JPH10165883A - 回転式薄膜形成方法 - Google Patents

回転式薄膜形成方法

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Publication number
JPH10165883A
JPH10165883A JP35224696A JP35224696A JPH10165883A JP H10165883 A JPH10165883 A JP H10165883A JP 35224696 A JP35224696 A JP 35224696A JP 35224696 A JP35224696 A JP 35224696A JP H10165883 A JPH10165883 A JP H10165883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
resist solution
coating agent
coated
wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP35224696A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Saito
隆穂 斉藤
Yoshiyuki Seike
善之 清家
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Sunac Corp
Original Assignee
Asahi Sunac Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Sunac Corp filed Critical Asahi Sunac Corp
Priority to JP35224696A priority Critical patent/JPH10165883A/ja
Publication of JPH10165883A publication Critical patent/JPH10165883A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハーを回転盤に載せて高速度で回転させ
つつ、その中央部にレジスト液を滴下し、遠心力により
ウエハーの全面に均一な塗膜を形成していた従来の方法
ではレジスト液が糸状に拡散して未塗布部分を残さない
ために、必要量の数十倍〜数百倍の量を滴下しているの
が実状であって、高価なレジスト液が無駄に消費され、
コスト低減の妨げとなっていた。 【解決手段】 水平な回転盤1の上に被コーティング物
aを載せて回転させつつコーティング剤を霧状にして吹
き付けるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウエハーやガラス基
板などの被コーティング物にレジスト液などのコーティ
ング剤を均一に塗布する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ウエハーにレジストの膜を形成す
るにはウエハーを回転盤に載せて高速度で回転させつ
つ、その中央部にレジスト液を滴下し、遠心力によりウ
エハーの全面に均一な塗膜を形成していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法ではレジスト液が糸状に拡散して未塗布部分を残さ
ないために、必要量の数十倍〜数百倍の量を滴下してい
るのが実状であって、高価なレジスト液が無駄に消費さ
れ、コスト低減の妨げとなっていた。
【0004】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記課題
を解決するための手段として、請求項1の発明は水平な
回転盤の上に被コーティング物を載せて回転させつつコ
ーティング剤を霧状にして吹き付けるようにしたからコ
ーティング剤が被コーティング物の表面にほぼ均一に塗
布された後に遠心力により膜状に広がるのであって短時
間で均一な膜が形成されるとともに無駄に飛び散るコー
ティング剤が少なくなってコストの低減が図られる効果
があり、請求項2の発明は請求項1の発明において回転
盤の回転数が低い状態でコーティング剤を吹き付けた後
に高速度で回転させるようにしたから低速回転時にコー
ティング剤をほぼ均一に塗着させた後に高速回転させて
遠心力により薄く広げられるのであって無駄に飛び散る
コーティング剤がさらに少なくなり、請求項3の発明は
請求項1または2の発明においてコーティング剤を吹き
付けるノズルを回転盤の半径方向に任意の速度で進退さ
せるようにしたからコーティング剤をより均一に被コー
ティング物に塗着させることができ、請求項4の発明は
請求項3の発明においてノズルが噴射方向変更可能にな
っているようにしたから例えば周速度の高い被コーティ
ング物の外周部分を中心部分よりコーティング剤を多量
に塗布させることにより全体として均一に塗着させるこ
とができる効果がある。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を添
付図面に基づいて説明する。
【0006】図において、1は図示しないモーターによ
り回転駆動される回転盤であって、その上面にウエハー
やガラス基板などの平らな被コーティング物aが載置さ
れている。
【0007】3はエクステンション2の先端に取り付け
られたノズルであって、エクステンション2から圧送さ
れたコーティング剤が霧状となって被コーティング物a
に吹き付けられ、塗着するようになっている。
【0008】本実施の形態は、水平な回転盤1の上に被
コーティング物aを載せて回転させつつコーティング剤
を霧状にして吹き付けるようにしたからコーティング剤
が被コーティング物の表面にほぼ均一に塗布された後に
遠心力により膜状に広がるのであって短時間で均一な膜
が形成されるとともに無駄に飛び散るコーティング剤が
少なくなってコストの低減が図られる効果がある。
【0009】上記実施の形態において回転盤1の回転数
が300〜600RPM程度の低い状態でコーティング
剤を吹き付けた後に2000RPM以上の高速度で回転
させるようにすると低速回転時にコーティング剤をほぼ
均一に塗着させた後に高速回転による遠心力によって薄
く広げられるのであって無駄に飛び散るコーティング剤
がさらに少なくなる。
【0010】また、上記実施の形態においてコーティン
グ剤を吹き付けるノズル3を回転盤1の半径方向に任意
の速度で進退させるようにするとコーティング剤をより
均一に被コーティング物に塗着させることができる。
【0011】さらに、上記実施の形態においてノズル1
の噴射方向が変更可能になっていると、例えば周速度の
高い被コーティング物aの外周部分を中心部分よりコー
ティング剤を多量に塗布させることにより全体として均
一に塗着させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の側面図である。
【符号の説明】
1:回転盤 3:ノズル a:被コーティング物

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水平な回転盤の上に被コーティング物を
    載せて回転させつつコーティング剤を霧状にして吹き付
    けることを特徴とする回転式薄膜形成方法。
  2. 【請求項2】 回転盤の回転数が低い状態でコーティン
    グ剤を吹き付けた後に高速度で回転させることを特徴と
    する請求項1記載の回転式薄膜形成方法。
  3. 【請求項3】 コーティング剤を吹き付けるノズルを回
    転盤の半径方向に任意の速度で進退させることを特徴と
    する請求項1または2記載の回転式薄膜形成方法。
  4. 【請求項4】 前記ノズルが噴射方向変更可能になって
    いることを特徴とする請求項3記載の回転式薄膜形成方
    法。
JP35224696A 1996-12-11 1996-12-11 回転式薄膜形成方法 Pending JPH10165883A (ja)

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JP35224696A JPH10165883A (ja) 1996-12-11 1996-12-11 回転式薄膜形成方法

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JPH10165883A true JPH10165883A (ja) 1998-06-23

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ID=18422760

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JP35224696A Pending JPH10165883A (ja) 1996-12-11 1996-12-11 回転式薄膜形成方法

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