JPH10182517A - ビスアリールヨードニウム塩の新規な結晶およびその製造方法 - Google Patents
ビスアリールヨードニウム塩の新規な結晶およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 保存安定性に優れるビス（４−ｔ−ブチルフ
ェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの新
規な結晶、および該結晶を製造する方法を提供する。 【解決手段】 Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折法におい
て、回折角(２θ)６.１°,９.５°，１６.４°，１７.
２°，１８.５°に特徴的なピークを示すＸ線回折図に
より特徴づけられるビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートの新規な結晶、
およびメタノール溶液からメタノールを除去する等の処
理による、この新規な結晶の製造方法。
ェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの新
規な結晶、および該結晶を製造する方法を提供する。 【解決手段】 Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折法におい
て、回折角(２θ)６.１°,９.５°，１６.４°，１７.
２°，１８.５°に特徴的なピークを示すＸ線回折図に
より特徴づけられるビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートの新規な結晶、
およびメタノール溶液からメタノールを除去する等の処
理による、この新規な結晶の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、重合開始剤として
有用なビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘ
キサフルオロホスフェートの新規な結晶およびその製造
方法に関する。
有用なビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘ
キサフルオロホスフェートの新規な結晶およびその製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェートは、製版材料、フォ
トレジスト、ＵＶ硬化性インキ、光硬化塗料、感光性接
着剤を製造する際の重合開始剤として用いられている。
ニウムヘキサフルオロホスフェートは、製版材料、フォ
トレジスト、ＵＶ硬化性インキ、光硬化塗料、感光性接
着剤を製造する際の重合開始剤として用いられている。
【０００３】ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニ
ウムヘキサフルオロホスフェートの製造に関し、米国特
許第４，１５１，１７５号公報５欄のＥｘａｍｐｌｅ４
には塩化メチレン中、ｔ−ブチルベンゼンとヨウ素酸カ
リウムの混合物に、０℃で硫酸を加えて反応を行い、ビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェートの塩化メチレン溶液を得、塩化メチレ
ンを留去した後、残った個体をエチルエーテル中で粉砕
し、減圧乾燥して結晶が得られると記載されている。こ
の方法で製造された結晶は、Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回
折法において、回折角（２θ）６．０°と１８．７°に
特徴的なピークを示す（以下、この公知の結晶をα型結
晶と称する）。またこの結晶の融点は１７１〜１７４℃
であった。
ウムヘキサフルオロホスフェートの製造に関し、米国特
許第４，１５１，１７５号公報５欄のＥｘａｍｐｌｅ４
には塩化メチレン中、ｔ−ブチルベンゼンとヨウ素酸カ
リウムの混合物に、０℃で硫酸を加えて反応を行い、ビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェートの塩化メチレン溶液を得、塩化メチレ
ンを留去した後、残った個体をエチルエーテル中で粉砕
し、減圧乾燥して結晶が得られると記載されている。こ
の方法で製造された結晶は、Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回
折法において、回折角（２θ）６．０°と１８．７°に
特徴的なピークを示す（以下、この公知の結晶をα型結
晶と称する）。またこの結晶の融点は１７１〜１７４℃
であった。
【０００４】また、Macromolecules,10，1307〜1315(19
77)の1307頁右欄２３〜５７行目では、ビス（４−ｔ−
ブチルフェニル）ヨードニウム硫酸水素塩の水分散液に
ヘキサフルオロリン酸カリウムの水溶液を加えることに
よって生じた結晶を得ている。この結晶の融点は、１７
３〜１７４℃（１３０８ページ、Ｔａｂｌｅ １）と記
載されている。この結晶もやはり、前記同様のα型結晶
である。
77)の1307頁右欄２３〜５７行目では、ビス（４−ｔ−
ブチルフェニル）ヨードニウム硫酸水素塩の水分散液に
ヘキサフルオロリン酸カリウムの水溶液を加えることに
よって生じた結晶を得ている。この結晶の融点は、１７
３〜１７４℃（１３０８ページ、Ｔａｂｌｅ １）と記
載されている。この結晶もやはり、前記同様のα型結晶
である。
【０００５】このα型結晶変態は保存安定性に劣るた
め、長期保存後は重合開始剤としての性能が低下する。
め、長期保存後は重合開始剤としての性能が低下する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、重合
開始剤として有用なビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートの安定で新規な
結晶、及びこの結晶を製造する方法を提供することにあ
る。
開始剤として有用なビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートの安定で新規な
結晶、及びこの結晶を製造する方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記した課
題を解決するため鋭意検討した結果、ビス（４−ｔ−ブ
チルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェー
トには安定性の高い新規な結晶が存在し、この結晶は公
知の製造方法とは異なる処理を行うことによって得られ
ることを見いだし、本発明を完成するに到った。
題を解決するため鋭意検討した結果、ビス（４−ｔ−ブ
チルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェー
トには安定性の高い新規な結晶が存在し、この結晶は公
知の製造方法とは異なる処理を行うことによって得られ
ることを見いだし、本発明を完成するに到った。
【０００８】即ち、本発明は第１にＣｕ−Ｋα線による
Ｘ線回折法において、回折角（２θ）６．１°、９．５
°、１６．４°、１７．２°、１８．５°に特徴的なピ
ークを示すＸ線回折図により特徴づけられるビス（４−
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェートの結晶に関する。第２に本発明は、ビス（４−
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェートのメタノール溶液から結晶を析出させることを
特徴とする前記ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェートの結晶の製造方法に
関する。第３に本発明は、ビス（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの炭化水
素系溶媒分散液を加熱処理することを特徴とする前記ビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェートの結晶の製造方法に関する。
Ｘ線回折法において、回折角（２θ）６．１°、９．５
°、１６．４°、１７．２°、１８．５°に特徴的なピ
ークを示すＸ線回折図により特徴づけられるビス（４−
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェートの結晶に関する。第２に本発明は、ビス（４−
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェートのメタノール溶液から結晶を析出させることを
特徴とする前記ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェートの結晶の製造方法に
関する。第３に本発明は、ビス（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの炭化水
素系溶媒分散液を加熱処理することを特徴とする前記ビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェートの結晶の製造方法に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００１０】本発明の新規な結晶（以下β型結晶と称す
る）は、Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折法において、前記
の回折角に特徴的なピークを示すが、この回折角の±
０．２°程度の誤差は許容される。また、本発明のβ型
結晶は１８０〜１８６℃の範囲に融点を示す。
る）は、Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折法において、前記
の回折角に特徴的なピークを示すが、この回折角の±
０．２°程度の誤差は許容される。また、本発明のβ型
結晶は１８０〜１８６℃の範囲に融点を示す。
【００１１】本発明の第１の製造法によれば、β型結晶
はビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフ
ルオロホスフェートのメタノール溶液からメタノールを
留去させるなどして結晶を析出させることによって得ら
れる。
はビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフ
ルオロホスフェートのメタノール溶液からメタノールを
留去させるなどして結晶を析出させることによって得ら
れる。
【００１２】このメタノール溶液を得るには種々の形態
のビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフ
ルオロホスフェートが用いられてよく、例えばα型結晶
のような本発明のβ型結晶以外の結晶型を有するもの、
溶媒和結晶、無定型物(アモルファス)、オイル状物質、
これらの混合物、あるいはこれらと本発明のβ型結晶の
混合物等が挙げられる。
のビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフ
ルオロホスフェートが用いられてよく、例えばα型結晶
のような本発明のβ型結晶以外の結晶型を有するもの、
溶媒和結晶、無定型物(アモルファス)、オイル状物質、
これらの混合物、あるいはこれらと本発明のβ型結晶の
混合物等が挙げられる。
【００１３】これらのうちα型結晶は、例えば前記公知
文献に記載の製造方法により得られる。一般に、これら
の公知文献にも記載のように塩化メチレン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒からビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートの結晶を析出さ
せた場合は通常α型結晶として得られる。
文献に記載の製造方法により得られる。一般に、これら
の公知文献にも記載のように塩化メチレン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒からビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートの結晶を析出さ
せた場合は通常α型結晶として得られる。
【００１４】また、溶媒和結晶は、例えば、トルエン等
の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロルエタン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒等にビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートを溶解させた溶
液から析出させた場合に得られる。
の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロルエタン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒等にビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートを溶解させた溶
液から析出させた場合に得られる。
【００１５】無定型物は、例えば溶液状態にあるビス
(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロ
ホスフェートを非溶媒と混合して析出させた場合に得ら
れる。オイル状物質は、例えばビス(４−ｔ−ブチルフ
ェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの溶
液を濃縮して溶媒を留去する際に、溶媒が完全に留去し
きれずに残留して生成することがある。
(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロ
ホスフェートを非溶媒と混合して析出させた場合に得ら
れる。オイル状物質は、例えばビス(４−ｔ−ブチルフ
ェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの溶
液を濃縮して溶媒を留去する際に、溶媒が完全に留去し
きれずに残留して生成することがある。
【００１６】これら、メタノール溶液を得るために原料
として用いられうるビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートをメタノールに
溶解する時の加熱温度は、４０〜６５℃が好ましく、５
５〜６５℃がより好ましい。加熱時間は、結晶が完溶す
る時間があればよいが、通常１５分間から８時間が好ま
しく、３０分間から２時間がさらに好ましい。
として用いられうるビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェートをメタノールに
溶解する時の加熱温度は、４０〜６５℃が好ましく、５
５〜６５℃がより好ましい。加熱時間は、結晶が完溶す
る時間があればよいが、通常１５分間から８時間が好ま
しく、３０分間から２時間がさらに好ましい。
【００１７】メタノールの量は、溶解させようとするビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェートの１〜２０倍重量が好ましい。
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェートの１〜２０倍重量が好ましい。
【００１８】メタノール溶液からのメタノールの留去は
常圧下でも減圧下でも行うことができる。留去の程度
は、メタノールの残量が多いと得られる結晶の量が減少
するので、メタノールがほぼ留出しなくなるまで行うの
が好ましい。
常圧下でも減圧下でも行うことができる。留去の程度
は、メタノールの残量が多いと得られる結晶の量が減少
するので、メタノールがほぼ留出しなくなるまで行うの
が好ましい。
【００１９】冷却後、得られた結晶を少量のメタノール
あるいはジエチルエーテルで洗浄し、好ましくは６５℃
以下の温度で乾燥することにより純度の高い結晶が得ら
れる。
あるいはジエチルエーテルで洗浄し、好ましくは６５℃
以下の温度で乾燥することにより純度の高い結晶が得ら
れる。
【００２０】本発明の第２の製造法によれば、β型結晶
は、ビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェートの炭化水素系溶媒分散液を加熱処
理することによっても製造することができる。かかる炭
化水素系溶媒分散液を得るために用いられうるビス（４
−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェートとしては、前記した、第１の製造法における
メタノール溶液の調製に用いられるものと同じものが使
用できる。
は、ビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェートの炭化水素系溶媒分散液を加熱処
理することによっても製造することができる。かかる炭
化水素系溶媒分散液を得るために用いられうるビス（４
−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェートとしては、前記した、第１の製造法における
メタノール溶液の調製に用いられるものと同じものが使
用できる。
【００２１】炭化水素系溶媒の具体例としてはｎ−ヘキ
サン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−
デカン、ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、デカリン等が挙げられる
が、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンが好適に用いられる。
サン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−
デカン、ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、デカリン等が挙げられる
が、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンが好適に用いられる。
【００２２】加熱処理温度は、５０〜８０℃が好まし
く、６０〜７０℃がより好ましい。加熱処理時間は、３
０分間から６時間が好ましく、１時間から２時間がより
好ましい。
く、６０〜７０℃がより好ましい。加熱処理時間は、３
０分間から６時間が好ましく、１時間から２時間がより
好ましい。
【００２３】加熱処理に用いる炭化水素系溶媒の使用量
は、分散させるビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェートに対して１〜２０倍
重量が好ましい。
は、分散させるビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェートに対して１〜２０倍
重量が好ましい。
【００２４】加熱処理終了後、冷却して濾過し、必要に
応じて少量のメタノール等で洗浄することによりβ型結
晶を得ることができる。
応じて少量のメタノール等で洗浄することによりβ型結
晶を得ることができる。
【００２５】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。
に説明する。
【００２６】（参考例１）無水酢酸５４ｇと塩化メチレ
ン１５３ｇ中に、ヨウ素酸カリウム２５ｇとｔ−ブチル
ベンゼン３９ｇを加え、撹拌下に０℃に冷却した。これ
に濃硫酸４６ｇを０℃以下に保ちながら滴下した。滴下
後、０℃で１．５時間保ち、次いで２０〜２５℃で３．
５時間撹拌した。蒸留水５０ｇを加えて生じた重硫酸カ
リウムを溶解し、ヘキサフルオロリン酸カリウム２１．
５ｇを添加した。１５分間撹拌後、塩化メチレン層を分
取した。蒸留により塩化メチレンを留去し、残った結晶
にエチルエーテル１００ｍｌを加え大きな塊りをつぶし
ながら洗浄した。細かく砕かれた結晶を濾別し、減圧乾
燥して白色結晶３２．６ｇ（収率５２％）を得た。この
結晶の融点は１７１〜１７４℃であった。この結晶のＸ
線回折図を図１に示す。
ン１５３ｇ中に、ヨウ素酸カリウム２５ｇとｔ−ブチル
ベンゼン３９ｇを加え、撹拌下に０℃に冷却した。これ
に濃硫酸４６ｇを０℃以下に保ちながら滴下した。滴下
後、０℃で１．５時間保ち、次いで２０〜２５℃で３．
５時間撹拌した。蒸留水５０ｇを加えて生じた重硫酸カ
リウムを溶解し、ヘキサフルオロリン酸カリウム２１．
５ｇを添加した。１５分間撹拌後、塩化メチレン層を分
取した。蒸留により塩化メチレンを留去し、残った結晶
にエチルエーテル１００ｍｌを加え大きな塊りをつぶし
ながら洗浄した。細かく砕かれた結晶を濾別し、減圧乾
燥して白色結晶３２．６ｇ（収率５２％）を得た。この
結晶の融点は１７１〜１７４℃であった。この結晶のＸ
線回折図を図１に示す。
【００２７】（実施例１）酢酸１２０ｍｌに無水酢酸１
６１．２ｇ、ヨウ素カリウム６４．２ｇ、ｔ−ブチルベ
ンゼン９６．５ｇを加え、撹拌下に１０℃以下に冷却し
た。これに１０℃以下を保って９８％硫酸１０７．８ｇ
を滴下した。１時間を要して室温にもどし、一夜撹拌し
た。反応混合物を氷水３００ｇ中に排出し、未反応のｔ
−ブチルベンゼンをｎ−ヘキサン２００ｍｌで抽出除去
した。残った水層に水１２０ｍｌを加えて希釈し、ヘキ
サフルオロリン酸カリウム６５．８ｇを少量ずつ添加し
た。３０分撹拌後析出物を濾取した。乾燥した後、メタ
ノール１６０ｍｌとともに６０〜６５℃で１時間撹拌し
た。このメタノール溶液から１００〜２００ｍｍＨｇの
減圧下にメタノールを留去し、得られた結晶をジエチル
エーテル１００ｍｌで洗浄後、乾燥することにより白色
結晶１０４.９ｇ(収率６５％)を得た。この結晶の融点
は１８１〜１８３℃であった。この結晶のＸ線回折図を
図２に示す。
６１．２ｇ、ヨウ素カリウム６４．２ｇ、ｔ−ブチルベ
ンゼン９６．５ｇを加え、撹拌下に１０℃以下に冷却し
た。これに１０℃以下を保って９８％硫酸１０７．８ｇ
を滴下した。１時間を要して室温にもどし、一夜撹拌し
た。反応混合物を氷水３００ｇ中に排出し、未反応のｔ
−ブチルベンゼンをｎ−ヘキサン２００ｍｌで抽出除去
した。残った水層に水１２０ｍｌを加えて希釈し、ヘキ
サフルオロリン酸カリウム６５．８ｇを少量ずつ添加し
た。３０分撹拌後析出物を濾取した。乾燥した後、メタ
ノール１６０ｍｌとともに６０〜６５℃で１時間撹拌し
た。このメタノール溶液から１００〜２００ｍｍＨｇの
減圧下にメタノールを留去し、得られた結晶をジエチル
エーテル１００ｍｌで洗浄後、乾燥することにより白色
結晶１０４.９ｇ(収率６５％)を得た。この結晶の融点
は１８１〜１８３℃であった。この結晶のＸ線回折図を
図２に示す。
【００２８】（実施例２）参考例１で得たビス（４−ｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフ
ェートのα型結晶２０ｇにｎ−ヘプタン２００ｍｌを加
え、６０〜６５℃で１時間撹拌後、自然冷却し、結晶を
濾取した。１日減圧乾燥し、融点１８２〜１８４℃の白
色結晶２０ｇを得た。この結晶のＸ線回折図を図３に示
す。
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフ
ェートのα型結晶２０ｇにｎ−ヘプタン２００ｍｌを加
え、６０〜６５℃で１時間撹拌後、自然冷却し、結晶を
濾取した。１日減圧乾燥し、融点１８２〜１８４℃の白
色結晶２０ｇを得た。この結晶のＸ線回折図を図３に示
す。
【００２９】（実施例３）酢酸８００ｍｌに無水酢酸１
０７１ｇ、ヨウ素酸カリウム４２８ｇ、ｔ−ブチルベン
ゼン６４３．２ｇを加え、撹拌下１０℃以下に冷却し
た。この混合物に１０℃以下で９８％硫酸７１８ｇを３
時間で滴下した。３０℃以下で一夜撹拌後、反応混合物
を氷水２ｋｇ中に排出した。未反応のｔ−ブチルベンゼ
ンをｎ−ヘプタン１４００ｍｌで抽出除去した後、水層
にヘキサフルオロリン酸カリウム４４０ｇを加えた。３
０分間撹拌した後析出物を濾取し、水２６００ｍｌで洗
浄した。この析出物に酢酸ｎ−ブチル６６５０ｍｌを加
えて溶解し、得られた酢酸ｎ−ブチル溶液を水各３００
０ｍｌずつで４回洗浄した。１００〜２００ｍｍＨｇの
減圧下に酢酸ｎ−ブチルを留出しなくなるまで回収して
オイル状の残渣を得た。このオイル状物質にｎ−ヘプタ
ン６６００ｍｌを加え、６３〜６５℃で１時間撹拌し
た。結晶を濾取し、１日減圧乾燥して白色結晶６６３ｇ
（収率６２％）を得た。この結晶のＸ線回折図は、実施
例１、実施例２で得られたものと同様、回折角(２θ）
６．１°、 ９．５°、１６．４°、１７．２°、１
８．５°に特徴的なピークを示した。この結晶の融点は
１８２〜１８４℃であった。
０７１ｇ、ヨウ素酸カリウム４２８ｇ、ｔ−ブチルベン
ゼン６４３．２ｇを加え、撹拌下１０℃以下に冷却し
た。この混合物に１０℃以下で９８％硫酸７１８ｇを３
時間で滴下した。３０℃以下で一夜撹拌後、反応混合物
を氷水２ｋｇ中に排出した。未反応のｔ−ブチルベンゼ
ンをｎ−ヘプタン１４００ｍｌで抽出除去した後、水層
にヘキサフルオロリン酸カリウム４４０ｇを加えた。３
０分間撹拌した後析出物を濾取し、水２６００ｍｌで洗
浄した。この析出物に酢酸ｎ−ブチル６６５０ｍｌを加
えて溶解し、得られた酢酸ｎ−ブチル溶液を水各３００
０ｍｌずつで４回洗浄した。１００〜２００ｍｍＨｇの
減圧下に酢酸ｎ−ブチルを留出しなくなるまで回収して
オイル状の残渣を得た。このオイル状物質にｎ−ヘプタ
ン６６００ｍｌを加え、６３〜６５℃で１時間撹拌し
た。結晶を濾取し、１日減圧乾燥して白色結晶６６３ｇ
（収率６２％）を得た。この結晶のＸ線回折図は、実施
例１、実施例２で得られたものと同様、回折角(２θ）
６．１°、 ９．５°、１６．４°、１７．２°、１
８．５°に特徴的なピークを示した。この結晶の融点は
１８２〜１８４℃であった。
【００３０】（評価）参考例１および実施例１〜３で得
たビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェートの結晶について保存安定性を調べ
るため、保存前後の重合開始剤としての性能を、これを
使用した際の重合収率を測定して判断の基準とした。即
ち重合収率が高い程重合開始剤としての性能が高く、Ａ
値（保存後の重合収率／保存前の重合収率）が高い程、
その結晶の保存安定性が高いことを表す。
たビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェートの結晶について保存安定性を調べ
るため、保存前後の重合開始剤としての性能を、これを
使用した際の重合収率を測定して判断の基準とした。即
ち重合収率が高い程重合開始剤としての性能が高く、Ａ
値（保存後の重合収率／保存前の重合収率）が高い程、
その結晶の保存安定性が高いことを表す。
【００３１】［保存条件］各結晶５ｇをサンプルビンに
取りふたをした。これを室内の暗所に１年間放置した。
取りふたをした。これを室内の暗所に１年間放置した。
【００３２】［重合条件］塩化メチレン１３ｍｌにスチ
レン２８．８ｇとビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムヘキサフルオロホスフェート３５０ｍｇとを加
え、４５０Ｗの高圧水銀灯を使って６分間ＵＶ光を照射
した。
レン２８．８ｇとビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムヘキサフルオロホスフェート３５０ｍｇとを加
え、４５０Ｗの高圧水銀灯を使って６分間ＵＶ光を照射
した。
【００３３】各サンプルの重合収率とＡ値を表１に示
す。
す。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【発明の効果】表１のＡ値から明らかなように、本発明
のビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェートのβ型結晶は保存安定性に優れ
る。
のビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサ
フルオロホスフェートのβ型結晶は保存安定性に優れ
る。
【図１】参考例１で製造したビス（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートのＸ線
回折図である。
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートのＸ線
回折図である。
【図２】実施例１で製造したビス（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートのＸ線
回折図である。
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートのＸ線
回折図である。
【図３】実施例２で製造したビス（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートのＸ線
回折図である。
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートのＸ線
回折図である。
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折法におい
て、回折角(２θ)６.１°，９.５°，１６.４°，１７.
２°，１８.５°に特徴的なピークを示すＸ線回折図に
より特徴づけられるビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨー
ドニウムヘキサフルオロホスフェートの結晶。 - 【請求項２】 ビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニ
ウムヘキサフルオロホスフェートのメタノール溶液から
結晶を析出させることを特徴とする請求項１のビス(４
−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェートの結晶の製造方法。 - 【請求項３】 ビス(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニ
ウムヘキサフルオロホスフェートの炭化水素系溶媒分散
液を加熱処理することを特徴とする請求項１のビス(４
−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェートの結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35924596A JP3908814B2 (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | ビスアリールヨードニウム塩の新規な結晶およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35924596A JP3908814B2 (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | ビスアリールヨードニウム塩の新規な結晶およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10182517A true JPH10182517A (ja) | 1998-07-07 |
| JP3908814B2 JP3908814B2 (ja) | 2007-04-25 |
Family
ID=18463509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35924596A Expired - Lifetime JP3908814B2 (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | ビスアリールヨードニウム塩の新規な結晶およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3908814B2 (ja) |
-
1996
- 1996-12-27 JP JP35924596A patent/JP3908814B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3908814B2 (ja) | 2007-04-25 |
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