JPH10190426A - 半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路 - Google Patents

半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路

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JPH10190426A
JPH10190426A JP8341125A JP34112596A JPH10190426A JP H10190426 A JPH10190426 A JP H10190426A JP 8341125 A JP8341125 A JP 8341125A JP 34112596 A JP34112596 A JP 34112596A JP H10190426 A JPH10190426 A JP H10190426A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路の
チップサイズを小さくする。 【解決手段】 電源端子HVCCとグランド端子GND
との間に、制御用トランジスタ素子Q1と耐圧用トラン
ジスタ素子Q3を直列的に縦積みして設け、同様に、耐
圧用トランジスタ素子Q4と制御用トランジスタ素子Q
2を直列的に縦積みして設ける。トランジスタ素子Q3
とトランジスタ素子Q4との間に出力端子OUTを設け
る。電源端子HVCCからの12Vの電圧電源をバイア
ス回路BIで分圧することにより低圧化して、6Vの電
圧で耐圧用トランジスタ素子Q3、Q4のベースに、ベ
ース電源として供給する。出力がロウの場合は、12V
の電圧電源を制御用トランジスタ素子Q1と耐圧用トラ
ンジスタ素子Q3とでおおよそ1/2づつ分圧する。出
力がハイの場合は、耐圧用トランジスタ素子Q4と制御
用トランジスタ素子Q2とでおおよそ1/2づつ分圧す
る。これにより、耐圧の低いトランジスタ素子を用いて
高い耐圧を有するプッシュプル出力回路を構成すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置用高耐
圧プッシュプル出力回路に関し、特に高電圧電源を用い
るシステムのICやLSIに使用される半導体装置用高
耐圧プッシュプル出力回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置用高耐圧プッシュプル
出力回路に用いられるトランジスタ素子の選択にあたっ
ては、この半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路に
用いられる最大の電圧に合わせて、トランジスタ素子が
選ばれていた。すなわち、使用する最大電圧以上のコレ
クタ・エミッタ耐圧VCEOを有するトランジスタ素子が
選ばれていた。例えば、半導体装置用高耐圧プッシュプ
ル出力回路に12V〜18Vの電圧電源を用いる場合、
コレクタ・エミッタ耐圧VCEOが18Vである18V耐
圧のトランジスタ素子が選択されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一般に、トランジスタ
素子の耐圧とその大きさはほぼ比例する関係にある。こ
のため、耐圧の大きいトランジスタ素子を選択すると、
トランジスタ素子自体の面積が大きくなり、チップサイ
ズも大きくなるという問題があった。例えば図5からわ
かるように、8V耐圧のトランジスタ素子に比べて、1
8V耐圧のトランジスタ素子は、その面積が約3.3倍
になる。よって、当然のことながら同じトランジスタ素
子の個数であれば、その差はそのままチップサイズの差
になって現れる。
【0004】また、このような場合に、すべてのトラン
ジスタ素子にこの18Vの耐圧が要求されることはむし
ろ希である。一般的にはこのような場合に、18V耐圧
が要求されるトランジスタ素子は全体の10%程度であ
り、残りの90%程度は8V耐圧のトランジスタ素子で
十分である。しかし、1つのチップに18V耐圧のトラ
ンジスタ素子と、8V耐圧のトランジスタ素子を混在さ
せて形成することは、極めて困難である。なぜなら、ト
ランジスタ素子の耐圧の相違によって、そのトランジス
タ素子を成形するのに必要とする拡散層の深さ等の基本
的構造に違いがあるからである。すなわち、一方の耐圧
のトランジスタ素子に拡散層の深さ等の基本的構造を合
わせると、他方の耐圧のトランジスタ素子には合わなく
なり、同一の製造プロセスでチップを製造することがで
きなくなるのである。
【0005】そこで本発明は、前記課題に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、小型の低耐圧のトランジス
タ素子を用いて、大型の高耐圧のトランジスタ素子と等
価の回路を実現できるようにして、低耐圧のトランジス
タ素子を形成する1つの製造プロセスにより得られる低
耐圧のトランジスタ素子によって高耐圧性も満足できる
ようにすることにある。すなわち、例えば、90%程度
の割合で必要となることの多い低耐圧のトランジスタ素
子を形成する製造プロセスで低耐圧のトランジスタ素子
を形成し、このような低耐圧のトランジスタ素子を用い
て、残り10%程度の割合で必要となる高耐圧のトラン
ジスタ素子と等価の回路を実現しようとするものであ
る。これにより、チップサイズを小さく保ちつつ、高い
電圧電源を用いることができる半導体装置用高耐圧プッ
シュプル出力回路を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る半導体装置用高耐圧プッシュプル出力
回路は、第1の電源端子と出力端子との間に設けられた
第1の制御用トランジスタ素子と、前記出力端子と第2
の電源端子との間に設けられた第2の制御用トランジス
タ素子と、入力端子からの入力信号に応じて、前記第1
及び第2の制御用トランジスタ素子のオンとオフとの状
態を切り替えることにより、前記出力端子の出力のロウ
とハイとを切り替えるための切替回路と、を備えた半導
体装置用高耐圧プッシュプル出力回路において、前記第
1の電源端子と前記出力端子との間に前記第1の制御用
トランジスタ素子と直列的に設けられた第1の耐圧用ト
ランジスタ素子と、前記第2の電源端子と前記出力端子
との間に前記第2の制御用トランジスタ素子と直列的に
設けられた第2の耐圧用トランジスタ素子と、前記第1
及び第2の耐圧用トランジスタのベースに、前記第1及
び第2の電源端子から供給される電圧電源を分圧するこ
とにより低圧化して、ベース電源を供給するバイアス回
路と、を備えたことを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して詳細に説明する。
【0008】図1及び図2は、形成されたトランジスタ
素子の定格耐圧の2倍の出力電圧を出力可能とした半導
体装置用高耐圧プッシュプル出力回路の回路図であり、
図1はそのバイアス回路部分及び切替回路部分をブロッ
クとした回路図であり、図2はそのブロックを素子化し
た回路図の一例である。
【0009】まず図1に基づいて、本実施形態に係る半
導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路の概要を説明す
る。この図1からわかるように、図中右上には電源端子
(第1の電源端子)HVCCが設けられている。この電
源端子HVCCには12Vの電圧電源が供給されてい
る。この電源端子HVCCの下側にはグランド端子(第
2の電源端子)GNDが設けられている。
【0010】これら電源端子HVCCとグランド端子G
NDとの間には、トランジスタ素子Q1、Q3、Q4、
Q2が設けられている。これらのうちトランジスタ素子
Q3とトランジスタ素子Q4との間には、出力端子OU
Tが設けられている。より詳しくは、電源端子HVCC
と出力端子OUTとの間には、PNPトランジスタから
なる制御用トランジスタ素子Q1と耐圧用トランジスタ
素子Q3とが直列的に縦積みされる形で設けられてい
る。すなわち、制御用トランジスタ素子Q1のコレクタ
と耐圧用トランジスタ素子Q3のエミッタとが接続する
形で設けられている。また、出力端子OUTとグランド
端子GNDとの間にはNPNトランジスタからなる耐圧
用トランジスタ素子Q4と制御用トランジスタ素子Q2
とが、同様に、直列的に縦積みされる形で設けられてい
る。すなわち、耐圧用トランジスタ素子Q4のエミッタ
と制御用トランジスタ素子Q2のコレクタとが接続する
形で設けられている。これらのトランジスタ素子Q1、
Q2、Q3、Q4は、いずれも、コレクタ・エミッタ耐
圧VCEOが8Vである8V耐圧のトランジスタ素子であ
る。
【0011】図中中央において、電源端子HVCC端子
側とグランド端子GND側の間には、バイアス回路BI
が設けられている。このバイアス回路BIは電源端子H
VCCからの12Vの電圧電源を2つに分圧することに
より低圧化して、6Vの電位で耐圧用トランジスタ素子
Q3、Q4のベースに電圧を印加するための回路であ
る。
【0012】図中左側において、電源端子HVCC端子
側とグランド端子GND側の間には、抵抗R5と切替回
路SWとが設けられている。この切替回路SWは、入力
端子INからの入力信号に応じて制御用トランジスタ素
子Q1、Q2のオン・オフを切り替えて、この半導体装
置用高耐圧プッシュプル出力回路の出力のハイとロウと
を切り替えるための回路である。この切替回路SWと抵
抗R5との間のノードは、前述の制御用トランジスタ素
子Q1のベースと接続されている。また、この切替回路
SWは前述の制御用トランジスタ素子Q2のベースにも
接続されている。
【0013】この図1に示す半導体装置用高耐圧プッシ
ュプル出力回路においては、入力端子INからの入力信
号がハイのときは、出力端子OUTからの出力信号はロ
ウになる。反対に、入力端子INからの入力信号がロウ
のときは、出力端子OUTからの出力信号はハイにな
る。
【0014】次に、図1のバイアス回路BI及び切替回
路SWを素子化した一例の回路図をも含む図2に基づい
て、より詳しく本実施形態に係る半導体装置用高耐圧プ
ッシュプル出力回路を説明する。
【0015】この図2からわかるように、図中中央のバ
イアス回路BIは、抵抗R1乃至R4から構成されてい
る。すなわち、電源端子HVCC側とグランド端子GN
D側との間には、抵抗R1と抵抗R2とが接続されてい
る。これらの抵抗R1と抵抗R2とは同抵抗の素子が用
いられている。このため、ノードaの電位は1/2・H
VCCである6Vになるようになっている。
【0016】このノードaとトランジスタ素子Q3のベ
ースとは、抵抗R3を介して接続されている。また、ノ
ードaとトランジスタ素子Q4のベースとは、抵抗R4
を介して接続されている。
【0017】図中左側の切替回路SWは、トランジスタ
素子Q8と抵抗R6とトランジスタ素子Q7と反転素子
INVとから構成されている。すなわち、電源端子HV
CC側とグランド端子GND側との間には、抵抗R5、
切替用トランジスタ素子Q8、抵抗R6、切替用トラン
ジスタ素子Q7が接続されている。これら切替用トラン
ジスタ素子Q7、Q8は、いずれも、コレクタ・エミッ
タ耐圧VCEOが8Vである8V耐圧のNPNトランジス
タ素子である。切替用トランジスタ素子Q8のベース
は、前述のノードaに接続されている。切替用トランジ
スタ素子Q7のベースには、反転素子INVを介して、
入力端子INからの入力信号の反転であるバーINが入
力するようになっている。
【0018】次に図2示す半導体装置用高耐圧プッシュ
プル出力回路の動作を説明する。まず、この半導体装置
用高耐圧プッシュプル出力回路の出力信号がロウの場
合、すなわち、入力端子INからの入力信号がハイの場
合を説明する。
【0019】上述のように、入力端子INからの入力信
号がハイであるので、トランジスタ素子Q2はオン状態
であり、これにつられてトランジスタ素子Q4もオン状
態となる。このため、出力端子OUTの電位はほぼグラ
ンド端子GNDと等しくなる。なお、抵抗R4の存在に
より、耐圧用トランジスタ素子Q4のオフ状態からオン
状態への切替が確実に行われる。
【0020】一方、入力端子INからの入力信号がハイ
であるのでバーINはロウであるから、切替用トランジ
スタ素子Q7、Q8はともにオフ状態である。このた
め、制御用トランジスタ素子Q1、Q3もともにオフ状
態となる。このとき、制御用トランジスタ素子Q1のベ
ースには抵抗R5を介して12Vの電圧がかかる。耐圧
用トランジスタ素子Q3のベースには、上述のようにノ
ードaが6Vであるので、抵抗R3を介して6Vの電圧
がかかる。ここで、耐圧用トランジスタ素子Q3のベー
ス・エミッタ間電圧VBEを一般的なトランジスタ素子の
値である約0.7Vとすると、耐圧用トランジスタ素子
Q3のエミッタ側のノードbにおける電位は約6.7V
となる。このノードbの電位を約6.7Vとすると、電
源端子HVCCと出力端子OUTの間の電圧は約12V
であるので、制御用トランジスタ素子Q1のコレクタ・
エミッタ間電圧VCEは約5.3Vとなる。これに対し
て、耐圧用トランジスタ素子Q3のコレクタ・エミッタ
間電圧VCEは約6.7Vとなる。これらコレクタ・エミ
ッタ間電圧VCEの値は、トランジスタ素子Q1、Q3の
コレクタ・エミッタ耐圧VCEOである8Vより低い値と
なっている。
【0021】以上の説明はこの半導体装置用高耐圧プッ
シュプル出力回路の出力信号がロウの場合、すなわち、
入力端子INからの入力信号がハイの場合であるが、次
に、この半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路の出
力信号がハイの場合、すなわち、入力端子INからの入
力信号がロウの場合を説明する。
【0022】上述のように入力端子INからの入力信号
はロウであるのでバーINはハイであるから、切替用ト
ランジスタ素子Q7はオン状態となり、これにつられ
て、切替用トランジスタ素子Q8もオン状態となる。こ
れにともない、制御用トランジスタ素子Q1がオン状態
となり、これにつられて耐圧用トランジスタ素子Q3も
オン状態となる。このとき、上述のようにノードaの電
位は6Vであるので、切替用トランジスタ素子Q8のベ
ースの電位は6Vである。したがって、トランジスタ素
子Q8のベース・エミッタ間電圧VBEを約0.7Vとす
ると、切替用トランジスタ素子Q8のエミッタ側のノー
ドdの電位は約5.3Vとなる。このノードdの電位を
約5.3Vとすると、電源端子HVCC側とノードdと
の間の電圧は約6.7Vとなる。すなわち、抵抗R5を
考慮すると、切替用トランジスタ素子Q8のコレクタ・
エミッタ間電圧VCEはすくなくとも6.7Vよりも小さ
い値となる。この6.7Vという値は、トランジスタ素
子Q8のコレクタ・エミッタ耐圧VCEOである8Vより
も低い値である。一方、ノードdとグランド端子GND
側との間の電圧は約5.3Vである。したがって、切替
用トランジスタ素子Q7のコレクタ・エミッタ間電圧V
CEは、抵抗R6を考慮すると、5.3Vよりも小さい値
となる。この5.3Vという値は、切替用トランジスタ
素子Q7のコレクタ・エミッタ耐圧VCEOである8Vよ
りも低い値である。
【0023】さらに、上述のように、入力端子INから
の入力信号がロウであるので、トランジスタ素子Q2は
オフ状態となり、これにつられてトランジスタ素子Q4
もオフ状態となる。このとき、上述のようにトランジス
タ素子Q1、Q3がオン状態であるので、出力端子OU
Tとグランド端子GNDとの間の電圧は約12Vとな
る。
【0024】このとき、上述のように、ノードaにおけ
る電位は6Vであるので、耐圧用トランジスタ素子Q4
のベースには抵抗R4を介して6Vの電圧がかかる。こ
の耐圧用トランジスタ素子Q4のベース・エミッタ間電
圧VBEを約0.7Vとすると、耐圧用トランジスタ素子
Q4のエミッタ側のノードcにおける電位は約5.3V
となる。このノードcの電位を約5.3Vとすると、上
述のように出力端子OUTとグランド端子GNDとの間
の電圧は12Vであるので、耐圧用トランジスタ素子Q
4のコレクタ・エミッタ間電圧VCEは約6.7Vとな
る。これに対して、制御用トランジスタ素子Q2のコレ
クタ・エミッタ間電圧VCEは約5.3Vとなる。これら
コレクタ・エミッタ間電圧VCEの値は、これらのトラン
ジスタ素子Q2、Q4のコレクタ・エミッタ耐圧VCEO
である8Vより小さい値となっている。
【0025】以上のように、図2に示す半導体装置用高
耐圧プッシュプル出力回路によれば、8V耐圧のトラン
ジスタ素子を用いたにもかかわらず、電源端子HVCC
に12Vの電圧電源を使用して、出力端子OUTから1
2Vの電圧信号を出力することができる。すなわち、ト
ランジスタ素子の面積が小さい8V耐圧のトランジスタ
素子を用いてチップサイズを小さくしたのにもかかわら
ず、出力電圧が12Vという半導体装置用高耐圧プッシ
ュプル出力回路を構成することができる。なお、本実施
形態において、電圧電源を12Vとしたのは、リップル
や設計余裕を考慮したためである。理論的にはこのトラ
ンジスタ素子のコレクタ・エミッタ耐圧VCEOである8
Vの2倍の16Vの電圧電源にまで使用することができ
る。
【0026】次に、本実施形態におけるチップの面積を
計算する。例えば、トランジスタ素子が100個必要な
半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路を想定して面
積を計算すると次のようになる。このような半導体装置
用高耐圧プッシュプル出力回路においては、上述のよう
に、一般的には、その10%程度については18V耐圧
のトランジスタ素子であることが必要であるが、残りの
90%程度については8V耐圧のトランジスタ素子で足
りる。しかし、このような場合でも18V耐圧のトラン
ジスタ素子と8V耐圧のトランジスタ素子を混在させる
ことは極めて困難であるので、18V耐圧のトランジス
タ素子を100個用いて半導体装置用高耐圧プッシュプ
ル出力回路を構成する必要がある。このとき、図5に示
すように、18V耐圧のトランジスタ素子の面積は8V
耐圧のトランジスタ素子の面積の約3.3倍であるの
で、この比を用いて、18V耐圧のトランジスタ素子の
面積を3.3として計算すると次のようになる。
【0027】3.3×100個=330 一方、本実施形態のように8V耐圧のトランジスタ素子
を組み合わせて等価の回路を実現した場合は次のように
なる。なお、図2からわかるように、この等価回路を構
成するのに、3倍のトランジスタ素子が必要になる。
【0028】1×3倍×10個+1×90個=120 以上からわかるように、本実施形態に係る半導体装置用
高耐圧プッシュプル出力回路によれば、そのトランジス
タ素子の面積を約1/3に減少させることができる。す
なわち、チップサイズを約1/3にすることができる。
なお、素子面積を考える際には、抵抗素子の大きさはト
ランジスタ素子と比べて遥かに小さいので無視できる。
【0029】図3及び図4は第2の実施形態を示す図で
あり、形成したトランジスタ素子の定格耐圧の3倍の出
力電圧を出力可能にした半導体装置用高耐圧プッシュプ
ル出力回路の回路図である。図3はそのバイアス回路B
I部分及び切替回路SW部分をブロックとした回路図で
あり、図4はこれらのブロックを素子化した回路図の一
例である。
【0030】特に図3からわかるように、第2の実施形
態においては、ハイ側とロウ側のそれぞれに、耐圧用ト
ランジスタを直列的に2つ設けて、全部で3段の縦積み
トランジスタとした点で第1の実施形態と相違する。
【0031】すなわち、電源端子HVCCと出力端子O
UTとの間には、制御用トランジスタ素子Q1と耐圧用
トランジスタ素子Q3、Q5が直列的に縦積みされた形
で設けられている。また、出力端子OUTとグランド端
子GNDとの間には、耐圧用トランジスタ素子Q6、Q
4と制御用トランジスタ素子Q2とが、同様に、直列的
に縦積みされた形で設けられている。
【0032】バイアス回路BIは、電源端子HVCCか
ら供給された電圧電源を分圧することにより低圧化し
て、トランジスタ素子のベースにベース電源を供給する
回路である。すなわち、耐圧用トランジスタ素子Q3、
Q6のベースに2/3・HVCCの電圧でベース電源を
供給し、耐圧用トランジスタ素子Q5、Q4のベースに
1/3・HVCCの電圧でベース電源を供給する。
【0033】切替回路SWは、入力端子INからの入力
信号に応じて、制御用トランジスタ素子Q1、Q2のオ
ン・オフを切り替えることにより、この半導体装置用高
耐圧プッシュプル出力回路の出力のハイとロウとを切り
替えるための回路である。
【0034】図4からわかるように、バイアス回路BI
は、抵抗R7乃至R13から構成される。ここで、抵抗
R7と抵抗R8と抵抗R9は同抵抗であり、これにより
電源端子HVCCから供給される電圧電源を1/3づつ
分圧するようになっている。切替回路SWはトランジス
タ素子Q7乃至Q9と抵抗R14と反転素子INVとか
ら構成されている。これらのトランジスタ素子Q7乃至
Q9のベースにも、バイアス回路BIで1/3づつ分圧
された電圧がベース電源として供給されるようになって
いる。
【0035】以上のように、第2の実施形態に係る半導
体装置用高耐圧プッシュプル出力回路によれば、電源端
子HVCCと出力端子OUTとの間、出力端子OUTと
グランド端子GNDとの間、切替回路SWの電源端子H
VCC側とグランド端子GND側との間、のいずれで
も、トランジスタ素子を3つ直列的に縦積みする形で設
けた。このため、使用したトランジスタ素子のコレクタ
・エミッタ耐圧VCEOの3倍の電圧の電圧電源を用いる
ことができる。例えば、これらのトランジスタ素子とし
てコレクタ・エミッタ耐圧VCEOが8Vである8V耐圧
のトランジスタ素子を使用した場合、その3倍の24V
までの電圧電源を電源端子HVCCから供給することが
できる。このため、図3及び図4に示すように、電圧電
源として24Vのものを供給して、出力電圧として24
Vの電圧を得ることができる。
【0036】なお、本発明は上記実施形態に限定されず
種々の変形が可能である。例えば、トランジスタ素子を
4段、5段…と直列的に縦積みすることにより、より高
耐圧の半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路を構成
することも可能である。この場合、そのトランジスタ素
子を直列的に縦積みした数に、バイアス回路BIで電圧
電源を分圧すればよい。
【0037】また、バイアス回路BIでは必ずしも電圧
電源を均等に分圧してトランジスタ素子のベースにベー
ス電源として供給する必要はなく、使用しているトラン
ジスタ素子のベース・エミッタ間電圧VBEを考慮して、
トランジスタ素子のコレクタ・エミッタ間電圧VCEにお
いて電圧が均等に分圧するように設計することも可能で
ある。さらに、上記実施形態で示したバイアス回路BI
及び切替回路SWを素子化した回路はその一例に過ぎ
ず、同等の機能を有する他の回路を用いても実現するこ
とができる。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
低耐圧のトランジスタ素子を用いて、半導体装置用の高
耐圧のプッシュプル出力回路を構成することができる。
このため、高い耐圧性を有するプッシュプル出力回路で
あるにもかかわらず、そのチップサイズを小さくするこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る半導体装置用高耐
圧プッシュプル出力回路のバイアス回路部分及び切替回
路部分をブロックで示す回路図。
【図2】本発明の第1実施形態に係る半導体装置用高耐
圧プッシュプル出力回路の回路図。
【図3】本発明の第2実施形態に係る半導体装置用高耐
圧プッシュプル出力回路のバイアス回路部分及び切替回
路部分をブロックで示す回路図。
【図4】本発明の第2実施形態に係る半導体装置用高耐
圧プッシュプル出力回路の回路図。
【図5】8V耐圧のトランジスタ素子と18V耐圧のト
ランジスタ素子の面積比を示す図。
【符号の説明】
Q1、Q2 制御用トランジスタ素子 Q3、Q4 耐圧用トランジスタ素子 Q7、Q8 切替用トランジスタ素子 HVCC 電源端子(第1の電源端子) GND グランド端子(第2の電源端子) OUT 出力端子 BI バイアス回路 SW 切替回路 IN 入力端子 INV 反転素子

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の電源端子と出力端子との間に設けら
    れた第1の制御用トランジスタ素子と、 前記出力端子と第2の電源端子との間に設けられた第2
    の制御用トランジスタ素子と、 入力端子からの入力信号に応じて、前記第1及び第2の
    制御用トランジスタ素子のオンとオフとの状態を切り替
    えることにより、前記出力端子の出力信号のロウとハイ
    とを切り替えるための切替回路と、 を備えた半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路にお
    いて、 前記第1の電源端子と前記出力端子との間に前記第1の
    制御用トランジスタ素子と直列的に設けられた第1の耐
    圧用トランジスタ素子と、 前記第2の電源端子と前記出力端子との間に前記第2の
    制御用トランジスタ素子と直列的に設けられた第2の耐
    圧用トランジスタ素子と、 前記第1及び第2の耐圧用トランジスタのベースに、前
    記第1及び第2の電源端子から供給される電圧電源を分
    圧することにより低圧化して、ベース電源を供給するバ
    イアス回路と、 を備えたことを特徴とする半導体装置用高耐圧プッシュ
    プル出力回路。
  2. 【請求項2】前記第1及び第2の耐圧用トランジスタは
    それぞれ複数設けられていることを特徴とする請求項1
    に記載の半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路。
  3. 【請求項3】前記バイアス回路では、前記第1の制御用
    トランジスタ素子と前記第1の耐圧用トランジスタ素子
    とを合わせた数に、電圧電源を分圧することを特徴とす
    る請求項1又は2に記載の半導体装置用高耐圧プッシュ
    プル出力回路。
  4. 【請求項4】前記切替回路は、直列的に接続された切替
    用トランジスタ素子であって、前記第1の制御用トラン
    ジスタ素子と前記第1の耐圧用トランジスタ素子とを合
    わせた数と同数の切替用トランジスタ素子を備えること
    を特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
    半導体装置用高耐圧プッシュプル出力回路。
  5. 【請求項5】n個のトランジスタを直列的に縦積みする
    ことにより、トランジスタのコレクタ・エミッタ間にか
    かる電圧を分圧し、トランジスタのコレクタ・エミッタ
    耐圧のn倍の電圧電源を用いることができるようにした
    ことを特徴とする半導体装置用高耐圧プッシュプル出力
    回路。
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