JPH10227912A - 偏光ビームスプリッタ - Google Patents
偏光ビームスプリッタInfo
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- JPH10227912A JPH10227912A JP9028840A JP2884097A JPH10227912A JP H10227912 A JPH10227912 A JP H10227912A JP 9028840 A JP9028840 A JP 9028840A JP 2884097 A JP2884097 A JP 2884097A JP H10227912 A JPH10227912 A JP H10227912A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｓ偏光及びＰ偏光の分離又は合成が可能な波
長範囲が可視領域で広く、反射帯域から透過帯域への急
峻性がよく、Ｓ偏光及びＰ偏光に対して入射角依存性が
小さい偏光ビームスプリッタを提供する。 【解決手段】少なくとも、光学的膜厚がλ／４のフッ素
樹脂からなる低屈折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈
折率層とからなる中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ
略対称位置に配置されたフッ素樹脂からなる低屈折率層
と、高屈折率層とからなる一対の調整層と、を有するこ
とを特徴とする偏光ビームスプリッタ。
長範囲が可視領域で広く、反射帯域から透過帯域への急
峻性がよく、Ｓ偏光及びＰ偏光に対して入射角依存性が
小さい偏光ビームスプリッタを提供する。 【解決手段】少なくとも、光学的膜厚がλ／４のフッ素
樹脂からなる低屈折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈
折率層とからなる中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ
略対称位置に配置されたフッ素樹脂からなる低屈折率層
と、高屈折率層とからなる一対の調整層と、を有するこ
とを特徴とする偏光ビームスプリッタ。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は偏光ビームスプリッ
ターに関する。
ターに関する。
【０００２】
【従来の技術】偏光ビームスプリッタは誘電体交互多層
膜に入射する光のＰ偏光成分を透過させ、Ｓ偏光成分を
反射させることで２つの偏光成分に分割するものであ
る。一般的な偏光ビームスプリッタは、２個の４５゜プ
リズムの間に高屈折率層と低屈折率層とからなる誘電体
交互多層膜を介在させた構成である。誘電体交互多層膜
の物質は、所望の波長範囲において、４５゜プリズムの
光軸上から入射する入射光のＰ偏光成分の反射率が最も
小さく、かつＳ偏光成分の反射率が最大になる様に選択
する。
膜に入射する光のＰ偏光成分を透過させ、Ｓ偏光成分を
反射させることで２つの偏光成分に分割するものであ
る。一般的な偏光ビームスプリッタは、２個の４５゜プ
リズムの間に高屈折率層と低屈折率層とからなる誘電体
交互多層膜を介在させた構成である。誘電体交互多層膜
の物質は、所望の波長範囲において、４５゜プリズムの
光軸上から入射する入射光のＰ偏光成分の反射率が最も
小さく、かつＳ偏光成分の反射率が最大になる様に選択
する。
【０００３】偏光ビームスプリッタは、入射光をＰ偏光
成分、Ｓ偏光成分に効率的に分離するために光ディスク
装置や投影表示装置などに用いられている。従来から偏
光ビームスプリッタの使用波長帯域を広げるために誘電
体交互多層膜の構成については様々な提案がなされてい
る。例えば、特開昭６１−１４１４０２号公報では高屈
折率層と低屈折率層との２層を基本周期とした交互多層
膜に中間層を設け、この層の膜厚を調整することにより
帯域幅を広げている。また、特開平３−２８４７０５号
公報で示されている従来の偏光ビームスプリッタの構成
は基板上に中心波長の異なる２種の誘電体多層膜を順次
積層させた構造となっている。
成分、Ｓ偏光成分に効率的に分離するために光ディスク
装置や投影表示装置などに用いられている。従来から偏
光ビームスプリッタの使用波長帯域を広げるために誘電
体交互多層膜の構成については様々な提案がなされてい
る。例えば、特開昭６１−１４１４０２号公報では高屈
折率層と低屈折率層との２層を基本周期とした交互多層
膜に中間層を設け、この層の膜厚を調整することにより
帯域幅を広げている。また、特開平３−２８４７０５号
公報で示されている従来の偏光ビームスプリッタの構成
は基板上に中心波長の異なる２種の誘電体多層膜を順次
積層させた構造となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の偏光ビームスプリッタではＳ偏光及びＰ偏光の分離又
は合成が可能な波長範囲が十分広いとは言えず、また、
ある程度広がりを有する光束が入射した場合、Ｓ偏光及
びＰ偏光の分光特性が大きく変化するという問題があ
る。
の偏光ビームスプリッタではＳ偏光及びＰ偏光の分離又
は合成が可能な波長範囲が十分広いとは言えず、また、
ある程度広がりを有する光束が入射した場合、Ｓ偏光及
びＰ偏光の分光特性が大きく変化するという問題があ
る。
【０００５】また、反射帯域から透過帯域への急峻性が
ない偏光ビームスプリッタを投射型表示装置等の光学系
に使用した場合、色のにじみが生じ、プロジェクターな
どの映像においてシャープさがなく見づらいという問題
が生じる。そこで、本発明はこれらの問題点に鑑み、Ｓ
偏光及びＰ偏光の分離又は合成が可能な波長範囲が可視
領域で広く、反射帯域から透過帯域への急峻性がよく、
Ｓ偏光及びＰ偏光に対して入射角依存性が小さい偏光ビ
ームスプリッタを提供することを目的とする。
ない偏光ビームスプリッタを投射型表示装置等の光学系
に使用した場合、色のにじみが生じ、プロジェクターな
どの映像においてシャープさがなく見づらいという問題
が生じる。そこで、本発明はこれらの問題点に鑑み、Ｓ
偏光及びＰ偏光の分離又は合成が可能な波長範囲が可視
領域で広く、反射帯域から透過帯域への急峻性がよく、
Ｓ偏光及びＰ偏光に対して入射角依存性が小さい偏光ビ
ームスプリッタを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、第一に「少な
くとも、光学的膜厚がλ／４のフッ素樹脂からなる低屈
折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈折率層とからなる
中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ略対称位置に配置
されたフッ素樹脂からなる低屈折率層と、高屈折率層と
からなる一対の調整層と、を有することを特徴とする偏
光ビームスプリッタ（請求項１）」を提供する。
くとも、光学的膜厚がλ／４のフッ素樹脂からなる低屈
折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈折率層とからなる
中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ略対称位置に配置
されたフッ素樹脂からなる低屈折率層と、高屈折率層と
からなる一対の調整層と、を有することを特徴とする偏
光ビームスプリッタ（請求項１）」を提供する。
【０００７】また、本発明は第二に「液体媒質中に、少
なくとも基板の一方の面に光学的膜厚がλ／４のフッ素
樹脂からなる低屈折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈
折率層とからなる中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ
略対称位置に配置されたフッ素樹脂からなる低屈折率層
と、高屈折率層とからなる一対の調整層と、を形成した
光学部材を設けてなる偏光ビームスプリッタ（請求項
２）」を提供する。
なくとも基板の一方の面に光学的膜厚がλ／４のフッ素
樹脂からなる低屈折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈
折率層とからなる中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ
略対称位置に配置されたフッ素樹脂からなる低屈折率層
と、高屈折率層とからなる一対の調整層と、を形成した
光学部材を設けてなる偏光ビームスプリッタ（請求項
２）」を提供する。
【０００８】また、本発明は第三に「前記フッ素樹脂か
らなる低屈折率層の材料が、四フッ化エチレン樹脂（Ｐ
ＴＦＥ）、三フッ化塩化メチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニル樹脂（ＰＶＦ）、四フッ化エチレン-六フ
ッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン
樹脂（ＰＶＤＦ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）であるこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の偏光ビームスプリ
ッタ（請求項３）」を提供する。
らなる低屈折率層の材料が、四フッ化エチレン樹脂（Ｐ
ＴＦＥ）、三フッ化塩化メチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニル樹脂（ＰＶＦ）、四フッ化エチレン-六フ
ッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン
樹脂（ＰＶＤＦ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）であるこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の偏光ビームスプリ
ッタ（請求項３）」を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１（ａ）は本発明にかかる第１
の実施形態の偏光ビームスプリッタの概略断面図であ
り、（ｂ）は、偏光分離膜の構成の概略断面図である。
本発明にかかる第１の実施形態の偏光ブームスプリッタ
は、光学的膜厚がλ／４、屈折率が１．２〜１．４のフ
ッ素樹脂からなる低屈折率層と光学的膜厚がλ／４、屈
折率が２．０〜２．４の高屈折率層とが交互に積層され
た中央層３と、中央層３を挟んだフッ素樹脂からなる低
屈折率層と高屈折率層とからなる一対の調整層４（中央
層３と調整層４とを偏光分離膜６という）とが形成され
た透光基体１と、反射防止膜５が形成された透光基体２
とが接着剤７によって接合された構成である。
の実施形態の偏光ビームスプリッタの概略断面図であ
り、（ｂ）は、偏光分離膜の構成の概略断面図である。
本発明にかかる第１の実施形態の偏光ブームスプリッタ
は、光学的膜厚がλ／４、屈折率が１．２〜１．４のフ
ッ素樹脂からなる低屈折率層と光学的膜厚がλ／４、屈
折率が２．０〜２．４の高屈折率層とが交互に積層され
た中央層３と、中央層３を挟んだフッ素樹脂からなる低
屈折率層と高屈折率層とからなる一対の調整層４（中央
層３と調整層４とを偏光分離膜６という）とが形成され
た透光基体１と、反射防止膜５が形成された透光基体２
とが接着剤７によって接合された構成である。
【００１０】ここで、光学的膜厚λ／４とは、ｎｄcos
θ＝λ／４であり、ｎは屈折率、ｄは機械的膜厚、θは
入射角度である。偏光ビームスプリッタへの入射角度、
硝材、膜材料との関係において ｓｉｎ2θG＝ｎH 2ｎL 2／［ｎG 2（ｎH 2＋ｎL 2）］ を満たすとき、入射光はＰ偏光とＳ偏光とに完全に分離
可能である。
θ＝λ／４であり、ｎは屈折率、ｄは機械的膜厚、θは
入射角度である。偏光ビームスプリッタへの入射角度、
硝材、膜材料との関係において ｓｉｎ2θG＝ｎH 2ｎL 2／［ｎG 2（ｎH 2＋ｎL 2）］ を満たすとき、入射光はＰ偏光とＳ偏光とに完全に分離
可能である。
【００１１】ここで、θGは偏光ビームスプリッタへの
入射角度、ｎHは高屈折率層の屈折率、ｎLは低屈折率層
の屈折率、ｎGは硝材の屈折率である。θG＝４５°（光
学配置上最適な入射角度である）、ｎH＝２．０〜２．
４、ｎ G＝１．５〜１．７（この範囲の硝材の種類が多
い）として、上記式にあてはめて最適化すると、ｎL＝
１．２〜１．４が導き出される。
入射角度、ｎHは高屈折率層の屈折率、ｎLは低屈折率層
の屈折率、ｎGは硝材の屈折率である。θG＝４５°（光
学配置上最適な入射角度である）、ｎH＝２．０〜２．
４、ｎ G＝１．５〜１．７（この範囲の硝材の種類が多
い）として、上記式にあてはめて最適化すると、ｎL＝
１．２〜１．４が導き出される。
【００１２】上記条件を満たす低屈折率層の材料とし
て、屈折率１．２〜１．４の四フッ化エチレン樹脂（Ｐ
ＴＦＥ）、三フッ化塩化メチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニル樹脂（ＰＶＦ）、四フッ化エチレン-六フ
ッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン
樹脂（ＰＶＤＦ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）等が挙げ
られる。
て、屈折率１．２〜１．４の四フッ化エチレン樹脂（Ｐ
ＴＦＥ）、三フッ化塩化メチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニル樹脂（ＰＶＦ）、四フッ化エチレン-六フ
ッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン
樹脂（ＰＶＤＦ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）等が挙げ
られる。
【００１３】高屈折率層の材料として、ＴｉＯ2、Ｃｅ
Ｏ2、ＨｆＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＺｎＳ
等が挙げられる。調整層の膜厚を調整することによっ
て、Ｐ偏光成分の透過率を一時的に低減するリップルを
小さくすることができる。大きなリップルがあると、偏
光ビームスプリッタとして使用できる波長範囲が制限さ
れるからである。
Ｏ2、ＨｆＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＺｎＳ
等が挙げられる。調整層の膜厚を調整することによっ
て、Ｐ偏光成分の透過率を一時的に低減するリップルを
小さくすることができる。大きなリップルがあると、偏
光ビームスプリッタとして使用できる波長範囲が制限さ
れるからである。
【００１４】本発明にかかる第２の実施形態の偏光ビー
ムスプリッタは、基板１１の一方の面に光学的膜厚がλ
／４、屈折率が１．２〜１．４のフッ素樹脂からなる低
屈折率層と光学的膜厚がλ／４の高屈折率層とを交互に
積層された中央層と、中央層を挟んだフッ素樹脂からな
る低屈折率層と高屈折率層とからなる一対の調整層（中
央層と調整層とを偏光分離膜６という）とが形成され、
他方の面に反射防止膜５が形成された光学部材を液体セ
ル媒質１２中に設けた液体偏光ビームスプリッタであ
る。
ムスプリッタは、基板１１の一方の面に光学的膜厚がλ
／４、屈折率が１．２〜１．４のフッ素樹脂からなる低
屈折率層と光学的膜厚がλ／４の高屈折率層とを交互に
積層された中央層と、中央層を挟んだフッ素樹脂からな
る低屈折率層と高屈折率層とからなる一対の調整層（中
央層と調整層とを偏光分離膜６という）とが形成され、
他方の面に反射防止膜５が形成された光学部材を液体セ
ル媒質１２中に設けた液体偏光ビームスプリッタであ
る。
【００１５】媒質としては、一般的な標準屈折液が用い
られ、所望の屈折率のものを使用することができる。
られ、所望の屈折率のものを使用することができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明にかかる偏光ビームスプリッタ
を図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は本発明に
かかる偏光ビームスプリッタの概略断面図であり、
（ｂ）は、偏光分離膜の構成の概略断面図である。
を図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は本発明に
かかる偏光ビームスプリッタの概略断面図であり、
（ｂ）は、偏光分離膜の構成の概略断面図である。
【００１７】本発明にかかる偏光ビームスプリッタは、
光学的膜厚が１／４λ、屈折率１．２９の四フッ化エチ
レン樹脂（ＰＴＦＥ）と光学的膜厚が１／４λ、屈折率
２．３８のＴｉＯ2とを交互に２１層積層した中央層３
と、中央層３を挟んだ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦ
Ｅ）とＴｉＯ2とからなる一対の調整層４と（以下、中
央層３と調整層４とを偏光分離膜６という）が形成され
た屈折率１．５１の４５°プリズム１と、反射防止膜５
が形成された４５°プリズム２が屈折率１．５８の接着
剤７によって接合された構成である。
光学的膜厚が１／４λ、屈折率１．２９の四フッ化エチ
レン樹脂（ＰＴＦＥ）と光学的膜厚が１／４λ、屈折率
２．３８のＴｉＯ2とを交互に２１層積層した中央層３
と、中央層３を挟んだ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦ
Ｅ）とＴｉＯ2とからなる一対の調整層４と（以下、中
央層３と調整層４とを偏光分離膜６という）が形成され
た屈折率１．５１の４５°プリズム１と、反射防止膜５
が形成された４５°プリズム２が屈折率１．５８の接着
剤７によって接合された構成である。
【００１８】プリズムに形成する反射防止膜５及び偏光
分離膜６は、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーテ
ィング法等の物理的成膜法や、CVD法等の化学的成膜法
で作製することが可能である。図２は、偏光ビームスプ
リッタに光を４５゜で入射したときのＳ偏光及びＰ偏光
の分光透過率である。
分離膜６は、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーテ
ィング法等の物理的成膜法や、CVD法等の化学的成膜法
で作製することが可能である。図２は、偏光ビームスプ
リッタに光を４５゜で入射したときのＳ偏光及びＰ偏光
の分光透過率である。
【００１９】これより、５８０ｎｍから７４０ｎｍの広
い波長範囲においてＳ偏光及びＰ偏光の分離が可能であ
り、また、反射帯域から透過帯域への急峻性がよいこと
がわかる。図３は、偏光ビームスプリッタにλ＝６５０
ｎｍの光を入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度
特性図である。Ｐ偏光の透過率は０％である。
い波長範囲においてＳ偏光及びＰ偏光の分離が可能であ
り、また、反射帯域から透過帯域への急峻性がよいこと
がわかる。図３は、偏光ビームスプリッタにλ＝６５０
ｎｍの光を入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度
特性図である。Ｐ偏光の透過率は０％である。
【００２０】入射角度４５°を中心として４５±５°の
範囲でＰ偏光とＳ偏光とを完全に分離することができる
ことがわかる。したがって、集光光束などにより使用す
る入射角度に範囲がある場合でも、広い波長範囲におい
てＳ偏光及びＰ偏光の分離又は合成が可能である。 ［比較例１］比較例１の偏光ビームスプリッタは、光学
的膜厚がλ／４、屈折率１．４７のＳｉＯ2と光学的膜
厚がλ／４、屈折率２．３８のＴｉＯ2からなる交互層
が形成された屈折率１．５１の４５°プリズムと、反射
防止膜が形成された４５°プリズムを接着剤によって接
合された構成である。
範囲でＰ偏光とＳ偏光とを完全に分離することができる
ことがわかる。したがって、集光光束などにより使用す
る入射角度に範囲がある場合でも、広い波長範囲におい
てＳ偏光及びＰ偏光の分離又は合成が可能である。 ［比較例１］比較例１の偏光ビームスプリッタは、光学
的膜厚がλ／４、屈折率１．４７のＳｉＯ2と光学的膜
厚がλ／４、屈折率２．３８のＴｉＯ2からなる交互層
が形成された屈折率１．５１の４５°プリズムと、反射
防止膜が形成された４５°プリズムを接着剤によって接
合された構成である。
【００２１】図４は、偏光ビームスプリッタに光を４５
゜で入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の分光透過率であ
る。これより、Ｓ偏光及びＰ偏光の分離が可能な波長範
囲は６３０ｎｍから７００ｎｍであり、実施例１の偏光
ビームスプリッタに比べて狭いことがわかる。図５は、
偏光ビームスプリッタにλ＝６５０ｎｍの光を入射した
ときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度特性図である。
゜で入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の分光透過率であ
る。これより、Ｓ偏光及びＰ偏光の分離が可能な波長範
囲は６３０ｎｍから７００ｎｍであり、実施例１の偏光
ビームスプリッタに比べて狭いことがわかる。図５は、
偏光ビームスプリッタにλ＝６５０ｎｍの光を入射した
ときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度特性図である。
【００２２】入射角度４５°を中心として４５±２°の
範囲でＰ偏光とＳ偏光とを完全に分離することができ
る。実施例１の偏光ビームスプリッタに比べて入射角度
範囲が狭いことがわかる。 ［実施例２］図６は、本発明にかかる第２の偏光ビーム
スプリッタの概略断面図である。
範囲でＰ偏光とＳ偏光とを完全に分離することができ
る。実施例１の偏光ビームスプリッタに比べて入射角度
範囲が狭いことがわかる。 ［実施例２］図６は、本発明にかかる第２の偏光ビーム
スプリッタの概略断面図である。
【００２３】本発明にかかる第２偏光ビームスプリッタ
は、屈折率が１．４７のガラス基板１１の一方の面に光
学的膜厚がλ／４、屈折率１．２８の四フッ化エチレン
樹脂（ＰＴＦＥ）と光学的膜厚がλ／４、屈折率２．３
８のＴｉＯ2からなる２１層積層された中央層と、中央
層を挟んだ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）とＴｉＯ
2からなる一対の調整層が形成され（偏光分離膜６）、
他方の面に反射防止膜５が形成された光学部材をガラス
と同程度の屈折率を有する屈折率１．４８の標準屈折液
１２中に設けた液体偏光ビームスプリッタである。
は、屈折率が１．４７のガラス基板１１の一方の面に光
学的膜厚がλ／４、屈折率１．２８の四フッ化エチレン
樹脂（ＰＴＦＥ）と光学的膜厚がλ／４、屈折率２．３
８のＴｉＯ2からなる２１層積層された中央層と、中央
層を挟んだ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）とＴｉＯ
2からなる一対の調整層が形成され（偏光分離膜６）、
他方の面に反射防止膜５が形成された光学部材をガラス
と同程度の屈折率を有する屈折率１．４８の標準屈折液
１２中に設けた液体偏光ビームスプリッタである。
【００２４】この偏光ビームスプリッタは接着剤が使用
されていないので、高出力のレーザーを照射されても劣
化、経時変化が起きない。
されていないので、高出力のレーザーを照射されても劣
化、経時変化が起きない。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明にかかる偏
光ビームスプリッタは、Ｓ偏光及びＰ偏光の分離又は合
成が可能な波長範囲が広く（５８０ｎｍ〜７４０ｎ
ｍ）、反射帯域から透過帯域への急峻性がよく、ある程
度広がりを有する光束が入射した場合でも、Ｓ偏光及び
Ｐ偏光の分光特性は大きく変化しない。
光ビームスプリッタは、Ｓ偏光及びＰ偏光の分離又は合
成が可能な波長範囲が広く（５８０ｎｍ〜７４０ｎ
ｍ）、反射帯域から透過帯域への急峻性がよく、ある程
度広がりを有する光束が入射した場合でも、Ｓ偏光及び
Ｐ偏光の分光特性は大きく変化しない。
【００２６】したがって、本発明にかかる偏光ビームス
プリッタを可視領域の広い波長範囲の光を用いる投射型
表示装置等の光学系に使用した場合でも色が鮮明で、プ
ロジェクターなどの映像においてシャープで見やすいと
いうメリットがある。
プリッタを可視領域の広い波長範囲の光を用いる投射型
表示装置等の光学系に使用した場合でも色が鮮明で、プ
ロジェクターなどの映像においてシャープで見やすいと
いうメリットがある。
【図１】（ａ）は本発明にかかる第１の実施形態及び実
施例１の偏光ビームスプリッタの概略断面図であり、
（ｂ）は、偏光分離膜の構成の概略断面図である。
施例１の偏光ビームスプリッタの概略断面図であり、
（ｂ）は、偏光分離膜の構成の概略断面図である。
【図２】実施例１の偏光ビームスプリッタに入射角度４
５゜で入射した時のＳ及偏光及びＰ偏光の分光特性図で
ある。
５゜で入射した時のＳ及偏光及びＰ偏光の分光特性図で
ある。
【図３】実施例１の偏光ビームスプリッタにλ＝６５０
ｎｍの光を入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度
特性図である。
ｎｍの光を入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度
特性図である。
【図４】比較例１の偏光ビームスプリッタに入射角度４
５゜で入射した時のＳ偏光及びＰ偏光の分光特性図であ
る。
５゜で入射した時のＳ偏光及びＰ偏光の分光特性図であ
る。
【図５】比較例１の偏光ビームスプリッタにλ＝６５０
ｎｍの光を入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度
特性図である。
ｎｍの光を入射したときのＳ偏光及びＰ偏光の入射角度
特性図である。
【図６】本発明にかかる第２の実施形態及び実施例２の
偏光ビームスプリッタの概略断面図である。
偏光ビームスプリッタの概略断面図である。
１、２…プリズム ３…中央層 ４…調整層 ５…反射防止膜 ６…偏光分離膜 ７…接着剤 ８…透過光 ９…Ｐ偏光 １０…Ｓ偏光 １１…ガラス基板 １２…媒質
Claims (3)
- 【請求項１】少なくとも、光学的膜厚がλ／４のフッ素
樹脂からなる低屈折率層と、光学的膜厚がλ／４の高屈
折率層とからなる中央層と、該中央層を挟んでそれぞれ
略対称位置に配置されたフッ素樹脂からなる低屈折率層
と、高屈折率層とからなる一対の調整層と、を有するこ
とを特徴とする偏光ビームスプリッタ。 - 【請求項２】液体媒質中に、少なくとも基板の一方の面
に光学的膜厚がλ／４のフッ素樹脂からなる低屈折率層
と、光学的膜厚がλ／４の高屈折率層とからなる中央層
と、該中央層を挟んでそれぞれ略対称位置に配置された
フッ素樹脂からなる低屈折率層と、高屈折率層とからな
る一対の調整層と、を形成した光学部材を設けてなる偏
光ビームスプリッタ。 - 【請求項３】前記フッ素樹脂からなる低屈折率層の材料
が、四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、三フッ化塩化
メチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、フッ化ビニル樹脂（ＰＶ
Ｆ）、四フッ化エチレン-六フッ化プロピレン共重合体
（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン樹脂（ＰＶＤＦ）、ポリ
アセタール（ＰＯＭ）であることを特徴とする請求項１
又は２記載の偏光ビームスプリッタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9028840A JPH10227912A (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | 偏光ビームスプリッタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9028840A JPH10227912A (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | 偏光ビームスプリッタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10227912A true JPH10227912A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=12259574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9028840A Pending JPH10227912A (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | 偏光ビームスプリッタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10227912A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012226208A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-15 | Canon Inc | 偏光分離素子、及びそれを用いた偏光変換素子及び画像投射装置 |
| CN105182603A (zh) * | 2015-07-24 | 2015-12-23 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 显示屏组件及终端 |
| JP2017032648A (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | キヤノン株式会社 | 色分離光学系及び投射型表示装置 |
-
1997
- 1997-02-13 JP JP9028840A patent/JPH10227912A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012226208A (ja) * | 2011-04-21 | 2012-11-15 | Canon Inc | 偏光分離素子、及びそれを用いた偏光変換素子及び画像投射装置 |
| CN105182603A (zh) * | 2015-07-24 | 2015-12-23 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 显示屏组件及终端 |
| CN105182603B (zh) * | 2015-07-24 | 2018-01-19 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 显示屏组件及终端 |
| JP2017032648A (ja) * | 2015-07-29 | 2017-02-09 | キヤノン株式会社 | 色分離光学系及び投射型表示装置 |
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