JPH10213863A

JPH10213863A - 透明原板を複写する方法

Info

Publication number: JPH10213863A
Application number: JP10026313A
Authority: JP
Inventors: Matthias Dr Maendl; マツテイアス・メンドル; Wolfgang Dr Keupp; ヴオルフガング・ケウツプ; Peter Czekal; ペテル・ツツエカル; Friedrich Jacob; フリードリツヒ・ヤコブ
Original assignee: Agfa Gevaert AG
Current assignee: Agfa Gevaert AG
Priority date: 1997-01-29
Filing date: 1998-01-26
Publication date: 1998-08-11
Also published as: ITRM980042A0; DE19703063C2; US5926258A; ITRM980042A1; CH692432A5; DE19703063A1; IT1298869B1

Abstract

(57)【要約】【課題】ハローを見え難くすること。【解決手段】複写されるべき原板の画像には暗い領域
と明るい領域があり、一方が他方の陰に隠れるように存
在する。二つの領域は明／暗変移により分離され、ここ
ではハローが原板の複写物上に現像されうる。複写の前
に、原板が走査され、その結果得られるデータを用いて
原板のマスクを作る。マスクは、原板の明／暗変移に対
応した明／暗変移を有する。しかしながら、マスクの明
／暗変移は、原板の明／暗変移に対してシフトされる。
このシフトは、マスクが原板上に重ねられた際にマスク
の明／暗変移が原板の或領域上に重ねられてハローを見
え難くするように設定される。マスキングの後に、原板
が複写される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は原板又は原図の複写
に関する。

【０００２】

【従来の技術】写真形式の原板又は原図は、しばしば明
るさにおいて大きな変化を示す。このような原板の紙複
写物又は印画は、明るい部分では過度に露光され、暗い
部分では過少に露光される。その結果、複写物において
詳細部や微細構造はほとんど見分けることができず、又
はもはや認めることができない。明るさが大きく変化す
る原板から作られる複写物の質を改善する為に、独国特
許公報第４０４０４９８号では不鮮明なマスクで原
板をマスクすることが提案されている。不鮮明なマスク
により全体のコントラストが低下する一方、詳細部のコ
ントラストは高まる。これは、端部をより鮮明にするが
詳細部のコントラストは低下させる鮮明なマスクとは異
なる。独国特許公報は、非常に低い分解能を有したマス
ク、すなわち原板の非常に不鮮明なイメージを作り出す
マスクを教示する。この独国特許公報の方法は、特定の
画像では望ましくない効果が現れ得ることを除いては、
通常顕著な結果を生じる。例えば、もし画像が中間濃度
の背景に対して暗いシーンを含めば、マスクの高度の不
鮮明さは非常に明るい境界を生じ得て、この境界は暗い
シーンの周囲に延在しそのシーンから相対的に大きく離
れたところでのみ背景にとけ込む。そのいくらか奇妙な
形状ゆえに、この境界は「白いハロー(white halo)」と
称される。対応する「黒いハロー(black halo)」は、中
間濃度の背景に対して置かれた明るいシーンの周囲に現
れ得る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はハロー
の可視性を低下させることである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】下記説明により明らかと
なる他の目的と共に上記目的は、本発明により達成され
る。本発明の一態様は、第１の明／暗変移(light/dark
transition) を有する原板を複写する方法に存する。こ
の方法は、第１明／暗変移に対応した第２明／暗変移を
有するマスクを作成する工程を含む。この作成工程は、
マスクが原板又は原板のイメージ上に重ねられる際にマ
スクの明／暗変移が原板の明／暗変移に対してシフトす
る様に、実行される。有利には原板は透明であり、好ま
しくはマスクは不鮮明である。

【０００５】

【発明の実施の形態】原板の明／暗変移に対するマスク
の明／暗変移のシフトは、形態学的フィルター(morphol
ogical filter)を用いて行われる。もし原板が暗い領域
を有すれば、マスク作成工程は、マスクが原板上又は原
板のイメージ上に重ねられる際にマスクの明／暗変移が
原板の暗い領域上に重ねられるように、実行され得る。
この場合、マスクの明／暗変移は拡大フィルター(dilat
ation filter) を用いて原板の明／暗変移に対してシフ
トされ得る。原板が明るい領域を有する場合には、マス
クが原板上又は原板のイメージ上に重ねられる際にマス
クの明／暗変移が原板の明るい領域上に重ねられるよう
に、マスクが作成され得る。この場合には、原板の明／
暗変移に対するマスクの明／暗変移のシフトは、エロー
ジョンフィルター(erosion filter)を用いて行われ得
る。

【０００６】本方法はさらに、原板からデータを導出す
る工程を含む。原板からデータを導出することは、原板
を走査する操作、及び走査する操作からデータを発生す
る操作を含みうる。原板から得られたデータを用いてマ
スクを作成でき、このマスク作成は、原板の明／暗変移
に対するマスクの明／暗変移のシフトがこのデータの関
数として発生するように実行できる。好ましくは、原板
から導出されたデータは濃度値の形式である。原板から
得られたデータは、少なくとも選択された量だけ所定値
とは異なる第１値を含み得て、これらの第１値は、明／
暗変移とは異なる原板の選択領域に対応する。データは
さらに、原板の残りの領域に対応した第２値を含み得
て、これらの第２値は、選択された量より小さい量だけ
所定値とは異なる。ここで、マスク作成工程は、マスク
が原板上又は原板のイメージ上に重ねられる際にマスク
の明／暗変移が原板の選択された領域上に重ねられるよ
うに実行されうる。マスクは電子的構成要素により作成
できる。マスク作成工程は、マスクが電子的であるよう
に実行できる。この場合、本方法は原板の電子イメージ
を発生する工程、及び電子イメージ上にマスクを電子的
に重ねる工程をさらに含むことができる。

【０００７】明／暗変移はイメージにとっては重大であ
り、ハローが現れ得る地点を構成する。原板に対するマ
スクの明／暗変移をシフトすることにより、この変移
を、ハローが見えにくいか又は見えない部分に配置でき
る。写真複写紙は、写真フィルムより十分小さなダイナ
ミックレンジしか有しない。従って、フィルムに存在す
る強度階調は、このような複写紙上には限定した範囲で
しか再生できない。このことは、非常に過度に露光され
たり非常に過少に露光された複写紙の部分では微細な階
調は検出できないことを意味する。本発明はこの現象を
利用することを可能にする。よって、本発明により、非
常に過度に又は過少に露光された写真複写紙の部分にハ
ローをシフトでき、それによりハローは見えなくなるか
又は事実上見えなくなる。白いハローは黒いハローより
も頻繁に現れ、この白いハローは、イメージが中間濃度
の背景と組み合わされた暗い前景を含む際に生じる。有
利には、白いハローの可視性を低下させる為に、明／暗
変移はイメージにおいて過度に露光された部分に、すな
わち暗い前景にシフトされる。このために、マスクの暗
い領域は周囲の明るい領域に対してそのサイズを減じな
ければならない。

【０００８】一方、黒いハローの可視性を低下させるに
は、マスクの明るい領域のサイズを周囲の暗い領域に対
して減じることが求められる。原板のマスクを作成する
ために、原板は一連の地点で走査され種々の地点での濃
度値を発生しえる。上述したように、形態学的フィルタ
ーを用いて明／暗変移のシフトを生じさせることができ
る。このようなフィルターは、周囲の地点の濃度を基に
して各走査地点の新たな濃度値が計算されるように設計
されえる。このことは、各走査地点が地点マトリックス
の中心に存在することを考慮することにより行える。こ
の地点マトリックスでは、すべての地点に濃度値が割り
当てられ、これらの濃度値はそれらの大きさの順に並べ
られる。中間フィルター(median filter) が用いられる
場合は、走査地点の新たな濃度値は、関連マトリックス
の中心地点に割り当てられた濃度値である。もしエロー
ジョンフィルターが用いられると、走査地点の新たな濃
度値は、それぞれのマトリックスの濃度値となり、これ
はマトリックス中心地点の濃度値より小さな特定量であ
る。拡大フィルターが用いられる場合には、走査地点の
新たな濃度値は、対応するマトリックスの濃度値とな
り、これはマトリックス中心地点の濃度値より大きい所
定量である。

【０００９】本発明の一実施態様により、閾値依存(thr
eshold-dependent) 拡大フィルターを用いて白いハロー
の可視性を低下しえる。この場合、各走査地点の濃度値
は、それぞれのマトリックスにおける最小濃度値と比較
される。もし濃度値間の差が所定の閾値を越えていれ
ば、拡大フィルターが用いられてそれぞれの走査地点に
対する濃度値を変える。一方、もし走査地点の濃度値と
対応マトリックスにおける最小濃度値の差が閾値より小
さいか又は等しいならば、走査地点の濃度値は変えられ
ない。本発明の別の実施態様によると、閾値依存エロー
ジョンフィルターを用いてハローの可視性を低下でき
る。この場合、走査地点の濃度値は関連マトリックスに
おける最大濃度値と比較され、そして濃度値間の差が別
の所定閾値と比較される。比較結果に依存して、濃度値
を変えるべくエロージョンフィルターを使用できる、又
は使用できない。エロージョンフィルターは、閾値依存
拡大フィルターと組み合わせて使用できる。個々の走査
地点は大いに異なって扱われるので、閾値依存拡大フィ
ルターと閾値依存エロージョンフィルターの組合せを用
いる場合には、明／暗変移は必ずしも単に変位されるも
のではない。むしろ、それ自身よく定められた明／暗変
移は放射状に広がり不鮮明になる。それにもかかわら
ず、全体として見れば、明／暗変移のシフトは観測可能
となる。

【００１０】本発明の別の特徴及び利点は、添付の図面
に関して読まれるとき以下の好適実施態様の詳細説明か
ら明らかとなる。

【００１１】

【実施例】図１は、透明原板の複写物又は印画を作成す
るためのデジタル複写装置又はプリンターを示す。原画
はネガ又は透明陽画とすることができ、フィルムのフレ
ームを構成できる。本装置はスキャナー１を含み、これ
は例えばＣＣＤの線形アレイを含むことができる。スキ
ャナー１は、縦横のラインにおける複数の地点で各原板
を走査するように設計され、この走査は高分解能で行わ
れる。例として、従来の１３５ｍｍフィルムの一フレー
ムは縦横ラインに沿って２０００地点ｘ３０００地点の
分解能で走査される。それぞれの地点で、原色の赤、緑
及び青の各々に対して濃度値が発生される。走査が８ビ
ットで行われると、各地点及び各原色に対して、０から
２５５までの光度値を用いた２５６階調の光度が得られ
る。後続の計算において不定表式を避けるために、０の
光度値を１増加し、各色及び各地点に対して２５５階調
の光度が用いられる。走査中に発生されたこれらの値は
メモリ２に入れられる。赤、緑及び青信号はメモリ２か
ら取り出されてコンバーター３に送られ、このコンバー
ター３が、これらの色信号を２つの色光度信号と１つの
輝度信号に変換する。これら色光度及び輝度信号は、鮮
明な色光度及び輝度イメージとして、メモリ４に記憶さ
れる。

【００１２】原板に対応する輝度イメージが用いられ
て、原板における濃度変化の大きさが求められ、そして
マスキングが原板の複写物又は印画上に有効な効果を与
えるか否かが決められる。濃度変化の大きさは、原板の
最も明るい地点と最も暗い地点を比較して求めるべきで
ない。例えば、そのようにすると、非常に明るすぎる小
地点（星、明かり又は水面からの反射などを表す）を含
んだ澄んだシーンを原板が有するようになるが、これら
の明るい小地点は、結果的に明るさを低下させるように
マスクされるべきものである。従って、大きな領域間の
濃度の違いを調べるべきである。この目的のため、平均
化装置５が、メモリ４に記憶された輝度イメージにおけ
る地点に亘って浮動平均(floating average)を計算す
る。輝度イメージの地点が２次元マトリックスとして記
憶されてこのマトリックスにおいて各地点には強度値ｙ
_ij（ｙ_1,1，ｙ_1,2．．．ｙ_2,1，ｙ_2,2．．．を示
す）が割り当てられることを仮定すると、平均化装置５
は次式のようにして新しい強度値ｙ^I _i,jを計算する。

【００１３】

【数１】

【００１４】因子（２ｍ＋１）の平方は、平均化が行わ
れる地点の数を表す。２０００地点ｘ３０００地点の走
査分解能の場合には、ｍ＝４０のときよい結果が得られ
る。平均化操作により、不鮮明な輝度イメージが生じ、
その地点は強度値ｙ^I _i,jを有し、これらの値ｙ^I _i,j
はメモリ６に入れられる。不鮮明な輝度イメージの最も
明るい地点と最も暗い地点は、濃度評価装置７で決めら
れる。最も明るい地点に関する強度値をｙ^I _bとし最も
暗い地点に関する強度値をｙ^I _dとすると、その比ｙ^I
_b／ｙ^I _dは不鮮明な輝度イメージのコントラストの目
安となる。この比率がコンパレーター８において基準値
Ｋと比較される。基準値Ｋは境界を表し、この境界を越
えて原板はマスクされるべきものである。基準値Ｋは数
ｍの関数であり、この数ｍは上述のように、平均化に用
いられる地点数の目安である。ｍ＝４０のとき、Ｋの適
値は７である。比率ｙ^I _b／ｙ^I _dにより表されるよう
な不鮮明輝度イメージのコントラストが７より小さいこ
とが分かれば、コンパレーター８は、原板がマスクされ
ずに複写されるべきであることを決定し、この情報はコ
ンピューター１０に伝えられる。一方、コントラストが
７以上であれば、原板に関して入手できるデータからマ
スクを作成しなけばならない。

【００１５】もしマスクを作成する必要があれば、メモ
リ４内の輝度イメージがフィルタリング装置６０に送ら
れ、そこで閾値依存拡大フィルターを輝度イメージに対
して操作することにより輝度イメージが拡大される。フ
ィルタリング装置６０では、輝度イメージの各地点に対
する強度値ｙ_i,jが強度値のマトリックスｙ_k,lの一部
と見なされる。ここで、ｋの範囲は、ｉ−ｒからｉ＋ｒ
まで、及びｌの範囲は、ｊ−ｒからｊ＋ｒまで。有利に
は、ｒは３に設定される。

【００１６】輝度イメージの各地点に対して、対応する
マトリックスの最大強度値ｙ_{k,l max}が求められる。こ
の強度値と夫々の輝度イメージ地点の強度値間の差が計
算されて閾値Ｓと比較される。もしこの差が閾値Ｓ以下
ならば、輝度イメージ地点の強度値は変えられない。も
しこの差が閾値Ｓを越えるならば、輝度イメージ地点の
強度値は夫々のマトリックスの最大強度値ｙ_{k,l max}に
設定される。最大強度値ｙ_{k,l max}とその地点の元の強
度値間の差が閾値Ｓと比較された後に輝度イメージ地点
に割り当てられた強度値をｙ^II _i,jと表すならば、ｙ
_i,j−ｙ_{k,l max}がＳ以下のとき、ｙ^II _i,j＝ｙ_i,jと
なり、ｙ_i,j−ｙ_{k,l max}がＳより大きいとき、ｙ^II
_i,j＝ｙ_{k,l max}となる。閾値Ｓ＝１００のとき、よい
結果が得られる。強度値ｙ^II _i,jはメモリ６１に記憶さ
れる。

【００１７】原板の印画又は複写物上にハローを発生さ
せ得る明／暗変移を、原板が有している場合、上記拡大
を行うことができる。拡大により明／暗変移が変位さ
れ、その結果、作成されるマスク上の明／暗変移が原板
上の明／暗変移に対してシフトされる。明／暗変移が白
いハローを作り出す場合には、拡大フィルターが特に有
効である。このような状況下では、明／暗変移をシフト
するために拡大フィルターを次のように使用できる。す
なわち、マスクが原板上又は原板のイメージ上に重ねら
れるとき、明／暗変移が原板又はそのイメージの暗い領
域上に重ねられるようにする。そうすると、ハローは見
えなくなるか又はほとんど見えなくなる。明／暗変移が
重ねられる暗い領域は、明／暗変移と接する暗い領域と
できる。

【００１８】閾値依存エロージョンフィルターを用いて
輝度イメージを操作することにより、メモリ４内の輝度
イメージにエロージョンを受けさせることも可能であ
る。エロージョンは上記概略示した拡大と類似的に実行
される。しかしながら、エロージョンの場合、マトリッ
クスの最小強度値が求められる。この強度値と夫々の輝
度イメージ地点の強度値間の差が計算されて第２の閾値
と比較される。もしこの差が第２閾値より小さいなら
ば、輝度イメージ地点の強度値はマトリックスの最小強
度値ｙ_{k,l min}に設定される。拡大と同様に、原板の印
画又は複写物上にハローを生じ得る明／暗変移を原板が
有する場合、エロージョンを使用できる。エロージョン
により明／暗変移が変位され、その結果、作成されるマ
スク上の明／暗変移が原板上の明／暗変移に対してシフ
トされる。明／暗変移が黒いハローを作り出す場合に
は、エロージョンフィルターが特に有利である。この場
合には明／暗変移をシフトすべくエロージョンフィルタ
ーを次の様に用いることができる。すなわち、マスクが
原板上又は原板のイメージ上に重ねられるとき、明／暗
変移が原板又はそのイメージの明るい領域上に重ねられ
る。そうしてハローが見えなくなり又は事実上見えなく
なる。明／暗変移が重ねられる明るい領域は、明／暗変
移に接する明るい領域とすることができる。

【００１９】閾値依存拡大フィルターと閾値依存エロー
ジョンフィルターを組み合わせて用いることは可能であ
る。マスク上の明／暗変移が原板上の対応する明／暗変
移に対してシフトしている距離は、走査により原板から
引き出される強度値又は濃度値の関数である。マスク上
の明／暗変移は次の様に変位されるのが好ましい。すな
わち、マスクが原板上又は原板のイメージ上に重ねられ
るとき、マスクの明／暗変移が、強度値又は濃度値が所
定の値から最も離れているような原板領域上に重ねられ
る。メモリ４内の輝度イメージがマスクされるものと仮
定すると、生のマスクがマスク計算装置９で計算され
る。生のマスクは１組の強度値ｙ^III _i,jで表され、こ
れらは、不鮮明輝度イメージに対する強度値ｙ^I _i,jと
同様に、浮動平均を用いて計算される。計算装置９は生
のマスクを次のように計算する。

【００２０】

【数２】

【００２１】計算装置９において導出される生のマスク
は、第２の不鮮明輝度イメージを構成する。項（２ｎ＋
１）の平方は、平均化が行われる地点の数を表す。ｍ＝
４０及びＫ＝７のとき、ｎ＝５０の値は満足のいくもの
である。生のマスクに対する強度値ｙ^III _i,jはメモリ
１１に入れられる。マスキングの目的は、暗すぎる原板
領域を明るくし且つ明るすぎる原板領域を暗くすること
であるから、マスクは原板の反転でなければならない。
よって、メモリ１１に記憶された生のマスクは反転され
なければならない。さらに、マスクの最も明るい地点が
原板を暗くすることがないように、マスクの設計が為さ
れるべきである。このために、マスクは標準化されなけ
ればならない。その上、マスクのグラデーション又はガ
ンマが考慮されるべきである。マスクの反転、標準化及
びグラデーション調整は、単一計算を用いて計算機１２
で実行される。計算機１２は最終マスクの地点に対して
強度値ｙ^IV _i,jを次式により計算する。

【００２２】

【数３】

【００２３】上式において、ｙ^III _dは、メモリ１１に
記憶された生のマスクの最も暗い地点に対する強度値を
表し、ガンマはグラデーション因子を表す。ｍ＝４０，
ｎ＝５０，ｒ＝３，Ｋ＝７及びＳ＝１００のとき、０．
５のグラデーション因子が良好に作動することが分かっ
ている。最終マスクに対する強度値ｙ^IV _i,jはメモリ１
３に入れられる。メモリ４に記憶された元の鮮明な輝度
イメージは、必要ならばコンピューター１０で修正され
る。メモリ１３に記憶された最終マスクは、マスキング
装置１４において元の輝度イメージ上に重ねられる。こ
のために、元の輝度イメージの各地点に対する強度値
に、メモリ１３内の最終マスクの対応地点に対する強度
値が掛算される。この積が２５５で割られて最も大きい
光度階調を構成し、そして得られる値が、スケール調整
に影響する項で掛算され、原板の最も明るい地点の強度
値を、元々位置していた値の範囲に戻す。これらの操作
はマスキング装置１４により行われ、マスクされた輝度
イメージを表す強度値ｙ^V _i,jを発生し、数学的には次
式のように表される。

【００２４】

【数４】

【００２５】マスクされた輝度イメージに対する強度値
ｙ^V _i,jは、メモリ１５に入れられる。マスクされた輝
度イメージに関して原板の複写を行うために、このイメ
ージは原板から導出された２つの色光度イメージと結合
されなければならない。メモリ４と同じタイプのメモリ
１６がこの目的のために設けられる。上述のように、メ
モリ４に記憶された元の鮮明な輝度イメージは、必要な
らばコンピューター１０で修正される。メモリ４に記憶
された２つの色光度イメージについても同じことが云え
る。もし、原板がマスクされずに複写されるべきである
とコンパレーター８が決定するならば、２つの色光度イ
メージは元の鮮明輝度イメージと共にコンピューター１
０からメモリ１６に直接送られる。一方、もし、複写の
間原板はマスクされるべきであるとコンパレーター８が
決定するならば、コンピューター１０は２つの色光度イ
メージのみをメモリ１６に伝送する。元の鮮明な輝度イ
メージの代わりに、ここではメモリ１６がマスクされた
輝度イメージをメモリ１５から受け取る。

【００２６】コンバーター１７はメモリ１６に記憶され
た色光度イメージ及び輝度イメージを赤、緑及び青信号
に変換し、これらの信号はメモリ２と同じタイプのメモ
リ１８に入れられる。赤、緑及び青信号はデジタル複写
又はプリント装置１９に送られ、該装置１９はこれらの
信号を用いて複写物質（例えば従来のＣＮ紙）上に原板
の複写を行う。上記手順は、原板がネガであることを仮
定している。もし原板が透明陽画ならば、複写装置１９
を駆動する信号は既知の方法でさらに反転されなければ
ならない。図１の装置はデジタル複写又はプリント装置
である。図２は複写又はプリント装置であり、原板に対
する従来の直接又は全体照明を用いて対照的に動作す
る。

【００２７】図２を参照すると、露光され現像される透
明フィルム４０が左から右に転送されている。フィルム
４０はまずスキャナー２０を通過し、このスキャナー２
０は、光源又は照明源４１及びセンサー２１を有する。
センサー２１は、例えば、ＣＣＤの２次元又は線形アレ
イにより構成できる。スキャナー２０は図１のスキャナ
ー１よりも実質的に低い分解能を有し得る（例えば、４
００ピクセルｘ６００ピクセルの分解能）。スキャナー
２０の下流では、フィルム４０は可変長のループ４２を
形成する。ループ４２は一時的な保存装置として働き、
これにより、フィルム４０の先頭フレームが複写ステー
ション４３に入る前にフィルム４０の少なくとも主要な
部分が走査できるようになる。さらに、フィルム４０は
スキャナー２０を連続的に移動し、歩調を揃えて複写ス
テーション４３を通過し、ループ４２はバッファーとし
てさらに働いて、スキャナー２０と複写ステーション４
３を通るフィルムの異なる移動速度を補償する。

【００２８】複写ステーション４３はプラットホーム又
はサポート５３を有し、その上にフィルム４０のフレー
ムが複写中載置される。複写ステーション４３には、複
写物質５２のセクションに対するプラットホーム又はサ
ポート５４が備わっている。複写中に、プラットホーム
５３上のフレームのイメージが、プラットホーム５４の
上にある複写物質のセクション上に投射される。フレー
ムのイメージを複写物質５２上に投射するために、フレ
ームはランプ又は照明源４４により照明される。ランプ
４４とプラットホーム５３の間には、一組の色フィルタ
ー４５、シャッター４６、反射チューブ４７、ＬＣＤ表
示器４９及び拡散ディスク５０がある。ランプ４４に面
する反射チューブ４７の端部には、光をチューブ４７内
に受け入れるための開口が備わる。反射チューブ４７の
反対の端部はプラットホーム５３に面し、光をチューブ
４７から放出するための開口が備わる。第２の拡散ディ
スク４８は、反射チューブ４７の放出開口に装着され
る。ランプ４４からプラットホーム５３上のフレームに
進む光は、フレームを通過して対物レンズ５１に進む。
対物レンズ５１は、プラットホーム５４上に載置された
複写物質５２のセクション上に、フレームのイメージを
フォーカスする。

【００２９】ＬＣＤ表示器４９が用いられ、高すぎる大
面積コントラストを有するフレーム（すなわち、より大
面積のコントラストが過度になるようなフレーム）に対
して不鮮明なマスクを発生する。図１の装置とは反対
に、ＬＣＤ表示器４９の不鮮明マスクが、マスクされる
べきフレーム上に光学的に重ねられる。マスクの計算
は、図１に類推して実行される。図２のアセンブリ２４
は、図１のコンバーター３及び２つのメモリ２、４に対
応するコンバーター及び２つのメモリを含む。一方、ア
センブリ２８は、図１の平均化装置５、メモリ６、濃度
評価装置７及びコンパレーター８に対応する平均化装
置、メモリ、濃度評価装置及びコンパレーターを含む。
図２中の第３のアセンブリ３３は、フィルタリング装
置、マスク計算装置、コンピューター、計算機及び３つ
のメモリを含み、これらは図１におけるフィルタリング
装置６０、マスク計算装置９、コンピューター１０、計
算機１２及びメモリ１１、１３、６１に相当する。アセ
ンブリ３３はＬＣＤ表示器４９に接続され、アセンブリ
３３により計算されるマスクが、アセンブリ３３の指示
の下で表示器４９において発生される。アセンブリ３３
は露光制御装置３０にも接続され、該露光制御装置３０
は、マスクを考慮した従来の方法で色フィルター４５と
シャッター４６を調整する。

【００３０】品質の高い複写物又は印画を作成するた
め、複写又はプリント装置の種々の構成要素は互いに適
切に調和しなけらばならない。図１の装置では、上述の
ように、ｍを４０に、Ｋを７に、ｎを５０に、ガンマを
０．５に設定するとこの条件を満たすことができる。９
ｃｍｘ１３ｃｍのサイズの複写物が小さなフォーマット
の従来フィルムから作られると仮定すると、図２の装置
に対する上記条件を満たす２つの典型的な構成は下記の
通りである。

【００３１】（例１）ｍの値を８、Ｋの値を７、ｎの値
を１０、ガンマの値を０．５としてマスクが計算され
る。ＬＣＤ表示器は個別に制御可能な地点を有し、これ
らの地点は異なる灰色濃淡を取り得る。各地点の灰色濃
淡は、１６個の強度値を平均することにより設定され
る。フィルム４０とＬＣＤ表示器で発生されたマスク間
の距離は、１０．５ｍｍである。拡散ディスク４８、５
０はガラス板から成り、各ディスク４８、５０の一表面
は、粒子サイズ１０００のシリコンカーバイドで研磨す
ることによりマット仕上げされている。拡散ディスク５
０の基表面はフィルム４０から２．５ｍｍの距離のとこ
ろに位置し、拡散ディスク４８の基表面はフィルム４０
から１５ｍｍの距離のところに位置する。フィルム４０
と複写物質５２の間の距離は５５５ｍｍである。対物レ
ンズ５１は１／４．５の相対アパーチャーを有し、３．
９の倍率に設定される。

【００３２】（例２）マスクは例１のように計算され形
成されるが、マスクとフィルム４０の距離は１５ｍｍで
ある。拡散ディスク４８及び５０は各々基表面の代わり
にエッチングされた表面を有し、ディスク５０のエッチ
ング表面はフィルム４０から７ｍｍの距離のところに位
置し、ディスク４８のエッチング表面はフィルム４０か
ら２２ｍｍの距離のところに位置する。対物レンズ５１
は１／４．５の相対アパーチャーを有する。

【００３３】図３ａは単純な拡大フィルター（すなわち
閾値依存でない拡大フィルター）により操作されたネガ
又は原板を示す。例えば前景のランプのような明るい領
域は、フィルターの掛けられないネガに比べてサイズが
減じられる。一方、例えば右上方角の雲のような暗い領
域はフィルターの掛けられないネガに比べて広げられ
る。単純拡大フィルターにより、白いハローの可視性を
低下できる。しかしながら、特定の画像では黒いハロー
がより強くなりえる。図３ｂは、閾値依存拡大フィルタ
ーにより図３ａのネガが操作された後のネガを示す。図
３ａと同様に、明るい領域はフィルタリングされないネ
ガに比べてサイズが減じられる。一方、図３ａとは対照
的に、右上方角の雲のような暗い領域はフィルタリング
されないネガに比べて広げられない。従って、単純拡大
フィルターのように、閾値依存拡大フィルターにより白
いハローの可視性を低下できる。しかしながら、単純拡
大フィルターとは反対に、閾値依存拡大フィルターを用
いると少なくとも黒いハローが強められることはまずな
い。

【００３４】本願発明の幾つかの実施態様を以下に列挙
する。（１）第１明／暗変移を有する原板を複写する方法であ
って、前記第１明／暗変移に対応する第２明／暗変移を
有するマスクの作成工程を含み、前記マスクが前記原板
上又は前記原板のイメージ上に重ねられるとき、前記第
２明／暗変移が前記第１明／暗変移に対してシフトされ
る様に、作成工程が実行される、前記第１明／暗変移を
有する原板を複写する方法。（２）前記原板が透明である、（１）項記載の方法。（３）前記原板を走査する工程、及びこの走査工程から
データを発生する工程をさらに含み、作成工程は前記デ
ータを用いて実行される、（１）項記載の方法。（４）前記データが濃度値を含む、（３）項記載の方
法。（５）前記マスクが不鮮明である様に、作成工程が実行
される、（１）項記載の方法。

【００３５】（６）前記第１明／暗変移に対する前記第
２明／暗変移のシフトが、形態学的フィルターを用いて
行われる、（１）項記載の方法。（７）前記原板が暗い領域を有し、前記マスクが前記原
板上又は前記原板のイメージ上に重ねられるとき前記第
２明／暗変移が前記暗い領域上に重ねられる様に、作成
工程が実行される、（１）項記載の方法。（８）前記第１明／暗変移に対する前記第２明／暗変移
のシフトが、拡大フィルターを用いて行われる、（７）
項記載の方法。（９）前記原板が明るい領域を有し、前記マスクが前記
原板上又は前記原板のイメージ上に重ねられるとき前記
第２明／暗変移が前記明るい領域上に重ねられる様に、
作成工程が実行される、（１）項記載の方法。（１０）前記第１明／暗変移に対する前記第２明／暗変
移のシフトが、エロージョンフィルターを用いて行われ
る、（９）項記載の方法。（１１）前記原板からデータを導出する工程をさらに含
み、前記第１明／暗変移に対する前記第２明／暗変移の
シフトが前記データの関数として行われる様に、作成工
程が実行される、（１）項記載の方法。

【００３６】（１２）前記データは第１値と第２値を含
み、これら第１値は少なくとも選択された量だけ所定値
とは異なり、これら第２値は前記選択された量より小さ
い量だけ前記所定量とは異なり、前記第１値は、前記第
１明／暗変移とは異なる前記原板の選択領域に対応し、
前記第２値は、前記原板の残りの領域に対応し、前記マ
スクが前記原板上又は前記原板のイメージ上に重ねられ
るとき前記第２明／暗変移が前記選択領域上に重ねられ
る様に、作成工程が実行される、（１１）項記載の方
法。（１３）作成工程が、電子構成要素で前記マスクを形成
する工程から成る、（１）項記載の方法。（１４）前記マスクが電子式である様に、作成工程が実
行され、さらに、前記原板の電子イメージを発生する工
程、及び前記電子イメージ上に前記マスクを電子的に重
ねる工程、を含む、（１）項記載の方法。

【００３７】添付特許請求の範囲の等価物の意図及び範
囲内において、種々の変更が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】複写装置の一実施例のブロック図である。

【図２】複写装置の別の実施例を概略的に示す。

【図３ａ】図３ｂで用いられた拡大フィルターとは異な
る拡大フィルターを用いて作成された印画を示す。

【図３ｂ】図３ａで用いられた拡大フィルターとは異な
る拡大フィルターを用いて作成された印画を示す。

【符合の説明】

１スキャナー２メモリ３コンバーター４メモリ５平均化装置６メモリ７濃度評価装置８コンパレーター９マスク計算装置１０コンピューター１１メモリ１２計算機１３メモリ１４マスキング装置１５メモリ１６メモリ１７コンバーター１８メモリ１９デジタルプリント装置２０スキャナー２１センサー２４コンバーター及びメモリアセンブリ２８平均化、濃度評価、コンパレーター及びメモリア
センブリ３０露光制御装置３３コンピューター、フィルタリング、マスク計算及
びメモリアセンブリ４０フィルム４１光源４２ループ４３複写ステーション４４ランプ４５色フィルター４６シャッター４７反射チューブ４８拡散ディスク４９ＬＣＤ表示器５０拡散ディスク５１対物レンズ５２複写物質５３プラットホーム５４プラットホーム６０フィルタリング装置６１メモリ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ヴオルフガング・ケウツプドイツ連邦共和国デイー81549 ミユンヘン、ラングビユルゲナー・シユトラーセ２ (72)発明者ペテル・ツツエカルドイツ連邦共和国デイー81545 ミユンヘン、ボツツアリスシユトラーセ 32 (72)発明者フリードリツヒ・ヤコブドイツ連邦共和国デイー81247 ミユンヘン、フラウエンドルフアー・シユトラーセ 69

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１明／暗変移を有する原板を複写する
方法であって、前記第１明／暗変移に対応する第２明／暗変移を有する
マスクの作成工程を含み、前記マスクが前記原板上又は前記原板のイメージ上に重
ねられるとき、前記第２明／暗変移が前記第１明／暗変
移に対してシフトされる様に、作成工程が実行される、
前記第１明／暗変移を有する原板を複写する方法。
【請求項２】前記原板が透明である、請求項１記載の
方法。
【請求項３】前記マスクが不鮮明である様に、作成工
程が実行される、請求項１記載の方法。
【請求項４】前記原板からデータを導出する工程をさ
らに含み、前記第１明／暗変移に対する前記第２明／暗変移のシフ
トが前記データの関数として行われる様に、作成工程が
実行される、請求項１記載の方法。
【請求項５】前記マスクが電子式である様に、作成工
程が実行され、さらに、前記原板の電子イメージを発生する工程、及び前記電子
イメージ上に前記マスクを電子的に重ねる工程、を含
む、請求項１記載の方法。