8.3g添加した以外は
実施例1と同様にして、触媒O(実施例9)を得た。な
お触媒Mにおける金属換算での錫の含有量は、0.1重
量%、触媒Nにおける酸化物換算でのシリカの含有量
は、1.1重量%、触媒Oにおける酸化物換算でのチタ
ニアの含有量は、1.1重量%であった。さらに実施例
8の触媒Nの調製に際し、シリカの含有量を3重量%、
5重量%とした以外は実施例1と同様にして、それぞれ
触媒P(実施例10)、触媒Q(比較例7)を得た。な
おカルロエルバ社製のソープトマチックにより測定した
触媒A、H〜Qの細孔分布V/X(%)を表2に示す。
の含有量を0重量%、3重量%、6重量%とした以外は
実施例1と同様にしてそれぞれ触媒H(比較例5)、触
媒I(実施例4)、触媒J(実施例5)を、触媒焼成温
度を800℃、900℃とした以外は実施例1と同様に
して触媒K(実施例6)、触媒L(比較例6)を、実施
例1の触媒A100gを塩化第二錫5水和物0.3gを
含む500ミリリットルの水溶液に浸漬した後、乾燥後
の焼成温度を700℃とした以外は実施例1と同様にし
て触媒M(実施例7)を、実施例1の触媒Aの調製に際
し、シリカゾル(SiO2:20重量%)12.5g添
加した以外は実施例1と同様にして、触媒N(実施例
8)を、また実施例1の触媒Aの調製に際してチタニア
ゾル(TiO2:30重量%)8.3g添加した以外は
実施例1と同様にして、触媒O(実施例9)を得た。な
お触媒Mにおける金属換算での錫の含有量は、0.1重
量%、触媒Nにおける酸化物換算でのシリカの含有量
は、1.1重量%、触媒Oにおける酸化物換算でのチタ
ニアの含有量は、1.1重量%であった。さらに実施例
8の触媒Nの調製に際し、シリカの含有量を3重量%、
5重量%とした以外は実施例1と同様にして、それぞれ
触媒P(実施例10)、触媒Q(比較例7)を得た。な
おカルロエルバ社製のソープトマチックにより測定した
触媒A、H〜Qの細孔分布V/X(%)を表2に示す。
【0036】
【表2】
【0037】[実施例11]ハニカム触媒の製造 上記の粉末触媒Aの60gを、アルミナゾル(Al2O
3固形分10重量%)8gおよび水120ミリリットル
と共にボールミルポットに仕込み、湿式粉砕してスラリ
ーを得た。このスラリーの中に、市販の400cpsi
(セル/inch2)コージェライトハニカム基質から
くり貫かれた直径1インチ、長さ2.5インチの円筒状
コアを浸漬し、引き上げた後余分のスラリーをエアーブ
ローで除去し乾燥した。その後、500℃で30分間焼
成し、ハニカム1リットル当たりドライ換算で150g
の固形分を被覆してハニカム触媒R(実施例11)を得
た。
3固形分10重量%)8gおよび水120ミリリットル
と共にボールミルポットに仕込み、湿式粉砕してスラリ
ーを得た。このスラリーの中に、市販の400cpsi
(セル/inch2)コージェライトハニカム基質から
くり貫かれた直径1インチ、長さ2.5インチの円筒状
コアを浸漬し、引き上げた後余分のスラリーをエアーブ
ローで除去し乾燥した。その後、500℃で30分間焼
成し、ハニカム1リットル当たりドライ換算で150g
の固形分を被覆してハニカム触媒R(実施例11)を得
た。
【0038】以下に上記した実施例1〜11および比較
例1〜7の触媒を用いて形成した排ガス浄化用触媒層に
ついて、種々の条件下において脱硝性能を評価した結果
について述べる。
例1〜7の触媒を用いて形成した排ガス浄化用触媒層に
ついて、種々の条件下において脱硝性能を評価した結果
について述べる。
【0039】[性能評価例1]実施例1の触媒Αを加圧
成型した後、粉砕して粒度を350〜500μmに整粒
し、内径21mmのステンレス製反応管に充填して触媒
層を形成し、これを常圧固定床流通反応装置に装着し
た。この触媒層に、モデル排ガスとしてNΟ:750p
pm、灯油(C1):4500ppm、O2:10%、
Η2O:10%、残部:N2からなる混合ガスを空間速
度(SV)78,000h−1で通過させた。反応管出
口ガス組成の分析において、NOとNO2の濃度につい
ては化学発光式NOx計で測定し、N2O濃度はΡor
apack Qカラムを装着したガスクロマトグラフ・
熱伝導度検出器を用いて測定した。この際、触媒層入口
温度を100〜700℃の範囲の所定温度に設定し、各
所定温度毎に反応管出口ガス組成が安定した時点の値を
用い、脱硝率を以下の式1で定義した。また、本発明の
いずれの触媒層でもN2OおよびNO2は殆ど生成しな
かった。
成型した後、粉砕して粒度を350〜500μmに整粒
し、内径21mmのステンレス製反応管に充填して触媒
層を形成し、これを常圧固定床流通反応装置に装着し
た。この触媒層に、モデル排ガスとしてNΟ:750p
pm、灯油(C1):4500ppm、O2:10%、
Η2O:10%、残部:N2からなる混合ガスを空間速
度(SV)78,000h−1で通過させた。反応管出
口ガス組成の分析において、NOとNO2の濃度につい
ては化学発光式NOx計で測定し、N2O濃度はΡor
apack Qカラムを装着したガスクロマトグラフ・
熱伝導度検出器を用いて測定した。この際、触媒層入口
温度を100〜700℃の範囲の所定温度に設定し、各
所定温度毎に反応管出口ガス組成が安定した時点の値を
用い、脱硝率を以下の式1で定義した。また、本発明の
いずれの触媒層でもN2OおよびNO2は殆ど生成しな
かった。
【0040】
【式1】
【0041】実施例2〜10および比較例1〜7の触媒
についても同様なモデルガス評価を行った。表3に、上
記実施例および比較例の触媒について触媒層温度425
℃のときの脱硝率C425(%)を示す。
についても同様なモデルガス評価を行った。表3に、上
記実施例および比較例の触媒について触媒層温度425
℃のときの脱硝率C425(%)を示す。
【0042】[性能評価例2]性能評価例1において、
実施例11のハニカム触媒Rを直径15mm、長さ32
mmの円筒状に加工し、内径15mmのステンレス製反
応管に充填して触媒層を形成した。該触媒層に対して、
フィードするガスの空間速度(SV)を13,000h
−1とした以外は性能評価例1と同様のモデルガスによ
る評価試験を行ない、その結果を性能評価例1の結果と
ともに表3に示す。
実施例11のハニカム触媒Rを直径15mm、長さ32
mmの円筒状に加工し、内径15mmのステンレス製反
応管に充填して触媒層を形成した。該触媒層に対して、
フィードするガスの空間速度(SV)を13,000h
−1とした以外は性能評価例1と同様のモデルガスによ
る評価試験を行ない、その結果を性能評価例1の結果と
ともに表3に示す。
【0043】
【表3】
【0044】表3から分かる通り、本発明の実施例の触
媒A〜C、I〜K、M〜Pおよび比較例の触媒Qを用い
た触媒層は、比較例の触媒D〜HおよびLを用いた触媒
層に比べ60%以上の高い活性を示した。またハニカム
触媒Rを用いた触媒層でも60%以上の高い脱硝性能を
示すことが分かった。
媒A〜C、I〜K、M〜Pおよび比較例の触媒Qを用い
た触媒層は、比較例の触媒D〜HおよびLを用いた触媒
層に比べ60%以上の高い活性を示した。またハニカム
触媒Rを用いた触媒層でも60%以上の高い脱硝性能を
示すことが分かった。
【0045】[性能評価例3]実施例1、実施例6、実
施例7、実施例8および比較例7の触媒A、K、M、N
およびQについて、性能評価例1のガス組成にさらにS
O2を10ppm共存させて耐久試験を行った。表4に
触媒層温度425℃での活性が安定した時点の脱硝率
(%)を示す。
施例7、実施例8および比較例7の触媒A、K、M、N
およびQについて、性能評価例1のガス組成にさらにS
O2を10ppm共存させて耐久試験を行った。表4に
触媒層温度425℃での活性が安定した時点の脱硝率
(%)を示す。
【0046】
【表4】 ───────────────────── 触 媒 脱硝率(%) ───────────────────── 実施例1 触媒A 61.4 実施例6 触媒K 65.8 実施例7 触媒M 62.5 実施例8 触媒N 64.1 比較例7 触媒Q 50.8 ─────────────────────
【0047】表4より本発明の実施例1、6、7、8の
触媒A、K,MおよびNは、耐久後でも60%以上の活
性を維持し、かつ表3の結果の比較からも経時変化が小
さいことが分かった。
触媒A、K,MおよびNは、耐久後でも60%以上の活
性を維持し、かつ表3の結果の比較からも経時変化が小
さいことが分かった。
【0048】
【発明の効果】以上のように、本発明による排ガス浄化
用触媒層と排ガス浄化用触媒被覆構造体、およびこれら
を用いた排ガス浄化方法によれば、水蒸気が共存する希
薄燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を高い脱硝率で還
元浄化できること、また高いSOx共存下での優れた耐
久性を有すること、および経時変化が小さいことから内
燃機関の燃焼排ガス中の窒素酸化物の浄化に有用であ
る。
用触媒層と排ガス浄化用触媒被覆構造体、およびこれら
を用いた排ガス浄化方法によれば、水蒸気が共存する希
薄燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を高い脱硝率で還
元浄化できること、また高いSOx共存下での優れた耐
久性を有すること、および経時変化が小さいことから内
燃機関の燃焼排ガス中の窒素酸化物の浄化に有用であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加岳井 敦 千葉県市川市中国分3−18−5 住友金属 鉱山株式会社中央研究所内 (72)発明者 船曳 正起 静岡県沼津市一本松678 エヌ・イーケム キャット株式会社沼津工場内
Claims (5)
- 【請求項1】 窒素ガス吸着法により測定された細孔半
径と細孔容積の関係が、細孔半径が300オングストロ
ーム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をXとし、細
孔半径が25オングストローム以上で100オングスト
ローム未満の細孔の占める細孔容積の合計値をYとし、
細孔半径が100オングストローム以上で300オング
ストローム以下の細孔の占める細孔容積の合計値をΖと
したとき、YがXの70%以上であり、ZがXの20%
以下であるような細孔構造を有するアルミナに、銀を含
有させた触媒からなり、かつ該触媒の窒素ガス吸着法に
より測定された細孔半径と細孔容積の関係が、細孔半径
が50オングストローム以下の細孔の占める細孔容積の
合計値をVとしたとき、Vが前記Xの20%以上である
ような細孔構造を有することを特徴とする排ガス浄化用
触媒層。 - 【請求項2】 前記アルミナに、さらに錫、シリカまた
はチタニアを含有せしめてなることを特徴とする請求項
1記載の排ガス浄化用触媒層。 - 【請求項3】 多数の貫通孔を有する耐火性材料からな
る一体構造の支持基質における少なくとも貫通孔の内表
面に、請求項1または2記載の触媒を被覆してなること
を特徴とする排ガス浄化用触媒被覆構造体。 - 【請求項4】 希薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼
排ガスを、触媒含有層と接触させることからなる炭化水
素を還元剤とする排ガス浄化方法において、前記触媒含
有層に含まれる触媒は請求項1または2記載の排ガス浄
化用触媒層であることを特徴とする排ガス浄化方法。 - 【請求項5】 希薄空燃比で運転される内燃機関の燃焼
排ガスを、触媒含有層と接触させることからなる炭化水
素を還元剤とする排ガス浄化方法において、前記触媒含
有層に含まれる触媒は請求項3記載の排ガス浄化用触媒
被覆構造体で構成されていることを特徴とする排ガス浄
化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9282696A JPH1176839A (ja) | 1997-07-15 | 1997-09-30 | 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを使用しての排ガス浄化方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20518597 | 1997-07-15 | ||
| JP9-205185 | 1997-07-15 | ||
| JP9282696A JPH1176839A (ja) | 1997-07-15 | 1997-09-30 | 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを使用しての排ガス浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1176839A true JPH1176839A (ja) | 1999-03-23 |
Family
ID=26514900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9282696A Pending JPH1176839A (ja) | 1997-07-15 | 1997-09-30 | 排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれらを使用しての排ガス浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1176839A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010146458A1 (en) | 2009-06-17 | 2010-12-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purifying catalyst |
-
1997
- 1997-09-30 JP JP9282696A patent/JPH1176839A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010146458A1 (en) | 2009-06-17 | 2010-12-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purifying catalyst |
| US9421535B2 (en) | 2009-06-17 | 2016-08-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purifying catalyst |
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