JPH10226824A - 光輝焼鈍炉における入側シール方法及び装置 - Google Patents

光輝焼鈍炉における入側シール方法及び装置

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JPH10226824A
JPH10226824A JP4488697A JP4488697A JPH10226824A JP H10226824 A JPH10226824 A JP H10226824A JP 4488697 A JP4488697 A JP 4488697A JP 4488697 A JP4488697 A JP 4488697A JP H10226824 A JPH10226824 A JP H10226824A
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gas
bright annealing
atmosphere gas
injection nozzle
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Naotoshi Takeuchi
直利 竹内
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Nippon Steel Nisshin Co Ltd
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Nisshin Steel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 アップヒートタイプの光輝焼鈍炉において、
炉内への酸素持ち込みによって光輝焼鈍される金属帯の
表面に酸化皮膜が形成されないようにする。 【解決手段】 アップヒートタイプの光輝焼鈍炉の入側
シール部の金属帯Sの通板位置に向けて炉内と炉外とに
それぞれガス噴射ノズル6,7を設置し、炉内ガス噴射
ノズル6からは炉内圧に対して50〜100Pa高い圧力の炉
内雰囲気ガスの新ガス10及び/又は炉内雰囲気ガス9を
リファイニング装置8を用いて再生した再生炉内雰囲気
ガス11を噴射し、炉外ガス噴射ノズル7からは5×104
〜25×104Paの窒素ガス又は空気より軽い不活性ガス13
を噴射して入側シール部の金属帯Sの通板位置炉外側を
酸素含有量が1%以下に維持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アップヒートタイ
プの光輝焼鈍炉における入側シール方法とこの方法を実
施するのに好適な装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ステンレス鋼帯の如き金属帯をその表面
に酸化皮膜を形成させない状態で光輝焼鈍する光輝焼鈍
炉は、その内部に例えば水素ガス75%と窒素ガス25
%とより成る混合ガスの如き、炉内において金属帯に酸
化反応を起こさずに圧延時の光沢を維持させることがで
きる水素ガスを含む易燃性の還元性雰囲気ガス(以下、
単に炉内雰囲気ガスと言う)が送気されている。
【0003】このような光輝焼鈍炉における入口及び出
口の金属帯の通過部分には、酸化反応につながる酸素の
炉内への侵入を防止して炉内雰囲気ガスを外気と遮断
(以下、シールと称することがある)するために、シー
ルロール,シールパッドなどのシール部材を使用したシ
ール装置を設置して、炉内圧力は外気より10〜100
mmH2O程度高い圧力状態に保たれていて、炉内雰囲気
ガスがシール装置から少しずつ外気へ漏れ出すようにし
て操業している。
【0004】しかしながらこのようなシール装置におい
て、炉内圧力と大気圧との差は非常に小さいため、光輝
焼鈍される金属帯の形状が悪い場合や、金属帯の板厚が
厚い場合や、金属帯がエンボス材のように表面に凹凸が
ある仕上げの場合には、金属帯とシール部材との間に不
可避的に隙間が生じるため、特に入側シール装置におい
てシールが不完全で金属帯と共に大気中の酸素が炉内に
持ち込まれる現象が発生する。
【0005】これまでの光輝焼鈍炉は大部分がレンガ炉
であったため、入口から炉内に通板された金属帯はトッ
プロールまで上昇してから下降せしめられる際に加熱帯
で加熱されるダウンヒートタイプの炉が大部分であっ
た。従って、金属帯が炉内に通板されて加熱される加熱
帯に到達するまでに長い通板室があり、少量の酸素が金
属帯と共に持ち込まれても加熱帯において著しい酸化反
応を生じることはなかった。
【0006】また、特開平8−53716号公報に開示
されているような炉内への酸素の侵入を極力防止しよう
とするシール装置もあるが、このような構造のシール装
置では金属帯に接触するロールが増える結果となり、金
属帯に接触するロールのロール圧下バランスが崩れると
炉内センタリングに悪影響を与えるため、ロール増加分
のリスクを負うこととなるばかりか、金属帯に疵が発生
する可能性が増大して好ましくない。
【0007】これに対し、近年設置されるようになった
マッフルを使用した光輝焼鈍炉のようなアップヒートタ
イプの炉の場合には、入口から炉内に通板された金属帯
が直ちに加熱帯で加熱されるため入側シール部から持ち
込まれた酸素が希釈される前に加熱された金属帯に接触
することになるので、金属帯表面に酸化物を形成するこ
とになり、この表面酸化は金属帯の白色化,光沢不良,
光沢ムラにつながるばかりか、焼鈍後目視できないよう
なものであってもその金属帯が化学発色処理されるステ
ンレス鋼帯の場合には化学発色処理をした場合に色ム
ラ,色調不良につながる現象が多発していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記した如き
アップヒートタイプの光輝焼鈍炉において入側シール部
から金属帯と共に酸素が持ち込まれて金属帯が表面酸化
を起こすという従来技術の問題点を解決するアップヒー
トタイプの光輝焼鈍炉における入側シール方法とこの方
法を実施するのに好適な装置を提供することを課題とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究の結
果、アップヒートタイプの光輝焼鈍炉の入側シール部の
金属帯通板位置に向けて炉内と炉外にそれぞれガス噴射
ノズルを設置し、炉内ガス噴射ノズルからは炉内圧に対
して50〜100Pa高い圧力の炉内雰囲気ガスの新ガス及び
/又は炉内雰囲気ガスをリファイニング装置を用いて再
生した再生炉内雰囲気ガスを噴射し、炉外ガス噴射ノズ
ルからは5×104〜25×104Paの窒素ガス又は空気より軽
い不活性ガスを噴射して入側シール部の金属帯通板位置
炉外側を酸素含有量が1%以下に維持することによっ
て、前記課題を解決することができることを究明したの
である。
【0010】そして、前記した如き光輝焼鈍炉における
入側シール方法を実施する装置としては、アップヒート
タイプの光輝焼鈍炉において、入側シール部の金属帯の
通板位置に向けて炉内と炉外とにそれぞれガス噴射ノズ
ルが設置されており、炉内ガス噴射ノズルは炉内雰囲気
ガスの新ガスの供給源及び/又は炉内雰囲気ガスを再生
するリファイニング装置に接続されており、炉外ガス噴
射ノズルは窒素ガス又は空気より軽い不活性ガスの供給
源に接続されていればよいことも究明したのである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る光輝焼鈍炉
における入側シール方法を実施するための本発明に係る
光輝焼鈍炉における入側シール装置について図面により
詳細に説明する。図1は本発明に係る光輝焼鈍炉におけ
る入側シール方法を実施するための一般的なステンレス
鋼帯用のアップヒートタイプの光輝焼鈍炉の構造説明
図、図2は図1における入側シール装置の説明用拡大断
面図、図3は他の実施例の入側シール装置の説明用拡大
断面図、図4は炉内雰囲気ガスを再生するリファイニン
グ装置の構成説明図である。
【0012】図面中、1はアップヒートタイプの光輝焼
鈍炉の炉体であり、金属帯Sはデフレクタロール4によ
りその進行方向を上方に変向されて入側シール装置2を
通って炉体1内へ入り、直ちに加熱帯1aで所定温度まで
加熱された後に冷却帯1bで冷却され、トップロール1cに
よりその進行方向を変向されて下降して出側シール装置
3を経て炉外に出て、デフレクタロール5によりその進
行方向を変向されて次工程に通板される。
【0013】この炉体1内には例えば水素ガス75%と
窒素ガス25%とより成る混合ガスの如き水素ガスを含
有する易燃性の炉内雰囲気ガスが常時注入されており、
炉内圧力は外気より10〜100mmH2O程度高い圧力
状態に保たれていて、炉体1内に空気(酸素)が侵入し
て炉内雰囲気ガス9と混合することが無いように区画入
・出口にそれぞれ設けられたシール装置2,3から少し
ずつ外気へ漏れ出すように配慮されている。この常時注
入されている炉内雰囲気ガスは、酸素を全く含んでいな
い炉内雰囲気ガスの新ガス10や、炉体1内から取り出し
てフィルターやドライヤーや冷却機等を通したガスや、
炉内雰囲気ガス9を図4に示す如く炉内雰囲気ガス9中
に含まれているホワイトパウダー等の汚れを除去するプ
レフィルター8aとこのプレフィルター8aを通過した炉内
雰囲気ガス9を冷却して後述する脱酸装置8dの触媒を保
護するためのプレクーラー8bとこのプレクーラー8bを通
過した炉内雰囲気ガス9を送り出すブロワー8cとブロワ
ー8cにより送り出されてきた炉内雰囲気ガス9中に含ま
れている酸素をパラジウム触媒により水素と反応させて
2Oとする脱酸装置8dとこの脱酸装置8d内で生成され
た水分をゼオライトにより吸着させる吸着塔8eとから成
るようなリファイニング装置8を通して酸素の含有量が
非常に少ない状態に再生した再生炉内雰囲気ガス11であ
る。
【0014】このように構成されているアップヒートタ
イプの光輝焼鈍炉において、入側シール装置2として
は、それぞれ従来から使用されているシール装置、すな
わち図2に示す如くシリコンゴム等の弾性体でライニン
グされており金属帯Sと同速で回転する弾性回転ロール
2aで通板される金属帯Sの表裏両面を挟み付けると共に
この弾性回転ロール2aが炉体1に固定されたフェルト又
はフェルト相当品2bに当接されている態様であっても、
図3に示す如く金属製のロール2cと炉体1に設けられた
シール金物2dとの間に挟まれている弾性を有するフェル
トパッド2eで通板される金属帯Sの表裏両面を挟み付け
られており、このフェルトパッド2eが金属帯Sとの摩擦
により引張られても移動しないように前記金属製のロー
ル2cに廻り止めが施されていてフェルトパッド2eにゴミ
や汚れが蓄積した場合に廻り止めを外してロール2cを回
転させてフェルトパッド2eの清浄な部分を金属帯Sに接
触させる態様であっても良い。
【0015】このような構成のアップヒートタイプの光
輝焼鈍炉の入側シール装置2において、本発明において
は入側シール部の金属帯Sの通板位置に向けて炉内と炉
外とにそれぞれガス噴射ノズル6,7が設置されてお
り、炉内ガス噴射ノズル6は炉内雰囲気ガスの新ガス10
の供給源12及び/又は炉内雰囲気ガス9を再生して再生
炉内雰囲気ガス11とするリファイニング装置8に接続さ
れており、炉外ガス噴射ノズル7は窒素ガス又はヘリウ
ムガスやアルゴンガスの如き空気より軽い不活性ガスの
供給源13に接続されているのである。
【0016】そして、前記炉内ガス噴射ノズル6からは
炉内圧に対して50〜100Pa高い圧力の炉内雰囲気ガスの
新ガス10及び/又は炉内雰囲気ガス9をリファイニング
装置8を用いて再生した再生炉内雰囲気ガス11を噴射
し、前記炉外ガス噴射ノズル7からは5×104〜25×104
Paの窒素ガス又は不活性ガスを噴射して入側シール部の
金属帯Sの通板位置炉外側を酸素含有量が1%以下に維
持するのである。
【0017】このように炉内ガス噴射ノズル6から噴射
するガスが炉内雰囲気ガスの新ガス10及び/又は炉内雰
囲気ガス9をリファイニング装置8を用いて再生した再
生炉内雰囲気ガス11でなければならないのは、例えば窒
素ガスのような炉内雰囲気ガス9とは異なるガスである
と炉内雰囲気ガス9の露点調整その他の管理が面倒にな
り、炉体1内に存在する炉内雰囲気ガス9には少量では
あるが酸素が含有されているので、酸素が含有されてい
る炉内雰囲気ガス9が金属帯Sに吹き付けられると金属
帯Sに表面に酸化皮膜が発生する可能性が高まると共に
入側シール装置2を経て金属帯Sと共に炉内に侵入して
きた酸素の酸素濃度を早急に希釈化して低減させる効果
が低下するから、酸素を含有していないか又は含有して
いても炉体1内に存在する炉内雰囲気ガス9に比べて酸
素濃度が非常に低いガスでなければならないからであ
る。
【0018】そしてこの炉内ガス噴射ノズル6から噴射
する前記炉内雰囲気ガスの新ガス10及び/又は炉内雰囲
気ガス9をリファイニング装置8を用いて再生した再生
炉内雰囲気ガス11の圧力が炉内圧に対して50〜100Pa高
い圧力でなければならないのは、50Pa未満ではその圧力
が弱すぎて炉内にガス流を起させることができない場合
があると共に炉内圧力との差が少ないことに起因してガ
ス流量を多くできないため入側シール装置2を経て金属
帯Sと共に炉内に侵入してきた酸素濃度を短時間で希釈
化することができず、また100Paを超えて高くすると炉
内の入側シール装置2近傍の圧力が炉内の他の部分の圧
力と比べて著しく高くなるため炉内の加熱帯1aや冷却帯
1bでの炉内雰囲気ガス9の流動が不均一になって良好な
焼鈍処理を行うことができなくなる現象が生じて好まし
くないからである。
【0019】また、炉外ガス噴射ノズル7から噴射する
ガスが窒素ガス又は空気より軽い不活性ガスでなければ
ならないのは、入側シール装置2から炉内に侵入して高
濃度の水素ガスを含有しているガスである炉内雰囲気ガ
スの新ガス10及び/又は炉内雰囲気ガス9をリファイニ
ング装置8を用いて再生した再生炉内雰囲気ガス11と混
合した際に爆発の危険性がなくしかも光輝焼鈍される金
属帯Sに悪影響を及ぼさないガスであることが必要であ
り、またそのガスが空気より重いと入側シール部の金属
帯Sの通板位置に向けて炉外ガス噴射ノズル7から吹き
付けても入側シール部の金属帯Sの通板位置近傍に留ま
る時間が短くてガスの消費量が多くなって好ましくない
からである。
【0020】そしてこの炉外ガス噴射ノズル7から噴射
する前記窒素ガス又は空気より軽い不活性ガスの圧力が
5×104〜25×104Paでなければならないのは、5×104P
a未満ではその圧力が大気圧に比べて弱すぎて入側シー
ル装置2の入側シール部の金属帯Sの通板位置に向けて
良好に噴射することができず、また25×104Paを超えて
高くすると炉内ガス噴射ノズル6から噴射するガスに打
ち勝って炉外ガス噴射ノズル7から噴射したガスが炉内
に侵入する量が多くなることがあるばかりでなく、炉外
ガス噴射ノズル7から噴射するガスの圧力を高めるため
の装置も高価となって好ましくなく、しかも炉内雰囲気
ガスとは異なるガスが炉内に侵入することになるので炉
内雰囲気ガスの露点調整その他の管理が面倒になるから
である。
【0021】この炉外ガス噴射ノズル7から噴射する前
記窒素ガス又は空気より軽い不活性ガスの噴射量は、入
側シール部の金属帯Sの通板位置炉外側を酸素含有量が
1%以下に維持できる量であれば良く、前述した如く炉
外ガス噴射ノズル7から噴射するガスが窒素ガス又は空
気より軽い不活性ガスであるから入側シール装置2の入
側シール部の金属帯通板位置近傍に滞留するため、非常
に僅かな量で済むため経済的である。
【0022】
【発明の効果】以上に記述したように、本発明に係る光
輝焼鈍炉における入側シール方法によれば、アップヒー
トタイプの光輝焼鈍炉において光輝焼鈍される金属帯と
共に炉内に持ち込まれる大気中の酸素に起因して生して
いた金属帯表面の白色化,光沢不良,光沢ムラ,金属帯
が化学発色処理されるステンレス鋼帯の場合における化
学発色処理後の色ムラや色調不良を、入側シール装置の
入側シール部の金属帯通板位置に向けて炉内と炉外とに
それぞれガス噴射ノズルを設置し、炉内ガス噴射ノズル
からは炉内圧に対して50〜100Pa高い圧力の炉内雰囲気
ガスの新ガス及び/又はリファイニング装置を用いて再
生した再生炉内雰囲気ガスを噴射し、また炉外ガス噴射
ノズルからは5×104〜25×104Paの窒素ガス又は空気よ
り軽い不活性ガスを噴射して入側シール部の金属帯通板
位置炉外側を酸素含有量が1%以下に維持することによ
って完全に防止することができ、この効果は入側シール
装置における金属帯とシール部材との間に不可避的に隙
間が生じる確率が非常に大きいエンボス材を使用した場
合においても立証されている。
【0023】そしてこのような本発明に係る光輝焼鈍炉
における入側シール方法においては、入側シール装置の
入側シール部の金属帯通板位置に向けて炉内ガス噴射ノ
ズルから噴射するガスが炉内雰囲気ガスの新ガス及び/
又は炉内雰囲気ガスをリファイニング装置を用いて再生
した再生炉内雰囲気ガスであるので炉内雰囲気ガスの管
理に特別の配慮を必要とせず、また炉外ガス噴射ノズル
から噴射するガスは窒素ガス又は空気より軽い不活性ガ
スであるのでその使用ガス量が少なくて経済的であると
いう利点もあるのである。
【0024】また、本発明に係る光輝焼鈍炉における入
側シール装置は、前記本発明に係る光輝焼鈍炉における
入側シール方法を実施するのに好適な装置であり、従来
の光輝焼鈍炉における入側シール装置に僅かな改良を加
えるだけで簡単且つ安価に実施することができるもので
ある。
【0025】このような優れた効果を奏する本発明に係
る光輝焼鈍炉における入側シール方法及び装置の工業的
価値は非常に大きなものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光輝焼鈍炉における入側シール方
法を実施するための一般的なステンレス鋼帯用のアップ
ヒートタイプの光輝焼鈍炉の構造説明図である。
【図2】図1における入側シール装置の説明用拡大断面
図である。
【図3】他の実施例の入側シール装置の説明用拡大断面
図である。
【図4】炉内雰囲気ガスを再生するリファイニング装置
の構成説明図である。
【符号の説明】
1 アップヒートタイプの光輝焼鈍炉の炉体 1a 加熱帯 1b 冷却帯 1c トップロール 2 入側シール装置 2a 弾性回転ロール 2b フェルト又はフェルト相当品 2c 金属製のロール 2d シール金物 2e フェルトパッド 3 出側シール装置 4 デフレクタロール 5 デフレクタロール 6 炉内ガス噴射ノズル 7 炉外ガス噴射ノズル 8 リファイニング装置 8a プレフィルター 8b プレクーラー 8c ブロワー 8d 脱酸装置 8e 吸着塔 9 炉内雰囲気ガス 10 炉内雰囲気ガスの新ガス 11 リファイニング装置を通した再生炉内雰囲気ガス 12 炉内雰囲気ガスの新ガスの供給源 13 窒素ガス又は空気より軽い不活性ガスの供給源 S 金属帯

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アップヒートタイプの光輝焼鈍炉の入側
    シール部の金属帯通板位置に向けて炉内と炉外とにそれ
    ぞれガス噴射ノズルを設置し、炉内ガス噴射ノズルから
    は炉内圧に対して50〜100Pa高い圧力の炉内雰囲気ガス
    の新ガス及び/又は炉内雰囲気ガスをリファイニング装
    置を用いて再生した再生炉内雰囲気ガスを噴射し、炉外
    ガス噴射ノズルからは5×104〜25×104Paの窒素ガス又
    は空気より軽い不活性ガスを噴射して入側シール部の金
    属帯通板位置炉外側を酸素含有量が1%以下に維持する
    ことを特徴とする光輝焼鈍炉における入側シール方法。
  2. 【請求項2】 アップヒートタイプの光輝焼鈍炉におい
    て、入側シール部の金属帯(S)の通板位置に向けて炉内
    と炉外とにそれぞれガス噴射ノズル(6,7)が設置され
    ており、炉内ガス噴射ノズル(6)は炉内雰囲気ガスの新
    ガス(10)の供給源(12)及び/又は炉内雰囲気ガス(9)を
    再生するリファイニング装置(8)に接続されており、炉
    外ガス噴射ノズル(7)は窒素ガス又は空気より軽い不活
    性ガスの供給源(13)に接続されていることを特徴とする
    光輝焼鈍炉における入側シール装置(2)。
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