JPH10182643A - ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 - Google Patents
ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤Info
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【解決手段】一般式:
(式中、Rは、低級アルカノイル(低級)アルキル基;
シクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)
アルキル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル基;適当な置換基を有していても
よいカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基等;適当
な置換基を有していてもよいアリール(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル基;複素環(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基などを示す)で示されるピラゾロピ
リジン化合物またはその塩類。 【効果】上記の化合物は、アデノシン拮抗剤(とくにA
1,受容体拮抗剤)であり、認識増強作用、鎮痛作用、
自発運動量増加作用等種々の薬理作用を有する。
シクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)
アルキル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル基;適当な置換基を有していても
よいカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基等;適当
な置換基を有していてもよいアリール(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル基;複素環(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基などを示す)で示されるピラゾロピ
リジン化合物またはその塩類。 【効果】上記の化合物は、アデノシン拮抗剤(とくにA
1,受容体拮抗剤)であり、認識増強作用、鎮痛作用、
自発運動量増加作用等種々の薬理作用を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬として有用な
新規ピラゾロピリジン化合物およびその医薬として許容
しうる塩に関するものである。
新規ピラゾロピリジン化合物およびその医薬として許容
しうる塩に関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】いく
つかの種類のピラゾロピリジン化合物が、精神刺激剤、
降圧剤、腎不全用剤、利尿剤などとして有用であること
は、既知である(たとえばEP−0229209、,E
P−0379979など)。本発明は、医薬として有用
な新規ピラゾロピリジン化合物およびその医薬として許
容しうる塩;該ピラゾロピリジン化合物またはその塩の
製造法;該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬とし
て許容しうる塩を活性成分として含有する医薬組成物;
該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬として許容し
うる塩の医薬としての使用;および、該ピラゾロピリジ
ン化合物またはその医薬として許容しうる塩をヒトまた
は動物に投与することからなる該ピラゾロピリジン化合
物の医療目的での使用方法を提供することを目的とす
る。
つかの種類のピラゾロピリジン化合物が、精神刺激剤、
降圧剤、腎不全用剤、利尿剤などとして有用であること
は、既知である(たとえばEP−0229209、,E
P−0379979など)。本発明は、医薬として有用
な新規ピラゾロピリジン化合物およびその医薬として許
容しうる塩;該ピラゾロピリジン化合物またはその塩の
製造法;該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬とし
て許容しうる塩を活性成分として含有する医薬組成物;
該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬として許容し
うる塩の医薬としての使用;および、該ピラゾロピリジ
ン化合物またはその医薬として許容しうる塩をヒトまた
は動物に投与することからなる該ピラゾロピリジン化合
物の医療目的での使用方法を提供することを目的とす
る。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明の新規ピラゾロピ
リジン化合物は、次の一般式(I)によって示すことが
できる。 一般式: 式中、Rは、低級アルカノイル(低級)アルキル基;シ
クロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)ア
ルキル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;適当な置換基を有していてもよ
いカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;適当な
置換基を有していてもよいアリール(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;複素環(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;N−(適当な置換基を有していて
もよい低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル
基;N,N−ジ(低級)アルキル−カルバモイルメチル
基;適当な置換基を有していてもよいピロリジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基;適当な置換基を
有していてもよいピペリジル(低級)アルカノイルメチ
ル基;モルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;適当な置換基を有していてもよいピペラジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基; または、
チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基である。
リジン化合物は、次の一般式(I)によって示すことが
できる。 一般式: 式中、Rは、低級アルカノイル(低級)アルキル基;シ
クロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)ア
ルキル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;適当な置換基を有していてもよ
いカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;適当な
置換基を有していてもよいアリール(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;複素環(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;N−(適当な置換基を有していて
もよい低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル
基;N,N−ジ(低級)アルキル−カルバモイルメチル
基;適当な置換基を有していてもよいピロリジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基;適当な置換基を
有していてもよいピペリジル(低級)アルカノイルメチ
ル基;モルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;適当な置換基を有していてもよいピペラジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基; または、
チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基である。
【0004】本発明の目的化合物(I)またはその塩
は、下記の反応式で示される方法により製造することが
できる。 製造法1
は、下記の反応式で示される方法により製造することが
できる。 製造法1
【0005】製造法2
【0006】製造法3
【0007】製造法4
【0008】製造法5
【0009】製造法6
【0010】製造法7
【0011】(上記式中、Rは前記定義の通りであり、
Raは、保護されたカルボキシを有し、適当な置換基を
有していてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル、保護されたカルボキシを有するアリール(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル、保護されたカルボキシを
有する低級アルキルカルバモイル(低級)アルキル、保
護されたカルボキシを有する低級アルキルカルバモイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル、保護されたカ
ルボキシを有する(低級)アルキルピペリジル(低級)
アルカノイルメチルであり、Rbは、カルボキシを有
し、適当な置換基を有していてもよい(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル、カルボキシを有するアリール
(低級)アルカノイル(低級)アルキル、カルボキシを
有する低級アルキルカルバモイル(低級)アルキル、カ
ルボキシを有する低級アルキルカルバモイル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基カルボキシを有する(低
級)アルキルピペリジル(低級)アルカノイルメチルで
あり、Rcは、カルボキシ(低級)アルキルであり、Rd
は、低級アルカノイル(低級)アルキルであり、R
eは、カルボキシを有する(低級)アルキル、カルボキ
シを有する(低級)アルカノイル(低級)アルキルであ
り、Rfは、N−(適当な置換基を有していてもよい低
級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル、N、N−
ジ(低級)アルキル−カルバモイルメチル、適当な置換
基を有していてもよいピロリジニル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル、適当な置換基を有していてもよい
ピペリジル(低級)アルカノイルメチル、モルホリニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル、適当な置換基
を有していてもよいピペラジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル、チオモルホリニル(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル、アミド化されたカルボキシ(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基であり、Rgは、
ヒドロキシを有するピロリジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキルであり、Rhは、オキソを有するピロ
リジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキルであ
り、Riは、カルボキシあるいは保護されたカルボキシ
を有する(低級)アルカノイル(低級)アルキルであ
り、Rjは、(低級)アルカノイル(低級)アルキルで
あり、Rkは、シアノ基を有するフェニル(低級)アル
カノイル(低級)アルキルであり、Rlは、カルボキシ
を有するフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ルであり、Xは酸残基である。
Raは、保護されたカルボキシを有し、適当な置換基を
有していてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル、保護されたカルボキシを有するアリール(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル、保護されたカルボキシを
有する低級アルキルカルバモイル(低級)アルキル、保
護されたカルボキシを有する低級アルキルカルバモイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル、保護されたカ
ルボキシを有する(低級)アルキルピペリジル(低級)
アルカノイルメチルであり、Rbは、カルボキシを有
し、適当な置換基を有していてもよい(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル、カルボキシを有するアリール
(低級)アルカノイル(低級)アルキル、カルボキシを
有する低級アルキルカルバモイル(低級)アルキル、カ
ルボキシを有する低級アルキルカルバモイル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基カルボキシを有する(低
級)アルキルピペリジル(低級)アルカノイルメチルで
あり、Rcは、カルボキシ(低級)アルキルであり、Rd
は、低級アルカノイル(低級)アルキルであり、R
eは、カルボキシを有する(低級)アルキル、カルボキ
シを有する(低級)アルカノイル(低級)アルキルであ
り、Rfは、N−(適当な置換基を有していてもよい低
級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル、N、N−
ジ(低級)アルキル−カルバモイルメチル、適当な置換
基を有していてもよいピロリジニル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル、適当な置換基を有していてもよい
ピペリジル(低級)アルカノイルメチル、モルホリニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル、適当な置換基
を有していてもよいピペラジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル、チオモルホリニル(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル、アミド化されたカルボキシ(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基であり、Rgは、
ヒドロキシを有するピロリジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキルであり、Rhは、オキソを有するピロ
リジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキルであ
り、Riは、カルボキシあるいは保護されたカルボキシ
を有する(低級)アルカノイル(低級)アルキルであ
り、Rjは、(低級)アルカノイル(低級)アルキルで
あり、Rkは、シアノ基を有するフェニル(低級)アル
カノイル(低級)アルキルであり、Rlは、カルボキシ
を有するフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ルであり、Xは酸残基である。
【0012】上記の諸方法に加えて、たとえば本明細書
中で実施例において説明した操作法またはそれらに類似
の操作法に従って、目的化合物(I)またはその塩を製
造することができる。
中で実施例において説明した操作法またはそれらに類似
の操作法に従って、目的化合物(I)またはその塩を製
造することができる。
【0013】出発化合物のなかには、新規化合物もある
が、たとえば本明細暑中で製造例において説明した操作
法またはそれらに類似の操作に従ってそれらを製造する
ことができる。
が、たとえば本明細暑中で製造例において説明した操作
法またはそれらに類似の操作に従ってそれらを製造する
ことができる。
【0014】目的化合物(I)は、二重結合に基づく幾
何異性体および/または不斉炭素原子に基づく立体異性
体を包含しうることを注記しておかなければならない。
この点に関しては、この技術分野における常法に従っ
て、ある異性体を他の異性体に転化させることができ
る。
何異性体および/または不斉炭素原子に基づく立体異性
体を包含しうることを注記しておかなければならない。
この点に関しては、この技術分野における常法に従っ
て、ある異性体を他の異性体に転化させることができ
る。
【0015】目的化合物(I)の医薬として許容しうる
好適な塩は、慣用のものであって、それらとしては、ア
ルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩な
ど)、アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩、マ
グネシウム塩など)などの金属塩、アンモニウム塩、有
機塩基塩(たとえばトリメチルアミン塩、トリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩な
ど)、有機酸塩(たとえば酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマル酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸塩、トルエンス
ルホン酸塩など)、無機酸塩(たとえば塩酸塩、臭化水
素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など)、アミノ
酸(たとえばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン
酸など)との塩などが挙げられる。
好適な塩は、慣用のものであって、それらとしては、ア
ルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩な
ど)、アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩、マ
グネシウム塩など)などの金属塩、アンモニウム塩、有
機塩基塩(たとえばトリメチルアミン塩、トリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩な
ど)、有機酸塩(たとえば酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、フマル酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸塩、トルエンス
ルホン酸塩など)、無機酸塩(たとえば塩酸塩、臭化水
素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など)、アミノ
酸(たとえばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン
酸など)との塩などが挙げられる。
【0016】
【発明の実施の形態】本明細書の上記および後記の説明
において本発明がその範囲内に含有する種々の定義の好
適な例、具体例を詳細に説明すれば、つぎの通りであ
る。
において本発明がその範囲内に含有する種々の定義の好
適な例、具体例を詳細に説明すれば、つぎの通りであ
る。
【0017】「低級」なる語は、とくに断わらない限
り、炭素原子数が1〜6であることを意味するものとす
る。
り、炭素原子数が1〜6であることを意味するものとす
る。
【0018】「高級」なる語は、とくに断わらない限
り、炭素原子数が7〜20であることを意味するものと
する。
り、炭素原子数が7〜20であることを意味するものと
する。
【0019】好適な「(低級)アルカノイル」および
「低級アルカノイル」としては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を挙げるこ
とができる。
「低級アルカノイル」としては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を挙げるこ
とができる。
【0020】好適な「低級アルキル」および「(低級)
アルキル」としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ヘキシル等のような1から6個
の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキルが挙げら
れ、好ましくは(C1〜C5)アルキルであり、より好ま
しくはメチル、エチル、イソプロピル、イソブチル、t
−ブチルである。
アルキル」としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ヘキシル等のような1から6個
の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖アルキルが挙げら
れ、好ましくは(C1〜C5)アルキルであり、より好ま
しくはメチル、エチル、イソプロピル、イソブチル、t
−ブチルである。
【0021】好適な「シクロ(低級)アルキル」は、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルなどのシクロ(C3〜C6)アルキルであり、な
かでも好ましいのはシクロC5〜C6アルキルであり、よ
り好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシルである。
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルなどのシクロ(C3〜C6)アルキルであり、な
かでも好ましいのはシクロC5〜C6アルキルであり、よ
り好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシルである。
【0022】好適な「シクロ(高級)アルキル」は、シ
クロヘプチル、シクロオクチル、アダマンチルなどのシ
クロ(C7〜C20)アルキルであり、中でも好ましいの
はアダマンチルである。
クロヘプチル、シクロオクチル、アダマンチルなどのシ
クロ(C7〜C20)アルキルであり、中でも好ましいの
はアダマンチルである。
【0023】好適な「保護されたカルボキシ」として
は、次のものが挙げられる。 (1)エステル化されたカルボキシ、その具体例として
は、たとえば低級アルカノイルオキシ(低級)アルコキ
シカルボニル[たとえばアセトキシメトキシカルボニ
ル、プロピオニルオキシメトキシカルボニル、ブチリル
オキシメトキシカルボニル、バレリルオキシメトキシカ
ルボニル、ピバロイルオキシメトキシカルボニル、1−
アセトキシエトキシカルボニル、1−プロピオニルオキ
シエトキシカルボニル、,ピバロイルオキシエトキシカ
ルボニル、2−プロピオニルオキシエトキシカルボニ
ル、ヘキサノイルオキシエトキシカルボニルなど]など
の適当な置換基を有していてもよい低級アルコキシカル
ボニル(たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘ
キシルオキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシ
カルボニル);低級アルカンスルホニル(低級)アルコ
キシカルボニル[たとえば2−メシルエトキシカルボニ
ルなど];モノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)ア
ルコキシカルボニル[たとえば2−ヨードエトキシカル
ボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルな
ど];低級アルケニルオキシカルボニル[たとえばビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルなど];
低級アルキニルオキシカルボニル[たとえばエチニルオ
キシカルボニル、プロピニルオキシカルボニルなど];
適当な置換基を有してもよいアル(低級)アルコキシカ
ルボニル[好ましくはモノ(またはジまたはトリ)フェ
ニル(低級)アルコキシカルボニル[たとえばベンジル
オキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニル、ビス(メトキシフェニ
ル)メトキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−
ブチルベンジルオキシカルボニルなど];適当な置換基
を有してもよいアリールオキシカルボニル[たとえばフ
ェノキシカルボニル、4−クロロフェノキシカルボニ
ル、トリルオキシカルボニル、4−t−ブチルフェノキ
シカルボニル、キシリルオキシカルボニル、メシチルオ
キシカルボニル、クロメニルオキシカルボニルなど]な
どが挙げられる; (2),アミド化されたカルボキシ、その具体例として
は、カルバモイル;N−低級アルキルカルバモイル(た
とえばN−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイ
ル、N−イソプロピルカルバモイル、N−ブチルカルバ
モイル、N−ペンチルカルバモイル、N−ヘキシルカル
バモイルなど);N−(カルボキシもしくはエステル化
されたカルボキシを有していても良い低級アルキル)カ
ルバモイル[例えばN−(カルボキシもしくはエステル
化されたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)
カルバモイルにおけるエステル化されたカルボキシ部分
としては、メトキシカルボニルなど上述のエステル化さ
れたカルボキシが挙げられる。また、N−(カルボキシ
もしくはエステル化されたカルボキシを有していてもよ
い低級アルキル)カルバモイルにおけるN−低級アルキ
ルカルバモイル部分の具体例としては、例えばN−メチ
ルカルバモイルなど上述のN−低級アルキルカルバモイ
ルが挙げられる。];N−高級アルキルカルバモイル、
[たとえばN−ヘプチルカルバモイル、N−(2−メチ
ルヘプチル)カルバモイル、N−ノニルカルバモイル、
N−デカニルカルバモイル、N−トリシクロ[3.3.
1.1.3,7,]デカニルカルバモイル、N−ウンデ
カニルカルバモイル、N−(ビシクロ[4.3.2.]
ウンデカニル)カルバモイル、N−ドデカニルカルバモ
イル、N−トリデカニルカルバモイル、N−テトラデカ
ニルカルバモイル、N−ペンタデカニルカルバモイル、
N−ヘキサデカニルカルバモイル、N−ヘプタデカニル
カルバモイル、N−オクタデカニルカルバモイル、N−
ノナデカニルカルバモイル、N−イコサニルカルバモイ
ルなど);N,N−ジ(低級)アルキルカルバモイル
[たとえばN,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジ
エチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモ
イル、N,N−ジプロピルカルバモイル、N,N−ジ
(t−ブチル)カルバモイル、N−ペンチル−N−ヘキ
シルカルバモイルなど];N−低級アルキル−N−アル
(低級)アルキルカルバモイル(たとえばN−メチル−
N−ベンジルカルバモイルなど);N−カルボキシ(低
級)アルキルカルバモイル[たとえばN−カルボキシメ
チルカルバモイル、N−(2−カルボキシエチル)カル
バモイル、N−(2−カルボキシプロピル)カルバモイ
ル、N−(3−カルボキシプロピル)カルバモイル、N
−(1−カルボキシメチルエチル)カルバモイル、N−
(4−カルボキシブチル)カルバモイル、N−(2−カ
ルボキシメチル−2−メチルエチル)カルバモイル、N
−(5−カルボキシペンチル)カルバモイル、N−(3
−カルボキシヘキシル)カルバモイルなど];N−保護
されたカルボキシ(低級)アルキルカルバモイル、好ま
しくはN−エステル化されたカルボキシ(低級)アルキ
ルカルバモイル、より好ましくは、N−低級アルコキシ
カルボキシ(低級)アルキルカルバモイル,[たとえば
N−(メトキシカルボニルメチル)カルバモイル、N−
(エトキシカルボニルメチル)カルバモイル、N−(2
−エトキシカルボニルエチル)カルバモイル、N−(2
−t−ブトキシカルボニルエチル)カルバモイル、N−
(3−メトキシカルボニルプロピル)カルバモイル、N
−(1−プロポキシカルボニルプロピル)カルバモイ
ル、N−(1−イソプロポキシカルボニルメチルエチ
ル)カルバモイル、N−(ブトキシカルボニルメチル)
カルバモイル、N−(t−ブトキシカルボニルメチル)
カルバモイル、N−(4−イソブトキシカルボニルブチ
ル)カルバモイル、N−(2−t−ブトキシカルボニル
−2−メチルエチル)カルバモイル、N−(3−ペンチ
ルオキシカルボニルペンチル)カルバモイル、N−(6
−ヘキシルオキシカルボニルヘキシル)カルバモイル、
N−[(1−シクロプロピルエトキシ)カルボニルメチ
ル]カルバモイルなど];N−低級アルキル−N−カル
ボキシ(低級)アルキルカルバモイル[たとえばN−メ
チル−N−(カルボキシメチル)カルバモイル、N−メ
チル−N−(2−カルボキシエチル)カルバモイル、N
−エチル−N−(2−カルボキシプロピル)カルバモイ
ル、N−プロピル−N−(3−カルボキシプロピル)カ
ルバモイル、N−イソプロピル−N−(1−カルボキシ
メチルエチル)カルバモイル、N−ブチル−N−(4−
カルボキシブチル)カルバモイル、N−t−ブチル−N
−(2−カルボキシメチル−2−メチルエチル)カルバ
モイル、N−ペンチル−N−(5−カルボキシペンチ
ル)カルバモイル、N−ヘキシル−N−(3−カルボキ
シヘキシル)カルバモイルなど];N−低級アルキル−
N−保護されたカルボキシ(低級)アルキルカルバモイ
ル、好ましくはN−低級アルキル−N−エステル化され
たカルボキシ(低級)アルキルカルバモイル、より好ま
しくはN−低級アルキル−N−低級アルコキシカルボニ
ル(低級)アルキルカルバモイル[たとえばN−メチル
−N−(メトキシカルボニルメチル)カルバモイル、N
−メチル−N−(エトキシカルボニルメチル)カルバモ
イル、N−メチル−N−(2−エトキシカルボニルエチ
ル)カルバモイル、N−エチル−N−(2−t−ブトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル、N−プロピル−N
−(3−メトキシカルボニルプロピル)カルバモイル、
N−イソプロピル−N−(1−プロポキシカルボニルプ
ロピル)カルバモイル、N−プロピル−N−(1−イソ
プロポキシカルボニルメチルエチル)カルバモイル、N
−ブチル−N−(ブトキシカルボニルメチル)カルバモ
イル、N−イソブチル−N−(t−ブトキシカルボニル
メチル)カルバモイル、N−ブチル−N−(4−イソブ
トキシカルボニルブチル)カルバモイル、N−メチル−
N−(2−t−ブトキシカルボニルメチル−2−メチル
エチル)カルバモイル、N−ペンチル−N−(3−ペン
チルオキシカルボニルペンチル)カルバモイル、N−ヘ
キシル−N−(6−ヘキシルオキシカルボニルヘキシ
ル)カルバモイル、N−エチル−N−[(1−シクロプ
ロピルエトキシ)カルボニルメチル]カルバモイルな
ど;N−ヒドロキシ(低級)アルキルカルバモイル[た
とえばN−ヒドロキシメチルカルバモイル、N−(2−
ヒドロキシエチル)カルバモイル、N−(1−ヒドロキ
シエチル)カルバモイル、N−(3−ヒドロキシプロピ
ル)カルバモイル、N−(1−ヒドロキシブチル)カル
バモイル、N−(2−ヒドロキシメチル−2−メチルエ
チル)カルバモイル、N−(5−ヒドロキシペンチル)
カルバモイル、N−(3−ヒドロキシヘキシル)カルバ
モイルなど];式 (ここに、式 の基は、1個以上の適当な置換基を有してもよいN−含
有複素環基であり、このN−含有複素環基は、その環中
にN、OまたはSなどの他のヘテロ原子を含有していて
もよい)などが挙げられる。
は、次のものが挙げられる。 (1)エステル化されたカルボキシ、その具体例として
は、たとえば低級アルカノイルオキシ(低級)アルコキ
シカルボニル[たとえばアセトキシメトキシカルボニ
ル、プロピオニルオキシメトキシカルボニル、ブチリル
オキシメトキシカルボニル、バレリルオキシメトキシカ
ルボニル、ピバロイルオキシメトキシカルボニル、1−
アセトキシエトキシカルボニル、1−プロピオニルオキ
シエトキシカルボニル、,ピバロイルオキシエトキシカ
ルボニル、2−プロピオニルオキシエトキシカルボニ
ル、ヘキサノイルオキシエトキシカルボニルなど]など
の適当な置換基を有していてもよい低級アルコキシカル
ボニル(たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘ
キシルオキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシ
カルボニル);低級アルカンスルホニル(低級)アルコ
キシカルボニル[たとえば2−メシルエトキシカルボニ
ルなど];モノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)ア
ルコキシカルボニル[たとえば2−ヨードエトキシカル
ボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルな
ど];低級アルケニルオキシカルボニル[たとえばビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルなど];
低級アルキニルオキシカルボニル[たとえばエチニルオ
キシカルボニル、プロピニルオキシカルボニルなど];
適当な置換基を有してもよいアル(低級)アルコキシカ
ルボニル[好ましくはモノ(またはジまたはトリ)フェ
ニル(低級)アルコキシカルボニル[たとえばベンジル
オキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ベン
ズヒドリルオキシカルボニル、ビス(メトキシフェニ
ル)メトキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−
ブチルベンジルオキシカルボニルなど];適当な置換基
を有してもよいアリールオキシカルボニル[たとえばフ
ェノキシカルボニル、4−クロロフェノキシカルボニ
ル、トリルオキシカルボニル、4−t−ブチルフェノキ
シカルボニル、キシリルオキシカルボニル、メシチルオ
キシカルボニル、クロメニルオキシカルボニルなど]な
どが挙げられる; (2),アミド化されたカルボキシ、その具体例として
は、カルバモイル;N−低級アルキルカルバモイル(た
とえばN−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイ
ル、N−イソプロピルカルバモイル、N−ブチルカルバ
モイル、N−ペンチルカルバモイル、N−ヘキシルカル
バモイルなど);N−(カルボキシもしくはエステル化
されたカルボキシを有していても良い低級アルキル)カ
ルバモイル[例えばN−(カルボキシもしくはエステル
化されたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)
カルバモイルにおけるエステル化されたカルボキシ部分
としては、メトキシカルボニルなど上述のエステル化さ
れたカルボキシが挙げられる。また、N−(カルボキシ
もしくはエステル化されたカルボキシを有していてもよ
い低級アルキル)カルバモイルにおけるN−低級アルキ
ルカルバモイル部分の具体例としては、例えばN−メチ
ルカルバモイルなど上述のN−低級アルキルカルバモイ
ルが挙げられる。];N−高級アルキルカルバモイル、
[たとえばN−ヘプチルカルバモイル、N−(2−メチ
ルヘプチル)カルバモイル、N−ノニルカルバモイル、
N−デカニルカルバモイル、N−トリシクロ[3.3.
1.1.3,7,]デカニルカルバモイル、N−ウンデ
カニルカルバモイル、N−(ビシクロ[4.3.2.]
ウンデカニル)カルバモイル、N−ドデカニルカルバモ
イル、N−トリデカニルカルバモイル、N−テトラデカ
ニルカルバモイル、N−ペンタデカニルカルバモイル、
N−ヘキサデカニルカルバモイル、N−ヘプタデカニル
カルバモイル、N−オクタデカニルカルバモイル、N−
ノナデカニルカルバモイル、N−イコサニルカルバモイ
ルなど);N,N−ジ(低級)アルキルカルバモイル
[たとえばN,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジ
エチルカルバモイル、N−メチル−N−エチルカルバモ
イル、N,N−ジプロピルカルバモイル、N,N−ジ
(t−ブチル)カルバモイル、N−ペンチル−N−ヘキ
シルカルバモイルなど];N−低級アルキル−N−アル
(低級)アルキルカルバモイル(たとえばN−メチル−
N−ベンジルカルバモイルなど);N−カルボキシ(低
級)アルキルカルバモイル[たとえばN−カルボキシメ
チルカルバモイル、N−(2−カルボキシエチル)カル
バモイル、N−(2−カルボキシプロピル)カルバモイ
ル、N−(3−カルボキシプロピル)カルバモイル、N
−(1−カルボキシメチルエチル)カルバモイル、N−
(4−カルボキシブチル)カルバモイル、N−(2−カ
ルボキシメチル−2−メチルエチル)カルバモイル、N
−(5−カルボキシペンチル)カルバモイル、N−(3
−カルボキシヘキシル)カルバモイルなど];N−保護
されたカルボキシ(低級)アルキルカルバモイル、好ま
しくはN−エステル化されたカルボキシ(低級)アルキ
ルカルバモイル、より好ましくは、N−低級アルコキシ
カルボキシ(低級)アルキルカルバモイル,[たとえば
N−(メトキシカルボニルメチル)カルバモイル、N−
(エトキシカルボニルメチル)カルバモイル、N−(2
−エトキシカルボニルエチル)カルバモイル、N−(2
−t−ブトキシカルボニルエチル)カルバモイル、N−
(3−メトキシカルボニルプロピル)カルバモイル、N
−(1−プロポキシカルボニルプロピル)カルバモイ
ル、N−(1−イソプロポキシカルボニルメチルエチ
ル)カルバモイル、N−(ブトキシカルボニルメチル)
カルバモイル、N−(t−ブトキシカルボニルメチル)
カルバモイル、N−(4−イソブトキシカルボニルブチ
ル)カルバモイル、N−(2−t−ブトキシカルボニル
−2−メチルエチル)カルバモイル、N−(3−ペンチ
ルオキシカルボニルペンチル)カルバモイル、N−(6
−ヘキシルオキシカルボニルヘキシル)カルバモイル、
N−[(1−シクロプロピルエトキシ)カルボニルメチ
ル]カルバモイルなど];N−低級アルキル−N−カル
ボキシ(低級)アルキルカルバモイル[たとえばN−メ
チル−N−(カルボキシメチル)カルバモイル、N−メ
チル−N−(2−カルボキシエチル)カルバモイル、N
−エチル−N−(2−カルボキシプロピル)カルバモイ
ル、N−プロピル−N−(3−カルボキシプロピル)カ
ルバモイル、N−イソプロピル−N−(1−カルボキシ
メチルエチル)カルバモイル、N−ブチル−N−(4−
カルボキシブチル)カルバモイル、N−t−ブチル−N
−(2−カルボキシメチル−2−メチルエチル)カルバ
モイル、N−ペンチル−N−(5−カルボキシペンチ
ル)カルバモイル、N−ヘキシル−N−(3−カルボキ
シヘキシル)カルバモイルなど];N−低級アルキル−
N−保護されたカルボキシ(低級)アルキルカルバモイ
ル、好ましくはN−低級アルキル−N−エステル化され
たカルボキシ(低級)アルキルカルバモイル、より好ま
しくはN−低級アルキル−N−低級アルコキシカルボニ
ル(低級)アルキルカルバモイル[たとえばN−メチル
−N−(メトキシカルボニルメチル)カルバモイル、N
−メチル−N−(エトキシカルボニルメチル)カルバモ
イル、N−メチル−N−(2−エトキシカルボニルエチ
ル)カルバモイル、N−エチル−N−(2−t−ブトキ
シカルボニルエチル)カルバモイル、N−プロピル−N
−(3−メトキシカルボニルプロピル)カルバモイル、
N−イソプロピル−N−(1−プロポキシカルボニルプ
ロピル)カルバモイル、N−プロピル−N−(1−イソ
プロポキシカルボニルメチルエチル)カルバモイル、N
−ブチル−N−(ブトキシカルボニルメチル)カルバモ
イル、N−イソブチル−N−(t−ブトキシカルボニル
メチル)カルバモイル、N−ブチル−N−(4−イソブ
トキシカルボニルブチル)カルバモイル、N−メチル−
N−(2−t−ブトキシカルボニルメチル−2−メチル
エチル)カルバモイル、N−ペンチル−N−(3−ペン
チルオキシカルボニルペンチル)カルバモイル、N−ヘ
キシル−N−(6−ヘキシルオキシカルボニルヘキシ
ル)カルバモイル、N−エチル−N−[(1−シクロプ
ロピルエトキシ)カルボニルメチル]カルバモイルな
ど;N−ヒドロキシ(低級)アルキルカルバモイル[た
とえばN−ヒドロキシメチルカルバモイル、N−(2−
ヒドロキシエチル)カルバモイル、N−(1−ヒドロキ
シエチル)カルバモイル、N−(3−ヒドロキシプロピ
ル)カルバモイル、N−(1−ヒドロキシブチル)カル
バモイル、N−(2−ヒドロキシメチル−2−メチルエ
チル)カルバモイル、N−(5−ヒドロキシペンチル)
カルバモイル、N−(3−ヒドロキシヘキシル)カルバ
モイルなど];式 (ここに、式 の基は、1個以上の適当な置換基を有してもよいN−含
有複素環基であり、このN−含有複素環基は、その環中
にN、OまたはSなどの他のヘテロ原子を含有していて
もよい)などが挙げられる。
【0024】好適な前記「N−含有複素環基」として
は、1〜4個の窒素原子を含有する不飽和3〜8員(よ
り好ましくは、5〜7員)複素単環基、たとえばアゼピ
ニル(たとえば1H−アゼピニルなど)、ピロリル、ピ
ロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルとその
N−オキシド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、トリアゾリル(たとえば4H−
1,2,4−トリアゾリル、1H−1,2,3−トリア
ゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリルなど)、テト
ラゾリル(たとえば1H−テトラゾリル、2H−テトラ
ゾリルなど)など;1〜4個の窒素原子を含有する飽和
3〜8員(より好ましくは5〜7員)複素単環基、たと
えばアゼチジニル、ペルヒドロアゼピニル(たとえばペ
ルヒドロ−1H−アゼピニルなど)、ピロリジニル、イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど;1〜
4個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベン
ズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリ
ル、ベンゾトリアゾリルなど;1〜4個の窒素原子を含
有する飽和縮合複素環基、たとえば7−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプチル、3−アザビシクロ[3.2.
2]ノナニルなど;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒
素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5
または6員)複素単環基、たとえばジヒドロオキサジニ
ル(たとえば5,6−ジヒドロ−4H−ジヒドロ−1,
3−オキサジニルなど)、オキサゾリル、イソキサゾリ
ル、オキサジアゾリル(たとえば1,2,4−オキサジ
アゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5
−オキサジアゾリルなど)など;1〜2個の酸素原子と
1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(より好
ましくは5または6員)複素単環基、たとえばモルホリ
ニル、シドノニルなど;,1〜2個の酸素原子と1〜3
個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリルなど;
1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する
不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単
環基、たとえばチアゾリル、イソチアゾリル、チアジア
ゾリル(たとえば1,2,3−チアジアゾリル、1,
2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリ
ル、1,2,5−チアジアゾリルなど)、ジヒドロチア
ジニルなど;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子
とを含有する飽和3〜8員(より好ましくは5または6
員)複素単環基、たとえばチアゾリジニル、チオモルホ
リニルなど;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子
とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチア
ゾリル、ベンゾチアジアゾリルなどの飽和または不飽和
の、単環または多環の複素環基が挙げられ、なかでも好
ましいのは、1〜4個の窒素原子を含有する飽和3〜8
員複素単環基、1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原
子とを含有する飽和3〜8員複素単環基および1〜2個
の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜
8員複素単環基である。
は、1〜4個の窒素原子を含有する不飽和3〜8員(よ
り好ましくは、5〜7員)複素単環基、たとえばアゼピ
ニル(たとえば1H−アゼピニルなど)、ピロリル、ピ
ロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルとその
N−オキシド、ジヒドロピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニル、トリアゾリル(たとえば4H−
1,2,4−トリアゾリル、1H−1,2,3−トリア
ゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリルなど)、テト
ラゾリル(たとえば1H−テトラゾリル、2H−テトラ
ゾリルなど)など;1〜4個の窒素原子を含有する飽和
3〜8員(より好ましくは5〜7員)複素単環基、たと
えばアゼチジニル、ペルヒドロアゼピニル(たとえばペ
ルヒドロ−1H−アゼピニルなど)、ピロリジニル、イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど;1〜
4個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベン
ズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリ
ル、ベンゾトリアゾリルなど;1〜4個の窒素原子を含
有する飽和縮合複素環基、たとえば7−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプチル、3−アザビシクロ[3.2.
2]ノナニルなど;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒
素原子とを含有する不飽和3〜8員(より好ましくは5
または6員)複素単環基、たとえばジヒドロオキサジニ
ル(たとえば5,6−ジヒドロ−4H−ジヒドロ−1,
3−オキサジニルなど)、オキサゾリル、イソキサゾリ
ル、オキサジアゾリル(たとえば1,2,4−オキサジ
アゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5
−オキサジアゾリルなど)など;1〜2個の酸素原子と
1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜8員(より好
ましくは5または6員)複素単環基、たとえばモルホリ
ニル、シドノニルなど;,1〜2個の酸素原子と1〜3
個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえ
ばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリルなど;
1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する
不飽和3〜8員(より好ましくは5または6員)複素単
環基、たとえばチアゾリル、イソチアゾリル、チアジア
ゾリル(たとえば1,2,3−チアジアゾリル、1,
2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリ
ル、1,2,5−チアジアゾリルなど)、ジヒドロチア
ジニルなど;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子
とを含有する飽和3〜8員(より好ましくは5または6
員)複素単環基、たとえばチアゾリジニル、チオモルホ
リニルなど;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子
とを含有する不飽和縮合複素環基、たとえばベンゾチア
ゾリル、ベンゾチアジアゾリルなどの飽和または不飽和
の、単環または多環の複素環基が挙げられ、なかでも好
ましいのは、1〜4個の窒素原子を含有する飽和3〜8
員複素単環基、1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原
子とを含有する飽和3〜8員複素単環基および1〜2個
の硫黄原子と1〜3個の窒素原子とを含有する飽和3〜
8員複素単環基である。
【0025】このように定義される「N−含有複素環
基」は、ヒドロキシ、オキソ、上述の低級アルキル;ヒ
ドロキシ(低級)アルキル(たとえばヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチル、3
−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシブチル、1−メ
チル−1−ヒドロキシメチルエチル、4−ヒドロキシペ
ンチル、3−ヒドロキシヘキシルなど);低級アルコキ
シ(低級)アルキル(たとえばメトキシエチル、2−メ
トキシエチル、1−エトキシエチル、3−プロポキシプ
ロピル、2−(t−ブトキシ)ブチル、5−ペンチルオ
キシペンチル、3−ヘキシルオキシヘキシルなど);ア
シルオキシ(低級)アルキル、たとえば低級アルカノイ
ルオキシ(低級)アルキル(たとえばアセトキシメチ
ル、1−アセトキシエチル、2−アセトキシエチル、2
−プロピオニルオキシエチル、3−プロピオニルオキシ
プロピル、2−ブチリルオキシブチル、4−ピバロイル
オキシペンチル、6−ヘキサノイルオキシヘキシルな
ど)など;保護されたカルボキシ、たとえば上述の低級
アルコキシカルボニル、;カルボキシ;カルボキシ(低
級)アルキル;保護されたカルボキシ(低級)アルキ
ル;アル低級アルキル、たとえばフェニル(低級)アル
キル(たとえばベンジル、フェネチルなど)、ジフェニ
ル(低級)アルキル(たとえばベンズヒドリルなど)、
トリフェニル(低級)アルキル(たとえばトリチルな
ど);低級アルキルアミノ(たとえばメチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、t−ブチ
ルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノなど);ア
シル、たとえば前述の低級アルカノイル;などの適当な
置換基を1個以上(好ましくは1〜3個)有してもよ
い。
基」は、ヒドロキシ、オキソ、上述の低級アルキル;ヒ
ドロキシ(低級)アルキル(たとえばヒドロキシメチ
ル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチル、3
−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシブチル、1−メ
チル−1−ヒドロキシメチルエチル、4−ヒドロキシペ
ンチル、3−ヒドロキシヘキシルなど);低級アルコキ
シ(低級)アルキル(たとえばメトキシエチル、2−メ
トキシエチル、1−エトキシエチル、3−プロポキシプ
ロピル、2−(t−ブトキシ)ブチル、5−ペンチルオ
キシペンチル、3−ヘキシルオキシヘキシルなど);ア
シルオキシ(低級)アルキル、たとえば低級アルカノイ
ルオキシ(低級)アルキル(たとえばアセトキシメチ
ル、1−アセトキシエチル、2−アセトキシエチル、2
−プロピオニルオキシエチル、3−プロピオニルオキシ
プロピル、2−ブチリルオキシブチル、4−ピバロイル
オキシペンチル、6−ヘキサノイルオキシヘキシルな
ど)など;保護されたカルボキシ、たとえば上述の低級
アルコキシカルボニル、;カルボキシ;カルボキシ(低
級)アルキル;保護されたカルボキシ(低級)アルキ
ル;アル低級アルキル、たとえばフェニル(低級)アル
キル(たとえばベンジル、フェネチルなど)、ジフェニ
ル(低級)アルキル(たとえばベンズヒドリルなど)、
トリフェニル(低級)アルキル(たとえばトリチルな
ど);低級アルキルアミノ(たとえばメチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、t−ブチ
ルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノなど);ア
シル、たとえば前述の低級アルカノイル;などの適当な
置換基を1個以上(好ましくは1〜3個)有してもよ
い。
【0026】好適な「アリール」としては、好適な「ア
リール」としては、フェニル、ナフチル、ジヒドロナフ
チル(たとえば,1,2−ジヒドロナフチル、,1,4
−ジヒドロナフチル,など)、テトラヒドロナフチル
(たとえば,1,2,3,4−テトラヒドロナフチルな
ど)、インデニル、アントリルなどが挙げられ、,それ
らのうちでも好ましいのは(C6〜C10)アリールであ
り、より好ましいのはフェニルである。
リール」としては、フェニル、ナフチル、ジヒドロナフ
チル(たとえば,1,2−ジヒドロナフチル、,1,4
−ジヒドロナフチル,など)、テトラヒドロナフチル
(たとえば,1,2,3,4−テトラヒドロナフチルな
ど)、インデニル、アントリルなどが挙げられ、,それ
らのうちでも好ましいのは(C6〜C10)アリールであ
り、より好ましいのはフェニルである。
【0027】該「アリール」は、カルボキシ、保護され
たカルボキシ、シアノ、フェニル、低級アルコキシ(た
とえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、t
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなど)、
フェニルなどからなる群から選ばれた1個以上(好まし
くは1〜3個)の適当な置換基を有していてもよく、そ
れらの置換基のうちで好ましいのは、カルボキシ、低級
アルコキシカルボニル、シアノ、(C1〜C4)アルコキ
シ、フェニルであり、より好ましいのは、カルボキシ、
メトキシカルボニル、シアノ、メトキシ、フェニルであ
る。
たカルボキシ、シアノ、フェニル、低級アルコキシ(た
とえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、t
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなど)、
フェニルなどからなる群から選ばれた1個以上(好まし
くは1〜3個)の適当な置換基を有していてもよく、そ
れらの置換基のうちで好ましいのは、カルボキシ、低級
アルコキシカルボニル、シアノ、(C1〜C4)アルコキ
シ、フェニルであり、より好ましいのは、カルボキシ、
メトキシカルボニル、シアノ、メトキシ、フェニルであ
る。
【0028】好適な複素環基としては、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を少なくとも1個有
する飽和または不飽和の単環式または多環式複素環基が
挙げられる。特に好ましい複素環基としては、前記のN
−含有複素環基が挙げられ、より好ましいのはピリジル
である。
原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を少なくとも1個有
する飽和または不飽和の単環式または多環式複素環基が
挙げられる。特に好ましい複素環基としては、前記のN
−含有複素環基が挙げられ、より好ましいのはピリジル
である。
【0029】「低級アルカノイル(低級)アルキル
基」、「シクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「シクロ(高級)アルキル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換
基を有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「適当な置換基を有していても
よい保護されたカルボキシ(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「適当な置換基を有していてもよい
アリール(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「複素環(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「N−(適当な置換基を有していてもよい低級アルキ
ル)カルバモイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ
(低級)アルキル−カルバモイルメチル基」、「適当な
置換基を有していてもよいピロリジニル(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル基」、「モルホリニル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換基を
有していてもよいピペラジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「チオモルホリニル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイ
ミノを1から3個有していてもよいカルボキシ(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシ
イミノを1から3個有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「カ
ルボキシ、保護されたカルボキシ、シアノ、低級アルコ
キシ、もしくは、フェニルを1から3個有していてもよ
いフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「ピリジル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基」、「N−(カルボキシ、保護されたカルボキシ、
もしくは、フェニルを1から3個有していてもよい低級
アルキル)カルバモイル(低級)アルキル基」、「ヒド
ロキシもしくはオキソを1から3個有していてもよいピ
ロリジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ(低級)アルキルもしくは保護され
たカルボキシ(低級)アルキルを有していてもよいピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル基」、「低級アルキ
ル基を1から3個有していてもよいピペラジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコ
キシイミノを有していてもよいカルボキシ(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイミ
ノを有していてもよいエステル化されたカルボキシ(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「アミド化さ
れたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ、エステル化されたカルボキシ、シ
アノ、低級アルコキシもしくは、フェニルを1から3個
有していてもよいフェニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「N−(カルボキシ、エステル化さ
れたカルボキシ、もしくは、フェニルを1から3個有し
ていてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)アル
キル基」、「ヒドロキシもしくはオキソを有していても
よいピロリジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基」、「カルボキシ(低級)アルキルもしくはエステ
ル化されたカルボキシ(低級)アルキルを有していても
よいピペリジル(低級)アルカノイルメチル基」、「低
級アルキル基を有していてもよいピペラジニル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「カルバモイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「N−
(カルボキシもしくはエステル化されたカルボキシを有
していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ(低
級)アルキルカルバモイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ピペリジル(低級)アルカノイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」および「ヒ
ドロキシを有していてもよいアゼチジニル(低級)アル
カノイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」
「保護されたカルボキシを有し、適当な置換基を有して
いてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、
「保護されたカルボキシを有するアリール(低級)アル
カノイル(低級)アルキル」、「保護されたカルボキシ
を有する低級アルキルカルバモイル(低級)アルキ
ル」、「保護されたカルボキシを有する低級アルキルカ
ルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、
「保護されたカルボキシを有する(低級)アルキルピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル」、「カルボキシを
有し、適当な置換基を有していてもよい(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル」、「カルボキシを有するアリ
ール(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カル
ボキシを有する低級アルキルカルバモイル(低級)アル
キル」、「カルボキシを有する低級アルキルカルバモイ
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「カル
ボキシを有する(低級)アルキルピペリジル(低級)ア
ルカノイルメチル」、「カルボキシ(低級)アルキ
ル」、「低級アルカノイル(低級)アルキル」、「カル
ボキシを有する(低級)アルキル」、「カルボキシを有
する(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「N−
(適当な置換基を有していてもよい低級アルキル)カル
バモイル(低級)アルキル」、「N、N−ジ(低級)ア
ルキル−カルバモイルメチル」、「適当な置換基を有し
ていてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル」、「モルホリニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル」、「適当な置換基を有していてもよ
いピペラジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」、「チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル」、「カルバモイル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「N−(カルボキシもしくはエ
ステル化されたカルボキシを有していてもよい低級アル
キル)カルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基」、「N,N−ジ(低級)アルキルカルバモイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ピペリ
ジル(低級)アルカノイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ヒドロキシを有していてもよいア
ゼチジニル(低級)アルカノイル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「ヒドロキシを有するピロリジ
ニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「オキ
ソを有するピロリジニル(低級)アルカノイル(低級)
アルキル」、「カルボキシあるいは保護されたカルボキ
シを有する(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、
「シアノ基を有するフェニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル」、「(低級)アルカノイル(低級)アル
キル」、「カルボキシを有するフェニル(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル」における好適な低級アルキル
部分および(低級)アルキル部分としては、先に例示し
たものを挙げることができる。
基」、「シクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「シクロ(高級)アルキル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換
基を有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「適当な置換基を有していても
よい保護されたカルボキシ(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「適当な置換基を有していてもよい
アリール(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「複素環(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「N−(適当な置換基を有していてもよい低級アルキ
ル)カルバモイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ
(低級)アルキル−カルバモイルメチル基」、「適当な
置換基を有していてもよいピロリジニル(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル基」、「モルホリニル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換基を
有していてもよいピペラジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「チオモルホリニル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイ
ミノを1から3個有していてもよいカルボキシ(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシ
イミノを1から3個有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「カ
ルボキシ、保護されたカルボキシ、シアノ、低級アルコ
キシ、もしくは、フェニルを1から3個有していてもよ
いフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「ピリジル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基」、「N−(カルボキシ、保護されたカルボキシ、
もしくは、フェニルを1から3個有していてもよい低級
アルキル)カルバモイル(低級)アルキル基」、「ヒド
ロキシもしくはオキソを1から3個有していてもよいピ
ロリジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ(低級)アルキルもしくは保護され
たカルボキシ(低級)アルキルを有していてもよいピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル基」、「低級アルキ
ル基を1から3個有していてもよいピペラジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコ
キシイミノを有していてもよいカルボキシ(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイミ
ノを有していてもよいエステル化されたカルボキシ(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「アミド化さ
れたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ、エステル化されたカルボキシ、シ
アノ、低級アルコキシもしくは、フェニルを1から3個
有していてもよいフェニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「N−(カルボキシ、エステル化さ
れたカルボキシ、もしくは、フェニルを1から3個有し
ていてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)アル
キル基」、「ヒドロキシもしくはオキソを有していても
よいピロリジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基」、「カルボキシ(低級)アルキルもしくはエステ
ル化されたカルボキシ(低級)アルキルを有していても
よいピペリジル(低級)アルカノイルメチル基」、「低
級アルキル基を有していてもよいピペラジニル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「カルバモイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「N−
(カルボキシもしくはエステル化されたカルボキシを有
していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ(低
級)アルキルカルバモイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ピペリジル(低級)アルカノイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」および「ヒ
ドロキシを有していてもよいアゼチジニル(低級)アル
カノイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」
「保護されたカルボキシを有し、適当な置換基を有して
いてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、
「保護されたカルボキシを有するアリール(低級)アル
カノイル(低級)アルキル」、「保護されたカルボキシ
を有する低級アルキルカルバモイル(低級)アルキ
ル」、「保護されたカルボキシを有する低級アルキルカ
ルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、
「保護されたカルボキシを有する(低級)アルキルピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル」、「カルボキシを
有し、適当な置換基を有していてもよい(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル」、「カルボキシを有するアリ
ール(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カル
ボキシを有する低級アルキルカルバモイル(低級)アル
キル」、「カルボキシを有する低級アルキルカルバモイ
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「カル
ボキシを有する(低級)アルキルピペリジル(低級)ア
ルカノイルメチル」、「カルボキシ(低級)アルキ
ル」、「低級アルカノイル(低級)アルキル」、「カル
ボキシを有する(低級)アルキル」、「カルボキシを有
する(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「N−
(適当な置換基を有していてもよい低級アルキル)カル
バモイル(低級)アルキル」、「N、N−ジ(低級)ア
ルキル−カルバモイルメチル」、「適当な置換基を有し
ていてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル」、「モルホリニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル」、「適当な置換基を有していてもよ
いピペラジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」、「チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル」、「カルバモイル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「N−(カルボキシもしくはエ
ステル化されたカルボキシを有していてもよい低級アル
キル)カルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基」、「N,N−ジ(低級)アルキルカルバモイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ピペリ
ジル(低級)アルカノイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ヒドロキシを有していてもよいア
ゼチジニル(低級)アルカノイル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「ヒドロキシを有するピロリジ
ニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「オキ
ソを有するピロリジニル(低級)アルカノイル(低級)
アルキル」、「カルボキシあるいは保護されたカルボキ
シを有する(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、
「シアノ基を有するフェニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル」、「(低級)アルカノイル(低級)アル
キル」、「カルボキシを有するフェニル(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル」における好適な低級アルキル
部分および(低級)アルキル部分としては、先に例示し
たものを挙げることができる。
【0030】「低級アルカノイル(低級)アルキル
基」、「シクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「シクロ(高級)アルキル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換
基を有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「適当な置換基を有していても
よい保護されたカルボキシ(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「適当な置換基を有していてもよい
アリール(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「複素環(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「適当な置換基を有していてもよいピロリジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換
基を有していてもよいピペリジル(低級)アルカノイル
メチル基」、「モルホリニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「適当な置換基を有していてもよい
ピペラジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「低級アルコキシイミノを1から3
個有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイミノを1か
ら3個有していてもよい保護されたカルボキシ(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「カルボキシ、保
護されたカルボキシ、シアノ、低級アルコキシ、もしく
は、フェニルを1から3個有していてもよいフェニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ピリジ
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ヒド
ロキシもしくはオキソを1から3個有していてもよいピ
ロリジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ(低級)アルキルもしくは保護され
たカルボキシ(低級)アルキルを有していてもよいピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル基」、「低級アルキ
ル基を1から3個有していてもよいピペラジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコ
キシイミノを有していてもよいカルボキシ(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイミ
ノを有していてもよいエステル化されたカルボキシ(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「アミド化さ
れたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ、エステル化されたカルボキシ、シ
アノ、低級アルコキシもしくは、フェニルを1から3個
有していてもよいフェニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ヒドロキシもしくはオキソを有し
ていてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「カルボキシ(低級)アルキルもし
くはエステル化されたカルボキシ(低級)アルキルを有
していてもよいピペリジル(低級)アルカノイルメチル
基」、「低級アルキル基を有していてもよいピペラジニ
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「カル
バモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「N−(カルボキシもしくはエステル化されたカルボキ
シを有していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ
(低級)アルキルカルバモイル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「ピペリジル(低級)アルカノ
イル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」および
「ヒドロキシを有していてもよいアゼチジニル(低級)
アルカノイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」「保護されたカルボキシを有し、適当な置換基を有
していてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」、「保護されたカルボキシを有するアリール(低
級)アルカノイル(低級)アルキル」、「保護されたカ
ルボキシを有する低級アルキルカルバモイル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル」、「保護されたカルボキ
シを有する(低級)アルキルピペリジル(低級)アルカ
ノイルメチル」、「カルボキシを有し、適当な置換基を
有していてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」、「カルボキシを有するアリール(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル」、「カルボキシを有する低級ア
ルキルカルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基」、「カルボキシを有する(低級)アルキルピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル」、「低級アルカノ
イル(低級)アルキル」、「カルボキシを有する(低
級)アルカノイル(低級)アルキル」、「適当な置換基
を有していてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル」、「適当な置換基を有していてもよ
いピペリジル(低級)アルカノイルメチル」、「モルホ
リニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「適
当な置換基を有していてもよいピペラジニル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル」、「チオモルホリニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カルバモ
イル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「N
−(カルボキシもしくはエステル化されたカルボキシを
有していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ(低
級)アルキルカルバモイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ピペリジル(低級)アルカノイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ヒドロ
キシを有していてもよいアゼチジニル(低級)アルカノ
イル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ヒ
ドロキシを有するピロリジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル」、「オキソを有するピロリジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カルボキ
シあるいは保護されたカルボキシを有する(低級)アル
カノイル(低級)アルキル」、「シアノ基を有するフェ
ニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「(低
級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カルボキシを
有するフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」における好適な低級アルカノイル部分および(低
級)アルカノイル部分としては、先に例示したものを挙
げることができる。
基」、「シクロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「シクロ(高級)アルキル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換
基を有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「適当な置換基を有していても
よい保護されたカルボキシ(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「適当な置換基を有していてもよい
アリール(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「複素環(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「適当な置換基を有していてもよいピロリジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「適当な置換
基を有していてもよいピペリジル(低級)アルカノイル
メチル基」、「モルホリニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「適当な置換基を有していてもよい
ピペラジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「低級アルコキシイミノを1から3
個有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイミノを1か
ら3個有していてもよい保護されたカルボキシ(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「カルボキシ、保
護されたカルボキシ、シアノ、低級アルコキシ、もしく
は、フェニルを1から3個有していてもよいフェニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ピリジ
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ヒド
ロキシもしくはオキソを1から3個有していてもよいピ
ロリジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ(低級)アルキルもしくは保護され
たカルボキシ(低級)アルキルを有していてもよいピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル基」、「低級アルキ
ル基を1から3個有していてもよいピペラジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコ
キシイミノを有していてもよいカルボキシ(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基」、「低級アルコキシイミ
ノを有していてもよいエステル化されたカルボキシ(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「アミド化さ
れたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」、「カルボキシ、エステル化されたカルボキシ、シ
アノ、低級アルコキシもしくは、フェニルを1から3個
有していてもよいフェニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ヒドロキシもしくはオキソを有し
ていてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「カルボキシ(低級)アルキルもし
くはエステル化されたカルボキシ(低級)アルキルを有
していてもよいピペリジル(低級)アルカノイルメチル
基」、「低級アルキル基を有していてもよいピペラジニ
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「カル
バモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、
「N−(カルボキシもしくはエステル化されたカルボキ
シを有していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ
(低級)アルキルカルバモイル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基」、「ピペリジル(低級)アルカノ
イル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」および
「ヒドロキシを有していてもよいアゼチジニル(低級)
アルカノイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」「保護されたカルボキシを有し、適当な置換基を有
していてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」、「保護されたカルボキシを有するアリール(低
級)アルカノイル(低級)アルキル」、「保護されたカ
ルボキシを有する低級アルキルカルバモイル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル」、「保護されたカルボキ
シを有する(低級)アルキルピペリジル(低級)アルカ
ノイルメチル」、「カルボキシを有し、適当な置換基を
有していてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」、「カルボキシを有するアリール(低級)アルカノ
イル(低級)アルキル」、「カルボキシを有する低級ア
ルキルカルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基」、「カルボキシを有する(低級)アルキルピペ
リジル(低級)アルカノイルメチル」、「低級アルカノ
イル(低級)アルキル」、「カルボキシを有する(低
級)アルカノイル(低級)アルキル」、「適当な置換基
を有していてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル」、「適当な置換基を有していてもよ
いピペリジル(低級)アルカノイルメチル」、「モルホ
リニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「適
当な置換基を有していてもよいピペラジニル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル」、「チオモルホリニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カルバモ
イル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「N
−(カルボキシもしくはエステル化されたカルボキシを
有していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基」、「N,N−ジ(低
級)アルキルカルバモイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基」、「ピペリジル(低級)アルカノイル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ヒドロ
キシを有していてもよいアゼチジニル(低級)アルカノ
イル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」、「ヒ
ドロキシを有するピロリジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル」、「オキソを有するピロリジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カルボキ
シあるいは保護されたカルボキシを有する(低級)アル
カノイル(低級)アルキル」、「シアノ基を有するフェ
ニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」、「(低
級)アルカノイル(低級)アルキル」、「カルボキシを
有するフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」における好適な低級アルカノイル部分および(低
級)アルカノイル部分としては、先に例示したものを挙
げることができる。
【0031】「シクロ(低級)アルキル(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル基」における好適なシクロ(低
級)アルキル部分としては、先に例示したものを挙げる
ことができる。
ノイル(低級)アルキル基」における好適なシクロ(低
級)アルキル部分としては、先に例示したものを挙げる
ことができる。
【0032】「シクロ(高級)アルキル(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル基」における好適なシクロ(高
級)アルキル部分としては、先に例示したものを挙げる
ことができる。
ノイル(低級)アルキル基」における好適なシクロ(高
級)アルキル部分としては、先に例示したものを挙げる
ことができる。
【0033】「適当な置換基を有していてもよいカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」および
「適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボキ
シ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」における
好適な置換基としては、低級アルコキシイミノが挙げら
れ、より好ましくはエトキシイミノであり、これらの置
換基を1〜3個有していてよい。
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」および
「適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボキ
シ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」における
好適な置換基としては、低級アルコキシイミノが挙げら
れ、より好ましくはエトキシイミノであり、これらの置
換基を1〜3個有していてよい。
【0034】「適当な置換基を有していてもよい保護さ
れたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」における保護されたカルボキシとしては、先に例示
したものを挙げることができ、好ましくは、低級アルコ
キシカルボニル、アル(低級)アルコキシカルボニル、
カルバモイルであり、より好ましくは、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、カルバモイルである。
れたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基」における保護されたカルボキシとしては、先に例示
したものを挙げることができ、好ましくは、低級アルコ
キシカルボニル、アル(低級)アルコキシカルボニル、
カルバモイルであり、より好ましくは、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、カルバモイルである。
【0035】「適当な置換基を有していてもよいアリー
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」における
好適なアリール部分としては、先に例示したものを挙げ
ることができる。
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」における
好適なアリール部分としては、先に例示したものを挙げ
ることができる。
【0036】「適当な置換基を有していてもよいアリー
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」における
好適な置換基としては、カルボキシ、保護されたカルボ
キシ、シアノ、低級アルコキシ、フェニルが挙げられ、
より好ましくはカルボキシ、メトキシカルボニル、シア
ノ、メトキシ、フェニルであり、これらの置換基を1〜
3個有していてよい。また上記好適な置換基のうち、好
適な保護されたカルボキシとしては先に例示したものを
挙げることができる。
ル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」における
好適な置換基としては、カルボキシ、保護されたカルボ
キシ、シアノ、低級アルコキシ、フェニルが挙げられ、
より好ましくはカルボキシ、メトキシカルボニル、シア
ノ、メトキシ、フェニルであり、これらの置換基を1〜
3個有していてよい。また上記好適な置換基のうち、好
適な保護されたカルボキシとしては先に例示したものを
挙げることができる。
【0037】「複素環(低級)アルカノイル(低級)ア
ルキル基」における好適な複素環部分としては、、先に
例示したものを挙げることができる。
ルキル基」における好適な複素環部分としては、、先に
例示したものを挙げることができる。
【0038】「N−(適当な置換基を有していてもよい
低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル基」にお
ける好適な置換基としては、カルボキシ、保護されたカ
ルボキシ、フェニルが挙げられ、より好ましくはカルボ
キシ、メトキシカルボニル、フェニルであり、これらの
置換基を1〜3個有していてよい。また上記置換基のう
ち、好適な保護されたカルボキシとしては先に例示した
ものを挙げることができる。
低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル基」にお
ける好適な置換基としては、カルボキシ、保護されたカ
ルボキシ、フェニルが挙げられ、より好ましくはカルボ
キシ、メトキシカルボニル、フェニルであり、これらの
置換基を1〜3個有していてよい。また上記置換基のう
ち、好適な保護されたカルボキシとしては先に例示した
ものを挙げることができる。
【0039】「適当な置換基を有していてもよいピロリ
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」にお
ける好適な置換基としては、ヒドロキシ、オキソが挙げ
られ、これらの置換基を1〜3個有していてよい。
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」にお
ける好適な置換基としては、ヒドロキシ、オキソが挙げ
られ、これらの置換基を1〜3個有していてよい。
【0040】「適当な置換基を有していてもよいピペリ
ジル(低級)アルカノイルメチル基」における好適な置
換基としては、カルボキシ(低級)アルキル、保護され
たカルボキシ(低級)アルキルが挙げられる。上記好適
な置換基における(低級)アルキル部分および保護され
たカルボキシとしては、先に例示したものを挙げること
ができる。上記好適な置換基のうち、より好ましくはカ
ルボキシメチル、メトキシカルボニルメチルである。
ジル(低級)アルカノイルメチル基」における好適な置
換基としては、カルボキシ(低級)アルキル、保護され
たカルボキシ(低級)アルキルが挙げられる。上記好適
な置換基における(低級)アルキル部分および保護され
たカルボキシとしては、先に例示したものを挙げること
ができる。上記好適な置換基のうち、より好ましくはカ
ルボキシメチル、メトキシカルボニルメチルである。
【0041】「適当な置換基を有していてもよいピペラ
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」にお
ける好適な置換基としては、低級アルキルが挙げられ、
該低級アルキルとして先に例示したものを挙げることが
できる。上記好適な置換基のうち、より好ましくはメチ
ル基である。上記ピペラジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基はこれらの置換基を1〜3個有して
いてよい。
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」にお
ける好適な置換基としては、低級アルキルが挙げられ、
該低級アルキルとして先に例示したものを挙げることが
できる。上記好適な置換基のうち、より好ましくはメチ
ル基である。上記ピペラジニル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基はこれらの置換基を1〜3個有して
いてよい。
【0042】「N−(カルボキシもしくはエステル化さ
れたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)カル
バモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」に
おける好適なエステル化されたカルボキシとしては、先
に例示した保護されたカルボキシ基のうち、エステル化
されたカルボキシが挙げられ、より好ましくは、メトキ
シカルボニルである。
れたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)カル
バモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」に
おける好適なエステル化されたカルボキシとしては、先
に例示した保護されたカルボキシ基のうち、エステル化
されたカルボキシが挙げられ、より好ましくは、メトキ
シカルボニルである。
【0043】「保護されたカルボキシを有し、適当な置
換基を有していてもよい(低級)アルカノイル(低級)
アルキル」における保護されたカルボキシとしては、先
に例示したものを挙げることができ、好ましくは、低級
アルコキシカルボニル、アル(低級)アルコキシカルボ
ニル、カルバモイルであり、より好ましくは、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニル、カルバモイルである。また好適な置換基として
は、低級アルコキシイミノが挙げられ、より好ましくは
エトキシイミノであり、これらの置換基を1〜3個有し
ていてよい。
換基を有していてもよい(低級)アルカノイル(低級)
アルキル」における保護されたカルボキシとしては、先
に例示したものを挙げることができ、好ましくは、低級
アルコキシカルボニル、アル(低級)アルコキシカルボ
ニル、カルバモイルであり、より好ましくは、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニル、カルバモイルである。また好適な置換基として
は、低級アルコキシイミノが挙げられ、より好ましくは
エトキシイミノであり、これらの置換基を1〜3個有し
ていてよい。
【0044】「保護されたカルボキシを有するアリール
(低級)アルカノイル(低級)アルキル」における好適
なアリール部分としては、先に例示したものを挙げるこ
とができる。また、好適な保護されたカルボキシとして
は先に例示したものを挙げることができる。
(低級)アルカノイル(低級)アルキル」における好適
なアリール部分としては、先に例示したものを挙げるこ
とができる。また、好適な保護されたカルボキシとして
は先に例示したものを挙げることができる。
【0045】「保護されたカルボキシを有する低級アル
キルカルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」における好適な保護されたカルボキシとしては先に
例示したものを挙げることができる。
キルカルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル」における好適な保護されたカルボキシとしては先に
例示したものを挙げることができる。
【0046】「保護されたカルボキシを有する(低級)
アルキルピペリジル(低級)アルカノイルメチル」にお
ける好適な保護されたカルボキシとしては先に例示した
ものを挙げることができる。
アルキルピペリジル(低級)アルカノイルメチル」にお
ける好適な保護されたカルボキシとしては先に例示した
ものを挙げることができる。
【0047】「カルボキシを有し、適当な置換基を有し
ていてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキル」
における好適な置換基としては、低級アルコキシイミノ
が挙げられ、より好ましくはエトキシイミノであり、こ
れらの置換基を1〜3個有していてよい。
ていてもよい(低級)アルカノイル(低級)アルキル」
における好適な置換基としては、低級アルコキシイミノ
が挙げられ、より好ましくはエトキシイミノであり、こ
れらの置換基を1〜3個有していてよい。
【0048】「カルボキシを有するアリール(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル」における好適なアリール
部分としては、先に例示したものを挙げることができ
る。
ルカノイル(低級)アルキル」における好適なアリール
部分としては、先に例示したものを挙げることができ
る。
【0049】「N−(適当な置換基を有していてもよい
低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル」におけ
る好適な置換基としては、カルボキシ、保護されたカル
ボキシ、フェニルが挙げられ、より好ましくはカルボキ
シ、メトキシカルボニル、フェニルであり、これらの置
換基を1〜3個有していてよい。また上記置換基のう
ち、好適な保護されたカルボキシとしては先に例示した
ものを挙げることができる。
低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル」におけ
る好適な置換基としては、カルボキシ、保護されたカル
ボキシ、フェニルが挙げられ、より好ましくはカルボキ
シ、メトキシカルボニル、フェニルであり、これらの置
換基を1〜3個有していてよい。また上記置換基のう
ち、好適な保護されたカルボキシとしては先に例示した
ものを挙げることができる。
【0050】「適当な置換基を有していてもよいピロリ
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」におけ
る好適な置換基としては、ヒドロキシ、オキソが挙げら
れ、これらの置換基を1〜3個有していてよい。
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」におけ
る好適な置換基としては、ヒドロキシ、オキソが挙げら
れ、これらの置換基を1〜3個有していてよい。
【0051】「適当な置換基を有していてもよいピペラ
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」におけ
る好適な置換基としては、低級アルキルが挙げられ、該
低級アルキルとして先に例示したものを挙げることがで
きる。上記好適な置換基のうち、より好ましくはメチル
基である。上記ピペラジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基はこれらの置換基を1〜3個有していて
よい。
ジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル」におけ
る好適な置換基としては、低級アルキルが挙げられ、該
低級アルキルとして先に例示したものを挙げることがで
きる。上記好適な置換基のうち、より好ましくはメチル
基である。上記ピペラジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基はこれらの置換基を1〜3個有していて
よい。
【0052】「N−(カルボキシもしくはエステル化さ
れたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)カル
バモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」に
おける好適なエステル化されたカルボキシとしては、先
に例示した保護されたカルボキシ基のうち、エステル化
されたカルボキシが挙げられ、より好ましくは、メトキ
シカルボニルである。
れたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)カル
バモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基」に
おける好適なエステル化されたカルボキシとしては、先
に例示した保護されたカルボキシ基のうち、エステル化
されたカルボキシが挙げられ、より好ましくは、メトキ
シカルボニルである。
【0053】好適な「酸残基」としては、ハロゲン(た
とえばフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード)、アシルオ
キシ、たとえば低級アルカノイルオキシ(たとえばアセ
トキシ、プロピオニルオキシなど)などが挙げられる。
とえばフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード)、アシルオ
キシ、たとえば低級アルカノイルオキシ(たとえばアセ
トキシ、プロピオニルオキシなど)などが挙げられる。
【0054】該ピラゾロピリジン化合物またはその医薬
として許容しうる塩は、アデノシン拮抗剤(とくにA
1,受容体拮抗剤)であり、認識増強作用、鎮痛作用、
自発運動量増加作用、抗うつ作用、利尿作用、心臓保護
作用、強心作用、血管拡張作用(たとえば脳血管拡張作
用など)、腎血流増加作用、腎保護作用、腎機能改善作
用、脂肪分解増進作用、抗喘息作用、インシュリン分泌
促進作用、エリスロポエチン産生増進作用、血小板凝集
抑制作用など、種々の薬理作用を有し、認識増強薬、抗
痴呆薬、精神刺激薬、鎮痛薬、心臓保護薬、抗うつ薬、
脳循環改善薬、トランキライザー、心不全用薬、強心
薬、降圧薬、腎不全用薬、腎毒性治療薬、腎保護薬、腎
機能改善薬、利尿薬、浮腫治療薬、抗肥満薬、抗喘息
薬、気管支拡張薬、無呼吸治療薬、痛風治療薬、高尿酸
血症治療薬、乳幼児突然死症候群(SIDS)治療薬、
アデノシンによる免疫抑制の改善薬、抗糖尿病薬、抗潰
瘍薬、膵炎治療薬、メニエール症候群治療薬、抗貧血
薬;血栓症治療薬、心筋梗塞治療薬、塞栓症治療薬、閉
塞性動脈硬化症治療薬、血栓性静脈炎治療薬、脳梗塞治
療薬、一過性脳虚血治療薬、狭心症治療薬などとして有
用であり、うつ病、痴呆(たとえばアルツハイマー病、
脳血管性痴呆、パーキンソン病など)、不安、疼痛、脳
血管性疾患(たとえば本態性高血圧、腎性高血圧な
ど);たとえば虚血/再潅流障害(たとえば心筋の虚血
/再潅流障害、脳の虚血/再潅流障害、末梢の虚血/再
潅流障害など)、ショック(たとえばエンドトキシンシ
ョック、出血性ショックなど)、外科的処置などに起因
する循環不全(急性循環不全);蘇生後収縮不全;徐脈
性不整脈;電気機械的機能不全,(electro−m
echanical,dissociation);心
血行動態不全,(hemodynamic,colla
pse);SIRS,(systemic,infla
mmatory,response,syndrom
e),;多臓器不全、腎不全、(たとえば急性腎不全な
ど)、腎毒性[たとえば、シスプラチン類、ゲンタミシ
ン、,FR−900506,(EP−0184062,
に,開示されている)、シクロスポリン(たとえばシク
ロスポリンA)など;グリセロールなどの薬剤に起因す
る,腎毒性]、ネフローゼ症候群、腎炎、浮腫(たとえ
ば心性浮腫、腎性浮腫、肝性浮腫、特発性浮腫、薬剤性
浮腫、急性血管神経性浮腫、遺伝性血管神経性浮腫、癌
性腹水、妊娠性浮腫など);肥満症、気管支喘息、痛
風、高尿酸血症、乳幼児突然死症候群、免疫抑制、糖尿
病、消化性潰瘍(たとえば胃潰瘍、十二指腸潰瘍など)
などの潰瘍、膵炎、メニエール症候群、貧血;心筋梗
塞、血栓症(たとえば動脈血栓、脳血栓など)、閉塞栓
症、閉塞性動脈硬化症、血栓性静脈炎、脳梗塞、一過性
虚血性発作、狭心症などの予防および/または治療に有
用である。
として許容しうる塩は、アデノシン拮抗剤(とくにA
1,受容体拮抗剤)であり、認識増強作用、鎮痛作用、
自発運動量増加作用、抗うつ作用、利尿作用、心臓保護
作用、強心作用、血管拡張作用(たとえば脳血管拡張作
用など)、腎血流増加作用、腎保護作用、腎機能改善作
用、脂肪分解増進作用、抗喘息作用、インシュリン分泌
促進作用、エリスロポエチン産生増進作用、血小板凝集
抑制作用など、種々の薬理作用を有し、認識増強薬、抗
痴呆薬、精神刺激薬、鎮痛薬、心臓保護薬、抗うつ薬、
脳循環改善薬、トランキライザー、心不全用薬、強心
薬、降圧薬、腎不全用薬、腎毒性治療薬、腎保護薬、腎
機能改善薬、利尿薬、浮腫治療薬、抗肥満薬、抗喘息
薬、気管支拡張薬、無呼吸治療薬、痛風治療薬、高尿酸
血症治療薬、乳幼児突然死症候群(SIDS)治療薬、
アデノシンによる免疫抑制の改善薬、抗糖尿病薬、抗潰
瘍薬、膵炎治療薬、メニエール症候群治療薬、抗貧血
薬;血栓症治療薬、心筋梗塞治療薬、塞栓症治療薬、閉
塞性動脈硬化症治療薬、血栓性静脈炎治療薬、脳梗塞治
療薬、一過性脳虚血治療薬、狭心症治療薬などとして有
用であり、うつ病、痴呆(たとえばアルツハイマー病、
脳血管性痴呆、パーキンソン病など)、不安、疼痛、脳
血管性疾患(たとえば本態性高血圧、腎性高血圧な
ど);たとえば虚血/再潅流障害(たとえば心筋の虚血
/再潅流障害、脳の虚血/再潅流障害、末梢の虚血/再
潅流障害など)、ショック(たとえばエンドトキシンシ
ョック、出血性ショックなど)、外科的処置などに起因
する循環不全(急性循環不全);蘇生後収縮不全;徐脈
性不整脈;電気機械的機能不全,(electro−m
echanical,dissociation);心
血行動態不全,(hemodynamic,colla
pse);SIRS,(systemic,infla
mmatory,response,syndrom
e),;多臓器不全、腎不全、(たとえば急性腎不全な
ど)、腎毒性[たとえば、シスプラチン類、ゲンタミシ
ン、,FR−900506,(EP−0184062,
に,開示されている)、シクロスポリン(たとえばシク
ロスポリンA)など;グリセロールなどの薬剤に起因す
る,腎毒性]、ネフローゼ症候群、腎炎、浮腫(たとえ
ば心性浮腫、腎性浮腫、肝性浮腫、特発性浮腫、薬剤性
浮腫、急性血管神経性浮腫、遺伝性血管神経性浮腫、癌
性腹水、妊娠性浮腫など);肥満症、気管支喘息、痛
風、高尿酸血症、乳幼児突然死症候群、免疫抑制、糖尿
病、消化性潰瘍(たとえば胃潰瘍、十二指腸潰瘍など)
などの潰瘍、膵炎、メニエール症候群、貧血;心筋梗
塞、血栓症(たとえば動脈血栓、脳血栓など)、閉塞栓
症、閉塞性動脈硬化症、血栓性静脈炎、脳梗塞、一過性
虚血性発作、狭心症などの予防および/または治療に有
用である。
【0055】目的化合物(I)またはその塩の製造法
(方法1〜8)を、以下に詳細に説明する。
(方法1〜8)を、以下に詳細に説明する。
【0056】方法1 化合物(I)またはその塩は、化合物(II)またはそ
の塩を化合物(III)またはその塩と反応させること
により製造できる。
の塩を化合物(III)またはその塩と反応させること
により製造できる。
【0057】化合物(II)の好適な塩としては、化合
物(I)について例示した酸付加塩を挙げることができ
る。
物(I)について例示した酸付加塩を挙げることができ
る。
【0058】化合物(III)の好適な塩としては、化
合物(I)について例示したものを挙げることができ
る。
合物(I)について例示したものを挙げることができ
る。
【0059】本反応は、水、燐酸塩緩衝液、アセトン、
クロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、トル
エン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノー
ル、第二級ブタノール、アミルアルコール、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシドなどの溶媒、その他反応
に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒、好ましくは強い
極性を有する溶媒中で実施できる。これらの溶媒のう
ち、親水性の溶媒は、水との混合物として使用してもよ
い。化合物(III)が液状である場合には、それを溶
媒として使用することもできる。
クロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、トル
エン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノー
ル、第二級ブタノール、アミルアルコール、ジエチルエ
ーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシドなどの溶媒、その他反応
に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒、好ましくは強い
極性を有する溶媒中で実施できる。これらの溶媒のう
ち、親水性の溶媒は、水との混合物として使用してもよ
い。化合物(III)が液状である場合には、それを溶
媒として使用することもできる。
【0060】反応は、塩基、たとえばアルカリ金属水酸
化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸
塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属水素化物など
の無機塩基、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、
トリアルキルアミンなどの有機塩基の存在下で実施する
のが好ましい。
化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸
塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属水素化物など
の無機塩基、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、
トリアルキルアミンなどの有機塩基の存在下で実施する
のが好ましい。
【0061】反応温度はとくに限定されないが、通常
は、外界温度、加温下または加熱下で反応を実施する。
は、外界温度、加温下または加熱下で反応を実施する。
【0062】本反応は、ハロゲン化アルカリ金属[たと
えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなど]、チオシ
アン酸アルカリ金属[たとえばチオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウムなど]などの存在下で実施す
るのが好ましい。
えばヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなど]、チオシ
アン酸アルカリ金属[たとえばチオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウムなど]などの存在下で実施す
るのが好ましい。
【0063】方法2 化合物(Ib)またはその塩は、化合物(Ia)または
その塩をカルボキシ保護基脱離反応に付すことにより製
造できる。
その塩をカルボキシ保護基脱離反応に付すことにより製
造できる。
【0064】化合物(Ia)および(Ib)の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したものを挙げる
ことができる。
としては、化合物(I)について例示したものを挙げる
ことができる。
【0065】この反応は、加水分解・還元等の慣用の方
法に従って行われる。
法に従って行われる。
【0066】加水分解は、塩基または酸(ルイス酸も含
む)の存在下で行うのが好ましい。
む)の存在下で行うのが好ましい。
【0067】好適な塩基としては、例えばアルカリ金属
(例えばナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属
(例えばマグネシウム、カルシウム等)、それらの金属
の水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、アルカリ
金属アルコキサイド(例えばナトリウムメトキサイド、
ナトリウムエトキサイド、カリウムt−ブトキサイド
等)、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属燐酸塩、
アルカリ金属燐酸水素塩(例えば燐酸水素二ナトリウ
ム、燐酸水素二カリウム等)、トリ(低級)アルキルア
ミン(例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン
等)、ピリジンまたはその誘導体(例えばピコリン、ル
チジン、4−ジメチルアミノピリジン等)、N−(低
級)アルキルモルホリン(例えばN−メチルモルホリン
等)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5
エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2.]オクタ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−
7−エン、キノリン等の無機および有機の塩基を挙げる
ことができる。
(例えばナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属
(例えばマグネシウム、カルシウム等)、それらの金属
の水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、アルカリ
金属アルコキサイド(例えばナトリウムメトキサイド、
ナトリウムエトキサイド、カリウムt−ブトキサイド
等)、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属燐酸塩、
アルカリ金属燐酸水素塩(例えば燐酸水素二ナトリウ
ム、燐酸水素二カリウム等)、トリ(低級)アルキルア
ミン(例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン
等)、ピリジンまたはその誘導体(例えばピコリン、ル
チジン、4−ジメチルアミノピリジン等)、N−(低
級)アルキルモルホリン(例えばN−メチルモルホリン
等)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5
エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2.]オクタ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−
7−エン、キノリン等の無機および有機の塩基を挙げる
ことができる。
【0068】好適な酸としては、有機酸(例えば蟻酸、
酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等)および無機酸(例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等)を挙げることができる。トリハロゲン化酢酸(例え
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)等を使用した
脱離反応は、陽イオン捕捉剤(例えばフェノ−ル、アニ
ソ−ル等)の添加によって加速される。
酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸等)および無機酸(例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸
等)を挙げることができる。トリハロゲン化酢酸(例え
ばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)等を使用した
脱離反応は、陽イオン捕捉剤(例えばフェノ−ル、アニ
ソ−ル等)の添加によって加速される。
【0069】この加水分解は通常、水、アルコ−ル(例
えばメタノ−ル、エタノ−ル等)、ジエチルエ−テル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢
酸エチル等の慣用の溶媒中またはそれらの混合物中、ま
たは反応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で
行われる。上記の塩基または酸が液体である場合には、
そららもまた溶媒として使用することができる。
えばメタノ−ル、エタノ−ル等)、ジエチルエ−テル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢
酸エチル等の慣用の溶媒中またはそれらの混合物中、ま
たは反応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で
行われる。上記の塩基または酸が液体である場合には、
そららもまた溶媒として使用することができる。
【0070】反応温度は特に限定されないが、通常、冷
却下、室温または加温下で反応は行われる。
却下、室温または加温下で反応は行われる。
【0071】この脱離反応に適用できる還元法として
は、化学的還元および接触還元が挙げられる。
は、化学的還元および接触還元が挙げられる。
【0072】化学的還元に使用される好適な還元剤とし
ては、金属(例えば錫、亜鉛、鉄等)または金属化合物
(例えば塩化クロム、酢酸クロム等)と有機または無機
の酸(例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等)
との組合せを挙げることができる。接触還元に使用され
る好適な触媒としては、慣用の触媒、例えば白金触媒
(例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例えばパラジウ
ム海綿、パラジウム黒、コロイドパラジウム、酸化パラ
ジウム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケル触媒(例
えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケル
等)、コバルト触媒(例えば還元コバルト、ラネ−コバ
ルト等)、鉄触媒(例えば還元鉄、ラネ−鉄等)、銅触
媒(例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅等)等を挙げ
ることができる。
ては、金属(例えば錫、亜鉛、鉄等)または金属化合物
(例えば塩化クロム、酢酸クロム等)と有機または無機
の酸(例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ
酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等)
との組合せを挙げることができる。接触還元に使用され
る好適な触媒としては、慣用の触媒、例えば白金触媒
(例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例えばパラジウ
ム海綿、パラジウム黒、コロイドパラジウム、酸化パラ
ジウム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケル触媒(例
えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケル
等)、コバルト触媒(例えば還元コバルト、ラネ−コバ
ルト等)、鉄触媒(例えば還元鉄、ラネ−鉄等)、銅触
媒(例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅等)等を挙げ
ることができる。
【0073】還元は通常、水、アルコ−ル(例えばメタ
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等)、N,N−ジメ
チルホルムアミド等のような反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中またはそれらの混合物中で行われる。また化学的
還元に使用する上記の酸が液体である場合には、そらら
もまた溶媒として使用することができる。さらに、接触
還元に使用される好適な溶媒としては、上記の溶媒のほ
か、ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等の慣用の溶媒またはそれらの混合物を挙げることが
できる。
ノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等)、N,N−ジメ
チルホルムアミド等のような反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中またはそれらの混合物中で行われる。また化学的
還元に使用する上記の酸が液体である場合には、そらら
もまた溶媒として使用することができる。さらに、接触
還元に使用される好適な溶媒としては、上記の溶媒のほ
か、ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等の慣用の溶媒またはそれらの混合物を挙げることが
できる。
【0074】この還元の反応温度は特に限定されない
が、通常は冷却下、室温、または加温下で反応は行われ
る。
が、通常は冷却下、室温、または加温下で反応は行われ
る。
【0075】方法3 化合物(Id)またはその塩は、化合物(Ic)もしく
はカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩をい
わゆる低級アルキルの導入反応に付すことにより製造で
きる。
はカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩をい
わゆる低級アルキルの導入反応に付すことにより製造で
きる。
【0076】化合物(Ic)のカルボキシ基における好
適な反応性誘導体としては、後に例示するものが挙げら
れる。
適な反応性誘導体としては、後に例示するものが挙げら
れる。
【0077】これらの反応性誘導体は、使用する化合物
(Ic)の種類に応じてこれらの中から適宜選択するこ
とができる。
(Ic)の種類に応じてこれらの中から適宜選択するこ
とができる。
【0078】本反応において導入される好適な低級アル
キルとしては、先に例示したものを挙げることができ、
より好ましくはメチルである。
キルとしては、先に例示したものを挙げることができ、
より好ましくはメチルである。
【0079】反応は通常、水、アルコ−ル(例えばメタ
ノ−ル、エタノ−ル等)、アセトン、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ジク
ロロメタン、塩化エチレン、酢酸エチル、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン等の慣用の溶媒、または反
応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で行われ
る。これらの溶媒中、親水性溶媒は水との混合物として
使用することもできる。
ノ−ル、エタノ−ル等)、アセトン、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ジク
ロロメタン、塩化エチレン、酢酸エチル、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン等の慣用の溶媒、または反
応に悪影響を及ぼさない任意の他の有機溶媒中で行われ
る。これらの溶媒中、親水性溶媒は水との混合物として
使用することもできる。
【0080】反応温度は特に限定されないが、通常は冷
却下、室温、または加温下で反応は行われる。
却下、室温、または加温下で反応は行われる。
【0081】本反応において、化合物(Ic)を遊離酸
の形またはその塩の形で使用する場合、反応は慣用の縮
合剤の存在下で行なうことが好ましく、縮合剤の例とし
ては、カルボジイミド類またはその塩(例えばN,N’
−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシ
ル−N’−モルホリノエチルカルボジイミド、N−シク
ロヘキシル−N’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシ
ル)カルボジイミド、N,N’−ジエチルカルボジイミ
ド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N−エ
チル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミドまたはその塩酸塩、ジフェニル燐酸アジド、ジエ
チル燐酸シアニド、塩化ビス(2−オキソ−3−オキサ
ゾリジニル)ホスフィン等);トリアゾ−ル類(例えば
1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−ク
ロロ−1H−ベンゾトリアゾ−ル、N−ヒドロキシベン
ゾトリアゾ−ル等);イミダゾ−ル類(例えばN,N’
−カルボニルジイミダゾ−ル、N,N’−カルボニルビ
ス−(2−メチルイミダゾ−ル等);ケテンイミン化合
物(例えばペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシル
イミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン
等);エトキシアセチレン;1−アルコキシ−1−クロ
ロエチレン;亜リン酸トリアルキル;ポリ燐酸エチル;
ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩化ホスホリ
ル);ジフェニル燐酸クロリド;トリフェニルホスフィ
ン;三塩化燐;塩化チオニル;塩化オキサリル;ハロピ
リジニウム塩(例えばヨウ化2−クロロ−1−メチルピ
リジニウム等);塩化シアヌル;ハロ蟻酸低級アルキル
(例えばクロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソプロピル
等);2−エチル−7−ヒドロキシベンゾイソオキサゾ
リウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)イ
ソオキサゾリウムヒドロキシド・分子内塩;N,N−ジ
メチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロ
蟻酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応によっ
て調製されるいわゆるビルスマイヤ−試薬;等を挙げる
ことができる。
の形またはその塩の形で使用する場合、反応は慣用の縮
合剤の存在下で行なうことが好ましく、縮合剤の例とし
ては、カルボジイミド類またはその塩(例えばN,N’
−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N−シクロヘキシ
ル−N’−モルホリノエチルカルボジイミド、N−シク
ロヘキシル−N’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシ
ル)カルボジイミド、N,N’−ジエチルカルボジイミ
ド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N−エ
チル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミドまたはその塩酸塩、ジフェニル燐酸アジド、ジエ
チル燐酸シアニド、塩化ビス(2−オキソ−3−オキサ
ゾリジニル)ホスフィン等);トリアゾ−ル類(例えば
1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−ク
ロロ−1H−ベンゾトリアゾ−ル、N−ヒドロキシベン
ゾトリアゾ−ル等);イミダゾ−ル類(例えばN,N’
−カルボニルジイミダゾ−ル、N,N’−カルボニルビ
ス−(2−メチルイミダゾ−ル等);ケテンイミン化合
物(例えばペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシル
イミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン
等);エトキシアセチレン;1−アルコキシ−1−クロ
ロエチレン;亜リン酸トリアルキル;ポリ燐酸エチル;
ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩化ホスホリ
ル);ジフェニル燐酸クロリド;トリフェニルホスフィ
ン;三塩化燐;塩化チオニル;塩化オキサリル;ハロピ
リジニウム塩(例えばヨウ化2−クロロ−1−メチルピ
リジニウム等);塩化シアヌル;ハロ蟻酸低級アルキル
(例えばクロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソプロピル
等);2−エチル−7−ヒドロキシベンゾイソオキサゾ
リウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)イ
ソオキサゾリウムヒドロキシド・分子内塩;N,N−ジ
メチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロ
蟻酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応によっ
て調製されるいわゆるビルスマイヤ−試薬;等を挙げる
ことができる。
【0082】本反応は、またアルカリ金属水酸化物(例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカ
リ金属炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等)、アルカリ金属重炭酸塩(例えば、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等)、トリ(低級)アルキルア
ミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン
等)、ピリジンまたはその誘導体(例えば、N,N−ジ
メチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジン、4−
ピペラジノピリジン、4−(4−メチルピペリジノ)ピ
リジンまたはそれらの塩酸塩、臭化水素酸塩等)、N−
(低級)アルキルモルホリン(例えば、N−メチルモル
ホリン等)、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミ
ン等のような無機または有機の塩基の存在下で行うこと
もできる。
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカ
リ金属炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等)、アルカリ金属重炭酸塩(例えば、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等)、トリ(低級)アルキルア
ミン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン
等)、ピリジンまたはその誘導体(例えば、N,N−ジ
メチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジン、4−
ピペラジノピリジン、4−(4−メチルピペリジノ)ピ
リジンまたはそれらの塩酸塩、臭化水素酸塩等)、N−
(低級)アルキルモルホリン(例えば、N−メチルモル
ホリン等)、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミ
ン等のような無機または有機の塩基の存在下で行うこと
もできる。
【0083】方法4 化合物(If)またはその塩は、化合物(Ie)または
そのカルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれら
の塩をアミド化反応に付すことにより製造できる。
そのカルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれら
の塩をアミド化反応に付すことにより製造できる。
【0084】化合物(Ie)および(If)の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したものを挙げる
ことができる。
としては、化合物(I)について例示したものを挙げる
ことができる。
【0085】この反応は、化合物(Ie)またはそのカ
ルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩を
アミド化剤と反応させることにより実施できる。
ルボキシ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩を
アミド化剤と反応させることにより実施できる。
【0086】このアミド化剤は、目的のアミド化に対応
する「アミン化合物」またはそのアミノ基における反応
性誘導体もしくはそれらの塩であり、その好適な例とし
ては、アンモニア;低級アルキルアミン;高級アルキル
アミン;N,N−ジ(低級)アルキルアミン、N−低級
アルキル−N−アル(低級)アルキルアミン;N−カル
ボキシ(低級)アルキルアミン;置換基を有していても
よいN−保護されたカルボキシ(低級)アルキルアミ
ン;N−低級アルキル−N−カルボキシ(低級)アルキ
ルアミン;N−低級アルキル−N−保護されたカルボキ
シ(低級)アルキルアミン;N−ヒドロキシ(低級)ア
ルキルアミン、;式: (ここに、式: の基は上に定義した通りである)の化合物などが挙げら
れる。置換基を有していてもよいN−保護されたカルボ
キシ(低級)アルキルアミンにおける好適な置換基とし
てはフェニルが挙げられる。「アミン化合物」の好適な
塩としては、化合物(I)について例示したものを挙げ
ることができる。
する「アミン化合物」またはそのアミノ基における反応
性誘導体もしくはそれらの塩であり、その好適な例とし
ては、アンモニア;低級アルキルアミン;高級アルキル
アミン;N,N−ジ(低級)アルキルアミン、N−低級
アルキル−N−アル(低級)アルキルアミン;N−カル
ボキシ(低級)アルキルアミン;置換基を有していても
よいN−保護されたカルボキシ(低級)アルキルアミ
ン;N−低級アルキル−N−カルボキシ(低級)アルキ
ルアミン;N−低級アルキル−N−保護されたカルボキ
シ(低級)アルキルアミン;N−ヒドロキシ(低級)ア
ルキルアミン、;式: (ここに、式: の基は上に定義した通りである)の化合物などが挙げら
れる。置換基を有していてもよいN−保護されたカルボ
キシ(低級)アルキルアミンにおける好適な置換基とし
てはフェニルが挙げられる。「アミン化合物」の好適な
塩としては、化合物(I)について例示したものを挙げ
ることができる。
【0087】化合物(Ie)のカルボキシ基における好
適な反応性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水
物、活性アミド、活性エステルなどが挙げられる。それ
ら反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジ
化物;置換燐酸[たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐
酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸
など]、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、
スルホン酸[たとえばメタンスルホン酸など]、脂肪族
カルボン酸[たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバル酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−エ
チル酪酸、トリクロロ酢酸など]、芳香族カルボン酸
[たとえば安息香酸など]などの酸との混合酸無水物;
対称酸無水物;イミダゾール;4−置換イミダゾール、
ジメチルピラゾール、トリアゾール、テトラゾールまた
は1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾールとの活性
アミド;活性エステル[たとえばシアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル
[(CH3)2N+=CH−]エステル、ビニルエステ
ル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエステ
ル、2,4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフ
ェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシ
ルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、
フェニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオエステ
ル、p−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオ
エステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペ
リジルエステル、8−キノリルチオエステルなど]また
はN−ヒドロキシ化合物[たとえばN,N−ジメチルヒ
ドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2(1H)−ピリ
ドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ
フタルイミド、1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾ
ールなど]とのエステルなどが挙げられる。これらの反
応性誘導体は、使用する化合物(Ig)の種類に応じ
て、それらのなかから適宜選択できる。
適な反応性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水
物、活性アミド、活性エステルなどが挙げられる。それ
ら反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジ
化物;置換燐酸[たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐
酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸
など]、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、
スルホン酸[たとえばメタンスルホン酸など]、脂肪族
カルボン酸[たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバル酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−エ
チル酪酸、トリクロロ酢酸など]、芳香族カルボン酸
[たとえば安息香酸など]などの酸との混合酸無水物;
対称酸無水物;イミダゾール;4−置換イミダゾール、
ジメチルピラゾール、トリアゾール、テトラゾールまた
は1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾールとの活性
アミド;活性エステル[たとえばシアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル
[(CH3)2N+=CH−]エステル、ビニルエステ
ル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエステ
ル、2,4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフ
ェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシ
ルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、
フェニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオエステ
ル、p−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオ
エステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペ
リジルエステル、8−キノリルチオエステルなど]また
はN−ヒドロキシ化合物[たとえばN,N−ジメチルヒ
ドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2(1H)−ピリ
ドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ
フタルイミド、1−ヒドロキシ−1H−ベンゾトリアゾ
ールなど]とのエステルなどが挙げられる。これらの反
応性誘導体は、使用する化合物(Ig)の種類に応じ
て、それらのなかから適宜選択できる。
【0088】「アミン化合物」のアミノ基における好適
な反応性誘導体としては、「アミン化合物」とアルデヒ
ド、ケトンなどのカルボニル化合物との反応により形成
されるシッフ塩基型イミノ体またはその互変異性体であ
るエナミン型異性体;「アミン化合物」とビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチルシリル)
アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)尿素などのシ
リル化合物との反応により形成されるシリル誘導体;
「アミン化合物」と三塩化燐またはホスゲンとの反応に
より形成される誘導体などが挙げられる。
な反応性誘導体としては、「アミン化合物」とアルデヒ
ド、ケトンなどのカルボニル化合物との反応により形成
されるシッフ塩基型イミノ体またはその互変異性体であ
るエナミン型異性体;「アミン化合物」とビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチルシリル)
アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)尿素などのシ
リル化合物との反応により形成されるシリル誘導体;
「アミン化合物」と三塩化燐またはホスゲンとの反応に
より形成される誘導体などが挙げられる。
【0089】反応は、通常、慣用の溶媒、たとえば水、
アルコール[たとえばメタノール、エタノールなど]、
アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホル
ム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリ
ジン、その他反応に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒
中で実施する。これらの慣用の溶媒は、水との混合物と
して使用してもよい。この反応において、式(Ie)を
遊離酸または塩の形で使用するときには、N,N’−ジ
シクロヘキシルカルボジイミドなどの慣用の縮合剤の存
在下で反応を実施するのが好ましい。
アルコール[たとえばメタノール、エタノールなど]、
アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホル
ム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリ
ジン、その他反応に悪影響を及ぼさない任意の有機溶媒
中で実施する。これらの慣用の溶媒は、水との混合物と
して使用してもよい。この反応において、式(Ie)を
遊離酸または塩の形で使用するときには、N,N’−ジ
シクロヘキシルカルボジイミドなどの慣用の縮合剤の存
在下で反応を実施するのが好ましい。
【0090】反応は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金
属重炭酸塩、トリ(低級)アルキルアミン(たとえばト
リエチルアミンなど)、ピリジン、N−(低級)アルキ
ルモルホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルア
ミンなどの無機塩基または有機塩基の存在下で実施する
こともできる。
属重炭酸塩、トリ(低級)アルキルアミン(たとえばト
リエチルアミンなど)、ピリジン、N−(低級)アルキ
ルモルホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルア
ミンなどの無機塩基または有機塩基の存在下で実施する
こともできる。
【0091】反応温度はとくに限定されず、通常、冷却
下ないし加熱下に反応を実施する。
下ないし加熱下に反応を実施する。
【0092】方法5 化合物(Ih)またはその塩は、化合物(Ig)または
その塩を酸化反応に付すことにより製造できる。この方
法の酸化反応は、この技術分野での慣用的酸化方法に従
って行われる。
その塩を酸化反応に付すことにより製造できる。この方
法の酸化反応は、この技術分野での慣用的酸化方法に従
って行われる。
【0093】方法6 この方法のケトン分解反応は、薄いアルカリによる加水
分解反応であり、上述のこの技術分野での慣用的加水分
解方法に準じた方法で行われる。
分解反応であり、上述のこの技術分野での慣用的加水分
解方法に準じた方法で行われる。
【0094】方法7 この方法の加水分解反応は、上述のこの技術分野での慣
用的加水分解方法に従って行われる。
用的加水分解方法に従って行われる。
【0095】上記の各製造方法で得られた化合物は、抽
出、粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフィ−、再晶
出等の慣用の方法で単離、精製することができる。
出、粉末化、再結晶、カラムクロマトグラフィ−、再晶
出等の慣用の方法で単離、精製することができる。
【0096】本発明の目的化合物であるピラゾロピリジ
ンアデノシン拮抗剤(I)およびその医薬上許容しうる
塩は、溶媒和[例えば包接化合物(例えば、水和物
等)]を含む。
ンアデノシン拮抗剤(I)およびその医薬上許容しうる
塩は、溶媒和[例えば包接化合物(例えば、水和物
等)]を含む。
【0097】本発明の目的化合物(I)は、アデノシン
拮抗剤であり、前述した通り、種々の薬理作用を有す
る。
拮抗剤であり、前述した通り、種々の薬理作用を有す
る。
【0098】本発明の目的化合物(I)のこの有用性を
示すために、本発明の代表化合物の薬理試験結果を以下
に示す。 試験1.ラット前脳および腺条体膜におけるアデノシン
拮抗活性試験 〔I〕試験方法 試験化合物のアデノシン拮抗活性は、[3H]−N6ーシ
クロヘキシルアデノシン(3H−CHA,1×10
-9M)をラットの副腎皮質A1受容体に対して用い、放
射リガンド結合法により試験した。
示すために、本発明の代表化合物の薬理試験結果を以下
に示す。 試験1.ラット前脳および腺条体膜におけるアデノシン
拮抗活性試験 〔I〕試験方法 試験化合物のアデノシン拮抗活性は、[3H]−N6ーシ
クロヘキシルアデノシン(3H−CHA,1×10
-9M)をラットの副腎皮質A1受容体に対して用い、放
射リガンド結合法により試験した。
【0099】〔II〕試験化合物 3−[2−(1−メチル−2−オキソプロピル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン−6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(実施例2
の化合物)
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン−6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(実施例2
の化合物)
【0100】〔III〕試験結果
【0101】この発明の医薬組成物は、直腸、経肺(経
鼻またはバッカル吸入)、点鼻、点眼、外用(局所)、
経口または非経口(皮下、静脈内および筋肉内を含む)
投与または吸入に適した有機または無機担体または賦形
剤との混合物の形でピラゾロピリジン化合物(I)また
はその医薬として許容しうる塩を有効成分として含有す
る、たとえば固形、半固形または液状の医薬製剤の形態
で使用できる。該有効成分は、たとえば、錠剤、ペレッ
ト剤、トローチ剤、カプセル剤、坐剤、クリーム剤、軟
膏剤、エアロゾール剤、吸入用散剤、液剤、乳剤、懸濁
剤、その他使用に適した任意の剤型のための医薬として
許容しうる通常の無毒性担体と混合できる。必要なら
ば、さらに、補助剤、安定剤、増粘剤、着色剤、香料を
用いてもよい。ピラゾロピリジン化合物(I)またはそ
の医薬として許容しうる塩は、疾患の過程または状態に
対して所望の前記医薬としての効果を奏するのに十分な
量を医薬組成物に含有させる。
鼻またはバッカル吸入)、点鼻、点眼、外用(局所)、
経口または非経口(皮下、静脈内および筋肉内を含む)
投与または吸入に適した有機または無機担体または賦形
剤との混合物の形でピラゾロピリジン化合物(I)また
はその医薬として許容しうる塩を有効成分として含有す
る、たとえば固形、半固形または液状の医薬製剤の形態
で使用できる。該有効成分は、たとえば、錠剤、ペレッ
ト剤、トローチ剤、カプセル剤、坐剤、クリーム剤、軟
膏剤、エアロゾール剤、吸入用散剤、液剤、乳剤、懸濁
剤、その他使用に適した任意の剤型のための医薬として
許容しうる通常の無毒性担体と混合できる。必要なら
ば、さらに、補助剤、安定剤、増粘剤、着色剤、香料を
用いてもよい。ピラゾロピリジン化合物(I)またはそ
の医薬として許容しうる塩は、疾患の過程または状態に
対して所望の前記医薬としての効果を奏するのに十分な
量を医薬組成物に含有させる。
【0102】該組成物をヒトまたは動物に投与するに
は、それを静脈内、筋肉内、経肺または経口投与または
吸入により適用するのが好ましい。,ピラゾロピリジン
化合物(I)の治療有効量は、処置すべき各個の患者の
年令および状態により変化し、それらに依存もするが、
静脈内投与の場合には、一般にヒトまたは動物の体重1
kg当り0.01〜100mgのピラゾロピリジン化合
物(I)を1日量として、筋肉内投与の場合には、ヒト
または動物の体重1kg当り0.1〜100mgのピラ
ゾロピリジン化合物を1日量として、経口投与の場合に
は、ヒトまたは動物の体重1kg当り,0.5〜100
mgのピラゾロピリジン化合物(I)を1日量として、
前記諸疾患の予防および/または治療のために投与す
る。
は、それを静脈内、筋肉内、経肺または経口投与または
吸入により適用するのが好ましい。,ピラゾロピリジン
化合物(I)の治療有効量は、処置すべき各個の患者の
年令および状態により変化し、それらに依存もするが、
静脈内投与の場合には、一般にヒトまたは動物の体重1
kg当り0.01〜100mgのピラゾロピリジン化合
物(I)を1日量として、筋肉内投与の場合には、ヒト
または動物の体重1kg当り0.1〜100mgのピラ
ゾロピリジン化合物を1日量として、経口投与の場合に
は、ヒトまたは動物の体重1kg当り,0.5〜100
mgのピラゾロピリジン化合物(I)を1日量として、
前記諸疾患の予防および/または治療のために投与す
る。
【0103】
【実施例】以下の製造例および実施例は、本発明をより
詳細に説明するために示すものである。 製造例1 4−メチル−2−ペンタノン(12.5ml)のジクロ
ロメタン(120ml)溶液に、室温、窒素雰囲気下、
充分な撹拌下に、臭素(5.4ml)を滴下し、反応混
合物を4時間撹拌する。溶媒を留去した後、残留物を減
圧下に蒸留して、3−ブロモ−4−メチル−2−ペンタ
ノン(13.1g;収率73.2%)を得る。 bp:130℃/100mmHg NMR:1.00(3H,d,J=6.6Hz),,
1.11(3H,d,J=6.6Hz),,2.05−
2.33(1H,m),,2.35(3H,,s),,
4.03(1H,d,J=6.5Hz)
詳細に説明するために示すものである。 製造例1 4−メチル−2−ペンタノン(12.5ml)のジクロ
ロメタン(120ml)溶液に、室温、窒素雰囲気下、
充分な撹拌下に、臭素(5.4ml)を滴下し、反応混
合物を4時間撹拌する。溶媒を留去した後、残留物を減
圧下に蒸留して、3−ブロモ−4−メチル−2−ペンタ
ノン(13.1g;収率73.2%)を得る。 bp:130℃/100mmHg NMR:1.00(3H,d,J=6.6Hz),,
1.11(3H,d,J=6.6Hz),,2.05−
2.33(1H,m),,2.35(3H,,s),,
4.03(1H,d,J=6.5Hz)
【0104】製造例2 4−メチル−2−ペンタノン(10ml)のメタノール
(60ml)溶液に、氷水浴で冷却下に、臭素(4.1
2ml)を滴下し、反応混合物の赤色が消失するまで温
度を15〜20℃に保つ。水(30ml)を加えて反応
混合物を一夜室温で撹拌する。得られた溶液を25%ー
n−ヘキサンー酢酸エチル溶液(300ml)中に注
ぎ、有機層を分離する。水層を25%ーn−ヘキサンー
酢酸エチル溶液(300ml×2回)抽出し、抽出液を
有機層に合わせ、全有機層を10%ー炭酸カリウム水溶
液(100ml×2回)洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。溶媒を留去して得た残留物を減圧下に蒸留し
て、1−ブロモ−4−メチル−2−ペンタノン(10.
52g;収率73.5%)を得る。 bp:86−88℃/32−34mmHg NMR(CDCl3,δ):0.95(6H,d,J=
6.6Hz),,2.07−2.28(1H,m),,
2.53(2H,d,J=6.9Hz),3.87(2
H,s)
(60ml)溶液に、氷水浴で冷却下に、臭素(4.1
2ml)を滴下し、反応混合物の赤色が消失するまで温
度を15〜20℃に保つ。水(30ml)を加えて反応
混合物を一夜室温で撹拌する。得られた溶液を25%ー
n−ヘキサンー酢酸エチル溶液(300ml)中に注
ぎ、有機層を分離する。水層を25%ーn−ヘキサンー
酢酸エチル溶液(300ml×2回)抽出し、抽出液を
有機層に合わせ、全有機層を10%ー炭酸カリウム水溶
液(100ml×2回)洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。溶媒を留去して得た残留物を減圧下に蒸留し
て、1−ブロモ−4−メチル−2−ペンタノン(10.
52g;収率73.5%)を得る。 bp:86−88℃/32−34mmHg NMR(CDCl3,δ):0.95(6H,d,J=
6.6Hz),,2.07−2.28(1H,m),,
2.53(2H,d,J=6.9Hz),3.87(2
H,s)
【0105】製造例3 製造例2と実質的に同様の方法で、ブロモアセチルシク
ロヘキサンを収率82.3%で得る。 bp:120−125℃/18−19mmHg NMR(CDCl3,δ):1.10−1.95(10
H,m),,2.64−2.80(1H,m),,3.
96(2H,s) (+)ーAPCI/MS:205(M+H)+,,20
7(M+H)+
ロヘキサンを収率82.3%で得る。 bp:120−125℃/18−19mmHg NMR(CDCl3,δ):1.10−1.95(10
H,m),,2.64−2.80(1H,m),,3.
96(2H,s) (+)ーAPCI/MS:205(M+H)+,,20
7(M+H)+
【0106】製造例4 製造例2と実質的に同様の方法で、1−ブロモ−3−シ
クロペンチル−2−プロパノンを収率95.4%で得
る。 bp:115−120℃/18−19mmHg NMR(CDCl3,δ):1.00−1.90(9
H,m),,2.67(2H,d,J=7.1H
z),,3.88(2H,s) (+)ーAPCI/MS:205(M+H)+,,20
7(M+H)+
クロペンチル−2−プロパノンを収率95.4%で得
る。 bp:115−120℃/18−19mmHg NMR(CDCl3,δ):1.00−1.90(9
H,m),,2.67(2H,d,J=7.1H
z),,3.88(2H,s) (+)ーAPCI/MS:205(M+H)+,,20
7(M+H)+
【0107】製造例5 製造例2と実質的に同様の方法で、1−ブロモ−3−シ
クロヘキシル−2−プロパノンを収率78.1%で得
る。 bp:140−145℃/18mmHg NMR(CDCl3,δ):0.85−1.94(11
H,m),,2.52(2H,d,J=6.8H
z),,3.86(2H,s) (+)ーAPCI/MS:219(M+H)+,,22
1(M+H)+
クロヘキシル−2−プロパノンを収率78.1%で得
る。 bp:140−145℃/18mmHg NMR(CDCl3,δ):0.85−1.94(11
H,m),,2.52(2H,d,J=6.8H
z),,3.86(2H,s) (+)ーAPCI/MS:219(M+H)+,,22
1(M+H)+
【0108】製造例6 ジイソプロピルアミン(16.6ml)のテトラヒドロ
フラン(200ml)溶液に、−70℃で窒素雰囲気
下、n−ブチルリチウム(1.6N,,62.2ml)
を滴下し、30分間撹拌後、イソ酪酸ベンジルエステル
(16.1ml)とアセトアルデヒド(6.1ml)を
順次、注意して滴下する。混合物の温度を外界温度まで
昇温するにまかせ、酢酸エチル(600ml)と1N−
塩酸(130ml)の混合液中に注ぎ、有機層を分離
し、1N−塩酸(100ml)、塩水(100ml)、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、塩水
(100ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去した残留物を、シリカゲル(5
00ml)を用いてカラムクロマトグラフィーを行い、
n−ヘキサンー酢酸エチル(9:1,8:1,7:1)
で順次溶出して、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシ酪
酸ベンジルエステル(9.13g;収率45.3%)を
得る。 IR(ニート);3500,,1726.0,,145
9.8cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.13(3H,d,J=
6.4Hz),,1.20(6H,s),,2.58
(1H,d,J=5.9Hz),,3.90(1H,
m),,5.15(2H,s),,7.35(5H,
s) (+)ーAPCI/MS:223(M++1)
フラン(200ml)溶液に、−70℃で窒素雰囲気
下、n−ブチルリチウム(1.6N,,62.2ml)
を滴下し、30分間撹拌後、イソ酪酸ベンジルエステル
(16.1ml)とアセトアルデヒド(6.1ml)を
順次、注意して滴下する。混合物の温度を外界温度まで
昇温するにまかせ、酢酸エチル(600ml)と1N−
塩酸(130ml)の混合液中に注ぎ、有機層を分離
し、1N−塩酸(100ml)、塩水(100ml)、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、塩水
(100ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去した残留物を、シリカゲル(5
00ml)を用いてカラムクロマトグラフィーを行い、
n−ヘキサンー酢酸エチル(9:1,8:1,7:1)
で順次溶出して、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシ酪
酸ベンジルエステル(9.13g;収率45.3%)を
得る。 IR(ニート);3500,,1726.0,,145
9.8cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.13(3H,d,J=
6.4Hz),,1.20(6H,s),,2.58
(1H,d,J=5.9Hz),,3.90(1H,
m),,5.15(2H,s),,7.35(5H,
s) (+)ーAPCI/MS:223(M++1)
【0109】製造例7 オキサリルクロリド(4.26ml)のジクロロメタン
(180ml)溶液に、−70℃で窒素雰囲気下、ジメ
チルスルホキシド(7.2ml)、2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシ酪酸ベンジルエステル(9.0g)およ
びトリエチルアミン(28.4ml)を順次滴下する。
混合物の温度を外界温度まで昇温するにまかせ、沈澱物
を濾去する。母液を濃縮して得た残留物を酢酸エチル
(200ml)に溶解し、水(50ml×2回)、1N
−塩酸(50ml×2回)、塩水(50ml)、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液(50ml×2回)、塩水(5
0ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得た残留物を、シリカゲル(20
0ml)を用いてカラムクロマトグラフィーを行い、1
0%ー酢酸エチルーn−ヘキサンで溶出し、2,2−ジ
メチル−3−オキソ酪酸ベンジルエステル(5.26
g;収率58.7%)を得る。 IR(ニート);1739.5,,1714.4,,1
457.9cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.38(6H,s),,
2.08(3H,s),,5.17(2H,s),,
7.30−7.40(5H,m) (+)ーAPCI/MS:221(M++1)
(180ml)溶液に、−70℃で窒素雰囲気下、ジメ
チルスルホキシド(7.2ml)、2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシ酪酸ベンジルエステル(9.0g)およ
びトリエチルアミン(28.4ml)を順次滴下する。
混合物の温度を外界温度まで昇温するにまかせ、沈澱物
を濾去する。母液を濃縮して得た残留物を酢酸エチル
(200ml)に溶解し、水(50ml×2回)、1N
−塩酸(50ml×2回)、塩水(50ml)、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液(50ml×2回)、塩水(5
0ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去して得た残留物を、シリカゲル(20
0ml)を用いてカラムクロマトグラフィーを行い、1
0%ー酢酸エチルーn−ヘキサンで溶出し、2,2−ジ
メチル−3−オキソ酪酸ベンジルエステル(5.26
g;収率58.7%)を得る。 IR(ニート);1739.5,,1714.4,,1
457.9cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.38(6H,s),,
2.08(3H,s),,5.17(2H,s),,
7.30−7.40(5H,m) (+)ーAPCI/MS:221(M++1)
【0110】製造例8 2,2−ジメチル−3−オキソ酪酸ベンジルエステル
(5.2g)のジクロロメタン(60ml)溶液中に、
窒素雰囲気下に20℃で臭素(1.3ml)を注意して
滴下する。2時間撹拌後、反応混合物をジクロロメタン
(250ml)及び水(200ml)混合物中に注ぎ、
有機層を分離し、水(100ml)、塩水(100m
l)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、
塩水,(100ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得た残留物を、シリ
カゲル(150ml)を用いてカラムクロマトグラフィ
ーを行い、n−ヘキサンー酢酸エチル(20:1)で溶
出し、4−ブロモ−2,2−ジメチル−3−オキソ酪酸
ベンジルエステル(5.3g;収率98%)を得る。 NMR(CDCl3,δ):1.47(6H,s),,
4.03(2H,s),,5.17(2H,s),,
7.28−7.46(5H,m) (+)ーAPCI/MS:301(M++2)
(5.2g)のジクロロメタン(60ml)溶液中に、
窒素雰囲気下に20℃で臭素(1.3ml)を注意して
滴下する。2時間撹拌後、反応混合物をジクロロメタン
(250ml)及び水(200ml)混合物中に注ぎ、
有機層を分離し、水(100ml)、塩水(100m
l)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、
塩水,(100ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得た残留物を、シリ
カゲル(150ml)を用いてカラムクロマトグラフィ
ーを行い、n−ヘキサンー酢酸エチル(20:1)で溶
出し、4−ブロモ−2,2−ジメチル−3−オキソ酪酸
ベンジルエステル(5.3g;収率98%)を得る。 NMR(CDCl3,δ):1.47(6H,s),,
4.03(2H,s),,5.17(2H,s),,
7.28−7.46(5H,m) (+)ーAPCI/MS:301(M++2)
【0111】製造例9 製造例6と実質的に同様の方法で、2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシ酪酸エチルエステルを収率75.9%で
得る。 bp:175−177℃ NMR(CDCl3,δ):1.17(3H,s),,
1.18(3H,s),,1.27(3H,t,J=
7.1Hz),,2.74(1H,d,,J=5.9H
z),,3.70−4.00(1H,m),,4.17
(2H,q,J=7.1Hz)
3−ヒドロキシ酪酸エチルエステルを収率75.9%で
得る。 bp:175−177℃ NMR(CDCl3,δ):1.17(3H,s),,
1.18(3H,s),,1.27(3H,t,J=
7.1Hz),,2.74(1H,d,,J=5.9H
z),,3.70−4.00(1H,m),,4.17
(2H,q,J=7.1Hz)
【0112】製造例10 製造例7と実質的に同様の方法で、2,2−ジメチル−
3−オキソ酪酸エチルエステルを収率71.1%で得
る。 bp:95−97℃/37mmHg NMR(CDCl3,δ):1.26(3H,t,J=
7.1Hz),,1.36(6H,s),,2.16
(3H,s),,4.20(2H,q,,J=7.1H
z) (+)ーAPCI/MS:159(M++1)
3−オキソ酪酸エチルエステルを収率71.1%で得
る。 bp:95−97℃/37mmHg NMR(CDCl3,δ):1.26(3H,t,J=
7.1Hz),,1.36(6H,s),,2.16
(3H,s),,4.20(2H,q,,J=7.1H
z) (+)ーAPCI/MS:159(M++1)
【0113】製造例11 製造例8と実質的に同様の方法で、4−ブロモ−2,2
−ジメチル−3−オキソ酪酸エチルエステルを収率9
8.6%で得る。 NMR(CDCl3,δ):1.28(3H,t,J=
7.1Hz),,1.45(6H,s),,4.13
(2H,s),,4.21(2H,q,,J=7.1H
z) (+)ーAPCI/MS:239(M++2)
−ジメチル−3−オキソ酪酸エチルエステルを収率9
8.6%で得る。 NMR(CDCl3,δ):1.28(3H,t,J=
7.1Hz),,1.45(6H,s),,4.13
(2H,s),,4.21(2H,q,,J=7.1H
z) (+)ーAPCI/MS:239(M++2)
【0114】製造例12 製造例8と実質的に同様の方法で、4−ブロモ−2,2
−ジエチル−3−オキソ酪酸エチルエステルを収率8
6.8%で得る。 NMR(DMSOーd6,δ):0.70(6H,t,
J=7.5Hz),,1.19(3H,t,J=7.1
Hz),,1.86(4H,q,,J=7.5H
z),,4.15(2H,q,J=7.1Hz),,
4.48(2H,s) (+)ーAPCI/MS:267(M++2)
−ジエチル−3−オキソ酪酸エチルエステルを収率8
6.8%で得る。 NMR(DMSOーd6,δ):0.70(6H,t,
J=7.5Hz),,1.19(3H,t,J=7.1
Hz),,1.86(4H,q,,J=7.5H
z),,4.15(2H,q,J=7.1Hz),,
4.48(2H,s) (+)ーAPCI/MS:267(M++2)
【0115】製造例13 2−アセチル安息香酸(8.21g)および1,8−ジ
アザビシクロ[5,4,0]ウンデセ−7−エン(7.
85ml)のトルエン(100ml)溶液に、ヨウ化メ
チル(6.54ml)のトルエン(30ml)溶液を室
温で滴下する。3.5時間後、不溶物を濾去し、母液を
酢酸エチル(300ml)に加え、水(100ml×2
回)、1N−塩酸(100ml)、塩水(100m
l)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、
塩水(100ml×2回)で順次洗浄する。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去し、2−
アセチル安息香酸メチルエステル(8.0g;収率,8
9.8%)を得る。 IR(ニート);1727.9,,1699.0cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.56(3H,s),,
3.90(3H,s),,7.40−7.65(3H,
m),,7.80−7.90(1H,,m),(+)ー
APCI/MS:179(M++1)
アザビシクロ[5,4,0]ウンデセ−7−エン(7.
85ml)のトルエン(100ml)溶液に、ヨウ化メ
チル(6.54ml)のトルエン(30ml)溶液を室
温で滴下する。3.5時間後、不溶物を濾去し、母液を
酢酸エチル(300ml)に加え、水(100ml×2
回)、1N−塩酸(100ml)、塩水(100m
l)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、
塩水(100ml×2回)で順次洗浄する。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去し、2−
アセチル安息香酸メチルエステル(8.0g;収率,8
9.8%)を得る。 IR(ニート);1727.9,,1699.0cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.56(3H,s),,
3.90(3H,s),,7.40−7.65(3H,
m),,7.80−7.90(1H,,m),(+)ー
APCI/MS:179(M++1)
【0116】製造例14 製造例8と実質的に同様の方法で、2−(2−ブロモ−
1−オキソエチル)安息香酸メチルエステルを収率9
2.7%で得る。 NMR(CDCl3,δ):3.93(3H,s),,
4.35(2H,s),,7.83−8.03(4H,
m) (+)ーAPCI/MS:259(M++2)
1−オキソエチル)安息香酸メチルエステルを収率9
2.7%で得る。 NMR(CDCl3,δ):3.93(3H,s),,
4.35(2H,s),,7.83−8.03(4H,
m) (+)ーAPCI/MS:259(M++2)
【0117】製造例15 ジケテン(7.72ml)のジクロロメタン(100m
l)溶液に、窒素雰囲気下、−2〜2℃に保ちつつ、臭
素(5.15ml)のジクロロメタン(20ml)溶液
を1時間かけて滴下し、さらに30分間撹拌して、4−
ブロモアセトアセチルブロマイドのジクロロメタン溶液
を得る。この溶液を、窒素雰囲気下、−70℃で、ジメ
チルアミン塩酸塩(8.15g)とトリエチルアミン
(32ml)のジクロロメタン(200ml)溶液に滴
下し、2時間撹拌する。混合物を外界温度まで昇温する
にまかせ、溶媒を留去し、残留物に酢酸エチル(300
ml)を加えてよく撹拌し、不溶物を濾去する。溶媒を
留去し、残留物をシリカゲルでクロマトグラフィーを行
い、n−ヘキサンー,酢酸エチル(1:1)で溶出し
て、N,N−ジメチル−4−ブロモ−3−オキソブタン
アミド(13.05g;収率62.7%),を得る。 NMR(CDCl3,δ):3.03(6H,s),,
3.71−4.29(4H,m) (+)ーAPCI/MS:208(M+H)+,,21
0(M+H)+
l)溶液に、窒素雰囲気下、−2〜2℃に保ちつつ、臭
素(5.15ml)のジクロロメタン(20ml)溶液
を1時間かけて滴下し、さらに30分間撹拌して、4−
ブロモアセトアセチルブロマイドのジクロロメタン溶液
を得る。この溶液を、窒素雰囲気下、−70℃で、ジメ
チルアミン塩酸塩(8.15g)とトリエチルアミン
(32ml)のジクロロメタン(200ml)溶液に滴
下し、2時間撹拌する。混合物を外界温度まで昇温する
にまかせ、溶媒を留去し、残留物に酢酸エチル(300
ml)を加えてよく撹拌し、不溶物を濾去する。溶媒を
留去し、残留物をシリカゲルでクロマトグラフィーを行
い、n−ヘキサンー,酢酸エチル(1:1)で溶出し
て、N,N−ジメチル−4−ブロモ−3−オキソブタン
アミド(13.05g;収率62.7%),を得る。 NMR(CDCl3,δ):3.03(6H,s),,
3.71−4.29(4H,m) (+)ーAPCI/MS:208(M+H)+,,21
0(M+H)+
【0118】製造例16 製造例15と実質的に同じ方法で、1−(4−ブロモア
セトアセチル)ピペリジンを収率65.7%で得る。 NMR(CDCl3,δ):1.50−1.70(6
H,m),,3.30−4.20(8H,m) (+)ーAPCI/MS:248(M+H)+,,25
0(M+H)+
セトアセチル)ピペリジンを収率65.7%で得る。 NMR(CDCl3,δ):1.50−1.70(6
H,m),,3.30−4.20(8H,m) (+)ーAPCI/MS:248(M+H)+,,25
0(M+H)+
【0119】実施例1 3−(3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(1.0g)と乾燥テトラヒドロフラン(30ml)の
混合物に、室温で第3級ブトキシカリウム(0.47
g)と18−クラウン−6−エーテル(92mg)を加
え、5℃以下でブロモアセトン(0.35ml)の乾燥
テトラヒドロフラン(5ml)溶液を滴下する。室温で
3時間撹拌後、反応混合物を水に注ぎ、生成する固形物
を濾過して、3−[2−(2−オキソプロピル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.1
g;収率92.1%)を得る。 mp:189−191℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):1705,,1660,,162
0,,1590,,1515cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.26(3H,
s),,5.11(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.07(1H,,dt,J
=1.3Hz),,6.9Hz),,7.11(1H,
d,J=9.7Hz),,7.38−7.65(6H,
m),,7.89(1H,d,,J=8.9Hz),,
8.81(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:,345(M++1) 元素分析:C20H16N4O2として、 計算値:,C,69.76,,H,4.68,,N,1
6.27 実測値:,C,69.79,,H,4.67,,N,1
5.97
イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(1.0g)と乾燥テトラヒドロフラン(30ml)の
混合物に、室温で第3級ブトキシカリウム(0.47
g)と18−クラウン−6−エーテル(92mg)を加
え、5℃以下でブロモアセトン(0.35ml)の乾燥
テトラヒドロフラン(5ml)溶液を滴下する。室温で
3時間撹拌後、反応混合物を水に注ぎ、生成する固形物
を濾過して、3−[2−(2−オキソプロピル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.1
g;収率92.1%)を得る。 mp:189−191℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):1705,,1660,,162
0,,1590,,1515cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.26(3H,
s),,5.11(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.07(1H,,dt,J
=1.3Hz),,6.9Hz),,7.11(1H,
d,J=9.7Hz),,7.38−7.65(6H,
m),,7.89(1H,d,,J=8.9Hz),,
8.81(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:,345(M++1) 元素分析:C20H16N4O2として、 計算値:,C,69.76,,H,4.68,,N,1
6.27 実測値:,C,69.79,,H,4.67,,N,1
5.97
【0120】実施例2 実施例1と同様の方法で、3−クロロ−2−ブタノンを
用いて、3−[2−(1−メチル−2−オキソプロピ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を得る。 mp:198−199℃(メタノール) IR(ヌジョール):1730,,1660,,163
0,,1590,,1520cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.50(3H,d,
J=7.1Hz),,2.16(3H,s),,5.5
2(1H,q,H=7.1Hz),,6.95(1H,
d,J=9.7Hz),,7.08(1H,dt,J=
1.3Hz,,6.9Hz),,7.17(1H,d,
J=9.7Hz),,7.41−7.63(6H,
m),,7.85(1H,d,J=8.9Hz),,
8.83(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:,359(M++1) 元素分析:C21H18N4O2として 計算値:,C,70.38,,H,5.06,,N,1
5.63 実測値:,C,70.31,,H,5.03,,N,1
5.39
用いて、3−[2−(1−メチル−2−オキソプロピ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を得る。 mp:198−199℃(メタノール) IR(ヌジョール):1730,,1660,,163
0,,1590,,1520cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.50(3H,d,
J=7.1Hz),,2.16(3H,s),,5.5
2(1H,q,H=7.1Hz),,6.95(1H,
d,J=9.7Hz),,7.08(1H,dt,J=
1.3Hz,,6.9Hz),,7.17(1H,d,
J=9.7Hz),,7.41−7.63(6H,
m),,7.85(1H,d,J=8.9Hz),,
8.83(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:,359(M++1) 元素分析:C21H18N4O2として 計算値:,C,70.38,,H,5.06,,N,1
5.63 実測値:,C,70.31,,H,5.03,,N,1
5.39
【0121】実施例3 実施例1と同様の方法で、3−[2−(3,3−ジメチ
ル−2−オキソブチル)−3−オキソ−2,3−ジヒド
ロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:199−200℃ IR(ヌジョール):1710,,1655,,162
0,,1580,,1515cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.32(9H,s),,
5.22(2H,s),,6.78(1H,d,J=
9.7Hz),,6.89(1H,dt,,J=1.
4,,6.9Hz),,7.04(1H,d,J=9.
7Hz),,7.26(1H,dt,H=1.1,,
6.8Hz),,7.41−,7.47(3H,
m),,7.59−7.66(2H,m),,7.87
(1H,d,J=8.9Hz),,8.51(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:,387(M++1) 元素分析:C23H22N4O2として 計算値:,C,71.48,,H,5.74,,N,1
4.50 実測値:,C,71.44,,H,5.81,,N,1
4.48
ル−2−オキソブチル)−3−オキソ−2,3−ジヒド
ロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:199−200℃ IR(ヌジョール):1710,,1655,,162
0,,1580,,1515cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.32(9H,s),,
5.22(2H,s),,6.78(1H,d,J=
9.7Hz),,6.89(1H,dt,,J=1.
4,,6.9Hz),,7.04(1H,d,J=9.
7Hz),,7.26(1H,dt,H=1.1,,
6.8Hz),,7.41−,7.47(3H,
m),,7.59−7.66(2H,m),,7.87
(1H,d,J=8.9Hz),,8.51(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:,387(M++1) 元素分析:C23H22N4O2として 計算値:,C,71.48,,H,5.74,,N,1
4.50 実測値:,C,71.44,,H,5.81,,N,1
4.48
【0122】実施例4 N,N−ジメチルホルムアミド(15ml)中に水素化
ナトリウム,(200mg,,60%湿潤)を懸濁した
中に、3−(3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン
ー6−イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジン(1.0g)と1−ブロモー2−ブタノン(46
0μl)を添加し、この混合物を窒素雰囲気下に室温で
1時間撹拌する。反応混合物に水を加えて過剰の水素化
ナトリウムを分解し、溶媒を減圧下に留去する。残留物
を酢酸エチル(150ml)とn−ヘキサン(50m
l)混合物に溶解し、順次、水(50ml×3回)、飽
和塩化ナトリウム水溶液(50ml)で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、粗生成物をエタ
ノールから再結晶し、3−[2−(2−オキソブチル)
ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(1.02g);収率,82.9%)を得る。 mp:170.0−171.5℃ FT−IR(KBr):1727.9,,1660.
4,,1589.1,,1529.3,,1494.
6,,1467.6cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.18(3H,t,J=
7.3Hz),,2.63(2H,q,J=7.3H
z),,5.06(2H,s),6.80,(1H,
d,J=9.7Hz),,6.86−6.94(1H,
m),,7.05(1H,d,J=9.7Hz),,
7.23−7.33(1H,m),7.44−7.48
(3H,m),,7.60−7.66(2H,m),,
7.90(1H,d,J=8.9Hz),,8.52
(1H,d,J=,7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:,359(M++1) 元素分析:C21H18N4O2・3/16H2Oとして 計算値:,C,69.72,,H,5.12,,N,1
5.49 実測値:,C,69.84,,H,5.10,,N,1
5.20
ナトリウム,(200mg,,60%湿潤)を懸濁した
中に、3−(3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン
ー6−イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジン(1.0g)と1−ブロモー2−ブタノン(46
0μl)を添加し、この混合物を窒素雰囲気下に室温で
1時間撹拌する。反応混合物に水を加えて過剰の水素化
ナトリウムを分解し、溶媒を減圧下に留去する。残留物
を酢酸エチル(150ml)とn−ヘキサン(50m
l)混合物に溶解し、順次、水(50ml×3回)、飽
和塩化ナトリウム水溶液(50ml)で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、粗生成物をエタ
ノールから再結晶し、3−[2−(2−オキソブチル)
ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(1.02g);収率,82.9%)を得る。 mp:170.0−171.5℃ FT−IR(KBr):1727.9,,1660.
4,,1589.1,,1529.3,,1494.
6,,1467.6cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.18(3H,t,J=
7.3Hz),,2.63(2H,q,J=7.3H
z),,5.06(2H,s),6.80,(1H,
d,J=9.7Hz),,6.86−6.94(1H,
m),,7.05(1H,d,J=9.7Hz),,
7.23−7.33(1H,m),7.44−7.48
(3H,m),,7.60−7.66(2H,m),,
7.90(1H,d,J=8.9Hz),,8.52
(1H,d,J=,7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:,359(M++1) 元素分析:C21H18N4O2・3/16H2Oとして 計算値:,C,69.72,,H,5.12,,N,1
5.49 実測値:,C,69.84,,H,5.10,,N,1
5.20
【0123】実施例5 実施例4と実質的に同様の方法で、3−[2−(4−メ
チル−2−オキソペンタン−3−イル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率34.3%で
得る。 mp:159.5−160.5℃ FT−IR(KBr):1726.0,,1666.
2,,1591.0,,1531.2,,1500.3
cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):0.79(3H,d,
J=6.6Hz),,1.04(3H,d,J=6.6
Hz),,1.99(3H,s),,2.42−2.6
5(1H,m),,5.34(1H,d,J=9.0H
z),,6.99(1H,d,J=9.7Hz),,
7.05−7.18,(2H,m),,7.40−7.
63(6H,m),,7.82(1H,d,J=8.9
Hz),,8.84(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:387(M++1) 元素分析:C23H22N4O2として 計算値:,C,71.48,,H,5.74,,N,1
4.50 実測値:,C,71.06,,H,5.70,,N,1
4.17
チル−2−オキソペンタン−3−イル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率34.3%で
得る。 mp:159.5−160.5℃ FT−IR(KBr):1726.0,,1666.
2,,1591.0,,1531.2,,1500.3
cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):0.79(3H,d,
J=6.6Hz),,1.04(3H,d,J=6.6
Hz),,1.99(3H,s),,2.42−2.6
5(1H,m),,5.34(1H,d,J=9.0H
z),,6.99(1H,d,J=9.7Hz),,
7.05−7.18,(2H,m),,7.40−7.
63(6H,m),,7.82(1H,d,J=8.9
Hz),,8.84(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:387(M++1) 元素分析:C23H22N4O2として 計算値:,C,71.48,,H,5.74,,N,1
4.50 実測値:,C,71.06,,H,5.70,,N,1
4.17
【0124】実施例6 実施例4と実質的に同様の方法で、3−[2−(4−メ
チル−2−オキソペンチル)−3−オキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを収率24.1%で得る。 mp:128.8−129.4℃ FT−IR(KBr):1724.0,,1668.
1,,1635.3,,1591.0,,1529.
3,,1492.6,,1467.6cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.02(6H,d,J=
6.5Hz),,2.15−2.40(1H,m),,
2.47(2H,d,J=6.6Hz),5.04(2
H,s),,6.79(1H,d,J=9.7H
z),,6.84−6.94(1H,m),,7.04
(1H,d,J=9.7Hz),,7.21−7.31
(1H,m),,7.43−7.49(3H,m),,
7.61−7.66(2H,m),,7.88(1H,
d,J=,9.0Hz),,8.51(1H,d,J=
6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:387(M++1)
チル−2−オキソペンチル)−3−オキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを収率24.1%で得る。 mp:128.8−129.4℃ FT−IR(KBr):1724.0,,1668.
1,,1635.3,,1591.0,,1529.
3,,1492.6,,1467.6cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.02(6H,d,J=
6.5Hz),,2.15−2.40(1H,m),,
2.47(2H,d,J=6.6Hz),5.04(2
H,s),,6.79(1H,d,J=9.7H
z),,6.84−6.94(1H,m),,7.04
(1H,d,J=9.7Hz),,7.21−7.31
(1H,m),,7.43−7.49(3H,m),,
7.61−7.66(2H,m),,7.88(1H,
d,J=,9.0Hz),,8.51(1H,d,J=
6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:387(M++1)
【0125】実施例7 実施例4と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−シ
クロヘキシル−2−オキソエチル)−3−オキソ−2,
3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピ
ラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率30.7%で得
る。 mp:138.0−138.5℃ FT−IR(KBr):1720.7,,1664.
3,,1633.4,,1589.1,,1527.
3,,1498.4cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.10−2.10(10
H,m),,2.50−2.70(1H,m),,5.
12(2H,S),,6.78(1H,,d,J=9.
7Hz),,6.84−6.93(1H,m),,7.
03(1H,d,J=9.7Hz),,7.21−7.
30(1H,m),,7.43−7.48(3H,
m),,7.61−7.66(2H,m),,7.87
(1H,d,J=8.9Hz),8.51(1H,d,
J=,6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:413(M++1)
クロヘキシル−2−オキソエチル)−3−オキソ−2,
3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピ
ラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率30.7%で得
る。 mp:138.0−138.5℃ FT−IR(KBr):1720.7,,1664.
3,,1633.4,,1589.1,,1527.
3,,1498.4cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.10−2.10(10
H,m),,2.50−2.70(1H,m),,5.
12(2H,S),,6.78(1H,,d,J=9.
7Hz),,6.84−6.93(1H,m),,7.
03(1H,d,J=9.7Hz),,7.21−7.
30(1H,m),,7.43−7.48(3H,
m),,7.61−7.66(2H,m),,7.87
(1H,d,J=8.9Hz),8.51(1H,d,
J=,6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:413(M++1)
【0126】実施例8 実施例4と実質的に同様の方法で、3−[2−(3−シ
クロペンチル−2−オキソプロピル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率15.7%で
得る。 mp:149.5−151.0℃ IR(ヌジョール):1725,,1655,,158
5,,1520cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.10−1.30(2
H,m),,1.50−1.75(4H,m),,1.
85−2.05(2H,m),,2.23,−2.47
(1H,m),,2.61(2H,d,J=7.2H
z),,5.06(2H,s),,6.79(1H,
d,J=9.7Hz),,6.85−6.94(1H,
m),,7.04(1H,d,J=9.7Hz),,
7.22−7.31(1H,m),,7.43−7.4
9(3H,,m),,7.60−7.66(2H,
m),7.89(1H,d,J=8.9Hz),,8.
51(1H,d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:413(M++1)
クロペンチル−2−オキソプロピル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率15.7%で
得る。 mp:149.5−151.0℃ IR(ヌジョール):1725,,1655,,158
5,,1520cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.10−1.30(2
H,m),,1.50−1.75(4H,m),,1.
85−2.05(2H,m),,2.23,−2.47
(1H,m),,2.61(2H,d,J=7.2H
z),,5.06(2H,s),,6.79(1H,
d,J=9.7Hz),,6.85−6.94(1H,
m),,7.04(1H,d,J=9.7Hz),,
7.22−7.31(1H,m),,7.43−7.4
9(3H,,m),,7.60−7.66(2H,
m),7.89(1H,d,J=8.9Hz),,8.
51(1H,d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:413(M++1)
【0127】実施例9 実施例4と実質的に同様の方法で、3−[2−(3−シ
クロヘキシル−2−オキソプロピル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率27.4%で
得る。 mp:141.5−142.0℃ IR(ヌジョール):1720,,1650,,158
5,,1520cm-1 NMR(CDCl3,δ):0.90−1.45(5
H,m),,1.65−2.10(6H,m),,2.
46(2H,d,J=6.9Hz),,5.04(2
H,s),,6.79(1H,d,J=9.7H
z),,6.85−6.93(1H,m),,7.04
(1H,d,,J=9.7Hz),7.21−7.30
(1H,m),,7.43−7.49(3H,m),,
7.60−7.66(2H,m),,7.89(1H,
d,J=8.9Hz),8.52(1H,d,J=7.
0Hz) (+)ーAPCI/MS:427(M++1)
クロヘキシル−2−オキソプロピル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率27.4%で
得る。 mp:141.5−142.0℃ IR(ヌジョール):1720,,1650,,158
5,,1520cm-1 NMR(CDCl3,δ):0.90−1.45(5
H,m),,1.65−2.10(6H,m),,2.
46(2H,d,J=6.9Hz),,5.04(2
H,s),,6.79(1H,d,J=9.7H
z),,6.85−6.93(1H,m),,7.04
(1H,d,,J=9.7Hz),7.21−7.30
(1H,m),,7.43−7.49(3H,m),,
7.60−7.66(2H,m),,7.89(1H,
d,J=8.9Hz),8.52(1H,d,J=7.
0Hz) (+)ーAPCI/MS:427(M++1)
【0128】実施例10 3−[2−(2−カルボキシエチル)ー3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.45g)のジ
クロロメタン(30ml)溶液に、0℃で、2,2−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−4,6−ジオン(670
mg)、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(9
50mg)と4−ジメチルアミノピリジン(640m
g)を順次添加する。混合物を外界温度まで昇温するに
まかせ、一夜撹拌する。不溶物を濾去した濾液を1N−
塩酸で洗浄する。溶媒を留去して得た固形物を、酢酸
(15ml)と水(15ml)の混合物に溶解し、10
時間還流下に加熱する。反応混合物を室温まで冷却し、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、クロロホルムで
抽出する。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留
物をシリカゲル(100ml)を用いてクロマトグラフ
ィーを行い、n−ヘキサンー酢酸エチル(1:1)およ
び酢酸エチルで溶出して目的生成物を含む画分を集め濃
縮し、エタノールで再結晶して、3−[2−(3−オキ
ソブチル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン
ー6−イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジン(734mg;収率51.3%)を得る。 mp:143.0−144.0℃ FT−IR(KBr):1714.4,,1660.
4,,1587.1,,1531.2,,1500.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.21(3H,s),,
3.03(2H,t,J=7.1Hz),,4.54
(2H,t,J=7.1Hz),,6.75(1H,
d,J=9.6Hz),,6.89−6.96(1H,
m),,7.02(1H,d,J=9.6Hz),,
7.29−7.38,(1H,m),,7.43−7.
47(3H,m),,7.57−7.63(2H,
m),,8.00(1H,d,J=8.9Hz),,
8.53,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:359(M++1) 元素分析:C21H18N4O2として 計算値:,C,70.38,,H,5.06,,N,1
5.63 実測値:,C,70.46,,H,5.03,,N,1
5.23
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.45g)のジ
クロロメタン(30ml)溶液に、0℃で、2,2−ジ
メチル−1,3−ジオキサン−4,6−ジオン(670
mg)、1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(9
50mg)と4−ジメチルアミノピリジン(640m
g)を順次添加する。混合物を外界温度まで昇温するに
まかせ、一夜撹拌する。不溶物を濾去した濾液を1N−
塩酸で洗浄する。溶媒を留去して得た固形物を、酢酸
(15ml)と水(15ml)の混合物に溶解し、10
時間還流下に加熱する。反応混合物を室温まで冷却し、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、クロロホルムで
抽出する。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残留
物をシリカゲル(100ml)を用いてクロマトグラフ
ィーを行い、n−ヘキサンー酢酸エチル(1:1)およ
び酢酸エチルで溶出して目的生成物を含む画分を集め濃
縮し、エタノールで再結晶して、3−[2−(3−オキ
ソブチル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジン
ー6−イル)−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジン(734mg;収率51.3%)を得る。 mp:143.0−144.0℃ FT−IR(KBr):1714.4,,1660.
4,,1587.1,,1531.2,,1500.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.21(3H,s),,
3.03(2H,t,J=7.1Hz),,4.54
(2H,t,J=7.1Hz),,6.75(1H,
d,J=9.6Hz),,6.89−6.96(1H,
m),,7.02(1H,d,J=9.6Hz),,
7.29−7.38,(1H,m),,7.43−7.
47(3H,m),,7.57−7.63(2H,
m),,8.00(1H,d,J=8.9Hz),,
8.53,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:359(M++1) 元素分析:C21H18N4O2として 計算値:,C,70.38,,H,5.06,,N,1
5.63 実測値:,C,70.46,,H,5.03,,N,1
5.23
【0129】実施例11 3−[2−(3−ベンジルオキシカルボニル−3,3−
ジメチル−2−オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジン(507mg)をジオキサ
ン(20ml)と4N−水酸化ナトリウム水溶液(6m
l)混合液中で4時間還流下に加熱する。溶媒を留去
し、残留物に水(50ml)を加え、10分間撹拌す
る。不溶物を濾過して集め、エタノールで再結晶して、
3−[2−(3−メチル−2−オキソブチル)ー3−オ
キソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−
フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(300m
g;収率80.6%)を得る。 mp:171.0−172.5℃ IR(KBr):1726.0,,1666.2,,1
591.0,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.13(6H,d,
J=6.8Hz),,2.78−3.00(1H,
m),,5.19(2H,s),,6.91,(1H,
d,J=9.7Hz),,7.00−7.15(2H,
m),,7.38−7.65(6H,m),,7.87
(1H,d,J=8.9Hz),8.82(1H,d,
J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:373(M++1) 元素分析:C22H20N4O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,70.10,,H,5.48,,N,1
4.86 実測値:,C,70.27,,H,5.45,,N,1
5.08
ジメチル−2−オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジン(507mg)をジオキサ
ン(20ml)と4N−水酸化ナトリウム水溶液(6m
l)混合液中で4時間還流下に加熱する。溶媒を留去
し、残留物に水(50ml)を加え、10分間撹拌す
る。不溶物を濾過して集め、エタノールで再結晶して、
3−[2−(3−メチル−2−オキソブチル)ー3−オ
キソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−
フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(300m
g;収率80.6%)を得る。 mp:171.0−172.5℃ IR(KBr):1726.0,,1666.2,,1
591.0,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.13(6H,d,
J=6.8Hz),,2.78−3.00(1H,
m),,5.19(2H,s),,6.91,(1H,
d,J=9.7Hz),,7.00−7.15(2H,
m),,7.38−7.65(6H,m),,7.87
(1H,d,J=8.9Hz),8.82(1H,d,
J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:373(M++1) 元素分析:C22H20N4O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,70.10,,H,5.48,,N,1
4.86 実測値:,C,70.27,,H,5.45,,N,1
5.08
【0130】実施例12 実施例1と同様の方法で、3−[2−(4−メトキシカ
ルボニル−2−オキソブチル)ー3−オキソ−2,3−
ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾ
ロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:181−182℃(メタノール) IR(ヌジョール):1720,,1650,,163
0,,1580,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.58(2H,t,
J=6.3Hz),,2.90(2H,t,J=6.3
Hz),,3.60(3H,s),,5.16(2H,
s),6.91(1H,d,J=9.7Hz),,7.
04−1.73(1H,m),,7.09(1H,d,
J=9.7Hz),,7.37−7.62(6H,
m),,7.89(1H,d,J=8.9Hz),,
8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:417(M++1) 元素分析:C23H20N4O4・1/2H2Oとして 計算値:,C,64.93,,H,4.98,,N,1
3.17 実測値:,C,64.54,,H,4.56,,N,1
2.94
ルボニル−2−オキソブチル)ー3−オキソ−2,3−
ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾ
ロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:181−182℃(メタノール) IR(ヌジョール):1720,,1650,,163
0,,1580,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.58(2H,t,
J=6.3Hz),,2.90(2H,t,J=6.3
Hz),,3.60(3H,s),,5.16(2H,
s),6.91(1H,d,J=9.7Hz),,7.
04−1.73(1H,m),,7.09(1H,d,
J=9.7Hz),,7.37−7.62(6H,
m),,7.89(1H,d,J=8.9Hz),,
8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:417(M++1) 元素分析:C23H20N4O4・1/2H2Oとして 計算値:,C,64.93,,H,4.98,,N,1
3.17 実測値:,C,64.54,,H,4.56,,N,1
2.94
【0131】実施例13 実施例1と同様の方法で、3−[2−(3−エトキシカ
ルボニル−2−オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:113−115℃(IPE) IR(ヌジョール):1720,,1670,,159
5,,1530cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.30(3H,t,J=
7.1Hz),,3.66(2H,s),,4.23
(2H,q,J=7.1Hz),,5.21(2H,
s),,6.78(1H,d,J=9.7Hz),,
6.91(1H,dt,J=1.4Hz,,6.9H
z),,7.05(1H,,d,J=9.7Hz),,
7.25−7.34(1H,m),,7.43−7.4
8(3H,m),,7.60−7.66(2H,
m),,7.94,(1H,dt,J=1.4Hz,,
8.9Hz),,8.52(1H,dt,J=1.4H
z,,6.9Hz)(+)ーAPCI/MS:417
(M++1) 元素分析:C23H20N4O4として 計算値:,C,66.34,,H,4.84,,N,1
3.45 実測値:,C,66.49,,H,4.98,,N,1
3.32
ルボニル−2−オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:113−115℃(IPE) IR(ヌジョール):1720,,1670,,159
5,,1530cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.30(3H,t,J=
7.1Hz),,3.66(2H,s),,4.23
(2H,q,J=7.1Hz),,5.21(2H,
s),,6.78(1H,d,J=9.7Hz),,
6.91(1H,dt,J=1.4Hz,,6.9H
z),,7.05(1H,,d,J=9.7Hz),,
7.25−7.34(1H,m),,7.43−7.4
8(3H,m),,7.60−7.66(2H,
m),,7.94,(1H,dt,J=1.4Hz,,
8.9Hz),,8.52(1H,dt,J=1.4H
z,,6.9Hz)(+)ーAPCI/MS:417
(M++1) 元素分析:C23H20N4O4として 計算値:,C,66.34,,H,4.84,,N,1
3.45 実測値:,C,66.49,,H,4.98,,N,1
3.32
【0132】実施例14 実施例1と同様の方法で、3−[2−(3−エトキシカ
ルボニル−3,3−ジメチル−2−オキソプロピル)ー
3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]
−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率
28.6%で得る。 mp:112−114℃ IR(KBr):1739.5,,1716.3,,1
662.3,,1587.1,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.20(3H,t,
7.1Hz),,1.45(6H,s),,4.17
(2H,q,J=7.1Hz),,5.28(2H,
s),,6.92(1H,d,J=9.7Hz),,
7.00−7.15(2H,m),,7.37−7.6
5(6H,m),,7.87(1H,d,J=8.9H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:445(M++1) 元素分析:C25H24N4O4として 計算値:,C,67.55,,H,5.44,,N,1
2.60 実測値:,C,67.24,,H,5.64,,N,1
2.36
ルボニル−3,3−ジメチル−2−オキソプロピル)ー
3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]
−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率
28.6%で得る。 mp:112−114℃ IR(KBr):1739.5,,1716.3,,1
662.3,,1587.1,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.20(3H,t,
7.1Hz),,1.45(6H,s),,4.17
(2H,q,J=7.1Hz),,5.28(2H,
s),,6.92(1H,d,J=9.7Hz),,
7.00−7.15(2H,m),,7.37−7.6
5(6H,m),,7.87(1H,d,J=8.9H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:445(M++1) 元素分析:C25H24N4O4として 計算値:,C,67.55,,H,5.44,,N,1
2.60 実測値:,C,67.24,,H,5.64,,N,1
2.36
【0133】実施例15 実施例1と同様の方法で、3−[2−(3−エトキシカ
ルボニル−3,3−ジエチル−2−オキソプロピル)ー
3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]
−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率
30.7%で得る。 mp:146−147℃ IR(KBr):1720.2,,1662.3,,1
587.1,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):0.78(6H,t,
J=7.5Hz),,1.20(3H,t,J=7.1
Hz),,1.87−2.10(4H,,m),,4.
20(2H,q,J=7.1Hz),,5.23(2
H,s),,6.92(1H,d.J=9.7H
z),,7.00−7.15,(2H,m),7.04
(1H,t,J=8.0),,7.47−7.65(5
H,m),,7.85(1H,d,J=8.9H
z),,8.83,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:473(M++1) 元素分析:C27H28N4O4として 計算値:,C,68.63,,H,5.97,,N,1
1.86 実測値:,C,68.58,,H,5.91,,N,1
1.75
ルボニル−3,3−ジエチル−2−オキソプロピル)ー
3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]
−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率
30.7%で得る。 mp:146−147℃ IR(KBr):1720.2,,1662.3,,1
587.1,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):0.78(6H,t,
J=7.5Hz),,1.20(3H,t,J=7.1
Hz),,1.87−2.10(4H,,m),,4.
20(2H,q,J=7.1Hz),,5.23(2
H,s),,6.92(1H,d.J=9.7H
z),,7.00−7.15,(2H,m),7.04
(1H,t,J=8.0),,7.47−7.65(5
H,m),,7.85(1H,d,J=8.9H
z),,8.83,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:473(M++1) 元素分析:C27H28N4O4として 計算値:,C,68.63,,H,5.97,,N,1
1.86 実測値:,C,68.58,,H,5.91,,N,1
1.75
【0134】実施例16 実施例1と実質的に同様の方法で、3−[2−(3−エ
トキシカルボニル−3−(Z)ーエトキシイミノ−2−
オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを収率13.1%で得る。 mp:159−162℃ IR(KBr):1741.4,,1704.8,,1
668.1,,1592.9,,1525.4cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.25(3H,t,
J=7.1Hz),,1.31(3H,t,J=7.0
Hz),,4.32(2H,q,,J=7.1H
z),,4.41(2H,q,J=7.0Hz),,
5.50(2H,s),,6.93(1H,d,J=
9.7Hz),,7.05−,7.16(2H,
m),,7.38−7.62(6H,m),,7.98
(1H,d,J=8.9Hz),,8.83(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:474(M++1) 元素分析:C25H23N5O5として 計算値:,C,63.42,,H,4.90,,N,1
4.79 実測値:,C,63.37,,H,4.82,,N,1
4.65
トキシカルボニル−3−(Z)ーエトキシイミノ−2−
オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを収率13.1%で得る。 mp:159−162℃ IR(KBr):1741.4,,1704.8,,1
668.1,,1592.9,,1525.4cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.25(3H,t,
J=7.1Hz),,1.31(3H,t,J=7.0
Hz),,4.32(2H,q,,J=7.1H
z),,4.41(2H,q,J=7.0Hz),,
5.50(2H,s),,6.93(1H,d,J=
9.7Hz),,7.05−,7.16(2H,
m),,7.38−7.62(6H,m),,7.98
(1H,d,J=8.9Hz),,8.83(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:474(M++1) 元素分析:C25H23N5O5として 計算値:,C,63.42,,H,4.90,,N,1
4.79 実測値:,C,63.37,,H,4.82,,N,1
4.65
【0135】実施例17 実施例1と実質的に同様の方法で、3−[2−(3−ベ
ンジルオキシカルボニル−3,3−ジメチル−2−オキ
ソプロピル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジ
ンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]
ピリジンを収率68.9%で得る。 IR(KBr):1722.1,,1668.1,,1
631.5,,1592.9,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.49(6H,
s),,5.20(2H,s),,5.30(2H,
s),,6.92(1H,d,J=,9.7Hz),,
7.02−7.07(1H,m),,7.12(1H,
d,J=9.7Hz),,7.27−7.64(11
H,m),,7.86,(1H,d,J=8.9H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:507(M++1)
ンジルオキシカルボニル−3,3−ジメチル−2−オキ
ソプロピル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジ
ンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]
ピリジンを収率68.9%で得る。 IR(KBr):1722.1,,1668.1,,1
631.5,,1592.9,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.49(6H,
s),,5.20(2H,s),,5.30(2H,
s),,6.92(1H,d,J=,9.7Hz),,
7.02−7.07(1H,m),,7.12(1H,
d,J=9.7Hz),,7.27−7.64(11
H,m),,7.86,(1H,d,J=8.9H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:507(M++1)
【0136】実施例18 実施例4と同様の方法で、3−(2−フェナシルー3ー
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:194℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):1700,,1665,,162
5,,1590,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.80(2H,
s),,6.95(1H,d,J=9.7Hz),,
7.06−7.10(1H,m),,7.16,(1
H,d,J=9.7Hz),,7.36−7.75(9
H,m),,7.92(1H,d,J=8.8H
z),,8.11(2H,d,J=,7.0Hz),,
8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:407(M++1)
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:194℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):1700,,1665,,162
5,,1590,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.80(2H,
s),,6.95(1H,d,J=9.7Hz),,
7.06−7.10(1H,m),,7.16,(1
H,d,J=9.7Hz),,7.36−7.75(9
H,m),,7.92(1H,d,J=8.8H
z),,8.11(2H,d,J=,7.0Hz),,
8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:407(M++1)
【0137】実施例19 実施例4と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
(2−メトキシカルボニルフェニル)−2−オキソエチ
ル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を得る。 IR(KBr):1722.1,,1668.1,,1
633.4,,1592.2,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):3.35(3H,
s),,5.52(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.04−7.13,(2
H,m),,7.40−7.90(10H,m),,
8.01(1H,d,J=8.9Hz),,8.84
(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:465(M++1)
(2−メトキシカルボニルフェニル)−2−オキソエチ
ル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を得る。 IR(KBr):1722.1,,1668.1,,1
633.4,,1592.2,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):3.35(3H,
s),,5.52(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.04−7.13,(2
H,m),,7.40−7.90(10H,m),,
8.01(1H,d,J=8.9Hz),,8.84
(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:465(M++1)
【0138】実施例20 実施例4と同様の方法で、3−[2−(4−シアノフェ
ナシル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジンを得る。 mp:182℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):2225,,1740,,170
0,,1665,,1625,1585,,1525c
m-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.84(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.07(1H,dt,J=1.38,,6.87H
z),,7.16(1H,d,J=9.7Hz),,
7.41(1H,t,J=8.0Hz),,7.48−
7.54(3H,m),,7.61−7.66(2H,
m),,7.93(1H,d,J=8.9Hz),,
8.11(2H,d,J=8.5Hz),,8.26
(2H,d,,J=8.5Hz),,8.82(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:432(M++1)
ナシル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジンを得る。 mp:182℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):2225,,1740,,170
0,,1665,,1625,1585,,1525c
m-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.84(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.07(1H,dt,J=1.38,,6.87H
z),,7.16(1H,d,J=9.7Hz),,
7.41(1H,t,J=8.0Hz),,7.48−
7.54(3H,m),,7.61−7.66(2H,
m),,7.93(1H,d,J=8.9Hz),,
8.11(2H,d,J=8.5Hz),,8.26
(2H,d,,J=8.5Hz),,8.82(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:432(M++1)
【0139】実施例21 実施例1と同様の方法で、3−[3−オキソ−2−
(3,4,5−トリメトキシフェナシル)−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:241−243℃(テトラヒドロフラン) IR(ヌジョール):1690,,1670,,163
0,,1590,,1520cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.94(6H,s),,
3.95(3H,s),,5.67(2H,s),,
6.84(1H,d,J=,9.7Hz),,6.89
(1H,dt,J=1.3Hz,,6.9Hz),,
7.07(1H,d,J=9.7Hz),,7.25
(1H,t,J=,7.4Hz),,7.32(2H,
s),,7.45−7.49(3H,m),,7.62
−7.67(2H,m),,7.90(1H,d,J
=,8.9Hz),,8.51(1H,d,J=6.9
Hz) (+)ーAPCI/MS:497(M++1) 元素分析:C28H24N4O5として 計算値:,C,67.77,,H,4.87,,N,1
1.29 実測値:,C,67.90,,H,4.83,,N,1
1.28
(3,4,5−トリメトキシフェナシル)−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:241−243℃(テトラヒドロフラン) IR(ヌジョール):1690,,1670,,163
0,,1590,,1520cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.94(6H,s),,
3.95(3H,s),,5.67(2H,s),,
6.84(1H,d,J=,9.7Hz),,6.89
(1H,dt,J=1.3Hz,,6.9Hz),,
7.07(1H,d,J=9.7Hz),,7.25
(1H,t,J=,7.4Hz),,7.32(2H,
s),,7.45−7.49(3H,m),,7.62
−7.67(2H,m),,7.90(1H,d,J
=,8.9Hz),,8.51(1H,d,J=6.9
Hz) (+)ーAPCI/MS:497(M++1) 元素分析:C28H24N4O5として 計算値:,C,67.77,,H,4.87,,N,1
1.29 実測値:,C,67.90,,H,4.83,,N,1
1.28
【0140】実施例22 実施例1と同様の方法で、3−[2−(4−フェニルフ
ェナシル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジン
ー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジンを得る。 mp:183−185℃(メタノール) IR(ヌジョール):1700,,1665,,163
0,,1590,,1530cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.83(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.07(1H,t,J=6.9Hz),,7.16
(1H,d,J=9.7Hz),,7.36−7.95
(14H,m),,8.20(2H,d,J=8.4H
z),,8.82(1H,d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:483(M++1)
ェナシル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジン
ー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピ
リジンを得る。 mp:183−185℃(メタノール) IR(ヌジョール):1700,,1665,,163
0,,1590,,1530cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.83(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.07(1H,t,J=6.9Hz),,7.16
(1H,d,J=9.7Hz),,7.36−7.95
(14H,m),,8.20(2H,d,J=8.4H
z),,8.82(1H,d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:483(M++1)
【0141】実施例23 実施例4と同様の方法で、3−[2−(2−(3−ピリ
ジル)−2−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:188℃(エーテル) IR(ヌジョール):1700,,1665,,162
5,,1585,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.85(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.04−7.10(1H,m),,7.16,(1
H,d,J=9.7Hz),,7.37(7H,
m),,7.94(1H,d,J=8.9Hz),,
8.44(1H,d,J=8.1Hz),,8.82
(1H,d,J=6.9Hz),,8.89(1H,
d,J=4.7Hz),,9.28(1H,s) (+)ーAPCI/MS:408(M++1)
ジル)−2−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:188℃(エーテル) IR(ヌジョール):1700,,1665,,162
5,,1585,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.85(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.04−7.10(1H,m),,7.16,(1
H,d,J=9.7Hz),,7.37(7H,
m),,7.94(1H,d,J=8.9Hz),,
8.44(1H,d,J=8.1Hz),,8.82
(1H,d,J=6.9Hz),,8.89(1H,
d,J=4.7Hz),,9.28(1H,s) (+)ーAPCI/MS:408(M++1)
【0142】実施例24 実施例4と同様の方法で、3−[2−(2−(1−アダ
マンチル)−2−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:192℃(エーテル) IR(ヌジョール):1700,,1665,,162
0,,1590,,1515cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.73(6H,
m),,1.91(6H,m),,2.04(3H,
m),,5.23(2H,S),,6.89,(1H,
d,J=9.7Hz),,7.06−7.14(2H,
m),,7.42−7.50(5H,m),,7.59
−7.62(2H,m),,7.86(1H,d,J=
8.9Hz),,8.82(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:465(M++1)
マンチル)−2−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジンを得る。 mp:192℃(エーテル) IR(ヌジョール):1700,,1665,,162
0,,1590,,1515cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.73(6H,
m),,1.91(6H,m),,2.04(3H,
m),,5.23(2H,S),,6.89,(1H,
d,J=9.7Hz),,7.06−7.14(2H,
m),,7.42−7.50(5H,m),,7.59
−7.62(2H,m),,7.86(1H,d,J=
8.9Hz),,8.82(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:465(M++1)
【0143】実施例25 3−[2−(3−カルボキシ−3,3−ジメチル−2−
オキソプロピル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジン(800mg)のテトラヒドロフラン(3
0ml)溶液に、室温で、1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール(337mg)、1−エチル−3−(3−ジメチ
ルアミノプロピル)カルボジイミド(456μl)およ
びグリシンメチルエステル塩酸塩(362mg)を順次
添加する。30分撹拌後、酢酸エチル(100ml)を
添加し、混合物を、水(30ml×2回)、塩水(30
ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去して得た残留物を、シリカゲル(50m
l)を用いてクロマトグラフィーを行い、50%ー酢酸
エチルージクロロメタンおよびメタノールで順次溶出し
て、3−[2−(3,3−ジメチル−3−(N−メトキ
シカルボニルメチルカルバモイル)−2−オキソプロピ
ル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(670mg;収率71.6%)を得る。 IR(KBr):1745.3,,1664.3,,1
589.1,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.42(6H,
s),,3.65(3H,s),,3.89(2H,
d,J=5.7Hz),,5.25(2H,,s),,
6.90(1H,d,J=9.7Hz),,7.05−
7.15(2H,m),,7.35−7.65(6H,
m),,7.90(1H,d,,J=8.9Hz),,
8.51(1H,br−s),,8.82(1H,d,
J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:488(M++1)
オキソプロピル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジン(800mg)のテトラヒドロフラン(3
0ml)溶液に、室温で、1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール(337mg)、1−エチル−3−(3−ジメチ
ルアミノプロピル)カルボジイミド(456μl)およ
びグリシンメチルエステル塩酸塩(362mg)を順次
添加する。30分撹拌後、酢酸エチル(100ml)を
添加し、混合物を、水(30ml×2回)、塩水(30
ml×2回)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去して得た残留物を、シリカゲル(50m
l)を用いてクロマトグラフィーを行い、50%ー酢酸
エチルージクロロメタンおよびメタノールで順次溶出し
て、3−[2−(3,3−ジメチル−3−(N−メトキ
シカルボニルメチルカルバモイル)−2−オキソプロピ
ル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(670mg;収率71.6%)を得る。 IR(KBr):1745.3,,1664.3,,1
589.1,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.42(6H,
s),,3.65(3H,s),,3.89(2H,
d,J=5.7Hz),,5.25(2H,,s),,
6.90(1H,d,J=9.7Hz),,7.05−
7.15(2H,m),,7.35−7.65(6H,
m),,7.90(1H,d,,J=8.9Hz),,
8.51(1H,br−s),,8.82(1H,d,
J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:488(M++1)
【0144】実施例26 実施例25と同様の方法で、(R)−3−[2−(N−
(1−メトキシカルボニル−1−フェニルメチル)カル
バモイルメチル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを得る。 IR(ヌジョール):1735,,1670,,165
0,,1630,,1590cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):3.66(3H,
s),,4.95(2h,m),,5.52(1H,
d,J=7.1Hz),,6.89(1H,,d,J=
9.7Hz),,7.06(1H,d,J=9.6H
z),,7.04−7.11(1H,m),,7.30
−7.55(9H,m),,7.55−7.70(2
H,m),,7.92(1H,d,J=8.9H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz),,
9.25(1H,d,,J=7.1) (+)ーAPCI/MS:494(M++1)
(1−メトキシカルボニル−1−フェニルメチル)カル
バモイルメチル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを得る。 IR(ヌジョール):1735,,1670,,165
0,,1630,,1590cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):3.66(3H,
s),,4.95(2h,m),,5.52(1H,
d,J=7.1Hz),,6.89(1H,,d,J=
9.7Hz),,7.06(1H,d,J=9.6H
z),,7.04−7.11(1H,m),,7.30
−7.55(9H,m),,7.55−7.70(2
H,m),,7.92(1H,d,J=8.9H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz),,
9.25(1H,d,,J=7.1) (+)ーAPCI/MS:494(M++1)
【0145】実施例27 実施例25と同様の方法で、3−[2−(2−(R)−
メトキシカルボニルメチルピペリジン−1−イル)−2
−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを得る。 mp;不定形粉末、95−100℃ IR(ヌジョール):1730,,1650,,159
0,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.50−1.80
(6H,m),,2.55−2.77(2H,m),,
3.50(3H,m),,4.27−,4.51(1
H,m),,4.89−5.30(2H,m),,6.
89(1H,d,J=9.7Hz),,7.03−7.
11(1H,m),,7.09(1H,d,J=9.7
Hz),,7.37−7.05(4H,m),,7.6
1−7.65(2H,m),,7.93(1H,d,J
=,8.9Hz),,8.81(1H,d,J=7.0
Hz) (+)ーAPCI/MS:486(M++1)
メトキシカルボニルメチルピペリジン−1−イル)−2
−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを得る。 mp;不定形粉末、95−100℃ IR(ヌジョール):1730,,1650,,159
0,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.50−1.80
(6H,m),,2.55−2.77(2H,m),,
3.50(3H,m),,4.27−,4.51(1
H,m),,4.89−5.30(2H,m),,6.
89(1H,d,J=9.7Hz),,7.03−7.
11(1H,m),,7.09(1H,d,J=9.7
Hz),,7.37−7.05(4H,m),,7.6
1−7.65(2H,m),,7.93(1H,d,J
=,8.9Hz),,8.81(1H,d,J=7.0
Hz) (+)ーAPCI/MS:486(M++1)
【0146】実施例28 3−[2−(3,3−ジメチル−3−(N−メトキシカ
ルボニルメチルカルバモイル)−2−オキソプロピル)
ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(650mg)および1N−水酸化ナトリウム(2m
l)のジオキサン(10ml)溶液を、室温で2時間撹
拌後、反応混合物を酢酸エチル(60ml)と水(20
ml)の混合物中に注ぐ。水層を分離し、6N−塩酸で
pH1.4に調整後、ジクロロメタン(50ml×2
回)で抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒を留去し、残留物をシリカゲル(50ml)を用い
てクロマトグラフィーを行い、順次10%ー、20%
ー、30%ーメタノールージクロロメタンで溶出して、
3−[2−(3−(N−カルボキシメチルカルバモイ
ル)−3,3−ジメチル−2−オキソプロピル)ー3ー
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(185m
g;収率29.3%)を得る。 IR(KBr):1729.8,,1658.5,,1
583.3,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.41(6H,
s),,3.56(2H,d,J=4.7Hz),,
5.30(2H,s),,6.88(1H,,d,J=
9.7Hz),,7.00−7.11(2H,m),,
7.36−7.60(6H,m),,7.72(1H,
br−s),,7.86,(1H,d,J=8.9H
z),,8.79(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:474(M++1)
ルボニルメチルカルバモイル)−2−オキソプロピル)
ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(650mg)および1N−水酸化ナトリウム(2m
l)のジオキサン(10ml)溶液を、室温で2時間撹
拌後、反応混合物を酢酸エチル(60ml)と水(20
ml)の混合物中に注ぐ。水層を分離し、6N−塩酸で
pH1.4に調整後、ジクロロメタン(50ml×2
回)で抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒を留去し、残留物をシリカゲル(50ml)を用い
てクロマトグラフィーを行い、順次10%ー、20%
ー、30%ーメタノールージクロロメタンで溶出して、
3−[2−(3−(N−カルボキシメチルカルバモイ
ル)−3,3−ジメチル−2−オキソプロピル)ー3ー
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(185m
g;収率29.3%)を得る。 IR(KBr):1729.8,,1658.5,,1
583.3,,1529.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.41(6H,
s),,3.56(2H,d,J=4.7Hz),,
5.30(2H,s),,6.88(1H,,d,J=
9.7Hz),,7.00−7.11(2H,m),,
7.36−7.60(6H,m),,7.72(1H,
br−s),,7.86,(1H,d,J=8.9H
z),,8.79(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:474(M++1)
【0147】実施例29 実施例28と同様の方法で、(R)−3−[2−[N−
(1−カルボキシ−1−フェニルメチル)カルバモイル
メチル]ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジンを得る。 mp;粉末、245−246℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):3350,,1720,,167
0,,1650,,1625,,1575cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):4.94(2H,
s),,5.44(1H,d,J=7.4Hz),,
6.89(1H,d,J=9.6Hz),,7.06
(1H,d,J=9.7Hz),,7.03−7.11
(1H,m),,7.30−7.55(9H,m),,
7.91(1H,d,,J=8.9Hz),,8.81
(1H,d,J=6.9Hz),,9.12(1H,
d,J=7.5Hz),,13.01(1H,s) (+)ーAPCI/MS:480(M++1)
(1−カルボキシ−1−フェニルメチル)カルバモイル
メチル]ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジンを得る。 mp;粉末、245−246℃(酢酸エチル) IR(ヌジョール):3350,,1720,,167
0,,1650,,1625,,1575cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):4.94(2H,
s),,5.44(1H,d,J=7.4Hz),,
6.89(1H,d,J=9.6Hz),,7.06
(1H,d,J=9.7Hz),,7.03−7.11
(1H,m),,7.30−7.55(9H,m),,
7.91(1H,d,,J=8.9Hz),,8.81
(1H,d,J=6.9Hz),,9.12(1H,
d,J=7.5Hz),,13.01(1H,s) (+)ーAPCI/MS:480(M++1)
【0148】実施例30 実施例28と同様の方法で、3−[2−(2−(2−
(R)−カルボキシメチルピペリジン−1−イル)−2
−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを得る。 mp;結晶、120℃(エーテル) IR(ヌジョール):1720,,1650,,158
0,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.50−1.80
(6H,m),,2.67−2.91(2H,m),,
4.28−4.49(1H,m),,4.92−5.3
1(2H,m),,6.84(1H,d,J=6.8H
z),,6.91−7.11(1H,m),,7.07
(1H,d,,J=6.8Hz),,7.33−7.6
6(6H,m),,7.92(1H,d,J=8.9H
z),,8.81(1H,d,J=6.9Hz),,1
2.3(1H,s) (+)ーAPCI/MS:472(M++1)
(R)−カルボキシメチルピペリジン−1−イル)−2
−オキソエチル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを得る。 mp;結晶、120℃(エーテル) IR(ヌジョール):1720,,1650,,158
0,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.50−1.80
(6H,m),,2.67−2.91(2H,m),,
4.28−4.49(1H,m),,4.92−5.3
1(2H,m),,6.84(1H,d,J=6.8H
z),,6.91−7.11(1H,m),,7.07
(1H,d,,J=6.8Hz),,7.33−7.6
6(6H,m),,7.92(1H,d,J=8.9H
z),,8.81(1H,d,J=6.9Hz),,1
2.3(1H,s) (+)ーAPCI/MS:472(M++1)
【0149】実施例31 実施例28と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
(2−カルボキシフェニル)−2−オキソエチル)ー3
ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率2
8.7%で得る。 IR(KBr):1712.5,,1660.4,,1
585.2,,1531.2cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.43(2H,
s),,6.90(1H,d,J=9.7Hz),,
7.04−7.10(2H,m),,7.20,−7.
30(1H,m),,7.35−7.61(8H,
m),,7.86−7.92(1H,m),,7.95
(1H,d,J=8.9Hz),,8.82(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:451(M++1)
(2−カルボキシフェニル)−2−オキソエチル)ー3
ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率2
8.7%で得る。 IR(KBr):1712.5,,1660.4,,1
585.2,,1531.2cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.43(2H,
s),,6.90(1H,d,J=9.7Hz),,
7.04−7.10(2H,m),,7.20,−7.
30(1H,m),,7.35−7.61(8H,
m),,7.86−7.92(1H,m),,7.95
(1H,d,J=8.9Hz),,8.82(1H,
d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:451(M++1)
【0150】実施例32 3−[2−(4−メトキシカルボニル−2−オキソブチ
ル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(0.30g)および1N−水酸化ナトリウム溶液
(1.44ml)のメタノール(5ml)溶液を、0.
5時間、撹拌下に還流する。反応混合物の溶媒を減圧下
に留去し、残留物を水に溶解後、1N−塩酸で酸性化
し、生成する固形物を濾過して、3−[2−(4−カル
ボキシ−2−オキソブチル)ー3−オキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(0.28g)を得る。 mp:191−193℃ IR(ヌジョール):1710,,1640,,157
0,,1530,,1500cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.51(2H,t,
J=6.2Hz),,2.84(2H,t,J=6.2
Hz),,5.15(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.08(1H,dt,J=
1.3Hz,,6.7Hz),,7.08(1H,d,
J=9.7Hz),7.38−7.65(6H,
m),,7.90(1H,d,J=8.9Hz),,
8.82(1H,d,J=6.9Hz),,12.23
(1H,s) (+)ーAPCI/MS:403(M++1) 元素分析:C22H18N4O4・H2Oとして 計算値:,C,62.85,,H,4.79,,N,1
3.33 実測値:,C,62.59,,H,4.64,,N,1
3.31
ル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(0.30g)および1N−水酸化ナトリウム溶液
(1.44ml)のメタノール(5ml)溶液を、0.
5時間、撹拌下に還流する。反応混合物の溶媒を減圧下
に留去し、残留物を水に溶解後、1N−塩酸で酸性化
し、生成する固形物を濾過して、3−[2−(4−カル
ボキシ−2−オキソブチル)ー3−オキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(0.28g)を得る。 mp:191−193℃ IR(ヌジョール):1710,,1640,,157
0,,1530,,1500cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.51(2H,t,
J=6.2Hz),,2.84(2H,t,J=6.2
Hz),,5.15(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.08(1H,dt,J=
1.3Hz,,6.7Hz),,7.08(1H,d,
J=9.7Hz),7.38−7.65(6H,
m),,7.90(1H,d,J=8.9Hz),,
8.82(1H,d,J=6.9Hz),,12.23
(1H,s) (+)ーAPCI/MS:403(M++1) 元素分析:C22H18N4O4・H2Oとして 計算値:,C,62.85,,H,4.79,,N,1
3.33 実測値:,C,62.59,,H,4.64,,N,1
3.31
【0151】実施例33 3−[2−(3−ベンジルオキシカルボニル−3,3−
ジメチル−2−オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジン(1g)と10%パラジウ
ムカーボン(50%湿潤、200mg)のメタノール
(20ml)懸濁液を、水素雰囲気下に2時間撹拌す
る。反応混合物に1N−水酸化ナトリウム水溶液(10
ml)を添加し、触媒を濾去し、メタノールを減圧下に
留去して残った水溶液を酢酸エチル(50ml)で洗浄
する。水層に水(50ml)を加え、6N−塩酸でpH
1.4に調整後、酢酸エチル(100ml)で抽出す
る。有機層を合わせ、水(50ml)、塩水(50m
l),で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を留去し、粗生成物をエタノールで再結晶して、3−
[2−(3−カルボキシ−3,3−ジメチル−2−オキ
ソプロピル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジ
ンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]
ピリジン(470mg;57.3%)を得る。 mp:155−157℃ IR(KBr):1733.7,,1702.8,,1
668.1,,1639.2,,1573.6,,15
27.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.43(6H,
s),,5.30(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,6.99−7.14,(2
H,m),,7.37−7.65(6H,m),,7.
87(1H,d,J=8.9Hz),,8.82(1
H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:417(M++1) 元素分析:C23H20N4O4・1/2H2Oとして 計算値:,C,64.93,,H,4.96,,N,1
3.17 実測値:,C,65.14,,H,4.90,,N,1
3.10
ジメチル−2−オキソプロピル)ー3−オキソ−2,3
−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピラ
ゾロ[1,5−a]ピリジン(1g)と10%パラジウ
ムカーボン(50%湿潤、200mg)のメタノール
(20ml)懸濁液を、水素雰囲気下に2時間撹拌す
る。反応混合物に1N−水酸化ナトリウム水溶液(10
ml)を添加し、触媒を濾去し、メタノールを減圧下に
留去して残った水溶液を酢酸エチル(50ml)で洗浄
する。水層に水(50ml)を加え、6N−塩酸でpH
1.4に調整後、酢酸エチル(100ml)で抽出す
る。有機層を合わせ、水(50ml)、塩水(50m
l),で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を留去し、粗生成物をエタノールで再結晶して、3−
[2−(3−カルボキシ−3,3−ジメチル−2−オキ
ソプロピル)ー3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジ
ンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]
ピリジン(470mg;57.3%)を得る。 mp:155−157℃ IR(KBr):1733.7,,1702.8,,1
668.1,,1639.2,,1573.6,,15
27.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.43(6H,
s),,5.30(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,6.99−7.14,(2
H,m),,7.37−7.65(6H,m),,7.
87(1H,d,J=8.9Hz),,8.82(1
H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:417(M++1) 元素分析:C23H20N4O4・1/2H2Oとして 計算値:,C,64.93,,H,4.96,,N,1
3.17 実測値:,C,65.14,,H,4.90,,N,1
3.10
【0152】実施例34 3−[2−(4−シアノフェナシル)ー3ーオキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.0g)と70
%ー硫酸(10ml)を、140℃で3時間加熱後、反
応混合物を氷水中に注ぎ、生成する沈澱物を濾過で集
め、水洗乾燥して、3−[2−(4−カルボキシフェナ
シル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6
−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジ
ン(0.41g)を得る。 mp:265℃ IR(ヌジョール):1700,,1665,,163
0,,1590,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.83(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.07(1H,t,J=5.6Hz),,7.16
(1H,d,J=9.7Hz),,7.41(1H,
t,J=8.9Hz),,7.44−7.64(5H,
m),,7.94(1H,d,,J=8.9Hz),
8.13(2H,d,J=8.5Hz),,8.82
(1Hd,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:451(M++1)
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.0g)と70
%ー硫酸(10ml)を、140℃で3時間加熱後、反
応混合物を氷水中に注ぎ、生成する沈澱物を濾過で集
め、水洗乾燥して、3−[2−(4−カルボキシフェナ
シル)ー3ーオキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6
−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジ
ン(0.41g)を得る。 mp:265℃ IR(ヌジョール):1700,,1665,,163
0,,1590,,1525cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):5.83(2H,
s),,6.96(1H,d,J=9.7Hz),,
7.07(1H,t,J=5.6Hz),,7.16
(1H,d,J=9.7Hz),,7.41(1H,
t,J=8.9Hz),,7.44−7.64(5H,
m),,7.94(1H,d,,J=8.9Hz),
8.13(2H,d,J=8.5Hz),,8.82
(1Hd,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:451(M++1)
【0153】実施例35 3−(2−カルボキシメチル−3−オキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(1.0g)、1−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール(510mg)、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(69
0μl)およびメチルアミン塩酸塩(254mg)の
N,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液を、室
温で1時間撹拌する。溶媒を留去した残留物を、クロロ
ホルム(50ml)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液(30ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液(30
ml)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を留去して得た粗生成物をエタノールで再結晶し、3
−(2−(2−メチルアミノ−2−オキソエチル)−3
−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.0
g;収率96.1%)を得る。 mp:231.0−232.0℃ FT−IR(KBr):1670.1,,1585.
2,,1529.3cm-1NMR(CDCl3,δ):
2.87(3H,d,J=4.9Hz),,4.93
(2H,s),,6.54(1H,br−s),,6.
80(1H,,d,J=9.7Hz),,6.93(1
H,t,J=5.9Hx),,7.07(1H,d,J
=9.7Hz),,7.30−7.38(1H,
m),,7.45−7.49(3H,m),,7.59
−7.63(2H,m),,8.10(1H,d,J=
8.9Hz),,8.53(1H,d,,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:360(M++1) 元素分析:C20H17N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,66.01,,H,4.85,,N,1
9.25 実測値:,C,66.03,,H,4.71,,N,1
9.20
ヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(1.0g)、1−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール(510mg)、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(69
0μl)およびメチルアミン塩酸塩(254mg)の
N,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液を、室
温で1時間撹拌する。溶媒を留去した残留物を、クロロ
ホルム(50ml)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液(30ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液(30
ml)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を留去して得た粗生成物をエタノールで再結晶し、3
−(2−(2−メチルアミノ−2−オキソエチル)−3
−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(1.0
g;収率96.1%)を得る。 mp:231.0−232.0℃ FT−IR(KBr):1670.1,,1585.
2,,1529.3cm-1NMR(CDCl3,δ):
2.87(3H,d,J=4.9Hz),,4.93
(2H,s),,6.54(1H,br−s),,6.
80(1H,,d,J=9.7Hz),,6.93(1
H,t,J=5.9Hx),,7.07(1H,d,J
=9.7Hz),,7.30−7.38(1H,
m),,7.45−7.49(3H,m),,7.59
−7.63(2H,m),,8.10(1H,d,J=
8.9Hz),,8.53(1H,d,,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:360(M++1) 元素分析:C20H17N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,66.01,,H,4.85,,N,1
9.25 実測値:,C,66.03,,H,4.71,,N,1
9.20
【0154】実施例36 実施例35と実質的に同様の方法で、3−(2−(2−
エチルアミノ−2−オキソエチル)−3−オキソ−2,
3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニルピ
ラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率94.6%で得
る。 mp:252.0−254.0℃ FT−IR(KBr):1683.6,,1658.
5,,1585.2,,1556.3,,1527.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.17(3H,t,J=
7.3Hz),,3.28−3.43(2H,m),,
4.92(2H,s),,6.50,(1H,br−
s),,6.80(1H,d,J=9.7Hz),,
6.89−6.97(1H,m),,7.07(1H,
d,J=9.7Hz),,7.29−7.38(1H,
m),,7.44−7.49(3H,m),,7.59
−7.65(2H,m),,8.10(1H,d,,J
=8.9Hz),,8.55(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:374(M++1) 元素分析:C21H19N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,65.95,,H,5.27,,N,1
8.31 実測値:,C,65.59,,H,5.00,,N,1
8.18
エチルアミノ−2−オキソエチル)−3−オキソ−2,
3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニルピ
ラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率94.6%で得
る。 mp:252.0−254.0℃ FT−IR(KBr):1683.6,,1658.
5,,1585.2,,1556.3,,1527.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.17(3H,t,J=
7.3Hz),,3.28−3.43(2H,m),,
4.92(2H,s),,6.50,(1H,br−
s),,6.80(1H,d,J=9.7Hz),,
6.89−6.97(1H,m),,7.07(1H,
d,J=9.7Hz),,7.29−7.38(1H,
m),,7.44−7.49(3H,m),,7.59
−7.65(2H,m),,8.10(1H,d,,J
=8.9Hz),,8.55(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:374(M++1) 元素分析:C21H19N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,65.95,,H,5.27,,N,1
8.31 実測値:,C,65.59,,H,5.00,,N,1
8.18
【0155】実施例37 実施例35と実質的に同様の方法で、3−(2−(2−
ジメチルアミノ−2−オキソエチル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率85.2%で
得る。 mp:189.0−190.0℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1587.
1,,1525.4,,1496.5cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.90(3H,
s),,3.08(3H,s),,5.07(2H,
s),,6.89(1H,d,J=,9.7Hz),,
7.04−7.12(2H,m),,7.37−7.6
6(6H,m),,7.93(1H,d,J=8.9H
z),,8.82,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:374(M++1) 元素分析:C21H19N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,65.95,,H,5.27,,N,1
8.31 実測値:,C,66.01,,H,5.40,,N,1
7.95
ジメチルアミノ−2−オキソエチル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率85.2%で
得る。 mp:189.0−190.0℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1587.
1,,1525.4,,1496.5cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.90(3H,
s),,3.08(3H,s),,5.07(2H,
s),,6.89(1H,d,J=,9.7Hz),,
7.04−7.12(2H,m),,7.37−7.6
6(6H,m),,7.93(1H,d,J=8.9H
z),,8.82,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:374(M++1) 元素分析:C21H19N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,65.95,,H,5.27,,N,1
8.31 実測値:,C,66.01,,H,5.40,,N,1
7.95
【0156】実施例38 実施例35と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
((3R)−3−ヒドロキシピロリジン−1−イル)−
2−オキソエチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピ
リダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5
−a]ピリジンを収率90.1%で得る。 mp:176.5−177.5℃ FT−IR(KBr):1658.5,,1583.
3,,1527.3,,1498.4cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.95−2.20(2
H,m),,2.79(1H,br−s),,3.50
−3.90(4H,m),,4.45−,4.55(1
H,m),,4.94−5.07(2H,m),,6.
79(1H,d,J=9.7Hz),,6.88(1
H,t,J=6.9Hz),,7.04(1H,d,J
=9.7Hz),,7.22−7.31(1H,
m),,7.41−7.48(3H,m),,7.61
−7.67(2H,,m),,8.02(1H,d,J
=8.9Hz),,8.50(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3・1/4H2Oとして 計算値:,C,65.78,,H,5.16,,N,1
6.68 実測値:,C,65.95,,H,4.95,,N,1
6.67
((3R)−3−ヒドロキシピロリジン−1−イル)−
2−オキソエチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピ
リダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5
−a]ピリジンを収率90.1%で得る。 mp:176.5−177.5℃ FT−IR(KBr):1658.5,,1583.
3,,1527.3,,1498.4cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.95−2.20(2
H,m),,2.79(1H,br−s),,3.50
−3.90(4H,m),,4.45−,4.55(1
H,m),,4.94−5.07(2H,m),,6.
79(1H,d,J=9.7Hz),,6.88(1
H,t,J=6.9Hz),,7.04(1H,d,J
=9.7Hz),,7.22−7.31(1H,
m),,7.41−7.48(3H,m),,7.61
−7.67(2H,,m),,8.02(1H,d,J
=8.9Hz),,8.50(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3・1/4H2Oとして 計算値:,C,65.78,,H,5.16,,N,1
6.68 実測値:,C,65.95,,H,4.95,,N,1
6.67
【0157】実施例39 実施例35と実質的に同様の方法で、3−[2−(3,
3−ジメチル−4−ジメチルアミノ−2,4−ジオキソ
ブチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジンを収率16.3%で得る。 mp:182.0−184.0℃ FT−IR(KBr):1720.2,,1666.
2,,1637.3,,1591.0,,1531.
2,,1498.4cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.41(6H,
s),,2.82(6H,br−s),,5.28(2
H,s),,6.94(1H,d,,J=6.7H
z),,7.04−7.11(1H,m),,7.17
(1H,d,J=9.7Hz),,7.38−7.62
(6H,m),,7.86,(1H,d,J=9.7H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:444(M++1) 元素分析:C25H25N5O3として 計算値:,C,67.71,,H,5.68,,N,1
5.79 実測値:,C,67.23,,H,5.82,,N,1
5.37
3−ジメチル−4−ジメチルアミノ−2,4−ジオキソ
ブチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー
6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリ
ジンを収率16.3%で得る。 mp:182.0−184.0℃ FT−IR(KBr):1720.2,,1666.
2,,1637.3,,1591.0,,1531.
2,,1498.4cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.41(6H,
s),,2.82(6H,br−s),,5.28(2
H,s),,6.94(1H,d,,J=6.7H
z),,7.04−7.11(1H,m),,7.17
(1H,d,J=9.7Hz),,7.38−7.62
(6H,m),,7.86,(1H,d,J=9.7H
z),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:444(M++1) 元素分析:C25H25N5O3として 計算値:,C,67.71,,H,5.68,,N,1
5.79 実測値:,C,67.23,,H,5.82,,N,1
5.37
【0158】実施例40 実施例35と実質的に同様の方法で、3−[2−(4−
カルバモイル−2−オキソブチル)−3−オキソ−2,
3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピ
ラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率59.1%で得
る。 mp:209.0−213.0℃ FT−IR(KBr):1722.1,,1660.
4,,1589.1,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.39(2H,t,
J=6.6Hz),,2.79(2H,t,J=6.6
Hz),,5.13(2H,s),,6.82(1H,
br−s),,6.91(1H,d,J=9.7H
z),,7.04−7.13(2H,m),,7.30
−7.63(7H,m),,7.91(1H,d,J=
8.8Hz),,8.82(1H,d,J=6.8H
z) (+)ーAPCI/MS:402(M++1) 元素分析:C22H19N5O3として 計算値:,C,65.83,,H,4.77,,N,1
7.45 実測値:,C,65.52,,H,4.71,,N,1
7.34
カルバモイル−2−オキソブチル)−3−オキソ−2,
3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニルピ
ラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率59.1%で得
る。 mp:209.0−213.0℃ FT−IR(KBr):1722.1,,1660.
4,,1589.1,,1527.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.39(2H,t,
J=6.6Hz),,2.79(2H,t,J=6.6
Hz),,5.13(2H,s),,6.82(1H,
br−s),,6.91(1H,d,J=9.7H
z),,7.04−7.13(2H,m),,7.30
−7.63(7H,m),,7.91(1H,d,J=
8.8Hz),,8.82(1H,d,J=6.8H
z) (+)ーAPCI/MS:402(M++1) 元素分析:C22H19N5O3として 計算値:,C,65.83,,H,4.77,,N,1
7.45 実測値:,C,65.52,,H,4.71,,N,1
7.34
【0159】実施例41 実施例35と実質的に同様の方法で、3−[2−(5−
メチルアミノ−2,5−ジオキソペンチル)−3−オキ
ソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フ
ェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率41.7
%で得る。 mp:205.8−206.8℃ FT−IR(KBr):1735.6,,1668.
1,,1587.1,,1529.3,,1494.6
cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.38(2H,t,
J=6.8Hz),,2.57(3H,d,J=4.6
Hz),,2.81(2H,t,,J=6.8H
z),,5.13(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.04−7.13(2H,
m),,7.37−7.65,(6H,m),,7.8
0−7.90(1H,m),,7.92(1H,d,J
=8.9Hz),,8.82(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3・3/16H2Oとして 計算値:,C,65.96,,H,5.14,,N,1
6.72 実測値:,C,65.86,,H,4.89,,N,1
6.35
メチルアミノ−2,5−ジオキソペンチル)−3−オキ
ソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フ
ェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率41.7
%で得る。 mp:205.8−206.8℃ FT−IR(KBr):1735.6,,1668.
1,,1587.1,,1529.3,,1494.6
cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.38(2H,t,
J=6.8Hz),,2.57(3H,d,J=4.6
Hz),,2.81(2H,t,,J=6.8H
z),,5.13(2H,s),,6.91(1H,
d,J=9.7Hz),,7.04−7.13(2H,
m),,7.37−7.65,(6H,m),,7.8
0−7.90(1H,m),,7.92(1H,d,J
=8.9Hz),,8.82(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3・3/16H2Oとして 計算値:,C,65.96,,H,5.14,,N,1
6.72 実測値:,C,65.86,,H,4.89,,N,1
6.35
【0160】実施例42 実施例35と実質的に同様の方法で、3−[2−(5−
ジメチルアミノ−2,5−ジオキソペンチル)−3−オ
キソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−
フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率83.
3%で得る。 mp:195.0−198.0℃ FT−IR(KBr):1735.6,,1656.
6,,1587.1,,1527.3,,1498.4
cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.60−2.80
(4H,m),,2.83(3H,s),,2.98
(3H,s),,5.16(2H,s),,6.90
(1H,d,J=9.7Hz),,7.04−7.12
(2H,m),,7.36−7.63(6H,m),,
7.94(1H,d,,J=8.8Hz),,8.82
(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:430(M++1) 元素分析:C21H19N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,65.96,,H,5.27,,N,1
8.13 実測値:,C,66.01,,H,5.40,,N,1
7.95
ジメチルアミノ−2,5−ジオキソペンチル)−3−オ
キソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−
フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率83.
3%で得る。 mp:195.0−198.0℃ FT−IR(KBr):1735.6,,1656.
6,,1587.1,,1527.3,,1498.4
cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.60−2.80
(4H,m),,2.83(3H,s),,2.98
(3H,s),,5.16(2H,s),,6.90
(1H,d,J=9.7Hz),,7.04−7.12
(2H,m),,7.36−7.63(6H,m),,
7.94(1H,d,,J=8.8Hz),,8.82
(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:430(M++1) 元素分析:C21H19N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,65.96,,H,5.27,,N,1
8.13 実測値:,C,66.01,,H,5.40,,N,1
7.95
【0161】実施例43 実施例35と実質的に同様の方法で、3−[2−(2,
5−ジオキソ−5−(ピペリジン−1−イル)ペンチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を収率78.4%で得る。 mp:138.0−139.0℃ FT−IR(KBr):1727.9,,1664.
3,,1635.3,,1591.0,,1531.
2,,1500.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.35−1.65
(6H,m),,2.60−2.80(4H,m),,
3.30−3.50(4H,m),,5.16(2H,
s),,6.90(1H,d,J=9.7Hz),,
7.04−7.12(2H,m),,7.35−7.4
3(1H,m),,7.47−7.55(3H,
m),,7.59−7.65(2H,m),,7.94
(1H,d,J=8.9Hz),,8.82(1H,
d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:470(M++1) 元素分析:C27H27N5O3として 計算値:,C,69.07,H,5.80,,N,1
4.92 実測値:,C,68.79,,H,5.69,,N,1
4.71
5−ジオキソ−5−(ピペリジン−1−イル)ペンチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を収率78.4%で得る。 mp:138.0−139.0℃ FT−IR(KBr):1727.9,,1664.
3,,1635.3,,1591.0,,1531.
2,,1500.3cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.35−1.65
(6H,m),,2.60−2.80(4H,m),,
3.30−3.50(4H,m),,5.16(2H,
s),,6.90(1H,d,J=9.7Hz),,
7.04−7.12(2H,m),,7.35−7.4
3(1H,m),,7.47−7.55(3H,
m),,7.59−7.65(2H,m),,7.94
(1H,d,J=8.9Hz),,8.82(1H,
d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:470(M++1) 元素分析:C27H27N5O3として 計算値:,C,69.07,H,5.80,,N,1
4.92 実測値:,C,68.79,,H,5.69,,N,1
4.71
【0162】実施例44 3−(2−カルボキシメチル−3−オキソ−2,3−ジ
ヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(1.0g)、1−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール(510mg)、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
(720mg)およびイソプロピルアミン(322μ
l)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液
を、室温で2時間撹拌する。溶媒を留去し、残留物をク
ロロホルム(60ml)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液(50ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液
(50ml)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残留物をn−ヘキサンーエタノール
混合物から再結晶して、3−[2−(2−(1−メチル
エチルアミノ)−2−オキソエチル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(934.8mg;
収率83.5%)を得る。 mp:231.0−232.0℃ FT−IR(KBr):1679.7,,1656.
6,,1585.2,,1550.5,,1527.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.19(6H,d,J=
1.19),,4.03−4.21(1H,m),,
4.89(2H,s),,6.20−,6.40(1
H,m),,6.80(1H,d,J=9.7H
z),,6.92−6.97(1H,m),,7.06
(1H,d,J=9.7Hz),,7.27−7.45
(1H,m),,7.45−7.50(3H,m),,
7.59−7.65(2H,m),,8.10(1H,
d,J=,8.9Hz),,8.53(1H,d,J=
6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:388(M++1) 元素分析:C22H21N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,67.42,H,5.53,,N,1
7.87 実測値:,C,67.29,,H,5.39,,N,1
7.79
ヒドロピリダジンー6−イル)−2−フェニルピラゾロ
[1,5−a]ピリジン(1.0g)、1−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール(510mg)、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
(720mg)およびイソプロピルアミン(322μ
l)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液
を、室温で2時間撹拌する。溶媒を留去し、残留物をク
ロロホルム(60ml)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液(50ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液
(50ml)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残留物をn−ヘキサンーエタノール
混合物から再結晶して、3−[2−(2−(1−メチル
エチルアミノ)−2−オキソエチル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(934.8mg;
収率83.5%)を得る。 mp:231.0−232.0℃ FT−IR(KBr):1679.7,,1656.
6,,1585.2,,1550.5,,1527.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.19(6H,d,J=
1.19),,4.03−4.21(1H,m),,
4.89(2H,s),,6.20−,6.40(1
H,m),,6.80(1H,d,J=9.7H
z),,6.92−6.97(1H,m),,7.06
(1H,d,J=9.7Hz),,7.27−7.45
(1H,m),,7.45−7.50(3H,m),,
7.59−7.65(2H,m),,8.10(1H,
d,J=,8.9Hz),,8.53(1H,d,J=
6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:388(M++1) 元素分析:C22H21N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,67.42,H,5.53,,N,1
7.87 実測値:,C,67.29,,H,5.39,,N,1
7.79
【0163】実施例45 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
(1,1−ジメチルエチルアミノ)−2−オキソエチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を収率86%で得る。 mp:225.0−226.5℃ FT−IR(KBr):1693.2,,1662.
3,,1594.8,,1525.4cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.39(9H,s),,
4.48(2H,s),,6.16(1H,br−
s),,6.79(1H,d,,J=9.7Hz),,
6.87−6.96(1H,m),,7.05(1H,
d,J=9.7Hz),,7.26−7.36(1H,
m),,7.44,−7.48(3H,m),,7.6
0−7.65(2H,m),,8.09(1H,d,J
=8.9Hz),,8.52(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:402(M++1) 元素分析:C23H23N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,68.05,H,5.83,,N,1
7.25 実測値:,C,68.13,,H,5.65,,N,1
7.17
(1,1−ジメチルエチルアミノ)−2−オキソエチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を収率86%で得る。 mp:225.0−226.5℃ FT−IR(KBr):1693.2,,1662.
3,,1594.8,,1525.4cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.39(9H,s),,
4.48(2H,s),,6.16(1H,br−
s),,6.79(1H,d,,J=9.7Hz),,
6.87−6.96(1H,m),,7.05(1H,
d,J=9.7Hz),,7.26−7.36(1H,
m),,7.44,−7.48(3H,m),,7.6
0−7.65(2H,m),,8.09(1H,d,J
=8.9Hz),,8.52(1H,d,J=6.9H
z) (+)ーAPCI/MS:402(M++1) 元素分析:C23H23N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,68.05,H,5.83,,N,1
7.25 実測値:,C,68.13,,H,5.65,,N,1
7.17
【0164】実施例46 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
N−エチル−N−メチルアミノ)−2−オキソエチル)
−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを
収率57.1%で得る。 mp:190.0−192.0℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1592.
9,,1527.3,,1492.6cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.17,and,1.8
1(3H(1:1),2×t,J=7.2Hz),,
3.02,and,3.11,(3H(1:1),2×
s),,3.40−3.57(2H,m),,5.0
6,and,5.09(2H(1:1),2×s),,
6.80,(1H,d,J=9.7Hz),,8.85
−8.92(1H,m),,7.03(1H,d,J=
9.7Hz),,7.22−7.31(1H,m),
7.43,−7.47(3H,m),,7.62−7.
66(2H,m),,8.01(1H,d,J=8.9
Hz),,8.50(1H,d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:388(M++1) 元素分析:C22H21N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,67.42,H,5.53,,N,1
7.87 実測値:,C,67.52,,H,5.25,,N,1
8.17
N−エチル−N−メチルアミノ)−2−オキソエチル)
−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを
収率57.1%で得る。 mp:190.0−192.0℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1592.
9,,1527.3,,1492.6cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.17,and,1.8
1(3H(1:1),2×t,J=7.2Hz),,
3.02,and,3.11,(3H(1:1),2×
s),,3.40−3.57(2H,m),,5.0
6,and,5.09(2H(1:1),2×s),,
6.80,(1H,d,J=9.7Hz),,8.85
−8.92(1H,m),,7.03(1H,d,J=
9.7Hz),,7.22−7.31(1H,m),
7.43,−7.47(3H,m),,7.62−7.
66(2H,m),,8.01(1H,d,J=8.9
Hz),,8.50(1H,d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:388(M++1) 元素分析:C22H21N5O2・1/4H2Oとして 計算値:,C,67.42,H,5.53,,N,1
7.87 実測値:,C,67.52,,H,5.25,,N,1
8.17
【0165】実施例47 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
ジエチルアミノ)−2−オキソエチル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率88.3%で
得る。 mp:136.5−138.0℃ FT−IR(KBr):1660.4,,1589.
1,,1527.3,,1490.7cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.20(3H,t,J=
7.1Hz),,1.32(3H,t,J=7.1H
z),,3.39−3.54(4H,m),5.08
(2H,s),,6.80(1H,d,J=9.7H
z),,6.85−6.93(1H,m),,7.04
(1H,d,J=9.7Hz),,7.43−7.49
(3H,m),,7.62−7.68(2H,m),,
8.03(1H,d,J=8.9Hz),,8.51
(1H,d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:402(M++1) 元素分析:C23H23N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,67.30,H,5.89,,N,1
7.06 実測値:,C,67.62,,H,5.48,,N,1
7.08
ジエチルアミノ)−2−オキソエチル)−3−オキソ−
2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2−フェニ
ルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率88.3%で
得る。 mp:136.5−138.0℃ FT−IR(KBr):1660.4,,1589.
1,,1527.3,,1490.7cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.20(3H,t,J=
7.1Hz),,1.32(3H,t,J=7.1H
z),,3.39−3.54(4H,m),5.08
(2H,s),,6.80(1H,d,J=9.7H
z),,6.85−6.93(1H,m),,7.04
(1H,d,J=9.7Hz),,7.43−7.49
(3H,m),,7.62−7.68(2H,m),,
8.03(1H,d,J=8.9Hz),,8.51
(1H,d,,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:402(M++1) 元素分析:C23H23N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,67.30,H,5.89,,N,1
7.06 実測値:,C,67.62,,H,5.48,,N,1
7.08
【0166】実施例48 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
オキソ−2−(ピロリジン−1−イル)エチル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率7
6.0%で得る。 mp:169.5−170.5℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1591.
0,,1527.3,,1467.3cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.84−2.12(4
H,m),,3.54−3.63(4H,m),,5.
01(2H,s),,6.80(1H,d,J=9.7
Hz),,6.90(1H,t,J=6.9Hz),,
7.03(1H,d,J=9.7Hz),7.19−
7.29(1H,m),,7.43−7.49(3H,
m),,7.62−7.68(2H,m),,8.05
(1H,d,J=8.9Hz),,8.52(1H,
d,,J=6.9) (+)ーAPCI/MS:400(M++1) 元素分析:C23H21N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,67.63,H,5.43,,N,1
7.15 実測値:,C,68.33,,H,5.19,,N,1
7.24
オキソ−2−(ピロリジン−1−イル)エチル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率7
6.0%で得る。 mp:169.5−170.5℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1591.
0,,1527.3,,1467.3cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.84−2.12(4
H,m),,3.54−3.63(4H,m),,5.
01(2H,s),,6.80(1H,d,J=9.7
Hz),,6.90(1H,t,J=6.9Hz),,
7.03(1H,d,J=9.7Hz),7.19−
7.29(1H,m),,7.43−7.49(3H,
m),,7.62−7.68(2H,m),,8.05
(1H,d,J=8.9Hz),,8.52(1H,
d,,J=6.9) (+)ーAPCI/MS:400(M++1) 元素分析:C23H21N5O2・1/2H2Oとして 計算値:,C,67.63,H,5.43,,N,1
7.15 実測値:,C,68.33,,H,5.19,,N,1
7.24
【0167】実施例49 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
オキソ−2−(ピペリジン−1−イル)エチル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率8
5.7%で得る。 mp:204.5−206.0℃ FT−IR(KBr):1660.4,,1592.
9,,1527.3,,1496.5cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.40−1.70
(6H,m),,3.40−3.55(4H,m),,
5.07(2H,s),,6.89(1H,d,J=
9.7Hz),,7.03−7.12(2H,m),,
7.37−7.53(4H,m),,7.60−7.6
6(2H,m),,7.92,(1H,d,J=8.9
Hz),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:414(M++1) 元素分析:C24H23N5O2として 計算値:,C,69.72,H,5.61,,N,1
6.94 実測値:,C,69.46,,H,5.47,,N,1
6.91
オキソ−2−(ピペリジン−1−イル)エチル)−3−
オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−2
−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率8
5.7%で得る。 mp:204.5−206.0℃ FT−IR(KBr):1660.4,,1592.
9,,1527.3,,1496.5cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):1.40−1.70
(6H,m),,3.40−3.55(4H,m),,
5.07(2H,s),,6.89(1H,d,J=
9.7Hz),,7.03−7.12(2H,m),,
7.37−7.53(4H,m),,7.60−7.6
6(2H,m),,7.92,(1H,d,J=8.9
Hz),,8.82(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:414(M++1) 元素分析:C24H23N5O2として 計算値:,C,69.72,H,5.61,,N,1
6.94 実測値:,C,69.46,,H,5.47,,N,1
6.91
【0168】実施例50 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
(モルフォリン−4−イル)ー2−オキソエチル)−3
−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率7
6%で得る。 mp:204.5−206.0℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1587.
1,,1529.3,,1500.3cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.58−3.80(8
H,m),,5.09(2H,s),,6.80(1
H,d,J=9.7),,6.86−,6.95(1
H,m),,7.06(1H,d,J=9.7H
z),,7.24−7.34(1H,m),,7.44
−7.49(3H,m),,7.62−7.67(2
H,m),,8.00(1H,d,J=8.9H
z),,8.52(1H,d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3として 計算値:,C,66.49,H,5.09,,N,1
6.86 実測値:,C,66.54,,H,5.23,,N,1
6.73
(モルフォリン−4−イル)ー2−オキソエチル)−3
−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル]−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを収率7
6%で得る。 mp:204.5−206.0℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1587.
1,,1529.3,,1500.3cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.58−3.80(8
H,m),,5.09(2H,s),,6.80(1
H,d,J=9.7),,6.86−,6.95(1
H,m),,7.06(1H,d,J=9.7H
z),,7.24−7.34(1H,m),,7.44
−7.49(3H,m),,7.62−7.67(2
H,m),,8.00(1H,d,J=8.9H
z),,8.52(1H,d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3として 計算値:,C,66.49,H,5.09,,N,1
6.86 実測値:,C,66.54,,H,5.23,,N,1
6.73
【0169】実施例51 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
オキソ−2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を収率73.3%で得る。 mp:177.0−178.0℃ FT−IR(KBr):1660.4,,1587.
1,,1525.4,,1492.6cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.21(3H,
s),,2.25−2.40(4H,m),,3.40
−3.60(4H,m),,5.09,(2H,
s),,6.89(1H,d,J=9.7Hz),,
7.00−7.13(2H,m),,7.37−7.5
3(4H,m),,7.60−,7.66(2H,
m,),,7.91(1H,d,J=8.9Hz),,
8.81(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:429(M++1) 元素分析:C24H24N6O2として 計算値:,C,67.27,,H,5.65,,N,1
9.61 実測値:,C,66.96,,H,5.70,,N,1
9.38
オキソ−2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
を収率73.3%で得る。 mp:177.0−178.0℃ FT−IR(KBr):1660.4,,1587.
1,,1525.4,,1492.6cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.21(3H,
s),,2.25−2.40(4H,m),,3.40
−3.60(4H,m),,5.09,(2H,
s),,6.89(1H,d,J=9.7Hz),,
7.00−7.13(2H,m),,7.37−7.5
3(4H,m),,7.60−,7.66(2H,
m,),,7.91(1H,d,J=8.9Hz),,
8.81(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:429(M++1) 元素分析:C24H24N6O2として 計算値:,C,67.27,,H,5.65,,N,1
9.61 実測値:,C,66.96,,H,5.70,,N,1
9.38
【0170】実施例52 実施例44と実質的に同様の方法で、3−[2−(2−
オキソ−2−(チオモルフォリン−4−イル)エチル)
−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを
収率91.2%で得る。 mp:206.5−207.5℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1646.
9,,1585.2,,1527.3,,1496.5
cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.60−2.80(4
H,m),,3.80−4.00(4H,m),,5.
07(2H,s),,6.79(1H,d,J=9.7
Hz),,6.85−6.94(1H,m),,7.0
5(1H,d,J=9.7Hz),,7.23−7.3
2(1H,m),,7.43,−7.49(3H,
m),,7.61−7.67(2H,m),,7.99
(1H,d,J=8.9Hz),,8.52(1H,
d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:432(M++1) 元素分析:C23H21N5O2Sとして 計算値:,C,64.02,H,4.91,,N,1
6.23 実測値:,C,63.97,,H,4.81,,N,1
6.09
オキソ−2−(チオモルフォリン−4−イル)エチル)
−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを
収率91.2%で得る。 mp:206.5−207.5℃ FT−IR(KBr):1664.3,,1646.
9,,1585.2,,1527.3,,1496.5
cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.60−2.80(4
H,m),,3.80−4.00(4H,m),,5.
07(2H,s),,6.79(1H,d,J=9.7
Hz),,6.85−6.94(1H,m),,7.0
5(1H,d,J=9.7Hz),,7.23−7.3
2(1H,m),,7.43,−7.49(3H,
m),,7.61−7.67(2H,m),,7.99
(1H,d,J=8.9Hz),,8.52(1H,
d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:432(M++1) 元素分析:C23H21N5O2Sとして 計算値:,C,64.02,H,4.91,,N,1
6.23 実測値:,C,63.97,,H,4.81,,N,1
6.09
【0171】実施例53 実質的に実施例44と同様の方法で、3−[2−(2,
5−ジオキソ−5−(3−ヒドロキシアゼチジン−1−
イル)ペンチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを収率80.6%で得る。 mp:170.5−172.5℃ FT−IR(KBr):1726.0,,1662.
3,,1637.3,,1583.3,,1529.
3,,1496.5cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.34(2H,t,
J=6.5Hz),,2.79(2H,t,J=6.5
Hz),,3.35−3.61(1H,,m),,3.
83−3.91(1H,m),,3.97−4.06
(1H,m),,4.26−4.65(2H,m),,
5.14(2H,s),,5.72(1H,d,J=
6.0Hz),,6.91(1H,d,J=9.7H
z),,7.04−7.13(2H,m),,7.37
−7.52,(4H,m),,7.59−7.65(2
H,m),,7.92(1H,d,J=8.9H
z),,8.81,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:458(M++1) 元素分析:C25H23N5O4として 計算値:,C,65.54,,H,5.07,,N,1
5.31 実測値:,C,65.86,,H,4.89,,N,1
5.24
5−ジオキソ−5−(3−ヒドロキシアゼチジン−1−
イル)ペンチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリ
ダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−
a]ピリジンを収率80.6%で得る。 mp:170.5−172.5℃ FT−IR(KBr):1726.0,,1662.
3,,1637.3,,1583.3,,1529.
3,,1496.5cm-1 NMR(DMSOーd6,δ):2.34(2H,t,
J=6.5Hz),,2.79(2H,t,J=6.5
Hz),,3.35−3.61(1H,,m),,3.
83−3.91(1H,m),,3.97−4.06
(1H,m),,4.26−4.65(2H,m),,
5.14(2H,s),,5.72(1H,d,J=
6.0Hz),,6.91(1H,d,J=9.7H
z),,7.04−7.13(2H,m),,7.37
−7.52,(4H,m),,7.59−7.65(2
H,m),,7.92(1H,d,J=8.9H
z),,8.81,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:458(M++1) 元素分析:C25H23N5O4として 計算値:,C,65.54,,H,5.07,,N,1
5.31 実測値:,C,65.86,,H,4.89,,N,1
5.24
【0172】実施例54 水素化ナトリウム(360mg;60%湿潤)のジメチ
ルホルムアミド(20ml)懸濁液に、順次、3−(3
−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(2g)
およびN,N−ジメチル−4−ブロモ−3−オキソブタ
ンアミド(1.73g)を添加し、混合物を室温で3時
間撹拌後、水を滴下して過剰の水素化ナトリウムを分解
する。溶媒を減圧下に留去し、残留物をクロロホルム
(150ml)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液(20ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液(20m
l)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去して得た残留物を、シリカゲル(100ml)を
用いてクロマトグラフィーを行い、酢酸エチルおよびメ
タノールー酢酸エチル(メタノール,2%→24%→3
2%)混合物で順次溶出し、所望の生成物を含む画分を
集める。減圧下に濃縮して得た粗生成物を、エタノール
で再結晶し、3−[2−(4−ジメチルアミノ−2,4
−ジオキソブチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピ
リダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5
−a]ピリジン(1.37g;47.6%)を得る。 mp:199.5−201.0℃ FT−IR(KBr):1733.7,,1670.
1,,1635.3,,1594.8,,1529.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.00(3H,s),,
3.05(3H,s),,3.78(2H,s),,
5.18(2H,s),,6.78(1H,d,J=
9.7Hz),,6.80−6.95(1H,m),,
7.06(1H,d,J=9.7Hz),,7.26−
7.35(1H,m),,7.44−7.49(3H,
m),,7.60−7.66(2H,m),,8.00
(1H,d,J=8.9Hz),,8,52(1H,
d,,J=7.0Hz), (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3・H2Oとして 計算値:,C,63.73,,H,5.35,,N,1
6.16 実測値:,C,64.11,,H,5.00,,N,1
5.83
ルホルムアミド(20ml)懸濁液に、順次、3−(3
−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イル)−
2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン(2g)
およびN,N−ジメチル−4−ブロモ−3−オキソブタ
ンアミド(1.73g)を添加し、混合物を室温で3時
間撹拌後、水を滴下して過剰の水素化ナトリウムを分解
する。溶媒を減圧下に留去し、残留物をクロロホルム
(150ml)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液(20ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液(20m
l)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去して得た残留物を、シリカゲル(100ml)を
用いてクロマトグラフィーを行い、酢酸エチルおよびメ
タノールー酢酸エチル(メタノール,2%→24%→3
2%)混合物で順次溶出し、所望の生成物を含む画分を
集める。減圧下に濃縮して得た粗生成物を、エタノール
で再結晶し、3−[2−(4−ジメチルアミノ−2,4
−ジオキソブチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピ
リダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5
−a]ピリジン(1.37g;47.6%)を得る。 mp:199.5−201.0℃ FT−IR(KBr):1733.7,,1670.
1,,1635.3,,1594.8,,1529.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.00(3H,s),,
3.05(3H,s),,3.78(2H,s),,
5.18(2H,s),,6.78(1H,d,J=
9.7Hz),,6.80−6.95(1H,m),,
7.06(1H,d,J=9.7Hz),,7.26−
7.35(1H,m),,7.44−7.49(3H,
m),,7.60−7.66(2H,m),,8.00
(1H,d,J=8.9Hz),,8,52(1H,
d,,J=7.0Hz), (+)ーAPCI/MS:416(M++1) 元素分析:C23H21N5O3・H2Oとして 計算値:,C,63.73,,H,5.35,,N,1
6.16 実測値:,C,64.11,,H,5.00,,N,1
5.83
【0173】実施例55 実施例54と実質的に同様の方法で、3−[2−(2,
4−ジオキソ−4−(ピペリジン−1−イル)ブチル)
−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを
収率25.7%で得る。 mp:171.5−173.5℃ FT−IR(KBr):1733.7,,1662.
3,,1633.4,,1587.1,,1531.2
cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.61(6H,br−
s),,3.39−3.63(4H,m),,3.77
(2H,s),,5.16(2H,s),,6.77
(1H,d,J=9.7Hz),,6.87−6.95
(1H,m),,7.05(1H,d,J=9.7H
z),,7.26−7.34,(1H,m),,7.4
4−7.48(3H,m),,7.60−7.66(2
H,m),,8.00(1H,d,J=8.9H
z),,8.52,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:456(M++1) 元素分析:C26H25N5O3・1/2H2Oとして 計算値:,C,67.23,,H,5.64,,N,1
5.08 実測値:,C,67.53,,H,5.60,,N,1
4.87
4−ジオキソ−4−(ピペリジン−1−イル)ブチル)
−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−イ
ル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジンを
収率25.7%で得る。 mp:171.5−173.5℃ FT−IR(KBr):1733.7,,1662.
3,,1633.4,,1587.1,,1531.2
cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.61(6H,br−
s),,3.39−3.63(4H,m),,3.77
(2H,s),,5.16(2H,s),,6.77
(1H,d,J=9.7Hz),,6.87−6.95
(1H,m),,7.05(1H,d,J=9.7H
z),,7.26−7.34,(1H,m),,7.4
4−7.48(3H,m),,7.60−7.66(2
H,m),,8.00(1H,d,J=8.9H
z),,8.52,(1H,d,J=6.9Hz) (+)ーAPCI/MS:456(M++1) 元素分析:C26H25N5O3・1/2H2Oとして 計算値:,C,67.23,,H,5.64,,N,1
5.08 実測値:,C,67.53,,H,5.60,,N,1
4.87
【0174】実施例56 オキサリルクロリド(330μl)のジクロロメタン
(10ml)溶液中に、窒素雰囲気下に−70℃で、ジ
メチルスルホキシド(554μl)、3−[2−(2−
((3R)ー3−ヒドロキシピロリジン−1−イル)−
2−オキソエチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピ
リダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5
−a]ピリジン(1.2g)およびトリエチルアミン
(2.01ml)を順次添加する。反応混合物を外界温
度まで昇温するにまかせる。混合物にクロロホルム(1
00ml)を添加し、1N−塩酸水溶液(100m
l)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、
飽和塩化ナトリウム水溶液(100ml)で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得た
粗生成物をエタノールで再結晶して、3−[2−(2−
(3−オキソピロリジン−1−イル)−2−オキソエチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(1.04g);収率87.4%)を得る。 mp:216.0−217.5℃ FT−IR(KBr):1756.8,,1658.
5,,1585.2,,1527.3,,1502.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.68,and,2.7
9(2H(1:1),2×t,J=7.9Hz),,
3.99−4.16(4H,m),,4.97,an
d,5.11(2H(1:1),2×s),,6.80
(1H,d,J=9.7Hz),,6.86−6.95
(1H,m),,7.06(1H,d,J=9.7H
z),,7.24−7.33(1H,m),,7.42
−7.49(3H,m),,7.61−7.67(2
H,,m),,8.02(1H,d,J=8.9H
z),,8.53(1H,d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:414(M++1) 元素分析:C23H19N5O3・H2Oとして 計算値:,C,64.02,,H,4.91,,N,1
6.23 実測値:,C,63.83,,H,4.62,,N,1
6.12
(10ml)溶液中に、窒素雰囲気下に−70℃で、ジ
メチルスルホキシド(554μl)、3−[2−(2−
((3R)ー3−ヒドロキシピロリジン−1−イル)−
2−オキソエチル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピ
リダジンー6−イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5
−a]ピリジン(1.2g)およびトリエチルアミン
(2.01ml)を順次添加する。反応混合物を外界温
度まで昇温するにまかせる。混合物にクロロホルム(1
00ml)を添加し、1N−塩酸水溶液(100m
l)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)、
飽和塩化ナトリウム水溶液(100ml)で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得た
粗生成物をエタノールで再結晶して、3−[2−(2−
(3−オキソピロリジン−1−イル)−2−オキソエチ
ル)−3−オキソ−2,3−ジヒドロピリダジンー6−
イル]−2−フェニルピラゾロ[1,5−a]ピリジン
(1.04g);収率87.4%)を得る。 mp:216.0−217.5℃ FT−IR(KBr):1756.8,,1658.
5,,1585.2,,1527.3,,1502.3
cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.68,and,2.7
9(2H(1:1),2×t,J=7.9Hz),,
3.99−4.16(4H,m),,4.97,an
d,5.11(2H(1:1),2×s),,6.80
(1H,d,J=9.7Hz),,6.86−6.95
(1H,m),,7.06(1H,d,J=9.7H
z),,7.24−7.33(1H,m),,7.42
−7.49(3H,m),,7.61−7.67(2
H,,m),,8.02(1H,d,J=8.9H
z),,8.53(1H,d,J=7.0Hz) (+)ーAPCI/MS:414(M++1) 元素分析:C23H19N5O3・H2Oとして 計算値:,C,64.02,,H,4.91,,N,1
6.23 実測値:,C,63.83,,H,4.62,,N,1
6.12
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/50 AAM A61K 31/50 AAM AAN AAN ABN ABN ABS ABS ACB ACB ACC ACC ACD ACD ACF ACF ACJ ACJ ACL ACL ACN ACN ACV ACV ACX ACX ADD ADD ADM ADM ADP ADP AED AED AGZ AGZ
Claims (5)
- 【請求項1】一般式: 式中、Rは、低級アルカノイル(低級)アルキル基;シ
クロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)ア
ルキル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;適当な置換基を有していてもよ
いカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;適当な置換基を有していてもよい保護されたカルボ
キシ(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;適当な
置換基を有していてもよいアリール(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;複素環(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;N−(適当な置換基を有していて
もよい低級アルキル)カルバモイル(低級)アルキル
基;N,N−ジ(低級)アルキル−カルバモイルメチル
基;適当な置換基を有していてもよいピロリジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基;適当な置換基を
有していてもよいピペリジル(低級)アルカノイルメチ
ル基;モルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;適当な置換基を有していてもよいピペラジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基; または、
チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基、で示されるピラゾロピリジン化合物またはその塩
類。 - 【請求項2】 一般式: 式中、Rが低級アルカノイル(低級)アルキル基;シク
ロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;低級アルコキシイミノを1から3
個有していてもよいカルボキシ(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;低級アルコキシイミノを1から3
個有していてもよい保護されたカルボキシ(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基;カルボキシ、保護された
カルボキシ、シアノ、低級アルコキシ、もしくは、フェ
ニルを1から3個有していてもよいフェニル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基;ピリジル(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基;N−(カルボキシ、保護
されたカルボキシ、もしくは、フェニルを1から3個有
していてもよい低級アルキル)カルバモイル(低級)ア
ルキル基;N,N−ジ(低級)アルキル−カルバモイル
メチル基;ヒドロキシもしくはオキソを1から3個有し
ていてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基;カルボキシ(低級)アルキルもしくは
保護されたカルボキシ(低級)アルキルを有していても
よいピペリジル(低級)アルカノイルメチル基;モルホ
リニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;低級
アルキル基を1から3個有していてもよいピペラジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基; または、
チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基、である請求項1に記載の化合物。 - 【請求項3】一般式: 式中、Rが低級アルカノイル(低級)アルキル基;シク
ロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;低級アルコキシイミノを有してい
てもよいカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;低級アルコキシイミノを有していてもよいエス
テル化されたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)
アルキル基;アミド化されたカルボキシ(低級)アルカ
ノイル(低級)アルキル基;カルボキシ、エステル化さ
れたカルボキシ、シアノ、低級アルコキシもしくは、フ
ェニルを1から3個有していてもよいフェニル(低級)
アルカノイル(低級)アルキル基;ピリジル(低級)ア
ルカノイル(低級)アルキル基;N−(カルボキシ、エ
ステル化されたカルボキシ、もしくは、フェニルを1か
ら3個有していてもよい低級アルキル)カルバモイル
(低級)アルキル基;N,N−ジ(低級)アルキル−カ
ルバモイルメチル基;ヒドロキシもしくはオキソを有し
ていてもよいピロリジニル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基;カルボキシ(低級)アルキルもしくは
エステル化されたカルボキシ(低級)アルキルを有して
いてもよいピペリジル(低級)アルカノイルメチル基;
モルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル
(低級)アルカノイル(低級)アルキル基; または、
チオモルホリニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基、である請求項2に記載の化合物。 - 【請求項4】 一般式: 式中、Rが低級アルカノイル(低級)アルキル基;シク
ロ(低級)アルキル(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;シクロ(高級)アルキル(低級)アルカノイル
(低級)アルキル基;低級アルコキシイミノを有してい
てもよいカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)アル
キル基;低級アルコキシイミノを有していてもよいエス
テル化されたカルボキシ(低級)アルカノイル(低級)
アルキル基;カルバモイル(低級)アルカノイル(低
級)アルキル基;N−(カルボキシもしくはエステル化
されたカルボキシを有していてもよい低級アルキル)カ
ルバモイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;
N,N−ジ(低級)アルキルカルバモイル(低級)アル
カノイル(低級)アルキル基;ピペリジル(低級)アル
カノイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;ヒ
ドロキシを有していてもよいアゼチジニル(低級)アル
カノイル(低級)アルカノイル(低級)アルキル基;カ
ルボキシ、エステル化されたカルボキシ、シアノ、低級
アルコキシ、もしくは、フェニルを1から3個有してい
てもよいフェニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基;ピリジル(低級)アルカノイル(低級)アルキル
基;N−(カルボキシ、エステル化されたカルボキシ、
もしくは、フェニルを1から3個有していてもよい低級
アルキル)カルバモイル(低級)アルキル基;N,N−
ジ(低級)アルキル−カルバモイルメチル基;ヒドロキ
シもしくはオキソを有していてもよいピロリジニル(低
級)アルカノイル(低級)アルキル基;カルボキシ(低
級)アルキルもしくはエステル化されたカルボキシ(低
級)アルキルを有していてもよいピペリジル(低級)ア
ルカノイルメチル基;モルホリニル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基;低級アルキル基を有していても
よいピペラジニル(低級)アルカノイル(低級)アルキ
ル基; または、チオモルホリニル(低級)アルカノイ
ル(低級)アルキル基、である請求項3に記載の化合
物。 - 【請求項5】請求項1乃至4に記載のピラゾロピリジン
化合物またはその塩類からなる医薬。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35770696A JPH10182643A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35770696A JPH10182643A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10182643A true JPH10182643A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=18455502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35770696A Pending JPH10182643A (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | ピラゾロピリジンアデノシン拮抗剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10182643A (ja) |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP35770696A patent/JPH10182643A/ja active Pending
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